JPH056799A - Ｉｃｐ用ｒｆ電源装置 - Google Patents
Ｉｃｐ用ｒｆ電源装置Info
- Publication number
- JPH056799A JPH056799A JP3156709A JP15670991A JPH056799A JP H056799 A JPH056799 A JP H056799A JP 3156709 A JP3156709 A JP 3156709A JP 15670991 A JP15670991 A JP 15670991A JP H056799 A JPH056799 A JP H056799A
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- power
- work coil
- icp
- coil
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】簡単な回路構成であると共に合成部のコアに起
因する発熱の制限がなく信頼性の高いＩＣＰ用ＲＦ電源
装置を提供する。 【構成】発振器からのＲＦ信号を増幅するプリアンプ
と、該プリアンプの出力を受けて二分割し且つ位相を１
８０゜ずらして出力する電力分割器と、センタタップが
接地されたワ―クコイル等を設け、該ワ―クコイルで電
力合成するようにしたもの。
因する発熱の制限がなく信頼性の高いＩＣＰ用ＲＦ電源
装置を提供する。 【構成】発振器からのＲＦ信号を増幅するプリアンプ
と、該プリアンプの出力を受けて二分割し且つ位相を１
８０゜ずらして出力する電力分割器と、センタタップが
接地されたワ―クコイル等を設け、該ワ―クコイルで電
力合成するようにしたもの。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、高周波誘導結合プラズ
マ（以下、「ＩＣＰ」という）のＲＦ電源装置に関し、
更に詳しくは、ＩＣＰ分析装置に装着され簡単な構成で
電力合成できるＩＣＰ用ＲＦ電源装置に関する。
マ（以下、「ＩＣＰ」という）のＲＦ電源装置に関し、
更に詳しくは、ＩＣＰ分析装置に装着され簡単な構成で
電力合成できるＩＣＰ用ＲＦ電源装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】四重極質量分析計を用いた高周波誘導結
合プラズマ分析装置は、一般に、プラズマト―チの外室
と最外室にガス調節器を介してアルゴンガス供給源から
アルゴンガスが供給され、内室には試料導入装置から試
料（分析対象）が搬入されるようになっている。また、
プラズマト―チに巻回された高周波誘導コイルには高周
波電源によって高周波電流が流され、該コイルの周囲に
高周波磁界が形成される。この状態で、上記高周波磁界
の近傍でアルゴンガス中に電子かイオンが植え付けられ
ると、該高周波磁界の作用によって瞬時に高周波誘導結
合プラズマが生ずる。
合プラズマ分析装置は、一般に、プラズマト―チの外室
と最外室にガス調節器を介してアルゴンガス供給源から
アルゴンガスが供給され、内室には試料導入装置から試
料（分析対象）が搬入されるようになっている。また、
プラズマト―チに巻回された高周波誘導コイルには高周
波電源によって高周波電流が流され、該コイルの周囲に
高周波磁界が形成される。この状態で、上記高周波磁界
の近傍でアルゴンガス中に電子かイオンが植え付けられ
ると、該高周波磁界の作用によって瞬時に高周波誘導結
合プラズマが生ずる。
【０００３】更に、ノズルとスキマ―に挟まれたフォア
チャンバ―本体内は、真空ポンプによって吸引されてい
る。また、センタ―チャンバ―内には、引出し電極，ア
パ―チャ―レンズ，四重極レンズ，アパ―チャ―，及び
エントランスレンズが設けられると共に、該センタ―チ
ャンバ―の内部は第１油拡散ポンプによってに吸引さ
れ、四重極マスフィルタを収容しているリアチャンバ―
内は第２油拡散ポンプによって吸引されている。
チャンバ―本体内は、真空ポンプによって吸引されてい
る。また、センタ―チャンバ―内には、引出し電極，ア
パ―チャ―レンズ，四重極レンズ，アパ―チャ―，及び
エントランスレンズが設けられると共に、該センタ―チ
ャンバ―の内部は第１油拡散ポンプによってに吸引さ
れ、四重極マスフィルタを収容しているリアチャンバ―
内は第２油拡散ポンプによって吸引されている。
【０００４】この状態で、高周波誘導結合プラズマ中に
上述のようにして気化された試料が導入され、イオン化
や発光が行われる。該プラズマ内のイオンは、ノズルや
スキマ―を経由してのち引出し電極の間とイオンレンズ
系の間を通って収束され、四重極マスフィルタに導入さ
れる。
上述のようにして気化された試料が導入され、イオン化
や発光が行われる。該プラズマ内のイオンは、ノズルや
スキマ―を経由してのち引出し電極の間とイオンレンズ
系の間を通って収束され、四重極マスフィルタに導入さ
れる。
【０００５】このようにして四重極マスフィルタに入っ
たイオンのうち目的の質量電荷比のイオンだけが、四重
極マスフィルタを通過し二次電子増倍管に導かれて検出
