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JPH06289056A - Probe unit - Google Patents

Probe unit

Info

Publication number
JPH06289056A
JPH06289056A JP7702893A JP7702893A JPH06289056A JP H06289056 A JPH06289056 A JP H06289056A JP 7702893 A JP7702893 A JP 7702893A JP 7702893 A JP7702893 A JP 7702893A JP H06289056 A JPH06289056 A JP H06289056A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
wire
contact
probe
probe unit
probe pin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP7702893A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takaaki Yuzutori
登明 柚鳥
Masahiko Uchimura
政彦 内村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Kobe Steel Ltd
Original Assignee
Kobe Steel Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Kobe Steel Ltd filed Critical Kobe Steel Ltd
Priority to JP7702893A priority Critical patent/JPH06289056A/en
Publication of JPH06289056A publication Critical patent/JPH06289056A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Measuring Leads Or Probes (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide a prove unit in which a contact resistance when a probe pin is brought into contact with a surface to be inspected is reduced to stabilize a contact state, a contact position accuracy can be improved and further surface pressure at the time of contact is increased to obtain an excellent electrical connection. CONSTITUTION:A probe pin 2 made of an extrafine metal wire having a diameter of 150mum and coated with a conductive metal film is so fixed as to partly protrude from an insulation base 3 at a predetermined pitch on the base 3, thereby forming a probe unit 1. In this case, a protruding part 2b of the pin 2 is bent in a shape having self-elasticity, a tapered pointed part 2d is formed at an end of the part 2b, and a spherical part 2e having a quenched solidified structure formed by melting and solidifying an end face of the wire is formed at an end of the part 2b.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、例えば半導体集積回路
(IC),液晶ディスプレイ(LCD)等の電気的導通
性を検査する際に使用されるプローブユニットに関し、
詳細にはプローブピンを被検査面に当接させたときの接
触抵抗を小さくして接触状態を安定化でき、かつ接触位
置精度を向上でき、さらには接触時の面圧を増大して良
好な電気的導通を得ることができるようにしたプローブ
ピンの構造に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a probe unit used for inspecting electrical conductivity of a semiconductor integrated circuit (IC), a liquid crystal display (LCD), etc.
Specifically, the contact resistance when the probe pin is brought into contact with the surface to be inspected can be reduced to stabilize the contact state, the contact position accuracy can be improved, and the surface pressure at the time of contact can be increased to improve the contact state. The present invention relates to a probe pin structure capable of obtaining electric conduction.

【0002】[0002]

【従来の技術】一般に、パソコン,テレビ等の画面装置
に採用される液晶ディスプレイ、またコンピュータ,通
信機器等に採用される半導体集積回路を製造する場合、
この製造工程において各種の導通検査が行われる。例え
ば、液晶基板の導体線やIC基板の回路配線の導通検査
を行う場合、従来、図16及び図17に示すようなプロ
ーブユニットが採用されている(特開平1−32115
8号公報参照)。このプローブユニット51は、プロー
ブピン52をコ字状の取付部52aと接触部52bとで
構成し、この取付部52aを絶縁性基台53に所定ピッ
チごとに装着するとともに、上記接触部52aを被検査
基板50に対して傾斜させた構造となっている。なお、
54は測定機器に接続されるリード線である。これは上
記プローブユニット51を垂直方向に下降させてプロー
ブピン52の先端の接触子52cを被検査基板50の各
導体に当接させ、これにより電気的導通性をチェックす
るものである。上記プローブユニット51によれば、各
プローブピン52の自己弾性によって当接時の荷重のば
らつきを吸収できることから被検査基板50に略同時に
接触し、安定した検査性能が得られる。
2. Description of the Related Art Generally, when manufacturing a liquid crystal display used in a screen device such as a personal computer or a television, or a semiconductor integrated circuit used in a computer or a communication device,
Various continuity tests are performed in this manufacturing process. For example, a probe unit as shown in FIGS. 16 and 17 has been conventionally used for conducting a continuity inspection of a conductor line of a liquid crystal substrate or a circuit wiring of an IC substrate (Japanese Patent Laid-Open No. 1-32115).
No. 8). In this probe unit 51, a probe pin 52 is composed of a U-shaped mounting portion 52a and a contact portion 52b. The mounting portion 52a is mounted on an insulating base 53 at a predetermined pitch, and the contact portion 52a is The structure is inclined with respect to the inspected substrate 50. In addition,
Reference numeral 54 is a lead wire connected to the measuring device. This is to lower the probe unit 51 in the vertical direction to bring the contact 52c at the tip of the probe pin 52 into contact with each conductor of the inspected substrate 50, thereby checking the electrical continuity. According to the probe unit 51, since the variation in the load at the time of contact can be absorbed by the self-elasticity of the probe pins 52, the probe units 52 come into contact with the substrate 50 to be inspected at substantially the same time, and stable inspection performance can be obtained.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記従来
のプローブユニットでは、プローブピンの接触子の端面
がカッター等で軸直交方向に切断した形状であることか
ら、被検査面に当接させた際の接触抵抗が大きいという
問題があり、また当接時の接触状態が不安定になるとと
もに、接触位置精度を向上できないという問題がある。
However, in the above-mentioned conventional probe unit, since the end surface of the contact of the probe pin is cut in a direction orthogonal to the axis by a cutter or the like, when contacting the surface to be inspected. There is a problem that the contact resistance is large, and there is a problem that the contact state at the time of contact becomes unstable and the contact position accuracy cannot be improved.

【0004】また、上記プローブユニットにおいてはそ
の用途からして、被検査面に対する荷重のばらつきを吸
収でき、かつ接触と同時に導通性が得られなければなら
ない。そのためにはプローブユニットの押圧荷重を大き
くすることなくプローブピンの接触圧力だけを大きくす
る必要があり、この点での改善が要請されている。
Further, in the probe unit, it is necessary to absorb variations in the load on the surface to be inspected and to obtain conductivity at the same time when the probe unit is used, depending on its application. For that purpose, it is necessary to increase only the contact pressure of the probe pin without increasing the pressing load of the probe unit, and improvement in this respect is required.

【0005】本発明は上記従来の状況に鑑みてなされた
もので、被検査面に当接させたときの接触抵抗を小さく
して接触状態を安定化できるとともに、接触位置精度を
向上でき、さらには接触時の面圧を大きくして良好な電
気的接触を得ることができるプローブユニットを提供す
ることを目的としている。
The present invention has been made in view of the above-mentioned conventional circumstances, and it is possible to reduce the contact resistance when brought into contact with the surface to be inspected to stabilize the contact state and improve the contact position accuracy. Aims to provide a probe unit in which the surface pressure at the time of contact can be increased to obtain good electrical contact.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】そこで請求項1の発明
は、導電性金属膜が被覆形成された線径150 μm 以下の
金属極細線からなるプローブピンを絶縁性基台上に所定
ピッチに、かつ該基台から上記プローブピンの一部を突
出させて固着してなるプローブユニットにおいて、上記
プローブピンの突出部を自己弾性を有する形状に屈曲成
形し、該突出部の被検査面に当接する先端に球面部を形
成したことを特徴としている。
In order to solve the problems, the invention of claim 1 provides probe pins made of a metal ultrafine wire having a wire diameter of 150 μm or less coated with a conductive metal film at a predetermined pitch on an insulating base. Further, in a probe unit in which a part of the probe pin is protruded and fixed from the base, the protrusion of the probe pin is bent and formed into a shape having self-elasticity, and abutted on a surface to be inspected of the protrusion. The feature is that a spherical portion is formed at the tip.

【0007】また請求項2の発明は、上記突出部の先端
部分にテーパー状の尖部を形成し、該尖部に被検査面に
高面圧で当接する球面部を形成したことを特徴としてい
る。さらに請求項3の発明は、上記球面部が上記金属極
細線の先端を溶融固化して形成された急冷凝固組織であ
ることを特徴とし、請求項4の発明は、上記金属極細線
が引張強度300Kgf/mm2以上の低炭素二相組織鋼線である
ことを特徴としている。
The invention according to claim 2 is characterized in that a tapered pointed portion is formed at the tip portion of the projecting portion, and a spherical surface portion that abuts on the surface to be inspected with high surface pressure is formed at the pointed portion. There is. Further, the invention of claim 3 is characterized in that the spherical portion is a rapidly solidified structure formed by melting and solidifying the tip of the metal ultrafine wire, and the invention of claim 4 is characterized in that the metal ultrafine wire has tensile strength. It is characterized by being a low-carbon dual-phase steel wire of 300 Kgf / mm 2 or more.

【0008】ここで、上記球面部を形成するには、例え
ば酸性液に浸漬する化学研磨法,電解研磨法,あるいは
バーナによる加熱,赤外線加熱,レーザ加熱,誘導加熱
法等が採用できる。なかでも、上記レーザ加熱法を用い
た場合は、製造が容易でしかもプローブピンとしての性
能をさらに向上できる。このレーザ加熱法は、切断され
た金属極細線の端面にレーザ光を照射して該端面部分を
局部的に溶融させ、この後短時間で冷却する方法であ
る。即ち、上記溶融時の表面張力によって端面が球面状
となり、この状態で急冷することにより球面部が形成さ
れる。この場合、形成された球面部は母材の金属極細線
とこれに被覆した導電性金属等とが合金化された急冷凝
固組織となっている。このような急冷凝固組織を有する
球面部は母材に比べて電気的導通性及び耐摩耗性に優れ
ている。
Here, in order to form the spherical portion, for example, a chemical polishing method of dipping in an acid solution, an electrolytic polishing method, a heating by a burner, an infrared heating, a laser heating, an induction heating method or the like can be adopted. In particular, when the above laser heating method is used, it is easy to manufacture and the performance as a probe pin can be further improved. This laser heating method is a method in which the end surface of the cut metal ultrafine wire is irradiated with laser light to locally melt the end surface portion, and then cooled in a short time. That is, the end surface becomes spherical due to the surface tension at the time of melting, and the spherical portion is formed by rapid cooling in this state. In this case, the formed spherical surface portion has a rapidly solidified structure in which the metal ultrafine wire of the base material and the conductive metal or the like coated on the metal are alloyed. The spherical portion having such a rapidly solidified structure has excellent electrical conductivity and wear resistance as compared with the base material.

【0009】また、上記テーパ状の尖部を形成するに
は、上記突出部の先端部分を加熱しながら引張力を作用
させて伸線することにより形成できる。この場合、上記
レーザ加熱法を用いた場合は、該レーザ光を上記先端部
分に照射して伸線しながらテーパー状の尖部を形成し、
これを溶断する際に球面部を同時に形成することができ
る。
Further, the tapered pointed portion can be formed by drawing the wire by applying a tensile force while heating the tip portion of the protruding portion. In this case, when the laser heating method is used, the tip portion is irradiated with the laser beam to form a tapered point while drawing,
The spherical portion can be formed at the same time when this is fused.

【0010】さらに、上記金属極細線には、タングステ
ン線,ベリリウム銅合金線等の従来材料に加えて、ステ
ンレス線,ピアノ線,アモルファス線,あるいは低炭素
二相組織鋼線が採用でき、これらの金属を採用すること
により極細化した場合の剛性,強度を確保できる。なか
でも上記低炭素二相組織鋼線を採用した場合は、上記ス
テンレス線,ピアノ線等に比べて強度,剛性,耐久性,
及び靱性を向上でき、さらに小径化,ピッチの狭小化に
貢献できる。この低炭素二相組織鋼線は、Feを主成分
とし、これにC,Si,Mnを添加してなる線材を冷間
伸線により強加工して製造されたものであり、これによ
り線径150 μm 以下で引張強度が300 〜600Kgf/mm2とな
っている(特開昭62-20824号公報参照) 。
Further, in addition to conventional materials such as tungsten wire and beryllium copper alloy wire, stainless wire, piano wire, amorphous wire, or low carbon dual phase steel wire can be adopted for the metal ultrafine wire. By using metal, it is possible to secure the rigidity and strength when it is made extremely thin. In particular, when the low carbon dual phase steel wire is adopted, the strength, rigidity, durability,
In addition, the toughness can be improved, and the diameter can be reduced and the pitch can be narrowed. This low carbon dual phase steel wire is produced by subjecting a wire material containing Fe as a main component to which C, Si, and Mn are added to a strong work by cold drawing, and thereby a wire diameter. The tensile strength is 300 to 600 Kgf / mm 2 at 150 μm or less (see JP-A-62-20824).

【0011】[0011]

【作用】請求項1の発明に係るプローブユニットによれ
ば、プローブピンの突出部を自己弾性を有する形状に屈
曲成形し、該突出部の被検査面に当接する先端に球面部
を形成したので、被検査面に当接させる際の接触抵抗を
小さくでき、それだけ当接時の接触状態を安定化でき、
かつ接触位置精度を向上できる。
According to the probe unit of the first aspect of the present invention, the protruding portion of the probe pin is formed by bending into a shape having self-elasticity, and the spherical portion is formed at the tip end of the protruding portion that abuts the surface to be inspected. , The contact resistance at the time of contacting the surface to be inspected can be reduced, and the contact state at the time of contact can be stabilized accordingly.
In addition, the contact position accuracy can be improved.

【0012】上記請求項2の発明によれば、突出部の先
端部分にテーパー状の尖部を形成し、該尖部の先端に球
面部を形成したので、被検査面に当接と同時に接触圧力
が大幅に高まり、プローブユニットの押圧荷重を大きく
することなく瞬間的に良好な電気的導通性を得ることか
できる。
According to the second aspect of the present invention, since the tapered pointed portion is formed at the tip portion of the protruding portion and the spherical portion is formed at the tip end of the pointed portion, the contact with the surface to be inspected is made at the same time. The pressure is significantly increased, and good electrical conductivity can be instantaneously obtained without increasing the pressing load of the probe unit.

【0013】また請求項3の発明によれば、上記金属極
細線の端面を溶融固化することにより急冷凝固組織を有
する球面部を形成したので、これにより形成された球面
部は上述のように母材の金属極細線と導電性金属等とが
合金化された金属組織を有しており、高硬度で優れた耐
摩耗性,及び電気的導通性を得ることができ、ひいては
プローブユニットとしての寿命を延長できる。
Further, according to the invention of claim 3, since the spherical surface portion having the rapidly solidified structure is formed by melting and solidifying the end surface of the metal ultrafine wire, the spherical surface portion formed by this is formed as described above. It has a metallographic structure in which a metal ultrafine wire and a conductive metal are alloyed, and it is possible to obtain excellent wear resistance and electrical conductivity with high hardness, and as a result, the life as a probe unit. Can be extended.

【0014】さらに請求項4の発明では、金属極細線に
低炭素二相組織鋼線を採用したので、線径150 μm 以下
で引張強度300 〜600Kgf/mm2が得られる。従って、これ
を採用した場合は小径化, ピッチの狭小化を図りながら
強度, 剛性, 靱性を向上でき、プローブピンとしての機
能をさらに向上できる。
Further, in the invention of claim 4, since the low carbon dual phase steel wire is adopted as the ultrafine metal wire, the tensile strength of 300 to 600 Kgf / mm 2 can be obtained with the wire diameter of 150 μm or less. Therefore, when this is adopted, the strength, rigidity, and toughness can be improved while reducing the diameter and the pitch, and the function as a probe pin can be further improved.

【0015】[0015]

【実施例】以下、本発明の実施例を図について説明す
る。図1ないし図8は、本発明の一実施例によるプロー
ブユニット,及びその製造方法を説明するための図であ
る。本実施例では、半導体集積回路の導通検査に使用さ
れるプローブユニットに適用した場合を例にとって説明
する。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. 1 to 8 are views for explaining a probe unit and a manufacturing method thereof according to an embodiment of the present invention. In this embodiment, a case where the present invention is applied to a probe unit used for a continuity test of a semiconductor integrated circuit will be described as an example.

【0016】図において、1は本実施例のプローブユニ
ットであり、これは70〜300 本のプローブピン2を300
μm 以下のピッチで、かつピッチ誤差±20μm 以下に配
列し、これらを熱可塑性樹脂基台3上に固着して構成さ
れている。上記プローブピン2は線径20〜150 μm の低
炭素二相組織鋼線4の表面にNi膜5を電気めっき等に
より被覆形成し、該Ni膜5の表面にAu,Ag,Pt
等からなる導電性貴金属膜6を同じくめっきより被覆形
成して構成されている。
In the figure, reference numeral 1 is a probe unit of this embodiment, which has 70 to 300 probe pins 2 to 300.
They are arranged with a pitch of not more than μm and a pitch error of ± 20 μm or less, and these are fixed on the thermoplastic resin base 3. In the probe pin 2, a Ni film 5 is coated on the surface of a low carbon dual phase steel wire 4 having a wire diameter of 20 to 150 μm by electroplating or the like, and Au, Ag, Pt is formed on the surface of the Ni film 5.
A conductive noble metal film 6 made of, for example, is also formed by coating by plating.

【0017】上記低炭素二相組織鋼線4は、上述のよう
に金属線材を冷間伸線により強加工して製造されたもの
で、これにより生じた加工セルが一方向に繊維状に配列
された繊維状微細金属組織を有しており、引張強度が30
0 〜600Kgf/mm2である。また上記低炭素二相組織鋼線4
にはストレッチャーアニーリング処理が施されており、
これは上記鋼線4に張力を作用させながら所定温度で熱
処理したものである。この熱処理により直線状に直伸化
したプローブピン2が形成されている。
The low carbon dual phase steel wire 4 is manufactured by subjecting a metal wire rod to strong working by cold drawing as described above, and the working cells generated thereby are arranged in a unidirectional fiber form. It has a fine fibrous microstructure and has a tensile strength of 30.
It is 0 to 600 Kgf / mm 2 . Also, the above low carbon dual phase steel wire 4
Has been subjected to stretcher annealing treatment,
This is the steel wire 4 heat-treated at a predetermined temperature while applying tension. By this heat treatment, the probe pin 2 which is linearly stretched is formed.

【0018】上記Ni膜5は、上記金属線材を冷間伸線
加工する際の塑性加工による加工歪を有しており、これ
により自己潤滑性及び耐蝕性の改善を図るとともに、貴
金属膜6との密着性,接着性が向上している。また上記
貴金属膜6はNi膜5が被覆された金属線材をさらに冷
間伸線加工することにより、数μm 程度の厚さに引き延
ばす際の塑性加工による加工歪を有している。これによ
りめっき被覆時に生じていたピンホール,あるいは粒子
が上記伸線時に潰されて、欠陥のない平滑な表面性状と
なっている。
The Ni film 5 has a working strain due to plastic working during cold drawing of the metal wire, which improves self-lubricating property and corrosion resistance. The adhesiveness and adhesiveness of are improved. The noble metal film 6 has a working strain due to plastic working when the metal wire coated with the Ni film 5 is further drawn by cold drawing to a thickness of about several μm. As a result, the pinholes or particles generated during plating are crushed during the wire drawing, resulting in a smooth surface with no defects.

【0019】上記各プローブピン2は樹脂基台3上に位
置する本体部2aと該基台3から外方に突出する突出部
2bとから構成されている。上記本体部2aの直径方向
の略1/2は樹脂基台3内に埋め込まれており、残りの
部分は基台3の下面に露出している。これは上記低炭素
二相組織鋼線4を緊張状態に張力を作用させて樹脂基台
3上に配置し、この状態で本体部2aを加熱することに
より該本体部2aが当接する樹脂基台3を溶融させて埋
設したものである。
Each of the probe pins 2 is composed of a body portion 2a located on the resin base 3 and a protruding portion 2b protruding outward from the base 3. Approximately ½ of the diametrical direction of the main body 2 a is embedded in the resin base 3, and the remaining part is exposed on the lower surface of the base 3. This is because the low carbon dual phase steel wire 4 is placed on the resin base 3 by applying tension in a tensioned state, and the main body 2a is heated in this state to contact the main body 2a. 3 was melted and buried.

【0020】また上記プローブユニット1の各プローブ
ピン2の本体部2aには、図示しないTAB(Tape Aut
omated Bondig)が貼着されており、該TABは測定機器
に接続されている。上記TABは可撓性フィルムに各プ
ローブピン2が接続される配線をエッチング法等により
パターン形成してなるもので、上記TABの各配線と各
プローブピン2とは一括に、かつ同時に熱圧着より接続
されている。なお、上記プローブユニット1と測定機器
とを接続する手段としては、TABの他にFPC(フレ
キシブルプリント基板)が採用できる。
The body 2a of each probe pin 2 of the probe unit 1 has a TAB (Tape Aut) not shown.
omated Bondig) is attached and the TAB is connected to a measuring instrument. The TAB is formed by patterning a wiring to which each probe pin 2 is connected to a flexible film by an etching method or the like. Each wiring of the TAB and each probe pin 2 are collectively and simultaneously subjected to thermocompression bonding. It is connected. In addition to TAB, an FPC (flexible printed circuit board) can be used as a means for connecting the probe unit 1 and the measuring device.

【0021】上記プローブピン2の突出部2bはこれの
肩部2cから被検査面A側に湾曲する弧状に屈曲形成さ
れており、これによりこの突出部2bは該プローブユニ
ット1の下降分だけ弾性変形するいわゆる自己弾性を有
している。また上記突出部2bの先端部にはテーパー状
の、つまり針状に尖った形状の尖部2dが形成されてい
る。
The protruding portion 2b of the probe pin 2 is bent and formed in an arc shape which is curved from the shoulder portion 2c thereof toward the surface A to be inspected, and as a result, the protruding portion 2b is elastic by the descending amount of the probe unit 1. It has a so-called self-elasticity that deforms. Further, a taper-shaped, ie, a needle-shaped pointed portion 2d is formed at the tip of the protruding portion 2b.

【0022】そして、上記突出部2bの尖部2dの先端
には球面部2eが形成されており、この球面部2eが被
検査面Aに当接する。この球面部2eは、上記突出部2
bの先端部分を緊張状態に引っ張りながらレーザ光で加
熱して伸線し、これによりテーパー状の尖部2dを形成
するとともに、これの先端面を溶融させ、この後急冷す
ることにより形成されたものである。これにより上記球
面部2eは母材の鋼線4とこれに被覆したNi膜5,貴
金属膜6とが合金化された急冷凝固組織となっている。
A spherical portion 2e is formed at the tip of the pointed portion 2d of the projecting portion 2b, and the spherical portion 2e contacts the surface A to be inspected. This spherical surface portion 2e is the same as the protruding portion 2
It is formed by drawing the tip portion of b with a laser beam while pulling it in a tensioned state and drawing it to form a tapered pointed portion 2d, melting the tip surface of this, and then rapidly cooling it. It is a thing. As a result, the spherical surface 2e has a rapidly solidified structure in which the steel wire 4 as the base material and the Ni film 5 and the noble metal film 6 covering the steel wire 4 are alloyed.

【0023】次に、上記プローブユニット1の一製造方
法について説明する。本実施例の製造方法は、金属線材
から低炭素二相組織鋼線4を製造する第1工程と、この
低炭素二相組織鋼線4を所定ピッチごとに樹脂基台3に
配置固定する第2工程と、上記低炭素二相組織鋼線4の
突出部2bを自己弾性を有する形状に屈曲成形する第3
工程と、該突出部2bに尖部2d,及び球面部2eを形
成する第4工程とを備えている。以下、上記各工程を詳
細に説明する。
Next, a method of manufacturing the probe unit 1 will be described. The manufacturing method of the present embodiment includes a first step of manufacturing a low-carbon two-phase structure steel wire 4 from a metal wire rod and a first step of arranging and fixing the low-carbon two-phase structure steel wire 4 on the resin base 3 at a predetermined pitch. Third step of bending and forming the protruding portion 2b of the low carbon dual phase steel wire 4 into a shape having self-elasticity
The method includes a step and a fourth step of forming the pointed portion 2d and the spherical surface portion 2e on the protrusion 2b. Hereinafter, each of the above steps will be described in detail.

【0024】第1工程 まず、母材となるFe−C−Si−Mn系合金線材に電
気めっきによりNi膜5を被覆し、これを冷間伸線によ
り強加工して上記Ni膜5に塑性加工による加工歪を付
与するとともに、所定線径の金属線材を形成する。次
に、この金属線材の表面にAuからなる貴金属膜6を被
覆し、これを同じく冷間伸線により強加工して上記貴金
属膜6に塑性加工による加工歪を付与する。この伸線加
工を所定線径が得られるまで繰り返し行い、これにより
線径20〜150 μm 以下の低炭素二相組織鋼線4を得る。
First Step First, a Fe-C-Si-Mn-based alloy wire as a base material is coated with a Ni film 5 by electroplating, and the Ni film 5 is subjected to strong working by cold drawing to form a plastic film on the Ni film 5. A processing strain is applied by processing, and a metal wire rod having a predetermined wire diameter is formed. Next, the surface of this metal wire is coated with a noble metal film 6 made of Au, and this is similarly strongly worked by cold drawing to give a working strain due to plastic working to the noble metal film 6. This wire drawing process is repeated until a predetermined wire diameter is obtained, whereby a low carbon dual phase steel wire 4 having a wire diameter of 20 to 150 μm or less is obtained.

【0025】次いで、上記低炭素二相組織鋼線4を緊張
状態に引っ張りながら、例えば430℃に加熱された加熱
炉内で30秒間保持して上記鋼線4に熱処理を施す。この
後、該鋼線4をボビン14に巻き取る。これにより直線
状に直伸化された低炭素二相組織鋼線4が製造される。
なお、この熱処理における温度,保持時間は特に限定す
るものではなく、強度を低下させることなく加工歪の除
去に適した温度,時間を設定する。
Next, while pulling the low carbon dual phase steel wire 4 in a tensioned state, the steel wire 4 is heat treated by being held for 30 seconds in a heating furnace heated to, for example, 430.degree. After that, the steel wire 4 is wound around the bobbin 14. As a result, the low-carbon dual-phase steel wire 4 linearly drawn straight is manufactured.
The temperature and holding time in this heat treatment are not particularly limited, and the temperature and time suitable for removing the working strain without reducing the strength are set.

【0026】第2工程 まず図5に示す布線装置8を準備する。この布線装置8
は長方形状の固定台9と、該固定台9に対してa方向に
移動可能に配設された一対のクランプ10a,10a
と、上記a方向及びこれに直交するb方向に移動可能に
配置された加熱制御装置12とを備えており、この制御
装置12には+電極12a,及び−電極12bが突設さ
れている。
Second Step First, the wiring device 8 shown in FIG. 5 is prepared. This wiring device 8
Is a rectangular fixed base 9 and a pair of clamps 10a, 10a arranged so as to be movable in the a direction with respect to the fixed base 9.
And a heating control device 12 movably arranged in the a direction and the b direction orthogonal thereto, and the control device 12 is provided with a + electrode 12a and a − electrode 12b.

【0027】また上記布線作業に用いる矩形板状の母基
台13を準備する。この母基台13はポリカーボネート
等の熱可塑性樹脂製のものであり、他にはポリエーテ
ル,エーテルケトン等が採用できる。そして上記母基台
13の一縁部に矩形状の開口窓部13aを形成し、この
母基台13の窓部13aの一側部が後述する屈曲加工時
の保持基台13bとなり、他側部が上述の樹脂基台3と
なる。なお、上記樹脂基台3及び保持基台13bはそれ
ぞれ別部品で構成し、この両基台3,13bを間隔をあ
けて固定し、この間隔を上記窓部13aとしてもよい。
A rectangular plate-shaped mother base 13 used for the above-mentioned wiring work is prepared. The mother base 13 is made of a thermoplastic resin such as polycarbonate, and other materials such as polyether and ether ketone can be used. Then, a rectangular opening window portion 13a is formed on one edge of the mother base 13, and one side portion of the window portion 13a of the mother base 13 serves as a holding base 13b during bending processing described later, and the other side. The part becomes the above-mentioned resin base 3. The resin base 3 and the holding base 13b may be formed as separate parts, and the bases 3 and 13b may be fixed with a space therebetween, and the space may be used as the window 13a.

【0028】そして、上記布線装置8の固定台9上に母
基台13を配置し、母基台13をビスで固定する。次
に、上記布線装置8に低炭素二相組織鋼線4が巻回され
たボビン14をセットし、この鋼線4を上記クランプ装
置10a,10a間に挿通して架け渡すとともに、該ク
ランプ装置10aにより鋼線4をこれに張力をかけて緊
張状態に支持する。
Then, the mother base 13 is arranged on the fixed base 9 of the wiring device 8 and the mother base 13 is fixed with screws. Next, the bobbin 14 on which the low carbon dual phase steel wire 4 is wound is set on the wiring device 8, and the steel wire 4 is inserted and bridged between the clamp devices 10a and 10a, and the clamp The device 10a applies tension to the steel wire 4 to support it in a tensioned state.

【0029】次に、上記両クランプ装置10aをa方向
に移動させて低炭素二相組織鋼線4を各母基台13の窓
部13a上を通る所定位置にセットする。この状態で加
熱制御装置12の両電極12a,12bに通電して上記
鋼線4を、例えば180 〜220℃に加熱押圧しつつ制御装
置12を鋼線4に沿ってb方向に移動させる。すると母
基台13の鋼線4が当接する部分が溶融し、鋼線4は窓
部13aを横切る状態で母基台13内に埋め込まれるこ
ととなり、これにより上記低炭素二相組織鋼線4の直径
方向の1/2以上、例えば70%が母基台13内に埋設さ
れ、残りの部分は母基台13上面に露出することとな
る。この場合、上記母基台13の鋼線4が埋設される部
分に、例えばV字状の溝を予め形成し、この溝内に上記
鋼線4を配置してもよい。また上記溝を形成するにあた
っては、鋼線4の下面を挟持するように溝の幅,深さを
適宜設定する。
Next, both of the clamp devices 10a are moved in the direction a to set the low carbon dual phase steel wire 4 at a predetermined position passing over the window 13a of each mother base 13. In this state, both electrodes 12a, 12b of the heating control device 12 are energized to heat and press the steel wire 4 to, for example, 180 to 220 ° C., and the control device 12 is moved along the steel wire 4 in the b direction. Then, the portion of the mother base 13 in contact with the steel wire 4 is melted, and the steel wire 4 is embedded in the mother base 13 in a state of traversing the window portion 13a, whereby the low carbon two-phase structure steel wire 4 is formed. ½ or more, for example 70%, in the diameter direction is embedded in the mother base 13, and the remaining part is exposed on the upper surface of the mother base 13. In this case, for example, a V-shaped groove may be previously formed in a portion of the mother base 13 in which the steel wire 4 is embedded, and the steel wire 4 may be arranged in this groove. In forming the groove, the width and depth of the groove are appropriately set so as to sandwich the lower surface of the steel wire 4.

【0030】上記1本目の布線が終了したら上記クラン
プ装置10a,10aを所定ピッチ移動させ、2本目の
布線作業を行う。このような布線作業を順次繰り返して
行って鋼線4を70〜300 本埋め込んだ後、母基台13の
両端縁の鋼線4を切断して切り離す(図6(a) 参照)。
ここで、上記多数の低炭素二相組織鋼線4を予め所定ピ
ッチごとに配列しておき、この各鋼線4を同時に埋め込
んでもよい。また上記母基台13への固着は接着剤で行
ってもよい。
When the first wiring is completed, the clamping devices 10a, 10a are moved by a predetermined pitch to perform the second wiring work. Such wiring work is sequentially repeated to embed 70 to 300 steel wires 4, and then the steel wires 4 at both edges of the mother base 13 are cut and separated (see FIG. 6 (a)).
Here, a large number of the low carbon dual phase steel wires 4 may be arranged in advance at a predetermined pitch, and the steel wires 4 may be embedded at the same time. The fixing to the mother base 13 may be performed with an adhesive.

【0031】第3工程 上記布線化した母基台13をピン成形用金型装置15に
セットし、該装置15で母基台13の鋼線4方向両端部
の保持基台13bと樹脂基台3側とをそれぞれ挟持す
る。この状態で母基台13の窓部13aの両縁部を切断
して母基台13を両基台3,13bに分離する(図6
(b) 参照)。
Third Step The wiring-laid mother base 13 is set in the pin forming die device 15, and the device 15 holds the holding bases 13b at both ends of the mother base 13 in the steel wire 4 direction and the resin base. The table 3 side is clamped. In this state, both edges of the window portion 13a of the mother base 13 are cut to separate the mother base 13 into both bases 3 and 13b (FIG. 6).
(See (b)).

【0032】次いで、図7に示すように、樹脂基台3を
挟持固定し、保持基台13bに張力をかけて両基台3,
13b間の低炭素二相組織鋼線4を緊張状態に引っ張
る。この状態で、上記金型装置15の第1金型15aを
鋼線4に当接させ(図7(a) 参照)、この鋼線4を金型
15aに沿って倒し、該金型15aに第2金型15bを
押圧して鋼線4にプローブピン2の突出部2bに対応す
る湾曲部を形成する(図7(b) 参照)。
Next, as shown in FIG. 7, the resin base 3 is clamped and fixed, and tension is applied to the holding base 13b so that both bases 3,
The low carbon dual phase steel wire 4 between 13b is pulled to a tension state. In this state, the first mold 15a of the mold device 15 is brought into contact with the steel wire 4 (see FIG. 7 (a)), and the steel wire 4 is laid down along the mold 15a so that the mold 15a The second mold 15b is pressed to form a curved portion on the steel wire 4 corresponding to the protruding portion 2b of the probe pin 2 (see FIG. 7 (b)).

【0033】第4工程 上記第1,第2金型15a,15bで突出部2bを押圧
挟持した状態で、保持基台13bに張力をかけて突出部
2bの先端部分を緊張状態に引っ張る。続いてレーザ加
熱装置20により突出部2bの先端部分をレーザ光20
aを照射して加熱する(図7(c) 参照)。
Fourth Step While the protruding portion 2b is pressed and sandwiched by the first and second molds 15a and 15b, tension is applied to the holding base 13b to pull the tip portion of the protruding portion 2b in a tensioned state. Then, the laser heating device 20 is used to move the tip portion of the protrusion 2b to the laser beam 20.
It is irradiated with a and heated (see FIG. 7 (c)).

【0034】この場合、図8に示すように、レーザ光2
0aの焦点位置を鋼線4より離れた位置に設定し、上記
先端部分全体を加熱する(図8(a) 参照)。このレーザ
光20aの焦点位置をずらすことにより先端部の軸方向
に温度勾配が形成され、これによりレーザ光20a中心
部の温度が最も高く、軸方向に広がるにつれて温度が低
くなる。
In this case, as shown in FIG.
The focal position of 0a is set to a position apart from the steel wire 4, and the entire tip portion is heated (see FIG. 8 (a)). By shifting the focal position of the laser light 20a, a temperature gradient is formed in the axial direction of the tip portion, whereby the temperature of the central portion of the laser light 20a is the highest and the temperature becomes lower as it spreads in the axial direction.

