JPH06298776A - 有機クロロシランの製造法 - Google Patents
有機クロロシランの製造法Info
- Publication number
- JPH06298776A JPH06298776A JP6071250A JP7125094A JPH06298776A JP H06298776 A JPH06298776 A JP H06298776A JP 6071250 A JP6071250 A JP 6071250A JP 7125094 A JP7125094 A JP 7125094A JP H06298776 A JPH06298776 A JP H06298776A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- silicon
- reaction
- dimension
- grinding
- application publication
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 9
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 title 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 title 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims abstract description 38
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims abstract description 38
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims abstract description 21
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 12
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 8
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 claims abstract description 6
- 238000000227 grinding Methods 0.000 claims abstract description 5
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 150000001367 organochlorosilanes Chemical class 0.000 claims description 7
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 5
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 claims description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 36
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 229940050176 methyl chloride Drugs 0.000 abstract description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 abstract description 6
- 230000007847 structural defect Effects 0.000 abstract description 2
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 11
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 6
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 5
- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 4
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000010791 quenching Methods 0.000 description 4
- 230000000171 quenching effect Effects 0.000 description 4
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 3
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000001500 aryl chlorides Chemical class 0.000 description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 2
- -1 organic acid salts Chemical class 0.000 description 2
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 2
- 229920000548 poly(silane) polymer Polymers 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 2
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N Borate Chemical compound [O-]B([O-])[O-] BTBUEUYNUDRHOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLCASPIIHMGFEF-UHFFFAOYSA-N C[SiH](Cl)[SiH2][SiH3] Chemical compound C[SiH](Cl)[SiH2][SiH3] LLCASPIIHMGFEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 230000005526 G1 to G0 transition Effects 0.000 description 1
- GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N Gallium Chemical compound [Ga] GYHNNYVSQQEPJS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 1
