JPH06166653A - ヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法 - Google Patents
ヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法Info
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- JPH06166653A JPH06166653A JP4321538A JP32153892A JPH06166653A JP H06166653 A JPH06166653 A JP H06166653A JP 4321538 A JP4321538 A JP 4321538A JP 32153892 A JP32153892 A JP 32153892A JP H06166653 A JPH06166653 A JP H06166653A
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- Japan
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- reaction
- antimony
- hydroxybutyraldehyde
- rhodium
- hydrogen
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- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P20/00—Technologies relating to chemical industry
- Y02P20/50—Improvements relating to the production of bulk chemicals
- Y02P20/52—Improvements relating to the production of bulk chemicals using catalysts, e.g. selective catalysts
Landscapes
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
- Organic Low-Molecular-Weight Compounds And Preparation Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】アリルアルコールのヒドロホルミル化反応にお
いて、２−メチル−３−ヒドロキシブチルアルデヒド、
プロピオンアルデヒド及びｎ−プロピルアルコールの副
生を抑え、高選択的にヒドロキシブチルアルデヒドを製
造する方法を提供する。 【構成】水素と一酸化炭素の存在下にアリルアルコール
をヒドロホルミル化する反応において、アンチモン化合
物を配位子とするロジウム錯体触媒を用いることを特徴
とするヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法。
いて、２−メチル−３−ヒドロキシブチルアルデヒド、
プロピオンアルデヒド及びｎ−プロピルアルコールの副
生を抑え、高選択的にヒドロキシブチルアルデヒドを製
造する方法を提供する。 【構成】水素と一酸化炭素の存在下にアリルアルコール
をヒドロホルミル化する反応において、アンチモン化合
物を配位子とするロジウム錯体触媒を用いることを特徴
とするヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、ヒドロキシブチルアル
デヒドを製造する方法に関する。本発明で得られるヒド
ロキシブチルアルデヒドは、公知の方法で水素化するこ
とにより容易にブタンジオ−ル類に転化することができ
る。このブタンジオ−ル類のうち、１，４−ブタンジオ
−ルはテトラヒドロフランに誘導されたり、ポリエステ
ルあるいはポリウレタンの原料として極めて有用な化合
物である。
デヒドを製造する方法に関する。本発明で得られるヒド
ロキシブチルアルデヒドは、公知の方法で水素化するこ
とにより容易にブタンジオ−ル類に転化することができ
る。このブタンジオ−ル類のうち、１，４−ブタンジオ
−ルはテトラヒドロフランに誘導されたり、ポリエステ
ルあるいはポリウレタンの原料として極めて有用な化合
物である。
【０００２】
【従来の技術】水素と一酸化炭素の存在下にアリルアル
コール（以下、ＡＯＨと略称する）をヒドロホルミル化
する反応において、ホスフィン化合物を配位子とするロ
ジウム錯体触媒を用いヒドロキシブチルアルデヒドを製
