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JPH06168414A - 薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の組合せシステム並びにその製造方法 - Google Patents

薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の組合せシステム並びにその製造方法

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Publication number
JPH06168414A
JPH06168414A JP5181661A JP18166193A JPH06168414A JP H06168414 A JPH06168414 A JP H06168414A JP 5181661 A JP5181661 A JP 5181661A JP 18166193 A JP18166193 A JP 18166193A JP H06168414 A JPH06168414 A JP H06168414A
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JP5181661A
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ロバート・エドワード・ジョーンズ，ジュニア
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International Business Machines Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】接触記録に又は媒体上の飛行に用い得る長手方
向の記録のための懸架部・変換器磁気ヘッドの組合せア
センブリを提供する。 【構成】この変換器(24)は第１のポール部分(62)の水平
セクションと第２のポール部分(72)の水平及び垂直セク
ションを含む。第１のポール部分と第２のポール部分の
垂直セクションとの間に磁気ギャップ(64)が形成され
る。これらのポール部分は磁気飽和を回避し且つ細いポ
ールチップ(102、106)を与える形状に作られる。懸架部
(26)は主に２つの層から形成される。第１の層は、第１
の水平ポール部分と第２のポール部分の水平セクション
とを分離する絶縁層(66)である。第２の層は変換器層を
被覆し保護する絶縁層(82)である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は移動式磁気記憶装置及び
それらの記録素子、より詳しくは、一括製造するのに適
した変換器・懸架部の組合せ構造及び該構造を製造する
方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】移動式磁気記憶装置、特にディスク装置
の問題はすみやかに記憶装置の選択の問題になる。これ
はそれらの不揮発性の拡大された記憶能力及びそれらの
相対的な低価格による。記憶された情報をこれらの装置
から正確に検索することが重要となり、変換器をできる
だけ媒体に近い位置に置く必要がある。変換器が媒体と
接触することが最適である。
【０００３】ディスク・ファイルは、データ情報を含む
同心のデータ・トラックを有する少なくとも１つの回転
可能なデータ記憶ディスク、それぞれのトラックからデ
ータを読取り又はそれぞれのトラックにデータを書込む
変換器、媒体の上方を飛行するモードでトラックに隣接
して変換器を保持する滑動部、トラック上に滑動部及び
変換器を弾性的に保持する懸架部、並びに読取り又は書
込み動作中にディスク面上の所望のトラックに変換器を
移動させるとともに変換器をトラックの中心線に保持す
るために変換器・滑動部・懸架部組合せアセンブリに接
続された位置決めアクチュエータを用いる情報記憶装置
である。変換器は空気ベアリング・スライダに取付けら
れ、回転中のディスクにより生成された空気のクッショ
ンによりディスクのトラックの上方に支持され、ディス
クの停止時はディスクと接触する。懸架部は滑動部とア
クチュエータ・アームの間に高いばね剛性及び寸法安定
性を与える。懸架部はできるだけ小さい荷重でディスク
のデータ面に隣接して変換器及び滑動部を保持すること
が要求される。アクチュエータは読取り動作で要求され
たデータによって正しいトラック位置に、又は書込み動
作中にデータを記録する正しい位置に変換器を置く。ア
クチュエータは、トラックを横切る方向に組合せアセン
ブリを移動させることによって変換器を正しいトラック
に位置づけるように制御される。
【０００４】従来のディスク装置では、変換器及び滑動
部は懸架部とは別個に形成された後、手動制御の精密取
付け手順により懸架部に取付けられる。各部は小型であ
り、相互の位置関係は高度に正確でなければならない。
変換器はトラックとの相対位置が正確でなければならな
い。それは懸架部の滑動部に対する位置が正確でなけれ
ばならないことを意味する。更に、懸架部は柔軟性及び
回転中のディスクの運動方向に対する滑動部のピッチン
グ運動及びローリング運動を与えつつもヨーイング運動
