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JPH06167602A - 拡散板および拡散板用母型の作製方法 - Google Patents

拡散板および拡散板用母型の作製方法

Info

Publication number
JPH06167602A
JPH06167602A JP32450792A JP32450792A JPH06167602A JP H06167602 A JPH06167602 A JP H06167602A JP 32450792 A JP32450792 A JP 32450792A JP 32450792 A JP32450792 A JP 32450792A JP H06167602 A JPH06167602 A JP H06167602A
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JP
Japan
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diffusion plate
diffusion
pattern
basic
diffuser plate
Prior art date
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Application number
JP32450792A
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English (en)
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JP3375352B2 (ja
Inventor
Hiroshi Kubotani
洋 窪谷
Toshiharu Takahashi
敏春 高橋
Makoto Iki
誠 壹岐
Moriyasu Shirayanagi
守康 白柳
Koichi Maruyama
晃一 丸山
Teruaki Hiyamuta
輝明 冷牟田
Takayuki Sensui
隆之 泉水
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pentax Corp
Original Assignee
Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
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Publication date
Application filed by Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd filed Critical Asahi Kogaku Kogyo Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【目的】砂摺りマット、周期マットの持つそれぞれの欠
点を解消し、明るい視界を多線ボケや色ムラを生じるこ
となく得ることができ、かつ、マットの構造等が視認さ
れない拡散板を提供することを目的とする。 【構成】本発明にかかる拡散板は、微小構造物が多数配
置された基本パターンを複数重ね合わせることにより形
成される拡散板において、微小構造物の配置を二次元周
期パターンとし、この二次元周期の格子ベクトルは前記
複数の基本パターンごとに異なることを特徴とする。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】この発明は、一眼レフカメラのフ
ォーカシングスクリーン等に用いられる拡散板およびそ
れを製造する際に用いられる拡散板用母型の作製方法の
改良に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、一眼レフカメラ等には、フィ
ルム面と光学的に等価な位置にフォーカシングスクリー
ンが配置されている。撮影者は、撮影レンズを介してフ
ォーカシングスクリーン上に形成される像をファインダ
ーを介して観察し、構図や像のボケ具合を確認する。
【0003】フォーカシングスクリーン上での像のボケ
具合を確認する方法として、微細な断面凹凸形状を形成
した拡散板をフォーカシングスクリーンとして用い、こ
の拡散板における光の拡散性を利用するものが知られて
いる。
【0004】断面凹凸形状を有する拡散板は、表面に砂
摺り加工等により断面凹凸形状を施された金型等の成形
型を用い、例えばアクリル樹脂等のプラスチック光学材
料にその断面凹凸形状を転写成形して製造される。
【0005】しかしながら、このようにして得られる拡
散板の断面凹凸形状は、さまざまな頂角の微小プリズム
の集合となっているため、撮影レンズ側から拡散板に入
射する光の頂角の大きな微小プリズムにより屈折された
部分がファインダーの瞳外へ達するため、ファインダー
を介して撮影者の眼に到る光束が少なくなり、像が暗く
なるという問題がある。
【0006】また、凹凸形状の形や大きさが不揃いであ
るため、撮影絞りを絞った場合には、拡散板面の粒状性
が目立つようになり像画質が良好とは言い難かった。
【0007】これらの欠点を改善するため、最近では、
砂摺り等の機械工作的手段ではなく、マスクのパターン
を露光プロセスによりフォトレジスト等の感材が塗布さ
れた基板に転写るすことにより、微細なレンズが集合す
る拡散板用母型を作製する方法が用いられている。特開
昭55-90931号公報、同57-148728号公報には、このよう
な光学的手段により形成された拡散板用母型を基にして
電鋳法により金型等の成形型を製作し、プラスチック光
学部材に成形型の微細パターンを転写成形して規則的に
配列した微細レンズを有する拡散板を製造する技術が開
示されている。
【0008】さらに、特開昭63-221329号公報には、微
細レンズが周期格子点に対して所定範囲内のバラツキを
もって配置された拡散板が開示され、また、特開平2-22
6201号公報には、微小パターンを複数個不規則に配置し
て単位パターンとし、この単位パターンを複数個規則的
に配置して得られるパターン部を数種類用いた拡散板が
開示される。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
規則的な(二次元周期的)パターン構造をもった拡散板は
回折格子として機能し、拡散特性が離散的となるため、
焦点の合っていない像を観察する場合に像が多重に見え
る、いわゆる多線ボケを生じる。また、波長によって回
折の角度が変化するため、特にピッチ(二次元格子ベク
トルの長さpおよびq)が小さく回折角度が大きい場合に
は、観察される像の色ムラが顕著となる。
【0010】多線ボケおよび色ムラの発生を抑えるため
には、ピッチを大きくすればよいが、この場合にはファ
インダーの視野にマットの周期構造が視認されることに
より、像の観察の妨げになるという問題を生じる。
【0011】
【発明の目的】この発明は、上述した従来技術の課題に
鑑みてなされたものであり、砂摺りマット、周期マット
の持つそれぞれの欠点を解消し、明るい視界を多線ボケ
や色ムラを生じることなく得ることができ、かつ、マッ
トの構造等が視認されない拡散板を提供すること、そし
て、このような拡散板を容易に製造できる方法を提供す
ることを目的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明にかかる拡散板
は、上記の目的を達成させるため、微小構造物が多数配
置された基本パターンを複数重ね合わせることにより形
成される拡散板において、微小構造物の配置は二次元周
期的であって、二次元周期の格子ベクトルは複数の基本
パターンごとに異なることを特徴とする。
【0013】また、本発明にかかる拡散板用母型の作製
方法は、感光材料が被着された基板と微細パターンが画
成されたマスクとを所定間隔をおいて対向させ、マスク
側から光照射を行って基板の感光材料面に微細パターン
を投影して露光したのち、感光材料を現像処理して基板
に微細構造を形成する拡散板用母型の作製方法におい
て、基板またはマスクを同一平面内で所定の方位角度だ
け回転変位させて基板に対するマスクの相対位置を少な
