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JPH068695B2 - クリ−ンル−ム - Google Patents

クリ−ンル−ム

Info

Publication number
JPH068695B2
JPH068695B2 JP60274237A JP27423785A JPH068695B2 JP H068695 B2 JPH068695 B2 JP H068695B2 JP 60274237 A JP60274237 A JP 60274237A JP 27423785 A JP27423785 A JP 27423785A JP H068695 B2 JPH068695 B2 JP H068695B2
Authority
JP
Japan
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area
air
air supply
ceiling
clean
Prior art date
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Application number
JP60274237A
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English (en)
Other versions
JPS62134432A (ja
Inventor
良延 鈴木
充房 眞鍋
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Shimizu Construction Co Ltd
Original Assignee
Shimizu Construction Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Shimizu Construction Co Ltd filed Critical Shimizu Construction Co Ltd
Priority to JP60274237A priority Critical patent/JPH068695B2/ja
Priority to PCT/JP1986/000603 priority patent/WO1987003356A1/ja
Priority to DE8686906948T priority patent/DE3683492D1/de
Priority to EP86906948A priority patent/EP0250596B1/en
Priority to US07/057,525 priority patent/US4838150A/en
Priority to KR870700365A priority patent/KR880700218A/ko
Publication of JPS62134432A publication Critical patent/JPS62134432A/ja
Publication of JPH068695B2 publication Critical patent/JPH068695B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
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Classifications

    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F24HEATING; RANGES; VENTILATING
    • F24FAIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
    • F24F3/00Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems
    • F24F3/12Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling
    • F24F3/16Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
