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JPH0713598B2 - Defect inspection method for periodic patterns - Google Patents

Defect inspection method for periodic patterns

Info

Publication number
JPH0713598B2
JPH0713598B2 JP9659385A JP9659385A JPH0713598B2 JP H0713598 B2 JPH0713598 B2 JP H0713598B2 JP 9659385 A JP9659385 A JP 9659385A JP 9659385 A JP9659385 A JP 9659385A JP H0713598 B2 JPH0713598 B2 JP H0713598B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
pattern
defect
periodic pattern
image data
gradation image
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
JP9659385A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS61256237A (en
Inventor
一生 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority to JP9659385A priority Critical patent/JPH0713598B2/en
Publication of JPS61256237A publication Critical patent/JPS61256237A/en
Publication of JPH0713598B2 publication Critical patent/JPH0713598B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/84Systems specially adapted for particular applications
    • G01N21/88Investigating the presence of flaws or contamination
    • G01N21/95Investigating the presence of flaws or contamination characterised by the material or shape of the object to be examined
    • G01N21/956Inspecting patterns on the surface of objects
    • G01N21/95607Inspecting patterns on the surface of objects using a comparative method

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Closed-Circuit Television Systems (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の利用分野〕 本発明は、カラーテレビ用ブラウン管に用いられるシヤ
ドウマスク、カラー撮像装置用色分解フイルタ、液晶表
示パネル用カラーフイルタ、電子管に用いられるメツシ
ユ状電極、VDTフイルタ、漏過装置用メツシユフイル
タ、ロータリーエンコーダ、リニアエンコーダ、IC用フ
オトマスク、フレネルレンズ、レンチキユラーレンズな
ど一定の光学的性質、形状をもつ単位(以下単位パター
ン)が一次元方向、或いは二次元方向に規制的に繰り返
し配列されている工業製品、あるいは単位パターンが、
その光学的性質、形状及び1次元方向、2次元方向の配
列ピツチが徐々に変化しながら繰り返し、配列されてい
る工業製品のキズ、ピンホール、黒点、ゴミなどの欠陥
を自動的に検査する方法に関するものである。
The present invention relates to a shadow mask used for a cathode ray tube for a color television, a color separation filter for a color image pickup device, a color filter for a liquid crystal display panel, a mesh electrode used for an electron tube, a VDT. Filters, mesh filters for leak-through devices, rotary encoders, linear encoders, photo masks for ICs, Fresnel lenses, lenticular lenses, etc. Units with certain optical properties and shapes (hereafter unit patterns) are one-dimensional or two-dimensional. Industrial products or unit patterns that are repetitively arranged in a
A method of automatically inspecting defects such as scratches, pinholes, black spots, and dust in the arrayed industrial products by repeating the optical property, shape, and array pitch in the one-dimensional direction and the two-dimensional direction while gradually changing. It is about.

〔発明の背景〕[Background of the Invention]

従来、上記の様な工業製品の欠陥検査は、裸眼又は顕微
鏡を用いて眼視的に行なわれているのが通例であるが、
多数の製品を検査するためには多大の人手を必要とし、
また官能検査であるために検査精度及び信頼性に欠ける
という問題があった。
Conventionally, the defect inspection of industrial products as described above is usually performed visually with a naked eye or a microscope,
It takes a lot of manpower to inspect many products,
Further, since it is a sensory test, there is a problem that the test accuracy and reliability are lacking.

この様な問題を解決するために、等ピッチ配列の周期性
パターンをもつ工業製品に関しては、配列単位及び欠陥
の形状を十分に解像する様な顕微鏡的撮影手段によって
得られたビデオ信号を調べてパターン認識を行なうか、
あるいは欠陥のないパターンを同様に撮影して得られた
信号と比較する等の手段により欠陥を検出して検査する
方法などが提案され、一部実施されている例もあるが、
この様な方法では検出しようとする欠陥の大きさに応じ
た機械的精度が必要となり、微細な欠陥を検出するため
には高精度の装置が必要となるため、装置が高価とな
り、また顕微鏡的な撮影であるために一度に処理できる
画面の大きさが小さくなり、検査すべきパターン全体を
検査するのに多大の時間を要するなどの問題があった。
In order to solve such a problem, for an industrial product having a periodic pattern of an equal pitch array, a video signal obtained by a microscopic photographing means capable of sufficiently resolving the array unit and the shape of the defect is examined. Pattern recognition
Alternatively, a method of detecting and inspecting a defect by means such as comparing a pattern having no defect with a signal obtained by similarly photographing is proposed, and in some cases, it is implemented.
Such a method requires mechanical accuracy according to the size of a defect to be detected, and a high-precision device is required to detect a minute defect, which makes the device expensive and microscopic. However, since the size of the screen that can be processed at one time becomes small because of the large number of shots, it takes a lot of time to inspect the entire pattern to be inspected.

また周期的開口をもつ製品、たとえば電子管用メツシユ
状電極などについては、コヒーレント光を照射したとき
の周期性パターンによる光の回折現象を利用した光学的
フーリエ変換空間フイルタリング法が提案されている
が、この方法では検査速度、検出感度には優れているも
のの被検査パターン毎に空間フイルターを作成しなけれ
ばならず、かつ、精密な光学系が必要となるために装置
が高価となり、さらに、欠陥は検出できるが、その欠陥
開口の基準値に対する大小関係が判別できないなど問題
が多く、新たな検査方法が望まれていた。
For products with periodic apertures, such as mesh-shaped electrodes for electron tubes, an optical Fourier transform spatial filtering method that utilizes the diffraction phenomenon of light due to a periodic pattern when coherent light is irradiated has been proposed. In this method, although the inspection speed and the detection sensitivity are excellent, a space filter must be created for each pattern to be inspected, and a precise optical system is required, which makes the apparatus expensive and further Can be detected, but there are many problems such as the inability to determine the magnitude relationship with the reference value of the defect opening, and a new inspection method has been desired.

