JPH0668581B2 - レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 - Google Patents
レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置Info
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- JPH0668581B2 JPH0668581B2 JP60224065A JP22406585A JPH0668581B2 JP H0668581 B2 JPH0668581 B2 JP H0668581B2 JP 60224065 A JP60224065 A JP 60224065A JP 22406585 A JP22406585 A JP 22406585A JP H0668581 B2 JPH0668581 B2 JP H0668581B2
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- focus position
- laser
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- position adjusting
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- H—ELECTRICITY
- H04—ELECTRIC COMMUNICATION TECHNIQUE
- H04N—PICTORIAL COMMUNICATION, e.g. TELEVISION
- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/024—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original
- H04N1/028—Details of scanning heads ; Means for illuminating the original for picture information pick-up
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- H04N1/00—Scanning, transmission or reproduction of documents or the like, e.g. facsimile transmission; Details thereof
- H04N1/04—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa
- H04N1/113—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors
- H04N1/1135—Scanning arrangements, i.e. arrangements for the displacement of active reading or reproducing elements relative to the original or reproducing medium, or vice versa using oscillating or rotating mirrors for the main-scan only
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- Signal Processing (AREA)
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- Mechanical Optical Scanning Systems (AREA)
- Automatic Focus Adjustment (AREA)
- Dot-Matrix Printers And Others (AREA)
- Laser Beam Printer (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、レーザビームを偏向装置で偏向した後、Ｆ−
Θレンズを介して被描画面上に焦点を結ばせたレーザビ
ームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画面上に描画するレー
ザ描画装置において、被描画材の厚みが変化したために
ずれたレーザビームの焦点位置を調整するレーザ描画装
置における焦点位置調整装置の改良に関する。
Θレンズを介して被描画面上に焦点を結ばせたレーザビ
ームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画面上に描画するレー
ザ描画装置において、被描画材の厚みが変化したために
ずれたレーザビームの焦点位置を調整するレーザ描画装
置における焦点位置調整装置の改良に関する。
従来のレーザ描画装置における焦点位置調整方法を第５
図を参照して説明図する。
図を参照して説明図する。
図示しないレーザ発振源から発振したレーザビーム１は
偏向手段であるガルバノミラー２で直角方向に偏向（走
査）された後、Ｆ−Θレンズ３で被描画材６の平面上の
点４（走査方向を考慮すると線）上に焦点合せされる。
偏向手段であるガルバノミラー２で直角方向に偏向（走
査）された後、Ｆ−Θレンズ３で被描画材６の平面上の
点４（走査方向を考慮すると線）上に焦点合せされる。
なお、このレーザビーム１はミラー５で曲げられた後、
前記被描画材６の上に到達する。
前記被描画材６の上に到達する。
一方、被描画材６は、ベース７上を走行するステージ８
上に固定され、図示されない通常の駆動機構により矢印
Ａの方向に走行する。
上に固定され、図示されない通常の駆動機構により矢印
Ａの方向に走行する。
これにより、レーザビーム１は相対的に被描画材６の上
面を順次走査（ラスタースキャン）し、これにレーザビ
ーム１の画像形成信号に応じたＯＮ−ＯＦＦが加わるこ
とにより被描画材６上に図形を描くことができる。