くとも2つ設定し、相対位置毎に露光を行い基板に所望
の微細構造を形成することを特徴とする。
【0014】
【実施例】以下、この発明の実施例を説明する。実施例
の拡散板は、一眼レフカメラ等のファインダーに設けら
れるフォーカシングスクリーンとして利用されるもので
あり、撮影レンズを介して入射した被写体からの光束が
結像され、撮影者はファインダーのアイピースを介して
その像を観察する。
【0015】ここでは、まず透過関数のフーリエ変換で
表される拡散板の拡散特性について説明する。規則的な
(二次元周期的)パターン構造をもった拡散板の透過関数
f(x,y) は、微小構造物の透過関数を g(x,y)、 二次元
周期の格子ベクトルを(1)式のように定義すると、(2)式
で表される。
【0016】
【数2】
【0017】ここで、δはディラックのデルタ関数、**
は二次元の畳み込み積分を意味する。f(x,y) のフーリ
エ変換 F(ωxy) は、(3)式のとおりとなり、離散的
な関数になる。
【0018】
【数3】
【0019】ここで、G(ωxy) は g(x,y) のフーリ
エ変換である。また、(a1,b1)、(a2,b2)は、拡散特性の
二次元格子ベクトルであり、(px,py)、(qx,qy) との間
には、以下に示す関係がある。 D = a1b2-a2b1 = (-pxqy-pyqx)-1 a1 = pyD b1 = -pxD a2 = -qyD b2 = qxD
【0020】また、ωxy は拡散の観察方向の方向余
弦(α,β,γ)と波長λとを介して、以下の関係がある。 α = λωx β = λωy γ = √(1-α22)
【0021】次に、二次元周期パターンを有する拡散板
の具体的な性能を2例説明する。図1は、ピッチ16μm
の最密充填で直径10μm、高さ1.6μmの微小レンズを配
列した拡散板の構造を示す。そして、図2から図10
は、図1の拡散板の光学的な性能を示す。
【0022】図2から図4は、それぞれ波長 450nm、55
0nm、650nmにおける拡散の具合、すなわち点光源に対す
るボケ味を視覚的に示したものであり、図中の小さな円
(点)の直径はその方向への回折光強度に相当し、大きな
円は拡散板に入射する光束のFナンバーで外側から 2.
0、2.8、4.0、5.6、8.0 に相当する。
【0023】図5から図7は、それぞれ波長 450nm、55
0nm、650nmにおける包含光量であり、横軸は角度座標
を、縦軸は図1の拡散板を透過する全光量を1.0 とした
ときの横軸で示される半径の円内に含まれる光量を示
す。
【0024】図8から図10は、それぞれ波長 450nm、
550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線
は横の線光源)のボケ味であり、横軸は角度座標を、縦
軸はピーク強度を1.0とした時の相対強度を示す。
【0025】なお、拡散板の性能を示す3種類の図面
は、以下の例においても添付されているが、表現方法は
同一であるので、以下の説明では簡略に記載する。
【0026】図11は、ピッチ16μmの正方充填で直径1
0μm、高さ1.6μmの微小レンズを配列した拡散板の構造
を示す。
【0027】図12から図20は、図11の拡散板の光
学的な性能を示し、図12から図14はそれぞれ波長45
0nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図15から図
17はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける包含
光量、図18から図20はそれぞれ波長450nm、550nm、
650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線は横の線
光源)のボケ味を示す。
【0028】これら2つの例から、二次元周期パターン
を有する拡散板は、拡散特性が離散的で波長依存性も大
きく、したがって、ボケ味が悪く色ムラも発生しやすい
ことが解る。
【0029】本発明による拡散板の透過関数f(x,y)
は、これを構成する基本パターンの透過関数をf1(x,y),
f2(x,y), f3(x,y)…とするとき、これらの積f(x,y) =
f1(x,y)・f2(x,y)・f3(x,y) … で表される。
【0030】したがって、拡散板の拡散特性すなわち f
(x,y) のフーリエ変換は、 F(ωxy) = F1xy)**F2xy)**F3xy)
** … となる。ここで、F1xy) , F2xy) , F
3xy) … はそれぞれ基本パターンの透過関数 f
1(x,y) , f2(x,y) , f3(x,y) … のフーリエ変換であ
る。
【0031】それぞれの基本パターンの拡散特性は離散
的ではあるが、互いに二次元格子ベクトルが異なるの
で、これらの畳み込み積分をした結果である合成された
拡散板の拡散特性は元の基本パターンの拡散特性の離散
性よりも間が詰まったものになり、ボケ味等が改善され
る。
【0032】次に、畳み込み積分による離散性の改善を
簡単な模式図を用いて以下に説明する。
【0033】図21に示すような7個の離散的スペクト
ルが得られる拡散特性を有する基本パターンAと、基本
パターンAを90゜回転して得られる基本パターンBと
を用意する。基本パターンBの拡散特性は、図21を9
0゜回転した図22のようになる。
【0034】そして、基本パターンAと基本パターンB
とを重ね合わせて得られる拡散板の拡散特性は、図21
と図22の畳み込み積分を行ったものであり、図23に
示すように7×7=49個の離散的スペクトルになる。
この結果を見れば、図21、図22の拡散特性の離散性
が図23で改善されていることが明かである。
【0035】以下、この発明の拡散板の具体的な実施例
を説明する。
【0036】
【実施例1】図24は、実施例1の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図25
は実施例1のもうひとつの基本パターンを示す。図25
の基本パターンは、図24と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に30゜回転させて配列方向を異ならせたも
のである。
【0037】図26は、図24と図25の基本パターン
を重ね合わせた実施例1の拡散板の構造を示す。重ね合
わせパターンには一見周期性があるように見えるが、実
際この方向での重ね合わせの場合には周期性が存在しな
い。
【0038】図27から図35は、図26の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図27から図29はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図3
0から図32はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図33から図35はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。なお、図33から図
35では線光源の方向による分布の違いがないため、実
線と破線が重ねて表されている。
【0039】図2から図10と、図27から図35を比
較すると、二次元の周期的拡散板より実施例1の拡散板
の方が拡散特性が連続的であり、波長依存性が少なく、
良好なボケ味になることが理解できる。
【0040】図36および図37は、図1に示した周期
的拡散板と図26に示した実施例1の拡散板とにおけ
る、入射光束のFナンバーと配光比率との関係を示す。
絞り開放のときには、いずれの拡散板も波長450nm、550
nm、650nmのそれぞれの光束が等比率でアイピースレン
ズを介して撮影者の眼に入射する。
【0041】しかしながら、光束を絞ってゆくに従い、
すなわち、Fナンバーが大きくなるに従い、周期的拡散
板の場合には配光比率が不均等となる。このため、ファ
インダーを介して観察される被写体像に色のムラが発生
する。これに対して、実施例1の拡散板を用いる場合に
は、Fナンバーが変化しても配光比率がほとんど変化せ
ず、色ムラが発生しないことが理解できる。
【0042】
