JPH07115075A - Dicing equipment for wafer - Google Patents
Dicing equipment for waferInfo
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- JPH07115075A JPH07115075A JP26005893A JP26005893A JPH07115075A JP H07115075 A JPH07115075 A JP H07115075A JP 26005893 A JP26005893 A JP 26005893A JP 26005893 A JP26005893 A JP 26005893A JP H07115075 A JPH07115075 A JP H07115075A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、ガラス、半導体等のウ
ェーハをダイシングするダイシング装置に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dicing apparatus for dicing a wafer such as glass or semiconductor.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路の製造、或は液晶表示装
置の製造等においては、素子を形成した後の半導体ウェ
ーハ、或は薄膜トランジスタ及び画素電極を形成した後
のガラスウェーハを、高速回転するブレードによりダイ
シングしてチップ化することが行われる。2. Description of the Related Art In manufacturing a semiconductor integrated circuit, a liquid crystal display device, or the like, a semiconductor wafer after elements are formed, or a glass wafer after forming thin film transistors and pixel electrodes is rotated at a high speed. Are diced into chips.
【0003】図3及び図4は従来のダイシング装置を示
す。同図において、1はウェーハのダイシング装置の全
体、2はダイシングされるべきウェーハを示す。ダイシ
ング装置1は、ダイシングされるべきウェーハ2を載置
するテーブル3と、支持部に支持されて高速回転するブ
レード4と、ブレード4の刃部の外周を囲うように配さ
れたフランジカバー5と、ブレード刃部に向かって冷却
水6を噴射するブレード冷却ノズル7と、ブレード4の
ウェーハ2に対する切削点の手前から後方に向かって切
削水9を噴射する切削ノズル10を有して成る。3 and 4 show a conventional dicing apparatus. In the figure, 1 is the whole wafer dicing apparatus, and 2 is the wafer to be diced. The dicing apparatus 1 includes a table 3 on which a wafer 2 to be diced is placed, a blade 4 supported by a supporting portion and rotating at a high speed, and a flange cover 5 arranged so as to surround the outer periphery of the blade portion of the blade 4. It has a blade cooling nozzle 7 for injecting cooling water 6 toward the blade edge portion, and a cutting nozzle 10 for injecting cutting water 9 from the front side to the rear side of the cutting point of the blade 4 on the wafer 2.
【0004】ウェーハ2は、ダイシングテープ11上に
粘着剤を介して貼着され、このダイシングテープ11が
テーブル3上にセットされる。ブレード冷却ノズル7
は、ブレード4のウェーハ2に対接する下部両側にネジ
による継手8を介して水平延長した導管に複数例えば3
つのスリット12を形成して構成される。13はブレー
ド冷却ノズル7に冷却水6を供給するための供給管、1
4は切削ノズル10に切削水9を供給するための供給管
を示す。The wafer 2 is attached to the dicing tape 11 via an adhesive, and the dicing tape 11 is set on the table 3. Blade cooling nozzle 7
Is a plurality of conduits that extend horizontally through threaded joints 8 on both sides of the lower portion of the blade 4 that contacts the wafer 2.
It is configured by forming two slits 12. Reference numeral 13 is a supply pipe for supplying the cooling water 6 to the blade cooling nozzle 7,
Reference numeral 4 denotes a supply pipe for supplying the cutting water 9 to the cutting nozzle 10.
【0005】このダイシング装置1では、各ノズル7,
10から冷却水6,切削水9を供給しながら高速回転す
る(例えば30000rpm)ブレード4とウェーハ2
を相対的に移動させて、図示の例ではブレード4を固定
にしてテーブル3を矢印a方向に移動させて、ウェーハ
2をダイシングするようになされる。このダイシング
は、図5に示すように粘着剤15を通してダイシングテ
ープ11に達するようにウェーハ2を完全切断してい
る。In this dicing device 1, each nozzle 7,
While supplying cooling water 6 and cutting water 9 from 10, a blade 4 and a wafer 2 which rotate at high speed (for example, 30,000 rpm)
Is relatively moved, and in the illustrated example, the blade 4 is fixed and the table 3 is moved in the direction of arrow a to dice the wafer 2. In this dicing, as shown in FIG. 5, the wafer 2 is completely cut so as to reach the dicing tape 11 through the adhesive 15.
