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JPH0580503A - 感光性転写材料及び画像形成方法 - Google Patents

感光性転写材料及び画像形成方法

Info

Publication number
JPH0580503A
JPH0580503A JP4064870A JP6487092A JPH0580503A JP H0580503 A JPH0580503 A JP H0580503A JP 4064870 A JP4064870 A JP 4064870A JP 6487092 A JP6487092 A JP 6487092A JP H0580503 A JPH0580503 A JP H0580503A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin layer
layer
transfer material
photosensitive
thermoplastic resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP4064870A
Other languages
English (en)
Inventor
Morimasa Sato
守正 佐藤
Koji Inoue
浩治 井上
Masayuki Iwasaki
政幸 岩崎
Fumiaki Shinozaki
文明 篠崎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP4064870A priority Critical patent/JPH0580503A/ja
Priority to US07/903,158 priority patent/US5294516A/en
Priority to DE4220829A priority patent/DE4220829A1/de
Publication of JPH0580503A publication Critical patent/JPH0580503A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004Photosensitive materials
    • G03F7/09Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers
    • G03F7/092Photosensitive materials characterised by structural details, e.g. supports, auxiliary layers characterised by backside coating or layers, by lubricating-slip layers or means, by oxygen barrier layers or by stripping-release layers or means

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Architecture (AREA)
  • Structural Engineering (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Optical Filters (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 感光性転写材料の感光性樹脂層を仮支持体か
ら永久支持体へ転写する際に、微小なゴミ・気泡・永久
支持体の段差等に起因する転写不良が無いように転写可
能で、かつ仮支持体と申し分のない離型性を示し、同時
に空気中の露光を可能ならしめる層構成を有する感光性
転写材料、及びその材料を用いた転写法による画像形成
方法を提供する。 【構成】 感光性転写材料が、仮支持体上に、アルカリ
可溶な熱可塑性樹脂層、中間層、感光性樹脂層をこの順
に設けて、該熱可塑性樹脂層と該仮支持体の間の接着力
が最も小さい構成を有し、この感光性転写材料を用い、
感光性樹脂層と永久支持体を少なくとも加熱しながら、
必要に応じて加圧しながら密着させた後、該仮支持体と
熱可塑性樹脂層の界面で剥離し、該感光性樹脂層に該熱
可塑性樹脂層と該中間層を介してパターン露光し、現像
して該永久支持体上に画像を形成する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、凹凸のある基体に乾式
転写するのに適当な感光性転写材料、及びそれを用いた
画像形成方法に関する。本発明に成る感光性転写材料及
び画像形成方法は、液晶表示体等に使用するカラーフイ
ルターの作成や、プリント配線基板の作成に好適に用い
られる。
【0002】
【従来の技術】基体に感光性樹脂層を転写するための画
像形成材料は、例えば特公昭56−40824から公知
である。これはプリント配線、凹版凸版印刷版、ネーム
プレート、多色試し刷り見本、オフセット印刷版及びス
クリーン印刷ステンシル等の製造に用いられる。転写材
料は支持体、分離層、光重合性層から成り、基体と光重
合性層を張合わせ、その後仮支持体のみを引き剥がし、
分離層を通して露光、現像し基体の上に画像を形成す
る。この場合、分離層は酸素遮断の役割を果し、空気中
の露光に対して有利に働き、またその厚みも0.5μm
から5μm程度と非常に薄いので解像力の面でも問題は
ない。しかし、転写される基体上にある程度の凹凸が存
在する場合には、その上に非常に薄い光重合性層を転写
する際に光重合性層と基体の間に気泡等がとじ込められ
てしまい、転写不良を起こす。
【0003】特開平2−213849には、支持体と感
光性樹脂層の間にポリビニルアルコール誘導体等の中間
層を設けた転写材料が開示されているが、それらは仮支
持体との剥離性、溶解特性の改良を目的としており、下
地に凹凸がある場合の転写性については何等考慮されて
いない。
【0004】特開昭63−309946には、永久支持
体上の微少な不規則性または、永久支持体上もしくは転
写層上または両者の上にある微少なゴミ、ホコリ等の粒
子により永久支持体に対する転写層の十分な接着が妨げ
られるので、転写不良を生じること、この好ましくない
接着不良の防止のため、圧縮性の一時支持体を使用する
ことが記載されている。この方法は確かに有効ではある
が、室温で非粘着性の感光性樹脂層をその層の厚みと同
様な厚みの凹凸を持った永久支持体上に気泡を生じる事
なく転写するにはまだまだ不十分であった。
【0005】特願平3−120228には、仮支持体、
特にゼラチン下塗りしたプラスチツクフイルムの上に、
熱可塑性樹脂層、分離層、感光性樹脂層を、この順設け
た感光性転写材料を用いて、感光性樹脂層を支持体に密
着させた後、仮支持体と熱可塑性樹脂層を同時に剥離除
去して感光性樹脂樹脂層を支持体に転写する方法が記載
されているが、この方法では、熱可塑性樹脂層と分離層
の剥離性を制御することが必ずしも容易ではなく、剥離
作業の自動化等の面から、十分に満足できる方法とは言
い難かつた。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】本発明の第一の目的
は、感光性転写材料の感光性樹脂層を仮支持体から永久
支持体へ転写する際に、微小なゴミ・気泡・永久支持体
の段差等に起因する転写不良が無いように転写可能で、
かつ仮支持体と申し分のない離型性を示し、同時に空気
中の露光を可能ならしめる層構成を有する感光性転写材
料、及びその材料を用いた転写法による画像形成方法を
提供することである。本発明の第二の目的は、基板の汚
れの無い画像を与える感光性転写材料、及びその材料を
用いた画像形成方法を提供することである。本発明の第
三の目的は、仮支持体の剥離時の帯電によるシヨツクや
ゴミの付着を防止することのできる感光性転写材料、及
びそれを用いた画像形成方法を提供することである。本
発明の第四の目的は、画素から成る、平坦性の優れた画
像を作成する方法を提供することである。本発明の第五
の目的は、画素から成る画像の上に、平坦性の優れた保
護層(OC層)を設ける方法を提供することである。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の第一、第二の目
的は、仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性樹脂層、
中間層、感光性樹脂層をこの順に設け、該熱可塑性樹脂
層と該仮支持体の間の接着力が最も小さいことを特徴と
する感光性転写材料、及びこの感光性転写材料を用い、
感光性樹脂層と永久支持体を少なくとも加熱しながら、
必要に応じて加圧しながら密着させた後、該仮支持体と
熱可塑性樹脂層の界面で剥離し、該感光性樹脂層に該熱
可塑性樹脂層と該中間層を介してパターン露光し、現像
して該永久支持体上に画像を形成することを特徴とする
画像形成方法により達成された。本発明の第三の目的
は、上記感光性転写材料において、該仮支持体の表面電
気抵抗が1013Ω以下であることを特徴とする感光性転
写材料により達成された。本発明の第四の目的は、上記
の感光性転写材料を平坦性の優れた基板上に転写して露
光・現像することにより画素から成る画像を形成し、こ
れを最終支持体上に転写する画像形成方法により達成さ
れた。本発明の第五の目的は、上記感光性転写材料を、
平坦性の優れた基板上に設けた保護層上に転写し、露光
・現像することにより保護層上に画素から成る画像を形
成し、これを保護層ごと最終支持体上に転写する画像形
成方法により達成された。以下、本発明について詳細に
説明する。
【0008】本発明の感光性転写材料の仮支持体として
は、熱可塑性樹脂層と申分の無い剥離性を有し、化学的
および熱的に安定であって、また可撓性の物質で構成さ
れるべきであり、具体的にはテフロン、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリ
プロピレン等薄いシートもしくはこれらの積層物が好ま
しい。良好な剥離性を得るためには、グロー放電等の表
面処理はせず、またゼラチン等の下塗も設けない。仮支
持体の厚みは5μm〜300μmが適当であり、好まし
くは20μm〜150μmである。
【0009】感光性転写材料の転写条件によつては、転
写中に熱可塑性樹脂が周囲にはみ出して永久支持体を汚
染することがある。この現象を防止するためには、これ
らの熱可塑性樹脂の内、アルカリ水溶液に溶解するもの
が好ましい。アルカリ水溶液に溶解するものであれば、
後の処理により容易に除去することが可能だからであ
る。アルカリ水溶液は本発明の感光性樹脂のアルカリ現
像液と同じものでもよいし、異なっていてもよい。ま
た、本発明のアルカリ水溶液とはアルカリ性物質の希薄
水溶液であるが、さらに水と混和性の有機溶剤を少量添
加したものも含まれる。適当なアルカリ性物質はアルカ
リ金属水酸化物類(例えば水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム)、アルカリ金属炭酸塩類(例えば炭酸ナトリウ
