JPH06283999A - Semiconductor integrated circuit device and its manufacture - Google Patents
Semiconductor integrated circuit device and its manufactureInfo
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- JPH06283999A JPH06283999A JP5071457A JP7145793A JPH06283999A JP H06283999 A JPH06283999 A JP H06283999A JP 5071457 A JP5071457 A JP 5071457A JP 7145793 A JP7145793 A JP 7145793A JP H06283999 A JPH06283999 A JP H06283999A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】この発明は、半導体集積回路装置
およびその製造方法に関し、より特定的には、同一半導
体基板上にアナログ回路とディジタル回路とが形成され
てなるアナログ−ディジタル混載型の半導体集積回路装
置およびその製造方法に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor integrated circuit device and a method of manufacturing the same, and more specifically, to an analog-digital mixed type semiconductor in which an analog circuit and a digital circuit are formed on the same semiconductor substrate. The present invention relates to an integrated circuit device and a manufacturing method thereof.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、同一シリコンウェハ上にアナ
ログ回路とディジタル回路とが形成されてなるLSIな
どの半導体集積回路装置が提供されている。このような
アナログ−ディジタル混載型のLSIにおいては、ディ
ジタル回路からアナログ回路へノイズが混入するという
問題がある。その対策として、たとえば配線パターン、
ピン配置などを工夫する方法のほか、アナログ回路およ
びディジタル回路を動作させるためのクロック信号の位
相を相対的にシフトする方法がある。2. Description of the Related Art Conventionally, there has been provided a semiconductor integrated circuit device such as an LSI in which an analog circuit and a digital circuit are formed on the same silicon wafer. In such an analog-digital mixed type LSI, there is a problem that noise is mixed from the digital circuit to the analog circuit. As a countermeasure, for example, a wiring pattern,
In addition to the method of devising the pin arrangement and the like, there is a method of relatively shifting the phase of the clock signal for operating the analog circuit and the digital circuit.
【0003】たとえば電子情報通信学会研究報告ICD
89−119“AD/DA変換器内蔵ビデオ信号処理L
SI”の第62頁には、AD変換器と非同期にスイッチ
ングする出力バッファをAD変換器から遠い位置に配置
することによって、ノイズによる干渉を低減する方法が
開示されている。For example, IEICE research report ICD
89-119 "Video signal processing L with built-in AD / DA converter"
SI ", page 62, discloses a method of reducing interference due to noise by disposing an output buffer that switches asynchronously with an AD converter at a position far from the AD converter.
【0004】一方、図23は、特開平3−75976号
に開示されたアナログ−ディジタル混載型の半導体集積
回路装置であるワンチップマイクロコンピュータの構成
を示すブロック図である。On the other hand, FIG. 23 is a block diagram showing a configuration of a one-chip microcomputer which is an analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 3-75976.
【0005】図23に示されるように、このワンチップ
マイクロコンピュータは、CPU1a、タイマ1bなど
を含むディジタル回路1と、A/Dコンバータ等を含む
アナログ回路2とから構成される。As shown in FIG. 23, this one-chip microcomputer comprises a digital circuit 1 including a CPU 1a, a timer 1b and the like, and an analog circuit 2 including an A / D converter and the like.
【0006】ディジタル回路1は、システムクロック信
号発生部3からの第1のクロック信号CLK1に基づい
て動作する。アナログ回路2は、遅延回路4により第1
のクロック信号CLK1の位相が遅らされた第2のクロ
ック信号CLK2に基づいて動作する。The digital circuit 1 operates based on the first clock signal CLK1 from the system clock signal generator 3. The analog circuit 2 has a first delay circuit 4 and a first delay circuit 4.
Of the second clock signal CLK2 whose phase is delayed.
【0007】図24のタイミングチャートに示されるよ
うに、ディジタル回路1では第1のクロック信号CLK
1の立上がりおよび立下がりに伴ってノイズが発生す
る。たとえばディジタル回路1およびアナログ回路2が
同一電源ラインに接続されている場合、ディジタル回路
1で発生したノイズは、その電源ラインを介してアナロ
グ回路2へ混入する。このノイズによる影響はアナログ
回路2を誤動作させ、その性能を劣化させる。このよう
なディジタル回路1からアナログ回路2へのノイズによ
る影響は電源ラインだけでなく、シリコンウェハ内部お
よび配線を含む電磁空間などの様々な経路を介して生じ
る。As shown in the timing chart of FIG. 24, in the digital circuit 1, the first clock signal CLK
Noise is generated with the rise and fall of 1. For example, when the digital circuit 1 and the analog circuit 2 are connected to the same power supply line, the noise generated in the digital circuit 1 is mixed into the analog circuit 2 via the power supply line. The influence of this noise causes the analog circuit 2 to malfunction and deteriorates its performance. The influence of noise from the digital circuit 1 to the analog circuit 2 occurs not only through the power supply line but also through various paths such as the inside of the silicon wafer and the electromagnetic space including the wiring.
【0008】そこで、このマイクロコンピュータでは、
アナログ回路2を動作させる第2のクロック信号CLK
2の位相は、遅延回路4によって第1のクロック信号C
LK1の位相よりも遅らされている。このため、アナロ
グ回路2が誤動作することはない。Therefore, in this microcomputer,
Second clock signal CLK for operating the analog circuit 2
The phase of 2 is set by the delay circuit 4 to the first clock signal C
It is delayed from the phase of LK1. Therefore, the analog circuit 2 does not malfunction.
【0009】他方、図25は、特開平2−28707号
に開示されたアナログ−ディジタル混載型の半導体集積
回路装置である全二重型のモデム(MODEM)の構成
を示すブロック図である。On the other hand, FIG. 25 is a block diagram showing a configuration of a full-duplex modem (MODEM) which is a semiconductor integrated circuit device of an analog-digital mixed type disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2-28707.
【0010】図25に示されるように、このモデムは、
メインクロックを発振する発振器5と、フリップフロッ
プなどから構成される1/2分周器6と、送信回路7
と、受信回路8とから構成される。As shown in FIG. 25, this modem is
An oscillator 5 that oscillates a main clock, a 1/2 frequency divider 6 including a flip-flop, and a transmission circuit 7.
And a receiving circuit 8.
【0011】送信回路7および受信回路8は、それぞれ
ディジタルPLL回路7aまたは8aと、D/Aコンバ
ータ7bまたはA/Dコンバータ8bと、SCF(Swit
chedCapacitor Filter )などから構成されるフィルタ
群7cまたは8cとから構成される。The transmitter circuit 7 and the receiver circuit 8 respectively include a digital PLL circuit 7a or 8a, a D / A converter 7b or an A / D converter 8b, and an SCF (Swit).
chedCapacitor Filter) and other filter groups 7c or 8c.
【0012】このモデムは、同一基板上にディジタル回
路およびアナログ回路が形成され、それらに相互にシフ
トしたクロックを供給することによって、ディジタル回
路から電源ラインなどを介してアナログ回路へ混入する
ノイズの影響を防止するように構成されている。In this modem, a digital circuit and an analog circuit are formed on the same substrate, and clocks mutually shifted are supplied to these modems, so that the influence of noise mixed from the digital circuit to the analog circuit through a power supply line or the like is exerted. Is configured to prevent
【0013】[0013]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、実際の
アナログ−ディジタル混載型の半導体集積回路では、ア
ナログ回路またはディジタル回路へ印加される直前のク
ロック信号の位相は、配線抵抗および浮遊容量によっ
て、外部から印加されたクロック信号の位相よりも既に
遅れている。また、ディジタル回路がすべて同じ位相の
クロック信号に基づいて動作する場合は少なく、ほとん
どの場合、種々の異なる位相を有するクロック信号に基
づいて動作する。さらに、ディジタル回路の内部で、異
なる周波数を有する複数種類のクロック信号が生成され
る場合も少なくない。その他、アナログ回路およびディ
ジタル回路が非同期で動作する場合もある。However, in the actual analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit, the phase of the clock signal immediately before being applied to the analog circuit or the digital circuit is from the outside due to the wiring resistance and the stray capacitance. It is already behind the phase of the applied clock signal. Further, it is rare that all digital circuits operate based on clock signals having the same phase, and in most cases, they operate based on clock signals having various different phases. Further, there are many cases where a plurality of types of clock signals having different frequencies are generated inside the digital circuit. In addition, analog circuits and digital circuits may operate asynchronously.
【0014】このため、アナログ回路およびディジタル
回路に印加する各クロック信号の最適な位相差を設計前
に予測することは困難である。このため、アナログ−デ
ィジタル混載型の半導体集積回路装置の性能を最適に設
定することは極めて困難であった。Therefore, it is difficult to predict the optimum phase difference between the clock signals applied to the analog circuit and the digital circuit before designing. Therefore, it is extremely difficult to optimally set the performance of the analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device.
【0015】すなわち、従来は予測に基づいてアナログ
回路およびディジタル回路に印加する各クロック信号の
位相差が設定されていたので、アナログ回路の性能を最
適にすることは困難であった。また、アナログ回路の性
能を最適にするためには、何度もマスクの改訂を行な
い、試行錯誤により最適の遅延時間を備えた遅延回路を
形成する必要があった。That is, conventionally, since the phase difference between the clock signals applied to the analog circuit and the digital circuit was set based on the prediction, it was difficult to optimize the performance of the analog circuit. Further, in order to optimize the performance of the analog circuit, it was necessary to repeatedly revise the mask and form a delay circuit having an optimum delay time by trial and error.
