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JPH0542795B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0542795B2
JPH0542795B2 JP60241070A JP24107085A JPH0542795B2 JP H0542795 B2 JPH0542795 B2 JP H0542795B2 JP 60241070 A JP60241070 A JP 60241070A JP 24107085 A JP24107085 A JP 24107085A JP H0542795 B2 JPH0542795 B2 JP H0542795B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heating chamber
convex portion
magnetron
waveguide
heating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP60241070A
Other languages
English (en)
Other versions
JPS62100982A (ja
Inventor
Yukio Abe
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP24107085A priority Critical patent/JPS62100982A/ja
Publication of JPS62100982A publication Critical patent/JPS62100982A/ja
Publication of JPH0542795B2 publication Critical patent/JPH0542795B2/ja
Granted legal-status Critical Current

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  • Constitution Of High-Frequency Heating (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、高周波を利用して食品を加熱調理す
る高周波加熱装置に関するものである。
従来の技術 マグネトロンで発生した高周波を、導波管を用
いて加熱室内へ供給する高周波加熱装置では、第
4図に示すように、マグネトロン19で発生した
高周波は、導波管20を介して加熱室21の壁面
に設けた給電口22より加熱室21内へ供給され
る。一方、加熱室21の内底部には、被加熱物2
2を載置し加熱室21外に設けたモータ23によ
つて回転駆動するターンテーブル24を配設して
いた。また、前記マグネトロン19や高圧トラン
ス(図示せず)等の電源部品は、加熱室21の壁
面と装置本体の外装25a,25bとの間に設け
た機械室26に収容し、冷却フアン27によつて
冷却する構成となつていた。
発明が解決しようとする問題点 ところが、このような高周波加熱装置では次の
ような問題を有している。
(1) 加熱室21は略直方体であるため、単一共振
モードが生じ、しかも加熱室21を構成する壁
面は平面であり、電波の反射も単純なものとな
り易いため、ターンテーブル24だけの均一加
熱手段では、例えば卵料理(茶わん蒸し等)や
解凍等のきめ細かな加熱を必要とする調理に際
しては、加熱ムラが生じ易かつた。
(2) 装置全体の大きさは、ほぼ加熱室21と機械
室26とで決定づけられ、加熱室21の容積を
変えること無く装置の小型化を画るためには、
機械室26の容積の縮少が必要である。しか
し、機械室26側へ導波管20が突出している
ため冷却風路の障害物となり、結果としてマグ
ネトロン19等の電源部品の冷却効率も悪くな
り、電源部品ならびに機械室の小型縮小化が難
しかつた。
本発明は、このような従来の問題を解消するも
のであり、簡単な構成で均一加熱性に優れ、しか
も使い勝手の良い高周波加熱装置を提供すること
を目的とするものである。
問題点を解決するための手段 本発明の高周波加熱装置は、加熱室壁面に1/4
λ以上の幅を有する凸部を設け、その凸部の裏面
に対向してマグネトロンアンテナを配設したもの
である。
作 用 本発明の高周波加熱装置は、加熱室壁面に凸部
を設けたことによつて加熱室内の電波の乱反射が
促進され、さらに加熱室内に生ずる共振モードも
歪曲し、ターンテーブル周回後の均一加熱性が向
上する。また、前記凸部裏面にマグネトロンアン
テナの一部を収容することができるため、導波管
の薄型化が画れ、機械室の冷却性能の向上と装置
全体の小型化が達成できる効果を有するものであ
る。
実施例 以下、本発明の一実施例の高周波加熱装置を図
面を参照して説明する。
第1図から第3図に示すように、加熱室1の前
面開口部には開閉自在なドア2が設けられ、加熱
室1内の内底部には被加熱物3を載置しモータ4
で回転するターンテーブル5が配設されている。
加熱室1の壁面6には、加熱室1の内側へ突出し
高周波波長をλとしたとき幅l1を1/4λ以上とし
た凸部7を設け、この凸部7の裏面に対向してマ
グネトロン8のアンテナ9を配設し、マグネトロ
ン8で発生した高周波は導波管10を介して給電
口11より加熱室1内へ供給される。また、マグ
ネトロン8や高圧トランス12等の電源部品は、
装置の外装13a,13b,13cと側壁面6と
で囲まれた機械室14内に収容し、冷却フアン1
5によつて冷却される。
装置本体の前部には操作部16、給電口11に
は低誘電体から成る仕切板17、冷却フアン15
後部の外装13bには吸気孔18がそれぞれ配設
されている。
なお、導波管10は加熱室1の外側の壁面6に
取り付けられ、導波管の一部を構成する加熱室1
の壁面6に設けた凸部7の裏面に対向してマグネ
トロン8のアンテナ9が位置するよう、マグネト
ロン8を導波管10に取付けている。また、凸部
7は加熱室1の天井面からターンテーブル5の外
周に至る垂線より外側に設けてある。
以上のような構成によれば、凸部7は電界密度
の高い給電口11に近接して同一の側壁面6に設
けることにより、給電口11から放射される電波
が凸部7で乱反射され、さらに加熱室1内に発生
する共振モードの電界分布も歪曲し、ターンテー
ブル5の周回後の均一加熱性能が向上する。一