ム、炭酸カリウム)、アルカリ金属重炭酸塩類(炭酸水
素ナトリウム、炭酸水素カリウム)、アルカリ金属ケイ
酸塩類(ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム)アルカリ
金属メタケイ酸塩類(メタケイ酸ナトリウム、メタケイ
酸カリウム)、トリエタノールアミン、ジエタノールア
ミン、モノエタノールアミン、モルホリン、テトラアル
キルアンモンニウムヒドロキシド類(例えばテトラメチ
ルアンモニウムヒドロキシド)または燐酸三ナトリウム
である。アルカリ性物質の濃度は、0.01重量%〜3
0重量%であり、pHは8〜14が好ましい。適当な水
と混和性の有機溶剤は、メタノール、エタノール、2−
プロパノール、1−プロパノール、ブタノール、ジアセ
トンアルコール、エチレングリコールモノメチルエーテ
ル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレン
グリコールモノn−ブチルエーテル、ベンジルアルコー
ル、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサノ
ン、ε−カプロラクトン、γ−ブチロラクトン、ジメチ
ルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ヘキサメチル
ホスホルアミド、乳酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロ
ラクタム、N−メチルピロリドンである。水と混和性の
有機溶剤の濃度は0.1重量%〜30重量%である。ま
たさらに公知の界面活性剤を添加することができる。界
面活性剤の濃度は0.01重量%〜10重量%が好まし
い。
【0010】熱可塑性樹脂層を構成する樹脂は、実質的
な軟化点が80℃以下であることが好ましい。軟化点が
80℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性樹脂としては、
エチレンとアクリル酸エステル共重合体のケン化物、ス
チレンと(メタ)アクリル酸エステル共重合体のケン化
物、ビニルトルエンと(メタ)アクリル酸エステル共重
合体のケン化物、ポリ(メタ)アクリル酸エステル、
(メタ)アクリル酸ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)ア
クリル酸エステル共重合体などのケン化物、から少なく
とも1つ選ばれるのが好ましいが、さらに「プラスチッ
ク性能便覧」(日本プラスチック工業連盟、全日本プラ
スチック成形工業連合会編著、工業調査会発行、196
8年10月25日発行)による軟化点が約80℃以下の
有機高分子のうちアルカリ水溶液に可溶なものを使用す
ることができる。また軟化点が80℃以上の有機高分子
物質においてもその有機高分子物質中に該高分子物質と
相溶性のある各種の可塑剤を添加して実質的な軟化点を
80℃以下に下げることも可能である。またこれらの有
機高分子物質中に仮支持体との接着力を調節するために
実質的な軟化点が80℃を越えない範囲で各種のポリマ
ーや過冷却物質、密着改良剤あるいは界面活性剤、離型
剤、等を加えることが可能である。好ましい可塑剤の具
体例としては、ポリプロピレングリコール、ポリエチレ
ングリコール、ジオクチルフタレート、ジヘプチルフタ
レート、ジブチルフタレート、トリクレジルフォスフェ
ート、クレジルジフェニルフォスフェートビフェニルジ
フェニルフォスフェートを挙げることができる。熱可塑
性樹脂層の厚みは6μm以上が好ましい。この理由とし
ては熱可塑性樹脂層の厚みが5μm以下であると1μm
以上の下地の凹凸を完全に吸収することが不可能である
ためである。また、上限については、現像性、製造適性
から約100μm以下、好ましくは約50μm以下であ
る。
【0011】中間層としては水またはアルカリ水溶液に
分散または溶解し、低い酸素透過性を示すものであれば
良く、公知のものが使用できる。例えば、特開昭46−
2121号や特公昭56−40824号の各明細書に記
載のポリビニルエーテル/無水マレイン酸重合体、カル
ボキシアルキルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロー
スエーテル類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポ
リビニルアルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポ
リアクリルアミド類、各種の水溶性ポリアミド、ポリア
クリル酸の水溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重
合体、各種の澱粉およびその類似物からなる群の水溶性
塩、スチレン/マレイン酸の共重合体、およびマレイネ
ート樹脂さらにこれらの2種以上の組み合わせが挙げら
れる。特に好ましいのは、ポリビニルアルコールとポリ
ビニルピロリドンの組み合わせである。ポリビニルアル
コールは鹸化率が80%以上であるものが好ましく、ポ
リビニルピロリドンの含有量は中間層固形分の1重量%
〜75重量%が好ましく、より好ましくは1重量%〜6
0重量%、更に好ましくは10重量%〜50重量%であ
る。1重量%未満では、感光性樹脂層との十分な密着が
得られず、75重量%を越えると、酸素遮断能が低下す
る。中間層の厚みは非常に薄く、約0.1〜5μm、特
に0.5〜2μmである。約0.1μm未満だと酸素の
透過性が高すぎ、約5μmを越えると、現像時または中
間層除去時に時間がかかりすぎる。
【0012】感光性樹脂層は少なくとも150℃以下の
温度で軟化もしくは粘着性になることが好ましく、熱可
塑性であることが好ましい。公知の光重合性組成物を用
いた層の大部分はこの性質を有するが、公知層の一部
は、熱可塑性結合剤の添加あるいは相溶性の可塑剤の添
加によって更に改質することができる。本発明の感光性
樹脂層の素材としては公知の、例えば特願平2−822
62に記載されている感光性樹脂がすべて使用できる。
具体的には、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダーかなる感光
性樹脂層、光重合性組成物、アジド化合物とバインダー
とからなる感光性樹脂組成物、桂皮酸型感光性樹脂組成
物等が挙げられる。その中でも特に好ましいのは光重合
性樹脂である。その光重合性樹脂は光重合開始剤、光重
合性モノマーおよびバインダーを基本構成要素として含
む。また、感光性樹脂としてはアルカリ水溶液により現
像可能なものと、有機溶剤により現像可能なものが知ら
れているが、公害防止、労働安全性の確保の観点からア
ルカリ水溶液現像可能なものが好ましい。
【0013】本発明の感光性樹脂層のアルカリ現像液と
しては、アルカリ性物質の希薄水溶液であるが、さらに
水と混和性の有機溶剤を少量添加したものも含まれる。
適当なアルカリ性物質はアルカリ金属水酸化物類(例え
ば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム)、アルカリ金属
炭酸塩類(例えば炭酸ナトリウム、炭酸カリウム)、ア
ルカリ金属重炭酸塩類(炭酸水素ナトリウム、炭酸水素
カリウム)、アルカリ金属ケイ酸塩類(ケイ酸ナトリウ
ム、ケイ酸カリウム)アルカリ金属メタケイ酸塩類(メ
タケイ酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム)、トリエタ
ノールアミン、ジエタノールアミン、モノエタノールア
ミン、モルホリン、テトラアルキルアンモンニウムヒド
ロキシド類(例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキ
シド)または燐酸三ナトリウムである。アルカリ性物質
の濃度は、0.01重量%〜30重量%であり、pHは
8〜14が好ましい。適当な水と混和性の有機溶剤は、
メタノール、エタノール、2−プロパノール、1−プロ
パノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エチレ
ングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコール
モノエチルエーテル、エチレングリコールモノn−ブチ
ルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メチルエ
チルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラクトン、
γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジメチル
アセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳酸エチ
ル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、N−メチルピロ
リドンである。水と混和性の有機溶剤の濃度は0.1重
量%〜30重量%である。またさらに公知の界面活性剤
を添加することができる。界面活性剤の濃度は0.01
重量%〜10重量%が好ましい。現像液は、浴液として
も、あるいは噴霧液としても用いることができる。光重
合性遮光材料層の未硬化部分を除去するには現像液中で
回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方法を組
み合わせることができる。現像液の液温度は通常室温付
近から40℃が好ましい。現像処理の後に水洗工程を入
れることも可能でる。
【0014】感光性樹脂層には更に、染料、顔料を添加
することができる。すべての顔料は感光性樹脂層中に均
一に分散されており、好ましくは5μm以下の粒径、特
に好ましくは1μm以下の粒径を有していなければなら
ない。カラーフィルターの作成に当たっては、顔料とし
ては0.5μm以下の粒径のものが好ましい。好ましい
染料ないし顔料の例は次の通りである。ビクトリア・ピ
ュアーブルーBO(C.I.42595)、オーラミン
(C.I.41000)、ファット・ブラックHB
(C.I.26150)、モノライト・エローGT
(C.I.ピグメントエロー12)、パーマネント・エ
ローGR(C.I.ピグメント・エロー17)、パーマ
ネント・エローHR(C.I.ピグメント・エロー8
3)、パーマネント・カーミンFBB(C.I.ピグメ
ント・レッド146)、ホスターバームレッドESB
(C.I.ピグメント・バイオレット19)、パーマネ
ント・ルビーFBH(C.I.ピグメント・レッド1
1)ファステル・ピンクBスプラ(C.I.ピグメント
・レッド81)モナストラル・ファースト・ブルー
(C.I.ピグメント・ブルー15)、モノライト・フ
ァースト・ブラックB(C.I.ピグメント・ブラック
1)及びカーボン。さらにカラーフィルターを形成する
のに適当な顔料としては、C.I.ピグメント・レッド
97、C.I.ピグメント・レッド122、C.I.ピ
グメント・レッド149、C.I.ピグメント・レッド
168、C.I.ピグメント・レッド177、C.I.