に対する抵抗を与える必要がある。滑動部に対する懸架
部の位置に誤差があれば、両者ともに破壊される結果に
なる。導体リードは懸架部に沿って配線され、懸架部上
又はアクチュエータ上に配置された増幅器に接続され
る。導体リードは滑動部のばね剛性を増さずに電気的に
良好に相互接続されなければならない。
【０００５】導体リードは一般に、例えば、はんだ付け
により、変換器の出力引出線及び増幅器の両方に結合さ
れる。繰り返して言えば、誤差により組合せ構造全体が
破壊されることがある。
【０００６】変換器・活動部アセンブリ即ちヘッドによ
り媒体に接触することは特に磨耗の問題を提起し媒体の
クラッシュ(crash) を生ずる可能性がある。磨耗の問題
及びクラッシュの可能性を少なくするために、懸架部シ
ステムの質量を最小に減らす必要があることが認識され
ている。最小の質量はヘッドが媒体で受ける物理的な衝
撃を最適化しすることにより、損傷及び磨耗の可能性を
少なくする。
【０００７】そのために、変換器・懸架部の製造に「リ
ード(reed)」方法を用いる種々の機構が開示されてい
る。垂直記録環境で作用するように構成されたリード装
置は、(1) 精密なスロートの高さの制御、(2) 精密な接
触記録式変換器の配置、又は指定された飛行高度を達成
するための空気ベアリングの形成、(3) 滑動部と懸架部
との結合、及び(4) 導体リード(lead)の容易な経路指定
を有するスロートヘッド及び懸架部を容易に製造するこ
とを可能にする。米国特許第5041932 号に記述されてい
るように、ある構造では、例えば、水平の第１のポール
部分及び水平の第２のポール部分を有し、第１のポール
部分を一定の間隔に保つ磁気ギャップを形成する垂直の
構成素子を含む、水平変換器を備えている。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】前述のように、接触記
録は、飛行高度の変化により制限されずに、より高い信
号及びより大きい分解能を可能にする。あいにく、ファ
イル寿命にわたっておよそ400 マイクロインチ (１マイ
クロインチは2.54cmの100 万分の１) になると推定され
る、接触記録に関連した磨耗は通常は受入れられない。
もう１つの大きな欠点は、このタイプのヘッドは以前は
垂直な記録にのみ適し、長手方向の媒体には適していな
かったことである。これは全て上記設計の垂直記録ヘッ
ドを高密度記録に適しないものにしている。
【０００９】本発明の第１の目的は、改良された懸架部
・変換器構成を含むヘッド構造を有する改良された移動
式磁気記憶装置を提供することにある。
【００１０】本発明の第２の目的は、改良された懸架部
・変換器構成ヘッド構造を提供することにある。
【００１１】本発明の第３の目的は、長手方向の記録に
適する変換器・懸架部構造を製造することにある。
【００１２】本発明の第４の目的は、磨耗及びパッド外
形の変化に対する耐性を有する長手方向のヘッドを製造
することにある。
【００１３】
【課題を解決するための手段】本発明は、接触記録に又
は媒体上の飛行に用い得る長手方向の記録のための懸架
部・変換器磁気ヘッド組合せアセンブリを提供する。こ
の変換器は水平の第１のポール部分及び水平及び垂直セ
クションに区分された第２のポール部分を含む。第１の
ポール部分と第２のポール部分の垂直セクションとの間
に磁気ギャップが形成される。これらのポール部分は磁
気飽和を回避し且つ細いポールチップを与える形状に作
られる。懸架部は主に２つの層から形成される。第１の
層は、第１の水平ポール部分と第２のポール部分の水平
セクションとを分離する絶縁層である。第２の層は変換
器層を被覆し保護する絶縁層である。
【００１４】変換器・懸架部の組合せアセンブリを製造
する方法では、パターン化されたホトレジストの複数の
接触パッドが行及び列構成で基板上に形成される。そし
てリリース層が基板に付着される。第１のポール部分は
各接触パッドに部分的に接触してパターン形成される。
磁気材料の厚いバックギャップ層が第１のポール部分の
各々に付着される。耐磨耗層とそれに続いて電気的及び
磁気的絶縁材料の厚い層が付着される。この層は組合せ
アセンブリの懸架部の主要な部分になる。この懸架部薄
膜は平らにラップ仕上げされ、最初のコイル層が各ポー
ル部分の懸架部薄膜上に形成される。磁気層の第２のポ
ール部分は、最初のコイル層を少なくとも部分的に被覆
する絶縁層に、第１のポール部分毎に付着される。絶縁
層は第２のポール部分層を被覆するが、最初のコイル層
との接触を可能にする。そしてコイル層はこの絶縁層で
導体リードに沿ったコイル回路との接続を完成する。導
体リード及び続いて付着された導体スタッドにより、各
変換器が駆動回路 (図示せず) と接続される。組合せア
センブリの懸架部セクションの第２のそして最後の主要
部分を形成する電気的及び磁気的絶縁材料の第２の厚い
層が付着される。薄膜の上部の層がラップ加工により除
去され、前に形成されたスタッドとの電気的な接触を可
能にする。組合せアセンブリが行及び列でウェーハに付
着されるから、各アセンブリは複数の行のアセンブリに
分割される。
【００１５】部分的な行アセンブリの端は研磨され磁気
ギャップ層が付着される。そして第２のポール部分層を
