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JPH0631194B2 - 単結晶の製造方法 - Google Patents

単結晶の製造方法

Info

Publication number
JPH0631194B2
JPH0631194B2 JP59030180A JP3018084A JPH0631194B2 JP H0631194 B2 JPH0631194 B2 JP H0631194B2 JP 59030180 A JP59030180 A JP 59030180A JP 3018084 A JP3018084 A JP 3018084A JP H0631194 B2 JPH0631194 B2 JP H0631194B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
single crystal
diameter
crystal
shoulder
signal
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP59030180A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS60176989A (ja
Inventor
章一 鷲塚
正幸 渡辺
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toshiba Corp
Original Assignee
Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Tokyo Shibaura Electric Co Ltd filed Critical Tokyo Shibaura Electric Co Ltd
Priority to JP59030180A priority Critical patent/JPH0631194B2/ja
Publication of JPS60176989A publication Critical patent/JPS60176989A/ja
Publication of JPH0631194B2 publication Critical patent/JPH0631194B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B15/00Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
    • C30B15/20Controlling or regulating
    • C30B15/22Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal
    • C30B15/26Stabilisation or shape controlling of the molten zone near the pulled crystal; Controlling the section of the crystal using television detectors; using photo or X-ray detectors

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の属する技術分野〕 本発明は液体封止チヨクラルスキー法による単結晶の育
成を制御する方法に係り、特に光学的に直径を検出して
結晶形状を制御する単結晶の製造方法に関するものであ
る。
〔従来技術とその問題点〕
液体封止高圧引上げ法(LEC法)による単結晶の育成
において、育成中の単結晶の形状を正確に制御すること
は結晶の品質向上およびコストの低減にとつて極めて重
要な要件の一つとなつている。特に結晶の種子部からネ
ツク部および肩部は転位や双晶および歪の発生、伝播を
防止するうえで、その形状の制御は重要な問題である。
LEC法において、育成中の結晶の直径を計測する方法
としては、X線法および重量法がこれまでに試みられて
いるが、装置の安全性、取り扱い易さの点でもつぱら重
量法が使用されている。しかし重量法では測定した重量
には結晶の重量以外に液体カプセル剤による浮力やメニ
スカスの変化による重量が含まれているため、信号の処
理が複雑となり、計算機を用いて直径を求めざるを得な
い等の問題点がある。特に、種子部からネツク部および
肩部にかけての直径の小さな部分では胴体部に較べて相
対的に感度が低下するため、誤差が増大するという本質
的な欠点がある。そのため、重量法ではネツキングおよ
び肩成長部分をモニターすることが困難であり、結晶成
長開始時の初期状態を検出・制御することができない欠
点があつた。
結局、この部分は従来作業者によつて行なわざるを得
ず、再現性や、結晶製造の完全自動化ができない等の問
題点があつた。
すなわち、結晶成長開始時の初期状態が一定しないこと
は、引上げでも結晶がなかなか成長しなかつたり、ある
いは急激に成長してしまつたりして、その後の肩部から
胴体部の成長の再現性にも影響を与える欠点があった。
とりわけ、LEC法によるIII−V族単結晶ではこの影
響が大きく従来の重量法による形状制御方法だけでは、
高品質な単結晶を精度よく安定して育成することはでき
なかつた。
〔発明の目的〕
この発明は上記した点に鑑みなされたもので、LEC法
により単結晶を製造する際に、上記欠点を取り除き、形
状制御された高品質単結晶を精度よく安定して製造でき
る方法を提供するものである。
〔発明の概要〕
LEC法においては、成長結晶の直径をTVカメラ等に
より光学的に検出し、制御する方法は揮発性成分による
のぞき窓のくもりや液体カプセル剤のにごり、および高
圧カス対流による像のゆらぎ等が生じやすいために適用
できないものとされていた。本発明者らは種々実験の結
果、光学的に検出した時系列信号を統計的に処理し、S/
Nの向上を図つたところ、種子部から肩部にかけての直
径は十分検出可能であり、光学的に検出した直径信号に
よりネツクダウンおよび肩部成長がモニターできること
を見い出した。そこで、前記検出信号を制御信号として
用いることにより種子部から肩部までの形状の制御が可
能なことが分つた。すなわち、前記目的を達成するため
に本発明のLEC法単結晶製造方法では、単結晶の少な
くとも種子部から肩部までの成長時は光学的手段により
直径信号を得て形状制御を行い、胴体部以後は重量変化
により直径信号を得て基準信号との比較に基づき融液温
度の調整により形状制御を行うことを特徴とするもので
ある。
〔発明の効果〕
以上説明した本発明の方法によれば、 (1) 従来の重量検出器のみを使用する方法に比べて、
検出感度および精度が大巾に向上し、高精度で安定した
形状制御ができる。
(2) 種子部から尾部まで連続した完全自動化ができ
る。
(3) 従来の単結晶製造装置を大巾に改造することなく
簡単に実施できる。
(4) ネツキング,肩部成長が容易に行なえるので双晶
の発生は皆無であり、また転位の少ない単結晶が得られ
る。
(5) 工業的に使用することにより生産性が向上する。
等の効果がある。
〔発明の実施例〕
以下本発明の一実施例を図面に基づき、より詳細に説明
する。第1図は本発明による機能を具備した単結晶製造
装置の一例である。図において、1は高圧容器,2は加
熱ヒータ,3はルツボ,4はのぞ窓,5は引上げ軸,6
は融液、7は液体カプセル層,8は種子結晶,9はネツ
ク部,10は肩部,11はメニスカス,12はTVカメ
ラ,13は信号処理装置,14は比較装置,15は制御
装置,16は加熱装置である。加圧された容器1内に収
納されたルツボ3に結晶原料6とカプセル剤7を入れた
のち、加熱ヒータ2により溶融させる。引上げ軸5に取
付けられた種結晶8を融液6に接触させたのち回転させ
ながら引上げを開始し、ネツク部9,肩部10を成長さ
せる。ここで、種結晶8と融液6の間に形成されるメニ
スカス11の状態をのぞき窓4を介してTVカメラ12
により検出する。検出された信号は次の信号処理装置1
3に入力され、結晶直径に相当する信号に変換される。
この直径信号を比較装置14に入力して、所定のネツク
部および肩部の形状と比較することにより誤差信号が得
られる。この誤差信号を制御装置15に入力して誤差が
零になるように加熱装置16を駆動して融液温度を調節
する。
以上説明したごとく本発明の方法では種子部から肩部ま
での形状を容易に制御することができる。
次に本発明の方法によりGaAs単結晶を育成する場合
について具体的に説明する。ここでは引上げ軸5の上部
に重量検出器(図示せず)を有する従来の引上げ装置を
使用し、直径100mmのルツボ3内に1KgのGaAs原
料と180gのBを入れ約7気圧に加圧して、加
熱融解した。融解後、直径4mmの種結晶8を融液6に接
触させたのち9mm/Hで引上げを開始した。同時にTV
カメラ12によりメニスカス11をモニターし、信号処
理装置13により直径の測定を開始した。この直径信号
を制御信号として、比較装置14に記憶された情報と比
較して誤差信号を作り、制御装置15により自動的にネ
ツク部直径3mm,長さ6mmを育成したのち、肩角度を40
゜に設定し肩部の育成まで連続して行なつた。第2図
(a)はこの時得られた直径信号を示している。第3図は
この時育成された結晶の形状を示している。一方、第2
図(b)に示す従来の重量検出器により得られた直径信号
(図には結晶重量の時間微分値で示してある。)からは
ネツク部、および肩部のはじめの部分は何も検出できな
かつた。肩部が〜50mmφになつたところで肩止めを行
ない、重量法による制御に切換えて引き続き胴体部の育
成を行なつたところ、52mmφ,900gのGaAs単
結晶が得られた。本発明の方法により圧力を3〜30気
圧および肩角度を30゜〜70゜に変えた条件で連続して1
0回育成を行なつたところ、いずれも同様に形状制御さ
れた結晶が再現性良く得られた。また双晶の発生は見ら
れず、歪や転位密度の少ない良好な単結晶であつた。
上記した実施例では光検出器としてTVカメラ12を使
用しているが、本実施例に限定されるものではなく、C
CDカメラ等の他の光学的な検出器を使用しても良い。
またメニスカス11の両端の距離を直接計測して直径を
求めなくとも、固定した一端とメニスカス11の一端の
距離を計測して直径を求めても良いし、両者を併用して
も良い。これにより、部分的な融液面の反射光や、のぞ
き窓のくもり等に影響されず、S/N良く直径を検出する
ことができる。
さらに、従来の引上げ機ののぞき窓ではなく、新たな検
出用窓を設けたり、あるいは光フアイバー等を用いてよ
り鉛直な角度から計測するようにしても良く、より本発
明の効果が発揮できる。
また、比較装置14や制御装置15には計算機を使用す
ることができ、より柔軟で高度な制御を行なうことがで
きる。さらに本発明の方法はGaAsに限定されるもの
ではなく、Gap,Inp,GaSb等の他のLEC法
によるIII−V族単結晶の製造に適用できるものであ
る。
【図面の簡単な説明】
第1図に本発明の一実施例を説明するための構成図、第
2図および第3図は本発明の効果を説明するための図で
ある。 1……高圧容器、2……加熱ヒータ 3……ルツボ、4……のぞき窓 5……引上げ軸、6……融液 7……液体カプセル、8……種結晶 9……ネツク部、10……肩部 11……メニスカス、12……TVカメラ 13……信号処理装置、14……比較装置 15……制御装置、16……加熱装置

