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JPH06298776A - 有機クロロシランの製造法 - Google Patents

有機クロロシランの製造法

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JPH06298776A
JPH06298776A JP6071250A JP7125094A JPH06298776A JP H06298776 A JPH06298776 A JP H06298776A JP 6071250 A JP6071250 A JP 6071250A JP 7125094 A JP7125094 A JP 7125094A JP H06298776 A JPH06298776 A JP H06298776A
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silicon
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JP6071250A
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JP3641493B2 (ja
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Bruno Dipl Chem Dr Degen
ブルノ・デゲン
Elke Licht
エルケ・リヒト
Manfred Schulze
マンフレート・シユルツエ
Gebhard Wagner
ゲプハルト・バグナー
Klaus-Peter Minuth
クラウス−ペーター・ミヌト
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Bayer AG
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Bayer AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/16Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【構成】 金属ケイ素を、最小寸法少なくとも5mm、
最大15mmの粒子に粉砕し、得られたケイ素を少なく
とも700℃の温度から高々120℃の温度にまで最大
2秒以内で冷却、次いで磨砕し、そしてRochow合
成反応に供する。 【効果】 上記の粒径で上記のクエンチ処理を実施する
ことにより、ケイ素に構造欠陥を生じてRochow反
応が受け易くなり、いわゆるTri/Di比が低下し、
有用なジメチルジクロロシラン生産性が向上する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、急速に冷却したケイ素と、アル
キルまたはアリール塩化物とを、銅触媒と反応促進物質
との存在下に反応させる有機クロロシランの製造法に関
する。本発明は特にメチルクロロシランの製造法に関す
る。
【0002】メチルクロロシラン製造の基本的な方法
は、細かに磨砕したケイ素と塩化メチルとを、金属銅あ
るいはもっと稀には金属銀を触媒として存在させて反応
させるものである。同反応は当技術分野の熟達者に
は、”Rochow合成”として知られており、米国特
許明細書(US-PS)第 2 380 995 号に記載されている。
【0003】同方法によって、下記のシラン類(式中、
Me=メチル)の混合物が得られる:Me3SiCl2
Me4Si、Me3SiCl、MeSiCl3、SiC
4、HSiCl3、MeHSiCl2。これらメチルク
ロロシラン単量体の他に更に、少量の高沸点化合物、例
えばメチルクロロジシラン、メチルクロロトリシラン、
ジシラン、およびシロメチレンも生成する。
【0004】工業的に最も良く使用されるメチルクロロ
シランは、単量体化合物であり、その中でも特にジメチ
ルジクロロシランである。それ故、この好ましい反応生
成物をできるだけ多く選択的に得ることが望ましい。選
択性の一つの尺度として、特にMeSiCl3/Me2
iCl2の比(いわゆるトリ/ジ(tri-/di-)比)があ
り、この値をできるだけ小さくしなければならない。
【0005】工業的に大規模でメチルクロロシラン製造
する方法としては、流動床式反応器中で塩化メチルとケ
イ素との反応を行い、その際、塩化メチルを過剰に使用
して反応成分と流動化媒体の両方の役目をさせる方式が
特に注目を集めている。
【0006】その基礎研究は約40年前に実施されたの
で、本反応を実施し、その選択性を改善し、そして適当
な触媒組成および触媒/反応促進系の製造法について数
多くの文献が公表されている。例えばその最初の綜説、
Voorhoeve著:"有機ハロシラン:シリコーン類の前駆体
(Organo-halosilanes: Precursors to Silicones)”
が、1967年 Elsevier 出版社 (Amesterdam, New Yo
rk, London) から発行されている。
【0007】ごく最近では、研究は主として触媒系の微
量元素、いわゆる反応促進剤の使用に的が向けられてい
る。
【0008】例えばドイツ国特許出願公告(DE-A)第 3
425 424 号、ヨーロッパ特許出願公告(EP-A) 第 138 6
78 号、ヨーロッパ特許出願公告 (EP-A) 第 138 679
