JPH069006Y2 - 貴金属装飾品 - Google Patents
貴金属装飾品Info
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- JPH069006Y2 JPH069006Y2 JP15061189U JP15061189U JPH069006Y2 JP H069006 Y2 JPH069006 Y2 JP H069006Y2 JP 15061189 U JP15061189 U JP 15061189U JP 15061189 U JP15061189 U JP 15061189U JP H069006 Y2 JPH069006 Y2 JP H069006Y2
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Description
【考案の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本考案は時計、眼鏡フレーム、ライター、万年筆、ブロ
ーチ等の装飾品或いは装飾的要素を兼備した製品（本考
案において、これらを単に装飾品と称す）に貴金属の表
面層を付与してなる貴金属装飾品に関する。
ーチ等の装飾品或いは装飾的要素を兼備した製品（本考
案において、これらを単に装飾品と称す）に貴金属の表
面層を付与してなる貴金属装飾品に関する。
従来から時計、眼鏡フレーム、ライター、万年筆或いは
ブローチ等の装飾品に金色、黒色、青色、暗黒色等の有
色皮膜及び金等の貴金属皮膜を真空蒸着や湿式メッキ等
で形成した装飾品が知られている（例えば特開昭６４−
３６７５７等）。
ブローチ等の装飾品に金色、黒色、青色、暗黒色等の有
色皮膜及び金等の貴金属皮膜を真空蒸着や湿式メッキ等
で形成した装飾品が知られている（例えば特開昭６４−
３６７５７等）。
上記従来の装飾品は、金属、プラスチック、硝子等から
なる装飾基材上に卑金属のイオンプレーティングによ
り、窒化チタンによる金色膜、酸化チタンによる黒色
膜、酸化タングステンによる青色膜、炭化チタンよる暗
黒色膜等の種々の色調の皮膜を付着せしめて有色卑金属
層を形成し、該有色卑金属層の表面上に更に金等の貴金
属を気相蒸着によるドライメッキあるいは電解または無
電解メッキの湿式法により付着させて貴金属層を形成
し、該貴金属層をマスクパターンに沿ってエッチングし
てなるものである。
なる装飾基材上に卑金属のイオンプレーティングによ
り、窒化チタンによる金色膜、酸化チタンによる黒色
膜、酸化タングステンによる青色膜、炭化チタンよる暗
黒色膜等の種々の色調の皮膜を付着せしめて有色卑金属
層を形成し、該有色卑金属層の表面上に更に金等の貴金
属を気相蒸着によるドライメッキあるいは電解または無
電解メッキの湿式法により付着させて貴金属層を形成
し、該貴金属層をマスクパターンに沿ってエッチングし
てなるものである。
しかしながら、これら上記の従来品においては、卑金属
のイオンプレーティングによる金属酸化物、金属炭化
物、金属窒化物等の有色卑金属層の装飾基材に対する密
着性については充分な性能を有しているが、イオンプレ
ーティングによる有色卑金属層と該有色卑金属層の表面
に貴金属を真空蒸着や湿式メッキ等で形成した貴金属層
との間の密着性が悪いという欠点があった。
のイオンプレーティングによる金属酸化物、金属炭化
物、金属窒化物等の有色卑金属層の装飾基材に対する密
着性については充分な性能を有しているが、イオンプレ
ーティングによる有色卑金属層と該有色卑金属層の表面
に貴金属を真空蒸着や湿式メッキ等で形成した貴金属層
との間の密着性が悪いという欠点があった。
本考案者は、上記従来技術の欠点を解決するため種々検
討したところ、卑金属をイオンプレーティングによって
装飾基材上に付着させて有色卑金属層を形成したのち、
該有色卑金属層の表面上に貴金属層をイオンプレーティ
ングによって形成させれば上記従来品に比べ有色卑金属
層と貴金属層の間の密着性が向上するということが判明