【実施例2】図38は、実施例2の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図39
は実施例2のもうひとつの基本パターンを示す。図39
の基本パターンは、図38と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に21.78゜回転させて配列方向を異ならせた
ものである。
【0043】図40は、図38と図39の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例2の拡散板の構造を示
す。この相対的回転角度においては、重ね合わせパター
ンもまた周期的になる。
【0044】図41から図49は、図40の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図41から図43はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図4
4から図46はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図47から図49はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。
【0045】実施例2では、重ね合わせパターンも周期
的となるため、拡散特性に離散性は残るが、図2から図
10で示される最密充填単独の拡散板の性能と比較する
と、特性が非常に改良されているのが解る。また、単純
に周期構造のピッチを大きくしただけのものと違い、拡
散板の構造は視認されにくい。
【0046】
【実施例3】図50は、実施例3の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図51
は実施例3のもうひとつの基本パターンを示し、配列は
ピッチ10.67μmの最密充填、微小構造物は直径6.67μ
m、高さ1.2μmの微小レンズであり、配列方向は図50
のパターンと同一である。
【0047】図52は、図50と図51の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例3の拡散板の構造を示
す。この実施例の場合には、重ね合わせパターンもまた
周期的になる。
【0048】図53から図61は、図52の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図53から図55はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図5
6から図58はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図59から図61はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。
【0049】実施例3では、重ね合わせパターンも周期
的となるため、拡散特性に離散性は残るが、図2から図
10で示される最密充填単独の拡散板の性能と比較する
と、特性が非常に改良されているのが解る。また、単純
に周期構造のピッチを大きくしただけのものと違い、拡
散板の構造は視認されにくい。
【0050】なお、実施例3では、ピッチの異なる基本
パターンを同一の方向性を持たせて重ね合わせることに
より拡散板を形成しているが、さらにこれを実施例1や
2のように所定角度相対的に回転させて重ね合わせても
良い。
【0051】
【実施例4】図62は、実施例4の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの正方充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図63
は実施例4のもうひとつの基本パターンを示す。図63
の基本パターンは、図62と同一の配列を有するパター
ンを、相対的に45゜回転させて配列方向を異ならせた
ものである。
【0052】図64は、図62と図63の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例4の拡散板の構造を示
す。重ね合わせパターンには一見周期性があるように見
えるが、実際この方向での重ね合わせの場合には周期性
が存在しない。
【0053】図65から図73は、図64の拡散板の光
学的な性能を示す図である。図65から図67はそれぞ
れ波長450nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図6
8から図70はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにお
ける包含光量、図71から図73はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破
線は横の線光源)のボケ味を示す。
【0054】なお、図71から図73では、線光源の方
向による分布の違いがないため、実線と破線とが重ねて
表されている。
【0055】
【実施例5】図74は、実施例5の基本パターンのひと
つを示し、配列はピッチ16μmの最密充填、微小構造物
は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。図75
は実施例5のもうひとつの基本パターンを示し、配列は
ピッチ16μmの正方充填、微小構造物は直径10μm、高さ
1.2μmの微小レンズである。これらの格子ベクトルは、
以下の表1に示される。
【0056】
【表1】
【0057】図76は、図74と図75の基本パターン
を重ね合わせて得られる実施例5の拡散板の構造を示
す。重ね合わせパターンには一見周期性があるように見
えるが、実際この配列の重ね合わせの場合には周期性が
存在しない。
【0058】図77から図85は、図76の拡散板の光
学的な性能を示す。図77から図79はそれぞれ波長45
0nm、550nm、650nmにおける拡散の具合、図80から図
82はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける包含
光量、図83から図85はそれぞれ波長450nm、550nm、
650nmにおける線光源(実線は縦の線光源、破線は横の線
光源)のボケ味を示す。
【0059】以上の実施例に示した微小構造物は、すべ
て微小レンズで、基本パターンに垂直な方向から見た形
状は円形であり、これがもっとも好ましい形状ではある
が、図86に示すような六角錐を並び詰めたような基本
パターンの複数を配列方向を変えて重ね合わせても、畳
み込み積分により、拡散特性の離散性が改善され、ボケ
味が良くなり、色ムラが少なくなるという本発明の効果
はある。
【0060】周期的基本パターンの拡散特性の各離散ス
ペクトルの相対的強度を決めているもの(包絡面)は、微
小構造物の透過関数g(x,y) のフーリエ変換G(ωxy)
であるから、g(x,y)が回転対称であればG(ωxy)も回
転対称になる。基本パターンを重ね合わせた拡散板の拡
散特性の包絡面は、回転対称な関数の畳み込み積分であ
るから、これもまた回転対称となる。したがって、微小
構造物の、基本パターンに垂直な方向から見た形状は、
円形であるとより好ましいボケ味になる。
【0061】
【実施例6】図87は、実施例6の拡散板の具体的な配
置の断面形状を示す。この例では、第1の基本パターン
が形成された第1の拡散板1と第2の基本パターンが形
成された第2の拡散板2とが向い合わせて配置されてい
る。本発明の拡散板は、後述する作製方法によって、物
理的にひとつの面内に形成することもできるが、図87
に示すように基本パターンが形成された物理的に異なる
複数個の拡散面を近接して配置して構成することもでき
る。
【0062】なお、図87では凹の微小構造物3が配列
されているように描かれているが、同じ形状の凸の微小
構造物の配列でも拡散効果は同一である。
【0063】
【実施例7】図88は、実施例7の拡散板の平面図を示
す。この実施例では、基本パターンが形成された部材4
と、部材4と同じ基本パターンが形成された部材5が、
パターン面と垂直な回転軸回りに互いに回転可動になっ
ている。φは両部材のなす角度で-15゜から+15゜の範囲を
取り、φ=-15゜のときに両部材に形成されている基本パ