ピグメント・レッド180、C.I.ピグメント・レッ
ド192、C.I.ピグメント・レッド215、C.
I.ピグメント・グリーン7、C.I.ピグメント・グ
リーン36、C.I.ピグメント・ブルー15:1、
C.I.ピグメント・ブルー15:4、C.I.ピグメ
ント・ブルー15:6、C.I.ピグメント・ブルー2
2、C.I.ピグメント・ブルー60、C.I.ピグメ
ント・ブルー64を挙げることができる。
【0015】また感光性樹脂層の上には、貯蔵の際の汚
染や損傷から保護するために薄い被覆シートを設けるこ
とが好ましい。被覆シートは仮支持体と同じかまたは類
似の材料からなっても良いが、感光性樹脂層から容易に
分離されねばならない。被覆シート材料としては例えば
シリコーン紙、ポリオレフィンもしくはポリテトラフル
オルエチレンシートが適当である。被覆シートの厚みは
約5〜100μmであるのが好ましい。特に好ましくは
10〜30μm厚のポリエチレンまたはポリプロピレン
フィルムである。
【0016】本発明の感光性転写材料は、仮支持体上に
熱可塑性樹脂層溶液を施し、乾燥することにより熱可塑
性樹脂層を設け、その後熱可塑性樹脂層上に熱可塑性樹
脂層を溶解しない溶剤からなる中間層材料の溶液を塗布
し、乾燥し、その後感光性樹脂層を中間層を溶解しない
溶剤で塗布、乾燥して設ける。または別の被覆シート上
に感光性樹脂層を設けて、前記の仮支持体上に熱可塑性
樹脂層及び中間層を有するシートの両方のシートを中間
層と感光性樹脂層が接するように相互に貼り合わせるこ
とまたは、別の被覆シートとして、熱可塑性樹脂層を有
する仮支持体を用意し、この熱可塑性樹脂層を、被覆シ
ート上の感光性樹脂層及び中間層からなるシートの中間
層とを貼り合わせることにより有利に製造される。
【0017】ここで、永久支持体上に感光性転写材料の
感光性樹脂層を張り合わせた後で仮支持体を剥そうとす
ると、フイルムと人体が帯電して不快な電撃シヨツクを
受けることがあり、更に、この帯電のために周囲からゴ
ミを吸い寄せて引き続く露光工程で未露光部が生じ、ピ
ンホールの原因となることがある。本発明の感光性転写
材料においては、帯電を防止するため、仮支持体の少な
くとも一方の面に導電性層を設けてその表面電気抵抗を
1013Ω以下としたか、あるいは仮支持体自体に導電性
を付与してその表面電気抵抗を1013Ω以下としたもの
を用いることが好ましい。仮支持体に導電性を付与する
には、仮支持体中に導電性物質を含有させれば良い。例
えば、金属酸化物の微粒子や帯電防止剤を練り込んでお
く方法が好適である。金属酸化物としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウム、酸化インジウ
ム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化バリウム、酸化
モリブデンの中から選ばれた少なくとも1種の結晶性金
属酸化物、及び/またはその複合酸化物の微粒子であ
る。帯電防止剤としては例えば、アニオン界面活性剤と
してアルキル燐酸塩系(例えば、花押石鹸(株)のエレ
クトロストリッパーA、第一工業製薬(株)のエレノン
No19等が、両性界面活性剤としてベタイン系(例え
ば、第一工業製薬(株)のアモーゲンK、等)が、非イ
オン界面活性剤としてポリオキシエチレン脂肪酸エステ
ル系(例えば、日本油脂(株)のニツサンノニオンL、
等)、ポリオキシエチレンアルキルエーテル系(例え
ば、花王石鹸(株)のエマルゲン106、120、14
7、420、220、905、910、日本油脂(株)
のニツサンノニオンE、等)が有用である。その他、非
イオン界面活性剤としてポリオキシエチレンアルキルフ
ェノールエーテル系、多価アルコール脂肪酸エステル
系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸エステル系、
ポリオキシエチレンアルキルアミン系等のものが用いら
れる。支持体上に導電性層を設ける場合には、導電性層
としては公知のものの中から適宜選択して用いる事がで
きるが、特に導電性物質として、ZnO、TiO2 、S
nO2、Al2 O3 、In2O3 、SiO2 、MgO、B
aO、MoO3 の中から選ばれた少なくとも1種の結晶
性金属酸化物、及び/またはその複合酸化物の微粒子を
含有させる方法が、湿度に影響されない導電性を示すの
で好ましい。結晶性金属酸化物またはその複合酸化物の
微粒子は、その体積抵抗が107 Ω・cm以下である事
が好ましく、特に105Ω・cm以下である事が好まし
い。また、その粒子サイズは、0.01〜0.7μm、
特に0.02〜0.5μmである事が好ましい。
【0018】導電性の結晶性金属酸化物及びその複合酸
化物の微粒子の製造方法については、特開昭56−14
3430号に詳細に記載されているが、それらについて
略述すれば、第1に金属酸化物微粒子を焼成により作製
し、導電性を向上させる異種原子の存在下で熱処理する
方法、第2に焼成により金属酸化物微粒子を製造すると
きに導電性を向上させる為の異種原子を共存させる方
法、第3に焼成により金属微粒子を製造する際に雰囲気
中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を導入する方法等であ
る。異種原子を含む例としてはZnOに対してAl、I
n等、TiO2に対してはNb、Ta等、SnO2に対し
ては、Sb、Nb、ハロゲン元素等が挙げられる。異種
原子の添加量は0.01〜30mol%の範囲が好まし
く、0.1〜10mol%が特に好ましい。導電性粒子
の使用量は0.05g/m2〜20g/m2がよく、0.