    • F24F3/167Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Combustion & Propulsion (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • Ventilation (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 「産業上の利用分野」 この発明は、超LSI、IC等の製造分野で、製造する
環境を超清浄に維持したい場合に必要なクリーンルーム
に関する。
「従来の技術」 一般に半導体装置の製造工程、とりわけ半導体ウエーハ
上に回路素子を形成する前工程では塵埃は大敵であり、
作業雰囲気における清浄度がそのまま製品歩留りに結び
付く。このため、この種の半導体装置の作業雰囲気の高
清浄化を図るためにクリーンルームが使用されており、
例えば第4図に示すクリーンルームが知られている。
図において、符号Kはクリーンルームであり、全体を外
隔壁1によって外界と区画されている。そしてこの区画
内の中央に作業者域2を、その両外側に高清浄度域3,
3を、更にその両外側に装置保全域4,4をそれぞれ構成
しており、特に高清浄度域3,3はその外側に配設した内
隔壁5,5と、内側に配設したスクリーン6,6とによっ
てそれぞれ装置保全域4,4と作業者域2とに区画され
る。なお、内隔壁5,5とスクリーン6,6とは、高清浄度
域3,3の床7上に設置される装置8の上でワークが処理
される位置より低いところまでその下端が延在されるよ
うな状態で吊り下げた構成とし、したがって、その下側
には床7との間に隙間が形成される。
そして、前記高清浄度域3,3の天井にそれぞれ高性能フ
ィルタ9,9を設置するとともに、これを上部においてダ
クト10に接続する。一方、作業者域2の天井にはプレ
フィルタ11を設けて前記ダクト10に連通させ、また
装置保全域4,4の天井にもプレフィルタ12,12を
設けて前記高性能フィルタ9,9に連通させる。なお、図
中13はスクリーン6に設けた作業用の窓であり、作業
者域2にいる作業者14はこの作業者窓13を通して装
置8を操作する。
この構成によれば、清浄空気は高性能フィルタ9,9か
ら矢印のように下側に向けて高清浄度域3,3を満たしこ
こを清浄化する。清浄空気は更に装置8と内隔壁5及び
スクリーン6との隙間を通ってそれぞれ装置保全域4,4
と作業者域2に流れ込む。また、一部は作業用窓13を
通して作業者域2に流れ込む。そして、装置保全域4の
空気は上向きに流れ、プレフィルタ12に吸い込まれ、
直接に前記高性能フィルタ9に戻り前述のように循環す
る。一方、作業者域2の空気も上向きに流れプレフィル
タ11からダクト10を通って高性能フィルタ9に戻り
前述のように循環する。
したがって、このクリーンルームKにおいては、高清浄
度域3,3が陽圧になる一方作業者域2や装置保全域4,4
は陰圧となり、これにより高清浄度域3,3を所望の清浄
度にするとともに、作業者域2からの空気の巻き込みを
防止して高清浄度を安定に保持することができること、
また、高性能フィルタ9,9を高清浄度域3,3に設けるだ
けでよいので、設備のイニシャルコストを低減できると
ともに、空気の供給量を減少させて電力のランニングコ
ストを低減することができることを等多くの効果を得る
ことができる。
「発明が解決しようとする問題点」 ところが、前記従来のクリーンルームにおいては、高清
浄度域を実現するために作業者域との間にスクリーンを
設けることにより、高清浄度域と作業者域とを区画して
いるため、作業者はスクリーンごしに装置を操作するこ
とになり、操作性が悪く、正確かつ迅速にち密な作業が
行うのが難しいこと、また、スクリーンが障害となって
作業員の行動が制約されること等の問題点があった。
本発明は、前記問題に鑑みてなされたもので、高清浄度
域を所望の清浄度にするとともに、作業者域からの空気
の巻き込みを防止して高清浄度を安定に保持し、また、
空気の供給量を低減して電力のランニングコストを低減
させるとともに、設備のイニシャルコストを低減させ、
さらに、装置の操作性を向上させるとともに、作業員が
行動し易いクリーンルームを提供することを目的とす
る。
「問題点を解決するための手段」 本発明は、前記問題点を解決するために室内を、高清浄
度が要求される装置部領域と、この装置部領域と隣接し
作業員が作業を行なう作業部領域と、この作業部領域と
隣接し作業員が通る通路部領域とに区分するとともに、