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 1
- 239000013543 active substance Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 1
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052785 arsenic Inorganic materials 0.000 description 1
- RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N arsenic atom Chemical compound [As] RQNWIZPPADIBDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 1
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052790 beryllium Inorganic materials 0.000 description 1
- ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N beryllium atom Chemical compound [Be] ATBAMAFKBVZNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052792 caesium Inorganic materials 0.000 description 1
- TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N caesium atom Chemical compound [Cs] TVFDJXOCXUVLDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 150000001805 chlorine compounds Chemical class 0.000 description 1
- NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N chloro(114C)methane Chemical compound [14CH3]Cl NEHMKBQYUWJMIP-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-silylsilane Chemical compound C[SiH]([SiH3])Cl KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 229910052733 gallium Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 239000005457 ice water Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 1
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000000977 initiatory effect Effects 0.000 description 1
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 1
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 1
- 150000002823 nitrates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 description 1
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 1
- 230000001603 reducing effect Effects 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 1
- 239000011856 silicon-based particle Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 229910052712 strontium Inorganic materials 0.000 description 1
- CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N strontium atom Chemical compound [Sr] CIOAGBVUUVVLOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 150000003467 sulfuric acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011573 trace mineral Substances 0.000 description 1
- 235000013619 trace mineral Nutrition 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/16—Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
最大15mmの粒子に粉砕し、得られたケイ素を少なく
とも700℃の温度から高々120℃の温度にまで最大
2秒以内で冷却、次いで磨砕し、そしてRochow合
成反応に供する。 【効果】 上記の粒径で上記のクエンチ処理を実施する
ことにより、ケイ素に構造欠陥を生じてRochow反
応が受け易くなり、いわゆるTri/Di比が低下し、
有用なジメチルジクロロシラン生産性が向上する。
Description
キルまたはアリール塩化物とを、銅触媒と反応促進物質
との存在下に反応させる有機クロロシランの製造法に関
する。本発明は特にメチルクロロシランの製造法に関す
る。
は、細かに磨砕したケイ素と塩化メチルとを、金属銅あ
るいはもっと稀には金属銀を触媒として存在させて反応
させるものである。同反応は当技術分野の熟達者に
は、”Rochow合成”として知られており、米国特
許明細書(US-PS)第 2 380 995 号に記載されている。
Me=メチル)の混合物が得られる:Me3SiCl2、
Me4Si、Me3SiCl、MeSiCl3、SiC
l4、HSiCl3、MeHSiCl2。これらメチルク