1g/m2〜10g/m2が特に好ましい。
【0019】本発明に係る導電性層には、バインダーと
して、ゼラチン、セルロースナイトレート、セルロース
トリアセテート、セルロースジアセテート、セルロース
アセテートブチレート、セルロースアセテートプロピオ
ネート等のようなセルロースエステル、塩化ビニリデ
ン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢酸ビ
ニル、アルキル(アルキル基C1〜C4)アクリレート、
ビニルピロリドン等を含むホモポリマーまたは、共重合
体、可溶性ポリエステル、ポリカーボネート、可溶性ポ
リアミド等を使用することができる。これらのバインダ
ー中への導電性粒子の分散に際しては、チタン系分散剤
或いはシラン系分散剤のような分散液を添加してもよ
い。またバインダー架橋剤等を加えても何らさしつかえ
はない。チタン系分散剤としては、米国特許4,06
9,192号、同4,080,353号等に記載されて
いるチタネート系カップリング剤、及びプレンアクト
(商品名:味の素(株)製)等を挙げる事ができる。シ
ラン系分散剤としては、例えばビニルトリクロルシラ
ン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリス(β−メ
トキシエトキシ)シラン、γ−グリシドキシプロピルト
リメトキシシラン、γ−メタクリロキシプロピルトリメ
トキシシラン等が知られており「シランカップリング
剤」として信越化学(株)等から市販されている。バイ
ンダー架橋剤としては、例えば、エポキシ系架橋剤、イ
ソシアネート系架橋剤、アジリジン系架橋剤、エポキシ
系架橋剤等を挙げる事ができる。本発明における好まし
い導電性層は、導電性微粒子をバインダーに分散させ支
持体上に設けることにより、または支持体に下引処理を
ほどこし、その上に伝導性微粒子を被着させることによ
り設けることができる。
【0020】本発明において導電性層が支持体の感光性
樹脂層とは反対側の面に設けられる場合には、耐傷性を
良好なものとするために、導電性層の上に更に疎水性重
合体層を設ける事が好ましい。この場合、疎水性重合体
層は、有機溶剤に溶解した溶液または水性ラテックスの
状態で塗布すればよく、塗布量は乾燥重量にして0.0
5g/m2〜1g/m2程度がよい。疎水性重合体として
は、セルロースエステル(例えばニトロセルロース、セ
ルロースアセテート)、塩化ビニル、塩化ビニリデン、
ビニルアクリレート等を含むビニル系ポリマーや有機溶
剤可溶性ポリアミド、ポリエステル等のポリマーを挙げ
る事ができる。この層には、すべり性を付与するための
すべり剤、例えば特開昭55−79435号に記載があ
るような有機カルボン酸アミド等を使用しても差しつか
えないし、またマット剤等を加えることも何ら支障はな
い。このような疎水性重合体層を設けても本発明の導電
性層の効果は実質的に影響を受けない。下塗層を設ける
場合には、特開昭51−135526号、米国特許3,
143,421号、同3,586,508号、同2,6
98,235号、同3,567,452号等に記載され
ているような塩化ビニリデン系共重合体、特開昭51−
114120号、米国特許3,615,556号等に記
載されているようなブタジエン等のジオレフイン系共重
合体、特開昭51−58469号等に記載されているよ
うなグリシジルアクリレートまたはグリシジルメタアク
リレート含有共重合体、特開昭48−24923号等に
記載されているようなポリアミド・エピクロルヒドリン
樹脂、特開昭50−39536号に記載されているよう
な無水マレイン酸含有共重合体等を用いる事ができる。
本発明においては、また、特開昭56−82504号、
特開昭56−143443号、特開昭57−10493
1号、特開昭57−118242号、特開昭58−62
647号、特開昭60−258541号等に示されてい
る導電性層も適宜用いる事ができる。
【0021】導電性層を、仮支持体フィルムと同一また
は異なったプラスチック原料に含有せしめ、仮支持体用
フィルムを押し出す際に同時に共押し出しした場合に
は、接着性、耐傷性に優れた導電性層を容易に得る事が
できるので、この場合には前記の疎水性重合体層や下塗
層を設ける必要がなく、本発明における導電性層の特に
好ましい実施態様である。導電性層を塗布する場合に
は、ローラーコート、エアナイフコート、グラビアコー
ト、バーコート、カーテンコート等、通常の方法が採用
できる。本発明の画像形成材料を使用して帯電による静
電ショックを防止するためには、導電性層または導電性
を付与した支持体の表面電気抵抗値を1013Ω以下とす
る事が必要であり、特に1012Ω以下とする事が好まし
い。
【0022】また、滑り性を良化するため、または該感
光性樹脂層の仮支持体裏面との不都合な接着を防止する
ため、仮支持体の裏面に公知の微粒子含有滑り性組成物
や、シリコーン化合物を含有する離型剤組成物、等を塗
布することも有用である。
【0023】支持体の、熱可塑性樹脂層を設けない側の
面に導電性層を設ける場合には、該熱可塑性樹脂層と支
持体の接着力を上げるため、支持体に、例えばグロー放
電処理、コロナ処理、紫外線照射処理などの表面処理、
フェノール性物質、ポリ塩化ビニリデン樹脂、スチレン
ブタジエンゴム、ゼラチン等の下塗り処理、さらにこれ
らの処理を組み合わせた処理を行うことができる。
【0024】次ぎに、本発明の感光性転写材料を用いた
画像形成方法について説明する。先ず、感光性転写材料
の被覆シートを取除き、感光性樹脂層を加圧、加温下で
基体上に貼り合わせる。貼り合わせには、従来公知のラ
ミネーター、真空ラミネーターが使用でき、より生産性
を高めるためには、オートカツトラミネーターの使用も
可能である。その後仮支持体を剥がした後で、所定のマ
スク、熱可塑性樹脂層、及び中間層を介して露光し、次
いで現像する。現像は公知の方法で溶剤もしくは水性の
現像液、特にアルカリ水溶液に浸漬するか、スプレーか
らの現像液の噴霧を与えること、さらにブラシでのこす
りまたは超音波を照射しつつ処理することで行なわれ
る。異なる色に着色した感光性樹脂層を有する感光性転
写材料を用い、この工程を複数回繰り返せば多色画像を
形成することができる。
【0025】上記基体として、平滑性の良い板状のもの
を用いると、転写された感光性転写材料の表面が基体に
密着するので、最終的に形成されたパターンの基体側表
面は基体と同等の平滑性を有する。このパターンを更に
最終支持体に転写すれば、表面平滑性の優れたパターン
を得ることができ、平滑性に対する要求が特に厳しいカ
ラーフイルター等の作成に有利である。
【0026】更に、上記平滑性の良い板状基体の上に、
最終的画素パターンの保護層となる層を設けることもで
きる。この素材としては、感光性転写材料の感光性樹脂
層を密着させた時に良好な接着性を有し、かつ、感光性
樹脂層の現像液に耐性を有する必要がある。具体的に
は、特開平3−282404に記載の接着層の素材の中
から、耐衝撃、耐薬品、耐溶剤性等の、保護層として必
要な性能を有するものを適宜選択して、あるいは、特願
平4−60668に記載したアルカリ可溶性の化上記基
体の上に印刷、塗布、転写等の方法で形成し、この上に
上記方法で画素パターンを形成する。このとき、画素パ
ターンは保護層と十分な密着性をもって接触状態で存在
し、時には保護層内部に埋め込まれており、この画素パ
ターンを最終支持体に転写すれば、優れた平滑性を有す
る保護層を持った、画素パターンから成る画像が得られ
る。
【0027】上記平滑性の良い板状基板としては、表面
研磨したアルミ板・ステンレス板等を挙げることができ
る。これらの厚みは、約0.1〜10mmが好ましく、
特に約0.1〜1mmが好ましい。この板状基板の上に
保護層を設ける場合には、保護層の膜厚は約10μm以
下、好ましくは約5μm以下、更に好ましくは約3μm
以下である。約10μmを越えると、画像が形成された
保護層を最終支持体に転写する際に画素が動き、画像が
乱れることがあるので好ましくない。
【0028】本発明の感光性転写材料の主な用途はプリ
ント配線基板の作成の他、多色画像、特に液晶デイスプ
レー用等のカラーフイルター作成やカラーフイルターの
保護層作成に都合が良い。プリント配線基板の作成に
は、基体として公知の銅張り積層板が用いられ、カラー
フイルターの作成のためには、基体としては、公知のガ
ラス板、表面に酸化珪素皮膜を形成したソーダガラス板
などが用いられる。以下、本発明を実施例を用いて更に
詳細に説明するが、本発明はこれら実施例に限定される
ものではない。
【0029】
【実施例】
実施例1 厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
仮支持体の上に下記の処方H1からなる塗布液を塗布、
乾燥させ、乾燥膜厚が20μmの熱可塑性樹脂層を設け
た。
【0030】 熱可塑性樹脂層処方H1: メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジル メタクリレート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比) =55/28.8/11.7/4.5、重量平均分子量=90000) 15重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート(平均分子量=822) 6.5重量部 テトレエチレングリコールジメタクリレート 1.5重量部 p−トルエンスルホンアミド 0.5重量部 ベンゾフェノン 1.0重量部 メチルエチルケトン 30重量部
