JPH0598293A - 洗浄剤組成物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【目的】 従来技術の持つ欠点を改良し、精密部品また
はその組み立て加工にしようされる治工具類の固体表面
に存在する、油脂、グリース、ロジン系フラックスなど
の汚れや衣類の繊維に付着しているタンパク質等の汚れ
の除去性、安全性に優れかつ環境汚染がなく人畜無害な
洗浄剤組成物を安価に提供することを目的とする。 【構成】 （Ａ）成分としてのナフテン成分を主とする
環式飽和炭化水素を中心とし、さらに（Ｂ）成分として
の特定の溶剤、（Ｃ）成分の界面活性剤、（Ｄ）成分の
酵素及び少量の水を混合した洗浄剤組成物が上記洗浄剤
として使用し得るものであることを見いだした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は洗浄剤組成物、さらに詳
しくは精密部品またはその組み立て加工工程に使用され
る治工具類の固体表面に存在する、油脂、機械油、グリ
ース、ロジン系フラックスなどの汚れや衣類の汚れの除
去性に優れ、またかかる汚れ成分により劣化されにく
く、かつ毒性の低い洗浄剤に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】従来、精密部品、治工具などの固体表面
や衣類に存在する油などの有機物を主体とする汚れの除
去には、ケロシン、ベンゼン、キシレン、などの炭化水
素系溶剤；トリクロロエチレン、テトラクロロエチレ
ン、トリクロロエタンなどの塩素系溶剤；トリクロロト
リフルオロエタンなどのフロン系溶剤；オルソケイ酸ソ
ーダや苛性ソーダに界面活性剤やビルダーを配合した水
系の洗浄剤などが使用されている。特に電子電気、機械
などの部品にはその高洗浄性、難燃性によりフロン系溶
剤または塩素系溶剤が使用されている。また、近年、環
境汚染が少なくかつ安全性の高い洗浄剤として、リモネ
ン、ピネン、ジテルペン等のようなテルペン類も提案さ
れている。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】しかし、これらの洗浄
剤はいずれをとっても、汚れ除去性、低毒性という洗浄
剤組成物に要求される条件の全てを満たすようなもので
はなかった。すなわち、塩素系およびフロン系の溶剤を
用いる洗浄剤は、安全性、毒性、環境汚染などに大きな
問題を有しており、また炭化水素系溶剤、特にベンゼ
ン、キシレンなどは毒性が高く、労働安全法上の有害物
に指定されている化合物であるため、これらを取り扱う
作業の危険性及び煩雑さを考慮した場合、洗浄剤として
用いることは好ましくない。一方、水系洗浄剤は、溶剤
系洗浄剤に比べて危険性と毒性が低い点では好ましい
が、洗浄力において数段劣っている上に、錆の発生の問
題がある。更に水系洗浄剤は専用の廃液処理設備を必要
とする。またリモネンに代表されるテルペン類は、安全
性と洗浄性を両立させ得る化合物であるが、使用時に劣
化し易く耐久性が問題であるばかりではなく、天然物由
来のために安定品質の物が得にくく、高価でかつ供給量
に限界があり、工業用洗浄剤として実用的ではない。そ
れらの洗浄剤の欠点を補う物としてナフテン系炭化水素
に有機溶媒や界面活性剤を混合した物があるが、さらに
洗浄力の高い洗浄剤組成物の開発が必要とされてきた。

【０００４】従って、本発明は上述のような従来技術の
持つ欠点を改良し、精密部品またはその組み立て加工に
しようされる治工具類の固体表面に存在する、油脂、グ
リース、ロジン系フラックスなどの汚れや衣類の繊維に
付着しているタンパク質等の汚れの除去性、安全性に優
れかつ環境汚染がなく人畜無害な洗浄剤組成物を安価に
提供することを目的とする。

