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JPH0529761A - Wiring board adhesive and manufacture of printed wiring board using this adhesive and printed wiring board - Google Patents

Wiring board adhesive and manufacture of printed wiring board using this adhesive and printed wiring board

Info

Publication number
JPH0529761A
JPH0529761A JP20561791A JP20561791A JPH0529761A JP H0529761 A JPH0529761 A JP H0529761A JP 20561791 A JP20561791 A JP 20561791A JP 20561791 A JP20561791 A JP 20561791A JP H0529761 A JPH0529761 A JP H0529761A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resin
epoxy resin
heat
adhesive
matrix
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP20561791A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP2877993B2 (en
Inventor
Motoo Asai
元雄 浅井
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ibiden Co Ltd
Original Assignee
Ibiden Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ibiden Co Ltd filed Critical Ibiden Co Ltd
Priority to JP3205617A priority Critical patent/JP2877993B2/en
Publication of JPH0529761A publication Critical patent/JPH0529761A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP2877993B2 publication Critical patent/JP2877993B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

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    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K2203/00Indexing scheme relating to apparatus or processes for manufacturing printed circuits covered by H05K3/00
    • H05K2203/07Treatments involving liquids, e.g. plating, rinsing
    • H05K2203/0756Uses of liquids, e.g. rinsing, coating, dissolving
    • H05K2203/0773Dissolving the filler without dissolving the matrix material; Dissolving the matrix material without dissolving the filler

Landscapes

  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Epoxy Resins (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)
  • Chemically Coating (AREA)

Abstract

PURPOSE:To develop an adhesive which is capable of forming its clear anchor properties and having coating properties or proper viscosity and establish a printed wiring board manufacturing technology which uses the adhesive. CONSTITUTION:In the case of an adhesive wherein epoxy resin fine particles which are already thermoset and soluble to acid or a hardening agent is dispersed in uncured epoxy resin or acrylic resin matrixes having solution resistant properties against acid or an oxidizing agent when thermosetting treatment is carried out, this invention relates to the application of the epoxy resin cured with an amine hardening agent as the heat-resistant resin fine particles as specified above and the printed wiring board which uses the adhesive.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【産業上の利用分野】本発明は、無電解めっき性および
塗布性がともに優れた配線板用接着剤とこの接着剤を用
いたプリント配線板の製造方法およびプリント配線板に
関するものであり、特に耐熱性,電気特性および基板と
無電解めっき膜との密着性に優れた無電解めっきに適合
した接着剤とこの接着剤を用いたプリント配線板の製造
方法およびプリント配線板に関するものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an adhesive for wiring boards which is excellent in both electroless plating and coating properties, a method for producing a printed wiring board using this adhesive, and a printed wiring board. The present invention relates to an adhesive suitable for electroless plating, which is excellent in heat resistance, electrical characteristics, and adhesion between a substrate and an electroless plating film, a printed wiring board manufacturing method using the adhesive, and a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年、電子工業の進歩に伴い電子機器の
小型化あるいは高速化が進められており、このためプリ
ント配線板やLSIを実装する配線板においてもファイ
ンパターンによる高密度化および高い信頼性が要求され
ている。
2. Description of the Related Art In recent years, electronic devices have been reduced in size and increased in speed with the progress of the electronic industry. For this reason, printed wiring boards and wiring boards on which LSIs are mounted have high density and high reliability due to fine patterns. Sex is required.

【0003】従来、プリント配線板に導体回路を形成す
る方法としては、基板に銅箔を積層した後、フォトエッ
チングすることにより、導体回路を形成するエッチドフ
ォイル方法が広く行われている。この方法によれば、基
板との密着性に優れた導体回路を形成することができる
が、銅箔の厚さが厚いためにエッチングにより高精度の
ファインパターンが得難いという大きな欠点があり、さ
らに製造工程も複雑で効率が良くないなどの諸問題があ
る。
Conventionally, as a method for forming a conductor circuit on a printed wiring board, an etched foil method for forming a conductor circuit by laminating a copper foil on a substrate and then photoetching has been widely used. According to this method, it is possible to form a conductor circuit having excellent adhesion to the substrate, but there is a major drawback that it is difficult to obtain a highly accurate fine pattern by etching because the copper foil is thick, and further manufacturing There are various problems that the process is complicated and the efficiency is not good.