前記装置部領域の天井に清浄空気を吹き出す空気供給部
を設け、さらに通路部領域の上部には前記空気供給部と
隣接し、この空気供給部から吹き出す前記清浄空気を還
気させる天井排気部を設けたクリーンルームにおいて、
前記天井排気部の空気供給部と接する側に、空気供給部
から天井排気部へ流れる前記清浄空気の流線が滑らかに
形成されるように、整流板を設けたり、または、前記空
気供給部の天井排気部側の吐出口の一部を、天井排気部
側に向けたことを特徴としている。
「作用」 通路部領域の天井に天井排気部を設けてあるので、空気
供給部から床部へ向って流れる清浄空気の一部が、装置
部領域から作業部領域を経て通路部領域へ流れる横方向
の大きな速度成分を有した気流を形成し、作業部領域及
び通路部領域から装置部領域への塵埃の侵入を防止す
る。
また、天井部分においては、空気供給部から天井排気部
へ流れる清浄空気の流線が滑らかに形成されるため、空
気の渦を生じることがなく、空気中の微粒子が拡散した
り、装置部領域に侵入したりすることなく、滑らかに天
井排気部へ吸い込まれていく。
「実施例」 以下、第1図ないし第3図をもちいてこの発明の実施例
を説明する。第1図は本発明の第一の実施例を、第2図
は本発明の第2の実施例を、第3図は本発明の第3の実
施例を、それぞれ示すものである。
第1図において、符号Kはクリーンルーム、21は天井
版、22は床板である。天井版21と床版22との間の
室内には、天井部分に天井板23が設けてられており、
天井板23の上部には主空調機(図示せず)から空気を
送風するための給気ダクト24,24が配設されてい
る。また、天井板23の下部には、中央部に天井排気部
25が形成されており、それを挾んで両側(紙面にむか
って左右)に隣接して空気供給部である給気チャンバ2
6,26が設けられている。この給気チャンバ26,2
6は、それぞれ上方の給気ダクト24,24と連通され
るとともに、給気チャンバ26,26の下部に設けられ
たULPAフィルタ(又はHEPAフィルタ)27,2
7を介して下方の空間部と連通されている。
一方、室内の床部分には、床版22の上方に開口部を有
する床部28が設置されており、それらの間には床下フ
リーアクセスフロア28aが形成されている。さらに、
室内は給気チャンバ26,26の両外側部と床部28と
の間に立設された間仕切板29,29によって、作業室
30とユーティリティ室31,31とに区画されてい
る。
間仕切板29,29の下部付近には、LSI等の製造装
置32,32が配設されており、間仕切板29の下端部
には間仕切板排気口33,33が形成されている。製造
装置32が長くユーティリティ室31にはみ出す場合
は、製造装置32の上部と接する付近の間仕切板29に
ガラリを設け、製造装置32が作業室30に納まる場合
には、床部28の上部と接する付近の間仕切板29にガ
ラリを設けることにより間仕切板排気口33を構成して
いる。
前記、作業室30の空間部は、製造装置32,32の上
方の装置部領域A,Aと、作業者34が製造装置32,
32の前に立って作業を行なう作業部領域B,Bと、作
業室30のほぼ中央部で作業者34が通る通路部領域C
とに区分されており、前記給気チャンバ26,26は装
置部領域A,Aの上部に、また天井排気部25は通路部
領域Cの上部に位置している。
また、前記給気チャンバ26,26には、ユーティリテ
ィ室31,31側にファン内臓型の空調機35,35が
設けられており、天井排気部25の下部両側には、給気
チャンバ26,26から天井排気部25へ流れる空気の
流線が滑らかに形成されるように、整流板36,36が
給気チャンバ26,26の側面に固定されて設けられて
いるとともに、整流板36,36の内部には装置部領域
A及び作業部領域Bを照らす装置部照明具37,37と
通路部領域Cを照らす通路部照明具38,38とが配設
されている。さらに、天井排気部25には、整流板3
6,36の間にガラリ39が架設されており、その上方
には給気チャンバ26,26に布設された排気ファン4
0,40が設けられている。
一方、床部28は、開口部としてグレーチングまたはパ
ンチングメタル等の有孔床41,41,・・・が設置さ
れるとともに、製造装置32,32や通路部領域Cの床
部にはコンクリートの固定床42,42,42に設けら
れた構成とされている。
つぎに、前記の構成のクリーンルームKの作用について
説明する。
まず、主空調機から給気ダクト24,24を通って送ら