【0016】この発明の目的は、ディジタル回路からア
ナログ回路へのノイズによる影響が可能な限り低減され
たアナログ−ディジタル混載型の半導体集積回路を提供
することである。An object of the present invention is to provide an analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit in which the influence of noise from a digital circuit to an analog circuit is reduced as much as possible.
【0017】この発明の他の目的は、アナログ回路のク
ロック信号およびディジタル回路のクロック信号の位相
を相対的にシフトすることによって、ディジタル回路か
らアナログ回路へのノイズによる影響を可能な限り低減
することである。Another object of the present invention is to reduce the influence of noise from the digital circuit to the analog circuit as much as possible by relatively shifting the phases of the clock signal of the analog circuit and the clock signal of the digital circuit. Is.
【0018】この発明のさらに他の目的は、上記クロッ
ク信号間の最適の位相差を容易に特定することである。Still another object of the present invention is to easily specify the optimum phase difference between the clock signals.
【0019】この発明のさらに他の目的は、可能な限り
少ない枚数のマスクによってアナログ回路の性能を最適
にすることである。Yet another object of the present invention is to optimize the performance of analog circuits with as few masks as possible.
【0020】[0020]
【課題を解決するための手段】この発明は、要約すれ
ば、半導体集積回路装置であって、1枚の半導体基板
と、ディジタル回路と、アナログ回路と、位相制御手段
とを含む。ディジタル回路は、半導体基板上に形成さ
れ、第1のクロック信号に基づいて動作する。アナログ
回路は、半導体基板上に形成され、第1のクロック信号
と同じ周期の第2のクロック信号に基づいて動作する。
位相制御手段は、第1および第2のクロック信号の位相
を相対的にシフトし得る複数の位相シフト素子を含み、
それら位相シフト素子のうちいずれかが活性化されるこ
とによって、第1および第2のクロック信号の位相を相
対的に一定量だけシフトする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention is summarized as a semiconductor integrated circuit device and includes a semiconductor substrate, a digital circuit, an analog circuit, and a phase control means. The digital circuit is formed on the semiconductor substrate and operates based on the first clock signal. The analog circuit is formed on the semiconductor substrate and operates based on the second clock signal having the same cycle as the first clock signal.
The phase control means includes a plurality of phase shift elements capable of relatively shifting the phases of the first and second clock signals,
Activation of one of the phase shift elements shifts the phases of the first and second clock signals by a relatively constant amount.
【0021】上記半導体集積回路装置はさらに、与えら
れたコード信号に基づいて位相シフト素子のいずれかを
活性化するデコード手段を含む。The semiconductor integrated circuit device further includes a decoding means for activating any of the phase shift elements based on the applied code signal.
【0022】この発明の他の局面に従うと、この発明
は、要約すれば、1枚の半導体基板と、ディジタル回路
と、アナログ回路とを含む半導体集積回路装置の製造方
法であって、半導体基板上に、第1および第2のクロッ
ク信号の位相を相対的にシフトし得る複数の位相シフト
素子を形成する工程と、位相シフト素子のうちいずれが
活性化されると、ディジタル回路およびアナログ回路間
におけるノイズによる影響が最小になるのか探し出す工
程と、探し出した位相シフト素子を、第1および第2の
クロック信号の位相を相対的にシフトするものとして、
活性化し得るように固定する工程とを含む。According to another aspect of the present invention, in summary, the present invention is a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device including one semiconductor substrate, a digital circuit, and an analog circuit. A step of forming a plurality of phase shift elements capable of relatively shifting the phases of the first and second clock signals, and which of the phase shift elements is activated, the A step of finding out whether the influence of noise is minimized, and a step of finding out the phase shift element for relatively shifting the phases of the first and second clock signals,
Immobilizing so that it can be activated.
【0023】この発明のさらに他の局面に従うと、この
発明は、1枚の半導体基板と、ディジタル回路と、アナ
ログ回路とを含む半導体集積回路装置の製造方法であっ
て、試作段階と量産段階とを含む。試作段階はさらに、
半導体基板上に、第1および第2のクロック信号の位相
を相対的にシフトし得る複数の位相シフト素子を形成す
る工程と、位相シフト素子のうちいずれが活性化される
と、ディジタル回路およびアナログ回路間におけるノイ
ズによる影響が最小になるのか探し出す工程とを含む。
量産段階はさらに、探し出した位相シフト素子を、第1
および第2のクロック信号の位相を相対的にシフトする
ものとして、活性化し得るように固定した状態で複数の
位相シフト素子を形成する工程を含む。According to still another aspect of the present invention, the present invention is a method for manufacturing a semiconductor integrated circuit device including one semiconductor substrate, a digital circuit, and an analog circuit, which includes a trial production stage and a mass production stage. including. At the prototype stage,
A step of forming a plurality of phase shift elements capable of relatively shifting the phases of the first and second clock signals on a semiconductor substrate; and which of the phase shift elements is activated, a digital circuit and an analog circuit And a step of finding out whether the influence of noise between circuits is minimized.
In the mass production stage, the phase shift element found was
And a step of forming a plurality of phase shift elements in a fixed state so as to be activated so as to relatively shift the phase of the second clock signal.
【0024】[0024]
【作用】この発明に従った半導体集積回路装置は、複数
の位相シフト素子のうちいずれかを活性化することによ
って、第1および第2のクロック信号の位相を相対的に
一定量だけシフトするように構成されているので、ディ
ジタル回路およびアナログ回路間におけるノイズによる
影響が最小になるようにそれらクロック信号間の位相差
を設定することができる。In the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, by activating any one of the plurality of phase shift elements, the phases of the first and second clock signals are relatively shifted by a fixed amount. Therefore, it is possible to set the phase difference between the clock signals so that the influence of noise between the digital circuit and the analog circuit is minimized.
【0025】この発明に従った半導体集積回路装置の製
造方法は、ディジタル回路およびアナログ回路間におけ
るノイズによる影響が最小になる位相シフト素子を探し
出し、その探し出した位相シフト素子を第1および第2
のクロック信号の位相を相対的にシフトするものとして
固定しているので、ディジタル回路およびアナログ回路
の性能が最適化された半導体集積回路装置を容易に製造
することができる。In the method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, a phase shift element that minimizes the influence of noise between the digital circuit and the analog circuit is searched for, and the searched phase shift element is used as the first and second phase shift elements.
Since the phase of the clock signal is fixed so as to be relatively shifted, it is possible to easily manufacture the semiconductor integrated circuit device in which the performances of the digital circuit and the analog circuit are optimized.
【0026】また、この発明に従った半導体集積回路装
置の他の製造方法は、試作段階でアナログ回路およびデ
ィジタル回路間におけるノイズによる影響が最小になる
位相シフト素子を探しておき、量産段階でその探し出し
た位相シフト素子を固定した状態で複数の位相シフト素
子を形成しているので、試作段階から量産段階へ移行す
るときに少なくとも一度マスクの改訂を行なうだけでデ
ィジタル回路およびアナログ回路の性能が最適化された
半導体集積回路装置を製造することができる。In another method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, a phase shift element that minimizes the influence of noise between analog circuits and digital circuits is searched for in the prototype stage, and the phase shift element is searched for in the mass production stage. Since multiple phase shift elements are formed with the found phase shift element fixed, the performance of the digital circuit and analog circuit is optimized by at least one revision of the mask when shifting from the prototype stage to the mass production stage. An integrated semiconductor integrated circuit device can be manufactured.
【0027】[0027]
【実施例】次に、この発明に従った半導体集積回路装置
およびその製造方法の実施例について図面を参照して詳
しく説明する。 [実施例1]図1は、この発明に従った第1実施例であ
るアナログ−ディジタル混載型の半導体集積回路装置の
試作段階における構成を示すブロック図である。Embodiments of a semiconductor integrated circuit device and a method of manufacturing the same according to the present invention will now be described in detail with reference to the drawings. [Embodiment 1] FIG. 1 is a block diagram showing a structure of a first embodiment of an analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device according to the present invention at a trial production stage.
【0028】図1に示されるように、この半導体集積回
路装置10は、ディジタル回路12、アナログ回路1
4、位相制御回路16、およびデコーダ18を含む。As shown in FIG. 1, the semiconductor integrated circuit device 10 includes a digital circuit 12 and an analog circuit 1.
4, a phase control circuit 16, and a decoder 18.
【0029】ディジタル回路12は、クロック信号入力
端子20に印加された第1のクロック信号CLK1に基
づいて動作する。アナログ回路14は、位相制御回路1
6からの第2のクロック信号CLK2に基づいて動作す
る。位相制御回路16は、クロック信号入力端子20に
印加された第1のクロック信号CLK1をデコーダ18
からの制御信号Yにより特定される一定時間だけ遅ら
せ、それを第2のクロック信号CLK2として出力す
る。デコーダ18は、コード信号入力端子22に印加さ
れたコード信号X1〜Xkをデコードし、それを制御信
号Yとして出力する。The digital circuit 12 operates based on the first clock signal CLK1 applied to the clock signal input terminal 20. The analog circuit 14 is the phase control circuit 1.
It operates based on the second clock signal CLK2 from 6. The phase control circuit 16 decodes the first clock signal CLK1 applied to the clock signal input terminal 20 by a decoder 18
Then, it is delayed by a fixed time specified by the control signal Y from and output as the second clock signal CLK2. The decoder 18 decodes the code signals X1 to Xk applied to the code signal input terminal 22 and outputs it as the control signal Y.
