JPH0570522A - 含フツ素重合体 - Google Patents
含フツ素重合体Info
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- JPH0570522A JPH0570522A JP3234319A JP23431991A JPH0570522A JP H0570522 A JPH0570522 A JP H0570522A JP 3234319 A JP3234319 A JP 3234319A JP 23431991 A JP23431991 A JP 23431991A JP H0570522 A JPH0570522 A JP H0570522A
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- fluorine
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【構成】本発明の含フッ素重合体は、一般式
ＣＨ2 ＝ＣＦ（ＣＦ2 ）nＯＣＦ＝ＣＦ2
［式中ｎは１〜５の整数を示す。］で表わされる含フッ
素ジオレフィンをラジカル重合開始剤の存在下に重合せ
しめた重合体であって、主鎖中に一般式 【化１】 ［式中ｎは前記に同じ。］及び／又は 【化２】 ［式中ｎは前記に同じ。］で表わされる環化構造の繰返
し単位を有するものである。 【効果】本発明の含フッ素重合体は、低誘電率で高体積
抵抗値を有し、透明性に優れ、また各種の溶剤に溶解す
るので薄膜形成が可能なコーティング材として使用で
き、しかも薄膜は基材との密着性に優れたものである。
素ジオレフィンをラジカル重合開始剤の存在下に重合せ
しめた重合体であって、主鎖中に一般式 【化１】 ［式中ｎは前記に同じ。］及び／又は 【化２】 ［式中ｎは前記に同じ。］で表わされる環化構造の繰返
し単位を有するものである。 【効果】本発明の含フッ素重合体は、低誘電率で高体積
抵抗値を有し、透明性に優れ、また各種の溶剤に溶解す
るので薄膜形成が可能なコーティング材として使用で
き、しかも薄膜は基材との密着性に優れたものである。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、新規な含フッ素重合体
に関する。
に関する。
【０００２】
【従来技術とその課題】高度情報化社会の進展に伴い、
エレクトロニクスやオプトエレクトロニクスの分野にお
いて使用される素材への要求は、ますます厳しくなりつ
つある。即ち、エレクトロニクスの分野においては、低
誘電率、高体積抵抗値の材料が、またオプトエレクトロ
ニクスの分野においては、低屈折率で透明性のよい材料
が求められている。更にこれらは、所謂成形体としてだ
けでなく、薄膜形成が可能なコーティング剤として使用
できるのが望ましい。
エレクトロニクスやオプトエレクトロニクスの分野にお
いて使用される素材への要求は、ますます厳しくなりつ
つある。即ち、エレクトロニクスの分野においては、低
誘電率、高体積抵抗値の材料が、またオプトエレクトロ
ニクスの分野においては、低屈折率で透明性のよい材料
が求められている。更にこれらは、所謂成形体としてだ
けでなく、薄膜形成が可能なコーティング剤として使用
できるのが望ましい。
【０００３】ポリテトラフルオロエチレン（ＰＴＦＥ）
に代表されるフッ素樹脂は、低誘電率で高体積抵抗値を
有する材料としてプリント基板や各種絶縁材料としてエ
レクトロニクス分野で使用されている。しかしながら、
該樹脂は結晶性ポリマーであるために、成形体は不透明
であり、それ故オプトエレクトロニクス分野での用途は
限定されるし、更に該樹脂は溶剤には不溶であるために
コーティング材として使用することは不可能である。
に代表されるフッ素樹脂は、低誘電率で高体積抵抗値を
有する材料としてプリント基板や各種絶縁材料としてエ
レクトロニクス分野で使用されている。しかしながら、