れた空気が、天井に設けられた左右の給気チャンバ2
6,26へ供給される。給気チャンバ26,26へ供給
された空気は、ULPAフィルタ27,27を通過して
清浄化され、作業室30内へ吹き出される。吹き出され
た清浄空気は、主に3種類の流路を通って、再び、給気
チャンバ26,26へ還気される。
まず、第1の流路は、給気チャンバ26から吹き出さ
れた清浄空気が製造装置32の上面に当たった後、間仕
切板排気口33を通過してユーティリティ室31に達
し、次いで空調機35を経て給気チャンバ26へ還気す
る流路。つぎに、第2の流路は、給気チャンバ26か
ら吹き出された清浄空気が製造装置32の上面に当たっ
た後、作業者34を包み込むようにして有孔床41から
床下フリーアクセスフロア28aを通過してユーティリ
ティ室31に達し、次いで空調機35を経て給気チャン
バ26へ還気する流路。さらに、第3の流路は、給気
チャンバ26から吹き出した清浄空気が製造装置32に
当たらず作業部領域Bの上部を通過し、主に作業者34
の頭部等を包むようにして流れ、通路部領域Cの上部を
通過して天井ガラリ39から天井排気部25に達し、次
いで、排気ファン40により給気チャンバ26へ還気す
る流路である。なお、室外への排気を必要とする装置
(図示せず)がクリーンルームK内に設置されている場
合には、流路を流れるいずれかの空気が装置内へ取
り込まれ、装置内部を通過した後、排気ダクト(図示せ
ず)を通じて建物外へ排気される。
ここで、最も清浄な環境を維持したい領域は、製造装置
32の上面、即ち、ウエハーカセットのロード、アンロ
ードの部分を含む装置部領域Aである。したがって、清
浄空気を吹き付けることによって、装置部領域Aの塵埃
を直接的に排除するとともに、作業部領域Bや通路部領
域Cからの空気の巻き込みによる塵埃の侵入を防止する
ことが必要である。特に、装置部領域Aと通路部領域C
との天井部分が照明具や垂れ壁等で分離されている場
合、作業者の上部には渦が発生しやすく、この渦に作業
者からの発塵が侵入した場合、その排除には時間を要
し、作業者の移動や作業に伴い、この塵埃が装置部領域
へ侵入する恐れが大であるため、前記渦の発生を防止す
ることが必要である。
本実施例においては、前記条件を満たすように、装置部
領域Aのシールは流路を流れる清浄空気が行ない、
作業部領域B及び通路部領域Cからの塵埃の侵入防止は
流路を流れる清浄空気が行なう。特に、流路を
流れる清浄空気は、装置部領域Aから作業部領域Bを経
て通路部領域Cへ向かう、横方向の大きな速度成分を有
した気流形状となっており、これによって、作業部領域
B及び通路部領域Cからの塵埃の侵入をほぼ完全に防止
することができる。さらに、天井部分においては、天井
排気部25に整流板36,36を設けてあるため、給気
チャンバ26,26から天井排気部25へ流路を通っ
て流れる清浄空気の流線が滑らかに形成されるため、天
井面近傍においては、空気の渦を生じることがなく、空
気中の微粒子が拡散したり装置部領域Aに侵入したりす
ることなく、滑らかに天井排気部へ吸い込まれていく。
また、部分層流型クリーンルームに代表される、スーパ
ークリーンルームの必要清浄度は、装置部領域Aでクラ
ス10(対象粒子径=0.1μm以上),通路部領域C
でクラス100(対象粒子径=0.1μm以上)であ
り、装置部領域Aから流れ出る清浄空気は通路部領域C
の清浄空気に比べて清浄度が高く、装置部領域Aから流
れ出る清浄空気を用いて通路部領域Cを清浄化すること
ができる。
なお、本実施例においては、作業室30に供給される清
浄空気の量を10m3/minとした場合、前記3種類の流
路を流れて排気される排気量の比率は、流路:
流路:流路=1:4:5となることが望ましい。
したがって、このクリーンルームKにおいては、高清浄
度域である装置部領域Aが陽圧になる一方通路部領域C
やユーティリティ室31は陰圧となり、これにより装置
部領域Aを所望の清浄度にするとともに、作業部領域B
及び通路部領域Cからの空気の巻き込みを防止して塵埃
の侵入を無くし高清浄度を安定に保持することができ
る。また、空気供給部である給気チャンバ26,26が
装置部領域A,Aの上部にしか設けられておらず、天井
の全面から清浄空気が吹き出すことがないので、吹き出
し量を減少(本実施例においては約30%)させること
が可能になるとともに、ULPAフィルタ27は供給チ
ャンバ26,26に設けるだけでよいので、ファンの駆
