JPH07117809A - 真空保管庫 - Google Patents
真空保管庫Info
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- JPH07117809A JPH07117809A JP28576693A JP28576693A JPH07117809A JP H07117809 A JPH07117809 A JP H07117809A JP 28576693 A JP28576693 A JP 28576693A JP 28576693 A JP28576693 A JP 28576693A JP H07117809 A JPH07117809 A JP H07117809A
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- Japan
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- vacuum
- storage
- chamber
- vacuum storage
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 被保管物を真空状態を保持したまま移載する
ことのできる、清浄度の極めて高い真空保管庫を提供す
る。 【構成】 被保管物１２を真空雰囲気で保管する真空保
管庫１において、該真空保管庫１は、真空保管室５と、
ロボット室３と、ロードロック室２とから構成され、該
各室はゲートバルブ６，７を介して気密に接続され、上
記被保管物１２の移載時にも、上記真空保管室１の真空
を保持する手段を備えた。
ことのできる、清浄度の極めて高い真空保管庫を提供す
る。 【構成】 被保管物１２を真空雰囲気で保管する真空保
管庫１において、該真空保管庫１は、真空保管室５と、
ロボット室３と、ロードロック室２とから構成され、該
各室はゲートバルブ６，７を介して気密に接続され、上
記被保管物１２の移載時にも、上記真空保管室１の真空
を保持する手段を備えた。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造ライン等で使
用される、半導体ウエハ等を高清浄度の状態で保管する
保管庫に関するものである。
用される、半導体ウエハ等を高清浄度の状態で保管する
保管庫に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来の保管庫を図９に示す。例えば、半
導体製造用シリコンウエハは、テフロン製等のキャリア
に２５枚単位で入れられ、図９に示すような保管庫内で
保管される。この保管庫は、上部にＨＥＰＡフィルター
がついており、その下に棚があり、ＨＥＰＡフィルター
によってクリーンルーム内のクリーンエアを更に清浄化
された空気を下方に流し、棚に置かれたウエハに塵埃
（粒子）が附着しない様にしている。
導体製造用シリコンウエハは、テフロン製等のキャリア
に２５枚単位で入れられ、図９に示すような保管庫内で
保管される。この保管庫は、上部にＨＥＰＡフィルター
がついており、その下に棚があり、ＨＥＰＡフィルター
によってクリーンルーム内のクリーンエアを更に清浄化
された空気を下方に流し、棚に置かれたウエハに塵埃
（粒子）が附着しない様にしている。
【０００３】しかしながら最近の半導体の微細化に伴
い、空気中の酸素／水分によりウエハ上に発生する自然
酸化膜が問題になりつつある。その為、保管庫は、清浄
空気の代わりに、清浄な乾燥した窒素等の不活性ガスを
流す方式も使われている。しかしながらこの方法におい
ても、乾燥窒素に含まれている不純物としての酸素／水
分が完全に取りきれない事や、窒素を連続して流してい
る事により、その窒素に微量含まれている粒子がウエハ
の保管時間の増加と共にウエハ上に堆積してしまう事
や、使用される窒素は高純度のものである必要がある為
そのランニングコストが高い等の問題がある。
い、空気中の酸素／水分によりウエハ上に発生する自然
酸化膜が問題になりつつある。その為、保管庫は、清浄
空気の代わりに、清浄な乾燥した窒素等の不活性ガスを
流す方式も使われている。しかしながらこの方法におい
ても、乾燥窒素に含まれている不純物としての酸素／水
分が完全に取りきれない事や、窒素を連続して流してい