した。
討したところ、卑金属をイオンプレーティングによって
装飾基材上に付着させて有色卑金属層を形成したのち、
該有色卑金属層の表面上に貴金属層をイオンプレーティ
ングによって形成させれば上記従来品に比べ有色卑金属
層と貴金属層の間の密着性が向上するということが判明
した。
しかしながら、実用に耐え得るだけの良好な密着性を得
るには未だ不充分であり、改良の余地が残されていた。
るには未だ不充分であり、改良の余地が残されていた。
即ち、本考案者の実験によると、貴金属層が０．３μｍ
程度の厚みまでは密着性は良いが、０．３μｍ以上の厚
みになると、貴金属層の密着性が不良となることが判っ
た。
程度の厚みまでは密着性は良いが、０．３μｍ以上の厚
みになると、貴金属層の密着性が不良となることが判っ
た。
また有色卑金属層と貴金属層との密着性を良くしようと
して、貴金属層を０．３μｍ以下の厚みにすると、貴金
属層における耐摩耗性の低下や、強度低下が生じ摩耗に
よる貴金属の色調の消失や損傷による装飾性の低下とい
う問題を生じることも判明した。
して、貴金属層を０．３μｍ以下の厚みにすると、貴金
属層における耐摩耗性の低下や、強度低下が生じ摩耗に
よる貴金属の色調の消失や損傷による装飾性の低下とい
う問題を生じることも判明した。
本考案は、上記従来技術の欠点を解消するものであり、
密着性、耐摩耗性、耐食性に優れた、貴金属装飾品を提
供するものである。
密着性、耐摩耗性、耐食性に優れた、貴金属装飾品を提
供するものである。
本考案は、 (1)装飾基材と、該装飾基材の表面にイオンプレーティ
ングにより卑金属の皮膜を形成してなる有色卑金属層
と、該有色卑金属層の表面にイオンプレーティングによ
り貴金属の皮膜を形成してなる貴金属層とから構成さ
れ、且つ上記貴金属がクロムを０．１〜４．５重量％含
有する貴金属からなることを特徴とする貴金属装飾品。
ングにより卑金属の皮膜を形成してなる有色卑金属層
と、該有色卑金属層の表面にイオンプレーティングによ
り貴金属の皮膜を形成してなる貴金属層とから構成さ
れ、且つ上記貴金属がクロムを０．１〜４．５重量％含
有する貴金属からなることを特徴とする貴金属装飾品。
(2)上記貴金属層が有色卑金属層表面に部分的に設けら
れている上記(1)記載の貴金属装飾品。
れている上記(1)記載の貴金属装飾品。
を要旨とするものである。
以下、本考案を図面に基き説明する。
第１図に示すように、本考案の貴金属装飾品１は、装飾
基材２と、該装飾基材２の表面にイオンプレーティング
により卑金属の皮膜を形成してなる有色卑金属層３と、
該有色卑金属層３の表面にイオンプレーティングにより
貴金属の皮膜を形成してなる貴金属層４とから構成され
る基本的な構造を有し、上記貴金属層４が、クロムを
０．１〜４．５重量％含有された貴金属からなるもので
ある。
基材２と、該装飾基材２の表面にイオンプレーティング
により卑金属の皮膜を形成してなる有色卑金属層３と、
該有色卑金属層３の表面にイオンプレーティングにより
貴金属の皮膜を形成してなる貴金属層４とから構成され
る基本的な構造を有し、上記貴金属層４が、クロムを
０．１〜４．５重量％含有された貴金属からなるもので
ある。
装飾基材２は、例えば時計、眼鏡フレーム、ライター、
万年筆、ブローチ等の基材であり、その材料としては、
チタン、チタン合金、ステンレス、ニッケル−クロム合
金、銅合金等の金属等の高級装飾製品の素材が用いられ
る。
万年筆、ブローチ等の基材であり、その材料としては、
チタン、チタン合金、ステンレス、ニッケル−クロム合
金、銅合金等の金属等の高級装飾製品の素材が用いられ
る。
有色卑金属層３は公知の卑金属類のイオンプレーティン
グにより形成することができる。
グにより形成することができる。
第２図に示すように、イオンプレーティング装置５は、
真空槽６の中にカソード電極７とその電極７に対向する
下側に、加熱電源８を有した蒸発源ボード９が設置さ
れ、蒸発源ボード９はカソード電極７と直流電源１０を
