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JPH0682801A - 欠陥検査修正装置 - Google Patents

欠陥検査修正装置

Info

Publication number
JPH0682801A
JPH0682801A JP23185392A JP23185392A JPH0682801A JP H0682801 A JPH0682801 A JP H0682801A JP 23185392 A JP23185392 A JP 23185392A JP 23185392 A JP23185392 A JP 23185392A JP H0682801 A JPH0682801 A JP H0682801A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
inspection
defect
inspected
laser light
laser
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP23185392A
Other languages
English (en)
Inventor
Akihiro Yamanaka
昭浩 山中
Hiroyuki Hakamata
博之 袴田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NTN Corp
Original Assignee
NTN Corp
NTN Toyo Bearing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NTN Corp, NTN Toyo Bearing Co Ltd filed Critical NTN Corp
Priority to JP23185392A priority Critical patent/JPH0682801A/ja
Publication of JPH0682801A publication Critical patent/JPH0682801A/ja
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 この発明はパターン引出し線部を含むパター
ン全領域の検査が可能でかつ高い欠陥位置検出精度を持
ち、さらに欠陥修正機能をも一体化した欠陥検査修正装
置を提供することを主要な特徴とする。 【構成】 XYテーブル3により被検査対象物を検査位
置へ移動し、プローバ9によるなぞり方式でライン間検
査を行い、その後オートフォーカス&検査用半導体レー
ザ10からレーザ光を出射し、レーザ光によるライン内
検査を行なう。さらに、画像処理により高精度の欠陥位
置検査を行い、リペア用YAGレーザ7からレーザ光を
出射して欠陥を修正する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は欠陥検査修正装置に関
し、特に、液晶パネル用ガラス基板上に生成されたIT
O(STN単純マトリックスパターン)の欠陥を検査し
て修正するような欠陥検査修正装置に関する。
【0002】
【従来の技術および発明が解決しようとする課題】最近
では、各種電子機器に液晶表示パネルが多く用いられつ
つある。しかも、液晶パネルに表示される情報量が多く
なってきており、表示密度の高い液晶表示パネルが要求
されている。表示密度を高めるためには、液晶表示器の
配線パターンを細くし、しかも、隣接するパターンとの
間隔を狭くする必要がある。ところが、パターンの密度
を高めると、パターンのエッチング工程でエッチングが
不十分なために隣接するパターン同士が電気的に接続さ
れてしまうことがある。このような欠陥の、特に単純マ
トリックスパターンの欠陥位置を検出するために欠陥検
査装置が用いられている。
【0003】図5は液晶表示器の配線パターンの一例を
示す図である。図5において、配線パターンはガラス基
板21上にパターン直線部22とパターン引出し線部2
3とが形成されており、このような配線パターンを検査
するとき、隣接するパターン同士が電気的に接続されて
いるか否かを検査するライン間検査と、電気的に接続さ
れてしまっているパターン同士のどの位置で接続(ショ
ート)が起きているか否かかを検査するライン間検査が
行なわれる。ライン間検査はプローバ方式によるなぞり
検査が用いられ、ライン内検査ではプローバ方式による
抵抗測定法が用いられる。しかし、図5に示すように、
エッチング不足によりライン間同士が接続されているよ
うな欠陥を発見した場合、従来の欠陥検査装置ではこれ
を修正(リペア)する機能が設けられておらず、しかも
ライン内の欠陥位置検査における欠陥位置検出精度が悪
いという欠点があった。さらに、パターン引出し線部2
3の検査を行なうことができないという欠点もあった。
【0004】それゆえに、この発明の主たる目的は、欠
陥位置を精度よく発見できかつその欠陥を自動的に修正
でき、さらにパターン引出し線部の検査もできるような
欠陥検査修正装置を提供することである。
【0005】
【課題を解決するための手段】この発明は被検査対象物
の欠陥を検査して修正する欠陥検査修正装置であって、
被検査対象物をなぞることによって欠陥を検査するなぞ
り検査手段と、被検査対象物にレーザ光を照射し、その
反射光によって欠陥を検査するレーザ光検出手段と、被
検査対象物の画像を撮像し、その撮像出力を画像処理検
査(欠陥をリペアするために、リペア用YAGレーザの
照射位置へ欠陥をセンタリングする動き)する画像処理
手段と、欠陥が検査されたことに応じて、その欠陥位置
にレーザ光を照射して修正する欠陥修正手段と、被検査
対象物を検査位置へ搬送するための搬送手段を備えて構
成される。
【0006】より好ましくは、レーザ光検出手段は、被
検査対象物の検査位置に自動的に合焦させるオートフォ
ーカス手段を含む.さらに、より好ましくは、被検査対
象物をXY平面に移動可能なテーブルと、被検査対象物
をテーブル上に位置決め固定するチャックテーブルと、
XY方向に対して固定され、Z方向に移動可能なZ軸テ
ーブルとを備え、欠陥修正手段は、Z軸テーブルに取付
