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JPH06213619A - 干渉計 - Google Patents

干渉計

Info

Publication number
JPH06213619A
JPH06213619A JP5272992A JP27299293A JPH06213619A JP H06213619 A JPH06213619 A JP H06213619A JP 5272992 A JP5272992 A JP 5272992A JP 27299293 A JP27299293 A JP 27299293A JP H06213619 A JPH06213619 A JP H06213619A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
measuring
interferometer
unit
measurement
guide
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP5272992A
Other languages
English (en)
Inventor
Voirin Guy
ギュイ・ボワラン
Farko Lucien
ルシアン・ファルコ
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
C S Uu M Centre Swiss Electron E De Mikurotekuniku SA Rech E Dev
Centre Suisse dElectronique et Microtechnique SA CSEM
Original Assignee
C S Uu M Centre Swiss Electron E De Mikurotekuniku SA Rech E Dev
Centre Suisse dElectronique et Microtechnique SA CSEM
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by C S Uu M Centre Swiss Electron E De Mikurotekuniku SA Rech E Dev, Centre Suisse dElectronique et Microtechnique SA CSEM filed Critical C S Uu M Centre Swiss Electron E De Mikurotekuniku SA Rech E Dev
Publication of JPH06213619A publication Critical patent/JPH06213619A/ja
Pending legal-status Critical Current

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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02049Interferometers characterised by particular mechanical design details
    • G01B9/02051Integrated design, e.g. on-chip or monolithic
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01BMEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B9/00Measuring instruments characterised by the use of optical techniques
    • G01B9/02Interferometers
    • G01B9/02055Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration
    • G01B9/02075Reduction or prevention of errors; Testing; Calibration of particular errors
    • G01B9/02078Caused by ambiguity
    • G01B9/02079Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals
    • G01B9/02081Quadrature detection, i.e. detecting relatively phase-shifted signals simultaneous quadrature detection, e.g. by spatial phase shifting
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    • G01J9/02Measuring optical phase difference; Determining degree of coherence; Measuring optical wavelength by interferometric methods