ロロシラン単量体の他に更に、少量の高沸点化合物、例
えばメチルクロロジシラン、メチルクロロトリシラン、
ジシラン、およびシロメチレンも生成する。
シランは、単量体化合物であり、その中でも特にジメチ
ルジクロロシランである。それ故、この好ましい反応生
成物をできるだけ多く選択的に得ることが望ましい。選
択性の一つの尺度として、特にMeSiCl3/Me2S
iCl2の比(いわゆるトリ/ジ(tri-/di-)比)があ
り、この値をできるだけ小さくしなければならない。
する方法としては、流動床式反応器中で塩化メチルとケ
イ素との反応を行い、その際、塩化メチルを過剰に使用
して反応成分と流動化媒体の両方の役目をさせる方式が
特に注目を集めている。
で、本反応を実施し、その選択性を改善し、そして適当
な触媒組成および触媒/反応促進系の製造法について数
多くの文献が公表されている。例えばその最初の綜説、
Voorhoeve著:"有機ハロシラン:シリコーン類の前駆体
(Organo-halosilanes: Precursors to Silicones)”
が、1967年 Elsevier 出版社 (Amesterdam, New Yo
rk, London) から発行されている。
量元素、いわゆる反応促進剤の使用に的が向けられてい
る。
425 424 号、ヨーロッパ特許出願公告(EP-A) 第 138 6
78 号、ヨーロッパ特許出願公告 (EP-A) 第 138 679
号、ドイツ国特許出願公告 (DE-A) 第 3 501 085 号、 ヨ
ーロッパ特許出願公告 (EP-A) 第 191 502 号、 ヨーロ
ッパ特許出願公告 (EP-A) 第 194 214 号、ヨーロッパ
特許出願公告(EP-A) 第 195 728 号およびヨーロッパ特
許出願公告 (EP-A) 第223 447 号が挙げられる。
度あるいは物性例えば粒子径分布に関する要求等を主と
する文献は比較的少ない。
33 109 号は、流動床反応器を最適に操作するのに適し
ている粒径は、20ないし200μ であると述べてい
る。米国特許出願公告(US-A) 第 4 500 724 号では、
700 μ 以下のケイ素粒子が適していると見做されて
おり、その平均粒径は20ないし300 μ 、好ましく
は100ないし150 μ とすべきと述べている。上述
の限界値は、当技術分野の値として一般的なものと見做
され、当技術分野の熟達者は、与えられたいかなる場合
にもその最適値が、使用する反応器系に密接に関連して
いることを良く知っている。
号、ヨーロッパ特許出願公告(EP-A)第 372 918 号、お
よびヨーロッパ特許出願公告(EP-A) 第 372 341 号に
は、オルガノクロロシラン合成に噴霧微粒化したケイ素
を使用することが提案されている。これらの文書は特
に、急速に固化したケイ素がオルガノクロロシラン合成
の反応速度に有利に作用することを指摘している。
ケイ素を急速に冷却(クエンチ)すると熱的緊張を生
じ、それが構造欠陥を起こし、それがRochow合成
に有利であることが発見された。冷却が速ければ速いほ
ど、そしてケイ素の空間寸法(体積)が大きいほど、生
ずる熱的緊張が大きくなる。しかし、空間寸法が余りに
大きいと、急速冷却が妨げられる。
接反応による有機クロロシランの製造法において金属ケ
イ素を粉砕し、その最小寸法が少なくとも5mmであ
り、そして最大寸法が15mmである粒子にし、同ケイ
素を少なくとも約700℃の温度から高々120℃まで
最大2秒以内に冷却し、次いでそれを磨砕、そして反応
させることを特徴とする改良された製造法に関する。
施するのが好ましい。
で、好ましくは動いている液中に浸漬して実施すること
ができる。液体窒素または水がこの目的に適しており、
随時その他の液体、例えば塩化メチルも使用できる。
ルピーが大きく冷却が確実に、効果的に行えるので、水
が好ましい。
防ぎ、また水の熱伝導度を高くするために、冷却水は特
に、アルカリ性液、あるいはアルカリ作用、または還元
作用を有する添加剤、例えば炭酸塩、硼酸塩、燐酸塩、
有機酸、あるいは有機酸塩、アミン類、アルコール類、
あるいはヒドラジンおよびその誘導体、および/または
無機、塩型添加物、例えば塩化物、硫酸塩、硝酸塩、そ
の他を添加するか、あるいは表面活性物質、例えばフッ
素系表面活性剤、アルキルベンゼンスルホン酸塩または
アルキルスルホン酸塩(例えばバイエル社製、Mers
olatR)を添加して調製することができる。
%で、0.05ないし1%の鉄、0.01ないし1%のア
ルミニウム、0.0001ないし1%のカルシウム、0
ないし8%の銅、0ないし1%の亜鉛、0ないし1%の
錫、0ないし0.5%のホウ素、0ないし0.5%のリ
ン、0ないし0.5%のナトリウム、0ないし0.5%の
リチウム、0ないし0.5%のカリウム、0ないし0.5
%のマグネシウム、0ないし0.5%のストロンチウ
ム、0ないし0.5%のバリウム、0ないし0.5%のベ
リリュウム、そしてその残りがケイ素(そして少量のそ
の他の不純物も含む可能性がある)からなる組成を有す
る。
し0.38%のアルミニウム、0.001ないし0.02
0%のカルシウム、そして0.15ないし0.55%の鉄
を含み、最も好ましくは、0.25ないし0.55%の鉄
を含んでいる。
磨砕して、1200 μ以下、好ましくは1000 μ以
下の粒径にする。該ケイ素は磨砕してから、公知の方法
で、触媒と反応促進剤とが合金構成成分のケイ素中にま
だ入っていない場合は、それらを添加して、有機クロロ
シランに変換することができる。
ム、インジウム、リン、ランタン、および/またはセシ
ウム、および/またはそれらの化合物が、反応促進剤用
元素として適している。反応促進物質の2ないし4種類
を組み合わせて使用するのが好ましい。
0ないし350℃、好ましくは280ないし330℃の
温度で実施するのが好ましい。容積/時間収率を上げる
ために、固液接触を、圧力を10bar迄上げて実施す
ることができる。
反応を他の塩化アルキルまたはアリールで実施する際
は、最適反応温度がずれ、最適反応促進物質も異なって
来るので、それについて考慮を払うべきことは、当技術
分野の熟達者にとってよく知られているところである。
る。
た、ガラス製で内径30mmの撹拌床反応器中で実施し
た。71ないし160 μの同じ粒径分布を有するケイ
素の同じ量を、それぞれの実施例で使用した。塩化メチ
ルは2barの圧力で、ガラスフリットを通して、下か
ら触媒層を通過させる。塩化メチルの量は一定に保ち、
全ての実施例で圧力2bar下で、約1.5l/時間の
供給量にする。反応混合物を加熱し、反応を開始させて
から、実験静止相は300℃に保ち、単位時間当たりの
生成粗シラン混合物の量は、これらの特定条件下に測定
する。全ての実施例で与えられた値は、2bar、1.