号、ドイツ国特許出願公告 (DE-A) 第 3 501 085 号、 ヨ
ーロッパ特許出願公告 (EP-A) 第 191 502 号、 ヨーロ
ッパ特許出願公告 (EP-A) 第 194 214 号、ヨーロッパ
特許出願公告(EP-A) 第 195 728 号およびヨーロッパ特
許出願公告 (EP-A) 第223 447 号が挙げられる。
【0009】ケイ素に関する、そしてケイ素に対する純
度あるいは物性例えば粒子径分布に関する要求等を主と
する文献は比較的少ない。
【0010】例えば、米国特許出願公告 (US-A) 第 3 1
33 109 号は、流動床反応器を最適に操作するのに適し
ている粒径は、20ないし200μ であると述べてい
る。米国特許出願公告(US-A) 第 4 500 724 号では、
700 μ 以下のケイ素粒子が適していると見做されて
おり、その平均粒径は20ないし300 μ 、好ましく
は100ないし150 μ とすべきと述べている。上述
の限界値は、当技術分野の値として一般的なものと見做
され、当技術分野の熟達者は、与えられたいかなる場合
にもその最適値が、使用する反応器系に密接に関連して
いることを良く知っている。
【0011】米国特許出願公告(US-A) 第 4 895 969
号、ヨーロッパ特許出願公告(EP-A)第 372 918 号、お
よびヨーロッパ特許出願公告(EP-A) 第 372 341 号に
は、オルガノクロロシラン合成に噴霧微粒化したケイ素
を使用することが提案されている。これらの文書は特
に、急速に固化したケイ素がオルガノクロロシラン合成
の反応速度に有利に作用することを指摘している。
【0012】本発明について検討を進めていたところ、
ケイ素を急速に冷却(クエンチ)すると熱的緊張を生
じ、それが構造欠陥を起こし、それがRochow合成
に有利であることが発見された。冷却が速ければ速いほ
ど、そしてケイ素の空間寸法(体積)が大きいほど、生
ずる熱的緊張が大きくなる。しかし、空間寸法が余りに
大きいと、急速冷却が妨げられる。
【0013】本発明は、金属ケイ素と有機塩化物との直
接反応による有機クロロシランの製造法において金属ケ
イ素を粉砕し、その最小寸法が少なくとも5mmであ
り、そして最大寸法が15mmである粒子にし、同ケイ
素を少なくとも約700℃の温度から高々120℃まで
最大2秒以内に冷却し、次いでそれを磨砕、そして反応
させることを特徴とする改良された製造法に関する。
【0014】クエンチングは900℃以上の温度から実
施するのが好ましい。
【0015】クエンチングは高温度のケイ素を、低温度
で、好ましくは動いている液中に浸漬して実施すること
ができる。液体窒素または水がこの目的に適しており、
随時その他の液体、例えば塩化メチルも使用できる。
【0016】装置コストが低く、その比熱と蒸発エンタ
ルピーが大きく冷却が確実に、効果的に行えるので、水
が好ましい。
【0017】ケイ素の表面にSiO2層が形成されるのを
防ぎ、また水の熱伝導度を高くするために、冷却水は特
に、アルカリ性液、あるいはアルカリ作用、または還元
作用を有する添加剤、例えば炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩、
有機酸、あるいは有機酸塩、アミン類、アルコール類、
あるいはヒドラジンおよびその誘導体、および/または
無機、塩型添加物、例えば塩化物、硫酸塩、硝酸塩、そ
の他を添加するか、あるいは表面活性物質、例えばフッ
素系表面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩または
アルキルスルホン酸塩(例えばバイエル社製、Mers
olatR)を添加して調製することができる。
【0018】本発明で使用するケイ素は好ましくは重量
%で、0.05ないし1%の鉄、0.01ないし1%のア
ルミニウム、0.0001ないし1%のカルシウム、0
ないし8%の銅、0ないし1%の亜鉛、0ないし1%の
錫、0ないし0.5%のホウ素、0ないし0.5%のリ
ン、0ないし0.5%のナトリウム、0ないし0.5%の
リチウム、0ないし0.5%のカリウム、0ないし0.5
%のマグネシウム、0ないし0.5%のストロンチウ
ム、0ないし0.5%のバリウム、0ないし0.5%のベ
リリュウム、そしてその残りがケイ素(そして少量のそ
の他の不純物も含む可能性がある)からなる組成を有す
る。
【0019】より好ましくは該ケイ素は、0.05ない
し0.38%のアルミニウム、0.001ないし0.02
0%のカルシウム、そして0.15ないし0.55%の鉄
を含み、最も好ましくは、0.25ないし0.55%の鉄
を含んでいる。
【0020】クエンチング後、該ケイ素は公知の方法で
磨砕して、1200 μ以下、好ましくは1000 μ以
下の粒径にする。該ケイ素は磨砕してから、公知の方法
で、触媒と反応促進剤とが合金構成成分のケイ素中にま
だ入っていない場合は、それらを添加して、有機クロロ
シランに変換することができる。
【0021】使用される触媒は銅である。
【0022】亜鉛、錫、アンチモニー、ひ素、ガリウ
ム、インジウム、リン、ランタン、および/またはセシ
ウム、および/またはそれらの化合物が、反応促進剤用
元素として適している。反応促進物質の2ないし4種類
を組み合わせて使用するのが好ましい。
【0023】工業規模の反応は、流動床反応器中、25
0ないし350℃、好ましくは280ないし330℃の