〔発明の目的〕[Object of the Invention]

本発明は、上記の様な問題を解決し、周期性パターンを
能率良く、高精度に検査でき、かつ欠陥の白黒判別がで
きる検査方法の提供を目的としたものである。
An object of the present invention is to solve the above problems, and to provide an inspection method capable of inspecting a periodic pattern efficiently and with high accuracy, and capable of discriminating black and white of a defect.

〔発明の概要〕[Outline of Invention]

この目的を達成するため、本発明は、周期性パターンの
単位パターンを十分に解像しない、又は全く解像しない
様な大面積の撮影視野であっても、得られるビデオ信号
には欠陥情報が含まれ、画像処理の手法である画面加算
処理によるビデオ信号のランダムノイズ低減効果と、被
検査パターンを所定の方法で移動させたときに欠陥のな
い部分のビデオ信号パターンの移動の前後でほとんど変
化せず、移動の前後の画像データを減算すると、欠陥の
ない部分の単位パターンによるビデオ信号の変化と、撮
像系のシェーディング及び光学系のゴミなどによる固定
ノイズ成分とからなるビデオ信号の変化が消去され、欠
陥部のない部分の画像データは略0となり、欠陥部のみ
局部的に値が変化することを見出し、これにより欠陥の
検出を行なうようにしたもので、具体的にいうと、本発
明は、単位パターンの繰り返し配列からなる周期性パタ
ーンの局部的な欠陥を検査する方法において、検査すべ
き周期性パターンを所定の第1の位置で撮像して得た第
1の階調画像データと、この周期性パターンを上記所定
の位置から所定の方向に所定の距離だけ変位させた第2
の位置で撮像して得た第2の階調画像データとを用い、
第1の階調画像データから第2の階調画像データを減算
することにより固定ノイズ成分が除去された階調画像デ
ータを求め、この固定ノイズ成分が除去された階調画像
データに基づいて欠陥検査処理を行なうようにした点を
特徴とするものである。
In order to achieve this object, according to the present invention, even if the field of view is large, such that the unit pattern of the periodic pattern is not sufficiently resolved or not resolved at all, defect information is included in the obtained video signal. Random noise reduction effect of video signal by screen addition processing, which is included in the image processing method, and almost no change before and after the movement of the video signal pattern of the defect-free part when the pattern to be inspected is moved by a predetermined method. If the image data before and after the movement is subtracted, the change in the video signal due to the unit pattern of the defect-free portion and the change in the video signal consisting of the fixed noise component due to shading of the imaging system and dust in the optical system are erased. Then, it is found that the image data of a portion having no defective portion becomes substantially 0, and that the value locally changes only in the defective portion, so that the defect can be detected. Specifically, according to the present invention, in a method for inspecting a local defect of a periodic pattern composed of a repeating array of unit patterns, the periodic pattern to be inspected is imaged at a predetermined first position. And the second gradation image data obtained by displacing the periodic pattern from the predetermined position in a predetermined direction by a predetermined distance.
Using the second gradation image data obtained by imaging at the position
By subtracting the second tone image data from the first tone image data, tone image data from which the fixed noise component is removed is obtained, and a defect is generated based on the tone image data from which the fixed noise component is removed. The feature is that the inspection process is performed.

〔発明の実施例〕Example of Invention

以下、実施例にもとづき本発明を詳細に説明する。 Hereinafter, the present invention will be described in detail based on Examples.

第1図は本発明にもる周期性パターンの検査方法の一実
施例で、第2図示の様に周期的な開口を単位パターン11
として持つパターンの開口面積の異常を検査する例に適
用した場合の方法について示したもので、直流電源9で
点灯される白熱ランプ8と拡散板7で構成される透過照
明部により被検査パターン6を照明し、TVカメラ1で検
査領域を撮影する。画像処理装置2はTVカメラの出力信
号をA/D変換してデジタル画像データとし、フレームメ
モリ及び演算器により画面の加算、減算を含む各種の画
像処理を高速で行うものである。3は制御部で画像処理
装置2及びXYステージ10と駆動部5で構成されるパター
ン移動機構を制御するものである。
FIG. 1 shows an embodiment of a method for inspecting a periodic pattern according to the present invention. As shown in FIG.
The method when applied to the example of inspecting the opening area of the pattern having the above as an example is shown. And the TV camera 1 photographs the inspection area. The image processing device 2 performs A / D conversion of the output signal of the TV camera into digital image data, and performs various kinds of image processing including addition and subtraction of the screen at high speed by a frame memory and a computing unit. A control unit 3 controls the image processing apparatus 2, the pattern moving mechanism including the XY stage 10 and the driving unit 5.

そして、画像処理装置2と制御部3は、まず、被検査パ
ターン6を所定の第1の位置にセットし、このときTVカ
メラ1で撮像したして得た階調画像データを処理し、第
1の階調画像データとしてメモリに格納する。
Then, the image processing device 2 and the control unit 3 first set the pattern 6 to be inspected at a predetermined first position, process the gradation image data obtained by picking up the image with the TV camera 1 at this time, and It is stored in the memory as 1 gradation image data.