造することは公知である。例えば、この技術は特公昭５
３−１９５６３号公報、特公昭５６−５３７２号公報、
特公昭６２−５４７８１号公報及び東洋曹達研究報告、
２５（１）、３（１９８１）等に開示されている。
コール（以下、ＡＯＨと略称する）をヒドロホルミル化
する反応において、ホスフィン化合物を配位子とするロ
ジウム錯体触媒を用いヒドロキシブチルアルデヒドを製
造することは公知である。例えば、この技術は特公昭５
３−１９５６３号公報、特公昭５６−５３７２号公報、
特公昭６２−５４７８１号公報及び東洋曹達研究報告、
２５（１）、３（１９８１）等に開示されている。
【０００３】しかし、ＡＯＨのヒドロホルミル化反応に
おいて、ホスフィン化合物を配位子とするロジウム錯体
触媒系では、目的の生成物であるヒドロキシブチルアル
デヒド、特に４−ヒドロキシブチルアルデヒド（以下、
ＨＢＡと略称する）の他に副生成物、即ち、ＨＢＡの異
性体である２−メチル−３−ヒドロキシプロピオンアル
デヒド（以下、ＭＨＰと略称する）、ＡＯＨの水素化物
であるｎ−プロピルアルコール（以下、ＰｒＯＨと略称
する）及びＡＯＨの異性化物であるプロピオンアルデヒ
ド（以下、Ｐａｌｄと略称する）の生成が避けられな
い。例えば、前記した東洋曹達研究報告には、ＡＯＨの
ヒドロホルミル化反応において、ＨＢＡ選択率に対する
反応圧力、水素と一酸化炭素の比、反応温度及びＲｈホ
スフィン錯体触媒のホスフィン濃度や種類の影響が開示
されている。これによれば、水素分圧や反応温度が高い
ほど、Ｐａｌｄ及びＰｒＯＨが増加し、ＨＢＡの選択率
は低下する。一方、逆に一酸化炭素分圧を高くするとＭ
ＨＰが増加するので目的とするＨＢＡ選択率は最適化さ
れた条件においても高々７９％にすぎない。
おいて、ホスフィン化合物を配位子とするロジウム錯体
触媒系では、目的の生成物であるヒドロキシブチルアル
デヒド、特に４−ヒドロキシブチルアルデヒド（以下、
ＨＢＡと略称する）の他に副生成物、即ち、ＨＢＡの異
性体である２−メチル−３−ヒドロキシプロピオンアル
デヒド（以下、ＭＨＰと略称する）、ＡＯＨの水素化物
であるｎ−プロピルアルコール（以下、ＰｒＯＨと略称
する）及びＡＯＨの異性化物であるプロピオンアルデヒ
ド（以下、Ｐａｌｄと略称する）の生成が避けられな
い。例えば、前記した東洋曹達研究報告には、ＡＯＨの
ヒドロホルミル化反応において、ＨＢＡ選択率に対する
反応圧力、水素と一酸化炭素の比、反応温度及びＲｈホ
スフィン錯体触媒のホスフィン濃度や種類の影響が開示
されている。これによれば、水素分圧や反応温度が高い
ほど、Ｐａｌｄ及びＰｒＯＨが増加し、ＨＢＡの選択率
は低下する。一方、逆に一酸化炭素分圧を高くするとＭ
ＨＰが増加するので目的とするＨＢＡ選択率は最適化さ
れた条件においても高々７９％にすぎない。
【０００４】又、これまで、アンチモン化合物を配位子
としてロジウム錯体触媒を使用した例としては、１−ド
デセンのヒドロホルミル化により直鎖状アルデヒドを得
る例［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、４０、１８５（１９８
４）］が知られている。しかし、オレフィンに対しα位
炭素に水酸基を有し、かつ異性化の進行しやすいＡＯＨ
を原料として、アンチモン化合物を配位子としたロジウ
ム錯体触媒を用いたヒドロホルミル化反応の例はこれま
で見当たらない。
としてロジウム錯体触媒を使用した例としては、１−ド
デセンのヒドロホルミル化により直鎖状アルデヒドを得
る例［Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ、４０、１８５（１９８
４）］が知られている。しかし、オレフィンに対しα位
炭素に水酸基を有し、かつ異性化の進行しやすいＡＯＨ
を原料として、アンチモン化合物を配位子としたロジウ
ム錯体触媒を用いたヒドロホルミル化反応の例はこれま
で見当たらない。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】従って、ＡＯＨをヒド
ロホルミル化し、目的のＨＢＡを得る本プロセスにおい
て、ＭＨＰ、ＰｒＯＨ及びＰａｌｄの副生を抑え、高選
択的にＨＢＡを得る方法の開発が期待されていた。即
ち、本発明の目的は、高選択的なＨＢＡの製造方法を提
供することである。
ロホルミル化し、目的のＨＢＡを得る本プロセスにおい
て、ＭＨＰ、ＰｒＯＨ及びＰａｌｄの副生を抑え、高選
択的にＨＢＡを得る方法の開発が期待されていた。即
ち、本発明の目的は、高選択的なＨＢＡの製造方法を提
供することである。
【０００６】
【課題を解決するための手段】このような現状に鑑み、
本発明者らは、ＡＯＨのヒドロホルミル化反応について