される。この検出信号が信号処理部に送出されて演算・
処理されることによって、前記試料中の被測定元素分析
値が求められるようになっている。また、ＩＣＰ電源は
２７．１２ＭＨｚ若しくは４０．６８ＭＨｚで１．６〜
２．０ｋＷを出力するのが一般的である。
たイオンのうち目的の質量電荷比のイオンだけが、四重
極マスフィルタを通過し二次電子増倍管に導かれて検出
される。この検出信号が信号処理部に送出されて演算・
処理されることによって、前記試料中の被測定元素分析
値が求められるようになっている。また、ＩＣＰ電源は
２７．１２ＭＨｚ若しくは４０．６８ＭＨｚで１．６〜
２．０ｋＷを出力するのが一般的である。
【０００６】
【発明が解決しようとする問題点】然しながら、上記従
来例においては、真空管の場合この出力が一本の真空管
で得られるものの、半導体アンプの場合には単一モジュ
―ルで上記出力を得ることが困難となっていた。このた
め、複数のモジュ―ルの出力を合成して上記出力を得て
おり、電力の分割や合成が必要となって構成が複雑とな
る欠点があった。
来例においては、真空管の場合この出力が一本の真空管
で得られるものの、半導体アンプの場合には単一モジュ
―ルで上記出力を得ることが困難となっていた。このた
め、複数のモジュ―ルの出力を合成して上記出力を得て
おり、電力の分割や合成が必要となって構成が複雑とな
る欠点があった。
【０００７】本発明は、かかる状況に鑑みてなされもの
であり、その課題は、簡単な回路構成であると共に合成
部のコアに起因する発熱の制限がなく信頼性の高いＩＣ
Ｐ用ＲＦ電源装置を提供することにある。
であり、その課題は、簡単な回路構成であると共に合成
部のコアに起因する発熱の制限がなく信頼性の高いＩＣ
Ｐ用ＲＦ電源装置を提供することにある。
【０００８】
【問題点を解決するための手段】本発明は、ＩＣＰ用Ｒ
Ｆ電源装置において、発振器と、該発振器からのＲＦ信
号を増幅するプリアンプと、該プリアンプの出力を受け
て二分割し且つ位相を１８０゜ずらして出力する電力分
割器と、第１及び第２のパワ―アンプと、伝送線路を介
して送出された電力のインピ―ダンス変換を行う整合器
と、センタタップが接地されたワ―クコイルとを設け、
該ワ―クコイルで電力合成することによって前記課題を
解決したものである。
Ｆ電源装置において、発振器と、該発振器からのＲＦ信
号を増幅するプリアンプと、該プリアンプの出力を受け
て二分割し且つ位相を１８０゜ずらして出力する電力分
割器と、第１及び第２のパワ―アンプと、伝送線路を介
して送出された電力のインピ―ダンス変換を行う整合器
と、センタタップが接地されたワ―クコイルとを設け、
該ワ―クコイルで電力合成することによって前記課題を
解決したものである。
【０００９】
【作用】本発明は次のように作用する。即ち、発振器か
ら送出されたＲＦ信号は、プリアンプで増幅されて後、
電力分割器で二分割され、位相が１８０゜ずらされて第
１，第２パワ―アンプに送出される。これらパワ―アン
プで振幅が増加されたＲＦ電力は、伝送線路を介して整
合器に送られ、該整合器でインピ―ダンス変換されてワ
―クコイルに送られる。このワ―クコイルは、センタ―
が接地されており、ワ―クコイルの両端から逆位相の波
形がくると該コイルで電力が合成される。
ら送出されたＲＦ信号は、プリアンプで増幅されて後、
電力分割器で二分割され、位相が１８０゜ずらされて第
１，第２パワ―アンプに送出される。これらパワ―アン
プで振幅が増加されたＲＦ電力は、伝送線路を介して整
合器に送られ、該整合器でインピ―ダンス変換されてワ
―クコイルに送られる。このワ―クコイルは、センタ―
が接地されており、ワ―クコイルの両端から逆位相の波
形がくると該コイルで電力が合成される。
【００１０】
【実施例】以下、本発明について図を用いて詳細に説明
する。図１は本発明実施例のブロック回路図であり、図
中、１はＲＦ（高周波）源を発振・発生させる例えば水
晶でなる発振器、２は後述のパワ―アンプを駆動するに
十分なパワ―まで発信出力を増幅するプリアンプ、３は
プリアンプ２の出力を受けて二分割し且つ位相を１８０
゜ずらして出力する電力分割器、４ａ，４ｂはＩＣＰを
発生させるに十分な電力まで増幅するパワ―アンプ、６
は伝送線路５ａ，５ｂを介して送出された電力を後述の
ワ―クコイルに伝達するためのインピ―ダンス変換を行
う整合器、６１，６２は並列コンデンサ、６３，６４は
直列コンデンサ、７はセンタタップが接地されたワ―ク
コイルである。
する。図１は本発明実施例のブロック回路図であり、図
中、１はＲＦ（高周波）源を発振・発生させる例えば水
晶でなる発振器、２は後述のパワ―アンプを駆動するに
十分なパワ―まで発信出力を増幅するプリアンプ、３は
プリアンプ２の出力を受けて二分割し且つ位相を１８０
゜ずらして出力する電力分割器、４ａ，４ｂはＩＣＰを
発生させるに十分な電力まで増幅するパワ―アンプ、６
は伝送線路５ａ，５ｂを介して送出された電力を後述の
ワ―クコイルに伝達するためのインピ―ダンス変換を行