【０００５】

【課題を解決するための手段】かかる実状において、本
発明者らは上記問題点を解決すべく鋭意研究を行った結
果、（Ａ）成分としてのナフテン成分を主とする環式飽
和炭化水素を中心とし、さらに（Ｂ）成分としての特定
の溶剤、（Ｃ）成分の界面活性剤、（Ｄ）成分の酵素及
び少量の水を混合した洗浄剤組成物が上記洗浄剤として
使用し得るものであることを見いだし、本発明を完成す
るに至った。また更に本発明者らは上記環式炭化水素が
石油化学工業に於ける特定のプロセスにおいて副生する
炭化水素留分を用いたものであればきわめて安価に提供
できることを見いだした。

【０００６】すなわち本発明は、沸点１５０から３００
℃の範囲にある灯油留分を、芳香族核の核水素添加用金
属触媒により圧力１０〜１００Ｋｇ／ｃｍ² 、温度１０
０〜３００℃の条件で、核水素添加し、ついで合成ゼオ
ライトからなる分子篩を用いて該当油留分中のｎ−パラ
フィン類の少なくとも一部を分離、除去することにより
得られる残油を、精密蒸留装置により分溜してなる実質
的にナフタリン及びビフェニル等の芳香族炭化水素を含
まない沸点１５０〜２４０℃の範囲にあるナフテン成分
を主とする（Ａ）成分としての炭化水素混合物留分を主
成分として含んで成る洗浄剤組成物を提供するものであ
る。

【０００７】本発明で使用される（Ａ）成分の環式炭化
水素は、飽和の環式炭化水素であることが必要である。
不飽和アルキル結合を有する環式炭化水素は適当な炭素
数のものを選択することにより、ある程度洗浄性を上げ
ることもできるが、使用時の劣化が激しく、不都合であ
った。以下に本発明の（Ａ）成分の炭化水素混合物の詳
細について述べる。

【０００８】本発明に於いては、沸点１５０〜３００℃
の範囲にある灯油留分を芳香族の核水素添加用金属触媒
により水素添加する。この触媒は従来知られている芳香
族核の水素添加用金属触媒であればいずれでも好ましく
使用できる。例えば、ニッケル、酸化ニッケル、ニッケ
ル／珪藻土、ラネーニッケル、ニッケル／銅、白金、酸
化白金、白金／活性炭、白金／ロジウム、白金／リチウ
ム／アルミナ、ロジウム／活性炭、パラジウム、コバル
ト、ラネーコバルト、ルテニウム、ニッケル／タングス
テン、硫化タングステン／硫化ニッケル／アルミナ、コ
バルト／モリブデン等が良好に使用できる。

【０００９】水素圧力は１０〜１００Ｋｇ／ｃｍ² 、ま
た温度は１００〜３００℃で行う。１０Ｋｇ／ｃｍ² よ
り低い圧力または・１００Ｋｇ／ｃｍ² より低い温度で
は水素添加反応が十分進まず、また１００Ｋｇ／ｃｍ²
より高い圧力または、３００℃より高い温度では分解反
応などの副反応が優先するのでいずれも好ましくない。
反応形式はバッチ式、あるいは連続・流通式などのいず
れの方法も取り得る。

【００１０】ここで上記の水素添加により灯油留分中の
芳香族炭化水素は核水素化されナフテン類となるが、通
常は含まれる芳香族炭化水素の１００％が核水素添加さ
れることはなく上述の触媒種類、反応条件などに応じ
て、ある程度の量の芳香族炭化水素が水素添加されずに
残留するものである。また水素添加処理にはしばしば副
反応として分解、異性化などをともない、これらの反応
に係る生成物も水素添加された灯油留分に必然的に含ま
れることとなる。

