[go: up one dir, main page]
More Web Proxy on the site http://driver.im/

JPH068305B2 - N―ホスホノメチルグリシンの製造方法 - Google Patents

N―ホスホノメチルグリシンの製造方法

Info

Publication number
JPH068305B2
JPH068305B2 JP1246628A JP24662889A JPH068305B2 JP H068305 B2 JPH068305 B2 JP H068305B2 JP 1246628 A JP1246628 A JP 1246628A JP 24662889 A JP24662889 A JP 24662889A JP H068305 B2 JPH068305 B2 JP H068305B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
phosphonomethyliminodiacetic acid
manganese
phosphonomethylglycine
bromide
catalyst
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP1246628A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH02134390A (ja
Inventor
リー フィールズ,ジュニア ドナルド
チャールズ グラビアック レイモンド
パトリック リレイ デニス
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Monsanto Co
Original Assignee
Monsanto Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Monsanto Co filed Critical Monsanto Co
Publication of JPH02134390A publication Critical patent/JPH02134390A/ja
Publication of JPH068305B2 publication Critical patent/JPH068305B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic Table
    • C07F9/02Phosphorus compounds
    • C07F9/28Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/38Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)]
    • C07F9/3804Phosphonic acids [RP(=O)(OH)2]; Thiophosphonic acids ; [RP(=X1)(X2H)2(X1, X2 are each independently O, S or Se)] not used, see subgroups
    • C07F9/3808Acyclic saturated acids which can have further substituents on alkyl
    • C07F9/3813N-Phosphonomethylglycine; Salts or complexes thereof
    • GPHYSICS
    • G11INFORMATION STORAGE
    • G11BINFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
    • G11B5/00Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
    • G11B5/62Record carriers characterised by the selection of the material
    • G11B5/73Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer
    • G11B5/735Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer
    • G11B5/7356Base layers, i.e. all non-magnetic layers lying under a lowermost magnetic recording layer, e.g. including any non-magnetic layer in between a first magnetic recording layer and either an underlying substrate or a soft magnetic underlayer characterised by the back layer comprising non-magnetic particles in the back layer, e.g. particles of TiO2, ZnO or SiO2