【0006】[0006]
【発明が解決しようとする課題】ところで、上述した従
来のダイシング装置1では、ダイシング中、ウェーハ切
断直後の切屑(粘着剤、ウェーハ等)を含む汚染された
水17がブレード4の回転方向の後方に飛散し、切断後
のウェーハ面に付着する。By the way, in the above-mentioned conventional dicing apparatus 1, the contaminated water 17 including chips (adhesive, wafer, etc.) immediately after cutting the wafer during dicing causes the contaminated water 17 to move backward in the rotating direction of the blade 4. Scatter onto the wafer surface after cutting.
【0007】特に、液晶表示装置に用いる薄膜トランジ
スタ及び画素電極を形成したガラスウェーハのダイシン
グに際しては、ガラスウェーハの面精度が良く、なめら
かであるために、ガラスウェーハが貼着力の強い貼着剤
を介してダイシングテープに貼着される。従って、ガラ
スウェーハ切断直後の汚染された水17に含まれた切屑
のウェーハ面への付着が強く、乾燥後のウェーハ面汚染
度が大きくなる。In particular, when dicing a glass wafer having a thin film transistor and a pixel electrode used in a liquid crystal display device, the glass wafer has a good surface accuracy and is smooth, so that the glass wafer is coated with an adhesive having a strong adhesive force. Attached to the dicing tape. Therefore, the chips contained in the contaminated water 17 immediately after cutting the glass wafer are strongly attached to the wafer surface, and the degree of contamination of the wafer surface after drying becomes large.
【0008】このような汚染を防止するために、種々の
工夫が施され、例えば図4に示すようにフランジカバー
5のブレード回転方向の後方部に切欠部18を形成し、
切断直後の汚染された水17を切欠部18より逃し、フ
ランジカバー5内部での回り込みを防止する等が考えら
れている。しかし、後方に飛散し、ウェーハ面に付着し
た上記汚染された水17の洗い流しが充分に行えず、未
だ満足のいく汚染防止が得られていない。Various measures have been taken to prevent such contamination. For example, as shown in FIG. 4, a notch 18 is formed in the rear portion of the flange cover 5 in the blade rotation direction,
It is considered that the contaminated water 17 immediately after cutting is escaped from the cutout portion 18 to prevent the water from flowing around inside the flange cover 5. However, the contaminated water 17 scattered to the rear and adhering to the wafer surface cannot be sufficiently washed off, and satisfactory contamination prevention has not been obtained yet.
【0009】本発明は、上述の点に鑑み、切断直後の切
屑を含む水によるウェーハ面の汚染を充分防止できるよ
うにしたダイシング装置を提供するものである。In view of the above points, the present invention provides a dicing apparatus capable of sufficiently preventing contamination of a wafer surface by water containing chips immediately after cutting.
【0010】[0010]
【課題を解決するための手段】本発明は、ウェーハ2を
ブレード23によりダイシングするダイシング装置にお
いて、ブレード23の回転方向の後方部に切断直後の切
屑を含んだ水30をウェーハ面から分離する分離手段3
5(又は40)を有して構成する。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is a dicing apparatus for dicing a wafer 2 with a blade 23. Separation for separating water 30 containing chips immediately after cutting from the wafer surface at the rear portion in the rotational direction of the blade 23. Means 3
5 (or 40).