鋭意検討した。その結果、水素と一酸化炭素の存在下に
ＡＯＨをヒドロホルミル化する反応において、アンチモ
ン化合物を配位子とするロジウム錯体触媒を用いるとＨ
ＢＡが高選択的に得られることを見い出し、本発明を完
成するに至った。
本発明者らは、ＡＯＨのヒドロホルミル化反応について
鋭意検討した。その結果、水素と一酸化炭素の存在下に
ＡＯＨをヒドロホルミル化する反応において、アンチモ
ン化合物を配位子とするロジウム錯体触媒を用いるとＨ
ＢＡが高選択的に得られることを見い出し、本発明を完
成するに至った。
【０００７】即ち、本発明は、水素と一酸化炭素の存在
下にＡＯＨをヒドロホルミル化する反応において、アン
チモン化合物を配位子とするロジウム錯体触媒を用いる
ことを特徴とする高選択的なＨＢＡの製造方法に関す
る。
下にＡＯＨをヒドロホルミル化する反応において、アン
チモン化合物を配位子とするロジウム錯体触媒を用いる
ことを特徴とする高選択的なＨＢＡの製造方法に関す
る。
【０００８】次に、本発明について更に詳しく説明す
る。
る。
【０００９】本発明によれば、水素と一酸化炭素の存在
下にＡＯＨをヒドロホルミル化する反応において、アン
チモン化合物を配位子とするロジウム錯体触媒が用いら
れる。
下にＡＯＨをヒドロホルミル化する反応において、アン
チモン化合物を配位子とするロジウム錯体触媒が用いら
れる。
【００１０】ここで、アンチモン化合物を配位子とする
ロジウム錯体触媒は、アンチモン化合物とロジウム化合
物とから、公知の錯体形成法により容易に調製すること
ができる。また、アンチモン化合物を適当なロジウム化
合物と共にヒドロホルミル化反応器へ導入し、水素及び
一酸化炭素の混合ガスの存在下に錯体を形成せしめて用
いてもよい。この方法は例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ、４０、１８５（１９８４）等に開示されている。
ロジウム錯体触媒は、アンチモン化合物とロジウム化合
物とから、公知の錯体形成法により容易に調製すること
ができる。また、アンチモン化合物を適当なロジウム化
合物と共にヒドロホルミル化反応器へ導入し、水素及び
一酸化炭素の混合ガスの存在下に錯体を形成せしめて用
いてもよい。この方法は例えば、Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏ
ｎ、４０、１８５（１９８４）等に開示されている。
【００１１】この場合、適当なロジウム化合物とは、例
えばＲｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）、Ｒｈ（ａｃａｃ）3、
［Ｒｈ（ＯＡｃ）（ＣＯ）2］2、Ｒｈ（ＯＡｃ）3、Ｒ
ｈ2（ＯＡｃ）2（１，５−ＣＯＤ）2、Ｒｈ4（Ｃ
Ｏ）12、Ｒｈ6（ＣＯ）16、Ｒｈ（ＣＯ）（ａｃａｃ）
（ＳｂＰｈ3）3（ａｃａｃはアセチルアセトナ−トを、
Ａｃはアセチル基を、またＣＯＤは１、５−シクロオク
タジエンを表す）等のロジウム錯体であり、これらのう
ちＲｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）及びＲｈ（ＣＯ）（ａｃ
ａｃ）（ＳｂＰｈ3）3が好ましく用いられる。これらの
ロジウム錯体は、市販のものを用いても良いが、硝酸ロ
ジウム、硫酸ロジウム、三塩化ロジウム、酸化ロジウム
等のロジウム無機化合物、酢酸ロジウム等のロジウム有
機酸塩、ロジウムの各種塩やカルボニル化合物より公知
の方法により合成したものを使用しても一向に差支えな
い。
えばＲｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）、Ｒｈ（ａｃａｃ）3、
［Ｒｈ（ＯＡｃ）（ＣＯ）2］2、Ｒｈ（ＯＡｃ）3、Ｒ
ｈ2（ＯＡｃ）2（１，５−ＣＯＤ）2、Ｒｈ4（Ｃ
Ｏ）12、Ｒｈ6（ＣＯ）16、Ｒｈ（ＣＯ）（ａｃａｃ）
（ＳｂＰｈ3）3（ａｃａｃはアセチルアセトナ−トを、
Ａｃはアセチル基を、またＣＯＤは１、５−シクロオク
タジエンを表す）等のロジウム錯体であり、これらのう
ちＲｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ）及びＲｈ（ＣＯ）（ａｃ
ａｃ）（ＳｂＰｈ3）3が好ましく用いられる。これらの
ロジウム錯体は、市販のものを用いても良いが、硝酸ロ
ジウム、硫酸ロジウム、三塩化ロジウム、酸化ロジウム
等のロジウム無機化合物、酢酸ロジウム等のロジウム有
機酸塩、ロジウムの各種塩やカルボニル化合物より公知
の方法により合成したものを使用しても一向に差支えな
い。
【００１２】本発明で使用できるアンチモン化合物は、