該樹脂は結晶性ポリマーであるために、成形体は不透明
であり、それ故オプトエレクトロニクス分野での用途は
限定されるし、更に該樹脂は溶剤には不溶であるために
コーティング材として使用することは不可能である。
【０００４】一方、光ファイバーのクラッド等オプトエ
レクトロニクス分野においては、フルオロアルキル基を
側鎖に有するメタクリレート樹脂が使用されている。該
メタクリレート樹脂は、成形加工のみならず、有機溶媒
にも溶解するためにコーティング材として使用すること
も可能である。しかしながら、該樹脂は、屈折率がｎD
で１．３７〜１．４２と高く、また４００μｍ以下のＵ
Ｖ領域の波長での透光性が悪く、エレクトロニクス分野
で要求される性能を満たしていない。
レクトロニクス分野においては、フルオロアルキル基を
側鎖に有するメタクリレート樹脂が使用されている。該
メタクリレート樹脂は、成形加工のみならず、有機溶媒
にも溶解するためにコーティング材として使用すること
も可能である。しかしながら、該樹脂は、屈折率がｎD
で１．３７〜１．４２と高く、また４００μｍ以下のＵ
Ｖ領域の波長での透光性が悪く、エレクトロニクス分野
で要求される性能を満たしていない。
【０００５】最近、パーフルオロポリマーでありながら
透明性のよい重合体として、例えば特開平１−１３１２
１５号公報に一般式
透明性のよい重合体として、例えば特開平１−１３１２
１５号公報に一般式
【０００６】
【化３】
【０００７】［式中ｍは１又は２を示す。］で表わされ
る繰返し単位を有する重合体が、またＵＳＰ第４７５４
００９号明細書に一般式
る繰返し単位を有する重合体が、またＵＳＰ第４７５４
００９号明細書に一般式
【０００８】
【化４】
【０００９】［式中ｋ／ｌ＝１／９〜３／７］で表わさ
れる繰返し単位を有する重合体が、それぞれ提案されて
いる。しかしながら、これらの重合体をコーティング材
として使用する場合、非常に高価で特殊な溶剤、例えば
フロリナートＦＣ７５［商品名，３Ｍ社製］を使用しな
ければならず、コスト高となる上に、得られた塗膜は基
材との密着性が悪いという欠点を有している。更に、こ
れら重合体を製造するに当って特殊なパーフルオロ単量
体を使用するために、重合率が低く、しかも高分子量の
重合体が得られ難いという欠点をも有している。
れる繰返し単位を有する重合体が、それぞれ提案されて
いる。しかしながら、これらの重合体をコーティング材
として使用する場合、非常に高価で特殊な溶剤、例えば
フロリナートＦＣ７５［商品名，３Ｍ社製］を使用しな
ければならず、コスト高となる上に、得られた塗膜は基
材との密着性が悪いという欠点を有している。更に、こ
れら重合体を製造するに当って特殊なパーフルオロ単量
体を使用するために、重合率が低く、しかも高分子量の
重合体が得られ難いという欠点をも有している。
【００１０】
【課題を解決するための手段】本発明の目的は、上記欠
点のない含フッ素重合体を提供することにある。
点のない含フッ素重合体を提供することにある。
【００１１】即ち、本発明は、一般式 ＣＨ2 ＝ＣＦ（ＣＦ2 ）nＯＣＦ＝ＣＦ2 （１） ［式中ｎは１〜５の整数を示す。］で表わされる含フッ
素ジオレフィンをラジカル重合開始剤の存在下に重合せ
しめた重合体であって、主鎖中に一般式
素ジオレフィンをラジカル重合開始剤の存在下に重合せ
しめた重合体であって、主鎖中に一般式
【００１２】
【化５】
【００１３】［式中ｎは前記に同じ。］及び／又は
【００１４】
【化６】
【００１５】［式中ｎは前記に同じ。］で表わされる環
化構造の繰返し単位を有する含フッ素重合体に係る。
化構造の繰返し単位を有する含フッ素重合体に係る。
【００１６】上記一般式（１）で表わされる含フッ素ジ
オレフィンは、好ましくはＣＨ2 ＝ＣＦＣＦ2 ＯＣＦ＝
ＣＦ2 、ＣＨ2 ＝ＣＦ（ＣＦ2 ）2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 等を