【００１２】上述の水素添加処理についで、灯油留分を
合成ゼオライトからなる分子篩を用いて、少なくとも一
部を分離・除去し残油を得る。分子篩を用いて、気相ま
たは液層で吸・脱着を繰り返すことにより炭化水素混合
物からｎ−パラフィン類を分離、取得する方法は、従来
から以下のようにｎ−パラフィン類の製造方法として工
業的に広く実施されている。即ち、例えば５Ａに調整さ
れた多数の孔を持つ合成ゼオライトから成る分子篩を固
定床として、ｎ−パラフィン類の吸・脱着を交互に行
い、ｎ−パラフィンを吸着した分子篩を脱着用の低分子
パラフィンで洗いｎ−パラフィン類を脱着させ、混入し
た脱着用低分子量パラフィンは蒸留によって分離し、再
循環させるモレックス法、同じく５Ａの孔を有する合成
ゼオライトからなる分子篩による吸・脱着を利用して気
相でｎ−パラフィン類を吸着させ、その脱着は低分子量
パラフィンで洗い流すＴＳＦ法（テキサコ・セレクティ
ブ・フィニッシング法）、同じく５Ａの合成ゼオライト
からなる分子篩を用いるが，ｎ−パラフィン類の分子篩
への吸・脱着は加圧、減圧を交互に繰り返すことにより
行われるアイソシーブ型、さらに蒸気相・液床相を組み
合わせた方法で、ｎ−パラフィ類の５Ａの孔を有する合
成ゼオライトからなる分子篩への吸着を、吸着装置中の
液床で連続的に行い、その脱着は再生装置中で吸着より
高い温度で操作し、再生された分子篩は再生装置から吸
着装置へ戻して再循環させるエッソ法等がある。これら
５Ａの孔を有する合成ゼオライトからなる分子篩を用い
るいずれの方法によってもｎ−パラフィン類を分離する
ことができる。

【００１３】一般にｎ−パラフィンの分離においては、
理論的にはｎ−パラフィン類のみが分離するはずのとこ
ろ、その方法によっては、ｎ−パラフィン類以外の炭化
水素もｎ−パラフィン類に随伴して分離されその結果と
して得られた残油中のｎ−パラフィン類以外の成分の含
有量が変化することがある。このような点を考慮する
と、工業的にｎ−パラフィン類を分離する方法には尿素
結晶を利用する方法もあるが、本発明の方法としては、
５Ａの孔を有する合成ゼオライトからなる分子篩を用い
る上記の如き方法が適当である。

【００１４】上記の如くしてｎ−パラフィン類を水素添
加処理した灯油留分から分離し、残油を得る。次にこの
残油を精密蒸留する。これは、例えば２本以上の蒸留塔
からなる精密蒸留装置を用い、第１塔の塔頂から軽質炭
化水素を除去し、第２塔またはそれ以後の塔の塔頂から
目的とする留分が製造される。もちろん、蒸留段数など
の分配効率が適当であれば、１本の蒸留塔からなる精密
蒸留装置の塔頂および塔底からそれぞれ軽質炭化水素お
よび重質炭化水素を除去し、塔央より目的とする留分を
製造することもできる。なお、この精密蒸留は、次に述
べる２段の核水素添加の後に行ってもよい。

【００１５】上記精密蒸留装置により、沸点１５０〜２
４０℃の範囲にある炭化水素混合物留分を得る。本発明
の炭化水素混合物留分の沸点は上記範囲にあることが必
要であって、この範囲をはずれると各成分の存在および
その含有量のバランスが崩れ所期の目的を達成し得なく
なるため好ましくない。すなわち、上記沸点範囲よりも
低い範囲では、ベンゼン、トルエン等の有害な芳香族炭
化水素を多く含むこととなり好ましくない。更に２４０
℃を越える沸点温度では、沸点が高くなりすぎて洗浄後
の乾燥性が劣るようになり、残存臭も強くなってくるた
めに好ましくない。上記炭化水素留分は、ベンゼン、ト
ルエンなどは実質的に含まずその他の芳香族炭化水素含
有量が少なく、特に実質的にナフタレン及びビフェニル
を含まない。しかしながら本発明に於いては、より高い
安全性を所望して、例えば実質的に全ての種類の芳香族
炭化水素を含まないようにするためには、前記残油に対
し第二段階の水素添加処理を行い、実質的に芳香族炭化
水素を含まない留分を得ることもできる。