次に、被検査パターン6を第1の位置から所定の方向に
所定距離変位させて第2の位置にセットし、そこでTVカ
メラ1で撮像して得た階調画像データを処理し、第2の
階調画像データとしてメモリに格納するのである。
Next, the pattern 6 to be inspected is displaced from the first position in a predetermined direction by a predetermined distance and set to the second position, where the gradation image data obtained by the image pickup by the TV camera 1 is processed, It is stored in the memory as the gradation image data.

第2図は、被検査パターン6の一例で、11は正常な単位
パターン、12、13は欠陥をもった単位パターンを表わ
す。
FIG. 2 shows an example of the pattern 6 to be inspected, where 11 is a normal unit pattern and 12 and 13 are defective unit patterns.

次に、この実施例によりパターン6の欠陥を検出する動
作について説明する。なお、ここでは、説明を簡単にす
るため、TVカメラ1によるビデオ信号の単位開口による
変化が無視できる撮影条件、例えば1画素に対応するパ
ターン面積に単位開口11が10個程度入る様な撮影条件と
し、パターンを移動させて、変位させる方向がTVカメラ
1の走査線方向で、パターンの変位距離が画素ピツチの
整数倍となっている場合について説明する。
Next, an operation of detecting a defect of the pattern 6 according to this embodiment will be described. Here, for simplification of description, a shooting condition in which a change in a video signal by the TV camera 1 due to a unit opening is negligible, for example, a shooting condition such that about 10 unit openings 11 are included in a pattern area corresponding to one pixel. The case where the pattern is moved and displaced is the scanning line direction of the TV camera 1 and the displacement distance of the pattern is an integral multiple of the pixel pitch will be described.

まず、第3図(a)はパターンの欠陥がある所を通る直
線上の光透過率分布を示す図で14は第2図のパターン13
に示す様に開口面積が正常なパターン11よりも大きい欠
陥(以下白点という)による光透過率の変化を示し、15
は第2図のパターン12に示す様に開口面積が正常なパタ
ーン11よりも小さい欠陥(以下黒点)による光透過率の
変化を示す。
First, FIG. 3 (a) is a diagram showing a light transmittance distribution on a straight line passing through a portion having a pattern defect, and 14 is the pattern 13 of FIG.
As shown in, the change in light transmittance due to a defect (hereinafter referred to as a white dot) having an opening area larger than that of the normal pattern 11 is shown.
2 shows a change in light transmittance due to a defect (hereinafter referred to as a black dot) having an opening area smaller than that of the normal pattern 11 as shown by a pattern 12 in FIG.

次に、第3図(b)は第3図(a)と同じ線上を走査し
たビデオ信号を示す図で、パターンの照明ムラ、撮像面
の感度ムラなどによる緩やかな信号変化(シェーディン
グ)と光学系に付着したゴミなどによる信号に局部的変
化16とからなる固定ノイズ成分、及びビデオ信号処理回
路で発生するランダムノイズが示されている。
Next, FIG. 3 (b) is a diagram showing a video signal scanned on the same line as FIG. 3 (a), showing a gradual signal change (shading) due to uneven illumination of the pattern, uneven sensitivity of the image pickup surface, etc. A fixed noise component consisting of a local change 16 and a random noise generated in the video signal processing circuit are shown in the signal due to dust adhering to the system.

また、第3図(c)は画像処理装置2により画面加算処
理した結果を示す図で、第3図(b)のランダムノイズ
成分の比率が、加算回数をNとしたときに、 にまで減少していることを示す。
Further, FIG. 3 (c) is a diagram showing the result of the screen addition processing by the image processing device 2, and when the ratio of the random noise components in FIG. 3 (b) is N, It shows that it is decreasing to.

さらに、第3図(d)はパターンを変位させて画面加算
処理をした結果を示し、パターンの移動と共にパターン
上の欠陥による信号も移動しているが、撮像系のシエー
デイング及び光学系のゴミなどによる信号16の位置は変
化していないことを示している。
Further, FIG. 3 (d) shows the result of the screen addition processing by displacing the pattern. Although the signal due to the defect on the pattern is moving along with the movement of the pattern, erasing of the imaging system and dust of the optical system, etc. It indicates that the position of signal 16 due to is unchanged.

そして、第3図(e)は、第3図(c)の画像データ
(第1の階調画像データ)から第3図(d)の画像デー
タ(第2の階調画像データ)を減算した結果を示したも
ので、第3図(c)、(d)のデータに含まれていたシ
ェーディングや局部的変化16など、パターンの移動によ
っては変化しない固定ノイズ成分が消去されて、パター
ンの光透過率変化による信号と、低減されたランダムノ
イズ成分だけが残り、この結果、欠陥による信号はパタ
ーンの移動量に応じた画素数離れた位置で、その近傍の
平均値に対する値の差がほぼ同じで、符号が反転して現
われ、その反転する順序は欠陥の種類(白点,黒点)に
よって逆転していることが判る。
Then, FIG. 3 (e) is obtained by subtracting the image data of FIG. 3 (d) (second gradation image data) from the image data of FIG. 3 (c) (first gradation image data). The results show that the fixed noise components that do not change with the movement of the pattern, such as shading and local changes 16 included in the data of FIGS. Only the signal due to the change in transmittance and the reduced random noise component remain, and as a result, the signal due to the defect has almost the same value difference from the average value in the vicinity of the number of pixels according to the amount of movement of the pattern. Then, the sign appears to be inverted, and it is understood that the order of inversion is reversed depending on the type of defect (white dot, black dot).