例示できる。
オレフィンは、好ましくはＣＨ2 ＝ＣＦＣＦ2 ＯＣＦ＝
ＣＦ2 、ＣＨ2 ＝ＣＦ（ＣＦ2 ）2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 等を
例示できる。
【００１７】上記含フッ素ジオレフィンの合成例を示せ
ば、例えば下記反応式−１に示すように酸フロリドから
容易に合成することができる。
ば、例えば下記反応式−１に示すように酸フロリドから
容易に合成することができる。
【００１８】反応式−１
【００１９】
【化７】
【００２０】上記反応式−１で用いられる酸フロリド
は、ｎ＝１の場合には下記反応式−２に示す合成ルート
で、ｎ＝２又は４の場合には下記反応式−３に示す合成
ルートで、ｎ＝３又は５の場合には下記反応式−４に示
す合成ルートで、それぞれ製造され得る。
は、ｎ＝１の場合には下記反応式−２に示す合成ルート
で、ｎ＝２又は４の場合には下記反応式−３に示す合成
ルートで、ｎ＝３又は５の場合には下記反応式−４に示
す合成ルートで、それぞれ製造され得る。
【００２１】反応式−２
【００２２】
【化８】
【００２３】反応式−３
【００２４】
【化９】
【００２５】反応式−４
【００２６】
【化１０】
【００２７】上記含フッ素ジオレフィン（１）は、通常
のラジカル重合の条件で容易に重合し、高分子量の含フ
ッ素重合体が高収率で収得される。含フッ素ジオレフィ
ン（１）をラジカル重合させるに際しては、バルク重
合、溶液重合、懸濁重合及び乳化重合のいずれの重合方
法をも採用することができる。
のラジカル重合の条件で容易に重合し、高分子量の含フ
ッ素重合体が高収率で収得される。含フッ素ジオレフィ
ン（１）をラジカル重合させるに際しては、バルク重
合、溶液重合、懸濁重合及び乳化重合のいずれの重合方
法をも採用することができる。
【００２８】重合の際に用いられるラジカル重合開始剤
としては、従来公知のものを広く使用でき、例えばアゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニト
リル、アゾビスジメチレンイソブチルアミジン・２塩酸
塩等のアゾ化合物、ジイソプロピルパーオキシジカーボ
ネート、イソブチリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチ
ルパーオキシヒバレート、ヘプタフルオロヘブチリルパ
ーオキサイド、トリフルオロジクロロプロピオニルパー
オキサイド、ドデカフルオロヘプタノイルパーオキサイ
ド等の有機パーオキサイド、Ｋ2 Ｓ2 Ｏ3 、（ＮＨ4 ）
2 Ｓ2 Ｏ3 等の無機パーオキサイド、60Ｃｏ等の放射線
源等が挙げられる。
としては、従来公知のものを広く使用でき、例えばアゾ
ビスイソブチロニトリル、アゾビスジメチルバレロニト
リル、アゾビスジメチレンイソブチルアミジン・２塩酸
塩等のアゾ化合物、ジイソプロピルパーオキシジカーボ
ネート、イソブチリルパーオキサイド、ｔｅｒｔ−ブチ
ルパーオキシヒバレート、ヘプタフルオロヘブチリルパ
ーオキサイド、トリフルオロジクロロプロピオニルパー
オキサイド、ドデカフルオロヘプタノイルパーオキサイ
ド等の有機パーオキサイド、Ｋ2 Ｓ2 Ｏ3 、（ＮＨ4 ）
2 Ｓ2 Ｏ3 等の無機パーオキサイド、60Ｃｏ等の放射線
源等が挙げられる。
【００２９】懸濁重合の場合、水及び／又は１，１，２
−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，
１−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン
等のフルオロ炭化水素の存在下に行なうのがよい。また
乳化重合は、水及び適当な乳化剤、例えばパーフルオロ
オクタン酸アンモニウム、パーフルオロ−３−オキサ−
２−メチルヘキサン酸アンモニウム、ラウリルスルホン
酸ナトリウム等の存在下に行なうのがよい。更に溶液重