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    • GPHYSICS
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    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/41Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length
    • G01N21/45Refractivity; Phase-affecting properties, e.g. optical path length using interferometric methods; using Schlieren methods

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  • General Physics & Mathematics (AREA)
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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
  • Electron Beam Exposure (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 温度等に対して安定な干渉計を提供する。 【構成】 組込ユニット(42)と、測定部(46)に
よってこの組込ユニットから分離された反射ユニット
(44)とを有する。本干渉計は、測定光束(48)お
よび基準光束(50)が上記測定部を通過し、上記反射
ユニットによって反射され、上記ユニット内のこれら2
つの光束の光学距離が、実質的に等しいことを特徴とす
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、組込ユニツトと、少な
くとも1つの測定部によつてこの組込ユニツトから分離
され測定光束を反射するミラーとを含む干渉計に関す
る。この干渉計は、特に、距離の測定および測定部に充
填された媒体の屈折率の変化の測定に使用する。更に、
この干渉計は、例えば、レーザダイオードから放射され
た光束の波長を上記媒体中で安定化するのに使用され
る。
【0002】図1に示した、本出願人の研究所で最近開
発した干渉計は、本発明の目的の開示に利用できる。こ
の図1に、組込ユニツト2と、測定部6によつて組込ユ
ニツト2から分離された測定ミラー4とを含む。ここ
で、組込ユニツトとは、相互に動作するように結合さ
れ、1つのモジユールで支持された各種要素を統合する
ユニツトを意味する。
【0003】図1に示した干渉計は、マッハ−ツェンダ
型である。組込ユニツト2は、光学的入力ガイド10を
表面に被覆した基板8と、第1分岐12aおよび第2分
岐12bを含む光学的測定ガイドと、第1分岐14aお
よび第2分岐14bを含む光学的基準ガイドとから形成
される。この組込ユニツト2は、更に、測定ガイドの分
岐12bおよび基準ガイドの分岐14bに入力を接続し
た位相復調器16を含む。この復調器16の出力には、
それぞれ、別個に4つの出力ガイド18a〜18dを介
して検知器(図示してない)に伝達される4つの別個の
光学信号が得られる。
【0004】この場合、光学的測定ガイドの波長は、実
質的に、光学的基準ガイドの波長に等しい。基板8の1
つの側面20には、上記組込ユニツト2と上記測定部6
との間に、伝達レンズ22および24が設けてある。こ
れらのレンズ22および24は、測定光束28を伝播さ
せ得る測定光路26中に位置する。
【0005】第1レンズ22は、測定ガイド内を伝播す
る測定光束28のコリメーシヨン(平行化)に役立つ。
第2レンズは、光束28が測定ミラー4で反射された
後、測定ガイドの分岐12bに上記測定光束28をフオ
ーカシング(焦点合わせ)するのに役立つ。この測定ミ
ラー4は、レンズ24の光軸と一致する方向へ上記レン
ズへ向つて測定光束を反射するよう設置されている。測
定ミラー4は中空立方体のコーナの形の後方反射鏡から
形成され、伝達レンズ22および24は屈折率勾配を有
するオートフオーカシングレンズGRINから形成され
る。
【0006】光学的基準ガイドの2つの分岐14a、1
4bは、基板8の側面20によつて決定される平面で再
統合される。この部分には基準ミラー30が設けてあ
る。この場合、光学的基準ガイドの分岐14aおよび1
4bは、基準ミラー30とともに、基準光束34のため
の基準光路32を形成する。上記基準光束は、測定光束
28の形成にも役立つ入力光束36から得られる。
【0007】上述の装置には、測定部6において実施で
きる測定の精度に関して問題がある。実際、この種の干
渉計によつて実施されるすべての測定は、測定光路26
によつて決定される測定光学距離と基準光路32によつ
て決定される基準光学距離との間の光学距離の差にもと
づく。
【0008】従って、測定部6外で、測定光学距離と基
準光学距離との間の光学距離の差が変化すると、必ず、
上記測定部において実施した測定が不正確となる。上述
の装置の場合、この種の変化は、各種の現象(例えば、