面を順次走査（ラスタースキャン）し、これにレーザビ
ーム１の画像形成信号に応じたＯＮ−ＯＦＦが加わるこ
とにより被描画材６上に図形を描くことができる。
このようなレーザ描画装置において、被描画材６の厚さ
ｔが変化して焦点位置が変化するような場合には、ホル
ダ９を回転してねじ１０により台１１に対して相対的に
Ｆ−Θレンズ３の位置を変えることにより焦点４の位置
をずらし、厚さ（高さ）の変った被描画材６の上面に焦
点が合うように調整していた。
ｔが変化して焦点位置が変化するような場合には、ホル
ダ９を回転してねじ１０により台１１に対して相対的に
Ｆ−Θレンズ３の位置を変えることにより焦点４の位置
をずらし、厚さ（高さ）の変った被描画材６の上面に焦
点が合うように調整していた。
この調整方法によると、ガルバノミラー２とＦ−Θレン
ズ３との距離が変わるため、被描画材６上でのレーザビ
ーム１の振り幅が変わり、、これを所定の振り幅にする
ためにはガルバノミラー２の振り速度を微妙に変更する
など作業が極めて面倒であった。
ズ３との距離が変わるため、被描画材６上でのレーザビ
ーム１の振り幅が変わり、、これを所定の振り幅にする
ためにはガルバノミラー２の振り速度を微妙に変更する
など作業が極めて面倒であった。
本発明は、上記事情に基づきなされたもので、その目的
とするところは、被描画材の厚さが変った場合の焦点修
正およびこれに関連した修正を容易に行ない得るレーザ
描画装置の焦点位置調整装置を提供しようとするもので
ある。
とするところは、被描画材の厚さが変った場合の焦点修
正およびこれに関連した修正を容易に行ない得るレーザ
描画装置の焦点位置調整装置を提供しようとするもので
ある。
本発明は上記目的を達成すべく、レーザビームを偏向装
置で偏向した後、Ｆ−Θレンズを介して被描画面上に焦
点を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被描
画面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−Θレン
ズを通過した後のビームを、その走査平面とほぼ直交す
る方向にミラーによって屈折するとともに入力された被
描画材の厚さに対応して前記走査平面における光軸方向
へ前記ミラーの位置を変えることによって焦点位置を調
整すると共に、ミラーの移動量に比例した量だけ被描画
材を搭載したステージの位置をずらせた状態で描画デー
タを供給するようにしたものである。
置で偏向した後、Ｆ−Θレンズを介して被描画面上に焦
点を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被描
画面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−Θレン
ズを通過した後のビームを、その走査平面とほぼ直交す
る方向にミラーによって屈折するとともに入力された被
描画材の厚さに対応して前記走査平面における光軸方向
へ前記ミラーの位置を変えることによって焦点位置を調
整すると共に、ミラーの移動量に比例した量だけ被描画
材を搭載したステージの位置をずらせた状態で描画デー
タを供給するようにしたものである。
以下、本発明の一実施例を第１図ないし第４図を参照し
て説明する。
て説明する。
なお、上述の従来例と同一部分は同一の符号を付して詳
細な説明を省略する。
細な説明を省略する。
第１図は本発明の方法を示し、厚さｔの被描画材６を厚
さｔ′の被描画材６′とした場合、焦点位置はｔ′−ｔ
（＝ｂ）だけずらす必要が生じる。
さｔ′の被描画材６′とした場合、焦点位置はｔ′−ｔ
（＝ｂ）だけずらす必要が生じる。
そこで、ミラー５の位置を５′の位置までずらし光軸上
でｂだけ伸ばしてやればＦ−Θレンズ３から被描画材
６′の面までの実質寸法を厚さ変更前と同一にでき焦点
修正がされる。もちろん、このとき光路長は変化しない
ため、被描画材６′上でのレーザビーム１の振り幅は変
らない。
でｂだけ伸ばしてやればＦ−Θレンズ３から被描画材
６′の面までの実質寸法を厚さ変更前と同一にでき焦点
修正がされる。もちろん、このとき光路長は変化しない
ため、被描画材６′上でのレーザビーム１の振り幅は変
らない。
この修正に伴ってステージ８の端面よりＣ寸法でステー
ジ８上に固定されていた被描画材６′の端面から、さら
に、ａだけ内側の位置に描画されていた図形は、被描画
材６′の厚さが変っても被描画材６′をステージ８上で
同じ位置に固定した場合には、被描画材６′の端面から
ａ＋ｂの位置に描かれることになる。一般にこれは不都
合なので、第２図に示すように被描画材６′の固定位置
を前記ｃからｃ＋ｂに変えるか、または固定位置を変え
ずにステージ８の位置に対して描画データを送り出す時
期を変えてやり、厚さｔの時に比べｂだけステージ８の
位置がずれた所にしてやれば、被描画材６′の端面から
ａの位置に同一図形が描ける。
ジ８上に固定されていた被描画材６′の端面から、さら
に、ａだけ内側の位置に描画されていた図形は、被描画
材６′の厚さが変っても被描画材６′をステージ８上で
同じ位置に固定した場合には、被描画材６′の端面から
ａ＋ｂの位置に描かれることになる。一般にこれは不都
合なので、第２図に示すように被描画材６′の固定位置
を前記ｃからｃ＋ｂに変えるか、または固定位置を変え
ずにステージ８の位置に対して描画データを送り出す時
期を変えてやり、厚さｔの時に比べｂだけステージ８の
位置がずれた所にしてやれば、被描画材６′の端面から
ａの位置に同一図形が描ける。
一般にこの種装置では、ステージ８の位置は正確に制御
しているので、この変更は何の困難もなく実施でき、偏
向幅の変化も生じない。
しているので、この変更は何の困難もなく実施でき、偏
向幅の変化も生じない。
第１図のミラー５の移動量は、描画すべき被描画材（Ｐ
Ｃ板）６′が決まれば厚さも決まるので、その時点で描
画するために必要な他のデータとともに図示しない制御
盤から、その被描画材６′の厚さを入力することにより
設定することができる。
Ｃ板）６′が決まれば厚さも決まるので、その時点で描
画するために必要な他のデータとともに図示しない制御
盤から、その被描画材６′の厚さを入力することにより