5l/時間の塩化メチル供給、そして300℃の一定制
限条件下に4回個々に測定して得たものである。
触媒、および0.05gの酸化亜鉛からなり、使用する
前に均一化した。全ての実施例で同じ触媒を使用した。
%のカルシウムおよび0.020%のチタンを含むケイ
素を使用した。
寸法が5cm x 5cm x 20cmの棒にした。18
時間後に型から成型ケイ素を取り出し、小片に砕き、そ
して磨砕した。篩にかけて得られたケイ素は71ないし
160μの粒径分布を有しており、それを反応に使用し
た。
られた。
8mmに粉砕し、窒素雰囲気下に1050℃に加熱し、
1mの高さから撹拌している氷水中に注ぎそして磨砕し
た。篩にかけ、粒径分布が71ないし160 μのケイ
素を使用した。
た。
それらに限定されるものではなく、本発明の精神および
範囲を逸脱しない実施態様が、その他にも当技術分野の
熟達者に直ぐにも考えられることは理解されよう。
おりである。
による有機クロロシランの製造法において、金属ケイ素
を粉砕して、最小寸法が少なくとも5mmであり、そし
て最大寸法が15mmである粒子にし、同ケイ素を少な
くとも約700℃の温度から高々120℃まで最大2秒
以内に冷却し、次いでそれを磨砕、そして反応させるこ
とを特徴とする改良された製造法。
ケイ素を約900℃以上の温度から冷却することを特徴
とする製造法。
Claims (1)
- 【請求項1】 金属ケイ素と有機塩化物との直接反応に
よる有機クロロシランの製造法において、金属ケイ素を
粉砕して、最小寸法が少なくとも5mmであり、そして
最大寸法が15mmである粒子にし、同ケイ素を少なく
とも約700℃の温度から高々120℃まで最大2秒以
内に冷却し、次いでそれを磨砕、そして反応させること
を特徴とする改良された製造法。
Applications Claiming Priority (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4309556 | 1993-03-24 | ||
DE4342910A DE4342910A1 (de) | 1993-03-24 | 1993-12-16 | Verfahren zur Herstellung von Organochlorsilanen |
DE4309556.9 | 1993-12-16 | ||
DE4342910.6 | 1993-12-16 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH06298776A true JPH06298776A (ja) | 1994-10-25 |
JP3641493B2 JP3641493B2 (ja) | 2005-04-20 |
Family
ID=25924296
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP07125094A Expired - Lifetime JP3641493B2 (ja) | 1993-03-24 | 1994-03-17 | 有機クロロシランの製造法 |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5380903A (ja) |
EP (1) | EP0617039B1 (ja) |
JP (1) | JP3641493B2 (ja) |
AU (1) | AU669255B2 (ja) |
BR (1) | BR9401249A (ja) |
CA (1) | CA2119549A1 (ja) |
NO (1) | NO306065B1 (ja) |
Families Citing this family (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
NO950760L (no) * | 1995-02-28 | 1996-08-29 | Elkem Materials | Fremgangsmåte for fremstilling av alkylhalosilaner |
JP3159029B2 (ja) * | 1996-01-12 | 2001-04-23 | 信越化学工業株式会社 | シラン類の製造方法 |
FR2746785B1 (fr) * | 1996-04-02 | 1998-05-22 | Pechiney Electrometallurgie | Silicium metallurgique a structure controlee destine a la synthese des halogenosilanes |
JPH10279584A (ja) * | 1997-04-01 | 1998-10-20 | Shin Etsu Chem Co Ltd | アルキルハロシランの製造方法 |
EP0893448B1 (en) * | 1997-06-27 | 2003-04-16 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Preparation of alkylhalosilanes |
US5880307A (en) * | 1998-02-17 | 1999-03-09 | Dow Corning Corporation | Process for the preparation of alkylhalosilanes |
US6239304B1 (en) * | 1999-05-24 | 2001-05-29 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Process for preparing organohalosilanes |
DE102005005052A1 (de) * | 2005-02-03 | 2006-08-10 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen |
Family Cites Families (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2380997A (en) * | 1941-09-26 | 1945-08-07 | Gen Electric | Contact masses |
US2803521A (en) * | 1952-03-05 | 1957-08-20 | Wacker Chemie Gmbh | Method of treating spent metallic reaction masses from the direct process production of organohalosilanes |
DE950124C (de) * | 1954-12-21 | 1956-10-04 | Buna Chem Werke Veb | Verfahren zur Herstellung von Dialkyldichlorsilanen aus Alkylchloriden und einem aktivierten Silicium-Kupfergemisch |
DE2750556A1 (de) * | 1977-11-11 | 1979-05-17 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von katalyt-kupfer |
US4450282A (en) * | 1981-07-29 | 1984-05-22 | General Electric Company | Catalyst for a process for producing silicones |
DE3823308A1 (de) * | 1988-07-09 | 1990-01-11 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von organosilanen |