介し接続している。真空槽６は真空用排気口１１と反応
ガス導入口１２を有している。
真空槽６の中にカソード電極７とその電極７に対向する
下側に、加熱電源８を有した蒸発源ボード９が設置さ
れ、蒸発源ボード９はカソード電極７と直流電源１０を
介し接続している。真空槽６は真空用排気口１１と反応
ガス導入口１２を有している。
有色卑金属層３を形成する方法は、イオンプレーティン
グ装置５の蒸発源ボード９に、チタン、チタン合金、ク
ロム、クロム合金、ニオブ、ジルコニウム、バナジウム
或いはこれらの合金等の卑金属を蒸発源として投入し、
カソード電極に装飾基材２をつり下げる。ついで蒸発源
を加熱し真空槽６の内部を所定の真空度にし、アセチレ
ン、窒素、酸素等の反応ガスを導入した後、電子ビーム
を蒸発源ボード９の卑金属に照射して卑金属をイオン化
させる。イオン化した卑金属は反応ガスと反応し卑金属
の炭化物、窒化物、酸化物の形で装飾基材２に析出し、
有色卑金属層３が形成される。
グ装置５の蒸発源ボード９に、チタン、チタン合金、ク
ロム、クロム合金、ニオブ、ジルコニウム、バナジウム
或いはこれらの合金等の卑金属を蒸発源として投入し、
カソード電極に装飾基材２をつり下げる。ついで蒸発源
を加熱し真空槽６の内部を所定の真空度にし、アセチレ
ン、窒素、酸素等の反応ガスを導入した後、電子ビーム
を蒸発源ボード９の卑金属に照射して卑金属をイオン化
させる。イオン化した卑金属は反応ガスと反応し卑金属
の炭化物、窒化物、酸化物の形で装飾基材２に析出し、
有色卑金属層３が形成される。
有色卑金属層３は、卑金属と反応ガスの種類を変えるこ
とにより、様々な色調が得られる。例えば、チタン及び
チタン合金の場合窒化物は金色系になり、炭化物は黒色
系、窒化物、炭化物、酸化物の混合物の場合ブラウン系
又はピンク系になる。クロム及びクロム合金の場合、窒
化物、炭化物、酸化物とも白〜グレー〜黒になり、ニオ
ブ、ジルコニウム、バナジウム及びこれらの合金の場合
はチタン及びチタン合金をベースにした場合に近い色調
になる。
とにより、様々な色調が得られる。例えば、チタン及び
チタン合金の場合窒化物は金色系になり、炭化物は黒色
系、窒化物、炭化物、酸化物の混合物の場合ブラウン系
又はピンク系になる。クロム及びクロム合金の場合、窒
化物、炭化物、酸化物とも白〜グレー〜黒になり、ニオ
ブ、ジルコニウム、バナジウム及びこれらの合金の場合
はチタン及びチタン合金をベースにした場合に近い色調
になる。
有色卑金属層３の厚みは、０．１〜２．０μｍであり、
好ましくは０．２〜０．８μｍである。
好ましくは０．２〜０．８μｍである。
上記の如く形成した有色卑金属層３の表面に、貴金属層
４の皮膜を形成する。
４の皮膜を形成する。
貴金属層４はクロムを０．１〜４．５重量％含有した貴
金属を蒸発源として上述したと同様の装置、手段を用い
てイオンプレーティングにより形成することができる。
貴金属の種類は、公知の装飾品に通常使用するものが使
用でき、所望する色調に応じ選択できる。例えば金色に
したい場合は金、白色にしたい場合はパラジウム又は白
金が用いられる。
金属を蒸発源として上述したと同様の装置、手段を用い
てイオンプレーティングにより形成することができる。
貴金属の種類は、公知の装飾品に通常使用するものが使
用でき、所望する色調に応じ選択できる。例えば金色に
したい場合は金、白色にしたい場合はパラジウム又は白
金が用いられる。
クロムの添加量は０．１〜４．５重量％であり、０．１
重量％未満になると密着性向上の効果が得られず、４．
５重量％を越えると貴金属としての外観が得られなくな
る。貴金属層４の厚みは０．１〜１μｍに形成できる。
重量％未満になると密着性向上の効果が得られず、４．
５重量％を越えると貴金属としての外観が得られなくな
る。貴金属層４の厚みは０．１〜１μｍに形成できる。
本考案の貴金属装飾品１は、貴金属層４を有色卑金属層
３の表面に部分的に設けることもできる。
３の表面に部分的に設けることもできる。