【0030】図2は、図1に示した位相制御回路16お
よびデコーダ18の構成の一例を示すブロック図であ
る。FIG. 2 is a block diagram showing an example of the configuration of the phase control circuit 16 and the decoder 18 shown in FIG.
【0031】図2に示されるように、位相制御回路16
は、互いに並列に接続された4つの遅延素子D1〜D4
と、それら遅延素子D1〜D4と直列に接続された1つ
のバッファB1とを含む。遅延素子D1〜D4は、制御
信号Y1〜Y4によって開閉される2つのスイッチング
素子S1〜S4と、それらの間に直列に接続された1つ
の抵抗R1〜R4とを含む。抵抗R1〜R4の値はそれ
ぞれ異なる。As shown in FIG. 2, the phase control circuit 16
Are four delay elements D1 to D4 connected in parallel with each other.
And one buffer B1 connected in series with the delay elements D1 to D4. The delay elements D1 to D4 include two switching elements S1 to S4 that are opened and closed by the control signals Y1 to Y4, and one resistor R1 to R4 connected in series between them. The resistors R1 to R4 have different values.
【0032】デコーダ18は、2つのインバータI1お
よびI2と、4つのANDゲートA1〜A4とを含み、
コード信号入力端子22に印加されたコード信号X1お
よびX2を論理演算し、その結果を制御信号Y1〜Y4
として出力する。The decoder 18 includes two inverters I1 and I2 and four AND gates A1 to A4,
The code signals X1 and X2 applied to the code signal input terminal 22 are logically operated, and the result is the control signals Y1 to Y4.
Output as.
【0033】次の表1はコード信号X1,X2と制御信
号Y1〜Y4との関係を現わす真理値表である。Table 1 below is a truth table showing the relationship between the code signals X1 and X2 and the control signals Y1 to Y4.
【0034】[0034]
【表1】 [Table 1]
【0035】この表1から明らかなように、コード信号
入力端子22にコード信号X1,X2が印加されると、
それに対応する制御信号Y1〜Y4がデコーダ18によ
り出力される。その制御信号Y1〜Y4に応答して遅延
素子D1〜D4のいずれかのスイッチング素子S1〜S
4がターンオンする。これにより、その遅延素子D1〜
D4は活性化される。As is clear from Table 1, when the code signals X1 and X2 are applied to the code signal input terminal 22,
The corresponding control signals Y1 to Y4 are output by the decoder 18. One of the switching elements S1 to S of the delay elements D1 to D4 is responsive to the control signals Y1 to Y4.
4 turns on. As a result, the delay elements D1 to D1
D4 is activated.
【0036】これら遅延素子D1〜D4はさらに、その
出力ノードに寄生する浮遊容量(図示せず)を含み、そ
れら浮遊容量および抵抗R1〜R4は時定数回路を構成
する。それら遅延素子D1〜D4の時定数は、各抵抗R
1〜R4の値が異なるので、すべて異なる。These delay elements D1 to D4 further include a stray capacitance (not shown) parasitic on its output node, and the stray capacitance and resistors R1 to R4 form a time constant circuit. The time constants of the delay elements D1 to D4 are determined by the resistance R
Since the values of 1 to R4 are different, they are all different.
【0037】したがって、位相制御回路16に入力され
た第1のクロック信号CLK1は、いずれかの遅延素子
D1〜D4により一定時間だけ遅らされ、バッファB1
を介して第2のクロック信号CLK2として出力され
る。すなわち、遅延素子D1〜D4は、第1のクロック
信号CLK1および第2のクロック信号CLK2の位相
を相対的にシフトし得る位相シフト素子である。Therefore, the first clock signal CLK1 input to the phase control circuit 16 is delayed by a certain time by any of the delay elements D1 to D4, and the buffer B1.
Is output as the second clock signal CLK2. That is, the delay elements D1 to D4 are phase shift elements capable of relatively shifting the phases of the first clock signal CLK1 and the second clock signal CLK2.
【0038】以上のように、まず1枚の半導体基板上に
ディジタル回路12およびアナログ回路14が形成され
るとともに、位相制御回路16およびデコーダ18が形
成される。さらに詳しくは、4つの遅延素子D1〜D4
が形成される。それら遅延素子D1〜D4の抵抗R1〜
R4の値は、設計段階である程度の予測の下に設定され
る。As described above, first, the digital circuit 12 and the analog circuit 14 are formed, and the phase control circuit 16 and the decoder 18 are formed on one semiconductor substrate. More specifically, four delay elements D1 to D4
Is formed. The resistors R1 to R1 of the delay elements D1 to D4
The value of R4 is set at a design stage with some prediction.
【0039】次いで、それら遅延素子D1〜D4のうち
いずれが活性化されると、ディジタル回路12およびア
ナログ回路14間におけるノイズの影響が最小になるの
か探し出される。Then, which of the delay elements D1 to D4 is activated is searched for to minimize the influence of noise between the digital circuit 12 and the analog circuit 14.
【0040】図3は、アナログ回路14としてたとえば
A/Dコンバータ14aが混載された半導体集積回路装
置10を評価するための装置の構成を示すブロック図で
ある。FIG. 3 is a block diagram showing a configuration of a device for evaluating the semiconductor integrated circuit device 10 in which the analog circuit 14, for example, the A / D converter 14a is mounted together.
【0041】図3に示されるように、A/Dコンバータ
14aは、位相制御回路16からの第2のクロック信号
CLK2に基づいてアナログ信号入力端子24に印加さ
れたアナログ信号をディジタル信号に変換する。それら
ディジタル信号はディジタル回路12へ与えられるとと
もに、ディジタル信号出力端子26を介して外部へ出力
される。As shown in FIG. 3, the A / D converter 14a converts the analog signal applied to the analog signal input terminal 24 into a digital signal based on the second clock signal CLK2 from the phase control circuit 16. . These digital signals are given to the digital circuit 12 and output to the outside through the digital signal output terminal 26.
【0042】この半導体集積回路装置10を評価するた
め、正弦波発生器28がアナログ信号入力端子24に接
続され、スペクトルアナライザ30がD/Aコンバータ
32を介してディジタル信号出力端子26に接続され
る。To evaluate this semiconductor integrated circuit device 10, a sine wave generator 28 is connected to the analog signal input terminal 24, and a spectrum analyzer 30 is connected to the digital signal output terminal 26 via the D / A converter 32. .
【0043】これにより、正弦波発生器28により印加
された正弦波はA/Dコンバータ14aによりA/D変
換され、さらにD/Aコンバータ32によりD/A変換
され、その結果がスペクトルアナライザ30により表示
される。この状態でコード信号入力端子22に様々なコ
ード信号X1〜Xkが入力されると、それに基づいて位
相制御回路16のいずれかの遅延素子D1〜D4が活性
化され、第1のクロック信号CLK1および第2のクロ
ック信号CLK2の位相は相対的に様々にシフトされ
る。そして、いずれの遅延素子D1〜D4が活性化され
たとき、正弦波発生回路28により印加された正弦波の
周波数以外の周波数が最小になるのかをスペクトルアナ
ライザ30によって測定する。すなわち、正弦波の再現
性が最も高いとき、ディジタル回路12がA/Dコンバ
ータ14aへ与えるノイズによる影響が最小で、A/D
コンバータ14aの性能は最適化される。As a result, the sine wave applied by the sine wave generator 28 is A / D converted by the A / D converter 14a and further D / A converted by the D / A converter 32, and the result is obtained by the spectrum analyzer 30. Is displayed. When various code signals X1 to Xk are input to the code signal input terminal 22 in this state, one of the delay elements D1 to D4 of the phase control circuit 16 is activated based on the code signals X1 to Xk, and the first clock signal CLK1 and The phase of the second clock signal CLK2 is relatively variously shifted. Then, the spectrum analyzer 30 measures which of the delay elements D1 to D4 is activated to minimize the frequency other than the frequency of the sine wave applied by the sine wave generation circuit 28. That is, when the reproducibility of the sine wave is the highest, the influence of the noise that the digital circuit 12 gives to the A / D converter 14a is minimal, and the A / D
The performance of converter 14a is optimized.
【0044】次に、アナログ回路14の性能が最適にな
る遅延素子D1〜D4が第1および第2のクロック信号
CLK1およびCLK2の位相を相対的にシフトするも
のとして固定される。Next, the delay elements D1 to D4 that optimize the performance of the analog circuit 14 are fixed as those that relatively shift the phases of the first and second clock signals CLK1 and CLK2.
【0045】たとえばデコード信号X2が“1”で、X
1が“0”のときアナログ回路14の性能が最適になる
と判断された場合、図4に示されるように、デコーダ1
8の一方の入力は電源VCCに接続され、他方の入力はグ
ランドGNDに接続される。これにより、位相制御回路
16の遅延素子D3だけが活性化され、位相制御回路1
6に第1のクロック信号CLK1が入力されると、その
遅延素子D3が有する遅延時間だけ遅らされ、第2のク
ロック信号CLK2として出力されることになる。For example, when the decode signal X2 is "1", X
When it is determined that the performance of the analog circuit 14 is optimum when 1 is “0”, as shown in FIG.
One input of 8 is connected to the power supply V CC , and the other input is connected to the ground GND. As a result, only the delay element D3 of the phase control circuit 16 is activated, and the phase control circuit 1
When the first clock signal CLK1 is input to 6, it is delayed by the delay time of the delay element D3 and output as the second clock signal CLK2.