う整合器、６１，６２は並列コンデンサ、６３，６４は
直列コンデンサ、７はセンタタップが接地されたワ―ク
コイルである。
【００１１】このようなブロック回路からなる本発明の
実施例において、発振器１から送出された例えば２７．
１２ＭＨｚ若しくは４０．６８ＭＨｚのＲＦ信号は、プ
リアンプ２で増幅されて後、電力分割器３で二分割さ
れ、位相が１８０゜ずらされてそれぞれ第１，第２パワ
―アンプ４ａ，４ｂに送出される。
実施例において、発振器１から送出された例えば２７．
１２ＭＨｚ若しくは４０．６８ＭＨｚのＲＦ信号は、プ
リアンプ２で増幅されて後、電力分割器３で二分割さ
れ、位相が１８０゜ずらされてそれぞれ第１，第２パワ
―アンプ４ａ，４ｂに送出される。
【００１２】また、パワ―アンプ４ａ，４ｂで振幅が増
加されたＲＦ電力は、伝送線路５ａ，５ｂを介して整合
器６に送られ、該整合器６でインピ―ダンス変換されて
ワ―クコイル７に送られる。このワ―クコイル７は、セ
ンタ―が接地されており、ワ―クコイル７の両端から逆
位相の波形がくると該コイルで電力が合成されるように
なっている。尚、本発明は上述の実施例に限定されるこ
となく種々の変形が可能である。
加されたＲＦ電力は、伝送線路５ａ，５ｂを介して整合
器６に送られ、該整合器６でインピ―ダンス変換されて
ワ―クコイル７に送られる。このワ―クコイル７は、セ
ンタ―が接地されており、ワ―クコイル７の両端から逆
位相の波形がくると該コイルで電力が合成されるように
なっている。尚、本発明は上述の実施例に限定されるこ
となく種々の変形が可能である。
【００１３】
【発明の効果】以上詳しく説明したような本発明によれ
ば、ＩＣＰ用ＲＦ電源装置において、発振器と、発振器
からのＲＦ信号を増幅するプリアンプと、プリアンプの
出力を受けて二分割し且つ位相を１８０゜ずらして出力
する電力分割器と、第１及び第２のパワ―アンプと、伝
送線路を介して送出された電力のインピ―ダンス変換を
行う整合器と、センタタップが接地されたワ―クコイル
とを設け、ワ―クコイルで電力合成する構成になってい
る。
ば、ＩＣＰ用ＲＦ電源装置において、発振器と、発振器
からのＲＦ信号を増幅するプリアンプと、プリアンプの
出力を受けて二分割し且つ位相を１８０゜ずらして出力
する電力分割器と、第１及び第２のパワ―アンプと、伝
送線路を介して送出された電力のインピ―ダンス変換を
行う整合器と、センタタップが接地されたワ―クコイル
とを設け、ワ―クコイルで電力合成する構成になってい
る。
【００１４】このようにワ―クコイルで電力を合成する
ため、途中で合成やインピ―ダンス変換が不要となり前
記従来例に比して構成が簡単になるという利点がある。
また、前記従来例においては、電力合成やインピ―ダン
ス変換に磁性材料の使用が不可欠で２ｋＷにもなると発
熱も大きくなり信頼性が問題となっていたが、本発明に
よれば、かかる磁性材料の使用も不要となるため、信頼
性が向上するという利点もある。従って、本発明によれ
ば、簡単な回路構成であると共に合成部のコアに起因す
る発熱の制限がなく信頼性の高いＩＣＰ用ＲＦ電源装置
が実現する。
ため、途中で合成やインピ―ダンス変換が不要となり前
記従来例に比して構成が簡単になるという利点がある。
また、前記従来例においては、電力合成やインピ―ダン
ス変換に磁性材料の使用が不可欠で２ｋＷにもなると発
熱も大きくなり信頼性が問題となっていたが、本発明に
よれば、かかる磁性材料の使用も不要となるため、信頼
性が向上するという利点もある。従って、本発明によれ
ば、簡単な回路構成であると共に合成部のコアに起因す
る発熱の制限がなく信頼性の高いＩＣＰ用ＲＦ電源装置
が実現する。
【図１】本発明実施例の要部ブロック回路図である。
１ 発振器 ２ プリアンプ ３ 電力分割器 ４ａ，４ｂ パワ―アンプ ５ａ，５ｂ 伝送線路 ６ 整合器 ６１，６２ 並列コンデンサ ６３，６４ 直列コンデンサ ７ ワ―クコイル
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 【請求項１】ＩＣＰ用ＲＦ電源装置において、発振器
と、該発振器からのＲＦ信号を増幅するプリアンプと、
該プリアンプの出力を受けて二分割し且つ位相を１８０
゜ずらして出力する電力分割器と、第１及び第２のパワ
―アンプと、伝送線路を介して送出された電力のインピ
―ダンス変換を行う整合器と、センタタップが接地され
たワ―クコイルとを設け、該ワ―クコイルで電力合成す
ることを特徴とするＩＣＰ用ＲＦ電源装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156709A JPH056799A (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | Ｉｃｐ用ｒｆ電源装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3156709A JPH056799A (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | Ｉｃｐ用ｒｆ電源装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH056799A true JPH056799A (ja) | 1993-01-14 |