合は、含フッ素ジオレフィン（１）を溶解し得る溶媒、
例えば１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン、１，１−ジクロロ−１，１，２，２−テト
ラフルオロエタン、パーフルオロベンゼン、パーフルオ
ロヘプタン、パーフルオロシクロヘキサン、パーフルオ
ロジオキサン等のフルオロ炭化水素等の溶媒から選ばれ
た少なくとも１種の溶媒中で行なうのがよい。
−トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン、１，
１−ジクロロ−１，１，２，２−テトラフルオロエタン
等のフルオロ炭化水素の存在下に行なうのがよい。また
乳化重合は、水及び適当な乳化剤、例えばパーフルオロ
オクタン酸アンモニウム、パーフルオロ−３−オキサ−
２−メチルヘキサン酸アンモニウム、ラウリルスルホン
酸ナトリウム等の存在下に行なうのがよい。更に溶液重
合は、含フッ素ジオレフィン（１）を溶解し得る溶媒、
例えば１，１，２−トリクロロ−１，２，２−トリフル
オロエタン、１，１−ジクロロ−１，１，２，２−テト
ラフルオロエタン、パーフルオロベンゼン、パーフルオ
ロヘプタン、パーフルオロシクロヘキサン、パーフルオ
ロジオキサン等のフルオロ炭化水素等の溶媒から選ばれ
た少なくとも１種の溶媒中で行なうのがよい。
【００３０】本発明においては、分子間架橋反応による
ゲル化を防止するために、溶液重合を採用するのが好適
である。溶液重合の際の単量体濃度としては、通常５０
重量％（以下単に「％」と記す）以下、好ましくは１〜
３０％程度、より好ましくは５〜１５％程度とするのが
よい。重合温度は、用いられる溶媒等により異なり一概
には言えないが、通常０〜１００℃程度、好ましくは１
０〜５０℃程度である。また重合圧力は、減圧〜２０ｋ
ｇ／ｃｍ2 Ｇ程度が好ましい。更に重合反応系内に、生
成する含フッ素重合体の分子量を制御するために、連鎖
移動剤を適宜添加してもよい。斯かる連鎖移動剤として
は、従来公知のものを広く使用でき、例えばペンタン、
シクロヘキサン、ジメチルエーテル、酢酸エチル、メタ
ノール等が挙げられる。
ゲル化を防止するために、溶液重合を採用するのが好適
である。溶液重合の際の単量体濃度としては、通常５０
重量％（以下単に「％」と記す）以下、好ましくは１〜
３０％程度、より好ましくは５〜１５％程度とするのが
よい。重合温度は、用いられる溶媒等により異なり一概
には言えないが、通常０〜１００℃程度、好ましくは１
０〜５０℃程度である。また重合圧力は、減圧〜２０ｋ
ｇ／ｃｍ2 Ｇ程度が好ましい。更に重合反応系内に、生
成する含フッ素重合体の分子量を制御するために、連鎖
移動剤を適宜添加してもよい。斯かる連鎖移動剤として
は、従来公知のものを広く使用でき、例えばペンタン、
シクロヘキサン、ジメチルエーテル、酢酸エチル、メタ
ノール等が挙げられる。
【００３１】本発明の重合体を製造するに当っては、得
られる重合体の透明性や耐熱性を損なわない範囲内で、
上記含フッ素ジオレフィン（１）と他の単量体とを共重
合させることもできる。他の単量体としては、例えばエ
チレン、プロピレン、イソブテン等のオレフィン、テト
ラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘ
キサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビ
ニル、ヘキサフルオロイソブテン、パーフルオロビニル
エーテル等のフルオロオレフィン、エチルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル、酢酸ビ
ニル等のビニルエステル等が挙げられるが、これらの中
でも屈折率が低く、誘電率等の電気特性が優れていると
いう点よりフルオロオレフィンが好適である。