【００１６】ここに上記の残油に対する第二段階で行う
水素添加は、前記第一段階の水素添加と同様に行うこと
ができる。あるいは、より穏やかな条件即ち、より低い
温度またはより低い圧力の条件下で核水素添加してもよ
い。第二段で使われる核水素添加用金属触媒は、第一段
のものと同じものである必要は必ずしもない。即ち、同
一でもまた異なる触媒であってもよい。いずれにして
も、前述の水素添加条件下ら適宜に選択すればよい。次
に第二段の核水素添加の後、前述のように必要に応じて
精密蒸留する。上記精密蒸留装置により、沸点１５０〜
２４０℃の範囲にある（Ａ）成分の炭化水素混合物留分
をえる。

【００１７】本発明の洗浄剤組成物は（Ｃ）成分の界面
活性剤、（Ｄ）成分の酵素及び水を組合わせて使用する
必要があり、更に（Ｂ）成分の特定の溶剤を単独あるい
は組み合わせて配合することにより、効果を増大させる
ことができる。

【００１８】本発明において（Ｂ）成分の溶剤とは炭素
数３〜１８の脂肪族一価アルコール、エーテル、エステ
ル、一般式Ｒ−ＯＣ_n Ｈ_2nＯＨ（Ｒは脂肪族炭化水素を
示し，ｎは１，２，３，４の整数を示す）で表わされる
化合物、非プロトン性極性溶媒からなる群から選ばれる
一種または二種以上の溶剤の混合物をいう。

【００１９】脂肪族アルコールとしては、炭素数３から
１８のアルコールが用いられ、例えば、プロパノール、
ブタノール、イソプロパノール、ｔ−ブチルアルコー
ル、ヘキシルアルコール、オクチルアルコール、ラウリ
ルアルコール、オレイルアルコール、ゲルベアルコール
やオキソ法によって合成されるアルコール等の天然及び
合成で得られる各種アルコールが挙げられる。

【００２０】炭素数３〜１８のエーテルとしてはジメチ
ルエーテル、ジエチルエーテル、ジプロピルエーテル、
ジブチルエーテル、ジペンチルエーテル、メチルエチル
エーテル、メチルプロピルエーテル、メチルペンチルエ
ーテル、エチルプロピルエーテル、エチルブチルエーテ
ル、エチルペンチルエーテル、プロピルブチルエーテ
ル、プロピルペンチルエーテル、ブチルペンチルエーテ
ル、グリセリンメチルエーテル等がある。

【００２１】炭素数３〜１８のエステルとしては酢酸プ
ロピル、酢酸ブチル、酢酸ペンチル、酢酸ヘキシル、プ
ロピオン酸エチル、プロピオン酸プロピル、プロピオン
酸ブチル、プロピオン酸ペンチル、プロピオン酸ヘキシ
ル、酪酸メチル、酪酸エチル、酪酸プロピル、酪酸ブチ
ル、酪酸ペンチル、酪酸ヘキシル等がある。

【００２２】一般式Ｒ−ＯＣ_n Ｈ_2nＯＨ（Ｒは脂肪族炭
化水素を示し，ｎは１，２，３，４の整数を示す）で表
わされる化合物としてはヒドロキシジメチルエーテル、
ヒドロキシメチルエチルエーテル、ヒドロキシメチルプ
ロピルエーテル、ヒドロキシメチルイソプロピルエーテ
ル、ヒドロキシメチルブチルエーテル、ヒドロキシメチ
ルペンチルエーテル、メチルセロソルブ、エチルセロソ
ルブ、プロピルセロソルブ、ブチルセロソルブ、ペンチ
ルセロソルブ、３−ヒドロキシプロピルメチルエーテ
ル、３−ヒドロキシプロピルエチルエーテル、３−ヒド
ロキシジプロピルエーテル、３−ヒドロキシプロピルイ
ソプロピルエーテル、３−ヒドロキシプロピルペンチル
エーテル、４−ヒドロキシブチルメチルエーテル、４−
ヒドロキシブチルエチルエーテル等がある。