る事により、その窒素に微量含まれている粒子がウエハ
の保管時間の増加と共にウエハ上に堆積してしまう事
や、使用される窒素は高純度のものである必要がある為
そのランニングコストが高い等の問題がある。
【０００４】そこで、最近真空中でウエハを保管する方
法が提案されてきている。真空中では、気体分子数の減
少によりブラウン運動が少なくなるため、大気圧中では
空中に漂っている煙草の煙の様な小さな粒子も短時間に
自然落下する。従って一度真空になれば、空間中に漂う
粒子は非常に小さな粒子を除いてほとんどないと考えら
れる。また真空中では、真空度を上げれば上げる程、そ
の空間に含まれる酸素分子及び水分子の数は減少する。
従ってウエハを保管するのに、真空雰囲気は理想的な環
境といえる。
法が提案されてきている。真空中では、気体分子数の減
少によりブラウン運動が少なくなるため、大気圧中では
空中に漂っている煙草の煙の様な小さな粒子も短時間に
自然落下する。従って一度真空になれば、空間中に漂う
粒子は非常に小さな粒子を除いてほとんどないと考えら
れる。また真空中では、真空度を上げれば上げる程、そ
の空間に含まれる酸素分子及び水分子の数は減少する。
従ってウエハを保管するのに、真空雰囲気は理想的な環
境といえる。
【０００５】しかしながら、真空中でウエハを保管する
為には、種々の問題を解決しなければならない。まず第
１は、大気から真空に引くまでの過渡状態では、排気時
の気流の流れにより粒子がウエハ上に付着するおそれが
ある。従ってウエハ等を追加して保管室に入れる時も既
に保管されている他のウエハの汚染を防ぐために、保管
室の真空状態を維持できなければならない。
為には、種々の問題を解決しなければならない。まず第
１は、大気から真空に引くまでの過渡状態では、排気時
の気流の流れにより粒子がウエハ上に付着するおそれが
ある。従ってウエハ等を追加して保管室に入れる時も既
に保管されている他のウエハの汚染を防ぐために、保管
室の真空状態を維持できなければならない。
【０００６】第２は、真空中で使用できる移動機構の選
択である。高清浄度を維持しなくてはいけない保管室
は、内部での発塵／脱ガスは極力少なくしなくてはいけ
ない。通常の移動機構は真空室内部でウエハを移動させ
るには潤滑等の問題がある。また真空保管する空間と同
じ空間に移動機構を入れると、その機構からの発塵／脱
ガスの影響で、保管されているウエハを逆に汚してしま
う。また真空中に移動機構が入っていると、メインテナ
ンス時や故障の時に大気圧まで圧力を戻さないと、人間
が装置のメインテナンスや故障の修理をする事ができな
い。
択である。高清浄度を維持しなくてはいけない保管室
は、内部での発塵／脱ガスは極力少なくしなくてはいけ
ない。通常の移動機構は真空室内部でウエハを移動させ
るには潤滑等の問題がある。また真空保管する空間と同
じ空間に移動機構を入れると、その機構からの発塵／脱
ガスの影響で、保管されているウエハを逆に汚してしま
う。また真空中に移動機構が入っていると、メインテナ
ンス時や故障の時に大気圧まで圧力を戻さないと、人間
が装置のメインテナンスや故障の修理をする事ができな
い。
【０００７】ところで、最近真空中で使用できる移動機
構として磁気軸受けや磁気浮上搬送装置が注目を集めて
いる。この装置の構造の一例が本出願人により、国際特
許出願ＰＣＴ／ＪＰ９３／００９３０で開示されてい
る。これは非接触で被搬送物を移動させることができ、
又電磁石、リニアモータ、センサ等は真空室と隔離し
て、大気側に置かれる。従って真空室側には可動部分と
の機械的接触部分は何もなく、ガスの発生や、粒子を持
ち込むおそれのあるものを何も真空室側に入れる必要が
ない為、高清浄度を要求される真空室で使用される移動
機構としては、最適である。
構として磁気軸受けや磁気浮上搬送装置が注目を集めて
いる。この装置の構造の一例が本出願人により、国際特
許出願ＰＣＴ／ＪＰ９３／００９３０で開示されてい
る。これは非接触で被搬送物を移動させることができ、
又電磁石、リニアモータ、センサ等は真空室と隔離し
て、大気側に置かれる。従って真空室側には可動部分と
の機械的接触部分は何もなく、ガスの発生や、粒子を持
ち込むおそれのあるものを何も真空室側に入れる必要が
ない為、高清浄度を要求される真空室で使用される移動