【0004】このため、最近、配線板に導体を形成する
方法として、ジエン系合成ゴムを含む接着剤を基板表面
に塗布して接着層を形成し、この接着層の表面を粗化し
た後、無電解めっきを施して導体を形成するアディティ
ブ法が採用されている。しかしながら、この方法で一般
的に使用されている接着剤は合成ゴムを含むため、例え
ば高温時に密着強度が大きく低下したり、ハンダ付けの
際に無電解めっき膜がふくれるなど耐熱性が低いこと
と、表面抵抗などの電気特性が充分でない欠点があり、
使用範囲がかなり制限されている。
Therefore, recently, as a method of forming a conductor on a wiring board, an adhesive containing a diene-based synthetic rubber is applied to the surface of a substrate to form an adhesive layer, and the surface of the adhesive layer is roughened. The additive method of applying electroless plating to form a conductor is adopted. However, since the adhesive that is commonly used in this method contains synthetic rubber, it has a low heat resistance, such as a large decrease in adhesion strength at high temperatures, or a blistering electroless plating film during soldering. , Has the drawback that the electrical characteristics such as surface resistance are not sufficient,
The range of use is quite limited.

【0005】これに対し、発明者らは、先に前述の如き
無電解めっきを施すための接着剤が有する欠点を解消
し、耐熱性,電気特性および無電解めっき膜との密着性
に極めて優れ、かつ比較的容易に実施できる無電解めっ
き用接着剤およびこの接着剤を用いた配線板の製造方法
を特開昭61−276875号公報で提案した。すなわち、この
開示された技術は、酸化剤に対して可溶性の予め硬化処
理された耐熱性樹脂粉末が、硬化処理することにより酸
化剤に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐熱性
樹脂液中に分散されてなることを特徴とする接着剤、お
よびこの接着剤を基板に塗布した後、乾燥硬化して接着
剤層を形成させ、前記接着剤層の表面部分に分散してい
る上記微粉末の少なくとも一部を溶解除去して接着剤層
の表面を粗化し、次いで無電解めっきを施すことを特徴
とする配線板の製造方法である。
On the other hand, the present inventors have solved the above-mentioned drawbacks of the adhesive for performing electroless plating, and have excellent heat resistance, electrical characteristics and adhesion to the electroless plated film. Japanese Patent Laid-Open No. 61-276875 proposes an adhesive for electroless plating which can be relatively easily carried out and a method for producing a wiring board using this adhesive. That is, the disclosed technique is that an uncured heat-resistant resin having a property that a pre-cured heat-resistant resin powder that is soluble in an oxidant is hardly soluble in an oxidant when it is hardened. An adhesive characterized by being dispersed in a liquid, and after applying the adhesive to a substrate, it is dried and cured to form an adhesive layer, and the adhesive is dispersed on the surface portion of the adhesive layer. In this method, at least a part of fine powder is dissolved and removed to roughen the surface of the adhesive layer, and then electroless plating is performed.

【0006】この既知技術によれば、上記接着剤は、予
め硬化処理された耐熱性樹脂微粉末が耐熱性樹脂液中に
分散されており、この接着剤を基板に塗布し乾燥硬化さ
せるとマトリックスを形成する耐熱性樹脂中に耐熱性樹
脂微粉末が均一に分散した状態の接着剤層が形成され
る。そして、前記耐熱性樹脂微粉末とマトリックス耐熱
性樹脂とは酸化剤に対する溶解性に差異があるため、前
記接着層を酸化剤で処理することにより、接着層の表面
部分に分散している微粉末が主として溶解除去され、効
果的なアンカー窪みが形成されて接着剤層の表面を均一
粗化でき、ひいては基板と無電解めっき膜との高い密着
強度と高い信頼性が得られる。
According to this known technique, in the above-mentioned adhesive, the heat-resistant resin fine powder which has been previously cured is dispersed in the heat-resistant resin liquid, and when this adhesive is applied to the substrate and dried and cured, the matrix is formed. The heat-resistant resin fine powder is uniformly dispersed in the heat-resistant resin forming the adhesive layer. Since the heat-resistant resin fine powder and the matrix heat-resistant resin have different solubilities with respect to the oxidizing agent, the fine powder dispersed in the surface portion of the adhesive layer by treating the adhesive layer with the oxidizing agent. Is mainly dissolved and removed, an effective anchor dent is formed, the surface of the adhesive layer can be uniformly roughened, and high adhesion strength and high reliability between the substrate and the electroless plated film can be obtained.