【0011】[0011]
【作用】本発明のダイシング装置においては、ウェーハ
2のダイシング中、切断直後の切屑を含んだ水30がブ
レード23の後方に飛散されるも、ブレード23の回転
方向の後方部に設けた分離手段35(又は40)によ
り、該切屑を含んだ水30の飛散領域がウェーハ面から
分離され、切屑を含んだ水30がウェーハ面に付着する
ことがない。従って切断後の切屑を含む水30でウェー
ハ面が汚染されることがない。In the dicing apparatus of the present invention, during the dicing of the wafer 2, the water 30 containing chips immediately after cutting is scattered behind the blade 23, but the separating means provided at the rear portion in the rotating direction of the blade 23. By 35 (or 40), the scattered region of the water 30 containing chips is separated from the wafer surface, and the water 30 containing chips does not adhere to the wafer surface. Therefore, the wafer surface is not contaminated with the water 30 containing chips after cutting.
【0012】[0012]
【実施例】以下、図面を参照して本発明のダイシング装
置の実施例を説明する。Embodiments of the dicing apparatus of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0013】図1は本発明に係るダイシング装置の一例
を示す。同図において、21は本発明に係るダイシング
装置の全体、2はダイシングされるウェーハを示す。ダ
イシング装置21は、ダイシングされるべきウェーハ2
を載置するテーブル22と、支持部に高速回転可能に取
着されたブレード23と、このブレード23の刃部の外
周を囲うように配されたフランジカバー24と、ブレー
ド刃部に向かって冷却水を噴射するブレード冷却ノズル
25と、ブレード23のウェーハ2に対する切削水27
を噴射する切削ノズル28を備えて成る。FIG. 1 shows an example of a dicing apparatus according to the present invention. In the figure, 21 is the whole dicing apparatus according to the present invention, and 2 is a wafer to be diced. The dicing device 21 uses the wafer 2 to be diced.
A table 22 on which the blade is mounted, a blade 23 attached to a supporting portion so as to be rotatable at high speed, a flange cover 24 arranged so as to surround the outer periphery of the blade portion of the blade 23, and cooling toward the blade blade portion. A blade cooling nozzle 25 for jetting water and cutting water 27 for the wafer 23 of the blade 23
And a cutting nozzle 28 for injecting.
【0014】ブレード冷却ノズル25は、ブレード23
のウェーハ2に対接する下部両側に延長した導管にブレ
ード刃に向かって扇状に冷却水(図4と同様なので図示
せず)を噴射する複数のスリット29、本例では水平に
延長した導管部に3つのスリット29Aを、水平の導管
部より斜め上方に延長した導管部に1つのスリット29
Bを共に形成して構成される。このスリット29Bを設
けることによって冷却兼ウェーハ面の洗浄効果を上げる
ことができる。The blade cooling nozzle 25 includes a blade 23.
A plurality of slits 29 for ejecting cooling water (not shown because it is the same as FIG. 4) in a fan shape toward the blade blade in the conduit extending to both sides of the lower part facing the wafer 2 of the present invention. Three slits 29A are provided in the conduit part extending obliquely upward from the horizontal conduit part and one slit 29A is provided.
B is formed together. By providing this slit 29B, it is possible to improve the cooling effect and the cleaning effect on the wafer surface.
【0015】一方、フランジカバー24は、ウェーハ2
に対接する部分及びブレードの回転方向の後方部分を除
いてブレード刃部を囲うように配される。特にフランジ
カバー24の後方部分は、切断直後のブレード回転で後
方に巻き上げられる接線方向の切屑を含んだ水(いわゆ
る汚染された水)30が外方に飛散できるように短く切
除される。31はその切除部である。そして、この切除
部31に連続するように後方に例えば水平に延長するL
字状のガイド部材32がフランジカバー24に取着され
る。On the other hand, the flange cover 24 is used for the wafer 2
Is disposed so as to surround the blade blade portion except for the portion facing the blade and the rear portion in the rotational direction of the blade. In particular, the rear portion of the flange cover 24 is cut short so that water (so-called contaminated water) 30 containing tangential chips that are rolled up backward by the rotation of the blade immediately after cutting can be scattered outward. Reference numeral 31 is the excised portion. Then, for example, L which extends horizontally to the rear so as to be continuous with the excision portion 31
The character-shaped guide member 32 is attached to the flange cover 24.