組込ユニツト2の基板8の温度変化)にもとづき、生ず
る。なぜならば、組込ユニツト2の測定光学距離は、伝
達レンズ22、24の存在にもとづき、上記組込ユニツ
トの基準光学距離と異なるからである。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、上記
欠点を排除することにある。
【0010】
【課題を解決するための手段】従って、本発明は、組込
ユニツトと、上記組込ユニツトに関して所定方向に配列
された測定ミラーとを組合わせて備え、測定部が、少な
くとも部分的に、上記組込ユニツトと上記測定ミラーと
の間に位置する干渉計である。上記組込ユニツトは、基
準光路を部分的に形成する基準ガイドと、上記測定ミラ
ーに接する測定光路を部分的に形成する測定ガイドとを
含む。その測定光路および基準光路は、それぞれ測定光
学距離および基準光学距離を定め、基準光束および測定
光束が、それぞれ上記基準光路および測定光路を伝播す
る。上記組込ユニツトは、さらに上記測定ガイドおよび
上記基準ガイドに接続する入力の位相復調器と、上記測
定光路に設けられた、上記測定光束を測定ガイドから放
射させる伝達手段とを備えている。その伝達手段によっ
て上記測定光束が測定部へ送られ、測定部を伝播した測
定光束は、次いで、上記伝達手段によつて測定ガイドに
再び入射する。本干渉計は、上記組込ユニツトが、上記
組込ユニツトの基準光束および上記組込ユニツトの測定
光路によつてそれぞれ定められる基準光学距離および測
定光学距離の等化手段を含むことを特徴とする。
【0011】上記特徴にもとづき、測定光路と基準光路
との間の光学距離の差は、上記組込ユニツト外のこれら
2つの光路の間の光学距離の差のみによつて決定され
る。従って、測定部の光学距離の差のみに依存する干渉
結果が得られる。
【0012】本発明の主実施例によれば、上記等化手段
は上記組込ユニツトの外面に形成される。本干渉計は、
上記組込ユニツトに対して第2所定方向へ一定距離をお
いて上記外面に対して少なくとも部分的に対向させて設
けた基準ミラーを含む。上記基準ミラーは、上記等化手
段および上記基準ガイドとともに上記基準光路の形成に
役立つ。上記等化手段によって形成される上記基準光束
のための光学距離は、上記測定光束のために上記伝達手
段によつて形成される光学距離と実質的に等しく、上記
基準ガイドおよび上記測定ガイドは、それぞれ実質的に
等しい物理的性質および長さとなる。
【0013】特に、上記伝達手段は実質的に等しい第
1、第2レンズによつて形成されるとともに、上記等化
手段は、上記第1、第2レンズに実質的に等しい第3レ
ンズから形成される。上記基準ミラーは、上記第3レン
ズによつて形成される外面に配される。
【0014】この主実施例の特徴によれば、組込ユニツ
ト内の測定光路と基準光路との間の光学距離の差は、例
えば、組込ユニツトの温度に関係なくゼロに保持され
る。従って、測定部において実施した任意の測定につい
て、大きい信頼性が得られる。本発明の特殊な実施例に
よれば、安価な手段によつて実施した測定において上記
の大きい信頼性を得ることができ、この場合、唯一つの
レンズを干渉計に加えれるだけでよい。本発明の別の特
徴および利点は、実施例を示す添付の図面を参照した以
下の説明から明らかであろう。
【0015】
【実施例】以下において、図2を参照して、本発明に係
る干渉計の実施例を説明する。この干渉計は、マッハ−
ツェンダ型である。図2に示したように、干渉計は、組
込ユニツト52と、測定ミラー54とを含み、測定部5
6は、少なくとも部分的に、測定ミラー54と組込ユニ
ツト52との間に設置される。測定ミラー54は、例え
ば、中空の後方反射鏡から形成される。
【0016】組込ユニツト52は、光学的入力ガイド6
0を表面に設けた基板58と、第1、第2分岐62a、
62bを含む光学的測定ガイド62と、第1、第2分岐
64a、64bを含む光学的基準ガイド64とから形成
される。測定ガイド62および基準ガイド64は、位相
復調器66の入力65に接続され、測定ガイド62の分
岐62bおよび基準ガイド64の分岐64bをそれぞれ
伝播できる測定光束68と基準光束70との間にこの復
調器で干渉が生ずる。第1伝達レンズ72および第2レ
ンズ74からなる伝達手段が、基板58の側面76に設
けてある。上記伝達レンズ72、74は、上記測定ガイ
ド62とレンズ72、74と測定ミラー54とによつて
形成された測定光路78中に設置されている。この測定
ミラーは、組込ユニツト52に対して所定方向へ配列さ
れ、この方向はレンズ72の光軸の方向に平行であり、
レンズ72からその光軸の方向へ出る入射光束がレンズ
74の光軸の方向へ反射されるように定められている。
【0017】上記組込ユニツト52において、上記組込
ユニツトの測定光路78によつて定められる測定光学距
離および上記組込ユニツトの基準光路80によつて定め
られる基準光学距離を等化する手段は、光軸83を定め
る等化レンズ82と、基準ミラー86に対向する外面8
4とから形成される。従って、基準光路80は、光学的
基準ガイド64と、等化レンズ82と、基準ミラー86
とによつて定められる。一般に、基準ミラー86は、光
軸83の方向へ配列し、外面84から一定距離に設置
し、上記方向は、レンズ82の光軸83に平行な方向へ
伝播する入射光束が平行な方向へ反射されるよう、定め