【0007】[0007]

【発明が解決しようとする課題】ところで、この耐熱性
樹脂微粉末としては、耐熱性と電気絶縁性に優れ、通常
の薬品に対して安定で、しかも予め硬化処理を施した場
合には耐熱性樹脂あるいはこの樹脂を溶解する溶剤に対
して難溶性であることが要求され、さらにはクロム酸な
どの酸化剤により溶解することができる特性を具備する
樹脂である必要性から、エポキシ樹脂などの数種の樹脂
が挙げられた。
By the way, this heat-resistant resin fine powder has excellent heat resistance and electrical insulation properties, is stable to ordinary chemicals, and has a heat resistance when pre-cured. Since it is required to be sparingly soluble in a resin or a solvent that dissolves this resin, and further, it is necessary to have a characteristic that it can be dissolved by an oxidizing agent such as chromic acid, the number of epoxy resins, etc. Seed resins were mentioned.

【0008】しかしながら、その樹脂の硬化手段によっ
ては、必ずしも上記特性を全て具備した良好な耐熱性樹
脂微粉末が得られないのが実情であった。例えば、硬化
剤の選択によっては、耐熱性樹脂微粉末の酸化剤に対す
る溶解性が不十分となり、明確なアンカーが形成され
ず、その結果ピール強度が低下し、導体パットが剥がれ
てしまうなど、実装信頼性に問題があった。
However, it is the actual situation that a good heat-resistant resin fine powder having all of the above characteristics cannot be obtained depending on the means for curing the resin. For example, depending on the selection of the curing agent, the solubility of the heat-resistant resin fine powder in the oxidizing agent becomes insufficient, a clear anchor is not formed, and as a result, the peel strength is reduced and the conductor pad is peeled off. There was a problem with reliability.

【0009】本発明の目的は、上記従来技術が抱える問
題点を克服することにあり、特に、明確なアンカーが容
易に形成できる耐熱性樹脂微粉末の成分を見出し、接着
剤の無電解めっき性を損なうこと無く、かつ塗布性に優
れた接着剤とこれを用いたプリント配線板の製造方法お
よびプリント配線板を提案することにある。
An object of the present invention is to overcome the problems of the above-mentioned prior art. In particular, the inventors have found a component of heat-resistant resin fine powder that can easily form a clear anchor, and have found out the electroless plating property of the adhesive. An object of the present invention is to provide an adhesive having excellent coating properties without impairing the properties, a method for manufacturing a printed wiring board using the same, and a printed wiring board.

【0010】[0010]

【課題を解決するための手段】発明者らは、上記の如き
問題点克服のために鋭意研究した結果、エポキシ樹脂の
硬化剤としてアミン系硬化剤を使用することにより、所
望の耐熱性樹脂微粉末を得ることができることを見出
し、本発明に想到した。
Means for Solving the Problems As a result of intensive studies for overcoming the above-mentioned problems, the inventors have found that the use of an amine-based curing agent as a curing agent for an epoxy resin makes it possible to obtain a desired heat-resistant resin composition. The inventors have found that a powder can be obtained, and have arrived at the present invention.

【0011】すなわち、本発明の接着剤は、第1に、酸
あるいは酸化剤に対して可溶性である硬化処理済の耐熱
性樹脂微粉末を、硬化処理が施された場合には酸あるい
は酸化物に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐
熱性樹脂マトリックス中に分散させてなる接着剤におい
て、前記耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化
されたエポキシ樹脂を用い、前記耐熱性樹脂マトリック
スとしてイミダゾール系硬化剤で硬化されるエポキシ樹
脂を用いることを特徴とする配線板用接着剤である。な
お、このマトリックスは、不燃化処理のためハロゲン化
されていてもよい。
That is, the adhesive of the present invention is, firstly, a cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidant, and when cured, is treated with an acid or an oxide. In an adhesive agent which is dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix having a property of being poorly soluble to, an epoxy resin cured with an amine curing agent is used as the heat-resistant resin fine powder, and the heat resistance is An adhesive for wiring boards, characterized in that an epoxy resin cured with an imidazole-based curing agent is used as a resin matrix. Note that this matrix may be halogenated for incombustibility treatment.