機構としては、最適である。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、上記問題点
を解決する為になされたものであり、被保管物を真空状
態を保持したまま移載することのできる、清浄度の極め
て高い真空保管庫を提供することを目的としたものであ
る。
を解決する為になされたものであり、被保管物を真空状
態を保持したまま移載することのできる、清浄度の極め
て高い真空保管庫を提供することを目的としたものであ
る。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明の保管庫は、被保
管物を真空雰囲気で保管する真空保管庫において、該真
空保管庫は、真空保管室と、ロボット室と、ロードロッ
ク室とから構成され、該各室はゲートバルブを介して気
密に接続され、上記被保管物の移載時にも、上記真空保
管室の真空を保持する手段を備えたことを特徴とする。
管物を真空雰囲気で保管する真空保管庫において、該真
空保管庫は、真空保管室と、ロボット室と、ロードロッ
ク室とから構成され、該各室はゲートバルブを介して気
密に接続され、上記被保管物の移載時にも、上記真空保
管室の真空を保持する手段を備えたことを特徴とする。
【００１０】
【作用】真空保管庫は、ロードロック室、ロボット室、
保管室に分けられ、それぞれ、ゲートバルブを介して接
続されている。このため、各室のゲートバルブの開閉操
作により、真空保管室の真空を保持したままウエハを移
載することができる。真空保管室は、直線移動できるウ
エハ保管棚（搬送台車）を備え、必要に応じて移動する
ことにより多量のウエハを真空状態で保管できる様にし
たものである。
保管室に分けられ、それぞれ、ゲートバルブを介して接
続されている。このため、各室のゲートバルブの開閉操
作により、真空保管室の真空を保持したままウエハを移
載することができる。真空保管室は、直線移動できるウ
エハ保管棚（搬送台車）を備え、必要に応じて移動する
ことにより多量のウエハを真空状態で保管できる様にし
たものである。
【００１１】
【実施例】以下に添付図面を参照しながら実施例を用い
て本発明の詳細を説明する。
て本発明の詳細を説明する。
【００１２】図１に本発明の第１実施例の装置構成を示
す。真空保管庫１は、ロードロック室２、ロボット室
３、真空保管室５からなりそれぞれの室の間は、ゲート
バルブ６，７を介して気密に接続されている。また、そ
れぞれのチャンバ（室）は、真空ポンプへの真空排気系
９及び清浄空気（ガス）供給源１０に接続されており、
独立して圧力の調整ができる様になっている。
す。真空保管庫１は、ロードロック室２、ロボット室
３、真空保管室５からなりそれぞれの室の間は、ゲート
バルブ６，７を介して気密に接続されている。また、そ
れぞれのチャンバ（室）は、真空ポンプへの真空排気系
９及び清浄空気（ガス）供給源１０に接続されており、
独立して圧力の調整ができる様になっている。
【００１３】真空保管室５は、トンネル形状をしてお
り、内部には、直方体のウエハ保管棚１１が磁気浮上装
置によって、非接触で真空室内に浮上保持され、またリ
ニアモータによって非接触にて移動／停止をする事がで
きる。保管棚１１は、トンネル状の真空保管室５内を直
線的に移動可能である。
り、内部には、直方体のウエハ保管棚１１が磁気浮上装
置によって、非接触で真空室内に浮上保持され、またリ
ニアモータによって非接触にて移動／停止をする事がで
きる。保管棚１１は、トンネル状の真空保管室５内を直
線的に移動可能である。
【００１４】図２にウエハ保管棚の上面（Ａ）、縦断面
（Ｂ）、横断面（Ｃ）の３面図を示している。ウエハ保
管棚１１は、磁気浮上搬送装置の搬送台車に対応するも
のであり、本実施例においてはウエハ１２が３列に重ね
られて保管されている。保管棚１１は、その上面に浮上
磁極用ターゲット（磁性体）１３と、その下面にアルミ
合金の導電体１４とを備えている。保管棚１１本体は、
ガスの吸着等の問題のない金属板が用いられている。
（Ｂ）、横断面（Ｃ）の３面図を示している。ウエハ保
管棚１１は、磁気浮上搬送装置の搬送台車に対応するも
のであり、本実施例においてはウエハ１２が３列に重ね
られて保管されている。保管棚１１は、その上面に浮上
磁極用ターゲット（磁性体）１３と、その下面にアルミ