露光するためにコンタクト・バイアが磁気ギャップ層内
に形成される。第２のポール部分の垂直のセクションを
形成するために、磁気材料の第３のポール部分がパター
ン化され、各行にわたって付着される。そして懸架部・
変換器アセンブリの完成された行に保護被覆が付着され
る。そして、この行は複数の個々の組合せ構造に分割さ
れる。次にリリース層を溶解するかエッチングすること
により基板が取り除かれ、部分的に完成した組合せ構造
を残す。ギャップの部分、最初の接触パッドの下方に伸
びる第３のポール部分及び最後の保護層を取り除くこと
により、組合せ構造が完成される。できれば、付着され
たアルミナ(Al2O3) の層を用いて懸架部が作られること
が望ましい。アルミナ層を切断することにより懸架部の
所望の構造が形成されたのち、形成された懸架部が基板
面から切離される。基板の除去はリリース層を用いて行
なうことが望ましい。
【００１６】
【実施例】本発明の良好な実施例は多数のディスク装置
で使用されることが望ましいが、パーソナルコンピュー
タで広く利用される単一のディスク装置、又は任意の他
のタイプの媒体装置、例えばテープ装置でも使用され得
る。図１は、ロータリ・アクチュエータ10、関連した磁
気記憶ディスク12、及びディスク12を回転させる駆動手
段13が取付けられるハウジング８を含むデータ記録ディ
スク・ファイルを示す。ロータリ・アクチュエータ10は
本発明の組合せアセンブリをディスク12上の弓形の経路
で移動させる。ロータリ・アクチュエータ10は、コア16
を有する固定された永久磁石アセンブリの磁気フィール
ド内の可動コイル14を含むボイス・コイル・モータを備
える。アクチュエータ・アーム20が可動コイル14に取付
けられる。アクチュエータ・アーム20の他の端は本発明
の変換器・懸架部の組合せアセンブリ22に取付けられ、
本明細書に開示された手順に従って製造される。組合せ
アセンブリ22は変換器・滑動部セクション24及び懸架部
セクション26を備える。懸架部セクション26は、ディス
ク12の面の上方に、ベアリング、即ちディスク12の回転
により生じた空気のクッションで変換器・滑動部セクシ
ョン24を支持できる。できれば、懸架部セクション26
は、変換器・滑動部セクション24を、ディスク12の面と
接触した状態で支持できる。空気ベアリング又は空気ベ
アリング面はディスク面に隣接する平行な変換器の面を
指す。それは、変換器がディスクの上方を飛行するよう
に設計される構成と、変換器が動作中に記録媒体、ディ
スク12と接触するように設計される構成とを含む。アク
チュエータ・アーム20は複数のアームを含み、各アーム
はそれ自身の組合せアセンブリ22を支持し、各組合せア
センブリ22はデータ記録ディスク装置アセンブリ内に配
置されたディスクの各面に関連づけることができる。よ
って、例えば、ディスク12はアクチュエータ・アーム20
に取付けられた組合せアセンブリ22を有し、ディスク12
の下側に媒体表面を関連づけることもできる。更に、ア
クチュエータ10により変換器アクセスが制御されるディ
スク装置アセンブリに含み得る他のディスクの上下の側
に、他の組合せアセンブリが関連づけられる。
【００１７】変換器・懸架部の組合せアセンブリ22の懸
架部セクション26は、ディスク12の面に概ね垂直な変換
器・滑動部セクション24に負荷を与える。この垂直な負
荷はディスク12のデータ面に又はその上方に変換器・滑
動部セクション24を維持する。駆動手段13によるディス
ク12の回転中に、組合せアセンブリ22はデータの読取り
又は記録のためにディスク12と接触する状態に留まる。
あるいは、懸架部セクション26により変換器・滑動部セ
クション24に加えられた垂直の負荷に対抗するように変
換器・滑動部セクション24とディスク12の間に生成され
た上向きの力を用いて、ディスク12の上方を飛行するよ
うに組合せアセンブリ22を設計することができる。接触
記録は本発明の良好な実施例である。
【００１８】動作中、前記磁石アセンブリの磁界内を移
動するコイル14によりディスク12のデータ面上の同心デ
ータ・トラックの所望のトラックに、変換器・滑動部セ
クション24が移動される。１つのトラックから別のトラ
ックへの変換器・滑動部セクション24の急速な移動が要
求される。セクション24の変換器は最小の時間のあいだ
所望のトラック上の正しい位置に置かれることが必要で
ある。本発明で用いるロータリ・アクチュエータは米国
特許第3849800 号に示されている。図１に示すアクチュ
エータ10はロータリ・アクチュエータであるが、他のタ
イプの通常のディスク・ファイルで用いるリニア・アク
チュエータも本発明で使用できる。
【００１９】組合せアセンブリ22の懸架部セクション26
は放射方向の剛性を与えるとともに、セクション24の変
換器をディスク12のデータ面の上方に保持するときピッ
チング方向及びローリング方向に十分な柔軟性を持たな
ければならない。もし必要なら、組合せアセンブリ22の
懸架部セクション26に集積回路アセンブリ28を作ること
もできる。参照番号28は集積回路増幅器を示す。図２
は、図１の組合せアセンブリ22の拡大された構成を示
す。
【００２０】ディスク12上に位置する組合せアセンブリ