ターンが同じ配列方向になるように設定されている。
【0064】基本パターンは図24と同一であり、ピッ
チ16μmの最密充填で直径10μm、高さ1.2μmの微小レン
ズが配列して構成されている。
【0065】図89から図97は、実施例7の拡散板の
φ=-15゜の場合の光学的な性能を示す図である。図89
から図91はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおけ
る拡散の具合、図92から図94はそれぞれ波長450n
m、550nm、650nmにおける包含光量、図95から図97
はそれぞれ波長450nm、550nm、650nmにおける線光源(実
線は縦の線光源、破線は横の線光源)のボケ味を示す。
【0066】回動角度φを変化させることにより、図4
0の拡散板(φ=6.78゜)や図26の拡散板(φ=15゜)を含
む、様々な光学性能を有する拡散板を作り出すことが可
能となる。撮影者は例えば、よりきれいなボケ味を好む
場合にはφ=15゜、より滑らかなマット構造を好む場合に
はφ=6.78゜、意図的に多線ボケを利用してピントを確認
したい場合にはφ=-15゜というように、自分の好みとす
る拡散状態を選択できるようになる。
【0067】以上のように、微小構造物が二次元周期的
に配列された基本パターンを複数重ね合わせることによ
り、明るく、ボケ味が良く、色ムラのない拡散板を作製
することができる。しかし、この拡散板には、(周期的
ではない重ね合わせパターンができる場合にも)パター
ンに規則性が存在し、一眼レフカメラのフォーカシング
スクリーンとして用いる場合、コンデンサレンズとして
スクリーンの手前に配置されるフレネルレンズのパター
ンとの間でモアレ縞を発生させ、構図や像のボケ具合の
確認が妨げられる虞がある。
【0068】図98は、フレネルレンズの36×24mm
の範囲を示す模式図であり、図99は図26に示した拡
散板と図98のフレネルレンズとを重ねた場合に視認さ
れるモアレ縞を示す。
【0069】上記欠点を解決するため、重ね合わせられ
る基本パターンのうちの少なくともひとつは、微小構造
物の配置が、基準となる二次元周期にランダムな揺らぎ
を付加した配置であるようにすることにより、非規則的
な重ね合わせパターンを形成し、モアレ縞の発生を防止
している。
【0070】
【数4】
【0071】フレネルレンズとの間で発生するモアレ縞
を目だたなくするには揺らぎ量を大きくすれば良いが、
大きくし過ぎるとザラツキ感が現れフォーカシングスク
リーンとしての品位を損なうことになる。
【0072】発明者らの実験によれば、格子ベクトルの
長さが16μmの最密充填の基本パターンを互いに 90゜回
転して重ね合わせた拡散板に対して、揺らぎ量の標準偏
差σ[μm]とフレネルレンズとのモアレ縞の目だちにく
さ・ザラツキ感のなさの関係は以下の表2の通りであっ
た。表中の記号×は、モアレが目立つこと、ザラツキ感
があること、△はモアレがほぼ目立たないこと、ザラツ
キ感がほぼないこと、○はモアレが目立たないこと、ザ
ラツキ感がないことを意味する。
【0073】
【表2】
【0074】この表から、適当な性能の拡散板を得るた
めには、揺らぎ量に適正な範囲があることがわかる。具
体的には、揺らぎ量の標準偏差σは、格子ベクトルの長
さの平均値ρに対して以下の範囲にあることが望まし
い。 0.04<σ/ρ<0.2
【0075】
【数5】
【0076】
【実施例8】図101は、実施例8の第1の基本パター
ンを示す直径0.4mmの範囲の拡大図である。微小構造
物は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。
そして、図102は、第1の基本パターンを90°回転
してできる第2の基本パターンの説明図である。これら
の基本パターンの格子ベクトル及び揺らぎ量の標準偏差
は以下の表3のとおりである。
【0077】
【表3】
【0078】図103は、図101と図102との基本
パターンを重ね合わせた拡散板の実施例8の構造でσ/
ρ=0.088 となっている。
【0079】
【実施例9】図104は、実施例9の第1の基本パター
ンを示す直径0.4mmの範囲の拡大図である。微小構造
物は直径10μm、高さ1.2μmの微小レンズである。
そして、図105は、第2の基本パターンの説明図であ
る。これらの基本パターンの格子ベクトル及び揺らぎ量
の標準偏差は以下の表4のとおりである。
【0080】
【表4】
【0081】図106は、図104と図105との基本
パターンを重ね合わせた拡散板の実施例8の構造でσ/
ρ=0.044となっている。
【0082】上記のように重ね合わせられる基本パター
ンの少なくともひとつに揺らぎを付加することにより、
得られる重ね合わせパターンは非規則的となり、フレネ
ルレンズとのモアレ縞が発生し難くなる。また、揺らぎ
のないパターンを重ね合わせて得られる拡散板よりも、
より自然なボケ味を出すことができると共に、色ムラも
減少させることができる。
【0083】
【実施例10】図107は、実施例10のフォーカシン
グスクリーンの断面形状を示す。複数のパターンを重ね
合わせた拡散板7を物理的にひとつの面内に形成し、拡
散面でない側にフレネルレンズ8を形成したものであ
る。
【0084】
【実施例11】図108は、実施例11のフォーカシン
グスクリーンの断面形状を示す。基本パターン9および
10を異なる部材11および12の向かい合う面に形成
し、部材12の拡散面でない側にフレネルレンズ13を
形成したものである。
【0085】
【実施例12】以下に、本発明に係わる拡散板用母型の
作製方法の実施例を説明する。
【0086】図109において、14は例えばガラスか
らなる基板で、基板14には感光材料として2〜3μm
程度の膜厚範囲で均一なポジ型フォトレジスト膜15が
スピンコート法により被着されている。
【0087】16は、ポジ型フォトレジスト膜15に所
定のパターンを露光するためのガラスからなるマスク
で、マスク16には図110に示すようにクロムからな
るドット状の微細パターン17が断面凸状に形成されて
いる。微細パターン17は10〜20μmの直径を有
し、互いに15〜20μmのピッチで離間している。
【0088】マスク16は図109に示すように、ポジ
型フォトレジスト膜15に微細パターン17を対向させ
て基板14から所定間隔Δt(約75μm)をおいて位置
合わせされている。
【0089】このような基板14とマスク16の位置関
係を保ちつつ、マスク16の微細パターン17の背後か
ら紫外光18を所定時間照射してポジ型フォトレジスト
膜15の表面に微細パターン17を投影して露光する。
【0090】次に、図111に示すように、マスク16
を同一平面内で(紙面に直交する回転軸Lを中心として)
所定の方位角度θ(図110では5゜)だけ回転変位させ
て前述と同様の露光を行う。
【0091】これらの工程を経た後、基板14を現像処
理することによってポジ型フォトレジスト膜15には、
図112(a)に示すような微細パターンの重なりを持っ
た新たな微細パターン19が投影された凹凸レリーフが
形成される。
【0092】このようにして得られた凹凸レリーフは、
単純な形状ではなく、凹凸の大きさや起伏の度合いが適
度に異なったものとなっている。つまり、図112(a)
中A−A部によって形成される凹凸形状断面は、図11
2(b)に示すように、微細パターン19を構成するドッ
ト20が重なり合って投影される部分X、ドット20が
単独で投影される部分Y、ドット20の他の部分Zの順
で低くなっている。
【0093】また、ポジ型フォトレジスト膜15とマス
ク16との間隔Δtは、紫外光18が散乱して微細パタ
ーン17に回り込める程度に約75μmとされているの
で、ドット20以外の部分も直線的な形状ではなく曲線
的で緩やかな斜面を呈し、微細パターン19全体は緩や
かな起伏となっている。
【0094】こうして基板14は拡散板用母型として成
形され、基板14をもとにして電鋳金型を製造し、射出
成形等を用い光学樹脂に転写することにより、拡散性に
優れ、粒状性のない明るく自然なボケを呈する拡散板を
製造することができる。
【0095】なお、マスク16は典型的には、フォトリ
ソグラフ法により製造する。図1の規則的パターンや図