けられ、レーザ光を欠陥位置に照射するためのレーザ光
源を含み、画像処理手段は、被検査対象物の映像を捕え
るための顕微鏡光学系と、顕微鏡光学系で捕えられた映
像を撮像するCCDカメラとを含む.
【0007】
【作用】この発明に係る欠陥検査修正装置は、被検査対
象物をなぞることによって欠陥を検査するとともに、レ
ーザ光を照射し、その反射光によって欠陥を検査し、被
検査対象物の画像を撮像することによってさらに精度よ
く欠陥位置を検査できるばかりでなく、検査された欠陥
位置にレーザ光を照射して欠陥箇所を容易に修正でき、
パターン引出し線部であってもその欠陥を容易に検査で
きる。
【0008】
【実施例】図1はこの発明の一実施例の構造を示す図で
ある。図1を参照して、架台1は本体を支えるととも
に、制御用基板などを収納する。架台1上にはベース2
が設けられていて、このベース2はXYテーブル3を固
定する台となる。XYテーブル3は検査対象物をXY方
向に移動させる。Z軸テーブル4はXY方向が固定さ
れ、Z軸方向に移動可能に構成され、オートフォーカス
&検査用半導体レーザおよび受光部が取付けられてお
り、Z軸方向に移動することによって、レーザ検査時
に、画像処理検査時のフォーカシングや、欠陥箇所を修
正する際のレーザ光の焦点位置調整およびプローバ検査
時のプローバ針圧調整を行なう。検査ステージ5はXY
テーブル3上に取付けられており、被検査対象物の取付
位置調整およびチャッキングを行なう。
【0009】さらに、Z軸テーブル4には顕微鏡光学系
6が設けられ、顕微鏡光学系6は落射照明,透過照明,
スリット照明,オートスリット機構,オートレーザパワ
ー調整機構および電動リボルバー機構を備えていて、被
検査対象物の像をCCDカメラ8に写出すとともに、欠
陥修正用YAGレーザ光を被検査対象物の面上に集光
し、オートフォーカス&検査用レーザ光を被検査対象物
上に集光し、さらにオートフォーカス&検査用受光部1
1に集光する働きをする。さらに、Z軸テーブル4には
リペア用YAGレーザが取付けられていて、欠陥修正用
YAGレーザ光を被検査対象物に出射する。CCDカメ
ラ8は顕微鏡光学系6により結像された画像を取込み、
モニタ画面(図示せず)上に写出すとともに、画像を画
像処理ボード(図示せず)に取込む。
【0010】プローバ9は6つの位置微調整機構と検査
用針とを含み、プローバ方式なぞり検査およびリペア後
の確認検査をする。また、6つの位置微調整機構は、そ
れぞれ上下移動が可能なようにエアシリンダ上に取付け
られている。オートフォーカス&検査用半導体レーザ1
0はオートフォーカス&検査用レーザ光を出射する。オ
ートフォーカス&検査用受光部11はオートフォーカス
用信号および検査用信号を検出する。
【0011】ローダ・アンローダ用ハンド12はガラス
搬送装置から被検査対象物を取出し、検査リペア装置へ
運ぶ。ガラス落込み機構13は、ガラスカセット15か
ら検査リペア装置および検査リペア装置からガラスカセ
ット15へ被検査対象物を移動させる際に、その中間で
被検査対象物の位置調整を行なう。カセット移動テーブ
ル14は被検査対象物の収納されたガラスカセットを検
査リペアの終ったものから順次移動させる。ガラスカセ
ット15は被検査対象物を収納する。
【0012】図2はこの発明の一実施例の動作を説明す
るためのフロー図であり、図3は図2に示した直線ライ
ン欠陥位置検査の詳細なフロー図であり、図4は図2に
示した引出し線部欠陥位置検査の詳細なフロー図であ
る。
【0013】次に、図1ないし図4を参照して、この発
明の一実施例の動作について説明する。
【0014】被検査対象物がガラスカセットに収納さ
れ、カセット移動テーブル14上に載置される。そし
て、被検査対象物はローダ・アンローダ用ハンド12に
よりガラスカセット15から取出され、180゜回転さ
れた後、ガラス落込み機構13によって位置調整され
る。位置調整された被検査対象物は検査ステージ5上に
置かれ、検査ステージ5上で再度位置調整され、真空チ
ャッキングで固定される。固定された被検査対象物はX
Yテーブル3によってプローバ9によるなぞり方式検査
開始位置へ移動され、検査に使用するプローバ9が選択
され、エアシリンダにより降下する。さらにZ軸テーブ
ル4によりプローバ9が降下し、被検査対象物上に接触
する。このとき、同時にオートフォーカス&検査用レー
ザからレーザ光が出射され、オートフォーカスがかけら
れる。そして、XYテーブル3により被検査対象物が移
動しながらライン間検査が行なわれる。
【0015】ライン間検査終了後、ライン間検査結果に
基づき、ライン内検査(検査用レーザ光による検査およ
び画像処理による検査)に移行する。まず、被検査対象
物がXYテーブル3によりライン内検査開始位置へ移動
する。オートフォーカス&検査用半導体レーザ10から
レーザ光が出射され、オートフォーカスとレーザ検査が
開始される。被検査対象物はXYテーブル3によりライ
ン内検査終了位置まで移動する。検査用レーザ光による
検査がこれで終了し、次に画像処理による検査が開始さ
れる。
【0016】オートフォーカス&検査用半導体レーザ1
0からのレーザ光による検査結果に基づいて、被検査対
象物がXYテーブル3により概略欠陥位置へ移動する。
CCDカメラ8によって画像処理ボードに取込まれた画
像データから欠陥の高精度位置件検出が行なわれる。位
置検出後、XYテーブル3によって欠陥位置がリペアリ
ング位置に移動し、リペア用YAGレーザ7からレーザ
光が出射され、その欠陥が修正される。欠陥修正後、正
常に欠陥が修正されたか否かを確認するため、XYテー
ブル3によって被検査対象物がプローバ検査位置に移動
し、プローバ9が選択され、エアシリンダおよびZ軸テ
ーブル4により降下し、プローバ9が被検査対象物に接
触することにより、絶縁抵抗検査が行なわれる。通常、
絶縁抵抗検査は、ラインの直線部分の欠陥検出箇所の欠
陥すべてをリペアリング後行なわれる。この説明はライ
ン直線部に欠陥が1ヶ所とした場合の説明である。この
検査の結果、欠陥が正常に修正されていることが確認さ
れ、他のライン間にも欠陥がない場合には、XYテーブ
ル3によって被検査対象物が排出位置まで移動され、被