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Molecular Biology (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 従来技術 本発明は、均一触媒系を用いて、N−ホスホノメチルイ
ミノ二酢酸の酸化による、N−ホスホノメチルグリシン
の製造方法に関する。より詳しくは、本発明は、ブロミ
ドイオンの存在下コバルト又はマンガンの塩を用いてN
−ホスホノメチルイミノ二酢酸の酸化による、N−ホス
ホノメチルグリシンの製造方法に関する。農薬業界の分
野においてグリホセートとして知られているN−ホスホ
ノメチルグリシンは、非常に有効且つ商業的に重要な植
物毒であり、出芽期の種子、生育期植物(emerging seed
lings)、木生及び草生植物並びに水生植物の生育を制御
するのに有用である。N−ホスホノメチルグリシン及び
その塩は、発芽後植物毒として、無数の植物種の制御用
に水性の調剤の形で便利に施用される。N−ホスホノメ
チルグリシン及びその塩は、広範囲のスペクトラム活
性、すなわち広範囲の植物の生育を制御することに特徴
がある。
当分野において、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸の酸
化によるN−ホスホノメチルグリシンの多数の製造方法
が知られている。例えば、ハーシュマン(Hershman)に対
する米国特許第3,969,398号明細書は、本質的
に活性炭素から成る触媒の存在下、酸化剤として分子状
酸素を含む気体を用いて、N−ホスホノメチルイミノ二
酢酸の酸化によるN−ホスホノメチルグリシンの製造方
法を開示している。米国特許第3,950,402号明
細書には、水性媒体中で、自由酸素を含む気体及びパラ
ジウム、白金又はロジウムの様な希金属及び支持体を用
いて、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸を酸化してN−
ホスホノメチルグリシンにする方法が開示されている。
米国特許第3,954,848号には、N−ホスホノメ
チルイミノ二酢酸を過酸化水素及び硫酸または酢酸の様
な酸によって酸化することが開示されている。ハンガリ
ー特許出願第011706号には、金属又は金属化合物
の存在下、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸のパーオキ
サイドによる酸化が開示されている。種々の触媒存在
下、アルキル芳香族炭化水素の芳香族酸への酸化に関す
る多くの文献が存在する。例えば、シェルドン(Sheldo
n)とコチ(Kochi)による「有機化合物の金属触媒酸化」
(Metal Catalyzed Oxidations of Organic Compound
s),アカデミックプレス(Academic Press),ニューヨー
ク(New York,、(1981)126〜129頁には、
臭化水素、臭化ナトリウム、又は、有機臭化物のような
臭化物は、アルキル芳香族炭化水素のコバルト及びマン
ガン触媒自動酸化に対して顕著な相乗効果を有する旨開
示されている。
活性炭又は活性炭上の白金のような不均質触媒を使用
し、又は硫酸を使用する如く酸触媒反応を使用して、N
−ホスホノメチルイミノ二酢酸のN−ホスホノメチルグ
リシンへ酸化する上述の公知製造方法によっても満足す
べき結果は得られるけれども、リン酸塩のような不用な
副産物の産生を最小化するようなN−ホスホノメチルグ
リシンの高収率の改良された製造方法が依然として必要
とされている。
本発明は、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸を、マンガ
ン及びコバルトの塩、塩の錯体からなる群から選ばれた
有効量の触媒並びに有効量のブロミドイオンの存在下、
N−ホスホノメチルイミノ二酢酸を分子状酸素含有ガス
と合わせることによって、種々の利点を達成するもので
ある。
本発明の製造方法は、ブロミドイオンの存在下、混合物
又は溶液状態で、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸をコ
バルト・及び/又はマンガンの塩又は塩の錯体と合わせ
ることを内容とする。混合物及び溶液は分子状酸素含有
ガスと合わされ、この間反応物質を加熱してN−ホスホ
ノメチルイミノ二酢酸の酸化反応を開始持続し、N−ホ
スホノメチルグリシンの製造するに十分な高温にする。
本発明における触媒としては、当業界における公知の如
何なるコバルト塩及びマンガン塩がある。例えば、酢酸
マンガン、硫酸マンガン及びアセチルアセトネートマン
ガン(II又はIII)のような錯体、又は硫酸コバルト、
アセトアセトネートコバルト(II又はIII)塩、塩化コ
バルト、臭化コバルト、硝酸コバルト、酢酸コバルトの
ようなコバルト塩である。
この触媒は、塩の形でN−ホスホノメチルイミノ二酢酸
に添加しても良いし、又その塩は、反応混合物に溶けて
いる二酸化マンガンのような、コバルト又はマンガン金
属イオン源を添加することによっても生じさせることが
できる。しかしながら、マンガンクロロ(フタロシアニ
ナト)イオンは、下記実施例においては触媒的ではない
点留意する必要がある。
本発明におけるコバルト及びマンガン触媒の濃度は、広