【0016】33はブレード冷却ノズル25に冷却水を
供給するための供給管、34は切削ノズル28に切削水
を供給するための供給管である。Reference numeral 33 is a supply pipe for supplying cooling water to the blade cooling nozzle 25, and 34 is a supply pipe for supplying cutting water to the cutting nozzle 28.
【0017】しかして、本例では、このダイシング装置
21において、ブレード23の回転方向の後方部に、前
端がブレード刃とウェーハ面との間に近接するように斜
め上方に延長する分離板35を設ける。この分離板35
は、ダイシング時にブレード23の回転方向の後方部に
飛散した切屑を含んだ水30をウェーハ面から分離させ
るためのものである。分離板35は、取付部材36を介
してフランジカバー24に一体に取付けられる。In this example, however, in this dicing device 21, a separating plate 35 extending obliquely upward is provided at the rear portion in the rotating direction of the blade 23 so that the front end is close to between the blade blade and the wafer surface. Set up. This separating plate 35
Is for separating the water 30 containing chips scattered on the rear portion in the rotation direction of the blade 23 during dicing from the wafer surface. The separation plate 35 is integrally attached to the flange cover 24 via the attachment member 36.
【0018】次に、かかるダイシング装置21を用いて
ウェーハ2をダイシングする方法を説明する。ダイシン
グテープ11に粘着剤を介して粘着したウェーハ2をダ
イシング装置21のテーブル22上に載置固定し、ブレ
ード23を例えば30000rpmの回転速度で高速回
転させ、ブレード23とウェーハ2を相対的に移動さ
せ、即ち本例ではブレード24を固定としてテーブル2
2を矢印a方向に移動させながらダイシングを行う。Next, a method of dicing the wafer 2 using the dicing device 21 will be described. The wafer 2 adhered to the dicing tape 11 via the adhesive is placed and fixed on the table 22 of the dicing device 21, and the blade 23 is rotated at a high speed at a rotation speed of, for example, 30000 rpm to relatively move the blade 23 and the wafer 2. That is, in this example, the blade 24 is fixed and the table 2 is fixed.
Dicing is performed while moving 2 in the direction of arrow a.
【0019】このとき、冷却ノズル25の各スリット2
9A,29Bから冷却水がブレード刃に供給されると共
に、切削ノズル28から切削水27が供給される。これ
によって、ブレード刃部が冷却されると共に、良好な切
削が行われる。ダイシングは、前述の図5で示すよう
に、粘着剤15を通してダイシングテープ11に達する
ように、ウェーハ2を完全切断する。At this time, each slit 2 of the cooling nozzle 25
Cooling water is supplied to the blade blades from 9A and 29B, and cutting water 27 is supplied from the cutting nozzle 28. As a result, the blade edge portion is cooled and good cutting is performed. In the dicing, as shown in FIG. 5, the wafer 2 is completely cut so as to reach the dicing tape 11 through the adhesive 15.
【0020】そして、切断直後の切屑(粘着剤、ウェー
ハ等)を含んだ水30は、ブレード23の回転方向の後
方に飛散されるが、このとき、ウェーハ2の上面を流れ
ることなく、分離板35上を通ってウェーハ外へ放出さ
れ、既設のダクト(図示せず)により吸引される。The water 30 containing chips (adhesives, wafers, etc.) immediately after cutting is scattered to the rear of the rotating direction of the blade 23. At this time, the water 30 does not flow on the upper surface of the wafer 2 and the separating plate. It is discharged to the outside of the wafer through 35 and is sucked by an existing duct (not shown).
