JPH07191333A - 液晶表示素子 - Google Patents
液晶表示素子Info
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- JPH07191333A JPH07191333A JP33136793A JP33136793A JPH07191333A JP H07191333 A JPH07191333 A JP H07191333A JP 33136793 A JP33136793 A JP 33136793A JP 33136793 A JP33136793 A JP 33136793A JP H07191333 A JPH07191333 A JP H07191333A
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- electrode
- injection port
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Abstract
(57)【要約】
【目的】注入口周辺における液晶層厚の均一化を損なう
事無く、液晶セルへの液晶の注入時間の短縮化を図り、
画質の向上を図ると共に生産性の向上を図る。 【構成】注入口17に柱状シール22a、22bと、こ
の柱状シール22a、22bの断面形状と同形状のダミ
ーの電極パターン18a、18bを設ける。これにより
注入口17の断面積を縮小する事無く、注入口17周辺
のセルギャップを有効表示部のセルギャップと同等に保
持し、液晶の注入を妨げる事無く、画質を向上する。
事無く、液晶セルへの液晶の注入時間の短縮化を図り、
画質の向上を図ると共に生産性の向上を図る。 【構成】注入口17に柱状シール22a、22bと、こ
の柱状シール22a、22bの断面形状と同形状のダミ
ーの電極パターン18a、18bを設ける。これにより
注入口17の断面積を縮小する事無く、注入口17周辺
のセルギャップを有効表示部のセルギャップと同等に保
持し、液晶の注入を妨げる事無く、画質を向上する。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、液晶表示素子に係わ
り、特に液晶組成物を保持する液晶セルの改良に関す
る。
り、特に液晶組成物を保持する液晶セルの改良に関す
る。
【0002】
【従来の技術】近年、薄型軽量且つ低消費電力という利
点を有する事から、日本語ワードプロセッサやディスク
トップパーソナルコンピュータ等パーソナルOA機器等
の表示装置として液晶表示素子からなる液晶表示装置が
用いられている。
点を有する事から、日本語ワードプロセッサやディスク
トップパーソナルコンピュータ等パーソナルOA機器等
の表示装置として液晶表示素子からなる液晶表示装置が
用いられている。
【0003】ここで用いられる液晶表示装置は、動作モ
ードで分類すると捩じれネマティック(Twisted
Nematic:TN)型、超捩じれネマティック
(Super Twisted Nematic:ST
N)型、強誘電(Ferroelectric Liq
uid Crystal:FLC)型、複屈折制御(E
lectrically Controlled Bi
refringence))型等、多くの種類がある。
ードで分類すると捩じれネマティック(Twisted
Nematic:TN)型、超捩じれネマティック
(Super Twisted Nematic:ST
N)型、強誘電(Ferroelectric Liq
uid Crystal:FLC)型、複屈折制御(E
lectrically Controlled Bi
refringence))型等、多くの種類がある。
【0004】このうちSTN型液晶表示装置は、液晶分
子長軸が基板間に90°以上連続的に捩じれた分子配列
を有し、急峻な電気光学的特性を持つので、低コストで
製造可能な単純マトリクス状の電極構造でも容易に大容
量表示を得る事が出来る。
子長軸が基板間に90°以上連続的に捩じれた分子配列
を有し、急峻な電気光学的特性を持つので、低コストで
製造可能な単純マトリクス状の電極構造でも容易に大容
量表示を得る事が出来る。
【0005】又、FLC型液晶表示素子は、液晶分子の
長軸が各層に垂直な方向から一定の角度傾いた螺旋構造
となっており、双安定性の電気効果特性を得られる事か
ら、単純マトリクス状の電極構造でも容易に大容量表示