【0046】ここで、デコーダ18の入力を固定する方
法について具体的に説明する。図5は、デコーダ18の
インバータI1またはI2の具体的構成を示す平面図
で、図6は図5に示されたインバータの回路図である。Here, a method for fixing the input of the decoder 18 will be specifically described. FIG. 5 is a plan view showing a specific configuration of the inverter I1 or I2 of the decoder 18, and FIG. 6 is a circuit diagram of the inverter shown in FIG.
【0047】図5および図6に示されるように、このイ
ンバータI1またはI2は、PチャネルMOSトランジ
スタQ1およびNチャネルMOSトランジスタQ2を含
む。PチャネルMOSトランジスタQ1のソースは、電
源VCCに接続された電源ノード34に接続され、Nチャ
ネルMOSトランジスタQ2のソースは、グランドGN
Dに接続されたグランドノード35に接続されている。
PチャネルMOSトランジスタQ1のドレインおよびN
チャネルMOSトランジスタQ2のドレインはインバー
タI1またはI2の出力ノード36に接続され、それら
トランジスタQ1およびQ2のゲートはインバータ1ま
たはI2の入力ノード37に接続されている。その出力
ノード37の端部にはパッド38が形成されている。As shown in FIGS. 5 and 6, the inverter I1 or I2 includes a P channel MOS transistor Q1 and an N channel MOS transistor Q2. The source of the P-channel MOS transistor Q1 is connected to the power supply node 34 connected to the power supply V CC , and the source of the N-channel MOS transistor Q2 is the ground GN.
It is connected to the ground node 35 connected to D.
P-channel MOS transistor Q1 drain and N
The drain of the channel MOS transistor Q2 is connected to the output node 36 of the inverter I1 or I2, and the gates of the transistors Q1 and Q2 are connected to the input node 37 of the inverter 1 or I2. A pad 38 is formed at the end of the output node 37.
【0048】したがって、このパッド38にプローブな
どを用いて電源電圧またはグランド電圧を印加すること
によって位相制御回路16のいずれかの遅延素子D1〜
D4が活性化される。Therefore, by applying a power supply voltage or a ground voltage to the pad 38 using a probe or the like, any one of the delay elements D1 to D1 of the phase control circuit 16 is applied.
D4 is activated.
【0049】そして、アナログ回路14の性能が最適に
なる遅延素子D1〜D4が特定され、たとえば入力ノー
ド37に電源電圧が印加されるべきことが明らかになっ
た場合は、図7に示されるように、試作段階で用いたマ
スクと異なるマスクを用いて入力ノード37aが電源ノ
ード34に接続されるようにレイアウトされる。When the delay elements D1 to D4 that optimize the performance of the analog circuit 14 are specified and it is clear that the power supply voltage should be applied to the input node 37, as shown in FIG. In addition, the input node 37a is laid out so as to be connected to the power supply node 34 using a mask different from the mask used in the trial production stage.
【0050】以上のように、この半導体集積回路装置の
製造方法によれば、ディジタル回路12からアナログ回
路14へのノイズによる影響が最小限になるように、第
1および第2のクロック信号CLK1,CLK2の位相
差を最適に設定することができる。As described above, according to the method of manufacturing the semiconductor integrated circuit device, the first and second clock signals CLK1 and CLK1 are set so that the influence of noise on the digital circuit 12 to the analog circuit 14 is minimized. The phase difference of CLK2 can be optimally set.
【0051】また、試作段階ですべての遅延素子D1〜
D4を活性化し得るような配線パターンにレイアウト
し、量産段階でアナログ回路14の性能が最適になる遅
延素子D1〜D4だけを活性化し得るような配線パター
ンにレイアウトしているので、試作段階から量産段階へ
移行するときに一度だけマスクの改訂を行なえばよい。In addition, all the delay elements D1 to
Since the layout is such that D4 can be activated and only the delay elements D1 to D4 that optimize the performance of the analog circuit 14 at the mass production stage can be activated, mass production is started from the prototype stage. The mask only needs to be revised once at the stage.
【0052】したがって、高性能で安価なアナログ−デ
ィジタル混載型の集積回路装置を短期間で製造し、しか
もアナログ回路12の性能を最適にした状態で出荷する
ことができる。Therefore, a high-performance and inexpensive analog-digital mixed type integrated circuit device can be manufactured in a short period of time, and the analog circuit 12 can be shipped with its performance optimized.
【0053】さらにこの実施例では、デコーダ18が設
けられているので、2つのコード信号X1およびX2に
基づいて4つの遅延素子D1〜D4のいずれかを活性化
することができる。Further, in this embodiment, since the decoder 18 is provided, any of the four delay elements D1 to D4 can be activated based on the two code signals X1 and X2.
【0054】なお、この実施例では、4つの遅延素子D
1〜D4のうちいずれか1つが活性化されるが、2つ以
上が活性化されてもよい。この場合、各遅延素子D1〜
D4の遅延量は同じでもよい。このことは、以下の実施
例でも同様である。 [実施例2]図8は、この発明に従った第2実施例であ
るアナログ−ディジタル混載型の半導体集積回路装置に
おけるデコーダおよび位相制御回路の構成を示すブロッ
ク図である。In this embodiment, four delay elements D
Any one of 1 to D4 is activated, but two or more may be activated. In this case, each delay element D1
The delay amount of D4 may be the same. This also applies to the following examples. [Embodiment 2] FIG. 8 is a block diagram showing structures of a decoder and a phase control circuit in an analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.
【0055】図8に示されるように、この位相制御回路
40は、互いに直列に接続された4つの遅延素子D5〜
D8を含む。さらに、これら遅延素子D5〜D8は、そ
れぞれ2つのインバータI3およびI4,I5およびI
6,I7およびI8,またはI9およびI10と、2つ
のスイッチング素子S1および*S1,S2および*S
2,S3および*S3,S4および*S4とを含む。As shown in FIG. 8, the phase control circuit 40 includes four delay elements D5 to D5 connected in series with each other.
Including D8. Further, these delay elements D5 to D8 are respectively provided with two inverters I3 and I4, I5 and I2.
6, I7 and I8 or I9 and I10 and two switching elements S1 and * S1, S2 and * S
2, S3 and * S3, S4 and * S4.
【0056】デコーダ42は、与えられたコード信号X
1およびX2を論理演算し、その結果を制御信号Y1,
*Y1〜Y4および*Y4として出力する。The decoder 42 receives the applied code signal X
1 and X2 are logically operated, and the result is a control signal Y1,
Output as * Y1 to Y4 and * Y4.
【0057】次の表2はコード信号X1,X2と制御信
号Y1〜Y4との関係を表わす真理値表である。Table 2 below is a truth table showing the relationship between the code signals X1 and X2 and the control signals Y1 to Y4.
【0058】[0058]
【表2】 [Table 2]
【0059】この表2から明らかなように、デコーダ4
2へコード信号X1,X2が与えられると、それに対応
する制御信号Y1,*Y1〜Y4,*Y4がデコーダ4
2から出力される。スイッチング素子S1,*S1〜S
4,*S4は、その制御信号Y1,*Y1〜Y4,*Y
4に応答してターンオンまたはターンオフする。ここ
で、信号の前に付されている*印は、その信号が負論理
(“L”レベルのときに活性状態)であることを示す。As is clear from Table 2, the decoder 4
2 to the code signals X1 and X2, the corresponding control signals Y1, * Y1 to Y4 and * Y4 are transmitted to the decoder 4
It is output from 2. Switching elements S1, * S1 to S
4, * S4 are the control signals Y1, * Y1 to Y4, * Y.
Turn on or off in response to 4. Here, an asterisk (*) before a signal indicates that the signal has a negative logic (active state when it is at "L" level).
【0060】したがって、スイッチング素子S1〜S4
と、スイッチング素子*S1〜S4とは交互にターンオ
ンまたはターンオフするので、位相制御回路40を構成
するインバータの有効数が変化し、全体の遅延時間が変
化する。Therefore, the switching elements S1 to S4
And the switching elements * S1 to S4 are alternately turned on or off, the effective number of inverters forming the phase control circuit 40 changes, and the entire delay time changes.
【0061】このように、位相シフト素子はインバータ
などの論理回路からなる遅延素子で構成されていてもよ
い。As described above, the phase shift element may be composed of a delay element composed of a logic circuit such as an inverter.
【0062】なお、この第2実施例において、インバー
タI4,I6,I8,I10およびスイッチング素子*
1,*S2,*S3,*S4に代えて、トライステート
バッファで構成されていてもよい。また、インバータI
3〜I10に代えて、抵抗で構成されていてもよい。こ
れらについては、以下の実施例においても同様である。 [実施例3]図9は、この発明に従った第3実施例であ
る半導体集積回路装置の位相制御回路およびデコーダの
構成を示すブロック図である。In the second embodiment, inverters I4, I6, I8, I10 and switching elements *
Instead of 1, * S2, * S3, * S4, a tristate buffer may be used. In addition, the inverter I
A resistor may be used instead of 3 to I10. The same applies to the following examples. [Third Embodiment] FIG. 9 is a block diagram showing structures of a phase control circuit and a decoder of a semiconductor integrated circuit device according to a third embodiment of the present invention.