【００２３】非プロトン性極性溶媒としてはスルフォラ
ン、炭酸プロピレン等が毒性がなく好ましい。

【００２４】上述の溶剤は混合して使ってもよいが、配
合量は４０重量部を越えると金属では錆が発生する可能
性があるのと酵素に対する影響があるので４０重量部以
下であることが望ましい。

【００２５】（Ｃ）成分の界面活性剤としてはアニオン
性活性剤、カチオン性活性剤、両イオン性活性剤等のい
ずれも使用することができるが洗浄面への影響が少ない
という点と酵素への影響が少ないという点では非イオン
系界面活性剤が最も良い。例えばポリオキシアルアルキ
レンアルキルエーテル、ポリオキアルキレンアルキルフ
ェノールエーテル、ポリオキシアルキレンアリルフェノ
ールエーテル、ポリオキシルアルキレンアルキルアミ
ン、ポリオキシアルキレンなどが好ましくそのなかでも
平均ＨＬＢ４〜１５の非イオン性界面活性剤が特に優れ
た効果を発現する。ここで、ポリオキシアルキレンとし
ては、エチレンオキサイド、プロピレンオキサイドまた
はブチレンオキサイドの重合体が好ましい。２０重量部
を超えると界面活性剤が洗浄表面に残留して、洗浄され
た部品の特性に影響したり衣服に付着した場合人体に有
害であったりする。

【００２６】本発明は（Ｄ）成分の酵素を混合すること
によって、水に不溶性の汚染物質を水の作る逆ミセル中
に溶解させ被洗浄物から除去することができる。本発明
の（Ｄ）成分の酵素として商品名をあげれば、ビオプラ
ーゼＬ、ビオプラーゼクリーンＷ（以上長瀬産業）、オ
リエンターゼ（上田化学）、プロチンＡ（大和化成）、
エスペラーゼ、アルカラーゼ２．２Ｔ、サビナーゼ（以
上ノボノルディスクバイオインダストリー）、サンチー
ムＳＳ（三共）、パパイン（エビオス薬品）、マキサタ
ーゼ、マキサカール（以上ＧＩＳＴ）などのタンパク質
分解酵素（プロテアーゼ）、スクラーゼＮ（三共製
薬）、ウルトフペルチネックス（ノボノルディスクバイ
オインダストリー）、可溶性ペプチナーゼ（田辺製
薬）、ペクチナーゼ（天野製薬）、ペクトレアーゼ（盛
進製薬）、ペクチナーゼ（長瀬産業）ペクチナーゼＳ
Ｓ、３Ｂ（以上ヤクルト本社）などのペクチン分解酵素
（ペクチナーゼ）、ビオクライスターゼ（大和化学）、
ビオテックス（長瀬産業）、アミロリシン（上田化
学）、スピターゼＰＫ＆ＰＧ、ＣＰ3（長瀬産業）、ア
クアザイム、ターマミル、ＢＡＮ（以上ノボノルディス
クバイオインダストリー）等のデンプン分解酵素（アミ
ラーゼ）、リパーゼＭＹ，ＯＦ（以上明糖産業）、リパ
ーゼＳＰ、パラターゼ、リポザイム（以上ノボノルディ
スクバイオインダストリー）リパーゼ（東洋醸造）、リ
パーゼＬＰＣ（オリエンタル酵素）、リパーゼＢ（サッ
ポロビール）などの油脂分解酵素（リパーゼ）、セルク
ラスト、セルザイム（以上ノボノルディスクバイオイン
ダストリー）等の繊維分解酵素（セルラーゼ）が挙げら
れる。