られる重合体の透明性や耐熱性を損なわない範囲内で、
上記含フッ素ジオレフィン（１）と他の単量体とを共重
合させることもできる。他の単量体としては、例えばエ
チレン、プロピレン、イソブテン等のオレフィン、テト
ラフルオロエチレン、クロロトリフルオロエチレン、ヘ
キサフルオロプロピレン、フッ化ビニリデン、フッ化ビ
ニル、ヘキサフルオロイソブテン、パーフルオロビニル
エーテル等のフルオロオレフィン、エチルビニルエーテ
ル、ブチルビニルエーテル等のビニルエーテル、酢酸ビ
ニル等のビニルエステル等が挙げられるが、これらの中
でも屈折率が低く、誘電率等の電気特性が優れていると
いう点よりフルオロオレフィンが好適である。
【００３２】本発明の含フッ素重合体は、透明な無定形
ポリマーである。該重合体の分子量としては、極限粘度
［η］（ｍ−メタキシレンヘキサフルオライド中、３５
℃）が通常０．０１〜３程度であるが、得られる重合体
の強靭さや成形性の観点から［η］が０．０５〜２程度
が好ましく、０．２〜１程度がより好ましい。また重合
の際の重合の容易さや溶解性の観点から、上記含フッ素
ジオレフィン（１）のｎは１〜３が好ましく、含フッ素
ジオレフィン（１）の合成の容易さの点からｎ＝１が特
に好ましい。
ポリマーである。該重合体の分子量としては、極限粘度
［η］（ｍ−メタキシレンヘキサフルオライド中、３５
℃）が通常０．０１〜３程度であるが、得られる重合体
の強靭さや成形性の観点から［η］が０．０５〜２程度
が好ましく、０．２〜１程度がより好ましい。また重合
の際の重合の容易さや溶解性の観点から、上記含フッ素
ジオレフィン（１）のｎは１〜３が好ましく、含フッ素
ジオレフィン（１）の合成の容易さの点からｎ＝１が特
に好ましい。
【００３３】
【発明の効果】本発明の重合体は、一般のフッ素樹脂が
有する特徴、即ち低屈折率、電気絶縁性、耐候性、低吸
水性、耐熱性等を有しており、更に非晶質な無定形ポリ
マーのため、圧縮成形、射出成形及び押出成形において
透明な樹脂とすることができ、光ディスクや光学レン
ズ、光ファイバーのクラッド剤として有効に使用でき
る。更に本発明の重合体は、トリクロロトリフルオロエ
タン（沸点４８℃）、ｍ−メタキシレンヘキサフルオラ
イド（沸点１１５℃）、パーフルオロベンゼン（沸点８
２℃）等の種々の溶剤に溶解するため、該重合体をコー
ティング材として使用する場合に、様々な条件により最
適な沸点の溶剤が選択できるし、しかも得られる塗膜は
驚くべきことに各種の基材、例えばポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネート、ポリスチレン等のプラスチ
ック、鉄、銅、亜鉛、錫等の金属類、Ｓｉ、Ｇａ／Ａｓ
等の半導体材料等の基材との密着性に優れている。従っ
て本発明の重合体は、電子部品の防湿コーティング材、
光部品の反射防止剤、耐候性フィルム、絶縁フィルム等
に好適に使用され得る。また本発明の重合体のガラス転
移温度は６０℃以上であり、成形材料としても室温で樹
脂状態であるため充分に実用できるものである。
有する特徴、即ち低屈折率、電気絶縁性、耐候性、低吸
水性、耐熱性等を有しており、更に非晶質な無定形ポリ
マーのため、圧縮成形、射出成形及び押出成形において
透明な樹脂とすることができ、光ディスクや光学レン
ズ、光ファイバーのクラッド剤として有効に使用でき
る。更に本発明の重合体は、トリクロロトリフルオロエ
タン（沸点４８℃）、ｍ−メタキシレンヘキサフルオラ
イド（沸点１１５℃）、パーフルオロベンゼン（沸点８
２℃）等の種々の溶剤に溶解するため、該重合体をコー
ティング材として使用する場合に、様々な条件により最
適な沸点の溶剤が選択できるし、しかも得られる塗膜は
驚くべきことに各種の基材、例えばポリメチルメタクリ
レート、ポリカーボネート、ポリスチレン等のプラスチ
ック、鉄、銅、亜鉛、錫等の金属類、Ｓｉ、Ｇａ／Ａｓ
等の半導体材料等の基材との密着性に優れている。従っ