【0063】図9に示されるように、この位相制御回路
44は、互いに直列に接続された4つの遅延素子D9〜
D12を含む。さらに、これら遅延表示D9〜D12
は、1つのインバータI4,I6,I8,I10と、2
つのスイッチング素子S1,*S1〜S4,*S4とを
含む。As shown in FIG. 9, the phase control circuit 44 includes four delay elements D9 to D9 connected in series.
Including D12. Furthermore, these delay displays D9 to D12
Is one inverter I4, I6, I8, I10 and 2
It includes two switching elements S1, * S1 to S4, * S4.
【0064】この位相制御回路44は、図8に示した位
相制御回路40からインバータI3,I5,I7および
I9が取除かれたものと同等である。なお、図中同一符
号で示された部分は同一または相当部分を示し、このこ
とは以下の図においても同様である。 [実施例4]図10は、この発明に従った第4実施例で
ある半導体集積回路装置の位相制御回路およびデコーダ
の構成を示すブロック図である。This phase control circuit 44 is equivalent to the phase control circuit 40 shown in FIG. 8 with inverters I3, I5, I7 and I9 removed. In the drawings, the parts denoted by the same reference numerals indicate the same or corresponding parts, and the same applies to the following drawings. [Fourth Embodiment] FIG. 10 is a block diagram showing structures of a phase control circuit and a decoder of a semiconductor integrated circuit device according to a fourth embodiment of the present invention.
【0065】図10に示されるように、この位相制御回
路46は、4つのインバータI11〜I14と、4つの
スイッチング素子S1〜S4と、容量C1と、インバー
タI15とを含む。As shown in FIG. 10, the phase control circuit 46 includes four inverters I11 to I14, four switching elements S1 to S4, a capacitor C1 and an inverter I15.
【0066】この実施例では、1つのインバータI11
〜I14と、それに直列に接続されたスイッチング素子
S1〜S4と、容量C1とによって1つの遅延素子が構
成される。それらインバータI11〜I14内部の終段
トランジスタのサイズが異なり、各インバータI11〜
I14の駆動能力が異なる。そのため、各インバータI
11〜I14の出力インピーダンスと容量C1とから構
成されるRC回路の時定数が異なり、各遅延素子が有す
る遅延時間はすべて異なる。In this embodiment, one inverter I11
To I14, the switching elements S1 to S4 connected in series thereto, and the capacitor C1 form one delay element. The size of the final-stage transistors inside the inverters I11 to I14 is different,
The driving capability of I14 is different. Therefore, each inverter I
The time constants of the RC circuits composed of the output impedances of 11 to I14 and the capacitance C1 are different, and the delay times of the respective delay elements are all different.
【0067】この位相制御回路46によれば、デコーダ
18からの制御信号Y1〜Y4に応答していずれかのス
イッチング素子S1〜S4がターンオンし、種々の遅延
時間が実現される。According to the phase control circuit 46, any of the switching elements S1 to S4 is turned on in response to the control signals Y1 to Y4 from the decoder 18 and various delay times are realized.
【0068】なお、位相制御回路46の終段にあるイン
バータI15は、波形整形を行なうものであり、特にな
くてもよい。また、デコーダ18は図2に示したものと
同じであるので、その真理値表も表1に示したものと同
じである。さらに、容量C1は、浮遊容量により構成さ
れてもよい。The inverter I15 at the final stage of the phase control circuit 46 performs waveform shaping and may be omitted. Since the decoder 18 is the same as that shown in FIG. 2, its truth table is also the same as that shown in Table 1. Further, the capacitor C1 may be composed of a stray capacitance.
【0069】この実施例によれば、前述した第2および
第3実施例よりもその素子の数は少なくて済む。 [実施例5]図11は、この発明に従った第5実施例で
ある半導体集積回路装置における位相制御回路の構成を
示す回路図である。According to this embodiment, the number of elements is smaller than that of the above-mentioned second and third embodiments. [Fifth Embodiment] FIG. 11 is a circuit diagram showing a structure of a phase control circuit in a semiconductor integrated circuit device according to a fifth embodiment of the present invention.
【0070】図11に示されるように、この位相制御回
路48は、3つのインバータI16〜I18と、2つの
スイッチング素子S1,S2と、容量C1と、インバー
タI15とを含む。As shown in FIG. 11, this phase control circuit 48 includes three inverters I16 to I18, two switching elements S1 and S2, a capacitor C1 and an inverter I15.
【0071】この実施例では、1つのインバータI16
だけにスイッチング素子が接続されておらず、このイン
バータI16は常に第1のクロック信号CLK1を遅ら
せる。各インバータI16〜I18の駆動能力がすべて
異なるのは、前述した第4実施例と同様である。In this embodiment, one inverter I16
No switching element is connected to this inverter, and this inverter I16 always delays the first clock signal CLK1. As in the fourth embodiment, the drive capability of each of the inverters I16 to I18 is different.
【0072】この実施例によれば、前述した第4実施例
よりもさらにその素子の数が削減される。また、スイッ
チング素子S1,S2が2つであるので、コード信号
(たとえばバイナリー信号)X1,X2をそのまま利用
することができ、デコーダも不要になる。 [実施例6]図12は、この発明に従った第6実施例で
ある半導体集積回路装置における位相制御回路の構成を
示す回路図である。According to this embodiment, the number of elements is further reduced as compared with the above-mentioned fourth embodiment. Further, since there are two switching elements S1 and S2, the code signals (for example, binary signals) X1 and X2 can be used as they are, and a decoder is not necessary. [Sixth Embodiment] FIG. 12 is a circuit diagram showing a structure of a phase control circuit in a semiconductor integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention.
【0073】図12に示されるように、この位相制御回
路50は、出力インピーダンスを変化させることができ
るインバータ52と、容量C1とインバータI15とを
含む。As shown in FIG. 12, this phase control circuit 50 includes an inverter 52 capable of changing the output impedance, a capacitor C1 and an inverter I15.
【0074】さらに、このインバータ52は、その入出
力端子に接続されるNチャネルMOSトランジスタQ3
およびPチャネルMOSトランジスタQ4を含み、さら
にそれらトランジスタQ3,Q4の各ソースに接続され
た3つのNチャネルMOSトランジスタQ5〜Q7およ
びPチャネルMOSトランジスタQ8〜Q10を含む。Further, the inverter 52 has an N channel MOS transistor Q3 connected to its input / output terminal.
And P channel MOS transistor Q4, and further includes three N channel MOS transistors Q5 to Q7 and P channel MOS transistors Q8 to Q10 connected to respective sources of transistors Q3 and Q4.
【0075】これら3つのトランジスタQ5〜Q7また
はQ8〜Q10のサイズはそれぞれ異なり、各トランジ
スタが有するドレイン抵抗が異なる。The sizes of these three transistors Q5 to Q7 or Q8 to Q10 are different, and the drain resistances of the respective transistors are different.
【0076】したがって、トランジスタQ6,Q7また
はQ9,Q10のゲートにコード信号X1,X2または
*X1,*X2を印加することによって、このインバー
タ52の出力インピーダンスを変化させることができ
る。そのため、このインバータ52の出力インピーダン
スおよび容量C1から構成されるRC回路の時定数を変
化させることができ、その結果、この位相制御回路50
が有する遅延時間を変化させることができる。Therefore, the output impedance of the inverter 52 can be changed by applying the code signals X1, X2 or * X1, * X2 to the gates of the transistors Q6, Q7 or Q9, Q10. Therefore, the time constant of the RC circuit composed of the output impedance of the inverter 52 and the capacitance C1 can be changed, and as a result, the phase control circuit 50 can be changed.
Can have a different delay time.
【0077】この実施例では、負論理のコード信号*X
1,*X2を発生するインバータが必要になるが、前述
した第5実施例よりもさらにその素子の数が削減され
る。 [実施例7]これまでの第2実施例ないし第6実施例で
は、基本的にゲート遅延が利用されているので、大きな
遅延時間を生じさせようとすると、トランジスタのサイ
ズが大きくなったり、インバータの数が増えるという問
題がある。In this embodiment, a negative logic code signal * X
Although an inverter for generating 1 and * X2 is required, the number of elements is further reduced as compared with the fifth embodiment described above. [Embodiment 7] In the second to sixth embodiments, the gate delay is basically used. Therefore, if a large delay time is to be generated, the size of the transistor becomes large and the inverter becomes large. There is a problem that the number of
【0078】図13は、この問題を解決するためのもの
で、この発明に従った第7実施例である半導体集積回路
装置における位相制御回路54およびデコーダ18の構
成を示すブロック図である。FIG. 13 is a block diagram showing a structure of the phase control circuit 54 and the decoder 18 in the semiconductor integrated circuit device according to the seventh embodiment of the present invention for solving this problem.
【0079】図13に示されるように、この位相制御回
路54は、駆動能力が極めて小さいインバータI19
と、容量C2と、論理しきい値の異なる4つのインバー
タI20〜I23と、4つのスイッチング素子S1〜S
4と、インバータI15とを含む。As shown in FIG. 13, the phase control circuit 54 includes an inverter I19 having a very small driving capability.
, A capacitor C2, four inverters I20 to I23 having different logic thresholds, and four switching elements S1 to S
4 and an inverter I15.