【００２７】また、それらの酵素の生産菌及びそれらの
生産菌と同種の親株を持つ菌から生産される酵素、合成
酵素、あるいは上述の酵素をエチレングリコール変性
物、グリセリン変性物、低分子量ポリビニルアルコール
変性物、アルキル基で変性した酵素化合物、セルロース
変性物等がなど全ての酵素または酵素化合物が使用でき
るものであるが、比較的ｐＨがたかくても活性を失わ
ないこと。低温でも活性なことカルシウムイオンの
影響が少ないこと。などの条件を満たすものが望まし
い。

【００２８】更に本発明の（Ｄ）成分の酵素はポリビニ
ルアルコール系化合物の様なものでコーティングしたい
わゆる酵素剤の形で使用してもよい。

【００２９】酵素化合物の量としては、酵素が０．００
１重量部未満だと効果が出ず、５重量部を越えるとコス
トに見合う効果がでないのでので０．００１〜５重量部
が望ましい。これらの酵素は洗浄剤組成物にあらかじめ
混合しておいてもよいし、使用する直前に混合してもよ
い。

【００３０】水に関しては金属洗浄の場合、水の量が洗
浄剤組成物中５重量％超えると錆が発生してしまうの
で、５重量％以下がよい。なお通常有機溶媒の中に不純
物として含有される水でも酵素は活性化するが、実施す
るには洗浄剤組成物中少なくとも０．１重量％程度は水
を上記両親媒性の有機溶媒や上記界面活性剤を介して混
合することが好ましい。その際に水の量は、界面活性剤
を用いるのであれば、モル比で界面活性剤の１０倍であ
れば飛躍的に洗浄効果を上げることができる。この理由
は分解された汚れが、いわゆる逆ミセル中に溶け易くな
るためと考えられる。

【００３１】本発明洗浄剤組成物には、その効果を損な
わない範囲で、必要に応じてさらにエタノール、グリコ
ールなどの各種アルコール、クエン酸、酒石酸、フタル
酸等の有機酸、防腐剤、防錆剤、消泡剤、酸化防止剤、
蛍光塗料、香料等を配合してもよい。

【００３２】本発明の洗浄剤組成物は、精密部品及びそ
の組み立て加工工程にに使用される治工具類の洗浄、あ
るいは衣料、衣服等の嫌水性繊維製品の洗浄に優れた効
果を有する。本発明において精密部品とは例えば電子部
品、電気部品、精密機械部品、樹脂加工部品、光学部品
等をいう。ここで、電子部品としては例えば電算機及び
その周辺機器、家電製品、通信機器、ＯＡ機器、その他
電子応用機器などに用いられるプリント配電基板；ＩＣ
リードフレーム、抵抗器、コンデンサー、リレー等接点
部材に用いられるフープ材；ＯＡ機器、時計、電算機
器、玩具、家電機器等に用いられる液晶表示器；映像、
音声記録／再生部品、その関連部品などに用いられる磁
気記録部品；シリコンやセラミックのウエハなどの半導
体部品／材料；水素振動子のような電歪用部品；ＣＤ，
ＰＤ、複写機器、光記録機器などの光変換部品などが挙
げられる。電気部品としては、例えば、ブラシ、ロータ
ー、ステータ、ハウジング等の電動機部品、販売機や各
種機器に用いられる貨幣検査用部品などが挙げられる。
精密機械部品としては、例えば精密駆動機器、ビデオレ
コーダー等に用いられるベアリング；超硬化製チップな
どの加工品が挙げられる。樹脂加工部品としては、例え
ばカメラ、自動車等に用いられる精密樹脂加工部品等が
挙げられる。さらに、光学部品としてはカメラ、眼鏡、
光学機器に用いられるレンズが挙げられ、またその他の
部品として眼鏡フレーム、時計ケース、時計ベルト等が
ある。