を得る事が出来る。
長軸が各層に垂直な方向から一定の角度傾いた螺旋構造
となっており、双安定性の電気効果特性を得られる事か
ら、単純マトリクス状の電極構造でも容易に大容量表示
を得る事が出来る。
【0006】更にECB型液晶表示素子は、ホモジニア
ス型やHAN型等の分子配列を有し、高コントラストを
有し、急峻なしきい特性を有するため、単純マトリクス
状の電極構造でも容易に大容量表示を得る事が出来る そしてこれら単純マトリクス状の電極構造を有する液晶
表示素子は、一般に次の様にして製造されている。即
ち、複数の走査電極が列設されこれを覆うように配向膜
が形成された走査電極基板、及び複数の信号電極が列設
されこれを覆うように配向膜が形成された信号電極基板
のうち、いずれか一方の電極基板の配向膜表面にスペー
サ(通常プラスチックやガラス等からなる球状あるいは
円柱状の間隙材を言う)を散布し、両電極基板を対向配
置し周囲を熱硬化牲樹脂等からなるシール剤で接着して
液晶セルを形成し、この液晶セルのシール剤で囲繞され
た間隙(セルギャップ)に、シール剤の一部に設けられ
る注入口より液晶を注入して製造される。これに用いら
れるネマティック液晶としては、シクロヘキサン系、エ
ステル系、ビフェニール系、ピリミジン系、等の液晶が
ある。
ス型やHAN型等の分子配列を有し、高コントラストを
有し、急峻なしきい特性を有するため、単純マトリクス
状の電極構造でも容易に大容量表示を得る事が出来る そしてこれら単純マトリクス状の電極構造を有する液晶
表示素子は、一般に次の様にして製造されている。即
ち、複数の走査電極が列設されこれを覆うように配向膜
が形成された走査電極基板、及び複数の信号電極が列設
されこれを覆うように配向膜が形成された信号電極基板
のうち、いずれか一方の電極基板の配向膜表面にスペー
サ(通常プラスチックやガラス等からなる球状あるいは
円柱状の間隙材を言う)を散布し、両電極基板を対向配
置し周囲を熱硬化牲樹脂等からなるシール剤で接着して
液晶セルを形成し、この液晶セルのシール剤で囲繞され
た間隙(セルギャップ)に、シール剤の一部に設けられ
る注入口より液晶を注入して製造される。これに用いら
れるネマティック液晶としては、シクロヘキサン系、エ
ステル系、ビフェニール系、ピリミジン系、等の液晶が
ある。
【0007】しかしながら上述の様にして形成される低
価格の単純マトリクス型液晶表示素子は、近年、高速応
答化、高視角化を図る上から、液晶を保持するセルギャ
ップを従来の10μm程度から、STN型液晶表示素子
にあっては4〜5μm程度、又FLC型液晶表示素子に
あっては1〜2μm程度と、更に薄くする傾向にある。
価格の単純マトリクス型液晶表示素子は、近年、高速応
答化、高視角化を図る上から、液晶を保持するセルギャ
ップを従来の10μm程度から、STN型液晶表示素子
にあっては4〜5μm程度、又FLC型液晶表示素子に
あっては1〜2μm程度と、更に薄くする傾向にある。
【0008】一方、注入口から液晶セル中への液晶組成
物の注入法として、減圧状態で注入口を液晶組成物で満
たした後、外部の気圧を高くし、液晶セル内外の圧力差
を利用して、液晶セルのセルギャップ中に液晶組成物を
充填している。
物の注入法として、減圧状態で注入口を液晶組成物で満
たした後、外部の気圧を高くし、液晶セル内外の圧力差
を利用して、液晶セルのセルギャップ中に液晶組成物を
充填している。
【0009】しかしながらセルギャップの薄い液晶表示
素子にあっては、液晶組成物の注入工程において、注入
時間が従来の倍の1時間位と、非常に長くかかり、製造
効率が著しく低下するという問題があった。
素子にあっては、液晶組成物の注入工程において、注入
時間が従来の倍の1時間位と、非常に長くかかり、製造
効率が著しく低下するという問題があった。
【0010】このため、シール剤の一部に設けられる注
入口を大きく形成する事により、液晶組成物の注入時間
の短縮化が図られているが、注入口を大きくすると、シ
ール部分の面積が減少される事から、注入口周辺のセル
ギャップが有効表示部のセルギャップと同等で無くな
り、液晶層厚にムラを生じ、画像に歪み等の悪影響を生
じるという新たな問題を生じていた。
入口を大きく形成する事により、液晶組成物の注入時間
の短縮化が図られているが、注入口を大きくすると、シ
ール部分の面積が減少される事から、注入口周辺のセル