【0031】次に上記熱可塑性樹脂層上に下記処方B1
から成る塗布液を塗布、乾燥させ、乾燥膜厚が1.6μ
m厚の中間層を設けた。 中間層処方B1: ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA205、鹸化率=80%) 130重量部 ポリビニルピロリドン(GAFコーポレーション社製PVP、K−90) 60重量部 弗素系界面活性剤(旭硝子(株)社製サーフロンS−131) 10重量部 蒸留水 3350重量部
【0032】上記熱可塑性樹脂層及び中間層を有する4
枚の仮支持体の上に、それぞれ表1の処方を有する、黒
色(Bl層用)、赤色(R層用)、緑色(G層用)及び
青色(B層用)の4色の感光性溶液を塗布、乾燥させ、
乾燥膜厚が2μmの着色感光性樹脂層を形成した。
【0033】
【表1】
【0034】さらに上記感光性樹脂層の上にポリプロピ
レン(厚さ12μm)の被覆シートを圧着し、赤色、青
色、緑色および黒色感光性転写材料を作成した。
【0035】この感光性転写材料を用いて、以下の方法
でカラーフイルターを作成した。赤色感光性転写材料の
被覆シートを剥離し、感光性樹脂層面を透明ガラス基板
(厚さ1.1mm)にラミネーター(大成ラミネータ
(株)製VP−II)を用いて加圧(0.8kg/cm
2)、加熱(130℃)して貼り合わせ、続い て仮支持
体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離し、仮支持体を除去
した。次に所定のフォトマスクを介して露光し、1%ト
リエタノールアミン水溶液で熱可塑性樹脂層及び中間層
を除去した。この際、感光性樹脂層は実質的に現像され
ていなかった。次いで、1%炭酸ナトリウム水溶液で感
光性樹脂層を現像して不要部を除去し、ガラス基板上に
赤色画素パターンを形成した。次いで、赤色画素パター
ンが形成されたガラス基板上に、緑色感光性転写材料を
上記と同様にして貼り合わせ、剥離、露光、現像を行な
い、緑色画素パターンを形成した。同様な工程を青色、
黒色感光性転写材料で繰り返し、透明ガラス基板上にカ
ラーフィルターを形成した。これらの工程において、仮
支持体は熱可塑性樹脂層からの申し分の無い剥離性を示
し、得られたカラーフィルターは画素の欠落がなく、下
地との密着性が良好で、更に汚れも無かった。
【0036】比較例1 100μm厚PETの上に実施例1で示した熱可塑性樹
脂層を設けずに、ポリエチレンテレフタレートフィルム
上に実施例1の中間層と感光性樹脂層をこの順で設けた
赤色、緑色、青色および黒色感光性転写材料を作成し
た。実施例1と同様に各色感光性転写材料を貼り合わ
せ、露光、現像を繰り返し、透明ガラス基板上にカラー
フィルターを作成した。この場合、2色目以降の貼り合
わせ時に気泡が残り、画素の欠落が認められ、また画素
中に気泡が残っているものが存在するので下地との密着
も悪かった。
【0037】実施例2 20μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、実施例1と同じ処方の熱可塑性樹脂層を同様にして
10μmの乾燥厚みで塗布した。この上に実施例1の中
間層を同様にして、1.5μmの厚みで設けた。この中
間層の上に、下記の感光性樹脂層塗液を塗布し、乾燥し
20μm厚のフォトレジスト層を形成した。
【0038】 感光性樹脂層塗液処方: メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリ レート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/28. 8/11.7/4.5、重量平均分子量=90000) 15重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート(平均分子量=822) 6.5重量部 テトレエチレングリコールジメタクリレート 1.5重量部 p−トルエンスルホンアミド 0.5重量部 1,4−ビス(N,N−ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 0.04重量部 ベンゾフェノン 1.0重量部 マラカイトグリーン蓚酸塩 0.02重量部 3−モルホリノメチル−1−フェニルトリアゾール−2−チオン 0.01重量部 ロイコクリスタルバイオレット 0.2重量部 トリブロモメチルフェニルスルホン 0.1重量部 メチルエチルケトン 30重量部
【0039】最後に該フォトレジスト層上に20μm厚
のポリエチレンフィルム材料を積層し、ドライフィルム
フォトレジストを作成した。銅表面を整面した銅張り積
層板上に、該ドライフィルフォトレジスト材料のポリエ
チレンフィルムを剥離した後で、ヒートロールラミネー
ターを用いて、該フォトレジスト層を密着しつつ、気泡
の入らないようにラミネートした。表面のポリエチレン
テレフタレートフィルムを剥離し、除去した後で(ポリ
エチレンテレフタレートフイルムの剥離性は良好であっ
た)、オーク社製、プリンターを用い、所望のプリント
基板の回路パターンを有する、フォトマスクを介して、
紫外線露光した後で、1%炭酸ナトリウム水溶液のスプ
レーを用いて、現像し、銅張り積層板上に配線パターン
を有するエッチングレジストを形成した。きわめて高解
像力で、剥がれなどの欠陥のない配線パターンのレジス
ト像が得られた。塩化第二銅エッチャントをスプレーす
ることにより、該エッチングレジストにより覆われてい
ない、銅部分を溶解した後で、残留するエッチングレジ
ストのみを、2%水酸化ナトリウム水溶液のスプレーに
より除去した。こうしてガラスエポキシ樹脂板上に高解
像力で高精度の銅のプリント配線が形成された。
【0040】比較例2 実施例2と同様にし、但し今回は熱可塑性樹脂層を設け
ない感光性転写材料を作成した。この感光性転写材料を
用いて、実施例2と同様に整面した銅張り積層板上に、
レジストパターンを形成したところ、パターン画像は得
られたが、画像の基板への密着不良が多く、実用性の無
いものであった。
【0041】実施例3 実施例1に記載の処方H1よりなる、厚さ15μmの熱
可塑性樹脂層を用いた以外は実施例1と同じ方法で多色
画像を形成したが、その際の各色の転写時における気泡
のこりは全く認められず、いずれの画像形状にも欠陥が
なく、またピンホールも認められない多色画像がガラス
板上に得られた。
【0042】実施例4 20μm厚のポリエチレンテレフタレートフィルム上
に、実施例1の熱可塑性樹脂層を同様にして10μmの
乾燥厚みで塗布した。この上に実施例1の中間層を同様
にして、1.5μmの厚みで設けた。この中間層の上
に、下記の感光性樹脂層塗液を塗布し、乾燥し10μm
厚のフォトレジスト層を形成した。 メチルメタクリレート/2−エチルヘキシルアクリレート/ベンジルメタクリ レート/メタクリル酸共重合体(共重合組成比(モル比)=55/28. 8/11.7/4.5、重量平均分子量=90000) 15重量部 ポリプロピレングリコールジアクリレート(平均分子量=822) 6.5重量部 テトレエチレングリコールジメタクリレート 1.5重量部 p−トルエンスルホンアミド 0.5重量部 1,4−ビス(N,N−ジエチルアミノ)ベンゾフェノン 0.04重量部 ベンゾフェノン 1.0重量部 マラカイトグリーン蓚酸塩 0.02重量部 3−モルホリノメチル−1−フェニルトリアゾール−2−チオン 0.01重量部 ロイコクリスタルバイオレット 0.2重量部 トリブロモメチルフェニルスルホン 0.1重量部 メチルエチルケトン 30重量部 最後に該フォトレジスト層上に20μm厚のポリエチレ
ンフィルム材料を積層し、ドライフィルムフォトレジス
トを作成した。該ドライフィルフォトレジスト材料のポ
リエチレンフィルムを剥離した後、銅表面を整面した銅
張り積層板上に、該フォトレジスト層を密着しつつ、ヒ
ートロールラミネーターを用いて、気泡の入らないよう
にラミネートした。表面のポリエチレンテレフタレート
フィルムを剥離し、除去した後で(ポリエチレンテレフ
タレートフィルムの剥離性は良好であった)、オーク社
製、プリンターを用い、所望のプリント基板の回路パタ
ーンを有するフォトマスクを介して紫外線露光した後
で、1%炭酸ナトリウム水溶液のスプレーを用いて現像
し、銅張り積層板上に配線パターンを有するレジストを
形成した。このとき、基板の周囲に熱可塑性樹脂層の滲
み出しによる残留は観察されなかった。そしてきわめて
高解像力で、剥がれなどの欠陥のない配線パターンのレ
ジスト像が得られた。塩化第二銅エッチャントをスプレ
ーすることにより、該レジストにより覆われていない銅
部分を溶解した後で、残留するレジストのみを、2%水
酸化ナトリウム水溶液のスプレーにより除去した。こう
してガラスエポキシ樹脂板上に高解像力で高精度の銅の
プリント配線が形成された。
【0043】比較例3 実施例1に記載の処方に代え次のような処方の熱可塑性
樹脂組成物を用いた。 ダイヤナールBR85(三菱レイヨン(株)製アクリル樹脂、重量平均分子量 =250000) 1.8重量部 ダイヤナールBR77(三菱レイヨン(株)製アクリル樹脂、重量平均分子量 =80000 1.2重量部 トリメチロールプロパントリアクリレート 1.22重量部 テトラエチレングリコールジアクリレート 0.5重量部 p−トルエンスルホンアミド 0.32重量部 ベンゾフェノン 0.008重量部 メチルエチルケトン 12.6重量部 以下、実施例1と同じ方法で多色画像を形成したが、こ