【0012】ここで、前記樹脂微粉末を分散させる耐熱
性樹脂マトリックスは、多官能性エポキシ樹脂および
2官能性エポキシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1
種、もしくは、多官能性エポキシ樹脂および2官能性
エポキシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1種とイミ
ダゾール系硬化剤の混合物、からなり、上記マトリック
スは、固形分で、20〜100 wt%の多官能性エポキシ樹脂
と0〜80wt%の2官能性エポキシ樹脂とからなる耐熱性
樹脂と、マトリックスの合計固形分に対して2〜10wt%
のイミダゾール系硬化剤とで構成することが望ましい。
Here, the heat resistant resin matrix in which the resin fine powder is dispersed is at least one selected from polyfunctional epoxy resins and difunctional epoxy resins.
Or a mixture of at least one selected from a polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin and an imidazole-based curing agent, and the matrix has a solid content of 20 to 100 wt% of a polyfunctional epoxy resin. -Resistant resin consisting of basic epoxy resin and 0 to 80 wt% difunctional epoxy resin, and 2 to 10 wt% based on the total solid content of the matrix
It is desirable to use the imidazole-based curing agent.

【0013】第2に、酸あるいは酸化剤に対して可溶性
である硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施
された場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる
特性を有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散
させてなる接着剤において、前記耐熱性樹脂微粉末とし
てアミン系硬化剤で硬化されたエポキシ樹脂を用い、前
記耐熱性樹脂マトリックスとしてエポキシ樹脂,アクリ
ル基を有する樹脂およびアクリル樹脂から選ばれる少な
くとも1種を用いることを特徴とする配線板用接着剤で
ある。なお、このマトリックスは、不燃化処理のためハ
ロゲン化されていてもよい。
Second, the hardened heat-resistant resin fine powder which is soluble in acid or oxidant has a characteristic that it becomes hardly soluble in acid or oxide when it is hardened. In the adhesive which is dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix, an epoxy resin cured with an amine curing agent is used as the heat-resistant resin fine powder, and an epoxy resin and an acrylic group are used as the heat-resistant resin matrix. It is an adhesive for wiring boards, characterized by using at least one selected from the above-mentioned resins and acrylic resins. Note that this matrix may be halogenated for incombustibility treatment.

【0014】ここで、前記樹脂微粉末を分散させる耐熱
性樹脂マトリックスは、多官能性の、エポキシ樹脂,
アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂から選ばれ
る少なくとも1種、もしくは前記,,の樹脂から
選ばれる少なくとも1種と2官能性の、エポキシ樹
脂,アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種の樹脂
との混合樹脂からなり、上記マトリックス中の耐熱性樹
脂は、固形分で、20〜100 wt%の多官能性の、エポキ
シ樹脂,アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂か
ら選ばれる少なくとも1種と、0〜80wt%の2官能性
の、エポキシ樹脂,アクリル樹脂から選ばれる少な
くとも1種とからなることが好適である。
The heat-resistant resin matrix in which the resin fine powder is dispersed is a polyfunctional epoxy resin,
Resin having acrylic group, at least one selected from acrylic resin, or mixed resin of at least one selected from the above-mentioned resins and at least one resin selected from bifunctional epoxy resin and acrylic resin The heat-resistant resin in the matrix is, in terms of solid content, at least one selected from a polyfunctional epoxy resin, an acrylic group-containing resin, and an acrylic resin having a polyfunctional content of 20 to 100 wt%, and 0 to 80 wt%. It is preferable that it is composed of at least one kind of bifunctional epoxy resin and acrylic resin.

【0015】なお、上述した接着剤は、上記接着剤のそ
の粘度を、回転粘度計で測定した値が、回転数6rpm の
とき5.1 ±2.0 Pa・s ,より好ましくは5.1 ±0.7 Pa・
s 、回転数60rpmのとき2.4 ±1.0 Pa・s ,より好ま
しくは2.4 ±0.3 Pa・s を示し、かつ回転数6rpmの
粘度と回転数60rpmの粘度との比が2.1 ±1.0 ,より
好ましくは2.1 ±0.4 を示すものであり、またマトリッ
クス中の耐熱性樹脂微粉末,未硬化の耐熱性樹脂および
硬化剤の固形分濃度は、55〜85wt%であり、さらには耐
熱性樹脂微粉末の含有量は、耐熱性樹脂マトリックスと
硬化剤もしくは光開始剤の混合物、あるいは硬化剤もし
くは光開始剤を含んだマトリックスの固形分100 重量部
に対して10〜100 重量部である。
The above-mentioned adhesive has a viscosity of the above adhesive measured by a rotational viscometer of 5.1 ± 2.0 Pa · s, more preferably 5.1 ± 0.7 Pa · s when the rotation speed is 6 rpm.
s at a rotation speed of 60 rpm, 2.4 ± 1.0 Pa ・ s, more preferably 2.4 ± 0.3 Pa ・ s, and the ratio of the viscosity at a rotation speed of 6 rpm to the viscosity at a rotation speed of 60 rpm is 2.1 ± 1.0, more preferably 2.1. ± 0.4, and the solid content concentration of heat-resistant resin fine powder, uncured heat-resistant resin and curing agent in the matrix is 55 to 85 wt%, and the content of heat-resistant resin fine powder Is 10 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the solid content of the mixture of the heat-resistant resin matrix and the curing agent or photoinitiator, or the matrix containing the curing agent or photoinitiator.