るだけでよい。
【0018】基準ガイド64の分岐64aと分岐64b
とを光学的に接続するために、基板58の面76の上記
各分岐の端部は、光軸83に関して角度的に僅かにずら
し、分岐64aから出た光束が、基準ミラー86で反射
された後、分岐64bに再び導入されるようになってい
る。上述のレンズは、別の実施例(図示してない)で
は、基板58の測定ガイドおよび基準ガイドの延長部に
直接に形成できる。この場合、用語「レンズ」は、光束
がランダムに且つ相反的に伝播する媒体へ光学的ガイド
から光束を通過させることができる伝達手段のための一
般的用語である。更に、この伝達手段は、別の実施例
(図示してない)では、コリメーシヨン(平行化)機能
を有する回折格子から形成している。
【0019】光学的測定ガイド62および基準ガイド6
4の形状は、1つのガイドの長さが実質的に別のガイド
の長さと等しくなるよう定めてある。レンズ72、7
4、82は実質的に同一であるので、組込ユニツト52
内の基準光学距離と上記組込ユニツトの測定光学距離と
は、実質的に等しく、測定ガイドおよび基準ガイドの物
理的性質は同一である。
【0020】実際、測定ガイド62および基準ガイド6
4が形成される分離点90の以降において、測定ガイド
62の分岐62a、62bは、それぞれ、光学的基準ガ
イド64の分岐64a、64bに関して実質的に対称な
形状を有する。更に、測定光束68は、組込ユニツト5
8から出る際、レンズ72を通過し、測定ミラー54で
反射された後に組込ユニツト52に再び入射する際、レ
ンズ74を通過する。一方、基準光束70は、組込ユニ
ツト52の光学距離等化手段として役立つレンズ82を
二方向へ通過する。
【0021】上述の本発明に係る干渉計には、組込ユニ
ツト52の温度変化、基板58の膨張、基板の表面状態
の変化などに不感であるという利点がある。更に、組込
ユニツト52の光学距離等化手段としてレンズ72、7
4と実質的に同一のレンズ82を使用しても、本発明に
係る干渉計の構成に、何らかの技術的問題が生ずること
はない。本発明の上記実施例の変形例(図示してない)
では、レンズ72、74およびレンズ82を含むレンズ
・マトリツクスを設けることができる。この種のマトリ
ツクスの場合、必要なレンズユニツトを、特に、2つの
ユニツトの各レンズの相互間隔に関して、高精度で加工
できる。この種の装置のために、当業界で公知のすべて
のレンズ・マトリツクス製造法を考慮できる。
【0022】更に、図2の場合、4つの出力ガイド92
a、92b、92c、92dが、復調器66の出力に設
けてあり、出力信号は、測定光束68と基準光束70と
の間の干渉結果を検知ユニツト(図2には示してない)
に伝達するため、上記出力ガイド92a〜92d内を伝
播できる。
【0023】以下に、図3、4を参照して、図2の位相
復調器66を更に詳細に説明する。図3、4に示した復
調器66の実施例は、限定的ではない。「Techni
sches Messen」誌 58(1991)4、p
152〜157の論文「Integriert opt
isches Michelson-In-terfer
ometer mit Quadraturdemodu
latin im Glas zur Messung v
on Verschiebewegen」には、別の実
施例が記載されている。この論文には、上述の組込ユニ
ツトの製造技術および先行技術のマイケルソン干渉計が
記載されている。
【0024】図3に示した如く、位相復調器66は、巾
Wおよび長さLを有する、実質的に長方形の平面波ガイ
ドからなる。この平面波ガイドは、入射光分布から多重
像を形成する性質を有するマルチモードガイドである。
図3、4にした実施例の場合、基準ガイド64の分岐6
4bを伝播する光束70は、位相復調器66の入力65
において、光度分布I1を有し、一方、測定ガイド62
の分岐62bを伝播する光束68は、上記復調器66の
入力65において、光分布I2を有する。測定ガイド6
2および基準ガイド64を伝播する上記光束は、各光度
分布I1、I2が、距離Lにおいて、低光度ISの4つ
の像を形成するよう、復調器66の入力65の特殊な箇
所に入射される。
【0025】距離Lは、復調器66を形成するマルチモ
ードガイドの帯域巾W、上記平面波ガイドを形成する媒
体の屈折率Nおよび光束68、70の波長λ0 によつて
定められる。これらの各パラメータに長さLを関係づけ
る数学的関係は、L=NW2/λ0 で与えられる。距離
Lにおいて、2つの入射光束I1、I2は、それぞれ、
別の4つの像に重畳する4つの像を形成し、かくして、
2つの入射光束の間の移相度ψの関数である強度を有す
る4つの特殊な干渉IF1、IF2、IF3、IF4が
形成される。
【0026】図4には、更に、復調器66内の伝播時に
誘起される2つの光度分布I1、I2の位相差DFが示
してある。復調器66によつて誘起されるこの位相差D
Fは、90°の倍数である。45°回転して、三角法の
通常の基準軸を変更すれば、干渉IF1は、(1+co
sψ)(式中、ψは、2つの入射光束の間の移相度を表
す)にもとづき変化する光度を与え、一方、干渉IF
2、IF3、IF4は、それぞれ、(1−sinψ)、
(1+sinψ)および(1−cosψ)にもとづき変
化する光度を与える。
【0027】干渉IF1および干渉IF2の測定強度