【００３３】本発明において、組み立て加工工程に使用
される治工具類とは、上述の各部品例で示したような精
密部品を製造、成形、加工、組み立て、仕上げなどの各
種工程において取り扱う治具、工具の他、これらの精密
部品を取り扱う各種機器、その部品などをいう。本発明
の洗浄組成物は、これらの例に限られるものではなく、
組み立て加工工程において各種の加工油やフラックス等
の後工程の妨害物質、または製品の特性を低下させる各
種の油性汚染物質を付着している一定形状の固体表面を
持つ精密部品類および治工具類であれば本発明の洗浄剤
組成物が適用できる。さらに、これらの汚染物質が例え
ば油脂、機械油、切削油、グリース、ロジン系フラック
ス等の主として有機油分の汚れである場合、本願発明の
洗浄剤組成物は特に有効でありこれに金属粉、水分が混
入した汚れであっても充分に洗浄除去することができ
る。本発明において嫌水性繊維製品とは絹、麻、レーヨ
ン、ウール、アセテート等を材料とした製品一般を示
す。

【００３４】本発明の洗浄剤組成物は、浸漬法、超音波
洗浄法、振動法、スプレー法、蒸気洗浄法、手拭き法、
水置換乾燥法等の各種の洗浄方法において使用でき、か
つ好ましい結果を得ることができる。さらに界面活性剤
等を除く目的で（Ａ）成分の溶媒ですすいでもよい。本
発明の洗浄剤を、フラックスの付着したプリント基板の
洗浄工程に用いる場合、例えば、先ず本発明の洗浄剤組
成物を入れた超音波洗浄層で超音波洗浄し、ついで本発
明の洗浄剤組成物で満たした液浴槽に浸漬洗浄し、最後
に本発明の洗浄剤組成物によりシャワー洗浄、蒸気洗浄
するなどの方法を連続的に行うことにより効果的に行う
ことができる。また、精密機械の部品と衣服の洗浄は本
質的に違うものであるが本発明においては洗浄の方法、
界面活性剤の量や種類、酵素の種類などを変えることに
より充分に対応できる。

【００３５】

【実施例】以下実施例を挙げて詳細に説明するが、本発
明は当然のことながらこれらに限定されるものではな
い。

【００３６】・溶剤１の製造例 原油の蒸留によって得られた沸点範囲１５０〜３００℃
の灯油留分（パラフィン類６０重量％、ナフテン類２０
重量％、芳香族２０重量％）を２８０℃、９０Ｋｇ／ｃ
ｍ² の条件下、触媒として芳香族炭化水素の核水素化用
であるＮｉ−Ｗ触媒を用いて、核水素添加し、得られた
生成物をモレックス法により、合成ゼオライトからなる
５オングストロームの孔を有する分子篩を充填した分離
塔に供給してｎ−パラフィン類を分離した。得られたｎ
−パラフィン類が減少した残油留分を次に２塔の精密蒸
留装置を用いて精密蒸留する事により沸点１７７〜２０
０℃の炭化水素留分を得た。この溶剤の組成および性状
を表１に示す。

【００３７】

【表１】

【００３８】・溶剤２の製造例 上記溶剤１の製造例の工程中に得られたｎ−パラフィン
類が減少した残油留分を２００℃、５０Ｋｇ／ｃｍ² の
条件下で、ニッケル系触媒を用いて第２段階の水素添加
処理を施し得られた生成物を２塔の精密蒸留装置を用い
て精密蒸留して、沸点１７７〜２００℃の炭化水素留分
を得た。この溶剤の組成および性状を表１に示す。

【００３９】・溶剤３の製造例 原油の蒸留によって得られた沸点範囲１５０〜３００℃
の灯油留分（パラフィン類６０重量％、ナフテン類２０
重量％、芳香族２０重量％）を２８０℃、９０Ｋｇ／ｃ
ｍ² の条件下、触媒として芳香族炭化水素の核水素化用
であるＮｉ−Ｗ触媒を用いて、核水素添加し、得られた
生成物をモレックス法により、合成ゼオライトからなる
５オングストロームの孔を有する分子篩を充填した分離
塔に供給してｎ−パラフィン類を分離した。得られたｎ
−パラフィン類が減少した残油留分を次に２塔の精密蒸
留装置を用いて精密蒸留する事により沸点２１０〜２４
０℃の炭化水素留分を得た。この溶剤の組成および性状
を表１に示す。