第３図（Ａ）に示すように、有色卑金属層３表面に貴金
属層４をイオンプレーティングにより全面的に形成した
後、貴金属層４を残す部分に、マスキング１３を施し、
貴金属剥離液に浸漬し、マスキング１３を施していない
部分の貴金属層を溶解除去した後、マスキング１３を除
去することにより、第４図（Ｂ）に示すように、有色卑
金属層３の表面に貴金属層４を部分的に形成してなる本
考案貴金属装飾品１を得ることができる。
属層４をイオンプレーティングにより全面的に形成した
後、貴金属層４を残す部分に、マスキング１３を施し、
貴金属剥離液に浸漬し、マスキング１３を施していない
部分の貴金属層を溶解除去した後、マスキング１３を除
去することにより、第４図（Ｂ）に示すように、有色卑
金属層３の表面に貴金属層４を部分的に形成してなる本
考案貴金属装飾品１を得ることができる。
イオンプレーティングにより貴金属層４を形成した後、
マスキングを施して不要の貴金属層を除去する方法は、
有色卑金属層３にマスキングを施しイオンプレーティン
グにより貴金属層を設ける方法に比べ、イオンプレーテ
ィング時にマスキングの分解する虞れや、分解したマス
キングによりイオンプレーティングが阻害される虞れが
なく、有色卑金属層を形成した後に、貴金属層を連続的
に形成することができる。またマスキングの除去も容易
である。
マスキングを施して不要の貴金属層を除去する方法は、
有色卑金属層３にマスキングを施しイオンプレーティン
グにより貴金属層を設ける方法に比べ、イオンプレーテ
ィング時にマスキングの分解する虞れや、分解したマス
キングによりイオンプレーティングが阻害される虞れが
なく、有色卑金属層を形成した後に、貴金属層を連続的
に形成することができる。またマスキングの除去も容易
である。
本考案において、厚みの大なる貴金属層を得たい場合
（例えば１μｍを越える厚みにしたい場合）には、第４
図に示すように貴金属層４の表面に更に湿式メッキ等の
方法によって貴金属メッキ層１４を形成することができ
る。
（例えば１μｍを越える厚みにしたい場合）には、第４
図に示すように貴金属層４の表面に更に湿式メッキ等の
方法によって貴金属メッキ層１４を形成することができ
る。
本考案を具体的実施例によりさらに詳細に説明する。
実施例１ イオンプレーティング装置の真空槽内のカソード電極に
チタン製の眼鏡枠を吊下げ、蒸発源ボードにチタンを投
入し、反応ガスとして窒素及びアセチレンガスを導入
し、真空度を１０-2〜１０-6Torrにし析出速度を０．０
１〜０．０２μｍ／分に調節して３０分間イオンプレー
ティングを行い、チタン眼鏡枠の表面に０．５μｍの有
色卑金属層を形成した。この有色卑金属層の色はグレー
色であった。次いで反応ガスを停止し、クロムを２重量
％含む金を貴金属として蒸発源ボードに投入し、真空度
を１０-4〜１０-5Torrに調節し８分間イオンプレーティ
ングを行い、有色卑金属層表面に、０．３μｍのクロム
を２重量％含む金からなる貴金属層を形成した。得られ
た眼鏡枠は、有色卑金属層と貴金属層との間の密着力が
良好で、１０個の眼鏡枠を上記操作を繰り返し行い製造
したところ、密着性不良の発生率は０％であった。
チタン製の眼鏡枠を吊下げ、蒸発源ボードにチタンを投
入し、反応ガスとして窒素及びアセチレンガスを導入
し、真空度を１０-2〜１０-6Torrにし析出速度を０．０
１〜０．０２μｍ／分に調節して３０分間イオンプレー
ティングを行い、チタン眼鏡枠の表面に０．５μｍの有
色卑金属層を形成した。この有色卑金属層の色はグレー
色であった。次いで反応ガスを停止し、クロムを２重量
％含む金を貴金属として蒸発源ボードに投入し、真空度
を１０-4〜１０-5Torrに調節し８分間イオンプレーティ
ングを行い、有色卑金属層表面に、０．３μｍのクロム
を２重量％含む金からなる貴金属層を形成した。得られ
た眼鏡枠は、有色卑金属層と貴金属層との間の密着力が
良好で、１０個の眼鏡枠を上記操作を繰り返し行い製造
したところ、密着性不良の発生率は０％であった。