は、干渉縞の移動の追跡および方向の決定に十分であ
る。しかしながら、4つの重畳像を利用することによつ
て、干渉結果のコントラストを増大でき、ゼロに等しい
平均値で処理した結果が得られる
【0028】以下に、図5を参照して、本発明に係る2
つの干渉計を含む装置を説明する。この装置は、可動対
象OMの位置を精密に測定するのに使用する。図5に示
した装置は、測定部56において極めて精密な距離を測
定するのに使用する。このため、装置は、測定部56に
充填された屈折率可変の媒体内で作用光束102の波長
を安定化する本発明に係る第1干渉計100と、組込ユ
ニツト114に対する対象OMの位置を測定する本発明
に係る第2干渉計104とを含む。この場合、この対象
OMは、干渉計104の測定ミラー54bに関連させさ
れ、測定ミラー54bの配列方向に対応する移動軸線1
08に沿つて移動ささせられる。
【0029】一方、干渉計100の測定ミラー54a
は、この干渉計の組込ユニット112に対して不動に設
置されている。上記実施例の場合、干渉計100の組込
ユニット112および干渉計104の組込ユニット11
4は、唯一つの組込ユニットを形成する。更に、2つの
組込ユニット112、114は、一体とされた基板11
6で支持される。作用光束102は、まず、干渉計10
4の入力ガイド60b内を伝播し、一方、コントロール
光束118は、まず、干渉計100の入力ガイド60a
内を伝播する。作用光束102およびコントロール光束
118は、何れも1つの光源105から来る。
【0030】干渉計100、104は、それぞれ、基板
116に2つの組込ユニット112、114を支持した
点以外は、図2に示した本発明に係わる干渉計の実施例
に対応する。この場合、簡略化のため、図2に示した部
材については、説明しない。第1干渉計100の位相復
調器66aから出た出力信号群120は、第1検知系1
22に伝達される。この検知系122は、次いで、復調
器66aにおける第1干渉計100の測定光束68a基
準光束70aとの間の干渉結果をあらわす少なくとも1
つの電気信号123を、レーザ源105から放射された
作用光束102の波長を測定部56において安定化する
ユニット124に伝達する。上記装置において、レーザ
源105は、レーザダイオードから構成される。
【0031】安定化ユニット124は、第1調整信号1
26をレーザ源105の給電ユニット128に伝達し、
第2信号をレーザ源105の温度調節ユニット132に
伝達するよう構成されており、第1信号126は、レー
ザ源105の給電値の調節に役立ち、第2信号130
は、測定部56の作用光束102の合成波長値が経済的
に一定であるようレーザ源105の温度を調整するのに
役立つ。
【0032】干渉計104の位相復調器66bの光学的
出力信号群136は、第2伝達系138に伝達される。
この検知系は、復調器66a内の干渉結果を表す少なく
とも1つの電気信号140を可動ミラー54bの変位の
測定ユニット142に伝達する。可動ミラーの変位のこ
の測定ユニット142は、距離測定に使用する干渉計1
04内を伝播する測定光束68bと基準光束70bとの
間の位相差の変化を追跡できるように構成されている。
次いで、光束68b、70bの間の位相差の変化は、干
渉計100によって安定化された作用光束102の波長
の数値によってメートル値に変換される。
【0033】検知系122、138およびレーザダイオ
ード105は、基板116の側面150に対向させて設
置してある。更に、第5図の装置に含まれるレンズ群
は、レンズマトリックスの形に構成されている。
【図面の簡単な説明】
【図1】本出願人の先願の干渉計の図面である。
【図2】本発明に係わる干渉計の実施例の略図である。
【図3】図2の実施例に設置する如き位相復調器の形状
を示す略図である。
【図4】図3の位相復調器の機能を示すグラフである。
【図5】本発明に係わる2つの干渉計、即ち、距離測定
に使用する第1干渉計と、距離測定に使用される光束の
波長の安定化に使用する第2干渉計とを組合わせて含む
装置の図面である。
【符号の説明】
52・・組込ユニット 54・・測定ミラー 56・・測定部 62・・測定ガイド 64・・基準ガイド 66・・位相復調器 68・・測定光束 70・・基準光束 72、74・・伝達手段 78・・測定光路、 80・・基準光路 82・・等化手段
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ルシアン・ファルコ スイス国 シイエイチ−2088 クレッシ・ ルドブラン・15

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 組込ユニツト(52)と、上記組込ユニ
    ツトに対して所定方向(55)に配列された測定ミラー
    (54)とを組合わせて含み、測定部(56)が少なく
    とも部分的に上記組込ユニツトと上記測定ミラーとの間
    に位置し、上記組込ユニツトが、基準光路(80)を部
    分的に形成する基準ガイド(64)と、上記測定ミラー
    に接する測定光路(78)を部分的に形成する測定ガイ
    ド(62)とを含み、上記測定光路および基準光路が、
    それぞれ、測定光学距離および基準光学距離を定め、基
