JPH0566193B2 - - Google Patents
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- JPH0566193B2 JPH0566193B2 JP19741886A JP19741886A JPH0566193B2 JP H0566193 B2 JPH0566193 B2 JP H0566193B2 JP 19741886 A JP19741886 A JP 19741886A JP 19741886 A JP19741886 A JP 19741886A JP H0566193 B2 JPH0566193 B2 JP H0566193B2
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- Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は写真用フイルム、印画紙等の写真感光
材料、写真製版材料、感圧記録紙，感熱記録紙等
記録材料の製造において、連続走行する長尺可撓
性支持体（以下ウエブと言う）に液状塗布組成物
を塗布する方法に関し、更に詳しくは二層以上の
塗布液膜を重畳した状態にして、連続走行してい
るウエブに施す多層同時塗布方法に関するもので
ある。
材料、写真製版材料、感圧記録紙，感熱記録紙等
記録材料の製造において、連続走行する長尺可撓
性支持体（以下ウエブと言う）に液状塗布組成物
を塗布する方法に関し、更に詳しくは二層以上の
塗布液膜を重畳した状態にして、連続走行してい
るウエブに施す多層同時塗布方法に関するもので
ある。
従来、多層同時塗布方法のスライドホツパー塗
布装置等における高速塗布方法として、特公昭56
−20534号公報に開示された次のような塗布方法
がある。
布装置等における高速塗布方法として、特公昭56
−20534号公報に開示された次のような塗布方法
がある。
即ち、この塗布方法は高速塗布性向上という目
的を達成するために、最下層に１〜8cpsの低粘度
液を用い湿潤被覆度がウエブ面１m2当り２〜12cm3
を塗布し、且つメニスカスで生ずる渦動が、最下
層と直ぐ上の層との混合だけで、更にその上の層
には影響しない様にして、塗布速度を増加させる
方法である。
的を達成するために、最下層に１〜8cpsの低粘度
液を用い湿潤被覆度がウエブ面１m2当り２〜12cm3
を塗布し、且つメニスカスで生ずる渦動が、最下
層と直ぐ上の層との混合だけで、更にその上の層
には影響しない様にして、塗布速度を増加させる
方法である。
又特開昭54−1350号公報にはウエブに対する次
の層として100秒-1のずり速度で20ないし200cps
の粘度及び100000秒-1のずり速度で10cps以下の
粘度を有する疑似塑性液体の希薄性キヤリア層を
適用する方法が提案されている。即ち、この塗布
方法は前述した（特公昭56−20534号公報）如き
ビード部の不安定性を改良するために最下層に低
剪断速度下では高粘度を有し、且つ高剪断速度下
では低粘度を有する疑似塑性液体を使用するよう
にしたものであつた。
の層として100秒-1のずり速度で20ないし200cps
の粘度及び100000秒-1のずり速度で10cps以下の
粘度を有する疑似塑性液体の希薄性キヤリア層を
適用する方法が提案されている。即ち、この塗布
方法は前述した（特公昭56−20534号公報）如き
ビード部の不安定性を改良するために最下層に低
剪断速度下では高粘度を有し、且つ高剪断速度下
では低粘度を有する疑似塑性液体を使用するよう
にしたものであつた。
上記のような塗布方法によるときは、最下層を
形成する塗布液は非ニユートン性流動を示す性質
をもつている。又この場合塗布液としては特殊な
組成物を選び調液することを必要としていた。
形成する塗布液は非ニユートン性流動を示す性質
をもつている。又この場合塗布液としては特殊な
組成物を選び調液することを必要としていた。
本発明は従来塗布方法の有する上記欠点を除去
し、最下層とすぐその上の層とのあいだで層間混
合が生ずることなく、又、最下層に特殊で且つ、
高価な組成物を添加することなく、乾燥時間の増
加を最小限に抑制しながら高速安定塗布を可能な
らしめる新規な多層同時塗布方法を提供すること
を目的とする。
し、最下層とすぐその上の層とのあいだで層間混