【００４０】・実施例１〜１０、比較例１〜５ ３０mm×７０mmのガラス板に６００mg/m²の割合で鉱石
系のラッピング廃油を塗布する。このガラス板を３７℃
に保った洗浄液に浸漬し、２８KHzの超音波で２分間洗
浄した後目視によりその洗浄性を評価した。ナフテン系
溶液は溶剤３を用いた。使用した酵素はプロテアーゼ
（ビオプラーゼＬ：長瀬産業）およびリパーゼ（リポザ
イム：ノボノルディスクバイオインダストリー）をもち
いた。

【００４１】・実施例１１〜１３ 上記と同様に行いナフテン系溶液は溶剤２を用いた。

【００４２】評価は以下のように示す。 ◎：きわめて表面が清浄 ○：ほとんど残油なし △：僅かに残油あり

【００４３】・実施例１４ 溶剤１の留分１００重量部に市販の非イオン系ドライソ
ープを３重量部加え２−メチル１−ブタノール３０重量
部加え水の含量が２重量％となるように調整した。（比
較例５）更にその溶液にプロテアーゼ（ビオプラーゼ
Ｌ：長瀬産業）０．１重量部とセルラーゼ（セルザイ
ム：ノボノルディスクバイオインダストリー）０．０１
重量部加えて洗浄液を調整し実施例１４とした。試料は
白色のウール、アクリル、ポリエステルにゼラチン水溶
液に浸漬した後，１００℃で乾燥させたものを用いた。
それらの布を洗浄温度３７℃、洗浄時間３０分の条件下
通常の石油系溶剤用ドライクリーニング用洗浄設備を用
いて洗浄した。汚染布の洗浄率は分光光度計で測定した
紫外部反射率から算出した。得られた結果を表２及び表
３に示す

【００４４】

【表２】

【００４５】

【表３】

【００４５】

【発明の効果】以上のように、本発明の洗浄剤組成物
は、優れた洗浄性を有するとともに安全性がよく環境汚
染の心配がないので、精密部品またはその組み立て加工
工程に用いられる治工具用の洗浄剤、または衣類用の洗
浄剤として有利に使用できるものである。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁵ 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ１１Ｄ 7:24 7:26 7:42）

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 以下の（Ａ）〜（Ｄ）の成分を含み更に
   少量の水を含む洗浄剤組成物。 （Ａ）沸点１５０から３００℃の範囲にある灯油留分
   を、芳香族核の核水素添加用金属触媒により圧力１０〜
   １００Ｋｇ／ｃｍ² 、温度１００〜３００℃の条件で、
   核水素添加し、ついで合成ゼオライトからなる分子篩を
   用いて該当油留分中のｎ−パラフィン類の少なくとも一
   部を分離・除去することにより得られる残油を、精密蒸
   留装置により分溜してなる実質的にナフタリン及びビフ
   ェニルを含まない沸点１５０〜２４０℃の範囲にあるナ
   フテン成分を主とする炭化水素留分１００重量部、 （Ｂ）炭素数３〜１８の脂肪族一価アルコール、エーテ
   ル、エステル、一般式Ｒ−ＯＣ_n Ｈ_2nＯＨ（Ｒは脂肪族
   炭化水素を示し，ｎは１，２，３，４の整数を示す）で
   表わされるの化合物、非プロトン性極性溶媒からなる群
   から選ばれる一種または二種以上の溶剤の混合物０〜４
   ０重量部、 （Ｃ）界面活性剤０．１〜２０重量部、 （Ｄ）酵素０．００１〜５重量部。
2. 【請求項２】 界面活性剤がＨＬＢ４〜１５の非イオン
   性界面活性剤であることを特徴とする請求項１記載の洗
   浄剤組成物。