設定することができる。
また、第２図は描画前に被描画材６′の厚さを測定する
ための装置で、ステージ８がレーザビーム１７の下の描
画点に達する前に固定アーム１３に支えられたリニアス
ケール（たとえばマグネスケール型測長器）などの測長
器１４の接触子１５を被描画材６′の表面に接触させて
被描画材６′の厚さｔ′を測定し、その値によってミラ
ー５′の位置を調整することもできる。
ための装置で、ステージ８がレーザビーム１７の下の描
画点に達する前に固定アーム１３に支えられたリニアス
ケール（たとえばマグネスケール型測長器）などの測長
器１４の接触子１５を被描画材６′の表面に接触させて
被描画材６′の厚さｔ′を測定し、その値によってミラ
ー５′の位置を調整することもできる。
第３図および第４図はミラー５の位置調整装置の例で、
ミラー５を取付けたベース１６は脚１７を介して取付け
られた摺動子１８によって、定盤１９上をスライドでき
る。
ミラー５を取付けたベース１６は脚１７を介して取付け
られた摺動子１８によって、定盤１９上をスライドでき
る。
前記ベース１６上には固定バー２０が焦点位置調整方向
２１に対しΘだけ傾けて取付けてあり、その一端は前記
定盤１９上に固定された２つのローラ２２，２２によっ
て挟持され、また他端もローラ２３，２３により挟持さ
れている。台２４はその一部である凸部２５にパルスモ
ータ２６が固定されており、また、前記ローラ２３，２
３の回転中心軸およびベアリング２７の外輪も固定した
状態で定盤１９に固定している。
２１に対しΘだけ傾けて取付けてあり、その一端は前記
定盤１９上に固定された２つのローラ２２，２２によっ
て挟持され、また他端もローラ２３，２３により挟持さ
れている。台２４はその一部である凸部２５にパルスモ
ータ２６が固定されており、また、前記ローラ２３，２
３の回転中心軸およびベアリング２７の外輪も固定した
状態で定盤１９に固定している。
固定バー２０には、ボールナット２８が固定され、これ
にねじ込まれたボールねじ２９は前記ベアリング２７に
支えられるとともにカップリング３０を介してパルスモ
ータ２６に結合されている。
にねじ込まれたボールねじ２９は前記ベアリング２７に
支えられるとともにカップリング３０を介してパルスモ
ータ２６に結合されている。
ここでパルスモータ２６を回転するとボールねじ２９に
よって固定バー２０の方向にベース１６，ミラー５等が
ｌだけ移動したとするとミラー５は焦点位置調整方向２
１に対してｌcosΘだけ移動する。
よって固定バー２０の方向にベース１６，ミラー５等が
ｌだけ移動したとするとミラー５は焦点位置調整方向２
１に対してｌcosΘだけ移動する。
Θを６０°〜８８°程度に選ぶと細長いミラーに対し
て、その長手方向に配した駆動系全体をコンパクトに構
成できるとともにｌに比し、焦点位置調整方向２１の移
動量が小さいためパルスモータ２６によっても数μｍの
高分解能の移動ができる。
て、その長手方向に配した駆動系全体をコンパクトに構
成できるとともにｌに比し、焦点位置調整方向２１の移
動量が小さいためパルスモータ２６によっても数μｍの
高分解能の移動ができる。
本発明は以上説明したように、レーザビームを偏向装置
で偏向した後、Ｆ−Θレンズを介して被描画面上に焦点
を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画
面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−Θレンズ
を通過した後のビームを、その走査平面とほぼ直交する
方向にミラーによって屈折するとともに被描画材の厚さ
に比例した量だけ前記ミラーの位置を変えることによっ
て焦点位置を調整するようにしたしたものである。した
がって、被描画材の厚さが変った場合の焦点修正および
これに関連した修正を容易に行ない得るを提供できると
いった効果を奏する。
で偏向した後、Ｆ−Θレンズを介して被描画面上に焦点
を結ばせたレーザビームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画
面上に描画するレーザ描画装置において、Ｆ−Θレンズ
を通過した後のビームを、その走査平面とほぼ直交する
方向にミラーによって屈折するとともに被描画材の厚さ
に比例した量だけ前記ミラーの位置を変えることによっ
て焦点位置を調整するようにしたしたものである。した
がって、被描画材の厚さが変った場合の焦点修正および
これに関連した修正を容易に行ない得るを提供できると
いった効果を奏する。
第１図は本発明の一実施例を示す構成説明図、第２図は
描画の前に被描画材の厚さを測る装置を示す図、第３図
は本発明の一実施例の要部であるミラーの位置調整装置
を示す概略的平面図、第４図は第３図の矢印Ｚ方向より
見た側面図、第５図は従来の焦点位置調整方法を説明す
るための説明図である。 １…レーザビーム、２…偏向装置（ガルバノミラー）、
３…Ｆ−Θレンズ、４…焦点、５…ミラー、６…被描画
材。
描画の前に被描画材の厚さを測る装置を示す図、第３図
は本発明の一実施例の要部であるミラーの位置調整装置
を示す概略的平面図、第４図は第３図の矢印Ｚ方向より
見た側面図、第５図は従来の焦点位置調整方法を説明す
るための説明図である。 １…レーザビーム、２…偏向装置（ガルバノミラー）、
３…Ｆ−Θレンズ、４…焦点、５…ミラー、６…被描画
材。
Claims (2)
- 【請求項１】レーザビームを偏向装置で偏向した後、Ｆ
−Θレンズを介して被描画面上に焦点を結ばせたレーザ
ビームのＯＮ−ＯＦＦによって被描画面上に描画するレ
ーザ描画装置において、 Ｆ−Θレンズを通過した後のビームを、その走査平面と
ほぼ直交する方向にミラーによって屈折するとともに入
力された被描画材の厚さに対応して前記走査平面におけ
る光軸方向へ前記ミラーの位置を変えることによって焦
点位置を調整すると共に、ミラーの移動量に比例した量
だけ被描画材を搭載したステージの位置をずらせた状態
で描画データを供給するようにしたことを特徴とするレ
ーザ描画装置の焦点位置調整装置。 - 【請求項２】焦点調整用ミラーが、焦点位置調整方向に
対して６０°〜８８°の方向に移動して焦点位置の調整