    準光束(70)および測定光束(68)が、それぞれ、
    上記基準光路および測定光路を伝播でき、上記組込ユニ
    ツトが、上記測定ガイドおよび上記基準ガイドに接続す
    る入力(65)の位相復調器(66)と、上記測定光路
    中に設けてあり上記測定光束を上記測定ガイドから放射
    させ得る伝達手段(72、74)とを含み、上記測定光
    束が、上記測定部を伝播して、上記伝達手段によつて測
    定ガイドに再び入射させ得る干渉計であって、上記組込
    ユニツトが、上記組込ユニツトの基準光束および上記組
    込ユニツトの測定光路によつてそれぞれ定められる基準
    光学距離および測定光学距離の等化手段(82)を含む
    ことを特徴とする干渉計。
  2. 【請求項2】 上記等化手段(82)が、上記基準光路
    (80)に設けてあることを特徴とする請求項1の干渉
    計。
  3. 【請求項3】 上記等化手段(82)が、上記組込ユニ
    ツト(52)の外面(84)に対して少なくとも部分的
    に対向させて且つ一定距離を置いて設けた基準ミラー
    (86)を含み、その基準ミラーが上記等化手段および
    上記基準ガイド(64)とともに上記基準光路(80)
    を形成し、上記基準光束のために上記等化手段によって
    形成される光学的距離が、上記測定光束(68)のため
    に上記伝達手段(72、74)によつて形成される光学
    距離と実質的に等しくして、上記基準ガイド(64)お
    よび上記測定ガイド(62)が、それぞれ、実質的に等
    しい物理的性質および長さを有することを特徴とする請
    求項2の干渉計。
  4. 【請求項4】 上記基準ミラー(86)が、上記外面
    (84)に対向されていることを特徴とする請求項3の
    干渉計。
  5. 【請求項5】 上記伝達手段(72、74)が、上記測
    定光路に設けた相互に実質的に等しい第1、第2レンズ
    (72、74)から形成され、第1レンズが、上記組込
    ユニツト(52)から出た光束(68)のコリメーシヨ
    ンに役立ち、一方、上記第2レンズが、上記測定ミラー
    (54)で反射された後に上記組込ユニツトに入射する
    上記測定光束のフオーカシングに役立つことを特徴とす
    る請求項1〜4のいずれか1つに記載の干渉計。
  6. 【請求項6】 上記等化手段が、上記第1、第2レンズ
    (72、74)と実質的に等しい第3レンズ(82)か
    ら形成され、上記基準ミラー(86)が、上記第2所定
    方向を定める上記第3レンズの光軸(83)に垂直に配
    置してあることを特徴とする請求項5の干渉計。
  7. 【請求項7】 請求項1〜6のいずれか1つに記載の干
    渉計であつて、上記測定部(56)の充填媒体中で、上
    記干渉計に配した光源(105)から放射された作用光
    束(102)の波長を安定化するのに使用するものにお
    いて、該干渉計が、更に、上記測定部(56)の充填媒
    体の屈折率の変化に依存して上記光源(105)の放射
    周波数を調節する等化手段(102、124、128、
    132)と組合わされていることを特徴とする干渉計。
  8. 【請求項8】 上記光源(105)が、レーザダイオー
    ドであり、上記等化手段(122、124、128、1
    32)が、上記波長の数値を経時的に一定に保持するた
    めにレーザダイオード(105)の供給電流および温度
    を調節する手段(124)を含むことを特徴とする請求
    項7の干渉計。
  9. 【請求項9】 請求項1〜6のいずれか1つに記載の干
    渉計であつて、上記組込ユニツト(114)に対して所
    定方向へ可動な対象(OM)の位置を測定するのに使用
    ため、上記対象が上記測定ミラー(54b)に関連させ
    られ、その干渉計が、更に、上記位相復調器(66b)
    内で行われた干渉の結果を評価して、この結果に対応し
    上記対象の位置を表すメートル値を与える手段(13
    8、142)を含むことを特徴とする干渉計。
  10. 【請求項10】 請求項7または8に記載の第1干渉計
    (100)と請求項9に記載の第2干渉計(104)と
    を組合わせて含み、第1、第2干渉計が、何れも、上記
    光源(105)から光の供給を受け、上記作用光束(1
    02)が、上記測定光束(68b)の形成のため上記第
    2干渉計(104)に供給され、上記第2干渉計の上記
    光束(70b)が、上記対象(OM)の位置の測定に役
    立つことを特徴とする装置。
JP5272992A 1992-10-06 1993-10-06 干渉計 Pending JPH06213619A (ja)

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FR9212122 1992-10-06

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EP0591912A3 (ja) 1994-04-27
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