の場合転写時に熱可塑性樹脂層が染みだしてラミネータ
ーのロールを汚し、その後の転写工程でガラス基板を汚
す故障が発生した。この処方の熱可塑性樹脂層はアルカ
リ可溶性ではないので、アルカリ水溶液で現像除去する
ことはできなかった。
【0044】比較例4実施例2と同様にし、但し今回は
比較例3の熱可塑性樹脂層を設けた感光性転写材料を作
成した。この感光性転写材料を用いて、実施例8と同様
に整面した銅張り積層板上に、レジストパターンを形成
したところ、ファインな画像が得られたが、画像部の周
囲に熱可塑性樹脂層の滲み出しに基づく残留物があっ
た。エッチングしたところ、この残留物の下部の銅はエ
ッチングされずに残ってしまった。
【0045】比較例5 実施例1と同様にし、ただし今回は中間層として、ポリ
ビニルピロリドンを含有しない下記処方を用いて作製し
た。 ポリビニルアルコール(クラレ(株)製PVA205、鹸化率=80%) 190重量部 弗素系界面活性剤(旭硝子(株)社製サーフロンS−131) 10重量部 蒸留水 3350重量部 こうして赤色、青色、緑色および黒色感光性転写材料を
作成した。赤色感光性転写材料のカバーフィルムを剥離
し、感光性樹脂層面を透明ガラス基板(厚さ1.1ミ
リ)にラミネーター(大成ラミネータ(株)製VP−I
I)を用いて加圧(0.8kg/cm2)、加熱(13
0℃)して貼り合わせ、続いて、仮支持体除去するた
め、仮支持体と熱可塑性樹脂層との界面で剥離ししよう
としたが、この層間では剥すことができず、一部が赤色
感光性樹脂層と中間層の間で剥がれてしまった。この透
明ガラス基板上の中間層が欠落した部分では赤色感光性
樹脂層は酸素の影響を受けてしまい、感度が著しく低下
した。
【0046】実施例6〜10以下の方法により、100
μ厚ポリエチレンテレフタレートフィルムの片面に表面
抵抗の異なる導電性層を設けた試料(a)〜(f)を作
成した。
【0047】試料(a)の作製 塩化第二錫水和物65重量部と三塩化アンチモン1.5
重量部をエタノール1000重量部に溶解して均一溶液
を得た。この溶液に1Nの水酸化ナトリウム水溶液を前
記溶液のpHが3になるまで滴下してコロイド状酸化第
二錫と酸化アンチモンの共沈澱を50゜Cに24時間放
置し赤褐色のコロイド状沈澱を得た。この沈澱を遠心分
離により分離した。過剰なイオンを除くため沈澱に水を
加え遠心分離によって水洗した。この操作を3回繰り返
し過剰イオンを除去した。この沈澱100重量部を水
1,000重量部に混合し、650゜Cに加熱した焼成
炉中へ噴霧し平均粒子径=0.15μmの青味がかった
導電性微粒子を得た。上記導電性微粒子を下記処方で、
ペイントシェーカー((株)東洋精材製作所製)で5時
間分散した。 上記導電性微粒子 200重量部 サランF−310(塩化ビニリデン系共重合体、旭ダウ(株)製商品名) 10重量部 メチルエチルケトン 150重量部 この分散液を用い次の処方の塗布液を調製し、厚みが1
00μmのポリエチレンテレフタレートフィルムに乾燥
塗布量が1.3g/m2になるように塗布し、130゜
Cで2分間乾燥した。 上記分散液 15重量部 サランF−310 3重量部 メチルエチルケトン 100重量部 シクロヘキサノン 20重量部 m−クレゾール 5重量部 更にこの層の上に次の処方の液を乾燥塗布量が0.2g
/m2になるように塗布し、130゜Cで1分間乾燥し
た。 セルローズトリアセテート 1重量部 メチレンジクロリド 60重量部 エチレンジクロリド 40重量部 エルカ酸アミド 0.01重量部 この試料(a)の表面電気抵抗値を絶縁抵抗測定器(川
口電極社製VE−30型)で測定したところ25゜C、
25%RHで7×108Ωであった。
【0048】試料(b)〜(f)の作成 上記導電性微粒子の添加量を変えて、試料(b)〜
(f)を作成した。それぞれの電気抵抗値は表2の通り
であった。
【0049】表2 試料(b) 1010Ω 試料(c) 1011Ω 試料(d) 1012Ω 試料(e) 1013Ω 試料(f) 109Ω
【0050】仮支持体として上記の試料(a)〜(f)
のフィルムを用い、導電性層とは反対側の面に、実施例
4と同じ熱可塑性樹脂層、中間層、および感光性樹脂層
を設けた。さらに上記感光性樹脂層の上にポリプロピレ
ン(厚さ12μm)のカバーフィルムを圧着し、赤色、
青色、緑色および黒色感光性転写材料を作成した。上記
の様に作成した感光性転写材料を用いて、実施例1と同
様にしてカラーフィルターを作成した。得られたカラー
フィルターは画素の欠落もなく、下地との密着性も良好
であった。さらに、仮支持体剥離時に静電ショックも感
じなかった。
【0051】比較例6 何の処理もしていない100μm厚のポリエチレンテレ
フタレートフィルムを用いた他は実施例6と同様にし
て、感光転写材料を作製した。この感光性転写材料を用
いて、実施例1と同じ方法でカラーフィルターを作製す
るに当たり、仮支持体を剥離する際に強い電撃ショック
を感じた。また得られたカラーフィルターはゴミの付着
に基づく画素中のピンホールがあった。
【0052】比較例7 既述の通り、表面電気抵抗が1014Ωとなるように導電
性粒子の添加量を減らしたことの他は、試料(a)と同
様にして試料(f)を作製し、これを用いて実施例6と
同様にして感光性転写材料を作製した。この感光性転写
材料を用いて、実施例1と同様にカラーフィルターを作
製するに当たり、仮支持体と熱可塑性樹脂層を剥離する
際に強い電撃ショックを感じた。また得られたカラーフ
ィルターはゴミの付着に基づく画素中のピンホールがあ
った。
【0053】比較例8 100μm厚PETの上に実施例1で示した熱可塑性樹
脂層を5μm膜厚で設け、さらに実施例1の中間層と感
光性樹脂層をこの順で設けた赤色、緑色、青色および黒
色感光性転写材料を作成した。実施例1と同様に各色感
光性転写材料を貼り合わせ、露光、現像を繰り返し、透
明ガラス基板上にカラーフィルターを作成した。この場
合、2色目以降の貼り合わせ時に気泡が残り、画素の欠
落が認められ、また画素中に気泡が残っているものが存
在するので下地との密着も悪かった。
【0054】比較例9 熱可塑性樹脂層の厚みが5μmである以外は実施例2と
同様にして感光性転写材料を作成した。この感材を用い
て実施例2と同様な方法で整面した銅張り積層板上にレ
ジストパターンを形成したところ、パターン画像は得ら
れたが、画像の基板への密着不良が多く、実用性のない
物であった。
【0055】実施例11 厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
仮支持体を用いて、実施例1と同様にして感光性転写材
料を作成した。この中のR色感光性転写材料の感光性樹
脂層を、表面を鏡面研磨処理(平滑度±0.01μm)
した厚さ1.0mmのアルミ板の上に重ね合わせ、ラミ
ネーター(大成ラミネータ(株)製VP−II)を用い
て圧力2kg/mm2、ローラー温度105℃、ラミネ
ート速度0.9m/minの条件でラミネートした。以
下、実施例1と同様にして、アルミ板上にカラーフイル
ターを作成した。ついで、下記処方の接着層を、厚さ1
μmになるように厚さ100μmのポリエチレンテレフ
タレートフイルムの上に塗布・乾燥して、接着層フイル
ムを作成した。
【0056】 接着剤層塗布液 メチルエチルケトン 2600g ダイヤナールBR−77 168g (アクリル樹脂、三菱レイヨン(株)社製商品) ダイヤナールBR−64 168g (アクリル樹脂、三菱レイヨン(株)社製商品) オキシラックSH−101 59g (スチレン・マレイン酸モノプロピルエステル共重合体 日本触媒化学(株)社製商品名) NKエステルTMMT 216g (ペンタエリスリトールテトラアクリレート、 新中村化学社製商品名) メガファックF−177P 3.8g (フツ素系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)社製商品名) ハイドロキノンモノメチルエーテル 0.5g イルガキュアー651 15g (ジメトキシフェニルアセトフェノン、チバ・ガイギー社製商品名) シランカップリング剤 2.5g KBM−403(γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、 信越シリコーン(株)社製商品名)
【0057】この接着層フイルムを、厚さ1.1mmの
ガラス基板表面と張り合わせ、ポリエチレンフイルムを
剥離し、接着層をガラス基板上に転写した。転写条件
は、上記と同様であつた。次に、ガラス板上の接着層と
上記で得られたアルミ板上のカラーフイルター面を同様
にして張り合わせ、アルミ基板を剥離除去し、ガラス基
板上にカラーフイルターを形成した。このカラーフイル
ターの表面平坦度は仮基板であるアルミ板の平坦度と同
等で、±0.01μmであつた。この後、平坦化層を設
けずに直接ITOをスパツタし、配向膜を設けて液晶表
示セルを組立たところ、対向シヨートの問題は発生しな
かった。
【0058】実施例12 アルミ板の上に、実施例11の接着層塗布液を、乾燥膜
厚が3μmとなる様に塗布し、保護層を形成した。以