合金の導電体１４とを備えている。保管棚１１本体は、
ガスの吸着等の問題のない金属板が用いられている。
【００１５】図３は真空保管室における保管棚の駆動機
構の断面を示す。基本構造は、磁気浮上搬送装置と同じ
であるが、違う部分は搬送台車が長くなり、また複数の
ウエハを搬送台車に載置できる様にしたことである。真
空保管室２０の隔壁上面には、浮上用電磁石２１が備え
られており、保管棚１１の上面に固定された磁性体１３
に磁気吸引力を作用させ、保管棚１１を浮上保持する。
隔壁２０の下面には、リニアモータ２２が備えられ、保
管棚１１の下面に備えられた導電体１４に渦電流を生じ
させ保管棚１１を紙面にたいして垂直方向に駆動する。
真空保管室隔壁２０の下面に設けられた変位センサ２３
は、保管棚１１の浮上位置を検出し、図示しない制御回
路にフィードバックし浮上用電磁石２１の励磁電流を制
御することにより保管棚１１を目標浮上位置に制御す
る。
構の断面を示す。基本構造は、磁気浮上搬送装置と同じ
であるが、違う部分は搬送台車が長くなり、また複数の
ウエハを搬送台車に載置できる様にしたことである。真
空保管室２０の隔壁上面には、浮上用電磁石２１が備え
られており、保管棚１１の上面に固定された磁性体１３
に磁気吸引力を作用させ、保管棚１１を浮上保持する。
隔壁２０の下面には、リニアモータ２２が備えられ、保
管棚１１の下面に備えられた導電体１４に渦電流を生じ
させ保管棚１１を紙面にたいして垂直方向に駆動する。
真空保管室隔壁２０の下面に設けられた変位センサ２３
は、保管棚１１の浮上位置を検出し、図示しない制御回
路にフィードバックし浮上用電磁石２１の励磁電流を制
御することにより保管棚１１を目標浮上位置に制御す
る。
【００１６】このようにして、本実施例においては、ウ
エハ１２を収納した保管棚１１は浮上用電磁石２１の磁
気吸引力により吊り下げられた状態で、リニアモータ２
２により水平方向に移動される。停止保持装置２４は、
移動する保管棚１１にブレーキ力を作用させ、所定位置
に保管棚１１を停止保持する。
エハ１２を収納した保管棚１１は浮上用電磁石２１の磁
気吸引力により吊り下げられた状態で、リニアモータ２
２により水平方向に移動される。停止保持装置２４は、
移動する保管棚１１にブレーキ力を作用させ、所定位置
に保管棚１１を停止保持する。
【００１７】又、磁気浮上の方法は、この実施例だけに
限らず、磁石等１次側が２次側と共に移動するタイプ、
即ち、保管棚１１が浮上用電磁石２１の磁気吸引力によ
り吊り下げられた状態で、浮上用電磁石２１が隔壁２０
の外部の軌道に沿って移動することにともない、保管棚
１１が真空保管室内を移動するタイプの磁気浮上搬送装
置も使用可能である。
限らず、磁石等１次側が２次側と共に移動するタイプ、
即ち、保管棚１１が浮上用電磁石２１の磁気吸引力によ
り吊り下げられた状態で、浮上用電磁石２１が隔壁２０
の外部の軌道に沿って移動することにともない、保管棚
１１が真空保管室内を移動するタイプの磁気浮上搬送装
置も使用可能である。
【００１８】上述の実施例では保管棚の移動に磁気浮上
搬送を使用しているが、必ずしもこれを使用しなくては
いけないわけでもなく、もし汚染の問題が余り厳しくな
いならば、図４の様に、保管棚に車輪２５がついて、保
管室隔壁２０下面に接触して走行するものであっても可
能である。この実施例においては、保管棚１１は、リニ
アモータ２２によって水平方向に駆動される。
搬送を使用しているが、必ずしもこれを使用しなくては
いけないわけでもなく、もし汚染の問題が余り厳しくな
いならば、図４の様に、保管棚に車輪２５がついて、保
管室隔壁２０下面に接触して走行するものであっても可
能である。この実施例においては、保管棚１１は、リニ
アモータ２２によって水平方向に駆動される。
【００１９】ロボット室３には、通常の円筒座標型真空
ロボット２６が入っており、これは上下移動できる様
に、ベローズ２７を経由してエレベータ２８で上下し、
所定の高さで、ウエハをロードロック室２からウエハ保
管室５へ、あるいはウエハ保管室５からロードロック室
２へ、真空を破壊せずに移載する事ができる。その後ロ
ードロック室２にて大気開放する。
ロボット２６が入っており、これは上下移動できる様
に、ベローズ２７を経由してエレベータ２８で上下し、
所定の高さで、ウエハをロードロック室２からウエハ保