検査対象物の挿入と逆の手順に従って、元のカセット位
置へ戻される。
【0017】上述の欠陥修正後の確認検査(絶縁抵抗検
査)において、さらに絶縁抵抗不良と判断された場合
は、図5に示したパターン引出し線部23に欠陥箇所が
存在するものとして、次にパターン引出し線部23の検
査に移行する。
【0018】パターン引出し線部23の検査は、左右
(または上下)の両側について行なわれる。まず、被検
査対象物はXYテーブル3によって左(または上)側の
引出し線検査位置に移動される。ここで画像処理により
引出し線の傾き測定が行なわれ、オートフォーカス&検
査用レーザ10からレーザ光が出射され、オートフォー
カスとレーザ検査が開始される。
【0019】被検査対象物の傾き測定結果に基づいて、
XYテーブル3により被検査対象物が引出し線の終端ま
で移動する。その結果、レーザ検査で欠陥が検出された
場合は、前述のごとく、画像処理検査およびリペアリン
グが行なわれ、その後確認検査(絶縁抵抗検査)が行な
われる。その結果、絶縁抵抗不良がなければ、前述のよ
うに元のカセット位置に被検査対象物が排出される。欠
陥が検出されなかった場合、または確認検査(絶縁抵抗
検査)で絶縁抵抗不良と判断された場合は、もう一方の
パターン引出し線部23の検査に移る。ここで、前述の
パターン引出し線部23と同様の検査が行なわれ、最終
的に欠陥箇所の修正が正常に行なわれたと判断された場
合は、元のカセット位置に搬出される。しかし、この段
階まで来てもまだ絶縁抵抗不良と判断された場合は、こ
の被検査対象物は欠陥検査修正不可能として、その場合
元のカセット位置に排出される。ただし、被検査対象物
を排出する際には、その被検査対象物が正常に検査リペ
アが行なわれたものであるか否かの結果のデータを被検
査対象物それぞれについてファイルし保存される。
【0020】
【発明の効果】以上のように、この発明によれば、被検
査対象物をなぞることによって欠陥を検査するととも
に、レーザ光を被検査対象物に照射し、その反射光によ
って欠陥を検査し、さらに画像処理により、高精度の欠
陥位置検査を行ない、レーザ光を照射してその欠陥箇所
を修正するようにしたので、たとえば液晶用ガラス基板
上に生成された配線パターンの欠陥検査を高速かつ高精
度に行なうことが可能となる。また、従来検査不可能で
あった引出し線部の検査も可能となる。その結果、従来
不可能であった液晶単純マトリックスITOパターンの
引出し線部も含めた欠陥検査リペアがすべて自動的にし
かも短時間に行なうことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施例の構成を示す図である。
【図2】この発明の一実施例の具体的な動作を説明する
ためのフロー図である。
【図3】図2に示した直線ライン欠陥位置検査の具体的
なフロー図である。
【図4】図2に示した引出し線部欠陥位置検査の具体的
なフロー図である。
【図5】この発明の背景となりかつこの発明が適用され
たITOパターンの一例を示す図である。
【符号の説明】
1 架台 2 ベース 3 XYテーブル 4 Z軸テーブル 5 検査ステージ 6 顕微鏡光学系 7 リペア用YAGレーザ 8 CCDカメラ 9 プローバ 10 オートフォーカス&検査用半導体レーザ 11 オートフォーカス&検査用受光部 12 ローダ・アンローダハンド 13 ガラス落込み機構 14 カセット移動テーブル 15 ガラスカセット 21 ガラス基板 22 パターン直線部 23 パターン引き出し線部
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成5年4月7日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0003
【補正方法】変更
【補正内容】
【0003】図5は液晶表示器の配線パターンの一例を
示す図である。図5において、配線パターンはガラス基
板21上にパターン直線部22とパターン引出し線部2
3とが形成されており、このような配線パターンを検査
するときで、隣接するパターン同士が電気的に接続され
ているか否かを検査するライン間検査と、電気的に接続
されてしまっているパターン同士のどの位置で接続(シ
ョート)が起きているか否かを検査するライン検査が
行なわれる。ライン間検査はプローバ方式によるなぞり
検査が用いられ、ライン内検査ではプローバ方式による
抵抗測定法が用いられる。しかし、図5に示すように、
エッチング不足によりライン間同士が接続されているよ
うな欠陥を発見した場合、従来の欠陥検査装置ではこれ
を修正(リペア)する機能が設けられておらず、しかも
ライン内の欠陥位置検査における欠陥位置検出精度が悪
いという欠点があった。さらに、パターン引出し線部2
3の検査を行なうことができないという欠点もあった。
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0008
【補正方法】変更
【補正内容】
【0008】
【実施例】図1はこの発明の一実施例の構造を示す図で
ある。図1を参照して、架台1は本体を支えるととも
に、制御用基板などを収納する。架台1上にはベース2
が設けられていて、このベース2はXYテーブル3を固
定する台となる。XYテーブル3は検査対象物をXY方
向に移動させる。Z軸テーブル4はXY方向が固定さ
れ、Z軸方向に移動可能に構成され、オートフォーカス
&検査用半導体レーザおよび受光部が取付けられてお
り、Z軸方向に移動することによって、レーザ検査時、
画像処理検査時のフォーカシングや、欠陥箇所を修正す
る際のレーザ光の焦点位置調整およびプローバ検査時の
プローバ針圧調整を行なう。検査ステージ5はXYテー
ブル3上に取付けられており、被検査対象物の取付位置
調整およびチャッキングを行なう。
【手続補正3】
【補正対象書類名】図面
【補正対象項目名】図1
【補正方法】変更
【補正内容】
【図1】
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 G02F 1/13 101 9315−2K H04N 7/18 B // H01L 21/66 J 7377−4M 21/3205