範囲である。触媒濃度は、全金属イオン濃度で1モルか
ら0.0001モルの範囲内で変化する。コバルトとマ
ンガンの場合、反応は一義的には触媒濃度に依存してい
ると観察できる。言いかえれば、反応速度は、触媒濃度
に直線的に比例する。適切な触媒金属イオン濃度は、約
0.1モルから約0.001モルの範囲であり、これ
は、N−ホスホノメチルグリシンを容易に制御し、選択
性を与えることができる適切な高反応速度を与えるもの
である。
ブロミドイオン源としては、臭素元素、又は臭化アンモ
ニウム、臭化ナトリウム、臭化カルシウム、その他のア
ルカリ土壌ブロミド、アルカリ金属ブロミドのような臭
化塩を本発明の製造方法において使用することができ
る。
本発明におけるブロミドイオンの濃度は広範囲に変える
ことができる。ブロミドイオン濃度をN−ホスホノメチ
ルイミノ二酢酸の濃度と関係づけることは好ましい。ブ
ロミドイオン対N−ホスホノメチルイミノ二酢酸のモル
比が0.05対1又はそれ以下の場合にはほとんど効果
は見られない。ブロミドイオン対N−ホスホノメチルイ
ミノ二酢酸のモル比を約0.05対1〜0.4対1の間
で使用することが好ましく、約0.25対1から約0.
35対1の間で使用することが更に好ましい。ブロミド
イオン対N−ホスホノメチルイミノ二酢酸のモル比が、
約0.4対1よりも大きいとき、反応速度は低下する。
特に好ましいブロミドイオン対N−ホスホノメチルイミ
ノ二酢酸のモル比は、約0.25及び0.35対1であ
る。
反応温度は、約50℃から約150℃の範囲であれば、
酸化反応を開始、持続させるのに十分である。一般的に
は、反応温度が上がれば、反応速度は上がる。容易に反
応速度を制御でき、且つN−ホスホノメチルイミノ二酢
酸の形成反応の選択性に適合する好ましい温度範囲は、
約70℃から約120℃である。もし高い温度を使用す
る場合は、反応系を液体相に維持し及び沸騰を避けるた
め圧力を維持する必要がある。
本発明の製造方法を実施するためには、分子状酸素含有
ガスの存在下、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸を有効
量のマンガン及びコバルト触媒塩及び有効量のブロミド
イオンに合わせることが必要である。分子状酸素含有ガ
スの用語は、分子状酸素ガス又は分子状酸素と本反応条
件下で酸素、反応物質及び生成物と反応しないひとつ又
は複数の希釈物質との気体性混合物を意味するものとす
る。当該希釈ガスの例としては、空気、ヘリウム、アル
ゴン、窒素又は他の不活性ガス又は酸素炭化水素混合物
がある。好ましい分子状酸素源としては希釈していない
酸素ガスである。
酸素濃度、いいかえれば酸素分圧は反応速度、及びN−
ホスホノメチルグリシンの選択性に影響を与える。
酸素分圧が高まると、反応速度は一般に高く、N−ホス
ホノメチルグリシンの選択性は高くなる。酸素分圧を高
めるには、全体の反応圧力を高めるか、酸素含有ガス中
の酸素濃度を高めるかすることでできる。酸素分圧は、
好ましくは約2.06×10N/m2(30psig)から
2.06×10N/m2(3000psig)にわたって変
えることができる。更に好ましい範囲は、約3.1×1
N/m2(450psig)から1.38×10N/m2
(2000psig)である。
本開示の観点からみて、当業者にとって行ないうるよう
に、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸をコバルト及びマ
ンガン塩及びブロミドイオンの存在下、分子状酸素含有
ガスと合わせる方法は、非常に多く存在する。例えば、
N−ホスホノメチルイミノ二酢酸溶液は、分子状酸素含
有ガスとバブリング(bubbling),スターリング(stirrin
g)、シェイキング(shaking)のようなアジテーション(ag
itation)によって接触させることができる。本発明の製
造方法では活ぱつに分子状酸素含有ガスをコバルト又は
マンガン塩触媒及びブロミドイオンを含むN−ホスホノ
メチルイミノ二酢酸の水性溶液又は混合物と接触させる
ことが必要である。
反応の初期pHは、反応速度及びN−ホスホノメチルグリ
シンの選択性に影響する。例えば、マンガン存在下、初
期pHが高くなると反応速度は高くなるが、N−ホスホノ
メチルグリシンの選択性は低下する。反応の初期pHは、
pH約0.1から7の間で変えることができる。好ましい
pH範囲は、約0.1から約3である。最も好ましいpH範
囲は、水溶液中でのN−ホスホノメチルイミノ二酢酸の
未調整のpHであって、これはN−ホスホノメチルイミノ
二酢酸の濃度及び反応温度とで変化する。
酸化反応は、溶液又はスラリ状で行なうことができる。
溶液の場合、反応物質中でのN−ホスホノメチルイミノ
二酢酸の初期濃度は、溶媒(即ち水)中での所望の反応
温度及び溶液の初期pHでのN−ホスホノメチルイミノ二
酢酸の溶解度の関数となる。溶媒温度と初期pHが変化す
れば、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸の溶解度も変化
する。コバルト塩を触媒として使用する場合、N−ホス
ホノメチルイミノ二酢酸の初期濃度は、反応体中でのN
−ホスホノメチルグリシンの収率を最大にするような反
応条件における溶媒系を含む飽和化されたスラリーとな