22が図２に示され、ディスク12の回転は矢印36で示され
る。ディスク12で磁気遷移を読取り且つ書込みするため
に変換器・滑動部セクション24の変換器38 (図示の垂直
ポール・セクション) がディスク12に隣接する位置に置
かれる。大抵のディスク装置はそれらのディスクが水平
に取付けられるから、本発明の表示を容易にするため
に、本発明の水平の変換器・懸架部はディスク12に平行
するように配置される。垂直に取付けられたディスクは
同等にカバーされ、且つ当該構成では、水平及び垂直装
置は置き換えられるが、変換器はディスク面と平行して
動作することは明白である。
【００２１】懸架部セクション26は変換器38をディスク
12の上に懸架する。この実施例では、懸架部セクション
26は第１の絶縁層40及び第２の絶縁層42を含む。導体回
路層(図示せず) はこれらの層の間でカプセル化され
る。懸架部セクション26で提供される支持の容積は第１
及び第２の絶縁層40及び42により維持される。変換器38
は前記導体回路層に電気的に接続される。隣接する位置
に置くことができる増幅器と相互接続させるために電気
的な接続導体パッド48が設けられる。前記導体パッドの
代わりに集積回路増幅器 (図示せず) を設けることがで
きる。図１の付着された集積回路増幅器28は設置可能な
増幅器の例である。
【００２２】絶縁層40及び42は導体層と変換器38の導電
可能な磁気部分の間に電気的な絶縁を与える。２つの絶
縁層40及び42は、ディスク12のトラック上の所定の位置
に変換器38を保持する懸架部支持物を提供する。
【００２３】図３は図２に示すような構成により組合せ
アセンブリ22を構成する方法におけるステップを示す。
非磁気ウェーハ基板50を作ることにより、組合せアセン
ブリ22の一括製作が行なわれる。基板50は厚さＴを有す
る。この厚さは処理するあいだその構造を支持するのに
十分でなければならない。複数の組合せアセンブリ22が
行及び列構成で基板50に付着される。図３には４つの行
52及び４つの列54が示されている。各行52及び各列54は
組合せアセンブリ22を複数の行に形成し、各行は更に個
々の装置に切離し得ることを示す。図３に示す行52及び
列54の数は多かれ少なかれ単一のウェーハ基板50に作る
ことができる。その数はウェーハの大きさ及び個々の組
合せアセンブリの大きさによる。
【００２４】更に、図３では、例えばソーイング・カッ
ト(saw cut) 56によりウェーハ50から１つの行52A が切
離される。行52A は端の面59にその変換器38のセクショ
ンを有する。行52A は図５、図６及び図７に示すように
更に処理された後、図３に示すように、ソーイング・カ
ット58又は他のダイシングにより個々の装置に切離され
る。図４は、ウェーハ50に付着された、組合せアセンブ
リ22の最初の部分を設ける層の断面図を示す。
【００２５】図４で、組合せアセンブリ22は、変換器・
滑動部セクション24及び懸架部セクション26を形成する
複数の層を含む。この断面図で、本発明で企図された水
平の変換器は、図１及び図２の変換器・滑動部セクショ
ン24の全体又は少なくとも一部を形成する。この変換器
は、水平に、即ち、磁気ディスク (図示せず) の接触面
に平行に置かれた第１のポール部分62を含む。第１のポ
ール部分62は、図４に示すような最初の基板50の面の成
形により製造できる傾斜接触領域63とともに形成され
る。ウェーハ基板50の面はポール部分62を作った材料の
付着前にリリース層60で被覆される。後のプロセスでリ
リース層60を溶解することにより、ウェーハ基板50及び
ポール部分62が切離される。磁気部材64がポール部分62
と接触するように付着される。磁気部材64が形成された
後、ウェーハ基板50のリリース層60の面全体が耐磨耗材
料の層65及び絶縁層66により被覆される。耐磨耗材料の
層65は変換器・滑動部セクション24とディスク12の間の
接触領域の大部分を被覆する。耐磨耗材料の層65及び絶
縁層66は付着後に平らにラップ仕上げされ、次の層に平
滑な面を与えるとともに部材64の上面を露光する。
【００２６】次に、変換器コイルの第１のセットの導体
ストライプ68が絶縁層66に形成され、電気的な絶縁材料
のコイル絶縁層70により被覆される。そして第２のポー
ル部分の水平部分72が絶縁層70に形成される。第２のポ
ール部分の水平部分72は変換器のバックギャップを満た
す部材64と接触する。コイル絶縁層74の付加層は全ウェ
ーハ面に付着される。第２のセットのコイル導体ストラ
イプ76はコイル絶縁層74に付着される。第２のセットの
コイル導体ストライプ76は第１のセットの導体ストライ
プ68と相互接続し、変換器セクション24の第２のポール
部分の水平部分72の周りの変換器コイルを活動化する。
導体ストライプ68及び76により形成されたコイルは、導
体コイル絶縁層74に付着された導体層78に電気的に接続
される。このコイルは、変換器の磁気部材と一緒に、変
換器がディスク12上の磁気遷移の読取り書込みを可能に
する。導体層78の開放端に形成された図示の導体スタッ
ド80を介して、コイルで感知された信号が導体層78から
回路 (図示せず) に送られる。第２の電気的な絶縁層82