温度で実施するのが好ましい。容積/時間収率を上げる
ために、固液接触を、圧力を10bar迄上げて実施す
ることができる。
【0024】好ましい有機塩化物は塩化メチルである。
反応を他の塩化アルキルまたはアリールで実施する際
は、最適反応温度がずれ、最適反応促進物質も異なって
来るので、それについて考慮を払うべきことは、当技術
分野の熟達者にとってよく知られているところである。
【0025】本発明を以下に示す実施例によって説明す
る。
【0026】以下の実験は、スパイラル撹拌機を備え
た、ガラス製で内径30mmの撹拌床反応器中で実施し
た。71ないし160 μの同じ粒径分布を有するケイ
素の同じ量を、それぞれの実施例で使用した。塩化メチ
ルは2barの圧力で、ガラスフリットを通して、下か
ら触媒層を通過させる。塩化メチルの量は一定に保ち、
全ての実施例で圧力2bar下で、約1.5l/時間の
供給量にする。反応混合物を加熱し、反応を開始させて
から、実験静止相は300℃に保ち、単位時間当たりの
生成粗シラン混合物の量は、これらの特定条件下に測定
する。全ての実施例で与えられた値は、2bar、1.
5l/時間の塩化メチル供給、そして300℃の一定制
限条件下に4回個々に測定して得たものである。
【0027】触媒層は、40gのケイ素、3.2gの銅
触媒、および0.05gの酸化亜鉛からなり、使用する
前に均一化した。全ての実施例で同じ触媒を使用した。
【0028】
【実施例】
実施例1(比較) 0.26%の鉄、0.18%のアルミニウム、0.039
%のカルシウムおよび0.020%のチタンを含むケイ
素を使用した。
【0029】ケイ素は窒素雰囲気下に熔融し、流涎して
寸法が5cm x 5cm x 20cmの棒にした。18
時間後に型から成型ケイ素を取り出し、小片に砕き、そ
して磨砕した。篩にかけて得られたケイ素は71ないし
160μの粒径分布を有しており、それを反応に使用し
た。
【0030】Rochow合成反応から下記の結果が得
られた。
【0031】 総合生産速度 5.2 g/h (CH3)HSiCl2 2.0 重量% (CH3)3SiCl 2.2 重量% CH3SiCl3(Tri-) 4.9 重量% (CH3)2SiCl2(Di-) 90.4 重量% %Tri/%Di比 0.054 ポリシラン類 4.4 重量% 実施例2 実施例1と同様に棒状に固化させたケイ素を、平均粒径
8mmに粉砕し、窒素雰囲気下に1050℃に加熱し、
1mの高さから撹拌している氷水中に注ぎそして磨砕し
た。篩にかけ、粒径分布が71ないし160 μのケイ
素を使用した。
【0032】Rochow合成反応から下記の結果を得
た。
【0033】 総合生産速度 6.6 g/h (CH3)HSiCl2 1.6 重量% (CH3)3SiCl 2.1 重量% CH3SiCl3(Tri-) 4.1 重量% (CH3)2SiCl2(Di-) 91.8 重量% %Tri/%Di比 0.045% ポリシラン類 4.0 重量% 本発明を明細書と実施例によって説明したが、本発明が
それらに限定されるものではなく、本発明の精神および
範囲を逸脱しない実施態様が、その他にも当技術分野の
熟達者に直ぐにも考えられることは理解されよう。
【0034】本発明の特徴および態様を示せば以下のと
おりである。
【0035】1.金属ケイ素と有機塩化物との直接反応
による有機クロロシランの製造法において、金属ケイ素
を粉砕して、最小寸法が少なくとも5mmであり、そし
て最大寸法が15mmである粒子にし、同ケイ素を少な
くとも約700℃の温度から高々120℃まで最大2秒
以内に冷却し、次いでそれを磨砕、そして反応させるこ
とを特徴とする改良された製造法。
【0036】2.上記1記載の製造法において、同熔融
ケイ素を約900℃以上の温度から冷却することを特徴
とする製造法。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 マンフレート・シユルツエ ドイツ42789ライヒリンゲン・フアザネン シユトラーセ4 (72)発明者 ゲプハルト・バグナー ドイツ51519オーデンタール・アカーシユ トラーセ31 (72)発明者 クラウス−ペーター・ミヌト ドイツ40489デユツセルドルフ・アムフル ークフエルト40

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 金属ケイ素と有機塩化物との直接反応に
    よる有機クロロシランの製造法において、金属ケイ素を
    粉砕して、最小寸法が少なくとも5mmであり、そして
    最大寸法が15mmである粒子にし、同ケイ素を少なく
    とも約700℃の温度から高々120℃まで最大2秒以
    内に冷却し、次いでそれを磨砕、そして反応させること
    を特徴とする改良された製造法。
JP07125094A 1993-03-24 1994-03-17 有機クロロシランの製造法 Expired - Lifetime JP3641493B2 (ja)

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DE4342910A DE4342910A1 (de) 1993-03-24 1993-12-16 Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen
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DE4342910.6 1993-12-16