ギャップが有効表示部のセルギャップと同等で無くな
り、液晶層厚にムラを生じ、画像に歪み等の悪影響を生
じるという新たな問題を生じていた。
【0011】このため、注入口の一部にシール剤と同材
質からなるシール柱を形成し、セルギャップの不均一の
改善も図られているが、このシール柱も、単に、注入口
に形成したのみでは、図6に示す第1の従来例の様に、
注入口5周辺のシール部2が透明電極の引き出し線3上
に重ねられているのに対して、注入口5の一部に形成さ
れるシール柱4は引き出し線との重なりが無いため、シ
ール柱4により保持されるセルギャップはその周辺に比
して狭くなり、セルギャップの不均一は依然として改善
されず画質が低下されるという問題を有していた。
質からなるシール柱を形成し、セルギャップの不均一の
改善も図られているが、このシール柱も、単に、注入口
に形成したのみでは、図6に示す第1の従来例の様に、
注入口5周辺のシール部2が透明電極の引き出し線3上
に重ねられているのに対して、注入口5の一部に形成さ
れるシール柱4は引き出し線との重なりが無いため、シ
ール柱4により保持されるセルギャップはその周辺に比
して狭くなり、セルギャップの不均一は依然として改善
されず画質が低下されるという問題を有していた。
【0012】一方、図7及び図8に示す第2の従来例の
様に注入口5上にも透明電極の引き出し線6が引き出さ
れている場合、シール柱7がこの引き出し線6上に重ね
られる事により、注入口5及びその周辺を含めセルギャ
ップを均一化する液晶表示素子も開発されているが、こ
の液晶表示素子にあっては、セルギャップの均一化は実
現されるものの、シール柱7に比し、引き出し線6の幅
が広い事から、注入口5の断面積が狭くなり、液晶組成
物の注入時間を効果的に短縮出来ず、製造時の注入工程
に依然として長時間を要してしまうという問題を残して
いた。
様に注入口5上にも透明電極の引き出し線6が引き出さ
れている場合、シール柱7がこの引き出し線6上に重ね
られる事により、注入口5及びその周辺を含めセルギャ
ップを均一化する液晶表示素子も開発されているが、こ
の液晶表示素子にあっては、セルギャップの均一化は実
現されるものの、シール柱7に比し、引き出し線6の幅
が広い事から、注入口5の断面積が狭くなり、液晶組成
物の注入時間を効果的に短縮出来ず、製造時の注入工程
に依然として長時間を要してしまうという問題を残して
いた。
【0013】
【発明が解決しようとする課題】従来、シール剤の一部
に形成される注入口にシール柱を設け、注入口の拡大に
伴う、注入口周囲の液晶層厚のムラの解消を図ってい
る。
に形成される注入口にシール柱を設け、注入口の拡大に
伴う、注入口周囲の液晶層厚のムラの解消を図ってい
る。
【0014】しかしながら、注入口においてシール柱が
電極の引き出し線と重なっていない場合は、シール柱周
辺のセルギャップが周囲と比し狭くなり、依然として液
晶層厚を均一に出来ず、画質が低下されてしまってい
た。又、シール柱が電極の引き出し線と重なっている場
合には、セルギャプが均一化され画質の改善が成される
ものの、シール柱に比し引き出し線の幅が広く、注入口
の断面積を実質的に狭めてしまい液晶セル中への液晶組
成物の注入時間を効果的に短縮出来ずにいた。
電極の引き出し線と重なっていない場合は、シール柱周
辺のセルギャップが周囲と比し狭くなり、依然として液
晶層厚を均一に出来ず、画質が低下されてしまってい
た。又、シール柱が電極の引き出し線と重なっている場
合には、セルギャプが均一化され画質の改善が成される
ものの、シール柱に比し引き出し線の幅が広く、注入口
の断面積を実質的に狭めてしまい液晶セル中への液晶組
成物の注入時間を効果的に短縮出来ずにいた。
【0015】そこで本発明は上記課題を除去するもの
で、注入口を拡大し、液晶組成物の注入時間の短縮を図
ると共に、セルギャップの均一化を図る事により、注入
口付近での液晶層厚のムラによる画質の低下を防止し、
さらには製造効率の向上を図る事が出来る液晶表示素子
を提供することを目的とする。
で、注入口を拡大し、液晶組成物の注入時間の短縮を図
ると共に、セルギャップの均一化を図る事により、注入
口付近での液晶層厚のムラによる画質の低下を防止し、
さらには製造効率の向上を図る事が出来る液晶表示素子
を提供することを目的とする。
【0016】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために、透明電極を有し互いに間隙を隔てて対向さ