一般式ＳｂＲ1Ｒ2Ｒ3（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々同
一または異なるアリ−ル基、アリアルキル基またはアル
キル基を表す）で示されるアンチモン化合物である。こ
の例として、トリフェニルアンチモン、トリトリルアン
チモン、トリクロロフェニルアンチモン、トリナフチル
アンチモン、ジフェニルメチルアンチモン、ジフェニル
エチルアンチモン、フェニルジメチルアンチモン、フェ
ニルジエチルアンチモン、トリメチルアンチモン、トリ
エチルアンチモン、トリプロピルアンチモン、トリブチ
ルアンチモン、トリオクチルアンチモン、トリベンジル
アンチモンなどが挙げられる。これらのうちトリフェニ
ルアンチモンがより好ましい。
一般式ＳｂＲ1Ｒ2Ｒ3（式中、Ｒ1、Ｒ2及びＲ3は各々同
一または異なるアリ−ル基、アリアルキル基またはアル
キル基を表す）で示されるアンチモン化合物である。こ
の例として、トリフェニルアンチモン、トリトリルアン
チモン、トリクロロフェニルアンチモン、トリナフチル
アンチモン、ジフェニルメチルアンチモン、ジフェニル
エチルアンチモン、フェニルジメチルアンチモン、フェ
ニルジエチルアンチモン、トリメチルアンチモン、トリ
エチルアンチモン、トリプロピルアンチモン、トリブチ
ルアンチモン、トリオクチルアンチモン、トリベンジル
アンチモンなどが挙げられる。これらのうちトリフェニ
ルアンチモンがより好ましい。
【００１３】本発明の方法において、触媒の使用量は特
に制限されないが、通常、ヒドロホルミル化反応液１リ
ットルあたり、０．０１〜１００ミリモル、好ましくは
０．１〜５０ミリモルの濃度で使用される。これより小
さい触媒濃度では十分なヒドロホルミル化活性が得られ
ず、逆にこれより大きい触媒濃度では、反応活性が増加
せず経済的でない。一方、アンチモン化合物の好ましい
使用量は、ロジウム１グラム原子に対して１〜１０００
当量の範囲であり、更に好ましくは３〜３００当量の範
囲である。
に制限されないが、通常、ヒドロホルミル化反応液１リ
ットルあたり、０．０１〜１００ミリモル、好ましくは
０．１〜５０ミリモルの濃度で使用される。これより小
さい触媒濃度では十分なヒドロホルミル化活性が得られ
ず、逆にこれより大きい触媒濃度では、反応活性が増加
せず経済的でない。一方、アンチモン化合物の好ましい
使用量は、ロジウム１グラム原子に対して１〜１０００
当量の範囲であり、更に好ましくは３〜３００当量の範
囲である。
【００１４】本発明において、必要ならば溶媒を用いる
ことができる。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、ｎ−ヘキサン、ｎ
−ヘプタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素、ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル等のエーテル類、メタ
ノール、エタノール、ブタノール等のアルコール類、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル等の多価アルコールのエー
テルまたはエーテルグリコール類、安息香酸エチル、フ
タル酸ジオクチル等のエステル類等を挙げることがで
き、好ましくは、トルエン、キシレン、フタル酸ジオク
チルである。
ことができる。溶媒としては、例えば、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素、ｎ−ヘキサン、ｎ
−ヘプタン、シクロヘキサン等の飽和炭化水素、ジエチ
ルエーテル、ジプロピルエーテル等のエーテル類、メタ
ノール、エタノール、ブタノール等のアルコール類、ジ
エチレングリコールジエチルエーテル、トリエチレング
リコールモノメチルエーテル等の多価アルコールのエー
テルまたはエーテルグリコール類、安息香酸エチル、フ
タル酸ジオクチル等のエステル類等を挙げることがで
き、好ましくは、トルエン、キシレン、フタル酸ジオク
チルである。
【００１５】本発明のヒドロホルミル化の反応温度は、
０〜１５０℃であるが、好ましくは１０〜１００℃、よ
り好ましくは３０〜８０℃である。反応温度が低いと、
反応速度が遅くなる傾向があり、一方、反応温度が１５
０℃を超えると副反応が増大し、ＨＢＡ選択率が低下す
るおそれがある。
０〜１５０℃であるが、好ましくは１０〜１００℃、よ
り好ましくは３０〜８０℃である。反応温度が低いと、
反応速度が遅くなる傾向があり、一方、反応温度が１５
０℃を超えると副反応が増大し、ＨＢＡ選択率が低下す
るおそれがある。
【００１６】反応圧力は、絶対圧力で０〜５０ｋｇ／ｃ