Family
ID=15633624
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3156709A Pending JPH056799A (ja) | 1991-06-27 | 1991-06-27 | Ｉｃｐ用ｒｆ電源装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH056799A (ja) |
Cited By (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002508883A (ja) * | 1997-07-05 | 2002-03-19 | サーフィス テクノロジー システムズ ピーエルシー | プラズマ加工装置 |
| WO2003055286A1 (fr) * | 2001-12-10 | 2003-07-03 | Tokyo Electron Limited | Source de puissance haute frequence et son procede de commande, et processeur a plasma |
| JP2006253150A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Huettinger Elektronik Gmbh & Co Kg | 真空プラズマ発生器 |
| JP2013527642A (ja) * | 2010-03-11 | 2013-06-27 | ヒュッティンガー エレクトローニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 直交結合器を備えたプラズマ供給装置 |
| CN104157541A (zh) * | 2013-05-14 | 2014-11-19 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置 |
-
1991
- 1991-06-27 JP JP3156709A patent/JPH056799A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002508883A (ja) * | 1997-07-05 | 2002-03-19 | サーフィス テクノロジー システムズ ピーエルシー | プラズマ加工装置 |
| JP4646272B2 (ja) * | 1997-07-05 | 2011-03-09 | サーフィス テクノロジー システムズ ピーエルシー | プラズマ加工装置 |
| WO2003055286A1 (fr) * | 2001-12-10 | 2003-07-03 | Tokyo Electron Limited | Source de puissance haute frequence et son procede de commande, et processeur a plasma |
| CN1305353C (zh) * | 2001-12-10 | 2007-03-14 | 东京毅力科创株式会社 | 高频电源及其控制方法、和等离子体处理装置 |
| US8286581B2 (en) | 2001-12-10 | 2012-10-16 | Tokyo Electron Limited | High frequency power source and its control method, and plasma processing apparatus |
| US8133347B2 (en) | 2005-03-05 | 2012-03-13 | Huettinger Elektronik Gmbh + Co. Kg | Vacuum plasma generator |
| JP2006253150A (ja) * | 2005-03-10 | 2006-09-21 | Huettinger Elektronik Gmbh & Co Kg | 真空プラズマ発生器 |
| JP2013527642A (ja) * | 2010-03-11 | 2013-06-27 | ヒュッティンガー エレクトローニク ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング ウント コンパニー コマンディートゲゼルシャフト | 直交結合器を備えたプラズマ供給装置 |
| CN104157541A (zh) * | 2013-05-14 | 2014-11-19 | 东京毅力科创株式会社 | 等离子体处理装置 |
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