以上はパターンの変位前及び変位後、各々画面加算処理
を行った2画面画像データ間で減算する例を説明したも
のであるが、移動前の加算データから移動後の画面デー
タを加算と同一フレーム数減算しても結果は全く同じで
ありフレームメモリも1面のみで処理可能である。
The above is an example of subtracting between the two screen image data subjected to the screen addition processing before and after the pattern displacement, but the screen data after movement is added to the addition screen data before movement in the same frame as addition. Even if the number is subtracted, the result is exactly the same, and the frame memory can be processed with only one surface.

したがって、以上の処理をした画像データをTVモニタ4
で観察すれば、欠陥部のみ明るさが局部的に変化してい
るため、容易に欠陥を認識でき、さらに欠陥部での周囲
に対する明暗の反転の順序で欠陥の種類(白点,黒点)
が識別できる。
Therefore, the image data that has been subjected to the above processing should be displayed on the TV monitor 4.
When observed with, since the brightness of only the defect part locally changes, the defect can be easily recognized, and the defect type (white dot, black dot) in the order of light and dark reversal with respect to the surroundings at the defect part.
Can be identified.

また、この画像データから、近傍平均値の減算、あるい
は微分処理、特にパターン移動が平行移動である場合に
はパターン上の一点が移動の前後で各々対応する画素間
の差を演算する画像処理を行うと、第3図(f)に示す
様に、前記画像データのゆるやかな変化成分が除去さ
れ、所定の閾値との比較により自動的に欠陥を検出でき
る。
In addition, from this image data, subtraction of the neighborhood average value, or differential processing, especially when the pattern movement is parallel movement, image processing for computing the difference between corresponding pixels before and after one point on the pattern is moved is performed. Then, as shown in FIG. 3 (f), the gradual change component of the image data is removed, and the defect can be automatically detected by comparison with a predetermined threshold value.

ところで、以上は画像データの加算、パターン移動、減
算によって欠陥による信号以外を消去する方法を説明し
たものであるが、撮影条件によっては単位パターンによ
るビデオ信号の変化が無視できない場合があり、この場
合には前記説明の様に、画素ピツチの整数倍の移動では
単位パターン信号が第4図(b)に示す様に加減算後の
画像データに残り、微小な欠陥が検出できなくなる。な
お、第4図(a)は減算前のデータである。
By the way, the above describes the method of erasing signals other than the signal due to the defect by adding the image data, moving the pattern, and subtracting. However, in some cases, the change in the video signal due to the unit pattern cannot be ignored depending on the shooting conditions. As described above, when the pixel pitch is moved by an integral multiple, the unit pattern signal remains in the image data after addition and subtraction as shown in FIG. 4B, and it becomes impossible to detect minute defects. Incidentally, FIG. 4 (a) shows the data before the subtraction.

しかし、この様な場合には、例えば等ピッチ配列の周期
パターンでは配列ピツチの整数倍、ストライプ状パター
ンではストライプの方向へ、同心円パターンではその中
心で回転、単位パターンを回転させ、円周上に配列した
パターンでは、その配列の中心を回転中心として配列角
度の整数倍の回転を各々のパターン移動の条件として設
定すれば、各々欠陥のないパターンによる画像データは
移動の前後で変化せず、したがって、第5図(a),
(b)に示す様に、加減算後の画像データは第3図
(e)で示すものと同様な結果が得られ、微小な欠陥の
検出が可能となる。
However, in such a case, for example, in the case of a periodic pattern having an equal pitch arrangement, an integer multiple of the arrangement pitch, in the stripe direction in the stripe pattern, in the concentric circle pattern, the unit pattern is rotated, and the unit pattern is rotated to form a circle. In the arrayed pattern, if the rotation of the array center as the center of rotation and an integer multiple of the array angle is set as a condition for each pattern movement, the image data of the defect-free pattern does not change before and after the movement, and , FIG. 5 (a),
As shown in (b), the image data after addition and subtraction gives the same result as that shown in FIG. 3 (e), and it becomes possible to detect minute defects.

次にパターンの移動距離について説明する。第6図は欠
陥パターン17,18の光学像と、画素Pの関係、加減算後
の画像データDの関係を説明する図で、第6図(a)は
パターン移動量が画素ピツチの整数倍、第6図(b)は
整数倍でないときの例を示す。
Next, the movement distance of the pattern will be described. FIG. 6 is a view for explaining the relationship between the optical images of the defect patterns 17 and 18, the pixel P, and the relationship between the image data D after addition and subtraction, and FIG. 6A shows that the pattern movement amount is an integer multiple of the pixel pitch, FIG. 6 (b) shows an example when it is not an integral multiple.

そして、第6図(a)では欠陥部の画像データDが近傍
平均値に対して上下対称となるが、整数倍でない場合は
第6図(b)の例で示す様に欠陥像による画像データD
の変化が隣接画素に振り分けられる割合がパターン移動
の前後で異なるために、近傍平均値に対する上下の対称
性が失なわれ、自動検出処理を行なう上で誤差の要因と
なる。
Then, in FIG. 6 (a), the image data D of the defective portion is vertically symmetrical with respect to the neighborhood average value, but when it is not an integral multiple, image data by a defect image as shown in the example of FIG. 6 (b). D
Since the change ratio of the difference between adjacent pixels is different before and after the pattern movement, the vertical symmetry with respect to the neighborhood average value is lost, which causes an error in the automatic detection process.