合が生ずることなく、又、最下層に特殊で且つ、
高価な組成物を添加することなく、乾燥時間の増
加を最小限に抑制しながら高速安定塗布を可能な
らしめる新規な多層同時塗布方法を提供すること
を目的とする。
本発明者は低粘度液を最下層に用いて高速塗布
を実施する方法について鋭意実験検討を行つた結
果、最下層にニユートン流動である水を用い且つ
その湿潤塗布量がウエブ面１m2当り２cm3以下とい
う超薄層にすると驚くべきことに高速塗布適性が
失われないばかりか、ビードにおける渦動による
最下層とすぐ上の層との間層間混合が生じないこ
とを見い出した。
を実施する方法について鋭意実験検討を行つた結
果、最下層にニユートン流動である水を用い且つ
その湿潤塗布量がウエブ面１m2当り２cm3以下とい
う超薄層にすると驚くべきことに高速塗布適性が
失われないばかりか、ビードにおける渦動による
最下層とすぐ上の層との間層間混合が生じないこ
とを見い出した。
更に、驚くべきことには、当業者にはよく知ら
れているところのスライドホツパー塗布装置にお
いて高速塗布を行つた場合発生する数mmピツチで
ウエブ走行方向に通つた非常に規則的な塗布故障
（特開昭60−255172号参照）に対しても、本発明
の方法では画期的な効果があることを見出した。
れているところのスライドホツパー塗布装置にお
いて高速塗布を行つた場合発生する数mmピツチで
ウエブ走行方向に通つた非常に規則的な塗布故障
（特開昭60−255172号参照）に対しても、本発明
の方法では画期的な効果があることを見出した。
即ち本発明は、二層以上の塗布液膜を、重畳し
た状態にして、連続走行しているウエブに施す多
層同時塗布方法において、前記ウエブに隣接する
最下層塗布液膜が水で形成され、その湿潤塗布量
がウエブ面１m2当り２cm3以下であり、前記最下層
の上に隣接する層の塗布層が最下層よりも厚く、
且つ高い粘度の水溶性塗布液組成物から形成され
ることを特徴とする多層同時塗布方法である。
た状態にして、連続走行しているウエブに施す多
層同時塗布方法において、前記ウエブに隣接する
最下層塗布液膜が水で形成され、その湿潤塗布量
がウエブ面１m2当り２cm3以下であり、前記最下層
の上に隣接する層の塗布層が最下層よりも厚く、
且つ高い粘度の水溶性塗布液組成物から形成され
ることを特徴とする多層同時塗布方法である。
本発明で使用する塗布液は、主として水溶性塗
布液組成物であり、例えば写真感光材料製造にお
いては少量の有機溶媒を含む感光乳剤層、下塗
層，保護層，バツク層，アンチハレーシヨン層等
の塗布液があげられる。
布液組成物であり、例えば写真感光材料製造にお
いては少量の有機溶媒を含む感光乳剤層、下塗
層，保護層，バツク層，アンチハレーシヨン層等
の塗布液があげられる。
又本発明に使用される支持体としては、紙，プ
ラスチツクフイルム，レジンコーテイツド紙，合
成紙，金属等が包含される。
ラスチツクフイルム，レジンコーテイツド紙，合
成紙，金属等が包含される。
プラスチツクフイルムの材質はたとえば、ポリ
エチレン，ポリプロピレン等のポリオレフイン、
ポリ酢酸ビニル，ポリ塩化ビニル，ポリスチレン
等のビニル重合体、６，６−ナイロン，６−ナイ
ロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレー
ト，ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポ
リエステル、ポリカーボネイト、セルローストリ
アセテート，セルロースダイアセテート等のセル
ロースアセテート等が使用される。また、レジン
コーテイツド紙に用いる樹脂としては、ポリオレ
フインが代表的であるが、必らずしもこれに限定
されない。又金属ウエブとしては例えばアルミニ
ウム帯状物があげられる。
エチレン，ポリプロピレン等のポリオレフイン、
ポリ酢酸ビニル，ポリ塩化ビニル，ポリスチレン
等のビニル重合体、６，６−ナイロン，６−ナイ
ロン等のポリアミド、ポリエチレンテレフタレー
ト，ポリエチレン−２，６−ナフタレート等のポ
リエステル、ポリカーボネイト、セルローストリ
アセテート，セルロースダイアセテート等のセル
ロースアセテート等が使用される。また、レジン
コーテイツド紙に用いる樹脂としては、ポリオレ
フインが代表的であるが、必らずしもこれに限定
されない。又金属ウエブとしては例えばアルミニ