れる2枚の電極基板と、この2枚の電極基板周囲にて注
入口を設けて前記間隙を囲繞するシール手段と、前記注
入口より注入され前記間隙に保持される液晶組成物とを
具備する液晶表示素子において、前記シール手段と同材
質からなり前記注入口にて前記2枚の電極基板の間隙を
前記シール手段と同じ高さで一定に保持する柱状の間隙
保持手段と、前記透明電極と同材質からなると共に前記
間隙保持手段の断面と同形状に形成され前記間隙保持手
段が位置する前記2枚の電極基板上の少なくとも一方に
設けられる電極パターンとを設けるものである。
するために、透明電極を有し互いに間隙を隔てて対向さ
れる2枚の電極基板と、この2枚の電極基板周囲にて注
入口を設けて前記間隙を囲繞するシール手段と、前記注
入口より注入され前記間隙に保持される液晶組成物とを
具備する液晶表示素子において、前記シール手段と同材
質からなり前記注入口にて前記2枚の電極基板の間隙を
前記シール手段と同じ高さで一定に保持する柱状の間隙
保持手段と、前記透明電極と同材質からなると共に前記
間隙保持手段の断面と同形状に形成され前記間隙保持手
段が位置する前記2枚の電極基板上の少なくとも一方に
設けられる電極パターンとを設けるものである。
【0017】
【作用】本発明は上記の様に構成され、電極基板の注入
口にシール柱の断面と同一形状の電極パターンを設け、
そこにシール柱を重ねる事により、注入口におけるセル
ギャップを周辺シール部と同じに出来、液晶表示素子全
面に渡り液晶層厚の均一化を図れ、良好な表示性能を得
られる一方、電極パターンにより注入口の断面積が低減
される事も無く、液晶組成物の注入時間を効率的に短縮
出来る。
口にシール柱の断面と同一形状の電極パターンを設け、
そこにシール柱を重ねる事により、注入口におけるセル
ギャップを周辺シール部と同じに出来、液晶表示素子全
面に渡り液晶層厚の均一化を図れ、良好な表示性能を得
られる一方、電極パターンにより注入口の断面積が低減
される事も無く、液晶組成物の注入時間を効率的に短縮
出来る。
【0018】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図1乃至図3を参
照して説明する。図1は液晶表示素子1の断面を模式的
に示し、10、11は第1及び第2の電極基板であり、
酸化シリコン(SiOx )を主成分とした青板ガラス
(ソーダガラス)からなる厚さ1.1mm、外形寸法2
50mm×300mmの第1及び第2の透明基板12、
13の表面には厚さ3000オングストロームのITO
(インジウム−スズ−酸化物)蒸着膜からなり夫々64
0本及び480本のストライプ状にパターン形成される
第1及び第2の透明電極14、16が形成されている。
これにより、液晶表示素子1の有効表示部1aには30
0μm角の画素が640×480のマトリクス状にパタ
ーン形成される。
照して説明する。図1は液晶表示素子1の断面を模式的
に示し、10、11は第1及び第2の電極基板であり、
酸化シリコン(SiOx )を主成分とした青板ガラス
(ソーダガラス)からなる厚さ1.1mm、外形寸法2
50mm×300mmの第1及び第2の透明基板12、
13の表面には厚さ3000オングストロームのITO
(インジウム−スズ−酸化物)蒸着膜からなり夫々64
0本及び480本のストライプ状にパターン形成される
第1及び第2の透明電極14、16が形成されている。
これにより、液晶表示素子1の有効表示部1aには30
0μm角の画素が640×480のマトリクス状にパタ
ーン形成される。
【0019】但し図2に示す様に、各透明電極14、1
6は電極基板10、11上に形成される幅50mmの注
入口17を避けるように透明基板12、13外周に引き
出されており、注入口17には、第1及び第2の透明基
板12、13上に1.5mm×1.5mmの島状のダミ
ーの第1及び第2の電極パターン18a、18bが約1
7mmの間隔で形成されている。
6は電極基板10、11上に形成される幅50mmの注
入口17を避けるように透明基板12、13外周に引き
出されており、注入口17には、第1及び第2の透明基
板12、13上に1.5mm×1.5mmの島状のダミ
ーの第1及び第2の電極パターン18a、18bが約1
7mmの間隔で形成されている。
【0020】更に各透明電極14、16上には厚さ60