したがって、パターンの移動は、欠陥像とそれを受ける
画素との位置関係がパターンの移動の前後で同一となる
ことが好ましく、例えば画素の配列方向に移動させる場
合には、画素ピツチの整数倍に設定する方が良い結果が
得られる事になる。そこで、単位パターンによるビデオ
信号の変化が無視し得る場合には画素ピツチの整数倍、
無視できない場合にはパターンの配列ピツチと画素ピツ
チの公倍数を移動距離とすれば前述の欠陥のないパター
ンによる画像データの消去と、移動距離を画素ピツチの
整数倍にすることの両条件を満足する事が出来る。
Therefore, it is preferable that the pattern movement is such that the positional relationship between the defect image and the pixel receiving the defect image is the same before and after the pattern movement. For example, when moving in the pixel array direction, an integer multiple of the pixel pitch is used. Setting it will give better results. Therefore, if the change in the video signal due to the unit pattern can be ignored, an integer multiple of the pixel pitch,
If it cannot be ignored, if the moving distance is set to the common multiple of the pattern arrangement pixel and the pixel pitch, both conditions of erasing the image data by the defect-free pattern and making the moving distance an integral multiple of the pixel pitch are satisfied. I can do things.

ところで、以上の本発明の検査方法で必要なパターンの
変位は、加減算後の画像データから欠陥のないパターン
の情報の消去を不可欠の条件として、この条件のもと
で、可能ならば、欠陥像とそれを受ける画素との位置関
係を移動の前後で一致させる方が良好な結果が得られる
べきことを意味している。したがって、これらの条件を
満足すれば移動の方向は必ずしも画素の配列方向と一致
していなくても良い。
By the way, the displacement of the pattern required in the inspection method of the present invention is based on the indispensable condition of erasing the information of the pattern having no defect from the image data after addition and subtraction, and under this condition, if possible, the defect image. This means that better results should be obtained by matching the positional relationship between the pixel and the pixel that receives it before and after the movement. Therefore, if these conditions are satisfied, the movement direction does not necessarily have to match the pixel arrangement direction.

次に、本発明の一実施例として、欠陥像と画素の位置関
係によって生ずる欠陥信号レベルの変動を低減する方法
について説明する。
Next, as an embodiment of the present invention, a method of reducing the fluctuation of the defect signal level caused by the positional relationship between the defect image and the pixel will be described.

第7図(a)は欠陥パターン17の像が一つの画素Pの中
央に、第7図(b)は欠陥パターン17の像が4つの画素
Pの接点上にそれぞれある状態を示す。このように、同
一の欠陥であっても第7図(a)の様に欠陥による信号
変化のほとんどが1画素に集中する場合と、第7図
(b)の様に4画素に分散される場合とでは、欠陥信号
レベルにほぼ4倍の差が生じ、この結果、欠陥検出の再
現性が低いという問題を生じる。しかして、この様な欠
陥信号の周囲画素への分散は、欠陥像を中心とした3×
3画素の領域内にその大部分が収まっており、その外側
への影響は無視できるため、画像処理でよく用いられる
空間フイルター処理により、最大3×3画素の近傍画素
加算処理を加減算後の画像データに対して行うと、欠陥
部において周囲の画素に分散した欠陥信号の合計が得ら
れ、欠陥信号レベルの変化を低減する事ができる。
FIG. 7A shows a state in which the image of the defect pattern 17 is in the center of one pixel P, and FIG. 7B shows a state in which the image of the defect pattern 17 is on the contact points of the four pixels P. As described above, even if the same defect is generated, most of the signal changes due to the defect are concentrated on one pixel as shown in FIG. 7 (a) and dispersed in four pixels as shown in FIG. 7 (b). The difference between the case and the case is approximately four times as large as the defect signal level, resulting in a problem that the reproducibility of defect detection is low. Therefore, the distribution of such a defect signal to surrounding pixels is 3 × with the defect image as the center.
Since most of it is contained in the region of 3 pixels and the influence on the outside can be ignored, the image after addition and subtraction of a maximum of 3 × 3 pixel neighboring pixel addition processing is performed by the spatial filter processing often used in image processing. When performed on the data, the total of the defect signals dispersed in the peripheral pixels in the defective portion can be obtained, and the change in the defect signal level can be reduced.

次に、本発明のさらに別の一実施例として、欠陥の検出
と種類の判別を自動的に行う方法について説明する。
Next, as still another embodiment of the present invention, a method of automatically detecting defects and discriminating types will be described.

第8図(a)はパターンを変位させる方向が画素の配列
方向と同じで、移動距離を画素ピツチの2倍とし、画面
加算処理を行った後、図で右側へパターン移動を行い、
加算と同一フレーム数、減算を行った結果の画像データ
の例を示したもので、20は白点欠陥、21は黒点欠陥によ
る画像データの局部的変化を示し、それ以外の部分は単
位パターンの配列ピツチ、大きさなどのゆるやかな変化
に応じた画像データの変化(低周波変化)を表わしてい
る。
In FIG. 8 (a), the direction in which the pattern is displaced is the same as the pixel array direction, the movement distance is set to twice the pixel pitch, and after screen addition processing is performed, the pattern is moved to the right side in the figure,
The same number of frames as addition and an example of image data resulting from subtraction are shown, where 20 indicates a white spot defect, 21 indicates a local change in the image data due to a black spot defect, and the other portions are the unit pattern. The change (low frequency change) of the image data according to the gradual change in the array pitch and size is shown.