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Families Citing this family (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NO950760L (no) * 1995-02-28 1996-08-29 Elkem Materials Fremgangsmåte for fremstilling av alkylhalosilaner
JP3159029B2 (ja) * 1996-01-12 2001-04-23 信越化学工業株式会社 シラン類の製造方法
FR2746785B1 (fr) * 1996-04-02 1998-05-22 Pechiney Electrometallurgie Silicium metallurgique a structure controlee destine a la synthese des halogenosilanes
JPH10279584A (ja) * 1997-04-01 1998-10-20 Shin Etsu Chem Co Ltd アルキルハロシランの製造方法
EP0893448B1 (en) * 1997-06-27 2003-04-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Preparation of alkylhalosilanes
US5880307A (en) * 1998-02-17 1999-03-09 Dow Corning Corporation Process for the preparation of alkylhalosilanes
US6239304B1 (en) * 1999-05-24 2001-05-29 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Process for preparing organohalosilanes
DE102005005052A1 (de) * 2005-02-03 2006-08-10 Wacker Chemie Ag Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2380997A (en) * 1941-09-26 1945-08-07 Gen Electric Contact masses
US2803521A (en) * 1952-03-05 1957-08-20 Wacker Chemie Gmbh Method of treating spent metallic reaction masses from the direct process production of organohalosilanes
DE950124C (de) * 1954-12-21 1956-10-04 Buna Chem Werke Veb Verfahren zur Herstellung von Dialkyldichlorsilanen aus Alkylchloriden und einem aktivierten Silicium-Kupfergemisch
DE2750556A1 (de) * 1977-11-11 1979-05-17 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von katalyt-kupfer
US4450282A (en) * 1981-07-29 1984-05-22 General Electric Company Catalyst for a process for producing silicones
DE3823308A1 (de) * 1988-07-09 1990-01-11 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von organosilanen
DE3841417A1 (de) * 1988-12-08 1990-06-13 Bayer Ag Verfahren zur herstellung von organosilanen
US5239102A (en) * 1992-04-13 1993-08-24 General Electric Company Method for making organohalosilanes
US5274158A (en) * 1992-04-13 1993-12-28 General Electric Company Process for stabilizing spent silicon contact mass
US5250716A (en) * 1992-05-28 1993-10-05 Mui Jeffrey Y P Method for making a silicon/copper contact mass suitable for direct reaction
US5243061A (en) * 1992-12-09 1993-09-07 General Electric Company Method for making organohalosilanes

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