る。しかしながら、マンガン塩が触媒として使用される
場合には、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸の初期濃度
は、溶液からのマンガンの沈殿及び反応停止を防止する
ため約6重量%未満とする必要がある。
反応は典型的には水性溶液即ち、少くとも50重量%の
水を含む溶液で行なう。好ましい水溶溶媒は、蒸留し、
脱イオンした水である。
本発明を下記の実施例により更に詳細に述べるがこれに
限定するものではない。すべて反応は、上部にかきまぜ
器を設置し、試料孔、ガス取入れ口、ガス排出口の3ケ
所の栓を有するエンジニアオートクレーブ300ml圧力
容器で行なう。かきまぜ器は、完全なかきまぜ及び完全
なガス−液体混合を達成するよう保持する。指示量の触
媒塩及びブロミドを指示量のN−ホスホノメチルイミノ
二酢酸を含む蒸留した脱イオンした水に溶解する。反応
器を密封し指示反応温度に加熱し、その後酸素ガスの吹
きつけにより指示圧力に加圧する。攪拌は、加熱に、先
立って開始する。
N−ホスホノメチルグリシンの%選択性は、N−ホスホ
ノメチルグリシンとN−ホルミル−N−ホスホノメチル
グリシンのモル数を消費されたN−ホスホノメチルイミ
ノ二酢酸の全モル数で割って100をかけることにより
計算する。
%変換は、消費されたN−ホスホノメチルイミノ二酢酸
を初期N−ホスホノメチルイミノ二酢酸の全モル数で割
って100をかけることによって計算する。
実施例1. 本実施例は、ブロミドイオンなしで酢酸マンガンを使用
してN−ホスホノメチルグリシンの製造を示す。N−ホ
スホノメチルイミノ二酢酸(9.08g,0.04モ
ル)と水100ccをオートクレーブエンジニア(Autocla
ve Engineers)製チタンオートクレーブに加える。そし
て、酢酸マンガン(1.088g,0.006モル)を
加え、内容物を窒素下80℃に加熱し、その後2時間、
約300cc/分流量の酸素ガス吹きつけにより、3.1
×10N/m2(450psig)の圧力とした。アリコッ
トとして15,30,60,90,120及び150分
をとった。2.5時間後、変換は95%より大きかった
が、選択性は、HPLC分析により決定されたとおり、
10%未満であった。
実施例2. 本実施例は、ブロミドイオンなしで、臭化マンガン触媒
を使用して得られた結果を示す。
実施例1と同じオートクレーブに、N−ホスホノメチル
イミノ二酢酸(13.62g,0.6モル)及び臭化マ
ンガン4水和物(1.29g,0.0045モル)を水
(120ml)とともに加え、実施例1.と同様の圧力下
80℃に加熱した。90分後、反応混合物をHPLC分
析し、分析の結果、変換は67.18%であり、選択性
は10.24%であった。
実施例3. 本実施例は、本発明の製造方法において、臭化マンガン
触媒とともに、元素状臭素を添加する効果を示す。
実施例1.のチタニウムオートクレーブにN−ホスホノ
メチルイミノ二酢酸(27.24g、0.12モル)を
加え、水(120ml)及び臭化マンガン4水和物(2.
577g,0.0089モル)及び元素状臭素(0.4
8g,0.03モル)を加えた。反応混合物は加熱さ
れ、4時間15分実施例1.と同様加圧した。反応媒体
は、HPLCによって分析した。その結果、変換は9
9.85%、選択性は、35.07%であった。
実施例4. 実施例3.におけると同様のオートクレーブ及び温度圧
力下、オートクレーブに、N−ホスホノメチルイミノ二
酢酸(13.62g,0.06モル)、水(120ml)
及び臭化マンガン4水和物(1.29g,0.0045
モル)及び臭化ナトリウム(2.4g,0.023モ
ル)を加えた。1時間後、反応混合物をHPLCによ
り、分析した。その結果は、N−ホスホノメチルイミノ
二酢酸の99.46%が、50.45%のN−ホスホノ
メチルグリシンに対する選択性で変換されていた。
実施例5.−18. 硫酸コバルト7水和物(1.34g,0.005モル)
を使用し、100gの水に酸素吹きつけを300cc/
分、1.24×10N/m2(1800psig)で行っ
た。
変数は、ブロミドの濃度、N−ホスホノメチルイミノ二
酢酸(NPID)及び温度をとった。その結果、95%
変換以上の結果を表Iに示す。
上記結果は、ブロミドイオンの存在によって、N−ホス
ホノメチルグリシンの選択性が高まること、及び反応中
のリン酸塩副産物が低下することを示している。
実施例19. 本実施例は、違った反応条件を使用した本発明の製造方
法を示す。
実施例1.のオートクレーブに、N−ホスホノメチルイ
ミノ二酢酸(10.87g、0.048モル)、水(1
25ml)、臭化コバルト6水和物(1.6g、0.00
5モル)及び臭化ナトリウム(0.5g、0.005モ
ル)を加えた。混合物を87.5℃に加熱し、3.5時
間の酸素吹きつけにより12.4×10N/m2(18
00psi)に加圧した。室温への冷却後、混合物をHP
LCで分析した。結果は、96%のN−ホスホノメチル
イミノ二酢酸が、90.8%のN−ホスホノメチルグリ
シンに対する選択性で変換された。
本発明をかなり詳細に、限定された開示を行なったが、
これは開示のためであって、これに変わる実施例、操作
方法は、本発明の開示によって、当業者にとって明白と
なるであろう。従って、本発明の精神から逸脱しないか
ぎり変形、修正をなしうるのである。