実施例２ イオンプレーティング装置の真空槽内のカソード電極に
チタン製の眼鏡枠を吊下げ、蒸発源ボードにチタンを投
入し、反応ガスとして窒素及びアセチレンガスを導入
し、真空度を１０-2〜１０-6Torrにし析出速度を０．０
１〜０．０２μｍ／分に調節して３０分間イオンプレー
ティングを行い、チタン眼鏡枠の表面に０．５μｍの有
色卑金属層を形成した。この有色卑金属層の色はグレー
色であった。次いで反応ガスを停止し、クロムを３重量
％含むパラジウムを蒸発源ボードに投入し、真空度を１
０-4〜１０-5Torrに調節し８分間イオンプレーティング
を行い、有色卑金属層表面に、０．３μｍのクロムを３
重量％含むパラジウムからなる貴金属層を形成した。パ
ラジウム貴金属層を形成したチタン眼鏡枠をイオンプレ
ーティング装置の真空槽から取り出し、該眼鏡枠のブリ
ッジ部分に、アクリル系塗料を塗布してマスキングを施
した後、貴金属剥離液に浸漬し、マスキングされていな
い箇所におけるパラジウム貴金属層を剥離した後マスキ
ング材を除去し、リムとテンプル部は有色卑金属層が露
出しグレー色になり、ブリッジ部にはパラジウム貴金属
層が残り、白色となり、しかして白色とグレー色との組
合わせからなる外観色調のチタン製目鏡枠が得られた。
得られた眼鏡枠は、有色卑金属層と貴金属層との間の密
着力が良好で、１０個の眼鏡枠を上記操作を繰り返し行
い製造したところ、密着性不良の発生率は０％であっ
た。
チタン製の眼鏡枠を吊下げ、蒸発源ボードにチタンを投
入し、反応ガスとして窒素及びアセチレンガスを導入
し、真空度を１０-2〜１０-6Torrにし析出速度を０．０
１〜０．０２μｍ／分に調節して３０分間イオンプレー
ティングを行い、チタン眼鏡枠の表面に０．５μｍの有
色卑金属層を形成した。この有色卑金属層の色はグレー
色であった。次いで反応ガスを停止し、クロムを３重量
％含むパラジウムを蒸発源ボードに投入し、真空度を１
０-4〜１０-5Torrに調節し８分間イオンプレーティング
を行い、有色卑金属層表面に、０．３μｍのクロムを３
重量％含むパラジウムからなる貴金属層を形成した。パ
ラジウム貴金属層を形成したチタン眼鏡枠をイオンプレ
ーティング装置の真空槽から取り出し、該眼鏡枠のブリ
ッジ部分に、アクリル系塗料を塗布してマスキングを施
した後、貴金属剥離液に浸漬し、マスキングされていな
い箇所におけるパラジウム貴金属層を剥離した後マスキ
ング材を除去し、リムとテンプル部は有色卑金属層が露
出しグレー色になり、ブリッジ部にはパラジウム貴金属
層が残り、白色となり、しかして白色とグレー色との組
合わせからなる外観色調のチタン製目鏡枠が得られた。
得られた眼鏡枠は、有色卑金属層と貴金属層との間の密
着力が良好で、１０個の眼鏡枠を上記操作を繰り返し行
い製造したところ、密着性不良の発生率は０％であっ
た。
実施例３ イオンプレーティング装置の真空槽内のカソード電極に
チタン製の眼鏡枠を吊下げ、蒸発源ボードにチタンを投
入し、反応ガスとして窒素及びアセチレンガスを導入
し、真空度を１０-2〜１０-6Torrにし析出速度を０．０
１〜０．０２μｍ／分に調節して３０分間イオンプレー
ティングを行い、チタン眼鏡枠の表面に０．５μｍの有
色卑金属層を形成した。この有色卑金属層の色はグレー
色であった。次いで反応ガスを停止し、クロムを２重量
％含む金を蒸発源ボードに投入し、真空度を１０-4〜１
０-5Torrに調節し８分間イオンプレーティングを行い、
有色卑金属層表面に、０．３μｍのクロムを２重量％含
む金からなる貴金属層を形成した。貴金属層を形成した
チタン眼鏡枠をイオンプレーティング装置の真空槽から
取り出し、公知の湿式メッキにより貴金属層の表面に更
に１μｍの厚みに２０カラットの金−パラジウムの貴金
属メッキ層を形成した。
チタン製の眼鏡枠を吊下げ、蒸発源ボードにチタンを投
入し、反応ガスとして窒素及びアセチレンガスを導入
し、真空度を１０-2〜１０-6Torrにし析出速度を０．０
１〜０．０２μｍ／分に調節して３０分間イオンプレー