下、実施例11と同様にしてガラス基板上に、保護層を
有するカラーフイルターを形成したところ、実施例11
と同様の良好な結果を得た。
【0059】
【発明の効果】本発明感光性転写材料では、転写される
感光性樹脂層及び中間層と仮支持体の間に熱可塑性樹脂
層を設けてあるので、基板に凹凸があつても気泡残りが
無い転写が可能であり、簡便な方法で質の優れた単色も
しくは多色のパターンを形成することができる。該熱可
塑性樹脂層がアルカリ可溶性なので、引き続く処理によ
りこれを容易に除去できるので、基板の汚れが生じな
い。また、仮支持体に導電性を付与し、表面電気抵抗を
1013Ω以下にすると、取扱時に電撃シヨツクがなく、
ゴミの付着による故障も生じない。更に、表面平坦度の
良い基体の上に直接、もしくは保護層を介してカラーフ
イルターを形成し、これを最終支持体に転写することに
より、表面平坦性の優れたカラーフイルターが得られ
る。
─────────────────────────────────────────────────────
【手続補正書】
【提出日】平成4年4月10日
【手続補正1】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項8
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正2】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項9
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正3】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】請求項11
【補正方法】変更
【補正内容】
【手続補正4】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0046
【補正方法】変更
【補正内容】
【0046】実施例6〜11 以下の方法により、100μ厚ポリエチレンテレフタレ
ートフィルムの片面に表面抵抗の異なる導電性層を設け
た試料(a)〜(f)を作成した。
【手続補正5】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0052
【補正方法】変更
【補正内容】
【0052】比較例7 既述の通り、表面電気抵抗が1014Ωとなるように導電
性粒子の添加量を減らしたことの他は、試料(a)と同
様にして試料(g)を作製し、これを用いて実施例6と
同様にして感光性転写材料を作製した。この感光性転写
材料を用いて、実施例1と同様にカラーフィルターを作
製するに当たり、仮支持体と熱可塑性樹脂層を剥離する
際に強い電撃ショックを感じた。また得られたカラーフ
ィルターはゴミの付着に基づく画素中のピンホールがあ
った。
【手続補正6】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0055
【補正方法】変更
【補正内容】
【0055】実施例12 厚さ100μmのポリエチレンテレフタレートフィルム
仮支持体を用いて、実施例1と同様にして感光性転写材
料を作成した。この中のR色感光性転写材料の感光性樹
脂層を、表面を鏡面研磨処理(平滑度±0.01μm)
した厚さ1.0mmのアルミ板の上に重ね合わせ、ラミ
ネーター(大成ラミネータ(株)製VP−II)を用い
て圧力2kg/mm2、ローラー温度105℃、ラミネ
ート速度0.9m/minの条件でラミネートした。以
下、実施例1と同様にして、アルミ板上にカラーフイル
ターを作成した。ついで、下記処方の接着層を、厚さ1
μmになるように厚さ100μmのポリエチレンテレフ
タレートフイルムの上に塗布・乾燥して、接着層フイル
ムを作成した。
【手続補正7】
【補正対象書類名】明細書
【補正対象項目名】0058
【補正方法】変更
【補正内容】
【0058】実施例13 アルミ板の上に、実施例12の接着層塗布液を、乾燥膜
厚が3μmとなる様に塗布し、保護層を形成した。以
下、実施例12と同様にしてガラス基板上に、保護層を
有するカラーフイルターを形成したところ、実施例12
と同様の良好な結果を得た。
フロントページの続き (72)発明者 篠崎 文明 静岡県富士宮市大中里200番地 富士写真 フイルム株式会社内

Claims (11)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 仮支持体上に、アルカリ可溶な熱可塑性
    樹脂層、中間層、感光性樹脂層をこの順に設け、該熱可
    塑性樹脂層と該仮支持体の間の接着力が最も小さいこと
    を特徴とする感光性転写材料。
  2. 【請求項2】 請求項1において、該中間層が酸素に対
    してわずかな透過性を有するに過ぎないことを特徴とす
    る感光性転写材料。
  3. 【請求項3】 請求項1もしくは請求項2において、該
    中間層が少なくとも水もしくは水溶液に可溶性もしくは
    分散性であることを特徴とする感光性転写材料。
  4. 【請求項4】 請求項3において、該中間層が、中間層
    固形分の1〜75重量%のポリビニルピロリドンを含む
    ことを特徴とする感光性転写材料。
  5. 【請求項5】 請求項1において、該仮支持体の少なく
    とも一方の面に導電性層を設けるかもしくは該仮支持体
    に導電性を付与することにより、該仮支持体の表面電気
    抵抗が1013Ω以下であることを特徴とする感光性転写
    材料。
  6. 【請求項6】 請求項1、請求項2、請求項3、請求項
    4もしくは請求項5の感光性転写材料を用い、該感光性
    樹脂層と永久支持体を少なくとも加熱しながら密着させ
    た後、該仮支持体と熱可塑性樹脂層の界面で剥離し、該
    感光性樹脂層に該熱可塑性樹脂層と該中間層を介してパ
    ターン露光し、現像して該永久支持体上に画像を形成す
    ることを特徴とする画像形成方法。
  7. 【請求項7】 感光性樹脂層が異なる色に着色された請
    求項1、請求項2、請求項3、請求項4、もしくは請求
    項5の感光性転写材料を用い、請求項6の工程を2回以
    上繰り返すことを特徴とする画像形成方法。
  8. 【請求項8】 請求項7もしくは請求項8において、該
    支持体として表面平滑性の良い基板を用いることを特徴
    とする画像形成方法。
  9. 【請求項9】 請求項9において、該表面平滑性の良い
    基板上に形成された画像を、最終支持体上に転写する工
    程を含むことを特徴とする画像形成方法。
  10. 【請求項10】 請求項9において、該表面平滑性の良
    い基板の上に保護層が設けられていることを特徴とする
    画像形成方法。
  11. 【請求項11】 請求項11において、該保護層と該表
    面平滑性の良い基板の間が剥離可能であり、更に、画像
    が形成された該保護層を、最終支持体上に転写する工程
    を含むことを特徴とする画像形成方法。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05173320A (ja) * 1991-06-25 1993-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
US6919151B2 (en) 2002-01-29 2005-07-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Reflective color filter
JP2014074764A (ja) * 2012-10-03 2014-04-24 Hitachi Chemical Co Ltd 感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法

Families Citing this family (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4243912A1 (de) * 1992-04-09 1993-10-14 Fuji Photo Film Co Ltd Lichtempfindliches Übertragungsmaterial und Bilderzeugungs-Verfahren unter Verwendung desselben
JP3108251B2 (ja) * 1993-07-08 2000-11-13 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料
US5437959A (en) * 1994-01-25 1995-08-01 E. I. Du Pont De Nemours And Company Protective coating for imaging elements
DE4446196A1 (de) * 1994-12-23 1996-06-27 Basf Lacke & Farben Mehrschichtiges, flächenförmiges, lichtempfindliches Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Druckplatten