動動力等電力のランニングコストを低減できるととも
に、設備のイニシャルコストを低減できる。
さらに、作業室30は、スクリーン等によって装置部領
域Aが作業部領域Bや通路部領域Cと区画されていない
ため、作業者34は作業室30内での行動を制約される
ことがないとともに、製造装置32上における操作性を
向上させことができ、正確かつ迅速にち密な作業を行う
ことができる。
また、作業室30に供給された空気を3種類の流路から
排気することができるので、床部28の全面を有孔床4
1とする必要がなくなり、作業部領域Bの直下に僅かな
開口部を設けるだけで、通路部領域Cと製造装置32,
32の直下は固定床42とすることができる。その結
果、作業者34は歩行時に通路部領域Cの固定床42を
歩くことにより、また、通路部領域Cの固定床42と製
造装置32,32の固定床42とが分離していることに
より、歩行時に振動が発生するのを押さえ、振動が製造
装置32,32へ伝わるのを防止することができるとと
もに、歩行時の作業者34に全面グレーチング床を歩く
時に感じられる不快感を与えることがない。
次に、第2図を用いて第2の実施例を説明する。第2図
において、第1図に示した第1の実施例と同一の構成要
素については同一符号を付し、その説明を省略する。
この第2の実施例は、天井付近を流れる清浄空気が全く
渦を生じることなく、前記給気チャンバ26,26から
天井排気部25へ流れるように、天井部分を下記のよう
に構成したものであり、その他の構成については、前記
第1の実施例と同様である。
給気チャンバ26,26の天井排気部25側の吐出口
を、天井排気部25に向けて漸次曲げて曲面を形成する
とともに、ULPAフィルタ27,27を吐出口の形状
に合わせて一部曲面型の形状とする。さらに、天井排気
部25の下部に設けられたガラリ39を、その両側部が
給気チャンバ26,26の吐出口の曲面となだらかに連
続するように上方に向けて山形に配列、形成する。
このように構成することにより、給気チャンバ26,2
6から吹き出され清浄空気は、流路を流れるものは
製造装置32,32にむかって垂直気流で吹き出し、流
路を流れる空気は、天井排気部25に近接する側の気
流の一部が天井排気部25へ向けて横方向に短絡的に排
気されるとともに、天井排気部25から離れるに従っ
て、作業者34の頭部を包み込むように斜め方向に吹き
出されることとなる。さらに、流路を流れる清浄空
気は作業部領域Bにおいては、装置部領域Aから作業部
領域Bを経て通路部領域Cへ向かう、横方向の大きな速
度成分を有した気流形状となっており、これによって、
作業部領域B及び通路部領域Cからの塵埃の侵入をほぼ
完全に防止することができる。
また、通路部領域Cを照らす照明具38を天井排気部3
8内の天井板23に、装置部領域A,Aを照らす照明具
37,37を間仕切板29,29の上部背面にそれぞれ
配設することにより、作業室40内の気流を乱すことな
く、必要な照度を得ることができる。さらに、天井排気
部25のガラリ39を透明なダンパ付き排気口とするこ
とにより、ルーバとしての機能を持たせ、通路部領域C
を均一に明るく証明することができる。
したがって、この第2の実施例においては、第1の実施
例と同様の作用、効果を有するとともに、天井面におい
ては全く空気の渦を生じることがなく、より完全に装置
部領域Aの高清浄度を維持することができる。
次に、第3図を用いて第3の実施例を説明する。第3図
において、第1図及び第2図に示した実施例と同一の構
成要素については同一の符号を付し、その説明を省略す
る。
この第3の実施例は、開口部を有する床部28を撤去し
て床下フリーアクセスフロア28aを無くし、床版22
を床部として、直接その上に作業室40を設けた構成と
したものであり、その他の構成については、前記第2の
実施例と同様である。
前記のように構成されたクリーンルームKにおいては、
給気チャンバ26,26から吹き出された清浄空気が、
前記第2実施例と同様に流路を通って流れるととも
に、流路を流れる清浄空気は装置部領域Aから作業部
領域Bを経て通路部領域Cへ向かう、横方向の大きな速
度成分を有した気流形状となっており、これによって、
作業部領域B及び通路部領域Cからの塵埃の侵入をほぼ
完全に防止した後、製造装置32,32の下を通過して
ユーティリティ室31,31に達し、次いで、空調機3
5,35を経て再び給気チャンバ26,26へ還気す
る。
したがって、この第3の実施例においては、前記第2の