ティングを行い、チタン眼鏡枠の表面に０．５μｍの有
色卑金属層を形成した。この有色卑金属層の色はグレー
色であった。次いで反応ガスを停止し、クロムを２重量
％含む金を蒸発源ボードに投入し、真空度を１０-4〜１
０-5Torrに調節し８分間イオンプレーティングを行い、
有色卑金属層表面に、０．３μｍのクロムを２重量％含
む金からなる貴金属層を形成した。貴金属層を形成した
チタン眼鏡枠をイオンプレーティング装置の真空槽から
取り出し、公知の湿式メッキにより貴金属層の表面に更
に１μｍの厚みに２０カラットの金−パラジウムの貴金
属メッキ層を形成した。
次いで、金−パラジウム貴金属メッキ層を形成した眼鏡
枠のブリッジ部分に、アクリル系塗料を塗布してマスキ
ングを施した後、金剥離液に浸漬し、マスキングされて
いない箇所における金−パラジウム合金メッキを層を剥
離した後マスキング材を除去し、リムとテンプル部は有
色卑金属層が露出し暗黒色になり、ブリッジ部には金−
パラジウム合金メッキ層が残り、金色となり、しかして
て金色とグレー色との組合わせからなる外観色調のチタ
ン製目鏡枠が得られた。得られた眼鏡枠は、有色卑金属
層と貴金属層との間の密着力が良好で、１０個の眼鏡枠
を上記操作を繰り返し行い製造したところ、密着性不良
の発生率は０％であった。
枠のブリッジ部分に、アクリル系塗料を塗布してマスキ
ングを施した後、金剥離液に浸漬し、マスキングされて
いない箇所における金−パラジウム合金メッキを層を剥
離した後マスキング材を除去し、リムとテンプル部は有
色卑金属層が露出し暗黒色になり、ブリッジ部には金−
パラジウム合金メッキ層が残り、金色となり、しかして
て金色とグレー色との組合わせからなる外観色調のチタ
ン製目鏡枠が得られた。得られた眼鏡枠は、有色卑金属
層と貴金属層との間の密着力が良好で、１０個の眼鏡枠
を上記操作を繰り返し行い製造したところ、密着性不良
の発生率は０％であった。
比較例１ 比較のために実施例１の貴金属にクロムを添加した金の
代わりに、クロムを含有しない金のみを使用して貴金属
層を形成した他は実施例１と同様にチタン製の眼鏡枠を
処理し、有色卑金属層の表面にクロムを含まない金のみ
の貴金属層を形成した。得られた眼鏡枠は有色卑金属層
と貴金属層との間の密着力が不良で、１０個の眼鏡枠を
上記操作を繰り返し行い製造したところ、密着性不良の
発生率は４０％であった。
代わりに、クロムを含有しない金のみを使用して貴金属
層を形成した他は実施例１と同様にチタン製の眼鏡枠を
処理し、有色卑金属層の表面にクロムを含まない金のみ
の貴金属層を形成した。得られた眼鏡枠は有色卑金属層
と貴金属層との間の密着力が不良で、１０個の眼鏡枠を
上記操作を繰り返し行い製造したところ、密着性不良の
発生率は４０％であった。
以上説明したように、本考案の貴金属装飾品はイオンプ
レーティングにより形成した有色卑金属層の表面に、ク
ロムを０．１〜４．５重量％含む貴金属のイオンプレー
ティングにより形成された貴金属層を形成したので、従
来のクロムを含まない貴金属層を有色卑金属層の表面に
形成した貴金属装飾品に比較して、貴金属層と有色卑金
属層の間の密着性が向上し、製造時の密着性不良製品の
発生が無くなると共に、製品使用時においても貴金属層
が剥離するというおそれがない。
レーティングにより形成した有色卑金属層の表面に、ク
ロムを０．１〜４．５重量％含む貴金属のイオンプレー
ティングにより形成された貴金属層を形成したので、従
来のクロムを含まない貴金属層を有色卑金属層の表面に
形成した貴金属装飾品に比較して、貴金属層と有色卑金
属層の間の密着性が向上し、製造時の密着性不良製品の
発生が無くなると共に、製品使用時においても貴金属層
が剥離するというおそれがない。
また本考案の貴金属装飾品は、貴金属層と有色卑金属層
の密着性が良いために、貴金属層を厚く形成しても密着
性不良の問題を生じなく、例えば貴金属層厚みが０．３
μｍ以上であっても良好な密着性が得られ、貴金属層が