【0021】図2は本発明に係るダイシング装置の他の
例を示す。本例では、切屑を含んだ水30をウェーハ上
面より分離するための分離手段として、ウェーハ2及び
テーブル22全体を覆うようなカバー状分離板40をブ
レード23の回転方向の後方部に配して構成する。この
カバー状分離板40はダイシング装置41の基台側に固
定されテーブル22と共にウェーハ2がカバー状分離板
40内を進入するように構成される。その他の構成は、
図1と同様であるので対応する部分には同一符号を付し
て重複説明を省略する。FIG. 2 shows another example of the dicing apparatus according to the present invention. In this example, as a separating means for separating the water 30 containing chips from the upper surface of the wafer, a cover-like separating plate 40 that covers the entire wafer 2 and the table 22 is arranged at the rear portion of the blade 23 in the rotation direction. Constitute. The cover-shaped separation plate 40 is fixed to the base side of the dicing device 41, and is configured so that the wafer 2 enters the cover-shaped separation plate 40 together with the table 22. Other configurations are
Since it is the same as in FIG. 1, the corresponding parts are designated by the same reference numerals, and the duplicate description will be omitted.
【0022】このダイシング装置41においても、切断
直後の切屑を含んだ水30は、ウェーハ2の上面を流れ
ることなく、カバー状分離板40上を通ってウェーハ外
に放出されダクトにより吸引される。Also in this dicing device 41, the water 30 containing chips immediately after cutting does not flow on the upper surface of the wafer 2, passes through the cover-shaped separating plate 40, is discharged to the outside of the wafer, and is sucked by the duct.
【0023】上述したように、本実施例によれば、ウェ
ーハ2のダイシング時に、ブレード23の回転方向の後
方にはね上げられた切屑を含んだ水30は、分離板35
又は40上を通って外部に吸引され、ウェーハ面上に付
着することがない。したがって、ウェーハ2のダイシン
グの歩留りを向上することができる。As described above, according to the present embodiment, when the wafer 2 is diced, the water 30 containing chips splashed to the rear of the rotating direction of the blade 23 is separated by the separating plate 35.
Or, it is sucked to the outside through 40 and does not adhere to the wafer surface. Therefore, the yield of dicing of the wafer 2 can be improved.
【0024】また、図3の従来例では、ダイシング中に
誤ってダイシングテープ11から剥離したチップがブレ
ード4に巻き込まれてブレード23を破損する懼れがあ
った。しかし、本実施例ではフランジカバー24の後方
が大きく切除されているので、仮にチップがダイシング
テープから剥離されても、チップは切除部31から後方
に逃げブレード23を破損することがない。従って、ブ
レード破損を減少することができる。Further, in the conventional example shown in FIG. 3, the chips accidentally peeled off from the dicing tape 11 during dicing were caught by the blade 4 and the blade 23 was damaged. However, in this embodiment, since the rear portion of the flange cover 24 is largely cut off, even if the chip is peeled off from the dicing tape, the chip does not escape from the cutout portion 31 rearward and damage the blade 23. Therefore, blade damage can be reduced.
【0025】さらに、従来は図3に示すようにブレード
冷却ノズル7がネジによる継手8を介して取付けられて
いるため、切屑を含んだ水17が継手8に進入して目詰
まりを起こす。この目詰まりを除去する必要があった、
しかし、本実施例では図1に示すように上方から一体物
でブレード冷却ノズル25が形成されるので、上記の目
詰まりは起こらず、所謂ダイシング装置21のメンテナ
ンスが簡単となる。Further, conventionally, as shown in FIG. 3, the blade cooling nozzle 7 is attached via a joint 8 made of a screw, so that water 17 containing chips enters the joint 8 to cause clogging. It was necessary to remove this clogging,
However, in this embodiment, since the blade cooling nozzle 25 is integrally formed from above as shown in FIG. 1, the above clogging does not occur, and the maintenance of the so-called dicing device 21 is simplified.