101に示したような位置の揺らぎを持ったパターンを
フォトプロッタ等で描き、レチクルを作製する。このレ
チクルを縮小投影し、段階的に移動させつつ露光を繰り
返して所望の大きさのマスクを作製する。微細パターン
の寸法、間隔等は、拡散板に求められる性能に応じて任
意に選択でき、また、ランダムな位置の揺らぎも計算機
による疑似乱数で任意にコントロールできる。
【0096】以上、基本パターンとしては二次元周期パ
ターン、または二次元周期を基準としてランダムな位置
の揺らぎを付加した基本パターンを重ね合わせて、拡散
板を構成したが、拡散板全体に渡って均一の周期である
必要はない。すなわち、拡散板の中央部分と周辺部分と
で、異なる構造の基本パターンを用いて、特性の異なる
拡散板を得るなどの変形も可能である。
【0097】母型の作製方法においてはマスクを相対的
に回転して多重露光を行う方法について示したが、最初
から重ね合わせパターンが描画されたマスクを用いて一
回で露光する方法でもほぼ同様の結果が得られる。
【0098】また、重ね合わせの多重度は2段でかなり
の効果があるが、3段以上重ねたものも本発明の範囲外
ではない。
【0099】
【効果】この発明の拡散板によれば、拡散特性をコント
ロールしてザラツキ感のない明るい視界を確保すること
ができ、多線ボケや色ムラを生じることなく、かつ、拡
散板の構造やフレネルレンズとのモアレ縞が視認されな
い拡散板を提供することができる。
【0100】また、周期的拡散板では微小構造物に僅か
でも構造的欠陥があると目だつが、この発明の拡散板で
は多少の欠陥があっても目だたないため、結果的に良品
率を向上させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】 最密充填による拡散板の構造を示す図であ
る。
【図2】 図1の拡散板による波長450nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。
【図3】 図1の拡散板による波長550nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。
【図4】 図1の拡散板による波長650nmにおける点像
のボケ味を視覚的に示す図である。
【図5】 図1の拡散板による波長450nmにおける拡散
光の分布を、図2の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。
【図6】 図1の拡散板による波長550nmにおける拡散
光の分布を、図3の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。
【図7】 図1の拡散板による波長650nmにおける拡散
光の分布を、図4の中心からの半径と、その半径の円内
の光量との関係として示すグラフである。
【図8】 図1の拡散板による波長450nmにおける拡散
光の分布を、図2の縦軸、横軸方向に積分したもので、
それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。
【図9】 図1の拡散板による波長550nmにおける拡散
光の分布を、図3の縦軸、横軸方向に積分したもので、
それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。
【図10】 図1の拡散板による波長650nmにおける拡
散光の分布を、図4の縦軸、横軸方向に積分したもの
で、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフである。
【図11】 正方充填による拡散板の構造を示す図であ
る。
【図12】 図11の拡散板による波長450nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図13】 図11の拡散板による波長550nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図14】 図11の拡散板による波長650nmにおける
点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図15】 図11の拡散板による波長450nmにおける
拡散光の分布を、図12の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図16】 図11の拡散板による波長550nmにおける
拡散光の分布を、図13の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図17】 図11の拡散板による波長650nmにおける
拡散光の分布を、図14の中心からの半径と、その半径
の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図18】 図11の拡散板による波長450nmにおける
拡散光の分布を、図12の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図19】 図11の拡散板による波長550nmにおける
拡散光の分布を、図13の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図20】 図11の拡散板による波長650nmにおける
拡散光の分布を、図14の縦軸、横軸方向に積分したも
ので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図21】 離散的な拡散特性の模式図である。
【図22】 離散的な拡散特性の模式図で、図21を9
0゜回転したものである。
【図23】 図21の拡散特性と図22の拡散特性を畳
み込み積分した拡散特性であり、本発明の原理を説明す
る図である。
【図24】 実施例1の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図25】 実施例1の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図26】 図24の基本パターンと図25の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例1の構
造を示す図である。
【図27】 実施例1の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図28】 実施例1の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図29】 実施例1の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図30】 実施例1の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図27の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図31】 実施例1の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図28の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図32】 実施例1の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図29の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図33】 実施例1の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図27の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図34】 実施例1の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図28の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図35】 実施例1の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図29の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図36】 図1の拡散板に入射する光束のFナンバー