剥離する虞れがない。しかして、本考案によれば、貴金
属層の厚みを大きく形成できる結果、製品の耐摩耗性を
向上できる効果がある。
の密着性が良いために、貴金属層を厚く形成しても密着
性不良の問題を生じなく、例えば貴金属層厚みが０．３
μｍ以上であっても良好な密着性が得られ、貴金属層が
剥離する虞れがない。しかして、本考案によれば、貴金
属層の厚みを大きく形成できる結果、製品の耐摩耗性を
向上できる効果がある。
さらに、有色卑金属層の表面に貴金属層を部分的に設け
ることによって、有色卑金属層の色調と貴金属層の色調
を変化させることが可能となり、バラエティーに富み、
装飾性を向上できる効果がある。
ることによって、有色卑金属層の色調と貴金属層の色調
を変化させることが可能となり、バラエティーに富み、
装飾性を向上できる効果がある。
第１図は本考案の貴金属装飾品の一例を示す縦断面図、
第２図はイオンプレーティング装置の説明略図、第３図
（Ａ）、（Ｂ）は本考案の他の実施例における貴金属装
飾品を製造する工程を示す説明図、第４図は本考案の貴
金属装飾品の更に別の実施例を示す縦断面図である。 １……貴金属装飾品、２……装飾基材 ３……有色卑金属層、４……貴金属層 ５……イオンプレーティング装置
第２図はイオンプレーティング装置の説明略図、第３図
（Ａ）、（Ｂ）は本考案の他の実施例における貴金属装
飾品を製造する工程を示す説明図、第４図は本考案の貴
金属装飾品の更に別の実施例を示す縦断面図である。 １……貴金属装飾品、２……装飾基材 ３……有色卑金属層、４……貴金属層 ５……イオンプレーティング装置
Claims (2)
- 【請求項１】装飾基材と、該装飾基材の表面にイオンプ
レーティングにより卑金属の皮膜を形成してなる有色卑
金属層と、該有色卑金属層の表面にイオンプレーティン
グにより貴金属の皮膜を形成してなる貴金属層とから構
成され、且つ上記貴金属層がクロムを０．１〜４．５重
量％含有する貴金属からなることを特徴とする貴金属装
飾品。 - 【請求項２】上記貴金属層が有色卑金属層表面に部分的
に設けられている請求項１記載の貴金属装飾品。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15061189U JPH069006Y2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 貴金属装飾品 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP15061189U JPH069006Y2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 貴金属装飾品 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0389159U JPH0389159U (ja) | 1991-09-11 |
| JPH069006Y2 true JPH069006Y2 (ja) | 1994-03-09 |
Family
ID=31696953
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP15061189U Expired - Lifetime JPH069006Y2 (ja) | 1989-12-27 | 1989-12-27 | 貴金属装飾品 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH069006Y2 (ja) |
-
1989
- 1989-12-27 JP JP15061189U patent/JPH069006Y2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0389159U (ja) | 1991-09-11 |
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