0オングストロームのポリイミド(SE−150:日産
化学株式会社製)からなる第1及び第2の配向膜20、
21が成膜されている。
0オングストロームのポリイミド(SE−150:日産
化学株式会社製)からなる第1及び第2の配向膜20、
21が成膜されている。
【0021】更に両電極基板10、11の注入口17に
あっては、電極パターン18a、18b位置に、熱硬化
型樹脂系の接着剤からなる間隙保持手段である断面が
1.5mm×1.5mmの柱状シール22a、22bが
形成される一方、両電極基板10、11の注入口17を
除く周囲は、柱状シール22a、22bと同じ接着剤か
らなる幅2mmの周辺シール23で接着され、4.00
μmのセルギャップを有する液晶セル24が形成されて
いる。
あっては、電極パターン18a、18b位置に、熱硬化
型樹脂系の接着剤からなる間隙保持手段である断面が
1.5mm×1.5mmの柱状シール22a、22bが
形成される一方、両電極基板10、11の注入口17を
除く周囲は、柱状シール22a、22bと同じ接着剤か
らなる幅2mmの周辺シール23で接着され、4.00
μmのセルギャップを有する液晶セル24が形成されて
いる。
【0022】この周辺シール23で封入された両電極基
板10、11のセルギャップには、左回りのカイラル剤
S−811を添加した液晶組成物(ZLI−2293:
E.メルク社製)が液晶27として挾持されると共に、
粒径4.00μmのスペーサ(積水ファインケミカル株
式会社製)28が、密度約70/mm2 となるよう均等
に散布されている。
板10、11のセルギャップには、左回りのカイラル剤
S−811を添加した液晶組成物(ZLI−2293:
E.メルク社製)が液晶27として挾持されると共に、
粒径4.00μmのスペーサ(積水ファインケミカル株
式会社製)28が、密度約70/mm2 となるよう均等
に散布されている。
【0023】更に各電極基板10、11には第1及び第
2の位相差板30、31、第1及び第2の偏光板32、
33が貼付されている。
2の位相差板30、31、第1及び第2の偏光板32、
33が貼付されている。
【0024】次に液晶表示素子1の製造工程について述
べる。
べる。
【0025】先ず第1及び第2の電極基板10、11に
ITO蒸着膜をスパッタリング法にて3000オングス
トロームの厚さに成膜し、次いで、夫々640本、48
0本のストライプ状に形成される第1及び第2の透明電
極14、16及び第1第2の電極パターン18a、18
bを、酸性溶液によるウエットエッチング法によりフォ
トエッチングする。
ITO蒸着膜をスパッタリング法にて3000オングス
トロームの厚さに成膜し、次いで、夫々640本、48
0本のストライプ状に形成される第1及び第2の透明電
極14、16及び第1第2の電極パターン18a、18
bを、酸性溶液によるウエットエッチング法によりフォ
トエッチングする。
【0026】この様にして形成された透明電極14、1
6上に、更に厚さ600オングストロームの第1及び第
2の配向膜20、21を印刷により成膜し、液晶27の
分子が左回りに240°捩じれて配向するよう夫々に配
向処理し、この後280℃で2時間熱処理を施す。
6上に、更に厚さ600オングストロームの第1及び第
2の配向膜20、21を印刷により成膜し、液晶27の
分子が左回りに240°捩じれて配向するよう夫々に配
向処理し、この後280℃で2時間熱処理を施す。
【0027】次いで第1の電極基板10側にスペーサ2
8を散布し、第2の電極基板11に第1及び第2の柱状
シール22a、22b、周辺シール23をスクリーン印
刷法によりシール印刷する。但しこの時の各シール22
a、22b、23は、厚さが共に0.3mm、幅が、各
柱状シール22a、22bにあっては0.6mm×0.
6mm、周辺シール23にあっては幅0.8mmで印刷
されている。この印刷サイズは、両電極基板10、11
を重ね合わせた後のセルギャップを4.00μmとした
とき、各柱状シール22a、22bの断面が第1及び第
2の電極パターン18a、18bサイズと一致するよう
に設定されている。
8を散布し、第2の電極基板11に第1及び第2の柱状
シール22a、22b、周辺シール23をスクリーン印
刷法によりシール印刷する。但しこの時の各シール22
a、22b、23は、厚さが共に0.3mm、幅が、各
柱状シール22a、22bにあっては0.6mm×0.