が導体コイルのストライプ76及び導体層78に付着され
る。この第２の絶縁層82及び第１の絶縁層66は懸架部セ
クション26の支持構造である。そして導体パッド48 (図
２参照) が第２の絶縁層82に導体スタッド80と接触して
形成される。導体パッド48は、たぶん図１に示すような
集積回路28を介して、その関連ディスク装置の回路と相
互接続する。
【００２７】図４に示すような付着プロセスが終了した
後、ウェーハ50が行 (図３参照) に切断される。図３
で、ソーイング・カット56によりウェーハ基板50から行
52A が切離される。そして行52A は接着剤により、例え
ば、トランスファ・ツール90に固定され、行52A の端の
面59が露光される。そして行52A の端の面59は平らにラ
ップされる。１つの実施例の変換器のその後の処理は図
６に示される。
【００２８】図６で、行52A の端の面は平らにラップさ
れ、磁気ギャップ層92が形成される。第２のポール部分
の水平部分72の端が露光され、垂直部分94が付着され
る。参照番号96で示す第２のポール部分は、水平部分72
及び垂直部分94を含む。そして変換器セクション24は、
磁気ギャップ92、図４に示す第１のポール部分62の層及
び磁気部材64とともに、第２のポール部分96を含む。垂
直部分94の完成後、保護層98が付着される。これで行52
A の形成が完成し、ディスク12で用いるために、個々の
組合せアセンブリ22 (図２参照) に分割することが可能
になる。図３に示すように、ソーイング・カット58は完
成した複数の変換器を含む行52A を個々の装置に切離
す。第２のポール部分96の第２のタイプの垂直部分が図
７に示されている。
【００２９】図７で、磁気ギャップ層92が最初に行52A
の端の面59に付着される。そして第２のポール部分の水
平部分72の端を露光するために磁気ギャップ層92が垂直
面からの角度Ｘでラップされる。垂直部分99を形成する
ために磁気材料の層が付着される。参照番号96で示す第
２のポール部分は水平部分72及び垂直部分99を含む。従
って、変換器セクション24は、磁気ギャップ92、第１の
ポール部分層62及び磁気部材64とともに、第２のポール
部分96を含む。垂直部分99の完成後、前述のように保護
層98が付着される。図６及び図３による説明と同じよう
に、ここで行52A の形成が完成し、行52A は個々の組合
せアセンブリ22に分割することが可能になる。
【００３０】図４で、変換器セクション24及び懸架部セ
クション26を含む完成した組合せアセンブリ22はリリー
ス層60を溶解することにより基板50から切離される。リ
リース層60は銅めっきとすることができる。もう１つの
可能なリリース層材料はタングステンである。銅リリー
ス層の除去は、変換器を設けるプロセスで一般に用いら
れるアルミナを冒さない、例えば、アンモニア過硫酸塩
を用いて容易に行なわれる。ひとたび組合せアセンブリ
が製造されれば、それをハード・ディスク読取システム
に組込むことが容易に行なわれることは当業者には明白
である。
【００３１】ウェーハ基板50は当業者には既知の任意の
適切な材料を用い得る。ウェーハがアルミナ・チタン炭
化物又はシリコンである必要はない。リリース層60は、
例えば、導電材料を用い得るので、変換器の第１のポー
ル部分層62のような次に付着された層のシード(seed)即
ちめっきベース層として作用する。導電材料は銅めっき
であることが望ましいが、金又は他の適切な導体でも良
い。導体層78は懸架部セクション26に沿った経路で導体
スタッド80に至る。懸架部セクション26は薄くかつ所要
の応力対称性がストリップライン設計と適合するから、
導体層78は２つの平らな細いリードのストリップライン
配列に構成される。懸架部セクション26は第１及び第２
の絶縁層66及び82にアルミナを付着させることにより製
造することが望ましい。技術的に既知の薄膜変換器・懸
架部アセンブリを完成する通常のスタッド及びパッド技
術が導体スタッド80及びパッド48の製造に用いられる。
変換器を保護層98でカプセル化するために、厚いアルミ
ナの付着を用いることができる。薄いアルミナの層は、
例えば、磁気ギャップ92を形成できる。変換器のポール
部分を形成する磁気材料に、例えば、パーマロイを用い
ることができる。変換器のポール部分の形状が図８に示
される。本発明の変換器の磁気部分の良好な形状の概要
を提供するコイル及び導体は図示されない。
【００３２】図８で、本発明の良好な実施例は、米国特
許第4190872 号に示された変換器の利点を組込む変換器
を含む。この変換器は、磁気部材64を介してバックギャ
ップ100 で、第２のポール部分の水平部分72に磁気的に
結合された第１のポール部分層62を含む。第２のポール
部分の垂直部分94はその水平部分72に磁気的に結合さ
れ、磁気ギャップ92により第１のポール部分層62から切
離される。第１のポール部分層62は、バックギャップ10
0 でそのポールチップ102 でよりも広い幅を有する。同
様に、第２のポール部分の水平部分72は、バックギャッ
プ100 で、垂直部分94と接続する端104 でよりも広い幅
を有する。垂直部分94も、端104 でポール部分72と接続