ｍ2であり、好ましくは０．１〜１５ｋｇ／ｃｍ2であ
る。このときのオキソガスの組成、即ち、一酸化炭素に
対する水素のモル比は０．１〜１０の範囲であり、好ま
しくは０．５〜５の範囲、より好ましくは１〜３の範囲
である。尚、オキソガスには、反応に不活性なガス、例
えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等が含まれても何ら差
し支えない。
ｍ2であり、好ましくは０．１〜１５ｋｇ／ｃｍ2であ
る。このときのオキソガスの組成、即ち、一酸化炭素に
対する水素のモル比は０．１〜１０の範囲であり、好ま
しくは０．５〜５の範囲、より好ましくは１〜３の範囲
である。尚、オキソガスには、反応に不活性なガス、例
えば、窒素、アルゴン、ヘリウム等が含まれても何ら差
し支えない。
【００１７】本反応は、回分式、半連続式、連続式のい
ずれでも実施できる。反応により得られたＨＢＡは公知
の水による抽出、あるいは蒸留などの方法により反応液
より分離され、さらに公知の水素添加方法により１，４
−ブタンジオ−ルとなしうる。
ずれでも実施できる。反応により得られたＨＢＡは公知
の水による抽出、あるいは蒸留などの方法により反応液
より分離され、さらに公知の水素添加方法により１，４
−ブタンジオ−ルとなしうる。
【００１８】
【実施例】以下に、本発明を実施例を用いて更に詳細に
説明するが、これらの実施例は本発明の概要を示すもの
で、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
説明するが、これらの実施例は本発明の概要を示すもの
で、本発明はこれらの実施例に限定されるものではな
い。
【００１９】実施例１ 温度計、撹拌装置及びガス吹き込み口を備えた内容積３
００ｍｌのステンレス製耐圧反応容器に、触媒としてロ
ジウム−ジ（カルボニル）（アセチルアセトナ−ト）
（Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ））７７．４ｍｇ（０．３
ｍｍｏｌ）とトリフェニルアンチモン２．１２ｇ（３．
０ｍｍｏｌ）、溶媒としてトルエン１５０ｍｌを加え
た。反応容器内を窒素ガスで、次いで水素／一酸化炭素
＝１．０（モル比）の混合ガスで充分置換した後、反応
容器内の絶対圧力を２ｋｇ／ｃｍ2、入りガス流速が５
２．８ＮＬ／ｈｒとなるように調節し、撹拌速度１００
０ｒｐｍ、温度６５℃に保った。該混合ガス気流下で充
分撹拌を行いながら、アリルアルコール４５ｍｍｏｌを
６０分間かけて連続的に加えて反応を行なった。アリル
アルコール添加終了後、さらに３０分間反応条件を保ち
反応を完結させた。出ガスをドライアイス／エタノ−ル
バス中のトラップに導き、同伴するアリルアルコ−ル、
プロピオンアルデヒド、及びｎ−プロパノ−ルをそのト
ラップに補集した。反応液中及び未反応ガスに同伴され
た未反応アリルアルコール及び生成物をガスクロマトグ
ラフィーにより分析した。原料のアリルアルコールの転
化率は４０．５ｍｏｌ％であり、ヒドロキシブチルアル
デヒドが７３．４ｍｏｌ％、２−メチルヒドロキシプロ
ピオンアルデヒドが９．４ｍｏｌ％、ｎ−プロピルアル
コールが１．８ｍｏｌ％及びプロピオンアルデヒドが１
５．３ｍｏｌ％生成していた。その他、痕跡量のγ−ブ
チロラクトンの生成が認められた。
００ｍｌのステンレス製耐圧反応容器に、触媒としてロ
ジウム−ジ（カルボニル）（アセチルアセトナ−ト）
（Ｒｈ（ＣＯ）2（ａｃａｃ））７７．４ｍｇ（０．３
ｍｍｏｌ）とトリフェニルアンチモン２．１２ｇ（３．
０ｍｍｏｌ）、溶媒としてトルエン１５０ｍｌを加え
た。反応容器内を窒素ガスで、次いで水素／一酸化炭素
＝１．０（モル比）の混合ガスで充分置換した後、反応
容器内の絶対圧力を２ｋｇ／ｃｍ2、入りガス流速が５
２．８ＮＬ／ｈｒとなるように調節し、撹拌速度１００
０ｒｐｍ、温度６５℃に保った。該混合ガス気流下で充
分撹拌を行いながら、アリルアルコール４５ｍｍｏｌを
６０分間かけて連続的に加えて反応を行なった。アリル
アルコール添加終了後、さらに３０分間反応条件を保ち
反応を完結させた。出ガスをドライアイス／エタノ−ル
バス中のトラップに導き、同伴するアリルアルコ−ル、
プロピオンアルデヒド、及びｎ−プロパノ−ルをそのト
ラップに補集した。反応液中及び未反応ガスに同伴され
た未反応アリルアルコール及び生成物をガスクロマトグ
ラフィーにより分析した。原料のアリルアルコールの転
化率は４０．５ｍｏｌ％であり、ヒドロキシブチルアル
デヒドが７３．４ｍｏｌ％、２−メチルヒドロキシプロ
ピオンアルデヒドが９．４ｍｏｌ％、ｎ−プロピルアル