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】液体封止高圧引上げ法により単結晶を製造
    する方法において、結晶の重量変化から直径を検出する
    装置と、光学的に直径を検出する装置とを具備し、前記
    単結晶の形状の少なくともネック部から肩部までは光学
    的に検出し、胴体部以後は重量変化により検出する切換
    え工程を有し、それぞれの検出により得た直径信号を基
    準信号と比較した誤差信号により融液温度を調整する自
    動制御工程を具備したことを特徴とする単結晶の製造方
    法。
JP59030180A 1984-02-22 1984-02-22 単結晶の製造方法 Expired - Lifetime JPH0631194B2 (ja)

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JP59030180A JPH0631194B2 (ja) 1984-02-22 1984-02-22 単結晶の製造方法

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JP59030180A JPH0631194B2 (ja) 1984-02-22 1984-02-22 単結晶の製造方法

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JPS60176989A JPS60176989A (ja) 1985-09-11
JPH0631194B2 true JPH0631194B2 (ja) 1994-04-27

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1987007790A1 (en) * 1986-06-13 1987-12-17 Fanuc Ltd Regeneration control system for a servo motor

Families Citing this family (3)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06102590B2 (ja) * 1990-02-28 1994-12-14 信越半導体株式会社 Cz法による単結晶ネック部育成自動制御方法
JPH0726817B2 (ja) * 1990-07-28 1995-03-29 信越半導体株式会社 結晶径測定装置
JPH0717475B2 (ja) * 1991-02-14 1995-03-01 信越半導体株式会社 単結晶ネック部育成自動制御方法

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