する端で、そのポールチップ106 よりも広い幅を有す
る。図８に示すような変換器の良好な形状は、ポール部
分に沿った磁力の飽和を避けつつ狭いポールチップ構造
を与える。
【００３３】尚、良好な実施例の、米国特許第4190872
号に記述されているような形式で、変換器をウェーハ上
に製造できるが、本発明から逸脱せずに他の構成を用い
ることもできる。米国特許第4251841 号の主題のような
材料からウェーハを作ることもできる。本発明の良好な
実施例による懸架部セクションは、懸架部アセンブリで
要求されるような十分な弾性及び剛性を与えるポリイミ
ド材料及びその上に付着された金属層の二重の層でも良
い。正しい厚さ及び剛性が単一の層で取得できる場合
は、単一の層で懸架部アセンブリを製造することができ
る。導体回路及び変換器リードを形成する多くの導電材
料が利用できる。銅及び金は良好な材料であるが、技術
的によく知られているように多くの他の材料も利用でき
る。本明細書では空気ベアリングの懸架部が論じられて
いるが、本発明は、懸架部が動作中に変換器を媒体と接
触状態に置く接触記録も含む。
【００３４】
【発明の効果】本発明は接触パッド面における２つの磁
気ポールの間に狭いギャップを与えるので、長手方向の
記録が可能である。これは以前は従来の技術の範囲外で
あった用法を本発明が利用する可能性を大いに高める。
更に、本発明の大部分のプレーナ付着構成は、ウェーハ
面で直に行なわれるアセンブリの主要な処理を可能にす
る。これは本発明の利用を大いに高め、組合せアセンブ
リを一括製造することを可能にする。
【００３５】本発明のもう１つの利点はヘッド構造に耐
磨耗材料を使用することである。これはヘッドのポール
チップ領域を保護する。
【図面の簡単な説明】
【図１】ロータリ・アクチュエータにより位置決定する
ために取付けられた本発明の組合せアセンブリを用い
る、ディスク・ファイルのディスク面と変換関係にある
磁気記録機構の上面図である。
【図２】図１に示すディスク装置とともに用いる、本発
明に従って製造された変換器・懸架部の組合せアセンブ
リの斜視図である。
【図３】図２に示すような組合せアセンブリを構築する
プロセスで用いるために行及び列で形成された複数の構
造を有する基板の斜視図である。
【図４】図３の線4-4 に沿った断面図である。
【図５】図３の基板から取出され、後の処理のために取
付けられた行の構造の斜視図である。
【図６】本発明による変換器の第１の実施例の断面図で
ある。
【図７】本発明による変換器の第１の実施例の断面図で
ある。
【図８】絶縁層及び導体層を有しない本発明の変換器の
斜視図である。
【符号の説明】
12 ディスク 22 組合せアセンブリ 24 変換器・滑動部セクション 26 懸架部セクション 28 集積回路アセンブリ／増幅器 48 導体パッド 50 ウェーハ基板 60 リリース層 62 第１のポール部分 63 傾斜接触領域 64 磁気部材 65 耐磨耗材料の層 66 絶縁層 68 導体ストライプ 70 絶縁層 72 第２のポール部分の水平部分 74 絶縁層 76 導体ストライプ 78 導体層 80 導体スタッド 82 絶縁層

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の組合せ
    システムであって、 ポールチップを有する水平薄膜の第１のポール部分と、 前記第１のポール部分のポールチップに形成された実質
    的に垂直の薄膜の磁気ギャップと、 ポールチップの隣接する前記磁気ギャップの垂直成分、
    及び前記第１のポール部分から磁気的に絶縁されるがそ
    れに隣接しかつ平行する水平成分を有する薄膜の第２の
    ポール部分であって、前記第１及び第２のポール部分が
    バックギャップ領域で磁気的に結合され、前記磁気ギャ
    ップによりそれらのポールチップで磁気的に絶縁された
    薄膜の第２のポール部分と、 前記第１及び第２のポール部分から電気的に絶縁される
    がそれらを磁気的に活動化させ、前記第２のポール部分
    の水平成分を囲む薄膜コイルと、 バックギャップ領域でより広い面で構成され、ポールチ
    ップでより狭い面で構成された前記第１及び第２のポー
    ル部分と、 少なくとも前記第２のポール部分の水平成分を被覆し、
    前記第２のポール部分及び前記コイルから電気的に絶縁
    され且つ磁気的に絶縁される弾性材料の薄膜層の懸架部
    層であって、前記弾性材料がバックギャップ領域を越え
    て広がる懸架部層とを備える薄膜磁気ヘッド変換器及び
    懸架部の組合せシステム。
  2. 【請求項２】前記懸架部層内に含まれ、前記コイルに接
    続された電気的な導体を含む、請求項１の薄膜磁気ヘッ
    ド変換器及び懸架部の組合せシステム。
  3. 【請求項３】前記懸架部層及びそのポールチップに隣接
    する前記第１のポール部分の外部部分を被覆する磨耗層
    を含む、請求項１の薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の
    組合せシステム。
  4. 【請求項４】前記第２のポール部分の垂直成分が前記磁