ここで、欠陥部の画像データを詳しく見ると、欠陥が画
面加算時に対応する画素A(22,22′)、と減算時に対
応する画素B(23,23′)が欠陥情報をもつ画素とし
て、パターンの変位距離、つまり画素2ピツチに対応す
る画素数(2画素)離れて現われ、各々の画素データ
IA,IB,その中点に対応する画素C(24,24′)の近傍平
均値をICとすると、IA−IC及びIB−ICは符号が反対の絶
対値がほぼ同じ値となり、この符号の順序が欠陥の種類
(白点,黒点)に対応し、IA−IBの絶対値が欠陥の大き
さに比例することが判る。また、IAとIBの平均値とIC
差は、IA−IBの値に対して十分に小さい比率となってい
ることも判る。そこで、IA−IBが得られる様な画像デー
タ処理、例えば第8図(a)に対してI(j)=I(j-1)−I(
j+1)を演算すると第8図(b)に示す様になり、I
(j-1),I(j+1)が、それぞれIA,IBとなる画素(25,25′)
に対しての欠陥の種類と大きさを示すデータとなり、ま
た前記、低周波変化も低減されるため、一定の閾値と比
較すれば、欠陥の検出と種類の判定が可能となる。
Here, looking at the image data of the defective portion in detail, the pixel A (22,22 ') corresponding to the defect at the time of screen addition and the pixel B (23,23') corresponding to the time of subtraction are the pixels having the defect information. The displacement distance of the pattern, that is, the number of pixels (two pixels) corresponding to two pixel pitches, appears, and each pixel data
Let I C be the neighborhood average value of pixel C (24, 24 ′) corresponding to I A , I B , and its midpoint, I A −I C and I B −I C have almost the same absolute value with opposite signs. The values are the same, and it can be seen that the order of this code corresponds to the type of defect (white dot, black dot), and the absolute value of I A -I B is proportional to the size of the defect. It can also be seen that the difference between the average value of I A and I B and I C is a sufficiently small ratio with respect to the value of I A −I B. Therefore, image data processing such that I A −I B is obtained, for example, I ( j ) = I ( j −1) −I ( for FIG. 8A).
When (j + 1) is calculated, it becomes as shown in FIG.
Pixels (25,25 ') where ( j -1) and I ( j +1) are I A and I B , respectively
Since the data indicates the type and size of the defect, and the low frequency change is also reduced, the defect can be detected and the type can be determined by comparing with a constant threshold value.

しかしながら、このとき、第8図(b)に示す様に、欠
陥として検出すべき画素の両側に符号が反対で値がIA
IBの半分のデータ(26,26′)が発生するため、閾値に
対して2倍以上の信号レベルをもつ欠陥に対しては偽欠
陥をも検出してしまう事になり、検出と種類の判定に不
都合を生ずる。
However, at this time, as shown in FIG. 8 (b), the value sign opposite to both sides of the pixel to be detected as a defect I A -
Because half of the data (26, 26 ') of I B is generated, it will be thus also detect false defects for defect having a signal level greater than twice the threshold, the detection and the type of It causes inconvenience in judgment.

そこで、前記IA,IB,ICに於て(IA+IB)/2−ICがIA−IB
に対して、一定の比率以下になる事を利用し、例えば第
8図(a)に対して (ただし、 はI(j)の近傍平均値とする)を演算して第8図(c)を
得、所定の閾値と比較して偽欠陥を含む欠陥検出画素の
内、前記(IA+IB)/2−ICが所定の値以下となる画素を
選別してやれば、前記偽欠陥を除外する事が出来、安定
した欠陥検出と種類の判定を行なうことができる。
Therefore, in I A , I B , and I C , (I A + I B ) / 2−I C is I A −I B
On the other hand, by utilizing the fact that the ratio becomes a certain ratio or less, for example, with respect to FIG. 8 (a) (However, Is the neighborhood average value of I ( j ) ) to obtain FIG. 8 (c), which is compared with a predetermined threshold value to detect (I A + I B ) / do it 2-I C are sorted pixels to be the predetermined value or less, the able to exclude false defects, can be stably defect detection and type of determination.

次に、以上の実施例により周期性パターンの欠陥検査を
実施した例を示すと、単位パターンの直径が100μm、
配列ピツチが300μmで第2図に示す様な配列をもつ周
期性パターンを第1図に示す様に透過光により照明し、
撮像管を用いたTVカメラ1で300×220mmの領域を撮影
し、撮影時間及び画像処理時間の合計が約5秒で単位パ
ターンの開口径が5μm異なる欠陥を自動的に検出し、
周囲に対する開口の大小の判定を行う事ができた。尚、
本発明で用いるTV撮影装置及び照明方法としては、欠陥
情報を含むビデオ信号が得られるものであればどのよう
なものでも全て利用でき、例えばTV撮影装置としては、
撮像管、固体撮像素子を用いたTVカメラ、イメージデイ
セクタやフライングスポツト管を用いた撮影装置、X線
TV撮影装置、電子顕微鏡撮像装置などが使用でき、ま
た、照明方法としては、透過光照明、透過暗視野照明、
反射暗視野照明、正反射照明などが用いられ、さらに照
明光の性質としては、コヒーレンス、分光特性、偏光な
ど何れも検出しようとする欠陥による信号のS/Nが高く
なる様に、又は検出する必要のない欠陥による信号レベ
ルが低くなる様に選択していずれによっても実施する事
が出来る。
Next, an example of the defect inspection of the periodic pattern according to the above-mentioned embodiment is shown. The unit pattern has a diameter of 100 μm.
A periodic pattern having an array pitch of 300 μm and having an array as shown in FIG. 2 is illuminated by transmitted light as shown in FIG.
A TV camera 1 using an image pickup tube is used to shoot an area of 300 × 220 mm, and the total of the shooting time and the image processing time is about 5 seconds, and the defect in which the aperture diameter of the unit pattern differs by 5 μm is automatically detected.
It was possible to judge the size of the opening with respect to the surroundings. still,
As the TV photographing device and the illumination method used in the present invention, any one can be used as long as a video signal including defect information can be obtained. For example, as the TV photographing device,
Image pickup tube, TV camera using solid-state image pickup device, image pickup device using image dissector or flying spot tube, X-ray
A TV imager, an electron microscope imager, etc. can be used, and as the illumination method, transmitted light illumination, transmitted darkfield illumination,
Reflective dark-field illumination, specular illumination, etc. are used, and further, as the properties of the illumination light, coherence, spectral characteristics, polarization, etc. are detected such that the signal S / N is high due to the defect to be detected or detected. It can be carried out by any one selected so that the signal level due to an unnecessary defect becomes low.