DE3841417A1 (de) * | 1988-12-08 | 1990-06-13 | Bayer Ag | Verfahren zur herstellung von organosilanen |
US5239102A (en) * | 1992-04-13 | 1993-08-24 | General Electric Company | Method for making organohalosilanes |
US5274158A (en) * | 1992-04-13 | 1993-12-28 | General Electric Company | Process for stabilizing spent silicon contact mass |
US5250716A (en) * | 1992-05-28 | 1993-10-05 | Mui Jeffrey Y P | Method for making a silicon/copper contact mass suitable for direct reaction |
US5243061A (en) * | 1992-12-09 | 1993-09-07 | General Electric Company | Method for making organohalosilanes |
-
1994
- 1994-02-28 AU AU56435/94A patent/AU669255B2/en not_active Ceased
- 1994-03-11 EP EP94103779A patent/EP0617039B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-17 JP JP07125094A patent/JP3641493B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1994-03-17 US US08/214,731 patent/US5380903A/en not_active Expired - Fee Related
- 1994-03-21 CA CA002119549A patent/CA2119549A1/en not_active Abandoned
- 1994-03-23 BR BR9401249A patent/BR9401249A/pt not_active IP Right Cessation
- 1994-03-23 NO NO941056A patent/NO306065B1/no not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3641493B2 (ja) | 2005-04-20 |
EP0617039B1 (de) | 1999-09-01 |
EP0617039A1 (de) | 1994-09-28 |
US5380903A (en) | 1995-01-10 |
NO306065B1 (no) | 1999-09-13 |
CA2119549A1 (en) | 1994-09-25 |
AU669255B2 (en) | 1996-05-30 |
AU5643594A (en) | 1994-09-29 |
NO941056L (no) | 1994-09-26 |
NO941056D0 (no) | 1994-03-23 |
BR9401249A (pt) | 1994-12-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP0320260B1 (en) | A method for preparation of alkylhalosilanes | |
US4500724A (en) | Method for making alkylhalosilanes | |
US5015751A (en) | Process for the production of organochlorosilanes | |
US20020156310A1 (en) | Preparation of organohalosilanes | |
US6258970B1 (en) | Method for promoting dialkyldihalosilane formation during direct method alkylhalosilane production | |
JP2003531007A (ja) | 触体の製造方法 | |
JPH06298776A (ja) | 有機クロロシランの製造法 | |
KR100750003B1 (ko) | 알킬할로실란의 제조 방법 | |
US4895969A (en) | Process for the production of organosilanes | |
US6288258B1 (en) | Preparation of organohalosilanes | |
US7279590B2 (en) | Preparation of organohalosilanes | |
US6423860B1 (en) | Method for promoting dialkyldihalosilane formation during direct method alkylhalosilane production | |
JPH05178863A (ja) | アルコール中弗化水素溶液とシリコンとを接触させるアルコキシシランの製造法 | |
EP0937731B1 (en) | Process for the preparation of alkylhalosilanes | |
JP3658901B2 (ja) | アルコキシシランの製造方法 | |
US5281739A (en) | Process for manufacture of alkylhalosilanes | |
US6984748B2 (en) | Co-catalyst and process for the preparation of organohalosilanes | |
US7179933B2 (en) | Preparation of organohalosilanes | |
JPH10109993A (ja) | アルキルハロゲノシランの製造法 | |
JP4174654B2 (ja) | 有機ハロシランの製造方法 | |
JPH10279584A (ja) | アルキルハロシランの製造方法 | |
KR20050085450A (ko) | 알킬할로실란의 직접 합성을 위한 구리, 인 및 알칼리 금속기재 촉매 조성물 | |
JPH1171384A (ja) | アルキルハロシランの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20041222 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20050118 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20050124 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20090128 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100128 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110128 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120128 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130128 Year of fee payment: 8 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |