JPH06231488A - 記録可能光ディスク - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【構成】 透明基板上に光吸収層、銀又は銀を主成分と
する光反射層及び保護層を順次積層してなる記録可能光
ディスクにおいて、光反射層の保護層に接する側の面を
トリアジンチオール系化合物で処理したことを特徴とす
る記録可能光ディスク。 【効果】 光反射層の耐食性が大幅に向上され、光反射
層として金を用いた場合と同等のディスク信頼性を有す
るため、耐高温・高湿性に優れ、特性の経時変化の少な
い高信頼性・長寿命の記録可能光ディスクが低コストで
製造可能となる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は記録可能光ディスクに関
する。詳しくは、いわゆるコンパクトディスク（ＣＤ）
に互換可能であり、かつ書き込み可能な光ディスクに好
適な光ディスクに関する。

【０００２】

【従来の技術】コンパクトディスクは記録容量が大き
く、ソフトウェアパッケージとしての生産性が高いこと
から、従来、オーディオソフト、コンピュータゲームソ
フト、電子出版媒体として広く用いられている。しかし
ながら、コンパクトディスクを作製するには、その透明
基板上に記録を転写するための金型が必要であり、その
コストのために百枚程度以下のディスク作製に際して
は、ディスク１枚当りのコストが相当高くなってしま
う。

【０００３】この問題を解決するために、金型を介して
記録ディスク作製を行うのではなく、ディスクに直接記
録可能な記録可能領域を備えるコンパクトディスク、即
ち、記録可能コンパクトディスクが開発されている。記
録可能コンパクトディスクは記録可能であると共に、再
生専用コンパクトディスクと同等の反射率を示すため、
記録後に再生専用コンパクトディスクプレイヤーやドラ
イブで再生可能であるという特徴を持っている。

【０００４】この記録可能コンパクトディスクは、通
常、透明基板上に有機色素からなる光吸収層、金属から
なる光反射層、及び紫外線硬化樹脂からなる保護層を順
次設けることにより作製される。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】既に、実用化され市販
されている記録可能コンパクトディスクでは、光反射層
として、読み出しレーザー光の波長に対して６５％以上
の高反射率と高耐腐食性を得るために金及び金を主成分
とする合金が使用されているが、金が高価であるためコ
ストの上で大きな問題となっている。

【０００６】一方、安価で金と同等の高反射率を有する
銀、銅、アルミニウム等の金属及びそれらを主成分とす
る合金を光反射層として用いた場合には、光反射層の腐
食に基づく反射率低下やエラー増加等のディスク特性の
経時変化が起こりやすいため、使用環境に対して十分な
信頼性のある記録可能コンパクトディスクの作製が困難
であった。

【０００７】本発明は、上記従来の問題点を解決し、高
価な金を光反射層として使用した記録可能光ディスクの
寿命・信頼性を損なうことなく、より安価な金属の光反
射層への使用を可能とすることにより、記録可能コンパ
クトディスクに好適な低コストの光ディスクを提供する
ことを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上記のように、高耐腐食
性を有する金の代わりに銀、銅、アルミニウム等の金属
又はそれらを主成分とする合金を光反射層として用いた
場合には、光反射層の腐食に基づく反射率低下やエラー
増加等のディスク特性の経時変化が起こりやすいため、
本発明者らは、銀及び銀を主成分とする光反射層の腐食
形態について鋭意検討した結果、光反射層の保護層に接
する面からの腐食進行の度合がディスク全体の寿命を決
めているという知見を得るに至った。

【０００９】この知見に基づき、上述した腐食の防止に
ついてさらに検討を加えた結果、銀又は銀を主成分とす
る光反射層の保護層に接する側の面をトリアジンチオー
ル系化合物で処理することにより、光反射層の腐食進行
が極端に抑えられ、光反射層として金を用いた場合と同
等のディスク信頼性を有する記録可能光ディスクが得ら
れることを見い出し、本発明を完成させた。

【００１０】即ち、本発明の要旨は、透明基板上に光吸
収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び保護層を順
次積層してなる記録可能光ディスクにおいて、光反射層
の保護層に接する側の面をトリアジンチオール系化合物
で処理したことを特徴とする記録可能光ディスクに存す
る。以下に、本発明の記録可能光ディスクを詳細に説明
する。

【００１１】本発明に用いられる透明基板の材質として
は、ポリカーボネート、ポリメタクリル酸メチル、ポリ
オレフィン等のプラスチック、ガラス又はガラス上にプ
ラスチックを形成したもの等が挙げられる。これらの透
明基板は厚み１〜２ｍｍ程度で、表面にスパイラル状に
案内溝を形成したものが一般的である。透明基板上に形
成する光吸収層の構成材料としては、光吸収性の有機色
素が好適に用いられ、具体的にはシアニン色素、スクア
リリウム色素、ピリリウム色素、トリアリールアミン色
素、含金属アゾ色素、フタロシアニン色素等が挙げられ
る。 光吸収層の形成法としては、通常、有機色素を有
機溶媒に溶解して前記透明基板上にスピンコートする方
法がとられる。

【００１２】本発明においては、光反射層として銀又は
銀を主成分とする合金の薄膜が用いられる。銀を主成分
とする合金を光反射層として用いる場合、読み出しレー
ザー光の波長に対して６５％以上の高反射率となるもの
であれば特に限定されないが、好適には、銅、ガリウ
ム、アルミニウム、パラジウム、ロジウム等と銀との二
成分以上の合金が用いられる。さらに、耐腐食性を目的
としてタングステン、マグネシウム、ホウ素等の元素を
微量添加してもよい。

【００１３】光反射層である銀又は銀を主成分とする金
属薄膜は、通常、スパッタリング法、真空蒸着法により
形成され、５０〜２００ｎｍの膜厚とするのが好適であ
る。このようにして前記透明基板上に形成された光反射
層の表面に対してトリアジンチオール系化合物処理を行
う。トリアジンチオール系化合物としては、下記の一般
式［Ｉ］で示される化合物が好適である。一般式［Ｉ］
において、−Ｒは−ＳＲ¹ 又は−ＮＲ²Ｒ³を表し、
Ｒ¹ 、Ｒ² 及びＲ³ は水素原子又は炭化水素基を表す。
炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル基、アリ
ール基が好ましく挙げられる。

【００１４】

【化１】

【００１５】処理方法としては、トリアジンチオール系
化合物を、通常、０．００１〜０．０５重量％、好まし
くは０．００５〜０．０３重量％でアルコール系溶媒に
溶かし、光反射層上にスピンコートあるいはディップコ
ートした後に乾燥させて行うのが好適である。さらに、
処理表面をアルコール系溶媒で洗浄して、余剰にディス
ク上に残ったトリアジンチオール系化合物を除去しても
よい。

【００１６】トリアジンチオール系化合物処理が施され
た光反射層上に形成する保護層としては、通常、ウレタ
ン系の弾性材又はアクリル系の紫外線硬化樹脂等の硬質
性の材料が用いられ、特にアクリル系の紫外線硬化樹脂
を用いるのが好適であり、これらのの保護層は、通常、
スピンコート法により厚み２〜２０μｍで塗布した後、
紫外線照射等により硬化させて形成される。

【００１７】

【実施例】以下に実施例を挙げて本発明をより具体的に
説明するが、本発明はその要旨を超えない限り、以下の
実施例に限定されるものではない。 実施例１ 透明基板として、記録可能コンパクトディスク用に周期
的に蛇行したトラッキング溝を設けた直径１２０ｍｍ、
厚さ１．２ｍｍのポリカーボネート基板を用いた。

【００１８】光吸収層は、下記構造式で示される含金
属アゾ色素を２.２重量％（対溶媒重量）でメチルセル
ソルブに溶解して、濾過した後、前記基板上にスピンコ
ート法により成膜した。色素塗布の後、色素層中の溶媒
を完全に蒸発させるために８０℃のオーブン中で１０分
間乾燥を行った。色素層の膜厚は、反射率が高くなるよ
うに選んで、１２０ｎｍとした。

【００１９】

【化２】

【００２０】次に、光吸収層の上に光反射層として、厚
さ１００ｎｍの銀層をアルゴンガス中でのＤＣマグネト
ロンスパッタ法により形成した。次いで、下記構造式
で示される化合物の０.０２重量％（対溶媒重量）メタ
ノール溶液を、スピンコート法により光反射層上に塗布
した後、余剰の下記構造式で示される化合物を洗浄す
るためにディスク内周にメタノールを滴下・回転させて
洗い流した。

【００２１】

【化３】

【００２２】さらに、表面処理を施した光反射層の上に
紫外線硬化剤ＳＤ−３１８（大日本インキ化学社製）を
スピンコート法により３μｍの厚さで塗布し、紫外線照
射装置で紫外線を照射して硬化させて、保護層を形成し
た。得られた記録可能コンパクトディスクについて、Ｄ
ＤＵ−１０００（パルステック社製）でＥＦＭ信号の記
録を行い、温度８５℃、湿度８５％の条件で５００時間
の高温高湿試験の後に、市販のＣＤプレイヤーで再生
し、Ｃ１エラーの変化を測定したところ、わずかなＣ１
エラーの増加が見られるだけであった。結果を表−１に
示した。 実施例２ 光反射層として厚さ１００ｎｍの銀・アルミニウム合金
（銀：８０原子％、アルミニウム：２０原子％）層を形
成したこと以外は実施例１と同様にして記録可能コンパ
クトディスクの作製を行った。

【００２３】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 実施例３ 光反射層の表面処理に使うトリアジンチオール系化合物
として、上記構造式で示される化合物の代わりに下記
構造式で示される化合物を用いたこと以外は実施例１
と同様にして記録可能コンパクトディスクの作製を行っ
た。

【００２４】

【化４】

【００２５】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 比較例１ 光反射層表面のトリアジンチオール系化合物処理を行わ
なかったこと以外は実施例１と同様にして記録可能コン
パクトディスクの作製を行った。

【００２６】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、膨大なＣ１エラーの増加が見
られた。結果を表−１に示した。 比較例２ 光反射層として厚さ１００ｎｍの銀・アルミニウム合金
（銀：８０原子％、アルミニウム：２０原子％）層を形
成したこと以外は比較例１と同様にして記録可能コンパ
クトディスクの作製を行った。

【００２７】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、膨大なＣ１エラーの増加が見
られた。結果を表−１に示した。 参考例１ 光反射層として厚さ１００ｎｍの金層を形成したこと以
外は比較例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。

【００２８】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。 参考例２ 光反射層として厚さ１００ｎｍの金層を形成したこと以
外は実施例１と同様にして記録可能コンパクトディスク
の作製を行った。

【００２９】得られたディスクについて、実施例１と同
様に試験を行ったところ、わずかなＣ１エラーの増加が
見られるだけであった。結果を表−１に示した。

【００３０】

【表１】 表−１より以下のことが明らかである。

【００３１】比較例１及び比較例２では、高温高湿試験
後に光反射層の腐食に基づく多大なＣ１エラーの増加が
見られている。これに対して、実施例１〜３では、高温
高湿試験後においてもＣ１エラーの増加が少なく、金層
を光反射層として用いた参考例１及び参考例２の場合と
同等のディスク信頼性が得られている。

【００３２】

【発明の効果】本発明の記録可能光ディスクは、透明基
板上に光吸収層、銀又は銀を主成分とする光反射層及び
保護層を順次積層してなるものであって、光反射層の保
護層に接する側の面をトリアジンチオール系化合物で処
理することにより、光反射層の耐腐食性が大幅に向上さ
れ、光反射層として金を用いた場合と同等のディスク信
頼性を有する。したがって、耐高温・高湿性に優れ、特
性の経時変化の少ない高信頼性・長寿命の記録可能光デ
ィスクが低コストで製造可能となる。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 今村 悟 神奈川県横浜市緑区鴨志田町1000番地 三 菱化成株式会社総合研究所内

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基板上に光吸収層、銀又は銀を主成
   分とする光反射層及び保護層を順次積層してなる記録可
   能光ディスクにおいて、光反射層の保護層に接する側の
   面をトリアジンチオール系化合物で処理したことを特徴
   とする記録可能光ディスク。