管室５へ、あるいはウエハ保管室５からロードロック室
２へ、真空を破壊せずに移載する事ができる。その後ロ
ードロック室２にて大気開放する。
【００２０】図５は本発明の第２実施例の真空保管庫の
構成を示す。ロボット室３の両側に２つの真空保管室５
を接続したものである。保管枚数が増えた場合や、同一
の真空保管室で保管すると相互汚染を起こす可能性のあ
るウエハを、別々に保管する必要がある場合等に有効で
ある。
構成を示す。ロボット室３の両側に２つの真空保管室５
を接続したものである。保管枚数が増えた場合や、同一
の真空保管室で保管すると相互汚染を起こす可能性のあ
るウエハを、別々に保管する必要がある場合等に有効で
ある。
【００２１】図６は本発明の第３実施例の真空保管庫の
構成を示す。本実施例においては、ウエハ保管棚１１の
ウエハの配列を２列にし、両側にロボット室３を付けた
ものである。ウエハ保管枚数が多い場合に特に有効であ
る。図７は、本発明の第４実施例の真空保管庫の構成を
示す。これは、第２実施例と第３実施例を組み合わせ
て、保管枚数を増やしたものである。これらの実施例か
らわかる様にこの方式の保管庫は、保管する枚数にあわ
せ、標準化した構成要素の色々な組み合わせにより種々
の要求に対応する事ができる。またこれらの実施例で
は、１列のウエハ棚の数を３つにしてあるが、この数に
限る必要はない。またその列も第３実施例では２列であ
るがそれ以上にしても何ら問題がない。
構成を示す。本実施例においては、ウエハ保管棚１１の
ウエハの配列を２列にし、両側にロボット室３を付けた
ものである。ウエハ保管枚数が多い場合に特に有効であ
る。図７は、本発明の第４実施例の真空保管庫の構成を
示す。これは、第２実施例と第３実施例を組み合わせ
て、保管枚数を増やしたものである。これらの実施例か
らわかる様にこの方式の保管庫は、保管する枚数にあわ
せ、標準化した構成要素の色々な組み合わせにより種々
の要求に対応する事ができる。またこれらの実施例で
は、１列のウエハ棚の数を３つにしてあるが、この数に
限る必要はない。またその列も第３実施例では２列であ
るがそれ以上にしても何ら問題がない。
【００２２】上述の各実施例は、大気圧下でウエハ５を
ロードロック室２に入れ、それを真空保管し、保管後は
また大気圧下で取り出すものである。図８に示す本発明
の第５実施例はロードロック室を取りさり、ロボット室
３を真空トンネル型の搬送装置２７に直接接続したもの
である。この真空トンネル型の搬送装置に関しては、例
えば国際特許出願ＰＣＴ／ＪＰ９３／００９３０にて詳
細に説明されている。この組み合わせにすれば、ウエハ
を真空トンネルで真空下で保管庫まで搬送され、その後
真空を保持したまま、真空保管室に移載され真空下にて
保管される。そして真空プロセス装置に移載する時は、
真空を保持したままで、真空保管室から真空トンネルへ
移載され、真空トンネル内の磁気浮上搬送装置によって
真空を保持したまま真空処理装置へ運ばれる。従って真
空装置と真空装置との間で、大気に曝されず、真空雰囲
気を保持したままで、保管する事が可能である。この例
では、搬送装置として真空トンネルを使用しているが、
特願昭６２−１３１４４１で詳細に説明されている真空
キャリアを使用しても同様の効果を得る事ができる。
ロードロック室２に入れ、それを真空保管し、保管後は
また大気圧下で取り出すものである。図８に示す本発明
の第５実施例はロードロック室を取りさり、ロボット室
３を真空トンネル型の搬送装置２７に直接接続したもの
である。この真空トンネル型の搬送装置に関しては、例
えば国際特許出願ＰＣＴ／ＪＰ９３／００９３０にて詳
細に説明されている。この組み合わせにすれば、ウエハ
を真空トンネルで真空下で保管庫まで搬送され、その後
真空を保持したまま、真空保管室に移載され真空下にて
保管される。そして真空プロセス装置に移載する時は、
真空を保持したままで、真空保管室から真空トンネルへ
移載され、真空トンネル内の磁気浮上搬送装置によって
真空を保持したまま真空処理装置へ運ばれる。従って真
空装置と真空装置との間で、大気に曝されず、真空雰囲
気を保持したままで、保管する事が可能である。この例
では、搬送装置として真空トンネルを使用しているが、
特願昭６２−１３１４４１で詳細に説明されている真空
キャリアを使用しても同様の効果を得る事ができる。