【0016】上記接着剤を用いる本発明のプリント配線
板製造方法は、上述した接着剤を、基板上にロールコー
ター,カーテンコーター,スクリーン印刷およびスプレ
ーコーターなどで塗布した後、乾燥硬化して接着剤層を
形成させ、前記接着剤層の表面部分に分散している熱硬
化性微粉末の少なくとも一部を溶解除去して接着剤層の
表面を粗化し、その後無電解めっきを施すことを特徴と
するアディティブプロセスによる方法である。
According to the method for producing a printed wiring board of the present invention using the above-mentioned adhesive, the above-mentioned adhesive is applied onto the substrate by a roll coater, curtain coater, screen printing or spray coater, and then dried and cured to obtain the adhesive. A layer is formed, and at least a part of the thermosetting fine powder dispersed in the surface portion of the adhesive layer is dissolved and removed to roughen the surface of the adhesive layer, and then electroless plating is performed. This is a method using an additive process.

【0017】そして、上記製造方法によって得られる本
発明のプリント配線板は、少なくとも一方の基板表面に
接着剤層を設けて、その上に導体回路を形成してなるプ
リント配線板において、酸あるいは酸化剤に対して可溶
性である硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が
施された場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性とな
る特性を有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分
散させてなる接着剤として、前記耐熱性樹脂微粉末がア
ミン系硬化剤で硬化されたエポキシ樹脂としたことを特
徴とし、前記耐熱性樹脂マトリックスがイミダゾール系
硬化剤で硬化されるエポキシ樹脂、もしくはエポキシ樹
脂,アクリル基を有する樹脂,およびアクリル樹脂であ
るものを用いることを特徴とするプリント配線板であ
る。
The printed wiring board of the present invention obtained by the above manufacturing method has an adhesive layer on at least one substrate surface, and a conductor circuit is formed on the adhesive layer. The cured heat-resistant resin fine powder that is soluble in the agent is placed in an uncured heat-resistant resin matrix that has the property of being hardly soluble in acids or oxides when cured. As the dispersed adhesive, the heat-resistant resin fine powder is an epoxy resin cured with an amine curing agent, the heat-resistant resin matrix is an epoxy resin cured with an imidazole curing agent, or A printed wiring board is characterized by using an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin.

【0018】[0018]

【作用】発明者らは、耐熱性樹脂微粉末用樹脂の硬化剤
を種々変化させて研究した結果、耐熱性樹脂微粉末とし
てアミン系硬化剤で硬化したエポキシ樹脂が好適である
ことを見出したのである。このアミン系硬化剤で硬化し
たエポキシ樹脂が好適である理由を以下に示す。
As a result of various researches on the curing agent for the resin for heat-resistant resin fine powder, the inventors have found that epoxy resin cured with an amine-based curing agent is suitable as the heat-resistant resin fine powder. Of. The reason why the epoxy resin cured with this amine-based curing agent is suitable is shown below.

【0019】すなわち、エポキシ樹脂のエポキシ基とア
ミン系硬化剤のアミノ基の活性水素との硬化反応により
形成されるセグメント構造が、酸あるいは酸化剤に対し
て、特に溶解性が高いことを見出したものであり、アミ
ン系硬化剤を用いることにより、酸化剤に易溶で、しか
も耐熱性が高い樹脂微粉末を得ることができるからであ
る。このようなセグメントとしては、例えば下記のよう
な構造が考えられる。
That is, it has been found that the segment structure formed by the curing reaction between the epoxy group of the epoxy resin and the active hydrogen of the amino group of the amine-based curing agent is particularly soluble in an acid or an oxidizing agent. This is because, by using the amine-based curing agent, it is possible to obtain a resin fine powder that is easily soluble in the oxidizing agent and has high heat resistance. As such a segment, for example, the following structure can be considered.