方、マグネトロン8のアンテナ9は凸部7の裏面
に対向して配設しているため、アンテナ9の一部
を凸部7の裏面側に収容することが可能となり、
導波管10の高さを低くしてもアンテナ8と側壁
面6との距離は近づかないためスパークの危険性
も無く、導波管10によつて機械室14内の冷却
風路を狭めることも少なくなり、冷却効率も向上
する。
さらに、導波管10の高さを低くすることによ
つて機械室13の幅l2も小さく出来、装置全体の
小型化や設置占有面積の縮小が画れる。
なお、凸部6はターンテーブル4の外周に下ろ
した垂線より外側に設けており、加熱室1の実質
的な有効容積を減少させないため、使い勝手を損
うことは無い。
発明の効果 以上のように本発明の高周波加熱装置は、加熱
室の壁面に高周波波長の1/4λ以上の幅を有する
凸部を配設し、この凸部の裏面に対向してマグネ
トロンのアンテナを設けたものであり、次のよう
な効果を有するため使い勝手に優れた高周波加熱
装置が提供できる。
(1) 凸部によつて加熱室内の高周波の乱反射が促
進され、さらに加熱室内に生ずる共振モードも
歪曲し、ターンテーブル周回後の均一加熱性が
向上する。
(2) マグネトロンアンテナは、加熱室内に突出す
る凸部に一部を収容できるため導波管の薄形化
が画れ、結果として導波管によつて機械室内の
冷却風路を阻害することが少なくなり冷却効率
が向上するとともに、加熱室の容積をほとんど
犠牲にすること無く装置全体の小型化や設置占
有面積の縮小が画る。
(3) マグネトロンは導波管に取り付けられている
ため、加熱室内に突出する凸部の高さは、アテ
テナ高さに直接関係なく導波管の高さを変える
ことにより任意に選定でき、加熱ムラの状況に
応じて凸部の形状を設定することが可能とな
る。
(4) マグネトロンは導波管に取り付けられている
ため、マグネトロンの作動に伴う自己発熱は導
波管を介して加熱室の壁面に伝わるため、加熱
室壁面の温度上昇を低下させることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例における高周波加熱
装置の平面断面図、第2図は同A−A′線におけ
る断面図、第3図は同外観斜視図、第4図は従来
の高周波加熱装置を示す正面断面図である。 1……加熱室、3……被加熱物、5……ターン
テーブル、6……壁面、7……凸部、8……マグ
ネトロン、9……アンテナ、10……導波管、1
3……外装、15……冷却フアン。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 1 被加熱物を収納する加熱室と、その加熱室の
    壁面に設けた給電口と、高周波を発生するマグネ
    トロンや高圧トランス等の電源部品と、その電源
    部品を冷却する冷却フアンと、前記加熱室の外側
    の壁面に取付けられ、前記マグネトロンで発生し
    た高周波を前記給電口に導く導波管と、前記加熱
    室内底部に設けられ被加熱物を載置し回転するタ
    ーンテーブルと、前記加熱室を覆う外装とを備
    え、前記加熱室の壁面に凸部を設け、この凸部は
    高周波波長をλとした時に1/4λ以上の幅を有し、
    その凸部の裏面に対向して前記マグネトロンのア
    ンテナが位置するよう前記マグネトロンを前記導
    波管に取付ける構成とした高周波加熱装置。 2 給電口と凸部は加熱室を構成する同一壁面に
    設ける構成とした特許請求の範囲第1項記載の高
    周波加熱装置。 3 凸部は、加熱室の天井面からターンテーブル
    の外周に下ろした垂線より外側に設ける構成とし
    た特許請求の範囲第1項記載の高周波加熱装置。
JP24107085A 1985-10-28 1985-10-28 高周波加熱装置 Granted JPS62100982A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24107085A JPS62100982A (ja) 1985-10-28 1985-10-28 高周波加熱装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP24107085A JPS62100982A (ja) 1985-10-28 1985-10-28 高周波加熱装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS62100982A JPS62100982A (ja) 1987-05-11
JPH0542795B2 true JPH0542795B2 (ja) 1993-06-29

Family

ID=17068847

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP24107085A Granted JPS62100982A (ja) 1985-10-28 1985-10-28 高周波加熱装置

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Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2004265616A (ja) 2003-02-05 2004-09-24 Matsushita Electric Ind Co Ltd マイクロ波加熱装置

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5127341B2 (ja) * 1971-12-03 1976-08-12

Family Cites Families (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5226283Y2 (ja) * 1973-12-18 1977-06-15
JPS5329556Y2 (ja) * 1974-08-20 1978-07-24

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5127341B2 (ja) * 1971-12-03 1976-08-12

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JPS62100982A (ja) 1987-05-11

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