〔発明の効果〕〔The invention's effect〕

以上説明した様に、本発明によれば、周期性パターンを
もつ種々の工業製品の微小な欠陥を、その周期性パター
ンを構成する単位パターンが解像されない様な広い撮影
視野で撮影して、その画像データを処理する事により、
自動的に検出し、種類(白点,黒点)の判定を行う事が
可能となり、検査精度、信頼性及び能率の向上などの効
果が得られる。
As described above, according to the present invention, minute defects of various industrial products having a periodic pattern are photographed with a wide field of view such that the unit pattern forming the periodic pattern is not resolved. By processing the image data,
It is possible to automatically detect and determine the type (white dot, black dot), and it is possible to obtain effects such as improvement of inspection accuracy, reliability, and efficiency.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

第1図は本発明による周期性パターンの検査方法の一実
施例を示すブロツク図、第2図は周期性パターンの一例
を示す説明図、第3図(a)〜(f)、第4図(a),
(b),第5図(a),(b)、第6図(a),
(b)、第7図(a),(b)、それに第8図(a)〜
(c)はそれぞれ本発明の動作を示す説明図である。 1……TVカメラ、2……画像処理装置、3……制御部、
4……TVモニタ、5……駆動機構、6……被検査体、7
……拡散板、8……ランプ、9……直流電源、10……ス
テージ、11……単位パターン、12,13……欠陥、14,15…
…欠陥による透過率変化、16……光学系のゴミ等による
信号変化、17……欠陥像、27……閾値、28……近傍平均
値。
FIG. 1 is a block diagram showing an embodiment of a method for inspecting a periodic pattern according to the present invention, FIG. 2 is an explanatory view showing an example of a periodic pattern, FIGS. 3 (a) to (f), and FIG. (A),
(B), FIG. 5 (a), (b), FIG. 6 (a),
(B), FIGS. 7 (a), (b), and FIG. 8 (a)-
(C) is explanatory drawing which shows operation | movement of this invention, respectively. 1 ... TV camera, 2 ... image processing device, 3 ... control unit,
4 ... TV monitor, 5 ... Drive mechanism, 6 ... Inspected object, 7
...... Diffuser, 8 ...... Lamp, 9 ...... DC power supply, 10 ...... Stage, 11 …… Unit pattern, 12,13 …… Defect, 14,15…
… Transmission change due to defects, 16 …… Signal change due to dust in optical system, 17 …… Defect image, 27 …… Threshold value, 28 …… Neighborhood average value.