【0080】この位相制御回路54によれば、そのイン
バータI19および容量C2によって第1のクロック信
号CLK1が鈍り、図14に示されるような電圧VA に
なる。4つのインバータI20〜I23は、すべてその
論理しきい値が異なるので、各インバータI20〜I2
3の出力電圧VB ,VC ,VD およびVE は、図14に
示されるように、それぞれ異なるタイミングで立下がる
とともに、立上がる。According to the phase control circuit 54, the first clock signal CLK1 becomes dull due to the inverter I19 and the capacitance C2, and the voltage V A becomes as shown in FIG. Since the four inverters I20 to I23 have different logic threshold values, the respective inverters I20 to I2 are different.
As shown in FIG. 14, the output voltages V B , V C , V D and V E of No. 3 fall and rise at different timings.
【0081】なお、この実施例では、インバータI2
0、I21、I22、I23の順で論理しきい値が低く
なる。In this embodiment, the inverter I2
The logical threshold value becomes lower in the order of 0, I21, I22, I23.
【0082】また、インバータI19の出力ノードにお
ける電圧VA の鈍り量は、インバータI19の出力イン
ピーダンスに依存する。したがって、図15に示される
ように、インバータI19を構成するNチャネルMOS
トランジスタQ3およびPチャネルMOSトランジスタ
Q4の各ソースにNチャネルMOSトランジスタQ11
およびPチャネルMOSトランジスタQ12を接続し、
これらトランジスタQ11およびQ12の各ゲートに印
加される電圧Z1よびZ2を制御することによって、任
意の鈍り量を実現することもできる。 [実施例8]前述した第7実施例ではインバータI19
の出力ノードにおける電圧VA の鈍りが非線形であるた
め、遅延時間を調整することが困難である。The dull amount of voltage V A at the output node of inverter I19 depends on the output impedance of inverter I19. Therefore, as shown in FIG. 15, the N channel MOS forming the inverter I19 is formed.
The N-channel MOS transistor Q11 is connected to the sources of the transistor Q3 and the P-channel MOS transistor Q4.
And a P-channel MOS transistor Q12 are connected,
By controlling the voltages Z1 and Z2 applied to the gates of the transistors Q11 and Q12, an arbitrary amount of dullness can be realized. [Embodiment 8] In the seventh embodiment, the inverter I19 is used.
It is difficult to adjust the delay time because the bluntness of the voltage V A at the output node of is non-linear.
【0083】図16は、この問題を解決するためになさ
れたもので、この発明に従った第8実施例である半導体
集積回路装置における位相制御回路およびデコーダの構
成を示すブロック図である。FIG. 16 is a block diagram showing a structure of a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to an eighth embodiment of the present invention, which is provided to solve this problem.
【0084】図16に示されるように、この位相制御回
路56は、位相制御回路54のインバータI19および
容量C2に代えて、積分器58を含む。積分器58は、
たとえばオペアンプなどから構成される積分回路、また
は容量および抵抗から構成されるCR回路などである。As shown in FIG. 16, the phase control circuit 56 includes an integrator 58 instead of the inverter I19 and the capacitor C2 of the phase control circuit 54. The integrator 58 is
For example, it is an integrating circuit composed of operational amplifiers or a CR circuit composed of capacitors and resistors.
【0085】この位相制御回路56によれば、図17に
示されるように、積分器58の出力電圧VA が線形化さ
れるので、前述した第7実施例と比較して遅延時間を容
易に調整することができる。また、積分器58を構成す
る容量または抵抗の値を変えることによって出力電圧V
A の波形の傾きを制御することもでき、これにより各イ
ンバータI20〜I23の有する遅延時間を一定時間ず
つ長くすることができる。 [実施例9]前述した第7および第8実施例では、デュ
ーティ比が変化するという問題がある。According to the phase control circuit 56, the output voltage V A of the integrator 58 is linearized as shown in FIG. 17, so that the delay time can be easily compared with the seventh embodiment. Can be adjusted. In addition, the output voltage V is changed by changing the value of the capacitance or the resistance that configures the integrator 58.
It is also possible to control the slope of the waveform of A , whereby the delay time of each of the inverters I20 to I23 can be lengthened by a fixed time. [Ninth Embodiment] The seventh and eighth embodiments described above have a problem that the duty ratio changes.
【0086】図18は、このような問題を解決するため
になされたもので、この発明に従っった第9実施例であ
る半導体集積回路装置における位相制御回路およびデコ
ーダの構成を示すブロック図である。FIG. 18 is a block diagram showing a structure of a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to a ninth embodiment of the present invention, which is provided to solve such a problem. is there.
【0087】図18に示されるように、この位相制御回
路60は、前述した位相制御回路56に加えてさらに、
インバータI24およびI25と、ORゲートO1,O
2,O3,O4,O5およびO6と、ANDゲートA
5,A6,A7およびA8とを含む。As shown in FIG. 18, this phase control circuit 60 further includes, in addition to the phase control circuit 56 described above,
Inverters I24 and I25 and OR gates O1 and O
2, O3, O4, O5 and O6 and AND gate A
5, A6, A7 and A8.
【0088】図19は、この位相制御回路60を構成す
るインバータI20,I21,I22およびI23の出
力電圧VB ,VC ,VD およびVE と、ORゲートO
1,O2,O3,O4,O5およびO6の出力電圧
VF ,VH ,VK ,VJ ,VN およびVM と、ANDゲ
ートA5,A6,A7およびA8の出力電圧VG ,
VI ,V L およびVO とを表わすタイムチャートであ
る。FIG. 19 shows the configuration of this phase control circuit 60.
Output of inverters I20, I21, I22 and I23
Force voltage VB, VC, VDAnd VEAnd OR gate O
Output voltage of 1, O2, O3, O4, O5 and O6
VF, VH, VK, VJ, VNAnd VMAnd AND
Output voltage V of the gates A5, A6, A7 and A8G,
VI, V LAnd VOIs a time chart showing
It
【0089】図19のタイムチャートに示されるよう
に、この位相制御回路60によれば、入力された第1の
クロック信号CLK1と同じデューティ比50%の第2
のクロック信号CLK2が得られる。また、第2のクロ
ック信号CLK2の遅延量は、デコーダ18によって変
えることができる。As shown in the time chart of FIG. 19, according to the phase control circuit 60, the second duty ratio 50%, which is the same as that of the input first clock signal CLK1, is used.
The clock signal CLK2 is obtained. Further, the delay amount of the second clock signal CLK2 can be changed by the decoder 18.
【0090】次の表3は、位相が180°シフトされた
ときの遅延率を100%とした場合において、各AND
ゲートA5,A6,A7およびA8の出力電圧VG ,V
I ,VL およびVO の遅延率およびデューティ比を表わ
す。Table 3 below shows each AND when the delay rate when the phase is shifted by 180 ° is 100%.
Output voltages V G , V of the gates A5, A6, A7 and A8
I, representing the delay rate and the duty ratio of the V L and V O.
【0091】[0091]
【表3】 [Table 3]
【0092】ここで、位相を180°〜360°の間で
シフトする場合は、第1のクロック信号CLK1の反転
信号*CLK1を利用して、上記位相制御回路60と同
じ回路に構成すればよい。Here, in the case of shifting the phase between 180 ° and 360 °, the same circuit as the phase control circuit 60 may be constructed by utilizing the inverted signal * CLK1 of the first clock signal CLK1. .
【0093】なお、遅延時間をどのような範囲で変化さ
せるかは設計段階で決定される。これまでの実施例で
は、遅延時間の異なる4種類の遅延素子が用いられてい
るが、設計段階における判断によって、遅延素子の数、
および遅延時間は適宜決定される。 [実施例10]図20は、この発明に従った半導体集積
回路装置の第10実施例を示すブロック図である。The range in which the delay time is changed is determined at the design stage. In the above embodiments, four types of delay elements having different delay times are used. However, the number of delay elements,
And the delay time is appropriately determined. [Embodiment 10] FIG. 20 is a block diagram showing a tenth embodiment of a semiconductor integrated circuit device according to the present invention.
【0094】図20に示されるように、この半導体集積
回路装置62は、ディジタル回路12、アナログ回路1
4、位相制御回路16、およびデコーダ18を含む。こ
の第10実施例が上記第1実施例と異なるところは、第
1実施例ではアナログ回路14に入力されるクロック信
号をディジタル回路12に入力されるクロック信号より
も遅らせたのに対して、この第10実施例ではアナログ
回路14に入力される第2のクロック信号CLK2の位
相よりもディジタル回路12に入力される第1のクロッ
ク信号CLK1の位相を遅らせているところである。As shown in FIG. 20, the semiconductor integrated circuit device 62 includes a digital circuit 12 and an analog circuit 1.
4, a phase control circuit 16, and a decoder 18. The tenth embodiment differs from the first embodiment in that the clock signal input to the analog circuit 14 is delayed in comparison with the clock signal input to the digital circuit 12 in the first embodiment. In the tenth embodiment, the phase of the first clock signal CLK1 input to the digital circuit 12 is delayed relative to the phase of the second clock signal CLK2 input to the analog circuit 14.
【0095】この位相制御回路16は、クロック信号入
力端子20に印加された第2のクロック信号CLK2を
一定時間だけ遅らせ、それを第1のクロック信号CLK
1として出力する。The phase control circuit 16 delays the second clock signal CLK2 applied to the clock signal input terminal 20 by a fixed time and delays it by the first clock signal CLK.
Output as 1.