【0035】この状態で上記鋼線4の先端部に張力を与
えることにより、この先端部中央の高温部の伸びが最も
大きくかつ広がるにつれて伸びが小さくなることからテ
ーパー状に変形する(図8(b) 参照)。次いでさらに張
力を加えるとともに、レーザ光20aの焦点位置を絞り
込んで鋼線4に近づけることにより、さらにテーパーが
かかりこれにより尖部2dを形成する(図8(c) 参
照)。
By applying tension to the tip portion of the steel wire 4 in this state, the elongation of the high temperature portion at the center of the tip portion is the largest and the extension becomes smaller as it expands, so that it deforms into a taper shape (Fig. 8 ( b)). Next, tension is further applied, and the focal position of the laser beam 20a is narrowed down and brought closer to the steel wire 4, thereby further tapering, thereby forming the pointed portion 2d (see FIG. 8 (c)).

【0036】続いて、上記レーザ光20aの焦点位置を
さらに絞り込んで上記尖部2dの最も細くなった先端部
直近に照射し、該部分を溶断する。そしてこの溶断と同
時に該尖部2dの先端面を溶融させ、この後短時間で冷
却する。すると溶融時の表面張力によって端面が球面状
となり、この状態で急冷凝固させることにより球面部2
eが形成される(図8(d) 参照)。これにより本実施例
のプローブユニット1が製造される。しかる後、このプ
ローブユニット1の各プローブピン2の本体部2aに上
述のTABを貼着する。
Then, the focal position of the laser beam 20a is further narrowed down and the laser beam 20a is irradiated near the thinnest tip of the pointed portion 2d, and the portion is fused. Simultaneously with this fusing, the tip surface of the pointed portion 2d is melted and then cooled in a short time. Then, the end surface becomes spherical due to the surface tension at the time of melting.
e is formed (see FIG. 8 (d)). As a result, the probe unit 1 of this embodiment is manufactured. After that, the above-mentioned TAB is attached to the main body portion 2a of each probe pin 2 of the probe unit 1.

【0037】次に本実施例の作用効果について説明す
る。本実施例のプローブユニット1は、図1ないし図3
に示すように、半導体集積回路の回路基板17にパター
ン形成された電極の導通検査を行うものである。この回
路基板17の上方にプローブユニット1を配置し、これ
を垂直方向に下降させて各プローブピン2の球面部2e
を回路基板17の被検査面Aである各電極に当接させ
る。これにより電気的導通性をチェックする。
Next, the function and effect of this embodiment will be described. The probe unit 1 of the present embodiment is shown in FIGS.
As shown in FIG. 3, the conductivity inspection of the electrodes formed by patterning on the circuit board 17 of the semiconductor integrated circuit is performed. The probe unit 1 is arranged above the circuit board 17, and the probe unit 1 is vertically lowered to make a spherical surface portion 2e of each probe pin 2.
Is brought into contact with each electrode that is the surface A to be inspected of the circuit board 17. This checks the electrical continuity.

【0038】この場合、図1及び図2に示すように、プ
ローブピン2の先端に球面部2eを形成したので、上記
被検査面Aに当接させる際の接触抵抗を小さくでき、し
かも球面が接触することから当接時の接触状態を安定化
でき、接触位置精度を向上できる。
In this case, as shown in FIGS. 1 and 2, since the spherical portion 2e is formed at the tip of the probe pin 2, the contact resistance when the probe pin 2 is brought into contact with the surface A to be inspected can be reduced and the spherical surface Since the contact is made, the contact state at the time of contact can be stabilized and the contact position accuracy can be improved.

【0039】また本実施例では、上記球面部2eが低炭
素二相組織鋼線4とNi膜5,Au貴金属膜6との合金
からなる急冷凝固組織となっているので、母材の鋼線4
に比べて高い硬度を有しており、導電性においても優れ
た機能を有している。従って、導通検査を繰り返し行っ
ても球面部2eの摩耗を低減でき、ひいてはプローブユ
ニット1自体の寿命を向上できる。さらに上記球面部2
eをレーザ加熱により形成したので、容易に、かつ連続
して製造でき、生産性を向上できる。
Further, in this embodiment, since the spherical surface portion 2e has a rapidly solidified structure made of an alloy of the low carbon dual phase steel wire 4 and the Ni film 5 and the Au precious metal film 6, the base steel wire is used. Four
It has a higher hardness than that of, and also has an excellent function in conductivity. Therefore, even if the continuity test is repeated, the wear of the spherical surface portion 2e can be reduced, and the life of the probe unit 1 itself can be improved. Further, the spherical surface portion 2
Since e is formed by laser heating, it can be manufactured easily and continuously, and productivity can be improved.

【0040】図9は、本実施例のプローブピン2の先端
部の軸方向における硬度の変化を示す特性図である。同
図からも明らかなように、母材の低炭素二相組織鋼線4
の硬度は一定であり、テーパー状の尖部2dは絞り込み
によって硬度が若干高くなっている。これに対して球面
部2eは合金化された急冷凝固組織となっていることか
ら硬度が急激に上昇しており、異なる機能が付与されて
いることがわかる。
FIG. 9 is a characteristic diagram showing a change in hardness in the axial direction of the tip portion of the probe pin 2 of this embodiment. As is clear from the figure, the low carbon dual phase steel wire 4 of the base material
Has a constant hardness, and the tapered pointed portion 2d has a slightly higher hardness due to narrowing. On the other hand, since the spherical surface portion 2e has an alloyed rapidly solidified structure, the hardness is rapidly increased, and it can be seen that different functions are imparted.

【0041】また、本実施例によれば、上記各プローブ
ピン2の突出部2bはこれの肩部2cから被検査面Aに
向かって湾曲しており、しかも先端部がテーパー状に尖
っているので、球面部2eが被検査面Aに当接すると同
時に突出部2bが弾性変形し、これにより被検査面Aに
かかる荷重を一定にしながら瞬間的に高い接触面圧が得
られる。その結果、極めて良好な電気的導通性を得るこ
とができ、検査性能に対する信頼性を向上できる。即
ち、半導体集積回路の場合、基板面積が小さく、しかも
電極の接触面積も極めて小さいことから、プローブピン
2を突き当てると同時に導通性が得られなければならな
い。本実施例のプローブピン2はこれに十分対応でき
る。
Further, according to the present embodiment, the protruding portion 2b of each probe pin 2 is curved from the shoulder portion 2c thereof toward the surface A to be inspected, and the tip portion is tapered in a tapered shape. Therefore, at the same time when the spherical surface portion 2e contacts the surface A to be inspected, the projecting portion 2b elastically deforms, whereby a high contact surface pressure is instantaneously obtained while the load applied to the surface A to be inspected is kept constant. As a result, extremely good electrical conductivity can be obtained, and the reliability of the inspection performance can be improved. That is, in the case of a semiconductor integrated circuit, since the substrate area is small and the contact area of the electrodes is also very small, it is necessary to obtain conductivity at the same time when the probe pin 2 is abutted. The probe pin 2 of this embodiment can sufficiently cope with this.

【0042】図10及び図11は、上記実施例の変形例
によるプローブユニットを説明するための図である。こ
の実施例は液晶ディスプレイの導通検査に使用されるプ
ローブユニットに適用した場合である。
10 and 11 are views for explaining a probe unit according to a modification of the above embodiment. This embodiment is applied to a probe unit used for a continuity inspection of a liquid crystal display.

【0043】このプローブユニット45は、樹脂基台4
0上にプローブピン41の本体部41aを所定ピッチで
固着して構成されており、基本的構造は上記実施例と略
同様である。上記プローブピン41の突出部41bは被
検査面Aに対して前方に傾斜するよう屈曲形成されてお
り、この傾斜角度は約30度に設定されている。
The probe unit 45 includes a resin base 4
0, the main body 41a of the probe pin 41 is fixedly attached at a predetermined pitch, and the basic structure is substantially the same as that of the above embodiment. The protruding portion 41b of the probe pin 41 is bent and formed so as to be inclined forward with respect to the surface A to be inspected, and the inclination angle is set to about 30 degrees.

【0044】そして上記プローブピン41の突出部41
bの被検査面Aに当接する先端には球面部41cが形成
されている。この球面部41cはこれの先端面にレーザ
光を照射して溶融した後、急冷することによって形成さ
れたもので、これにより上記球面部41cは上記実施例
と同様に母材の鋼線とこれに被覆したNi膜,Au膜と
が合金化された急冷凝固組織となっている。
Then, the protruding portion 41 of the probe pin 41
A spherical surface portion 41c is formed at the tip end of the surface b which contacts the surface A to be inspected. This spherical surface portion 41c is formed by irradiating the tip surface of the spherical surface with a laser beam to melt it, and then rapidly cooling it. As a result, the spherical surface portion 41c is formed of the steel wire of the base material and the same as in the above embodiment. It has a rapidly solidified structure in which the Ni film and the Au film coated on the alloy are alloyed.

【0045】上記球面部41cは、以下の方法により製
造されたものである。上記実施例方法の図7(b) におい
て、金型装置15で突出部41b(図中、2bに相当)
を所定形状に屈曲成形した後、この状態で鋼線4の保持
基台13b側部分Cをカッチング刃42で切断する(図
11(a) 参照)。次いで、レーザ加熱装置20により上
記鋼線4の切断面に、これの軸直交方向から該鋼線4の
線径と同等の大きさのレーザ光20aを照射する。する
と該端面は局部的に溶融して球面状となり、これを急冷
することによって球面部41cが製造される(図11
(b) 参照)。ここで、上記レーザ光20aの照射方向は
上記鋼線4の軸直交方向でも、軸方向からからでもよ
い。またレーザ光20aの焦点位置は鋼線4から5mm
程度離れた位置に設定する。
The spherical portion 41c is manufactured by the following method. In FIG. 7 (b) of the above-described embodiment method, the protrusion 41b (corresponding to 2b in the figure) in the mold device 15 is used.
After being bent into a predetermined shape, the holding wire 13b side portion C of the steel wire 4 is cut by the cutting blade 42 in this state (see FIG. 11 (a)). Next, the laser heating device 20 irradiates the cut surface of the steel wire 4 with a laser beam 20a having a size equal to the wire diameter of the steel wire 4 in the direction orthogonal to the axis thereof. Then, the end face is locally melted to form a spherical surface, and the spherical surface 41c is manufactured by rapidly cooling the end surface (FIG. 11).
(See (b)). Here, the irradiation direction of the laser beam 20a may be a direction orthogonal to the axis of the steel wire 4 or may be from the axial direction. The focal position of the laser light 20a is 5 mm from the steel wire 4
Set them at positions that are about a distance apart.

【0046】本実施例のプローブユニット45は、液晶
ディスプレイの液晶基板43の導通検査に採用されるも
ので、該プローブユニット45を垂直に下降させて各プ
ローブピン41の球面部41cを液晶基板43の被検査
面Bである各導体線に当接させて導通性をチェックす
る。この場合、上記プローブピン41の球面部41cは
被検査面Bに当接すると同時に前方に摺動することとな
る。即ち、液晶ディスプレイの場合、半導体集積回路に
比べて基板面積,導体長さも大きいことから、点接触よ
りもソフトタッチで摺動させるのがよい。これに対して
本実施例のプローブピン41はこれの先端が急冷凝固組
織を有する球面部41cとなっているので、従来の角縁
を摺動させる場合に比べて接触抵抗を小さくできること
から、当接時の接触状態を安定化でき、かつ摩耗による
劣化を低減できる等、優れた性能が得られる。
The probe unit 45 of this embodiment is used for the continuity inspection of the liquid crystal substrate 43 of the liquid crystal display, and the probe unit 45 is vertically lowered so that the spherical surface portion 41c of each probe pin 41 is attached to the liquid crystal substrate 43. Conductivity is checked by contacting each conductor wire which is the surface B to be inspected. In this case, the spherical portion 41c of the probe pin 41 comes into contact with the surface B to be inspected and simultaneously slides forward. That is, in the case of a liquid crystal display, since the substrate area and the conductor length are larger than those of a semiconductor integrated circuit, it is better to slide by soft touch rather than point contact. On the other hand, in the probe pin 41 of this embodiment, the tip end of the probe pin 41 is the spherical surface portion 41c having the rapidly solidified structure, so that the contact resistance can be reduced as compared with the case of sliding the conventional corner edge. Excellent performance is obtained such that the contact state at the time of contact can be stabilized and deterioration due to wear can be reduced.

【0047】図12及び図14はそれぞれ本実施例のプ
ローブピン41の球面部41c,及び従来のプローブピ
ンの先端面をSEMにより観察した繊維状金属組織を示
す図であり、図13及び図15はそれぞれ上記各先端部
をEPMAにより分析した金属元素を示す図である。
FIGS. 12 and 14 are views showing a fibrous metal structure obtained by observing the spherical surface portion 41c of the probe pin 41 of the present embodiment and the tip end surface of the conventional probe pin by SEM, respectively, and FIGS. FIG. 3 is a diagram showing a metal element obtained by analyzing each of the above-mentioned tip portions by EPMA.

【0048】図14及び図15において、従来のプロー
ブピンの場合、これの先端面は切断による破断面となっ
ており、金属元素もAuだけ検出されている。これに対
して、図12及び図13の本実施例の場合は、先端が球
面状となっており、しかも該球面部はSi,Au,F
e,Niの金属元素が検出されている。このように本実
施例の球面部は上記各金属元素が合金化された急冷凝固
組織を有していることかわかる。
In FIGS. 14 and 15, in the case of the conventional probe pin, the tip surface of this is a fracture surface due to cutting, and only the metal element Au is detected. On the other hand, in the case of this embodiment shown in FIGS. 12 and 13, the tip is spherical and the spherical portion is made of Si, Au, F.
The metal elements of e and Ni are detected. Thus, it can be seen that the spherical portion of this example has a rapidly solidified structure in which the above metal elements are alloyed.