て本発明の重合体は、電子部品の防湿コーティング材、
光部品の反射防止剤、耐候性フィルム、絶縁フィルム等
に好適に使用され得る。また本発明の重合体のガラス転
移温度は６０℃以上であり、成形材料としても室温で樹
脂状態であるため充分に実用できるものである。
【００３４】
【実施例】以下に実施例を掲げて本発明をより一層明ら
かにする。
かにする。
【００３５】実施例１ 攪拌機及び温度計付き２００ｃｃのガラス製反応槽にＣ
Ｈ2 ＝ＣＦＣＦ2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 １０ｇ、１，１，２−
トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以下
「Ｒ１１３」という）９０ｇ及びジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート（以下「ＩＰＰ」という）０．０１
ｇを仕込んだ。反応槽をドライアイス−メタノールで冷
却し、真空脱気と窒素加圧を３回繰返した後、真空脱気
し３０℃で２４時間重合を行なった。重合反応終了後、
大量の石油エーテルに沈殿させ、本発明の重合体９．１
ｇを得た。
Ｈ2 ＝ＣＦＣＦ2 ＯＣＦ＝ＣＦ2 １０ｇ、１，１，２−
トリクロロ−１，２，２−トリフルオロエタン（以下
「Ｒ１１３」という）９０ｇ及びジイソプロピルパーオ
キシジカーボネート（以下「ＩＰＰ」という）０．０１
ｇを仕込んだ。反応槽をドライアイス−メタノールで冷
却し、真空脱気と窒素加圧を３回繰返した後、真空脱気
し３０℃で２４時間重合を行なった。重合反応終了後、
大量の石油エーテルに沈殿させ、本発明の重合体９．１
ｇを得た。
【００３６】得られた重合体をパーフルオロベンゼンに
溶解し、19Ｆ−ＮＭＲ及び1 Ｈ−ＮＭＲを測定し、更に
ｍ−メタキシレンヘキサフルオライド（以下「ｍＸＨ
Ｆ」という）に溶解し、19Ｆ−ＮＭＲを測定したとこ
ろ、式
溶解し、19Ｆ−ＮＭＲ及び1 Ｈ−ＮＭＲを測定し、更に
ｍ−メタキシレンヘキサフルオライド（以下「ｍＸＨ
Ｆ」という）に溶解し、19Ｆ−ＮＭＲを測定したとこ
ろ、式
【００３７】
【化１１】
【００３８】及び／又は
【００３９】
【化１２】
【００４０】で表わされる環化構造の繰返し単位を有す
る重合体であることが判明した。
る重合体であることが判明した。
【００４１】この重合体のＤＳＣによるＴｇは６５℃、
熱分解開始温度は３７０℃であった。該重合体のｍＸＨ
Ｆにおける極限粘度（３５℃）は［η］＝０．４３であ
り、屈折率ｎ27 D は１．３６３であった。該重合体の２
００μｍフィルムの３５０ｎｍにおける光線透過率は９
０％であり、トリフルオロエチルメタクリレート重合体
の光線透過率の２９％に比し、充分に透明であった。更
に該重合体は、Ｒ１１３、パーフルオロベンゼン、ｍＸ
ＨＦ等のフルオロ炭化水素のみならず、メタノールにも
低濃度ながら溶解した。
熱分解開始温度は３７０℃であった。該重合体のｍＸＨ
Ｆにおける極限粘度（３５℃）は［η］＝０．４３であ
り、屈折率ｎ27 D は１．３６３であった。該重合体の２
００μｍフィルムの３５０ｎｍにおける光線透過率は９
０％であり、トリフルオロエチルメタクリレート重合体
の光線透過率の２９％に比し、充分に透明であった。更
に該重合体は、Ｒ１１３、パーフルオロベンゼン、ｍＸ
ＨＦ等のフルオロ炭化水素のみならず、メタノールにも
低濃度ながら溶解した。
【００４２】実施例２ 実施例１と同様の装置にＣＨ2 ＝ＣＦＣＦ2 ＯＣＦ＝Ｃ
Ｆ2 １０ｇ、パーフルオロベンゼン９０ｇ及び（Ｈ（Ｃ
Ｆ2 ）6 ＣＯＯ）2 ０．０１ｇを仕込み、実施例１と
同様の脱気操作を行なった後、１５℃で２４時間反応を
行なった。
Ｆ2 １０ｇ、パーフルオロベンゼン９０ｇ及び（Ｈ（Ｃ
Ｆ2 ）6 ＣＯＯ）2 ０．０１ｇを仕込み、実施例１と
同様の脱気操作を行なった後、１５℃で２４時間反応を