と拡散光の配光比率との関係を示すグラフである。
【図37】 実施例1の拡散板に入射する光束のFナン
バーと拡散光の配光比率との関係を示すグラフである。
【図38】 実施例2の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図39】 実施例2の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図40】 図38の基本パターンと図39の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例2の構
造を示す図である。
【図41】 実施例2の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図42】 実施例2の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図43】 実施例2の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図44】 実施例2の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図41の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図45】 実施例2の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図42の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図46】 実施例2の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図43の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図47】 実施例2の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図41の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図48】 実施例2の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図42の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図49】 実施例2の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図43の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図50】 実施例3の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図51】 実施例3の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図52】 図50の基本パターンと図51の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例3の構
造を示す図である。
【図53】 実施例3の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図54】 実施例3の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図55】 実施例3の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図56】 実施例3の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図53の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図57】 実施例3の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図54の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図58】 実施例3の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図55の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図59】 実施例3の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図53の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図60】 実施例3の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図54の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図61】 実施例3の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図55の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図62】 実施例4の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図63】 実施例4の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図64】 図62の基本パターンと図63の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例4の構
造を示す図である。
【図65】 実施例4の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図66】 実施例4の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図67】 実施例4の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図68】 実施例4の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図65の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図69】 実施例4の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図66の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図70】 実施例4の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図67の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図71】 実施例4の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図65の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図72】 実施例4の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図66の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図73】 実施例4の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図67の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図74】 実施例5の基本パターンのひとつを示す図
である。
【図75】 実施例5の基本パターンの他のひとつを示
す図である。
【図76】 図74の基本パターンと図75の基本パタ
ーンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例5の構