ウム帯状物があげられる。
本発明で使用される最下層の水は、一般的には
蒸留水が用いられる。その湿潤塗布量はウエブ面
１m2当り２cm3以下が望ましい。
蒸留水が用いられる。その湿潤塗布量はウエブ面
１m2当り２cm3以下が望ましい。
最下層の水の層の上に隣接する層の塗布量は最
下層よりも５倍以上厚く、且つ15倍以上高い粘度
のものが望ましい。
下層よりも５倍以上厚く、且つ15倍以上高い粘度
のものが望ましい。
本発明の実施態様を図によつて説明する。
第１図は、本発明の塗布方法の１実施態様であ
る３層同時塗布用のスライドホツパー型塗布装置
の側面断面図である。
る３層同時塗布用のスライドホツパー型塗布装置
の側面断面図である。
図において１はバツクアツプロール、２はウエ
ブ、３はビード部、４，７，１０，１３はスライ
ド面、５，８，１１はスロツト、６，９，１２は
マニホールド、１４は最下層を形成する水の膜、
１５は第１層を形成する塗布液膜、１６は第２層
を形成する塗布液膜である。ウエブ２は図示しな
い搬送手段により、バツクアツプロール１の周上
を矢印方向に連続して移送される。
ブ、３はビード部、４，７，１０，１３はスライ
ド面、５，８，１１はスロツト、６，９，１２は
マニホールド、１４は最下層を形成する水の膜、
１５は第１層を形成する塗布液膜、１６は第２層
を形成する塗布液膜である。ウエブ２は図示しな
い搬送手段により、バツクアツプロール１の周上
を矢印方向に連続して移送される。
一方、最下層を形成する水１４は送液ポンプに
よつて送液されマニホールド６によつてホツパー
の幅一杯にひろがり、ついでスロツト５を通過し
てスライド面４の上に出てここからスライド面４
上を重力により自然流下しビード３を形成し支持
体２の上に塗布される。この際水の湿潤塗布量は
ウエブ面１m2当たり２cm3以下に調整される。同様
に最下層上に製品としての第１及び第２の層を形
成する他の塗布液１５及び１６も、夫々マニホー
ルド９，１２及びスロツト８，１１を通過してス
ライド面７及び１０の上に流出し、ここからスラ
イド面７及び１０上を重力により自然流下し、
夫々塗布膜１５，１６を形成し、且つ最下層を形
成する水の膜１４と共に重量した状態でビード３
を形成し支持体２の上に塗布される。
よつて送液されマニホールド６によつてホツパー
の幅一杯にひろがり、ついでスロツト５を通過し
てスライド面４の上に出てここからスライド面４
上を重力により自然流下しビード３を形成し支持
体２の上に塗布される。この際水の湿潤塗布量は
ウエブ面１m2当たり２cm3以下に調整される。同様
に最下層上に製品としての第１及び第２の層を形
成する他の塗布液１５及び１６も、夫々マニホー
ルド９，１２及びスロツト８，１１を通過してス
ライド面７及び１０の上に流出し、ここからスラ
イド面７及び１０上を重力により自然流下し、
夫々塗布膜１５，１６を形成し、且つ最下層を形
成する水の膜１４と共に重量した状態でビード３
を形成し支持体２の上に塗布される。
又第２図は本発明の塗布方法の他の１実施態様
である３層同時塗布用エクストルージヨン型塗布
装置の側面断面図である。
である３層同時塗布用エクストルージヨン型塗布
装置の側面断面図である。
図において２１はバツクアツプロール、２２は
ウエブ、２４，２５，２６はスロツト、２７，２
８，２９はマニホールド、３０は最下層を形成す
る水の膜、３１は製品の第１層を形成する塗布液
膜、３２は第２層を形成する塗布液膜である。ウ
エブ２２は図示しない搬送手段によりバツクアツ
プロール２１の周上を矢印の方向に連続して移送
される。
ウエブ、２４，２５，２６はスロツト、２７，２
８，２９はマニホールド、３０は最下層を形成す
る水の膜、３１は製品の第１層を形成する塗布液
膜、３２は第２層を形成する塗布液膜である。ウ
エブ２２は図示しない搬送手段によりバツクアツ
プロール２１の周上を矢印の方向に連続して移送
される。
一方最下層を形成する水の膜３０は送液ポンプ
によつて送液されマニホールド２７によつてホツ
パーの幅方向に拡がりスロツト２４を通過して押
し出され、支持体２２の上に塗布される。この際
水の湿潤塗布量はウエブ面１m2当たり２cm3以下に
調整される。同様に第１層及び第２層を形成する
他の塗布液膜３１，３２も夫々マニホールド２
８，２９及びスロツト２５，２６を通過して押し
出され、最下層を形成する水の膜３０と共に支持