【0026】また、フランジカバー24のブレード回転
方向の後方部が短く切除され、その切除部31に連続す
るように水平に延長するガイド部材32が設けられるの
で、ブレード後方に接線方向にはね上げられた切屑を含
んだ水30は、フランジカバー24に邪魔されることな
く飛散し、ガイド部材32及び分離板30間を通じて外
方に放出される。従って、従来の切屑を含んだ水がフラ
ンジカバーの内面に当たって落下し、ウェーハ面を汚染
することが回避される。Further, since the rear portion of the flange cover 24 in the blade rotation direction is cut short and a guide member 32 extending horizontally so as to be continuous with the cut portion 31 is provided, it is tangentially flipped up behind the blade. The water 30 containing chips is scattered without being disturbed by the flange cover 24 and is discharged to the outside through the space between the guide member 32 and the separation plate 30. Therefore, it is possible to prevent the water containing chips from hitting the inner surface of the flange cover and dropping to contaminate the wafer surface.
【0027】本実施例のダイシング装置21,41は、
半導体ウェーハ、液晶表示装置におけるガラスウェーハ
等のダイシングに適用して好適である。The dicing devices 21 and 41 of this embodiment are
It is suitable for dicing semiconductor wafers, glass wafers in liquid crystal display devices, and the like.
【0028】[0028]
【発明の効果】本発明のダイシング装置によれば、ブレ
ードの回転方向の後方にウェーハ面と切屑を含んだ水の
飛散領域とを分離する分離手段を設けたので、切削直後
の切屑を含んだ水がウェーハ面に付着することがなく、
ウェーハ面の汚染を低減することができる。従ってダイ
シングの歩留りを向上することができる。According to the dicing apparatus of the present invention, since the separating means for separating the wafer surface and the water splash area containing the chips is provided at the rear of the rotating direction of the blade, the chips immediately after cutting are included. Water does not adhere to the wafer surface,
The contamination of the wafer surface can be reduced. Therefore, the yield of dicing can be improved.
【図1】本発明に係るダインシグ装置の一例を示す構成
図である。FIG. 1 is a configuration diagram showing an example of a dyne sig apparatus according to the present invention.
【図2】本発明に係るダイシング装置の他の例を示す構
成図である。FIG. 2 is a configuration diagram showing another example of a dicing apparatus according to the present invention.
【図3】従来のダイシング装置の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a conventional dicing device.
【図4】従来のダイシング装置の側面図である。FIG. 4 is a side view of a conventional dicing device.
【図5】ウェーハのダイシング状態を示す説明図であ
る。FIG. 5 is an explanatory view showing a dicing state of a wafer.
【符号の説明】 1,21,41 ダイシング装置 2 ウェーハ 3,22 テーブル 4,23 ブレード 5,24 フランジカバー 6 冷却水 7,25 ブレード冷却ノズル 9,27 切削水 10,28 切削ノズル 17,30 切屑を含む水 35,40 分離板[Explanation of Codes] 1,21,41 Dicing Device 2 Wafer 3,22 Table 4,23 Blade 5,24 Flange Cover 6 Cooling Water 7,25 Blade Cooling Nozzle 9,27 Cutting Water 10,28 Cutting Nozzle 17,30 Chips Water containing water 35,40 Separation plate
Claims (1)
るダイシング装置において、前記ブレードの回転方向の
後方部に切断直後の切屑を含む水を前記ウェーハの面か
ら分離する分離手段を有して成ることを特徴とするウェ
ーハのダイシング装置。1. A dicing device for dicing a wafer with a blade, comprising separation means for separating water containing chips immediately after cutting from the surface of the wafer at a rear portion in the rotation direction of the blade. Wafer dicing equipment.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26005893A JPH07115075A (en) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Dicing equipment for wafer |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP26005893A JPH07115075A (en) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Dicing equipment for wafer |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH07115075A true JPH07115075A (en) | 1995-05-02 |
Family
ID=17342725
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP26005893A Pending JPH07115075A (en) | 1993-10-18 | 1993-10-18 | Dicing equipment for wafer |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH07115075A (en) |
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- 1993-10-18 JP JP26005893A patent/JPH07115075A/en active Pending
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