Claims (10)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】単位パターンの繰り返し配列からなる周期
性パターンの局部的な欠陥を検査する方法において、検
査すべき周期性パターンを有する物体を所定の第1の位
置から所定の方向に所定の距離だけ離れた第2の位置に
変位させ、上記第1の位置で上記物体の周期性パターン
をフレーム単位で撮像して得た第1の階調画像データ
と、上記第1の位置で撮像した周期性パターンと同じ周
期性パターンを上記第2の位置でフレーム単位で撮像し
て得た第2の階調画像データとを用い、上記第1の階調
画像データから上記第2の階調画像データを減算するこ
とにより固定ノイズ成分が除去された階調画像データを
求め、この固定ノイズ成分が除去された階調画像データ
に基づいて欠陥検査処理を行うように構成したもので、
前記第1と第2の階調画像データが、共に復数回の撮像
による複数フレームにわたる階調データの各画素データ
ごとの加算による階調画像データであることを特徴とす
る周期性パターンの欠陥検査方法。
1. A method for inspecting a local defect of a periodic pattern composed of a repetitive array of unit patterns, wherein an object having a periodic pattern to be inspected is separated from a predetermined first position by a predetermined distance in a predetermined direction. The first gradation image data obtained by displacing the periodic pattern of the object on a frame-by-frame basis at the first position and displacing it at the second position, and the period of imaging at the first position. Second gradation image data obtained by imaging the same periodic pattern as the periodic pattern at the second position in frame units, and using the first gradation image data to the second gradation image data. The gradation image data from which the fixed noise component has been removed is obtained by subtracting, and the defect inspection processing is performed based on the gradation image data from which this fixed noise component has been removed.
A defect of a periodic pattern, wherein the first and second gradation image data are gradation image data obtained by adding gradation data for each pixel data over a plurality of frames obtained by imaging several times. Inspection method.
【請求項2】特許請求の範囲第1項において、上記周期
性パターンは、その単位パターンの形状、大きさ、配列
ピッチの少なくとも一つが所定の割合で変化して配列さ
れていることを特徴とする周期性パターンの欠陥検査方
法。
2. The periodic pattern according to claim 1, wherein at least one of the shape, size, and arrangement pitch of the unit patterns is changed at a predetermined ratio. Inspection method for periodic patterns.
【請求項3】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記第1と第2の階調画像データの撮像条件が、撮
像した階調データの各画素ごとのデータに現われる上記
単位パターンごとの変化による影響が充分に少なく無視
可能な状態となるように定められ、上記所定の方向が上
記画素の配列方向と一致し、かつ上記所定の距離が上記
画素ピッチの整数倍となるように構成されていることを
特徴とする周期性パターンの欠陥検査方法。
3. The unit pattern according to claim 1 or 2, wherein the imaging conditions of the first and second gradation image data appear in data of each pixel of the captured gradation data. Is determined so that the influence of each change is sufficiently small and can be ignored, the predetermined direction coincides with the arrangement direction of the pixels, and the predetermined distance is an integral multiple of the pixel pitch. A periodic pattern defect inspection method characterized by being configured.
【請求項4】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記所定の方向が単位パターンの配列方向と一致
し、かつ上記所定の距離が単位パターンの配列ピッチの
整数倍となるように構成されていることを特徴とする周
期性パターンの欠陥検査方法。
4. The apparatus according to claim 1 or 2, wherein the predetermined direction coincides with the arrangement direction of the unit patterns and the predetermined distance is an integral multiple of the arrangement pitch of the unit patterns. A periodic pattern defect inspection method characterized by being configured.
【請求項5】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記所定の方向が単位パターンの配列方向と一致
し、かつ上記所定の距離が単位パターンの配列ピッチと
上記階調画像データの画素ピッチの公倍数となるように
構成されていることを特徴とする周期性パターンの欠陥
検査方法。
5. The apparatus according to claim 1 or 2, wherein the predetermined direction coincides with the arrangement direction of the unit patterns, and the predetermined distance is the arrangement pitch of the unit patterns and the gradation image data. A method of inspecting a defect of a periodic pattern, which is configured to be a common multiple of a pixel pitch.
【請求項6】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記周期性パターンがストライプ状パターンで、上
記所定の方向がこのストライプ状パターンの各ストライ
プの配列方向であり、かつ上記所定の距離が上記階調画
像データの画素ピッチの整数倍となるように構成されて
いることを特徴とする周期性パターンの欠陥検査方法。
6. The periodic pattern according to claim 1 or 2, wherein the periodic pattern is a stripe pattern, the predetermined direction is an array direction of each stripe of the stripe pattern, and the predetermined direction is the predetermined direction. A defect inspection method for a periodic pattern, wherein the distance is configured to be an integral multiple of the pixel pitch of the gradation image data.
【請求項7】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記周期性パターンが同心円状パターンで、上記所
定の方向がこの同心円状パターンの中心を回転軸とした
回転移動方向となるように構成されていることを特徴と
する周期性パターンの欠陥検査方法。
7. The periodic pattern according to claim 1 or 2, wherein the periodic pattern is a concentric circular pattern, and the predetermined direction is a rotational movement direction with a center of the concentric circular pattern as a rotation axis. A defect inspection method for a periodic pattern, comprising:
【請求項8】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記周期性パターンが単位パターンを円周上に配列
したパターンで、上記所定の方向がこの単位パターンの
配列方向と一致した円周方向であり、かつ上記所定の距
離が上記単位パターンの円周上での配列ピッチの整数倍
となるように構成されていることを特徴とする周期性パ
ターンの欠陥検査方法。
8. The circle according to claim 1 or 2, wherein the periodic pattern is a pattern in which unit patterns are arranged on a circle, and the predetermined direction is the same as the arrangement direction of the unit patterns. A method for inspecting a defect of a periodic pattern, which is in a circumferential direction and is configured such that the predetermined distance is an integer multiple of an arrangement pitch on a circumference of the unit pattern.
【請求項9】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記欠陥検出処理が、最大で3×3画素の近傍デー
タの加算処理を含むように構成されていることを特徴と
する周期性パターンの欠陥検査方法。
9. A cycle according to claim 1 or 2, wherein the defect detection processing is configured to include addition processing of neighborhood data of 3 × 3 pixels at maximum. Inspection method for defects in the pattern.
【請求項10】特許請求の範囲第1項又は第2項におい
て、上記欠陥検出処理が、上記減算して得た階調画像デ
ータに対して、上記周期性パターン上一点が画面加算時
に対応する画素をA、画面減算時に対応する画素をB、
それに画素A、Bの中心に対応する画素をCとしたとき
に、この画素Cの近傍平均値と、画素AとBのデータの
平均値の差が画素AとBのデータの差に比して充分に小
さく、かつ画素AとBのデータの差が所定レベル以上で
ある点を欠陥と判断し、画素AとBのデータの差の符号
と絶対値により欠陥の種類と大きさとを認知するように
構成されていることを特徴とする周期性パターンの欠陥
検査方法。
10. The defect detection process according to claim 1 or 2, wherein one point on the periodic pattern corresponds to the gradation image data obtained by the subtraction at the time of screen addition. Pixel is A, pixel corresponding to screen subtraction is B,
When the pixel corresponding to the center of the pixels A and B is C, the difference between the average value of the neighborhood of the pixel C and the average value of the data of the pixels A and B is greater than the difference of the data of the pixels A and B. Is sufficiently small and the difference between the data of the pixels A and B is equal to or higher than a predetermined level is determined as a defect, and the type and size of the defect are recognized from the sign and absolute value of the difference between the data of the pixels A and B. A defect inspection method for a periodic pattern, which is characterized in that:
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