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】マンガン又はコバルトの塩、塩の錯体、か
    ら成る群から選ばれる有効量の触媒及び有効量のブロミ
    ドイオンの存在下、N−ホスホノメチルイミノ二酢酸を
    分子状酸素含有ガスと接触させることを特徴とするN−
    ホスホノメチルグリシンの製造方法。
  2. 【請求項2】上記触媒濃度が、1モルから0.0001
    モルの全金属イオン濃度の間である特許請求の範囲第1
    項記載の製造方法。
  3. 【請求項3】上記N−ホスホノメチルイミノ二酢酸に対
    する上記ブロミドイオンのモル比が0.05以上である
    特許請求の範囲第1項記載の製造方法。
  4. 【請求項4】上記触媒の濃度が約0.1モルと約0.0
    01モルとの間であり、N−ホスホノメチルイミノ二酢
    酸に対するブロミドイオンの上記モル比が約0.05と
    0.4の間にある特許請求の範囲第1項記載の製造方
    法。
  5. 【請求項5】上記触媒がマンガン塩である特許請求の範
    囲第1項記載の製造方法。
  6. 【請求項6】上記触媒がコバルト塩である特許請求の範
    囲第1項記載の製造方法。
JP1246628A 1988-09-26 1989-09-25 N―ホスホノメチルグリシンの製造方法 Expired - Lifetime JPH068305B2 (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US07/248,663 US4898972A (en) 1988-09-26 1988-09-26 Process for producing N-phosphonomethylglycine
US248663 1988-09-26