行なった。
【００４３】得られた重合体は７．２ｇであり、［η］
＝０．６１であった。また19Ｆ−ＮＭＲ及び1 Ｈ−ＮＭ
Ｒより、得られた重合体は実施例１のそれと同様の構造
を有していることが判明した。
＝０．６１であった。また19Ｆ−ＮＭＲ及び1 Ｈ−ＮＭ
Ｒより、得られた重合体は実施例１のそれと同様の構造
を有していることが判明した。
【００４４】実施例３ 実施例１と同様の装置にＣＨ2 ＝ＣＦＣＦ2 ＣＦ2 ＯＣ
Ｆ＝ＣＦ2 １０ｇ、Ｒ１１３ ９０ｇ及びＩＰＰ ０．
０１ｇを仕込み、実施例１と同様の操作及び条件で重合
を行なった。
Ｆ＝ＣＦ2 １０ｇ、Ｒ１１３ ９０ｇ及びＩＰＰ ０．
０１ｇを仕込み、実施例１と同様の操作及び条件で重合
を行なった。
【００４５】得られた重合体は８．８ｇであり、［η］
＝０．３８であった。また19Ｆ−ＮＭＲ及び1 Ｈ−ＮＭ
Ｒを測定したところ、式
＝０．３８であった。また19Ｆ−ＮＭＲ及び1 Ｈ−ＮＭ
Ｒを測定したところ、式
【００４６】
【化１３】
【００４７】及び／又は
【００４８】
【化１４】
【００４９】で表わされる環化構造の繰返し単位を有す
る重合体であることが判明した。
る重合体であることが判明した。
【００５０】この重合体のＤＳＣによるＴｇは１０３
℃、熱分解開始温度は３７０℃であった。該重合体の屈
折率ｎ27 D は１．３５７であった。該重合体の２００μ
ｍフィルムの３５０ｎｍにおける光線透過率は９０％で
あった。更に該重合体は、Ｒ１１３、パーフルオロベン
ゼン、ｍＸＨＦ等のフルオロ炭化水素に溶解した。
℃、熱分解開始温度は３７０℃であった。該重合体の屈
折率ｎ27 D は１．３５７であった。該重合体の２００μ
ｍフィルムの３５０ｎｍにおける光線透過率は９０％で
あった。更に該重合体は、Ｒ１１３、パーフルオロベン
ゼン、ｍＸＨＦ等のフルオロ炭化水素に溶解した。
【００５１】比較例１ 実施例１と同様の装置にＣＦ2 ＝ＣＦＣＦ2 ＯＣＦ＝Ｃ
Ｆ2 １０ｇ、Ｒ１１３９０ｇ及びＩＰＰ ０．０１ｇを
仕込み、実施例１と同様の操作及び条件で重合を行なっ
た。
Ｆ2 １０ｇ、Ｒ１１３９０ｇ及びＩＰＰ ０．０１ｇを
仕込み、実施例１と同様の操作及び条件で重合を行なっ
た。
【００５２】得られた重合体は３．７ｇに過ぎず、フロ
リナートＦＣ７５における［η］は０．１６に過ぎなか
った。また、得られた重合体をパーフルオロベンゼンに
溶解し、19Ｆ−ＮＭＲを測定したところ、式
リナートＦＣ７５における［η］は０．１６に過ぎなか
った。また、得られた重合体をパーフルオロベンゼンに
溶解し、19Ｆ−ＮＭＲを測定したところ、式
【００５３】
【化１５】
【００５４】で表わされる環化構造の繰返し単位を有す
る重合体であることが判明したが、該重合体はＲ１１３
に全く溶解しなかった。
る重合体であることが判明したが、該重合体はＲ１１３
に全く溶解しなかった。
【００５５】使用例 上記実施例１で得られた重合体及び比較例１で得られた
重合体を、それぞれパーフルオロベンゼンに１０％濃度
となるように溶解し、ガラスエポキシ基板［日本テスト
パネル社製］に膜厚１０μｍになるように塗布した。室
温で２４時間乾燥後、カッターで塗膜に碁盤目状にキズ
をつけ（１ｍｍの角形１００個）、水中に浸漬して２４
時間後の剥離を観察したところ、実施例１の重合体は全
て残っていた（１００／１００）のに対して、比較例１
の重合体は全て剥離していた（０／１００）。
重合体を、それぞれパーフルオロベンゼンに１０％濃度
となるように溶解し、ガラスエポキシ基板［日本テスト
パネル社製］に膜厚１０μｍになるように塗布した。室
温で２４時間乾燥後、カッターで塗膜に碁盤目状にキズ
をつけ（１ｍｍの角形１００個）、水中に浸漬して２４
時間後の剥離を観察したところ、実施例１の重合体は全
て残っていた（１００／１００）のに対して、比較例１
の重合体は全て剥離していた（０／１００）。
Claims (1)