体２２の上に塗布される。
によつて送液されマニホールド２７によつてホツ
パーの幅方向に拡がりスロツト２４を通過して押
し出され、支持体２２の上に塗布される。この際
水の湿潤塗布量はウエブ面１m2当たり２cm3以下に
調整される。同様に第１層及び第２層を形成する
他の塗布液膜３１，３２も夫々マニホールド２
８，２９及びスロツト２５，２６を通過して押し
出され、最下層を形成する水の膜３０と共に支持
体２２の上に塗布される。
本発明は前記ウエブに隣接する最下層塗布膜を
水で形成させその湿潤塗布量がウエブ面１m2当り
２cm3以下にすることにより、支持体と塗布液の濡
れがよくなりビード部の渦動による塗布液の混合
を心配することなく又最下層に起因する塗布スジ
等の発生もなく均質な塗布品質を得ることが出
来、塗布速度を著しく増大することが出来るので
ある。
水で形成させその湿潤塗布量がウエブ面１m2当り
２cm3以下にすることにより、支持体と塗布液の濡
れがよくなりビード部の渦動による塗布液の混合
を心配することなく又最下層に起因する塗布スジ
等の発生もなく均質な塗布品質を得ることが出
来、塗布速度を著しく増大することが出来るので
ある。
本発明による効果を一層明確にするために、実
施例をあげる。
施例をあげる。
本発明による塗布方法と従来の塗布方法との比
較実験を、第１図に示すスライドホツパー型塗布
装置を使用して、下記の条件で行つた。尚使用し
たウエブは18cm巾のトリアセテートセルロース
（TAC）ベースである。
較実験を、第１図に示すスライドホツパー型塗布
装置を使用して、下記の条件で行つた。尚使用し
たウエブは18cm巾のトリアセテートセルロース
（TAC）ベースである。
比較例 １
第１層：40℃で粘度60cpsを示すアニオン系界
面活性剤を含むアンチハレーシヨン液を流量
75c.c.／cm・min 第２層：40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面
活性剤を含むゼラチン液を流量75c.c.／cm・
min の条件で多層同時塗布を行つた。
面活性剤を含むアンチハレーシヨン液を流量
75c.c.／cm・min 第２層：40℃で粘度20cpsを示すアニオン系界面
活性剤を含むゼラチン液を流量75c.c.／cm・
min の条件で多層同時塗布を行つた。
上記のように塗布したところ、塗布速度は
105m／minになると均質な塗布面状が得られな
くなつた。
105m／minになると均質な塗布面状が得られな
くなつた。
実施例 １
最下層：40℃で粘度0.65cpsを示す水を流量２
c.c.／cm・min 第１層：比較例−１の層構成の第１層と同じ 第２層：比較例−１の層構成の第２層と同じ 上記のような条件で多層同時塗布したところ塗
布速度が341m／minまで均質な塗布面状が得ら
れた。
c.c.／cm・min 第１層：比較例−１の層構成の第１層と同じ 第２層：比較例−１の層構成の第２層と同じ 上記のような条件で多層同時塗布したところ塗
布速度が341m／minまで均質な塗布面状が得ら
れた。
比較例 ２
第１層：40℃で粘度60cpsを示すアンチハレーシ
ヨン液を流量57.6c.c.／cm・min 第２層：40℃で粘度8cpsを示すゼラチン液を流量
38.4c.c.／cm・min 上記のような条件で多層同時塗布したところ、
塗布速度が90m／minで数mmピツチでウエブ走行
方向に通つた非常に規則的な塗布スジが発生し均
質な塗布面状が得られなくなつた。
ヨン液を流量57.6c.c.／cm・min 第２層：40℃で粘度8cpsを示すゼラチン液を流量
38.4c.c.／cm・min 上記のような条件で多層同時塗布したところ、
塗布速度が90m／minで数mmピツチでウエブ走行
方向に通つた非常に規則的な塗布スジが発生し均
質な塗布面状が得られなくなつた。
実施例 ２
最下層：40℃で粘度0.65cpsを示す水を流量２
c.c.／cm・min 第１層：比較例−２の層構成の第１層と同じ 第２層：比較例−２の層構成の第２層と同じ 上記のように塗布したところ、塗布速度が
300m／minまで前述のスジ故障は発生せず、均
質な塗布面状が得られた。
c.c.／cm・min 第１層：比較例−２の層構成の第１層と同じ 第２層：比較例−２の層構成の第２層と同じ 上記のように塗布したところ、塗布速度が