造を示す図である。
【図77】 実施例5の拡散板による波長450nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図78】 実施例5の拡散板による波長550nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図79】 実施例5の拡散板による波長650nmにおけ
る点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図80】 実施例5の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図77の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図81】 実施例5の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図78の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図82】 実施例5の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図79の中心からの半径と、その半
径の円内の光量との関係として示すグラフである。
【図83】 実施例5の拡散板による波長450nmにおけ
る拡散光の分布を、図77の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図84】 実施例5の拡散板による波長550nmにおけ
る拡散光の分布を、図78の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図85】 実施例5の拡散板による波長650nmにおけ
る拡散光の分布を、図79の縦軸、横軸方向に積分した
もので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示すグラフであ
る。
【図86】 六角錐を最密充填に配列した基本パターン
を示す図である。
【図87】 実施例6の拡散板の断面形状を示す図であ
る。
【図88】 実施例7の拡散板の平面図を示す図であ
る。
【図89】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図90】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図91】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける点像のボケ味を視覚的に示す図である。
【図92】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける拡散光の分布を、図89の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。
【図93】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける拡散光の分布を、図90の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。
【図94】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける拡散光の分布を、図91の中心からの半径
と、その半径の円内の光量との関係として示すグラフで
ある。
【図95】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長4
50nmにおける拡散光の分布を、図89の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。
【図96】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長5
50nmにおける拡散光の分布を、図90の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。
【図97】 実施例7の拡散板のφ=-15゜の場合の波長6
50nmにおける拡散光の分布を、図91の縦軸、横軸方向
に積分したもので、それぞれ縦線、横線のボケ味を示す
グラフである。
【図98】 フレネルレンズの36×24mmの範囲を示
す模式図である。
【図99】 図26の拡散板と図98のフレネルレンズ
を重ねた場合にみられるモアレ縞の模式図である。
【図100】 二次元周期配列に付加されたランダムな
位置の揺らぎの説明図である。
【図101】 実施例8の基本パターンのひとつを示す
図である。
【図102】 実施例8の基本パターンの他のひとつを
示す図である。
【図103】 図101の基本パターンと図102の基
本パターンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例
8の構造を示す図である。
【図104】 実施例9の基本パターンのひとつを示す
図である。
【図105】 実施例9の基本パターンの他のひとつを
示す図である。
【図106】 図104の基本パターンと図105の基
本パターンを重ね合わせた本発明による拡散板の実施例
9の構造を示す図である。
【図107】 実施例10のフォーカシングスクリーン
の断面形状を示す図である。
【図108】 実施例11のフォーカシングスクリーン
の断面形状を示す図である。
【図109】 基板とマスクの位置関係を示す断面図で
ある。
【図110】 マスクに形成された微細パターンを示す
平面図である。
【図111】 マスクの同一平面内での回転変位による
基板に対するマスクの相対位置を示す平面図である。
【図112】 (a)は、規則的微細パターンの重なりに
よって生じる新たな投影微細パターンを示す平面図であ
る。(b)は、新たな投影微細パターンによって形成され
た凹凸レリーフの断面図である。
【符号の説明】
1…基本パターンの拡散板 2…基本パターンの拡散板 3…微小構造物 4…基本パターンが形成された部材 5…基本パターンが形成された部材 6…ファインダーの視野範囲 φ…部材4と部材5のなす角 7…重ね合わせパターンによる拡散面 8…フレネルレンズ 9…基本パターン 10…基本パターン 11…基本パターン9が形成された部材 12…基本パターン10とフレネルレンズ13が別の面
に形成された部材 13…フレネルレンズ 14…基板 15…ポジ型フォトレジスト膜(感光材料) 16…マスク 17…微細パターン 18…紫外光 Δt…所定間隔 θ…方位角度 L…回転軸 19…新たな微細パターン 20…ドットパターン X…ドットパターン20が重なり合って投影される部分 Y…ドットパターン20が単独で投影される部分 Z…ドットパターン20の他の部分
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 白柳 守康 東京都板橋区前野町2丁目36番9号旭光学 工業株式会社内 (72)発明者 丸山 晃一 東京都板橋区前野町2丁目36番9号旭光学 工業株式会社内 (72)発明者 冷牟田 輝明 東京都板橋区前野町2丁目36番9号旭光学 工業株式会社内 (72)発明者 泉水 隆之 東京都板橋区前野町2丁目36番9号旭光学 工業株式会社内

Claims (13)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】微小構造物が多数配置された基本パターン
    を複数重ね合わせることにより形成される拡散板におい
    て、前記微小構造物の配置は二次元周期的であって、該
    二次元周期の格子ベクトルが前記複数の基本パターンご
    とに異なることを特徴とする拡散板。
  2. 【請求項2】同一の配置を有する基本パターンを、当該
    パターンの平面内で所定角度回転させて、異なる配列方
    向で重ね合わせて形成されることを特徴とする請求項1
    に記載の拡散板。
  3. 【請求項3】互いに相似形の基本パターンを、同一の配
    列方向で重ね合わせて形成されることを特徴とする請求
    項1に記載の拡散板。
  4. 【請求項4】互いに等しい充填方式の基本パターンを重