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH02134390A JPH02134390A (ja) 1990-05-23
JPH068305B2 true JPH068305B2 (ja) 1994-02-02

Family

ID=22940116

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP1246628A Expired - Lifetime JPH068305B2 (ja) 1988-09-26 1989-09-25 N―ホスホノメチルグリシンの製造方法

Country Status (12)

Country Link
US (1) US4898972A (ja)
EP (1) EP0362180A3 (ja)
JP (1) JPH068305B2 (ja)
KR (1) KR920009559B1 (ja)
CN (1) CN1022631C (ja)
AU (1) AU611325B2 (ja)
BR (1) BR8904840A (ja)
ES (1) ES2016229A4 (ja)
HU (1) HUT52514A (ja)
IL (1) IL91772A (ja)
MY (1) MY104224A (ja)
ZA (1) ZA897289B (ja)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5047579A (en) * 1990-01-26 1991-09-10 Monsanto Company Process for producing n-phosphonomethylglycine
US5077430A (en) * 1990-06-25 1991-12-31 Monsanto Company Peroxide process for producing N-phosphonomethylglycine
US5043475A (en) * 1990-06-25 1991-08-27 Monsanto Company Peroxide process for producing N-phosphonomethylglycine
US6365772B1 (en) 1995-05-30 2002-04-02 Hampshire Chemical Corp. Facile synthesis of phosphonomethylglycine from phosphonomethyliminodiacetic acid
BR9907000A (pt) * 1998-09-08 2000-09-26 Hampshire Chemical Corp Sìntese de ácido fosfonometiliminodiacético com efluente reduzido
CN100372857C (zh) * 2004-05-12 2008-03-05 江苏好收成韦恩农药化工有限公司 N-膦酰基甲基甘氨酸的生产方法
WO2006096617A2 (en) * 2005-03-04 2006-09-14 Monsanto Technology Llc Mitigating necrosis in transgenic glyphosate-tolerant cotton plants treated with herbicidal glyphosate formulations
CN101058586B (zh) * 2007-04-06 2013-04-24 杭州天创环境科技股份有限公司 利用膜技术浓缩分离高含盐草甘膦母液中草甘膦的方法
CN101337978B (zh) * 2008-05-13 2011-06-29 浙江新安化工集团股份有限公司 一种利用富氧气体催化氧化双甘膦制取草甘膦的方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3950402A (en) * 1972-05-31 1976-04-13 Monsanto Company Process for producing N-phosphonomethyl glycine
US3954848A (en) * 1972-05-31 1976-05-04 Monsanto Company Process for producing N-phosphonomethyl glycine
US3969398A (en) * 1974-05-01 1976-07-13 Monsanto Company Process for producing N-phosphonomethyl glycine
US4853159A (en) * 1987-10-26 1989-08-01 Monsanto Company Process for producing N-phosphonomethylglycine

Also Published As

Publication number Publication date
AU4166289A (en) 1990-03-29
CN1041365A (zh) 1990-04-18
IL91772A (en) 1994-01-25
HUT52514A (en) 1990-07-28
US4898972A (en) 1990-02-06
KR900004751A (ko) 1990-04-12
KR920009559B1 (ko) 1992-10-19
MY104224A (en) 1994-02-28
JPH02134390A (ja) 1990-05-23
AU611325B2 (en) 1991-06-06
BR8904840A (pt) 1990-05-01
EP0362180A2 (en) 1990-04-04
ES2016229A4 (es) 1990-11-01
EP0362180A3 (en) 1991-03-20
IL91772A0 (en) 1990-06-10
ZA897289B (en) 1990-11-28
CN1022631C (zh) 1993-11-03

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4853159A (en) Process for producing N-phosphonomethylglycine
JPH0244596B2 (ja)
CA1215386A (en) Process for the preparation of carboxylic acids starting from olefins or vicinal dihydroxy compounds
JPH0798829B2 (ja) タングステン触媒を用いたn−ホスホノメチルグリシンの製造方法
EP0543619B1 (en) Catalytic production of aryl alkyl hydroperoxides by manganese complexes
JPH068305B2 (ja) N―ホスホノメチルグリシンの製造方法
JPH04224593A (ja) N−ホスホノメチルグリシンを製造するための過酸化物法
EP0412074B1 (en) Process for producing N-Phosphonomethylglycine
EP0399985B1 (en) Process for producing N-phosphonomethylglycine
JPH04210992A (ja) N−ホスホノメチルグリシンの製造方法
GB2131784A (en) Preparation of hydrogen peroxide
EP0490862A1 (en) Process for producing n-phosphonomethylglycine
JP3526345B2 (ja) アリールアルキルヒドロペルオキシド類の製造方法
EP0483098A1 (en) Processs for producing N-phosphonomethylglycine
HU187347B (en) Process for preparing n-phosphonomethyl-glycine by means of the catalytic oxidation of n-phosphonomethyl-imino-diacetic acid