300m／minまで前述のスジ故障は発生せず、均
質な塗布面状が得られた。
本発明は最下層塗布膜を水で形成させその湿潤
塗布量がウエブ面１m2当たり２cm3以下にし、前記
最下層の上に隣接する層の塗布量が最下層よりも
厚く、且つ高い粘度の水溶性塗布液組成物で形成
することにより、ウエブと最下層膜との濡れがよ
くビードも安定し、その上の層との層間混合を生
じることなく、又最下層に起因する塗布スジ等の
発生もなく塗布速度を著しく上昇させることが出
来た。
塗布量がウエブ面１m2当たり２cm3以下にし、前記
最下層の上に隣接する層の塗布量が最下層よりも
厚く、且つ高い粘度の水溶性塗布液組成物で形成
することにより、ウエブと最下層膜との濡れがよ
くビードも安定し、その上の層との層間混合を生
じることなく、又最下層に起因する塗布スジ等の
発生もなく塗布速度を著しく上昇させることが出
来た。
第１図は本発明塗布方法の一実施例である。三
層同時塗布用のスライドホツパー型塗布装置の側
面断面図である。第２図は本発明の塗布方法によ
る三層同時塗布用エクストルージヨン型塗布装置
の側面断面図である。 １，２１……バツクアツプロール、２，２２…
…ウエブ、３，３０……ビード部、４，７，１０
……スライド面、５，８，１１，２４，２５，２
６，……スロツト、６，９，１２，２７，２８，
２９，……マニホールド、１４，３０……最下層
を形成する水の膜、１５，３１……第１層を形成
する塗布液膜、１６，３２……第２層を形成する
塗布液膜。
層同時塗布用のスライドホツパー型塗布装置の側
面断面図である。第２図は本発明の塗布方法によ
る三層同時塗布用エクストルージヨン型塗布装置
の側面断面図である。 １，２１……バツクアツプロール、２，２２…
…ウエブ、３，３０……ビード部、４，７，１０
……スライド面、５，８，１１，２４，２５，２
６，……スロツト、６，９，１２，２７，２８，
２９，……マニホールド、１４，３０……最下層
を形成する水の膜、１５，３１……第１層を形成
する塗布液膜、１６，３２……第２層を形成する
塗布液膜。
Claims (1)
- １ 二層以上の塗布液膜を、重畳した状態にし
て、連続走行しているウエブに施す多層同時塗布
方法において、前記ウエブに隣接する最下層塗布
液膜が水で形成され、その湿潤塗布量がウエブ面
１m2当り２cm3以下であり、前記最下層の上に隣接
する層の塗布量が最下層よりも厚く、且つ高い粘
度の水溶性塗布液組成物から形成されることを特
徴とする多層同時塗布方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19741886A JPS6354975A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | 多層同時塗布方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19741886A JPS6354975A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | 多層同時塗布方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS6354975A JPS6354975A (ja) | 1988-03-09 |
| JPH0566193B2 true JPH0566193B2 (ja) | 1993-09-21 |
Family
ID=16374186
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19741886A Granted JPS6354975A (ja) | 1986-08-25 | 1986-08-25 | 多層同時塗布方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS6354975A (ja) |
Families Citing this family (17)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2646251B2 (ja) | 1987-10-20 | 1997-08-27 | 富士写真フイルム株式会社 | 多層同時塗布方法及び装置 |