6mm、周辺シール23にあっては幅0.8mmで印刷
されている。この印刷サイズは、両電極基板10、11
を重ね合わせた後のセルギャップを4.00μmとした
とき、各柱状シール22a、22bの断面が第1及び第
2の電極パターン18a、18bサイズと一致するよう
に設定されている。
【0028】そして各シール22a、22b、23を印
刷後、90℃で30分仮焼成を行い、両電極基板10、
11を注入口17の各電極パターン18a、18bが各
々対向する様にアラインメントをして重ね合わせ、セル
ギャップが4.00μmと成るよう1kg/cm2 の圧
力を印加しながら150℃で3時間加熱し、各シール2
2a、22b、23を硬化させる。ここで圧力印加手段
は、金属板間に液晶セル24を挾み、プレス機により加
圧した状態にて金属板を捩子止めにより固定する。
刷後、90℃で30分仮焼成を行い、両電極基板10、
11を注入口17の各電極パターン18a、18bが各
々対向する様にアラインメントをして重ね合わせ、セル
ギャップが4.00μmと成るよう1kg/cm2 の圧
力を印加しながら150℃で3時間加熱し、各シール2
2a、22b、23を硬化させる。ここで圧力印加手段
は、金属板間に液晶セル24を挾み、プレス機により加
圧した状態にて金属板を捩子止めにより固定する。
【0029】この後、周辺シール23の外側で電極コネ
クトが出来るよう、周辺シール23の外周に更に3mm
幅の耳を設けて、重ね合わされた第1及び第2の電極基
板10、11をスクライブカットし、液晶27を収納す
るための液晶セル24を形成する。
クトが出来るよう、周辺シール23の外周に更に3mm
幅の耳を設けて、重ね合わされた第1及び第2の電極基
板10、11をスクライブカットし、液晶27を収納す
るための液晶セル24を形成する。
【0030】更にこの液晶セル24を真空チャンバーに
設置し、液晶セル24内部を減圧した後、液晶セル24
内外の圧力差を利用する減圧注入法にて注入口17より
液晶セル24のセルギャップに液晶27を注入した後、
注入口17を紫外線硬化性樹脂により封止し、第1、第
2の位相差板30、31、第1、第2の偏光板32、3
3を貼付し、液晶表示素子1の製造工程を終了する事と
なる。
設置し、液晶セル24内部を減圧した後、液晶セル24
内外の圧力差を利用する減圧注入法にて注入口17より
液晶セル24のセルギャップに液晶27を注入した後、
注入口17を紫外線硬化性樹脂により封止し、第1、第
2の位相差板30、31、第1、第2の偏光板32、3
3を貼付し、液晶表示素子1の製造工程を終了する事と
なる。
【0031】この様にして製造された液晶表示素子1の
注入口17周囲の液晶27の層厚を測定したところ、有
効表示部1aの液晶層厚が4.00μmであるのに対
し、4.00〜4.01μmとなり、有効表示部1aと
ほぼ同等に形成されていた。
注入口17周囲の液晶27の層厚を測定したところ、有
効表示部1aの液晶層厚が4.00μmであるのに対
し、4.00〜4.01μmとなり、有効表示部1aと
ほぼ同等に形成されていた。
【0032】又、液晶セル24内への液晶27の注入工
程における注入時間を測定したところ、真空チャンバー
を減圧するのに要した時間を1時間とすると、30分で
あり従来の約1/2に短縮された。尚、実際には30分
以上液晶の充填を行い、液晶セル24中に液晶27を余
分に充填した後、外圧を加え、余分な液晶27を排出し
ている。
程における注入時間を測定したところ、真空チャンバー
を減圧するのに要した時間を1時間とすると、30分で
あり従来の約1/2に短縮された。尚、実際には30分
以上液晶の充填を行い、液晶セル24中に液晶27を余
分に充填した後、外圧を加え、余分な液晶27を排出し
ている。
【0033】以上の事からこの様に構成すれば、電極パ
ターン18a、18b及びシール柱22a、22bによ
り注入口17周辺のセルギャップの均一化を図れ、良好
な画像を得られると共に、製造時の液晶注入時間の短縮
化が妨げられる事もなく、製造効率の向上を図れる。
ターン18a、18b及びシール柱22a、22bによ
り注入口17周辺のセルギャップの均一化を図れ、良好
な画像を得られると共に、製造時の液晶注入時間の短縮
化が妨げられる事もなく、製造効率の向上を図れる。
【0034】一方、これに対し注入口17に第1及び第
2の電極パターン18a、18bが形成されていない以
外は、上記実施例の第1及び第2の電極基板10、11
と同じに形成される第3及び第4の電極基板36、37
を用い、図4に示すように液晶セル38を形成し、この
液晶セル38の注入口38aより、上記実施例に用いた
のと同じ液晶24を注入し、液晶表示素子40を形成
し、[比較例1]としたところ、液晶セル38中への液
晶24の注入時間は、上記実施例と同様であるものの、
注入口38a近辺の液晶層厚が、有効表示部の液晶層厚
4.00μmに対して、3.50〜3.80μmと薄く
なると共に不均一となっていた。
2の電極パターン18a、18bが形成されていない以
外は、上記実施例の第1及び第2の電極基板10、11
と同じに形成される第3及び第4の電極基板36、37
を用い、図4に示すように液晶セル38を形成し、この
液晶セル38の注入口38aより、上記実施例に用いた
のと同じ液晶24を注入し、液晶表示素子40を形成
し、[比較例1]としたところ、液晶セル38中への液
晶24の注入時間は、上記実施例と同様であるものの、