を行なうようになっていることを特徴とする特許請求の
範囲請求項１記載のレーザ描画装置の焦点位置調整装
置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60224065A JPH0668581B2 (ja) | 1985-10-08 | 1985-10-08 | レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 |
| US06/916,786 US4714933A (en) | 1985-10-08 | 1986-10-08 | Laser picture-drawing apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP60224065A JPH0668581B2 (ja) | 1985-10-08 | 1985-10-08 | レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6283716A JPS6283716A (ja) | 1987-04-17 |
| JPH0668581B2 true JPH0668581B2 (ja) | 1994-08-31 |
Family
ID=16808017
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP60224065A Expired - Lifetime JPH0668581B2 (ja) | 1985-10-08 | 1985-10-08 | レ−ザ描画装置の焦点位置調整装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US4714933A (ja) |
| JP (1) | JPH0668581B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2678485B2 (ja) * | 1988-12-01 | 1997-11-17 | 旭光学工業株式会社 | 走査式描画装置の描画面調整機構 |
| US5341157A (en) * | 1992-08-14 | 1994-08-23 | Bumb & Associates | Laser-driven silk screen mask device |
| WO2011017571A2 (en) * | 2009-08-06 | 2011-02-10 | Applied Materials, Inc. | Latitudinal iso-line scribe, stitching, and simplified laser and scanner controls |
| JP2012178486A (ja) * | 2011-02-28 | 2012-09-13 | Hitachi Computer Peripherals Co Ltd | 抵抗器化回路付きプリント配線板、該配線板の作製装置及び該配線板の作製方法 |
Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59178072A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-09 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | パタ−ン描画装置 |
| JPS60143449A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク装置における焦点検出装置 |
Family Cites Families (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR1593883A (ja) * | 1968-02-17 | 1970-06-01 | ||
| JPS5547006U (ja) * | 1978-09-18 | 1980-03-27 | ||
| US4259004A (en) * | 1979-06-13 | 1981-03-31 | Canon Kabushiki Kaisha | Scanning device with optical path length compensator |
| US4358774A (en) * | 1980-07-14 | 1982-11-09 | Discovision Associates | Apparatus and method for controlling focus in a recording system |
| US4578689A (en) * | 1984-11-26 | 1986-03-25 | Data Recording Systems, Inc. | Dual mode laser printer |
-
1985
- 1985-10-08 JP JP60224065A patent/JPH0668581B2/ja not_active Expired - Lifetime
-
1986
- 1986-10-08 US US06/916,786 patent/US4714933A/en not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS59178072A (ja) * | 1983-03-29 | 1984-10-09 | Nippon Kogaku Kk <Nikon> | パタ−ン描画装置 |
| JPS60143449A (ja) * | 1983-12-29 | 1985-07-29 | Ricoh Co Ltd | 光デイスク装置における焦点検出装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US4714933A (en) | 1987-12-22 |
| JPS6283716A (ja) | 1987-04-17 |
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