【0096】この実施例から明らかなように、位相が遅
らされるクロック信号は、アナログ回路またはディジタ
ル回路のいずれに入力されるクロック信号でもよい。 [実施例11]図21は、この発明に従った第11実施
例である半導体集積回路装置の構成を示すブロック図で
ある。As is apparent from this embodiment, the clock signal whose phase is delayed may be the clock signal input to either the analog circuit or the digital circuit. [Eleventh Embodiment] FIG. 21 is a block diagram showing a structure of a semiconductor integrated circuit device according to an eleventh embodiment of the present invention.
【0097】図21に示されるように、この半導体集積
回路装置64は、ディジタル回路12、アナログ回路1
4、第1および第2の位相制御回路16aおよび16
b、およびデコーダ18を含む。この第11実施例が上
記第1および第10実施例と異なるところは、ディジタ
ル回路12に入力される第1のクロック信号CLK1お
よびアナログ回路14に入力される第2のクロック信号
CLK2ともに遅らされているところである。すなわ
ち、クロック信号入力端子20に印加された基準クロッ
ク信号CLK0は、第1の位相制御回路16aにより一
定時間だけ遅らされ、第1のクロック信号CLK1とし
て出力されるとともに、基準クロック信号CLK0は、
第2の位相制御回路16bにより一定時間だけ遅らさ
れ、第2のクロック信号CLK2として出力される。第
1および第2の位相制御回路16aおよび16bの遅延
時間は、デコーダ18からの制御信号Xによって制御さ
れる。As shown in FIG. 21, the semiconductor integrated circuit device 64 includes a digital circuit 12 and an analog circuit 1.
4, first and second phase control circuits 16a and 16
b, and decoder 18. The eleventh embodiment differs from the first and tenth embodiments in that both the first clock signal CLK1 input to the digital circuit 12 and the second clock signal CLK2 input to the analog circuit 14 are delayed. It's about to come. That is, the reference clock signal CLK0 applied to the clock signal input terminal 20 is delayed by the first phase control circuit 16a for a fixed time and is output as the first clock signal CLK1.
The second phase control circuit 16b delays the signal by a predetermined time and outputs it as the second clock signal CLK2. The delay time of the first and second phase control circuits 16a and 16b is controlled by the control signal X from the decoder 18.
【0098】この実施例から明らかなように、第1およ
び第2のクロック信号CLK1およびCLK2の位相を
それぞれ異なる時間だけ遅らせることによって、それら
の位相を相対的に一定量だけシフトするようにしてもよ
い。 [実施例12]図22は、この発明の第12実施例であ
る半導体集積回路装置の構成を示すブロック図である。As is apparent from this embodiment, the phases of the first and second clock signals CLK1 and CLK2 are delayed by different times so that the phases thereof are relatively shifted by a constant amount. Good. [Embodiment 12] FIG. 22 is a block diagram showing a structure of a semiconductor integrated circuit device according to a twelfth embodiment of the present invention.
【0099】図22に示されるように、この半導体集積
回路装置66は、ディジタル回路12、アナログ回路1
4、位相制御回路16、およびデコーダ18を含む。As shown in FIG. 22, the semiconductor integrated circuit device 66 includes a digital circuit 12 and an analog circuit 1.
4, a phase control circuit 16, and a decoder 18.
【0100】この第12実施例が上記第1ないし第3実
施例と異なるところは、アナログ回路14がクロック信
号によって制御されていないところである。このアナロ
グ回路14は、入力端子68からのアナログ入力信号を
処理し、その結果をアナログ出力信号として出力端子7
0から外部へ出力する。The twelfth embodiment differs from the first to third embodiments in that the analog circuit 14 is not controlled by a clock signal. The analog circuit 14 processes an analog input signal from the input terminal 68 and outputs the result as an analog output signal to the output terminal 7
Output from 0 to the outside.
【0101】この場合、アナログ回路14はクロック信
号によって制御されていないので、ディジタル回路12
からのノイズによる干渉を低減できないようにも考えら
れるが、そのアナログ出力信号が、クロック信号によっ
て制御された外部のアナログ回路に入力される場合は、
その外部のアナログ回路に入力される第2のクロック信
号CLK2の位相と、ディジタル回路12に入力される
第1のクロック信号CLK1の位相とをシフトすること
によって、その外部のアナログ回路の性能を最適化する
ことができる。In this case, since the analog circuit 14 is not controlled by the clock signal, the digital circuit 12
Although it may be considered that the interference due to noise from can not be reduced, when the analog output signal is input to the external analog circuit controlled by the clock signal,
Optimizing the performance of the external analog circuit by shifting the phase of the second clock signal CLK2 input to the external analog circuit and the phase of the first clock signal CLK1 input to the digital circuit 12. Can be converted.
【0102】このように、ディジタル回路と同一基板上
に形成されたアナログ回路はクロック信号に基づいて動
作しなくても、そのアナログ回路に接続される外部のア
ナログ回路がクロック信号によって制御されている場合
は、それらクロック信号の位相を相対的にシフトするこ
とによって、ディジタル回路がアナログ回路へ与えるノ
イズによる影響を最小限に抑えることができる。As described above, even if the analog circuit formed on the same substrate as the digital circuit does not operate based on the clock signal, the external analog circuit connected to the analog circuit is controlled by the clock signal. In this case, by relatively shifting the phases of the clock signals, it is possible to minimize the influence of noise that the digital circuit has on the analog circuit.
【0103】[0103]
【発明の効果】この発明に従った半導体集積回路装置
は、ディジタル回路を制御する第1のクロック信号と、
アナログ回路を制御する第2のクロック信号との位相を
相対的にシフトし得る複数の位相シフト素子を予め用意
しておき、それら位相シフト素子のうちいずれかを活性
化することによってその位相を相対的に一定量だけシフ
トするように構成されているので、いかなる構成のアナ
ログ−ディジタル混載型の半導体集積回路装置であって
もディジタル回路およびアナログ回路間におけるノイズ
による影響を最小限に低減することができ、それら回路
の性能を常に最適化することができる。A semiconductor integrated circuit device according to the present invention includes a first clock signal for controlling a digital circuit,
A plurality of phase shift elements capable of relatively shifting the phase with respect to the second clock signal for controlling the analog circuit are prepared in advance, and one of the phase shift elements is activated to make the phase relative to each other. Since it is configured to shift by a fixed amount, it is possible to minimize the influence of noise between the digital circuit and the analog circuit in the analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device of any configuration. Therefore, the performance of those circuits can always be optimized.
【0104】一方、この発明に従った半導体集積回路装
置の製造方法は、ディジタル回路を制御する第1のクロ
ック信号と、アナログ回路を制御する第2のクロック信
号との位相を相対的にシフトし得る位相シフト素子を予
め複数形成しておき、その位相シフト素子の中からディ
ジタル回路およびアナログ回路間におけるノイズによる
影響が最小になる位相シフト素子を探し出し、それを固
定するようにしているので、ディジタル回路およびアナ
ログ回路が常に最適に動作する半導体集積回路装置を極
めて容易に製造することができる。On the other hand, in the method of manufacturing the semiconductor integrated circuit device according to the present invention, the phases of the first clock signal for controlling the digital circuit and the second clock signal for controlling the analog circuit are relatively shifted. Since a plurality of phase shift elements to be obtained are formed in advance, the phase shift element that minimizes the influence of noise between the digital circuit and the analog circuit is searched from the phase shift elements, and the phase shift element is fixed. A semiconductor integrated circuit device in which a circuit and an analog circuit always operate optimally can be manufactured very easily.
【0105】また、この発明に従った半導体集積回路装
置の製造方法は、試作段階で最適の位相シフト量を備え
た位相シフト素子を探し出し、量産段階でその探し出し
た位相シフト素子を固定した状態で複数の位相シフト素
子を形成するようにしているので、試作段階から量産段
階へ移行するときに少なくとも一度だけマスクの改訂を
行なうだけでよく、極めて簡単にディジタル回路および
アナログ回路を制御するクロック信号の位相を最適にシ
フトしたアナログ−ディジタル混載型の半導体集積回路
装置を製造することができる。Further, in the method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to the present invention, a phase shift element having an optimum phase shift amount is searched for in the trial production stage, and the searched phase shift element is fixed in the mass production stage. Since multiple phase shift elements are formed, it is only necessary to revise the mask at least once when shifting from the trial production stage to the mass production stage, and it is extremely easy to use the clock signal for controlling the digital circuit and the analog circuit. It is possible to manufacture an analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device in which the phase is optimally shifted.
【図1】この発明の第1実施例による半導体集積回路装
置の構成を示すブロック図である。FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a semiconductor integrated circuit device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】図1に示された半導体集積回路装置の位相制御
回路およびデコーダの具体的な構成を示す回路図であ
る。2 is a circuit diagram showing a specific configuration of a phase control circuit and a decoder of the semiconductor integrated circuit device shown in FIG.
【図3】この発明の第1実施例による半導体集積回路装
置の製造方法において、最適の遅延時間を有する遅延素
子を探し出す方法を説明するためのブロック図である。FIG. 3 is a block diagram illustrating a method of finding a delay element having an optimum delay time in the method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device according to the first embodiment of the present invention.
【図4】図1および図2に示された半導体集積回路装置
において、最適の遅延時間を有する遅延素子が活性化さ
れた状態のデコーダおよび位相制御回路を示す回路図で
ある。4 is a circuit diagram showing a decoder and a phase control circuit in a state where a delay element having an optimum delay time is activated in the semiconductor integrated circuit device shown in FIGS. 1 and 2. FIG.