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被検査対象物の欠陥を検査して修正する
    欠陥検査修正装置であって、 前記被検査対象物をなぞることによって欠陥を検査する
    なぞり検査手段、 前記被検査対象物にレーザ光を照射し、その反射光によ
    って欠陥を検査するレーザ光検出手段、 前記被検査対象物の画像を撮像し、その撮像出力を画像
    処理する画像処理手段と、 前記レーザ光検査手段によって欠陥が検査されたことに
    応じて、その欠陥位置にレーザ光を照射して修正する欠
    陥修正手段、および前記被検査対象物を検査位置へ搬送
    するための搬送手段を備えた、欠陥検査修正装置。
  2. 【請求項2】 前記レーザ光検出手段は、前記被検査対
    象物の検査位置に自動的に合焦させるオートフォーカス
    手段を兼ねる、請求項1の欠陥検査修正装置。
  3. 【請求項3】 さらに、前記被検査対象物をXY平面に
    移動可能なテーブルと、 前記被検査対象物を前記テーブル上に位置決め固定する
    チャックテーブルと、 XY方向に対して固定され、Z方向に移動可能なZ軸テ
    ーブルとを備え、 前記欠陥修正手段は、前記Z軸テーブルに取付けられ、
    前記レーザ光を欠陥位置に照射するためのレーザ光源を
    含み、 前記画像処理手段は、 前記被検査対象物の映像を捕えるための顕微鏡光学系
    と、 前記顕微鏡光学系で捕えられた映像を撮像するCCDカ
    メラとを含む、請求項1の欠陥検査修正装置。
JP23185392A 1992-08-31 1992-08-31 欠陥検査修正装置 Withdrawn JPH0682801A (ja)

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JPH0682801A true JPH0682801A (ja) 1994-03-25

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ID=16930045

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