【0049】[0049]

【発明の効果】以上のように本発明に係るプローブユニ
ットによれば、プローブピンの被検査面に当接する先端
に球面部を形成したので、被検査面に当接させる際の接
触抵抗を小さくでき、接触状態を安定できるとともに、
接触位置精度を向上できる効果がある。また請求項3で
は、上記球面部を、溶融固化してなる急冷凝固組織とし
たので、高硬度で優れた耐摩耗性を得ることができる効
果があり、さらに請求項2では、プローブピンの先端球
面部分にテーパー状の尖部を形成したので、被検査面に
当接と同時に瞬時に高い接触圧力を得ることができる効
果がある。さらにまた請求項4の発明では、金属極細線
に低炭素二相組織鋼線を採用したので、線径150 μm 以
下で引張強度300 〜600Kgf/mm2を得ることができ、小径
化, ピッチの狭小化を図りながら強度, 剛性, 靱性を向
上できる効果がある。
As described above, according to the probe unit of the present invention, since the spherical portion is formed at the tip of the probe pin that contacts the surface to be inspected, the contact resistance when contacting the surface to be inspected is small. Yes, you can stabilize the contact state,
This has the effect of improving the contact position accuracy. Further, in claim 3, since the spherical surface portion has a rapidly solidified structure formed by melting and solidifying, there is an effect that high hardness and excellent wear resistance can be obtained. Further, in claim 2, the tip of the probe pin is obtained. Since the tapered point is formed on the spherical surface, there is an effect that a high contact pressure can be instantaneously obtained at the same time when the surface to be inspected is contacted. Further, in the invention of claim 4, since the low carbon dual-phase steel wire is adopted as the ultrafine metal wire, the tensile strength of 300 to 600 Kgf / mm 2 can be obtained at the wire diameter of 150 μm or less, and the diameter reduction and pitch It has the effect of improving strength, rigidity, and toughness while achieving narrowing.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の一実施例によるプローブユニットを説
明するための側面図である。
FIG. 1 is a side view illustrating a probe unit according to an exemplary embodiment of the present invention.

【図2】上記実施例のプローブピンの先端部を示す断面
図である。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a tip portion of a probe pin of the above embodiment.

【図3】上記実施例のプローブユニットによる検査方法
を示す斜視図である。
FIG. 3 is a perspective view showing an inspection method using the probe unit of the above embodiment.

【図4】上記実施例のプローブピンの断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of the probe pin of the above embodiment.

【図5】上記実施例ユニットの製造方法に採用される布
線装置を示す概略構成図である。
FIG. 5 is a schematic configuration diagram showing a wiring device used in the method of manufacturing the unit of the embodiment.

【図6】上記実施例ユニットの製造方法を説明するため
の工程図である。
FIG. 6 is a process drawing for explaining the manufacturing method of the example unit.

【図7】上記実施例ユニットの製造方法を説明するため
の工程図である。
FIG. 7 is a process drawing for explaining the manufacturing method of the example unit.

【図8】上記実施例ユニットの尖部及び球面部の成形方
法を説明するための工程図である。
FIG. 8 is a process chart for explaining a method of forming the pointed portion and the spherical portion of the unit of the above embodiment.

【図9】上記実施例のプローブピン先端部の硬度を示す
特性図である。
FIG. 9 is a characteristic diagram showing hardness of the tip portion of the probe pin of the above-described embodiment.

【図10】上記実施例の他の実施例によるプローブユニ
ットを説明するための側面図である。
FIG. 10 is a side view for explaining a probe unit according to another embodiment of the above embodiment.

【図11】上記他の実施例による球面部の成形方法を説
明するための工程図である。
FIG. 11 is a process drawing for explaining a method of forming a spherical surface portion according to another embodiment.

【図12】上記実施例ピンの球面部の繊維状金属組織を
示す図である。
FIG. 12 is a view showing a fibrous metal structure of a spherical portion of the example pin.

【図13】上記実施例ピンの球面部の金属元素を示す図
である。
FIG. 13 is a diagram showing a metal element in a spherical surface portion of the example pin.

【図14】従来のプローブピンの先端部の繊維状金属組
織を示す図である。
FIG. 14 is a view showing a fibrous metal structure at the tip of a conventional probe pin.

【図15】上記従来の先端部の金属元素を示す図であ
る。
FIG. 15 is a diagram showing a metal element of the conventional tip portion.

【図16】従来のプローブユニットを示す斜視図であ
る。
FIG. 16 is a perspective view showing a conventional probe unit.

【図17】従来のプローブユニットを示す側面図であ
る。
FIG. 17 is a side view showing a conventional probe unit.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,45 プローブユニット 2,41 プローブピン 2b,41b 突出部 2d 尖部 2e,41c 球面部 3,40 絶縁性基台 4 低炭素二相組織鋼線(金属極細線) 6 導電性金属膜 A,B 被検査面 1,45 Probe unit 2,41 Probe pin 2b, 41b Protruding part 2d Sharp part 2e, 41c Spherical part 3,40 Insulating base 4 Low carbon two-phase structure steel wire (fine metal wire) 6 Conductive metal film A, B Inspection surface

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 導電性金属膜が被覆形成された線径150
μm 以下の金属極細線からなるプローブピンを絶縁性基
台上に所定ピッチに、かつ該基台から上記プローブピン
の一部を突出させて固着してなるプローブユニットであ
って、上記プローブピンの突出部を自己弾性を有する形
状に屈曲成形し、該突出部の被検査面に当接する先端に
球面部を形成したことを特徴とするプローブユニット。
1. A wire diameter 150 coated with a conductive metal film.
A probe unit in which a probe pin made of a metal ultrafine wire of μm or less is fixed on an insulating base at a predetermined pitch, and a part of the probe pin is protruded from the base to be fixed, A probe unit characterized in that the protrusion is formed by bending into a shape having self-elasticity, and a spherical portion is formed at the tip of the protrusion contacting the surface to be inspected.
【請求項2】 導電性金属膜が被覆形成された線径150
μm 以下の金属極細線からなるプローブピンを絶縁性基
台上に所定ピッチに、かつ該基台から上記プローブピン
の一部を突出させて固着してなるプローブユニットであ
って、上記プローブピンの突出部を自己弾性を有する形
状に屈曲成形し、該突出部の先端部分にテーパー状の尖
部を形成し、該尖部に被検査面に高面圧で当接する球面
部を形成したことを特徴とするプローブユニット。
2. A wire diameter 150 coated with a conductive metal film.
A probe unit in which a probe pin made of a metal ultrafine wire of μm or less is fixed on an insulating base at a predetermined pitch, and a part of the probe pin is protruded from the base to be fixed, The protrusion is formed by bending into a shape having self-elasticity, the tip of the protrusion is formed with a tapered pointed portion, and the pointed portion is formed with a spherical portion that comes into contact with the surface to be inspected with high surface pressure. Characteristic probe unit.
【請求項3】 請求項1又は2において、上記球面部が
上記金属極細線の先端を溶融固化して形成された急冷凝
固組織を有することを特徴とするプローブユニット。
3. The probe unit according to claim 1 or 2, wherein the spherical surface portion has a rapidly solidified structure formed by melting and solidifying the tip of the metal ultrafine wire.
【請求項4】 請求1ないし3の何れかにおいて、上記
金属極細線が引張強度300Kgf/mm2以上の低炭素二相組織
鋼線であることを特徴とするプローブユニット。
4. The probe unit according to claim 1, wherein the fine metal wire is a low carbon dual phase steel wire having a tensile strength of 300 Kgf / mm 2 or more.
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