| US7981837B2 (en) | 2006-06-30 | 2011-07-19 | Fujifilm Corporation | Heat-sensitive transfer image-receiving sheet |
| US8012909B2 (en) | 2007-03-27 | 2011-09-06 | Fujifilm Corporation | Heat-sensitive transfer image-forming method |
| US20080254382A1 (en) | 2007-03-27 | 2008-10-16 | Fujifilm Corporation | Heat-sensitive transfer sheet and image-forming method |
| JP2008238740A (ja) | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 感熱転写記録材料およびその製造方法 |
| JP2008238737A (ja) | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 感熱転写受像シート及びその製造方法 |
| JP2008238736A (ja) | 2007-03-28 | 2008-10-09 | Fujifilm Corp | 感熱転写受像シート |
| EP1980409A3 (en) | 2007-03-29 | 2010-09-29 | FUJIFILM Corporation | Heat-sensitive transfer sheet for use in heat-sensitive transfer system and image-forming method using heat-sensitive transfer system |
| EP1974948A3 (en) | 2007-03-29 | 2012-02-08 | FUJIFILM Corporation | Image-forming method using heat-sensitive transfer system |
| JP4878327B2 (ja) | 2007-03-30 | 2012-02-15 | 富士フイルム株式会社 | 感熱転写受像シートおよびその製造方法 |
| JP2008246929A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-16 | Fujifilm Corp | 感熱転写受像シートおよび面状改質剤 |
| JP2008273641A (ja) | 2007-04-25 | 2008-11-13 | Fujifilm Corp | 感熱転写受像シート用紙管、感熱転写受像シートのロール形態加工物、及び画像形成方法 |
| JP4921287B2 (ja) | 2007-08-29 | 2012-04-25 | 富士フイルム株式会社 | 感熱転写受像シートおよびその製造方法 |
| JP2009096197A (ja) | 2007-09-27 | 2009-05-07 | Fujifilm Corp | 感熱転写受像シートの製造方法 |
| ATE481247T1 (de) | 2007-12-28 | 2010-10-15 | Fujifilm Corp | Verfahren zur bildgebung mittels wärmeempfindlichem übertragungssystem |
| JP2011062892A (ja) | 2009-09-16 | 2011-03-31 | Fujifilm Corp | 感熱転写受像シート |
| JP2011148285A (ja) | 2009-12-25 | 2011-08-04 | Fujifilm Corp | レンチキュラーレンズを有する感熱転写受像シートを用いた画像形成方法 |
-
1986
- 1986-08-25 JP JP19741886A patent/JPS6354975A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS6354975A (ja) | 1988-03-09 |
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