【００２３】また、今までの例は内部が真空であるが、
真空に限らず内部を、窒素等の不活性ガスや、水分の非
常に少ない空気においても、上記各実施例の保管庫は使
用可能である。このように、本発明の趣旨を逸脱するこ
となく、各種の変形実施例が可能である。尚、各図中同
一の符号は、同一又は相当の構成要素を示す。
真空に限らず内部を、窒素等の不活性ガスや、水分の非
常に少ない空気においても、上記各実施例の保管庫は使
用可能である。このように、本発明の趣旨を逸脱するこ
となく、各種の変形実施例が可能である。尚、各図中同
一の符号は、同一又は相当の構成要素を示す。
【００２４】
【発明の効果】真空保管庫を、ロードロック室、ロボッ
ト室、真空保管室に分け、それぞれ、ゲートバルブを介
して接続し、又、真空保管室には、直線移動できるウエ
ハ保管棚（搬送台車）を備えることによって保管室内を
真空状態に保持したままで、ウエハの移載を行うことが
できる。又、保管棚を磁気浮上させた状態で直線移動さ
せることにより、機械的な接触部分を無くすことができ
る。従って、極めて清浄度の高いウエハの真空保管庫が
実現された。
ト室、真空保管室に分け、それぞれ、ゲートバルブを介
して接続し、又、真空保管室には、直線移動できるウエ
ハ保管棚（搬送台車）を備えることによって保管室内を
真空状態に保持したままで、ウエハの移載を行うことが
できる。又、保管棚を磁気浮上させた状態で直線移動さ
せることにより、機械的な接触部分を無くすことができ
る。従って、極めて清浄度の高いウエハの真空保管庫が
実現された。
【図１】本発明の第１実施例の保管庫の構成を示す、
（Ａ）は上面図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＣＣ線に沿っ
た断面図。
（Ａ）は上面図であり、（Ｂ）は（Ａ）のＣＣ線に沿っ
た断面図。
【図２】図１における保管棚の（Ａ）上面図、（Ｂ）縦
断面図、（Ｃ）横断面図。
断面図、（Ｃ）横断面図。
【図３】図１における真空保管室における保管棚の駆動
機構を示す断面図。
機構を示す断面図。
【図４】図１における真空保管室における保管棚の他の
駆動機構例を示す断面図。
駆動機構例を示す断面図。
【図５】本発明の第２実施例の保管庫の構成を示す、
（Ａ）上面図、（Ｂ）（Ａ）のＣＣ線に沿った断面図。
（Ａ）上面図、（Ｂ）（Ａ）のＣＣ線に沿った断面図。
【図６】本発明の第３実施例の保管庫の構成を示す上面
図。
図。
【図７】本発明の第４実施例の保管庫の構成を示す上面
図。
図。
【図８】本発明の第５実施例の保管庫の構成を示す上面
図。
図。
【図９】従来の保管庫の構成を示す斜視図。
１ 真空保管庫 ２ ロードロック室 ３ ロボット室 ５ 真空保管室 ６，７ ゲートバルブ ９ 真空排気系 １０ 清浄空気（ガス）供給源 １１ 保管棚 １２ ウエハ １３ 磁性体 １４ 導電体
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｔ Ａ (72)発明者 松村 正夫 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内 (72)発明者 吉岡 毅 神奈川県藤沢市本藤沢４丁目２番１号 株 式会社荏原総合研究所内
Claims (5)
- 【請求項１】 被保管物を真空雰囲気で保管する真空保
管庫において、該真空保管庫は、真空保管室と、ロボッ
ト室と、ロードロック室とから構成され、該各室はゲー
トバルブを介して気密に接続され、上記被保管物の移載
時にも、上記真空保管室の真空を保持する手段を備えた
ことを特徴とする真空保管庫。 - 【請求項２】 上記真空保管室には、水平方向に移動可
能な被保管物を保管する保管棚と、該保管棚の駆動機構
とを備え、上記ロボット室には上記被保管物を水平面内
及び鉛直方向に移載するロボットを備えていることを特
徴とする請求項１記載の真空保管庫。 - 【請求項３】 上記保管棚は、磁気浮上搬送装置によっ
て、上記真空保管室隔壁から非接触で浮上支持されてい
ることを特徴とする請求項２記載の真空保管庫。 - 【請求項４】 上記磁気浮上搬送装置は、浮上用電磁石
及びリニアモータを上記真空保管室隔壁外側に配置し
て、上記保管棚を上記浮上用電磁石の磁気吸引力により
浮上させて、上記リニアモータにより上記真空保管室内