    気ギャップに隣接する端に実質的に垂直な部分を含み、
    実質的に垂直な面から外れた角度にある第２の端で前記
    第２のポール部分の水平成分と接触する部分を含む、請
    求項１の薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の組合せシス
    テム。
  5. 【請求項５】ディスク装置アセンブリであって、 ハウジングと、 前記ハウジングに取付けられたハード・ディスクであっ
    て、その上に設けられたトラックにデータを記憶する手
    段を有するディスクと、 前記ハウジング内の前記ハード・ディスクを回転する手
    段と、 前記ハウジング内の適当な位置に置かれ、前記ハード・
    ディスクの１つのトラックの近くに開放端を置くように
    動作できるアクチュエータ・アームと、 前記ハード・ディスク上の特定のトラックに隣接する適
    当な位置に前記アクチュエータを置く手段と、 前記適当な位置に置く手段の開放端に取付けられた薄膜
    磁気ヘッド変換器及び懸架部の組合せシステムとを備
    え、更に前記組合せシステムはポールチップを有する、
    水平の薄膜の第１のポール部分と、 前記第１のポール部分のポールチップに形成された実質
    的に垂直の薄膜磁気ギャップと、 前記磁気ギャップに隣接するポールチップを持つ垂直の
    成分、及び前記第１のポール部分から磁気的に絶縁され
    ているがそれに隣接し且つ平行の水平成分を有する、薄
    膜の第２のポール部分であって、前記第１及び第２のポ
    ール部分バックギャップ領域で磁気的に結合され且つ前
    記磁気ギャップによりそれらのポールチップで磁気的に
    絶縁された、薄膜の第２のポール部分と、 前記第１及び第２のポール部分であって、それらのバッ
    クギャップ領域でより広い面を有し且つそれらのポール
    チップでより狭い面を有する、第１及び第２のポール部
    分と、 前記第１及び第２のポール部分から電気的に絶縁される
    が、それを磁気的に活動化させ且つ前記第２のポール部
    分の水平成分を取り囲む薄膜コイルと、 少なくとも前記第２のポール部分の水平成分を被覆し、
    前記第２のポール部分及び前記コイルから電気的及び磁
    気的に絶縁された弾性材料の薄膜層の懸架部層であっ
    て、前記弾性材料が前記バックギャップ領域を越えて広
    がる懸架部層とを備えるディスク装置アセンブリ。
  6. 【請求項６】薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の組合せ
    システムを製造する方法であって、 ウェーハ基板を取得するステップと、 傾斜する接触パッドを前記取得された基板に形成するス
    テップと、 リリース層を前記取得された基板に形成するステップ
    と、 磁気材料の第１のポール部分を前記形成されたリリース
    層及び前記形成された接触パッドに形成するステップ
    と、 形成されたバックギャップ部材を前記形成された第１の
    ポール部分に形成するステップと、 耐磨耗層を前記形成された第１のポール部分に懸架部セ
    クションの区域に沿って形成するステップと、 少なくとも前記第１のポール部分の層を被覆する磁気的
    及び電気的な絶縁層を前記形成された耐磨耗層に形成
    し、第１の懸架部層として前記懸架部セクションの区域
    を広げるステップと、 導電材料の薄膜コイルの最初の半分を前記形成された絶
    縁層に形成するステップと、 少なくとも前記形成された薄膜コイルの半分を被覆する
    第１の電気的な絶縁層を形成するステップと、 形成された磁気材料の第２のポール部分の層の水平セク
    ションを前記形成された絶縁層に形成するステップと、 少なくとも前記パターン化された第２のポール部分の層
    を被覆する第２の電気的な絶縁層を形成するステップ
    と、 導電材料の薄膜コイルの残りの半分を前記形成された第
    ２の電気的な絶縁層に形成し、前記最初の半分に電気的
    に接続させて完全なコイルを形成するステップと、 前記形成された残りの半分の薄膜コイルに磁気的及び電
    気的な絶縁層を形成し、第２の懸架部層として前記懸架
    部セクションの区域を広げるステップと、 磁気的な絶縁材料の磁気ギャップの層を前記形成するス
    テップによって作られたアセンブリの開放端に形成し、
    前記形成されたバックギャップの層の反対の前記形成さ
    れた第１のポール部分の層の端を被覆するステップと、 前記形成された磁気材料の第２のポール部分の層の垂直
    セクションを前記形成された磁気ギャップの層に形成す
    るステップと、 保護被覆層を前記形成されたポール部分の垂直セクショ
    ンに形成するステップと、 前記形成された接触パッドの層及び前記形成された第１
    のポール部分の層を前記リリース層を溶解することによ
    り切離すステップとを含む薄膜磁気ヘッド変換器及び懸
    架部の組合せシステムを製造する方法。
  7. 【請求項７】導電材料の第１の導体層を、前記懸架部セ
    クションの区域に沿って前記形成された絶縁層に、前記