- 【請求項１】一般式 ＣＨ2 ＝ＣＦ（ＣＦ2 ）nＯＣＦ＝ＣＦ2 ［式中ｎは１〜５の整数を示す。］で表わされる含フッ
素ジオレフィンをラジカル重合開始剤の存在下に重合せ
しめた重合体であって、主鎖中に一般式 【化１】 ［式中ｎは前記に同じ。］及び／又は 【化２】 ［式中ｎは前記に同じ。］で表わされる環化構造の繰返
し単位を有する含フッ素重合体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234319A JPH0570522A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 含フツ素重合体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3234319A JPH0570522A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 含フツ素重合体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0570522A true JPH0570522A (ja) | 1993-03-23 |
Family
ID=16969150
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3234319A Pending JPH0570522A (ja) | 1991-09-13 | 1991-09-13 | 含フツ素重合体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0570522A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043672A1 (en) | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Fujifilm Corporation | Novel fluorine-containing spiroacetal compound and method of producing the same |
| WO2022172951A1 (ja) * | 2021-02-10 | 2022-08-18 | ダイキン工業株式会社 | 化合物、組成物、電気化学デバイス、リチウムイオン二次電池及びモジュール |
-
1991
- 1991-09-13 JP JP3234319A patent/JPH0570522A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2007043672A1 (en) | 2005-10-11 | 2007-04-19 | Fujifilm Corporation | Novel fluorine-containing spiroacetal compound and method of producing the same |
| US7919637B2 (en) | 2005-10-11 | 2011-04-05 | Fujifilm Corporation | Fluorine-containing spiroacetal compound and method of producing the same |
| WO2022172951A1 (ja) * | 2021-02-10 | 2022-08-18 | ダイキン工業株式会社 | 化合物、組成物、電気化学デバイス、リチウムイオン二次電池及びモジュール |
| JP2022122846A (ja) * | 2021-02-10 | 2022-08-23 | ダイキン工業株式会社 | 化合物、組成物、電気化学デバイス、リチウムイオン二次電池及びモジュール |
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