実施例と同様の作用、効果を有するとともに、、製造装
置32,32に付設される装置や配管やダクト等を製造
装置と同一フロアに設置することができることから作業
性が向上すること、床部の施工コストを低減することが
できること、作業者の歩行上の不快感が全くなくなるこ
と等の効果を得ることができる。
「発明の効果」 以上説明したように本発明は、室内を装置部領域、作業
部領域、通路部領域とに区分するとともに、前記装置部
領域の天井に清浄空気を吹き出す空気供給部を設け、さ
らに通路部領域の上部には前記空気供給部と隣接して天
井排気部を設けたクリーンルームにおいて、前記天井排
気部の空気供給部と接する側に、空気供給部から天井排
気部へ流れる前記清浄空気の流線が滑らかに形成される
ように、整流板を設けたり、または、前記空気供給部の
天井排気部側の吐出口の一部を、天井排気部側に向けた
ものであるので、高清浄度域である装置部領域が陽圧に
なる一方通路部領域やユーティリティ室は陰圧となり、
これにより装置部領域を所望の清浄度にできること、ま
た、作業部領域及び通路部領域からの空気の巻き込みを
防止して塵埃の侵入を無くして高清浄度を安定に保持す
ることができること、また、空気供給部である給気チャ
ンバが装置部領域の上部にしか設けられておらず、天井
の全面から清浄空気が吹き出すことがないので、吹き出
し量を減少させることができるとともに、ULPAフィ
ルタは供給チャンバに設けるだけでよいので、ファンの
駆動動力等電力のランニングコストを低減できるととも
に、設備のイニシャルコストを低減できる。
さらに、本発明においては、スクリーン等によって装置
部領域が作業部領域や通路部領域と区画されていないた
め、作業者は作業室内での行動を制約されることがない
とともに、製造装置上における操作性を向上させことが
でき、正確かつ迅速にち密な作業を行うことができる。
【図面の簡単な説明】
第1図ないし第3図は本発明の実施例を示すものであ
り、第1図は第1の実施例を示しクリーンルームの側断
面図、第2図は第2の実施例を示しクリーンルームの側
断面図、第3図は第3の実施例を示しクリーンルームの
側断面図、第4図は従来の技術を示しクリーンルームの
側断面図である。 A……装置部領域、B……作業部領域、C……通路部領
域、25……天井排気部、26……給気チャンバ(空気
供給部)、36……整流板

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】室内を、高清浄度が要求される装置部領域
    と、この装置部領域と隣接し作業員が作業を行なう作業
    部領域と、この作業部領域と隣接し作業員が通る通路部
    領域とに区分するとともに、前記装置部領域の天井に清
    浄空気を吹き出す空気供給部を設け、さらに通路部領域
    の上部には前記空気供給部と隣接し、この空気供給部か
    ら吹き出す前記清浄空気を還気させる天井排気部を設け
    たクリーンルームにおいて、前記天井排気部の空気供給
    部と接する側に、空気供給部から天井排気部へ流れる前
    記清浄空気の流線が滑らかに形成されるように、整流板
    を設けたことを特徴とするクリーンルーム。
  2. 【請求項2】室内を、高清浄度が要求される装置部領域
    と、この装置部領域と隣接し作業員が作業を行なう作業
    部領域と、この作業部領域と隣接し作業員が通る通路部
    領域とに区分するとともに、前記装置部領域の天井に清
    浄空気を吹き出す空気供給部を設け、さらに通路部領域
    の上部には前記空気供給部と隣接し、この空気供給部か
    ら吹き出す前記清浄空気を還気させる天井排気部を設け
    たクリーンルームにおいて、前記空気供給部の天井排気
    部側の吐出口の一部を、天井排気部側に向けたことを特
    徴とするクリーンルーム。
JP60274237A 1985-11-26 1985-12-05 クリ−ンル−ム Expired - Fee Related JPH068695B2 (ja)

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JP60274237A JPH068695B2 (ja) 1985-12-05 1985-12-05 クリ−ンル−ム
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