注入口38a近辺の液晶層厚が、有効表示部の液晶層厚
4.00μmに対して、3.50〜3.80μmと薄く
なると共に不均一となっていた。
【0035】そして偏光板32、33を介して注入口3
8a近辺の液晶層厚を実際の干渉色から観察したとこ
ろ、色ムラを生じており、極めて不均一である事が判明
された。
8a近辺の液晶層厚を実際の干渉色から観察したとこ
ろ、色ムラを生じており、極めて不均一である事が判明
された。
【0036】次に、第1及び第2の透明電極14、16
の引き出し線14a、16aが注入口17を避ける事無
く形成されている以外は、前記実施例の第1及び第2の
電極基板10、11と同じである第5及び第6の電極基
板41、42を用い、図5に示す様に液晶セル43を形
成し、この液晶セル43の注入口43aより、上記実施
例に用いたのと同じ液晶24を注入し、液晶表示素子4
4を形成し、[比較例2]としたところ、注入口43a
近辺の液晶層厚が、有効表示部の液晶層厚4.00μm
に対して、4.00〜4.01μmと極めて均一である
事が測定され、又、偏光板32、33を介して注入口4
3a近辺の液晶層厚を実際の干渉色から観察したところ
からも、色ムラが無く均一である事が判明された。
の引き出し線14a、16aが注入口17を避ける事無
く形成されている以外は、前記実施例の第1及び第2の
電極基板10、11と同じである第5及び第6の電極基
板41、42を用い、図5に示す様に液晶セル43を形
成し、この液晶セル43の注入口43aより、上記実施
例に用いたのと同じ液晶24を注入し、液晶表示素子4
4を形成し、[比較例2]としたところ、注入口43a
近辺の液晶層厚が、有効表示部の液晶層厚4.00μm
に対して、4.00〜4.01μmと極めて均一である
事が測定され、又、偏光板32、33を介して注入口4
3a近辺の液晶層厚を実際の干渉色から観察したところ
からも、色ムラが無く均一である事が判明された。
【0037】しかしながら、液晶表示素子44の製造
時、液晶セル43中への液晶24の注入時間を測定した
ところ、真空チャンバを減圧するのに要する時間を1時
間とした場合、1時間以上を要し、製造効率を著しく低
下させてしまう事が判明した。尚本発明は上記一実施例
に限られるものでなく、その趣旨を変えない範囲での変
更は可能であって、例えば注入口の幅や、間隙保持剤の
断面形状更には設けられる位置等任意である。又、液晶
の材質もFLC型やECB型等でも良いし、液晶セルの
間隙の薄いものであれば、液晶表示素子の駆動手段も、
薄膜ダイオードや薄膜トランジスタ等任意である。
時、液晶セル43中への液晶24の注入時間を測定した
ところ、真空チャンバを減圧するのに要する時間を1時
間とした場合、1時間以上を要し、製造効率を著しく低
下させてしまう事が判明した。尚本発明は上記一実施例
に限られるものでなく、その趣旨を変えない範囲での変
更は可能であって、例えば注入口の幅や、間隙保持剤の
断面形状更には設けられる位置等任意である。又、液晶
の材質もFLC型やECB型等でも良いし、液晶セルの
間隙の薄いものであれば、液晶表示素子の駆動手段も、
薄膜ダイオードや薄膜トランジスタ等任意である。
【0038】
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、注
入口には間隙保持手段の断面形状と同形状の電極パター
ンを介して間隙保持手段が設けられる事から、注入口周
辺におけるセルギャップを有効表示部におけるセルギャ
ップとほぼ同等に保持出来、液晶表示素子全面に渡り歪
みやムラの無い良好な画像を得られる。一方製造工程に
おける液晶注入時にあっては、従来の様に、間隙保持手
段の無い部分にまで透明電極が延在されておらず、注入
口の断面積が縮小される事が無く、液晶の注入時間を効
果的に短縮出来、製造効率を向上出来る。
入口には間隙保持手段の断面形状と同形状の電極パター
ンを介して間隙保持手段が設けられる事から、注入口周
辺におけるセルギャップを有効表示部におけるセルギャ
ップとほぼ同等に保持出来、液晶表示素子全面に渡り歪
みやムラの無い良好な画像を得られる。一方製造工程に
おける液晶注入時にあっては、従来の様に、間隙保持手
段の無い部分にまで透明電極が延在されておらず、注入
口の断面積が縮小される事が無く、液晶の注入時間を効
果的に短縮出来、製造効率を向上出来る。
【図1】本発明の一実施例の液晶表示素子を示す概略断
面図である。
面図である。
【図2】本発明の一実施例の液晶表示素子の注入口周辺
を示す概略平面図である。
を示す概略平面図である。
【図3】本発明の一実施例の液晶表示素子の注入口周辺
を示す一部断面図である。
を示す一部断面図である。
【図4】比較例1の液晶表示素子の注入口周辺を示す一
部断面図である。
部断面図である。
【図5】比較例2の液晶表示素子の注入口周辺を示す一
部断面図である。
部断面図である。
【図6】第1の従来例の液晶表示素子の注入口周辺を示
す一部断面図である。
す一部断面図である。
【図7】第2の従来例の液晶表示素子の注入口周辺を示
す概略平面図である。
す概略平面図である。
【図8】第2の従来例の液晶表示素子の注入口周辺を示
す一部断面図である。
す一部断面図である。
1…液晶表示素子 10…第1の電極基板 11…第2の電極基板 17…注入口 18a…第1の電極パターン 18b…第2の電極パターン 22a…第1の柱状シール 22b…第2の柱状シール