    形成されたコイルの最初の半分に接続されるように形成
    するステップと、 導電材料の第２の導体層を、前記懸架部セクションの区
    域に沿って前記形成された第２の電気的な絶縁層に、前
    記形成されたコイルの残りの半分に接続されるように形
    成するステップと、 前記形成された第１及び第２の導体層の導体パッドを、
    前記形成された第１及び第２のポール部分の反対の懸架
    部セクションの端に隣接して形成するステップとを更に
    含む、請求項６の薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の組
    合せシステムを製造する方法。
  8. 【請求項８】前記磁気材料の第１のポール部分を形成す
    るステップは、磁気材料で形成された第２のポール部分
    の層の水平セクションを形成するとともに磁気材料の前
    記形成された第２のポール部分の層の垂直セクションを
    形成し、前記第１及び第２のポール部分のバックギャッ
    プ領域により広い面を形成するとともにそれらのポール
    チップにより狭い面を形成するステップを更に含む、請
    求項６の薄膜磁気ヘッド変換器及び懸架部の組合せシス
    テムを製造する方法。
  9. 【請求項９】長手方向に記録することに適する薄膜磁気
    ヘッド変換器及び懸架部の組合せシステムを製造する方
    法であって、 (ａ)基板ウェーハを取得するステップと、 (ｂ)複数の行及び列の組合せシステムを、前記取得され
    た基板ウェーハに作るステップとを含み、前記複数の行
    及び列の組合せシステムを作るために、(b1)傾斜する接
    触領域を、前記作られた複数の行に沿って各行の１つの
    端で前記取得されたウェーハに形成するステップと、(b
    2)リリース層を、前記取得されたウェーハに前記形成さ
    れた傾斜する接触領域上に形成するステップと、(b3)磁
    気材料の第１のポール部分を、前記形成されたリリース
    層及び各形成された接触パッドに形成するステップと、
    (b4)形成されたバックギャップ部材を、前記形成された
    第１のポール部分の各々に形成するステップと、(b5)耐
    磨耗層を、前記形成された第１のポール部分に、形成さ
    れた第１のポール部分の各々の懸架部セクションの区域
    に沿って形成するステップと、(b6)磁気的及び電気的な
    絶縁層を前記形成された耐磨耗層に形成し、少なくとも
    前記第１のポール部分の層及び前記形成された第１のポ
    ール部分の各々の第１の懸架部層として前記懸架部セク
    ションの区域を被覆するステップと、(b7)前記形成され
    た第１のポール部分の各々の導電材料の薄膜コイルの最
    初の半分を、前記形成された絶縁層に形成するステップ
    と、(b8)第１の電気的な絶縁層を形成し、少なくとも前
    記形成された薄膜コイルの各半分を被覆するステップ
    と、(b9)磁気材料で形成された第２のポール部分の層の
    水平セクションを、前記形成された絶縁層に前記形成さ
    れた第１のポール部分毎に形成するステップと、(b10)
    第２の電気的な絶縁層を形成し、少なくとも前記形成さ
    れた第２のポール部分の層の各々を被覆するステップ
    と、(b11) 導電材料の薄膜コイルの残りの半分を、前記
    形成された第２の電気的な絶縁層に、前記形成された薄
    膜コイルの最初の半分毎に形成するステップと、(b12)
    磁気的及び電気的絶縁層を、前記薄膜コイルの残りの半
    分の各々に形成し、第２の懸架部層として各懸架部セク
    ションの区域を広げるステップとを含み、更に (ｃ)前記取得された基板ウェーハにある前記作られた複
    数の行及び列から、前記組合せシステムを含む行を分離
    するステップと、 (ｄ)分離された各行における予め選択された設計を前記
    傾斜する接触領域を有する端に重ねるステップと、 (ｅ)絶縁材料の磁気ギャップの層を前記各分離された行
    の各重ねられた行の端に形成するステップと、 (ｆ)磁気材料の層を形成し、前記第２のポール部分の前
    記形成された水平セクションの垂直セクションを前記分
    離された各行の前記形成されたギャップの層の端に設け
    るステップと、 (ｇ)保護被覆層を、前記各分離された行の第２のポール
    部分の前記形成された垂直セクションの上の形成するス
    テップとを含む長手方向に記録することに適する薄膜磁
    気ヘッド変換器及び懸架部の組合せシステムを製造する
    方法。
  10. 【請求項１０】(ａ)分離された各行から個々の組合せシ
    ステム分離するステップと、 (ｂ)前記リリース層を溶解することにより、前記各分離
    された個々の組合せシステムを切離すステップとを含
    む、請求項９の長手方向に記録することに適する薄膜磁
    気ヘッド変換器及び懸架部の組合せシステムを製造する
    方法。
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