コールが１．８ｍｏｌ％及びプロピオンアルデヒドが１
５．３ｍｏｌ％生成していた。その他、痕跡量のγ−ブ
チロラクトンの生成が認められた。
【００２０】実施例２ 水素／一酸化炭素＝２．０（モル比）の混合ガスを用い
たこと以外、実施例１と同様にして反応を行なった。結
果を表１に示す。
たこと以外、実施例１と同様にして反応を行なった。結
果を表１に示す。
【００２１】実施例３ 水素／一酸化炭素＝３．０（モル比）の混合ガスを用い
たこと以外、実施例１と同様にして反応を行なった。結
果を表１に示す。
たこと以外、実施例１と同様にして反応を行なった。結
果を表１に示す。
【００２２】実施例４ 触媒としてロジウム−ジ（カルボニル）（アセチルアセ
トナ−ト）（Ｒｈ（ＣＯ）２（ａｃａｃ））０．７７４
ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、配位子としてトリフェニルアン
チモン２１．１８ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）にしたこと以
外、実施例１と同様にして反応を行なった。結果を表１
に示す。
トナ−ト）（Ｒｈ（ＣＯ）２（ａｃａｃ））０．７７４
ｇ（３．０ｍｍｏｌ）、配位子としてトリフェニルアン
チモン２１．１８ｇ（３０．０ｍｍｏｌ）にしたこと以
外、実施例１と同様にして反応を行なった。結果を表１
に示す。
【００２３】
【表１】
【００２４】比較例１〜３ 配位子としてトリフェニルアンチモンの代わりに、トリ
フェニルホスフィンを用い、また表２に示す水素／一酸
化炭素混合ガス比にしたこと以外、実施例１と同様にし
て反応を行なった。結果を表２に示す。
フェニルホスフィンを用い、また表２に示す水素／一酸
化炭素混合ガス比にしたこと以外、実施例１と同様にし
て反応を行なった。結果を表２に示す。
【００２５】
【表２】
【００２６】
【発明の効果】本発明によれば、アリルアルコールのヒ
ドロホルミル化反応において、ＭＨＰ、Ｐａｌｄ及びＰ
ｒＯＨの副生を抑え、高選択的にＨＢＡを得ることがで
きる。
ドロホルミル化反応において、ＭＨＰ、Ｐａｌｄ及びＰ
ｒＯＨの副生を抑え、高選択的にＨＢＡを得ることがで
きる。
Claims (1)
- 【請求項１】水素と一酸化炭素の存在下にアリルアルコ
−ルをヒドロホルミル化する反応において、アンチモン
化合物を配位子とするロジウム錯体触媒を用いることを
特徴とするヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4321538A JPH06166653A (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | ヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4321538A JPH06166653A (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | ヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06166653A true JPH06166653A (ja) | 1994-06-14 |
Family
ID=18133680
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4321538A Pending JPH06166653A (ja) | 1992-12-01 | 1992-12-01 | ヒドロキシブチルアルデヒドの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH06166653A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6331650B1 (en) | 1999-08-03 | 2001-12-18 | Kuraray Co., Ltd. | Method for manufacturing aminoalcohol |
-
1992
- 1992-12-01 JP JP4321538A patent/JPH06166653A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US6331650B1 (en) | 1999-08-03 | 2001-12-18 | Kuraray Co., Ltd. | Method for manufacturing aminoalcohol |
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