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成7年3月22日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0020
【補正方法】変更
【補正内容】
【0020】更に各透明電極14、16上には厚さ60
0オングストロームのポリイミド(SE−150:日産
化学工業株式会社製)からなる第1及び第2の配向膜2
0、21が成膜されている。
0オングストロームのポリイミド(SE−150:日産
化学工業株式会社製)からなる第1及び第2の配向膜2
0、21が成膜されている。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0022
【補正方法】変更
【補正内容】
【0022】この周辺シール23で封入された両電極基
板10、11のセルギャップには、左回りのカイラル剤
S−811を添加した液晶組成物(ZLI−2293:
E.メルク社製)が液晶27として挟持されると共に、
粒径4.00μmのスペーサ(積水ファインケミカル株
式会社製)28が、密度約70個/mm2 となるよう均
等に散布されている。
板10、11のセルギャップには、左回りのカイラル剤
S−811を添加した液晶組成物(ZLI−2293:
E.メルク社製)が液晶27として挟持されると共に、
粒径4.00μmのスペーサ(積水ファインケミカル株
式会社製)28が、密度約70個/mm2 となるよう均
等に散布されている。
Claims (1)
- 【請求項1】 透明電極を有し互いに間隙を隔てて対向
される2枚の電極基板と、この2枚の電極基板周囲にて
注入口を設けて前記間隙を囲繞するシール手段と、前記
注入口より注入され前記間隙に保持される液晶組成物と
を具備する液晶表示素子において、前記シール手段と同
材質からなり前記注入口にて前記2枚の電極基板の間隙
を前記シール手段と同じ高さで一定に保持する柱状の間
隙保持手段と、前記透明電極と同材質からなると共に前
記間隙保持手段の断面と同形状に形成され前記間隙保持
手段が位置する前記2枚の電極基板上の少なくとも一方
に設けられる電極パターンとを具備する事を特徴とする
液晶表示素子。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33136793A JPH07191333A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 液晶表示素子 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33136793A JPH07191333A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 液晶表示素子 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07191333A true JPH07191333A (ja) | 1995-07-28 |
Family
ID=18242896
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33136793A Pending JPH07191333A (ja) | 1993-12-27 | 1993-12-27 | 液晶表示素子 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07191333A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6829070B2 (en) | 2002-02-27 | 2004-12-07 | Seiko Epson Corporation | Electro-optic device and electronic device |
JP2008083490A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶装置及び電子機器 |
JP4869344B2 (ja) * | 2006-06-28 | 2012-02-08 | 京セラ株式会社 | 液晶表示パネル用部材およびこれを用いた液晶表示パネルならびに液晶表示装置 |
-
1993
- 1993-12-27 JP JP33136793A patent/JPH07191333A/ja active Pending
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6829070B2 (en) | 2002-02-27 | 2004-12-07 | Seiko Epson Corporation | Electro-optic device and electronic device |
JP4869344B2 (ja) * | 2006-06-28 | 2012-02-08 | 京セラ株式会社 | 液晶表示パネル用部材およびこれを用いた液晶表示パネルならびに液晶表示装置 |
JP2008083490A (ja) * | 2006-09-28 | 2008-04-10 | Epson Imaging Devices Corp | 液晶装置及び電子機器 |
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