    ね合わせて形成されることを特徴とする請求項1に記載
    の拡散板。
  5. 【請求項5】互いに異なる充填方式の基本パターンを重
    ね合わせて形成されることを特徴とする請求項1に記載
    の拡散板。
  6. 【請求項6】前記微小構造物の平面形状が円形であるこ
    とを特徴とする請求項1に記載の拡散板。
  7. 【請求項7】前記拡散板は、微細構造をもった物理的に
    ひとつの面であることを特徴とする請求項1に記載の拡
    散板。
  8. 【請求項8】前記拡散板は、基本パターンが形成された
    物理的に異なる複数個の拡散面を近接して配置して構成
    されることを特徴とする請求項1に記載の拡散板。
  9. 【請求項9】前記基本パターンが形成された複数の拡散
    板は、互いに回動可能であることを特徴とする請求項8
    に記載の拡散板。
  10. 【請求項10】前記基本パターンのうちの少なくともひ
    とつは、前記微小構造物の配置が、基準となる二次元周
    期にランダムな揺らぎを付加した配置であることを特徴
    とする請求項1に記載の拡散板。
  11. 【請求項11】前記基本パターンの揺らぎ量の標準偏差
    をσ、二次元周期の格子ベクトルの長さの平均値をρと
    するとき、 0.04<σ/ρ<0.2 を満たすことを特徴とする請求項10に記載の拡散板。 【数1】
  12. 【請求項12】微小構造物が多数配置された基本パター
    ンを複数重ね合わせることにより形成される拡散板と、
    該拡散板に近接して置かれたフレネルレンズとを含み、
    前記微小構造物の配置は二次元周期的であって、該二次
    元周期の格子ベクトルは前記複数の基本パターンごとに
    異なり、前記基本パターンのうちの少なくともひとつ
    は、前記微小構造物の配置が、基準となる二次元周期に
    ランダムな揺らぎを付加した配置であることを特徴とす
    るフォーカシングスクリーン。
  13. 【請求項13】感光材料が被着された基板と微細パター
    ンが画成されたマスクとを所定間隔をおいて対向させ、
    前記マスク側から光照射を行って前記基板の感光材料面
    に前記微細パターンを投影して露光したのち、該感光材
    料を現像処理して前記基板に微細構造を形成する拡散板
    用母型の作製方法において、前記基板または前記マスク
    を同一平面内で所定の方位角度だけ回転変位させて前記
    基板に対する前記マスクの相対位置を少なくとも2つ設
    定し、該相対位置毎に前記露光を行い前記基板に所望の
    微細構造を形成することを特徴とする拡散板用母型の作
    製方法。
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1195625A1 (en) * 2000-04-17 2002-04-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflection board, reflection type liquid crystal display unit and production method therefor, optical member, display unit, illuminating device, display board, and undulatory member
JP2005148427A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Olympus Corp 焦点板原盤及びその製造方法
JP2006100257A (ja) * 2004-09-06 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 有機電界発光素子
JP2007264639A (ja) * 2007-03-30 2007-10-11 Omron Corp 拡散板及び面光源装置
US7612847B2 (en) 2001-09-07 2009-11-03 Nec Lcd Technologies, Ltd. Generation of pattern data with no overlapping or excessive distance between adjacent patterns
US8789997B2 (en) 2010-12-28 2014-07-29 Sumitomo Chemical Company, Limited Light guide plate, surface light source device, and transmission image display device
WO2020059771A1 (ja) * 2018-09-21 2020-03-26 デクセリアルズ株式会社 光学体、照明装置、及び画像表示装置

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP1195625A1 (en) * 2000-04-17 2002-04-10 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Reflection board, reflection type liquid crystal display unit and production method therefor, optical member, display unit, illuminating device, display board, and undulatory member
EP1195625A4 (en) * 2000-04-17 2006-06-28 Matsushita Electric Ind Co Ltd REFLECTIVE PANEL, REFLECTING TYPE LIQUID CRYSTAL DISPLAY UNIT AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME, OPTICAL ELEMENT, DISPLAY UNIT, LIGHTING DEVICE, DISPLAY PANEL, AND INDULATING ELEMENT
US7612847B2 (en) 2001-09-07 2009-11-03 Nec Lcd Technologies, Ltd. Generation of pattern data with no overlapping or excessive distance between adjacent patterns
JP2005148427A (ja) * 2003-11-17 2005-06-09 Olympus Corp 焦点板原盤及びその製造方法
JP4527967B2 (ja) * 2003-11-17 2010-08-18 オリンパス株式会社 焦点板原盤及びその製造方法
JP2006100257A (ja) * 2004-09-06 2006-04-13 Fuji Photo Film Co Ltd 有機電界発光素子
JP2007264639A (ja) * 2007-03-30 2007-10-11 Omron Corp 拡散板及び面光源装置
JP4505755B2 (ja) * 2007-03-30 2010-07-21 オムロン株式会社 拡散板及び面光源装置
US8789997B2 (en) 2010-12-28 2014-07-29 Sumitomo Chemical Company, Limited Light guide plate, surface light source device, and transmission image display device
WO2020059771A1 (ja) * 2018-09-21 2020-03-26 デクセリアルズ株式会社 光学体、照明装置、及び画像表示装置
JP2020052064A (ja) * 2018-09-21 2020-04-02 デクセリアルズ株式会社 光学体、照明装置、及び画像表示装置

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