【図5】図2および図4に示されたインバータの具体的
な構成を示す平面図である。5 is a plan view showing a specific configuration of the inverter shown in FIGS. 2 and 4. FIG.
【図6】図5に示されたインバータの回路図である。6 is a circuit diagram of the inverter shown in FIG.
【図7】図5に示されたインバータの配線パターンを量
産用の配線パターンに変更した様子を示す平面図であ
る。FIG. 7 is a plan view showing a state in which the wiring pattern of the inverter shown in FIG. 5 is changed to a wiring pattern for mass production.
【図8】この発明の第2実施例による半導体集積回路装
置における位相制御回路およびデコーダを示すブロック
図である。FIG. 8 is a block diagram showing a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to a second embodiment of the present invention.
【図9】この発明の第3実施例による半導体集積回路装
置における位相制御回路およびデコーダを示すブロック
図である。FIG. 9 is a block diagram showing a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to a third embodiment of the present invention.
【図10】この発明の第4実施例による半導体集積回路
装置における位相制御回路およびデコーダを示すブロッ
ク図である。FIG. 10 is a block diagram showing a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to a fourth embodiment of the present invention.
【図11】この発明の第5実施例による半導体集積回路
装置における位相制御回路を示す回路図である。FIG. 11 is a circuit diagram showing a phase control circuit in a semiconductor integrated circuit device according to a fifth embodiment of the present invention.
【図12】この発明の第6実施例による半導体集積回路
装置における位相制御回路を示す回路図である。FIG. 12 is a circuit diagram showing a phase control circuit in a semiconductor integrated circuit device according to a sixth embodiment of the present invention.
【図13】この発明の第7実施例による半導体集積回路
装置における位相制御回路およびデコーダを示すブロッ
ク図である。FIG. 13 is a block diagram showing a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to a seventh embodiment of the present invention.
【図14】図13に示された位相制御回路の動作を示す
タイムチャートである。FIG. 14 is a time chart showing the operation of the phase control circuit shown in FIG.
【図15】図13に示された位相制御回路を構成する入
力段のインバータの具体的な構成を示す回路図である。15 is a circuit diagram showing a specific configuration of an input stage inverter that constitutes the phase control circuit shown in FIG.
【図16】この発明の第8実施例による半導体集積回路
装置における位相制御回路およびデコーダを示すブロッ
ク図である。FIG. 16 is a block diagram showing a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to an eighth embodiment of the present invention.
【図17】図16に示された位相制御回路の動作を示す
タイムチャートである。17 is a time chart showing an operation of the phase control circuit shown in FIG.
【図18】この発明の第9実施例による半導体集積回路
装置における位相制御回路およびデコーダを示すブロッ
ク図である。FIG. 18 is a block diagram showing a phase control circuit and a decoder in a semiconductor integrated circuit device according to a ninth embodiment of the present invention.
【図19】図18に示された位相制御回路の動作を示す
タイムチャートである。19 is a time chart showing an operation of the phase control circuit shown in FIG.
【図20】この発明の第10実施例による半導体集積回
路装置の構成を示すブロック図である。FIG. 20 is a block diagram showing the structure of a semiconductor integrated circuit device according to a tenth embodiment of the present invention.
【図21】この発明の第11実施例による半導体集積回
路装置の構成を示すブロック図である。FIG. 21 is a block diagram showing the structure of a semiconductor integrated circuit device according to an eleventh embodiment of the present invention.
【図22】この発明の第12実施例による半導体集積回
路装置の構成を示すブロック図である。FIG. 22 is a block diagram showing the structure of a semiconductor integrated circuit device according to a twelfth embodiment of the present invention.
【図23】従来のアナログ−ディジタル混載型半導体集
積回路装置の一例を示すブロック図である。FIG. 23 is a block diagram showing an example of a conventional analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device.
【図24】図23に示された半導体集積回路装置の動作
を説明するためのタイミングチャートである。FIG. 24 is a timing chart for explaining the operation of the semiconductor integrated circuit device shown in FIG. 23.
【図25】従来のアナログ−ディジタル混載型半導体集
積回路装置の他の例を示すブロック図である。FIG. 25 is a block diagram showing another example of a conventional analog-digital mixed type semiconductor integrated circuit device.
10,62,64,66 半導体集積回路装置 12 ディジタル回路 14 アナログ回路 16,16a,16b,40,44,46,48,5
0,54,56,60位相制御回路 18,42 デコーダ CLK1 第1のクロック信号 CLK2 第2のクロック信号 X1〜Xk コード信号 D1〜D4 遅延素子 R1〜R4 抵抗10, 62, 64, 66 semiconductor integrated circuit device 12 digital circuit 14 analog circuit 16, 16a, 16b, 40, 44, 46, 48, 5
0, 54, 56, 60 Phase control circuit 18, 42 Decoder CLK1 First clock signal CLK2 Second clock signal X1 to Xk Code signal D1 to D4 Delay element R1 to R4 Resistance
Claims (4)
づいて動作するディジタル回路と、 前記半導体基板上に形成され、前記第1のクロック信号
と同じ周期の第2のクロック信号に基づいて動作するア
ナログ回路と、 前記第1および第2のクロック信号の位相を相対的にシ
フトし得る複数の位相シフト素子を含み、それら位相シ
フト素子のうちいずれかが活性化されることによって、
前記第1および第2のクロック信号の位相を相対的に一
定量だけシフトする位相制御手段とを含む、半導体集積
回路装置。1. A semiconductor integrated circuit device, comprising: a semiconductor substrate; a digital circuit formed on the semiconductor substrate and operating based on a first clock signal; and formed on the semiconductor substrate. An analog circuit that operates based on a second clock signal having the same cycle as the first clock signal; and a plurality of phase shift elements that can relatively shift the phases of the first and second clock signals, By activating one of those phase shift elements,
A semiconductor integrated circuit device, comprising: a phase control unit that relatively shifts the phases of the first and second clock signals by a fixed amount.
相シフト素子のいずれかを活性化するデコード手段を含
む、請求項1に記載の半導体集積回路装置。2. The semiconductor integrated circuit device according to claim 1, further comprising decoding means for activating any one of said phase shift elements based on a given code signal.
に形成され、第1のクロック信号に基づいて動作するデ
ィジタル回路と、前記半導体基板上に形成され、前記第
1のクロック信号と同じ周期の第2のクロック信号に基
づいて動作するアナログ回路とを含む、半導体集積回路
装置の製造方法であって、 前記半導体基板上に、前記第1および第2のクロック信
号の位相を相対的にシフトし得る複数の位相シフト素子
を形成する工程と、 前記位相シフト素子のうちいずれが活性化されると、前
記ディジタル回路および前記アナログ回路間におけるノ
イズによる影響が最小になるのか探し出す工程と、 前記探し出した位相シフト素子を、前記第1および第2
のクロック信号の位相を相対的にシフトするものとし
て、活性化し得るように固定する工程とを含む、半導体
集積回路装置の製造方法。3. A semiconductor substrate, a digital circuit formed on the semiconductor substrate and operating on the basis of a first clock signal, and a digital circuit formed on the semiconductor substrate, the same as the first clock signal. A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device, comprising: an analog circuit that operates based on a second clock signal of a cycle, wherein the phases of the first and second clock signals are relatively arranged on the semiconductor substrate. Forming a plurality of shiftable phase shift elements, and finding out which one of the phase shift elements is activated to minimize the effect of noise between the digital circuit and the analog circuit, The phase shift element found is replaced with the first and second phase shift elements.
And a step of fixing the clock signal so that it can be activated so that the phase of the clock signal is relatively shifted.
に形成され、第1のクロック信号に基づいて動作するデ
ィジタル回路と、前記半導体基板上に形成され、前記第
1のクロック信号と同じ周期の第2のクロック信号に基
づいて動作するアナログ回路とを含む、半導体集積回路
装置の製造方法であって、 試作段階と量産段階とを含み、 前記試作段階はさらに、 前記半導体基板上に、前記第1および第2のクロック信
号の位相を相対的にシフトし得る複数の位相シフト素子
を形成する工程と、 前記位相シフト素子のうちいずれが活性化されると、前
記ディジタル回路および前記アナログ回路間におけるノ
イズによる影響が最小になるのか探し出す工程とを含
み、 前記量産段階はさらに、 前記探し出した位相シフト素子を、前記第1および第2
のクロック信号の位相を相対的にシフトするものとし
て、活性化し得るように固定した状態で前記複数の位相
シフト素子を形成する工程を含む、 半導体集積回路装置の製造方法。4. A semiconductor substrate, a digital circuit formed on the semiconductor substrate and operating based on a first clock signal, and a digital circuit formed on the semiconductor substrate, the same as the first clock signal. A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device, comprising: an analog circuit that operates based on a second clock signal of a cycle, including a prototype stage and a mass production stage, wherein the prototype stage further comprises: Forming a plurality of phase shift elements capable of relatively shifting the phases of the first and second clock signals, and which of the phase shift elements is activated, the digital circuit and the analog circuit Between the first and the first and second phase shift elements, wherein the mass production step further comprises: Two
2. A method of manufacturing a semiconductor integrated circuit device, comprising the step of forming the plurality of phase shift elements in a fixed state so as to be activated so that the phase of the clock signal is relatively shifted.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5071457A JPH06283999A (en) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | Semiconductor integrated circuit device and its manufacture |
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JP5071457A JPH06283999A (en) | 1993-03-30 | 1993-03-30 | Semiconductor integrated circuit device and its manufacture |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
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