US5645963A (en) * 1995-11-20 1997-07-08 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method for making color filter elements using laminable colored photosensitive materials
EP0785565A1 (en) 1996-01-22 1997-07-23 Hitachi Chemical Co., Ltd. Phosphor pattern, processes for preparing the same and photosensitive element to be used for the same
JPH10260418A (ja) * 1997-03-17 1998-09-29 Pilot Corp:The 電撃防止構造を備えた液晶表示素子
EP0887833B1 (en) * 1997-05-22 2006-08-16 Hitachi Chemical Co., Ltd. Process for preparing phosphor pattern for field emission panel and photosensitive element
US6093455A (en) * 1997-05-23 2000-07-25 Deco Patents, Inc. Method and compositions for decorating glass
JP2002341525A (ja) * 2001-05-14 2002-11-27 Fuji Photo Film Co Ltd ポジ型フォトレジスト転写材料およびそれを用いた基板表面の加工方法
JP3971129B2 (ja) * 2001-06-13 2007-09-05 富士フイルム株式会社 感光性転写材料およびカラーフィルターの製造方法
JP3947008B2 (ja) * 2002-01-15 2007-07-18 富士フイルム株式会社 感光性転写材料
JP3820160B2 (ja) * 2002-01-23 2006-09-13 富士写真フイルム株式会社 感光性転写材料及びカラーフィルター
JP2003302765A (ja) * 2002-04-09 2003-10-24 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料
US7323232B2 (en) * 2002-10-31 2008-01-29 Fujifilm Corporation Resin composition for spacer, spacer, and liquid crystal display device
JP4076845B2 (ja) * 2002-11-21 2008-04-16 富士フイルム株式会社 感光性転写材料

Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5625732A (en) * 1979-06-15 1981-03-12 Du Pont Improved photoresist film
US4530896A (en) * 1970-03-03 1985-07-23 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
JPH0277746A (ja) * 1988-09-13 1990-03-16 Mitsubishi Kasei Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH02213849A (ja) * 1988-12-14 1990-08-24 Basf Ag 溶解性中間層を備えたホトレジストフィルム
JPH02236551A (ja) * 1988-10-21 1990-09-19 Hoechst Celanese Corp 変質性シート材料上にカラー画像を形成する方法
JPH0317650A (ja) * 1989-06-15 1991-01-25 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成方法
JPH0333746A (ja) * 1989-06-29 1991-02-14 Konica Corp 多色カラープルーフィングシートの形成方法
JPH0572724A (ja) * 1991-01-29 1993-03-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
JPH05173320A (ja) * 1991-06-25 1993-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3458311A (en) * 1966-06-27 1969-07-29 Du Pont Photopolymerizable elements with solvent removable protective layers
US4544619A (en) * 1970-03-03 1985-10-01 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
DE2123702C3 (de) * 1971-05-13 1988-05-26 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Verfahren zur Herstellung eines Reliefbildes
WO1980001321A1 (en) * 1978-12-25 1980-06-26 N Smirnova Dry film photoresist
DE3236560A1 (de) * 1982-10-02 1984-04-05 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Lichtempfindliches schichtuebertragungsmaterial und verfahren zur herstellung einer photoresistschablone
JPH0199880A (ja) * 1987-10-13 1989-04-18 Konica Corp 感熱転写記録媒体
DE4030622B4 (de) * 1989-09-28 2005-11-17 Fuji Photo Film Co., Ltd., Minami-Ashigara Bildempfangsblatt

Patent Citations (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4530896A (en) * 1970-03-03 1985-07-23 Shipley Company Inc. Photosensitive laminate
JPS5625732A (en) * 1979-06-15 1981-03-12 Du Pont Improved photoresist film
JPH0277746A (ja) * 1988-09-13 1990-03-16 Mitsubishi Kasei Corp 画像形成材料及び画像形成方法
JPH02236551A (ja) * 1988-10-21 1990-09-19 Hoechst Celanese Corp 変質性シート材料上にカラー画像を形成する方法
JPH02213849A (ja) * 1988-12-14 1990-08-24 Basf Ag 溶解性中間層を備えたホトレジストフィルム
JPH0317650A (ja) * 1989-06-15 1991-01-25 Nippon Synthetic Chem Ind Co Ltd:The 画像形成方法
JPH0333746A (ja) * 1989-06-29 1991-02-14 Konica Corp 多色カラープルーフィングシートの形成方法
JPH0572724A (ja) * 1991-01-29 1993-03-26 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
JPH05173320A (ja) * 1991-06-25 1993-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05173320A (ja) * 1991-06-25 1993-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 感光性転写材料及び画像形成方法
US6919151B2 (en) 2002-01-29 2005-07-19 Fuji Photo Film Co., Ltd. Reflective color filter
JP2014074764A (ja) * 2012-10-03 2014-04-24 Hitachi Chemical Co Ltd 感光性エレメント及びこれを用いたレジストパターンの形成方法、プリント配線板の製造方法

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DE4220829A1 (de) 1993-01-21

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