を水平方向に移動させるものであることを特徴とする請
求項３記載の真空保管庫。 - 【請求項５】 上記磁気浮上搬送装置は、浮上用電磁石
及びその移動手段を上記真空保管室隔壁外側に備え、上
記保管棚を上記浮上用電磁石の磁気吸引力により浮上さ
せて、上記浮上用電磁石を移動させることにより上記真
空保管室内の保管棚を水平方向に移動させるものである
ことを特徴とする請求項３記載の真空保管庫。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28576693A JPH07117809A (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | 真空保管庫 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP28576693A JPH07117809A (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | 真空保管庫 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH07117809A true JPH07117809A (ja) | 1995-05-09 |
Family
ID=17695779
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP28576693A Pending JPH07117809A (ja) | 1993-10-21 | 1993-10-21 | 真空保管庫 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH07117809A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008120716A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-09 | Tokyo Electron Limited | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ可読記憶媒体 |
| JP2011228391A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Dan-Takuma Technologies Inc | 保管システムおよび保管方法 |
| JP2018170347A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 株式会社ダン・タクマ | ウェハー搬送装置及びウェハー搬送方法 |
-
1993
- 1993-10-21 JP JP28576693A patent/JPH07117809A/ja active Pending
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2008120716A1 (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-09 | Tokyo Electron Limited | 基板処理装置、基板処理方法及びコンピュータ可読記憶媒体 |
| JP2008258188A (ja) * | 2007-03-30 | 2008-10-23 | Tokyo Electron Ltd | 基板処理装置、基板処理方法及び記憶媒体 |
| US8382088B2 (en) | 2007-03-30 | 2013-02-26 | Tokyo Electron Limited | Substrate processing apparatus |
| JP2011228391A (ja) * | 2010-04-16 | 2011-11-10 | Dan-Takuma Technologies Inc | 保管システムおよび保管方法 |
| JP2018170347A (ja) * | 2017-03-29 | 2018-11-01 | 株式会社ダン・タクマ | ウェハー搬送装置及びウェハー搬送方法 |
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