【0020】従って、本発明では、上述したアミン系硬
化剤で硬化したエポキシ樹脂を耐熱性樹脂微粉末として
使用することにより、効果的なアンカー窪みを容易に形
成させることができ、それ故に塗布状態、膜厚およびピ
ール強度の全ての条件に満足した接着剤を得ることがで
きるようになる。
Therefore, in the present invention, an effective anchor dent can be easily formed by using the epoxy resin cured with the above-mentioned amine-based curing agent as the heat-resistant resin fine powder, and therefore the coated state can be improved. It becomes possible to obtain an adhesive satisfying all the conditions of film thickness and peel strength.

【0021】なお、耐熱性樹脂微粉末の配合量は、樹脂
マトリックスの合計固形分100 重量部に対して、10〜10
0 重量部の範囲が好ましい。この理由は、この微粉末の
配合量が10重量部より少ないと、溶解除去して形成され
るアンカーが明確に形成されない。一方、微粉末の配合
量が100 重量部よりも多くなると、接着剤層が多孔質に
なり、接着剤層と無電解めっき膜の密着強度(ピール強
度)が低下するからである。
The amount of the heat-resistant resin fine powder compounded is 10 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the total solid content of the resin matrix.
A range of 0 parts by weight is preferred. The reason for this is that if the amount of the fine powder is less than 10 parts by weight, the anchor formed by dissolution and removal will not be clearly formed. On the other hand, if the blending amount of the fine powder is more than 100 parts by weight, the adhesive layer becomes porous and the adhesion strength (peel strength) between the adhesive layer and the electroless plating film decreases.

【0022】また、前記耐熱性樹脂微粉末の粒度は、平
均粒径が10μm以下であることが好ましく、特に5μm
以下であることが好適である。その理由は、平均粒径が
10μmより大きいと、溶解除去して形成されるアンカー
の密度が小さくなり、かつ不均一になりやすいため、密
着強度とその信頼性が低下する。しかも、接着剤層表面
の凹凸が激しくなるので、導体の微細パターンが得にく
く、かつ部品などを実装する上でも好ましくないからで
ある。
The particle size of the heat-resistant resin fine powder is preferably 10 μm or less, particularly 5 μm.
The following is preferable. The reason is that the average particle size is
If it is larger than 10 μm, the density of the anchor formed by dissolution and removal tends to be small and the anchor tends to be non-uniform, so that the adhesion strength and its reliability are deteriorated. Moreover, since the unevenness of the surface of the adhesive layer becomes severe, it is difficult to obtain a fine pattern of the conductor, and it is not preferable for mounting components and the like.

【0023】このような耐熱性樹脂微粉末としては、例
えば、平均粒径が2μm以下の耐熱性樹脂粉末を凝集さ
せて平均粒径2〜10μmの大きさとした凝集粒子、平均
粒径2〜10μmの耐熱性樹脂粉末と平均粒径が2μm以
下の耐熱性樹脂粉末との粒子混合物、または平均粒径2
〜10μmの耐熱性樹脂粉末の表面に平均粒径が2μm以
下の耐熱性樹脂粉末もしくは無機微粉末のいずれか少な
くとも1種を付着させてなる疑似粒子のなかから選ばれ
ることが望ましい。
As such a heat-resistant resin fine powder, for example, agglomerated particles obtained by aggregating heat-resistant resin powder having an average particle size of 2 μm or less to have an average particle size of 2 to 10 μm, average particle size of 2 to 10 μm A particle mixture of the heat-resistant resin powder and the heat-resistant resin powder having an average particle diameter of 2 μm or less, or an average particle diameter of 2
It is preferable to select from pseudo particles formed by adhering at least one of a heat-resistant resin powder having an average particle size of 2 μm or less and an inorganic fine powder on the surface of the heat-resistant resin powder of ˜10 μm.

【0024】ここで、本発明で使用するマトリックス耐
熱性樹脂としては、耐熱性,電気絶縁性,化学的安定性
および接着性に優れ、かつ硬化処理することにより酸化
剤に対して難溶性となる特性を有する樹脂であれば使用
することができ、特に、前記樹脂微粉末を分散させる耐
熱性樹脂マトリックスが、多官能性の、エポキシ樹
脂,アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種の樹脂、もしくは前記,,
の樹脂から選ばれる少なくとも1種と2官能性の、エ
ポキシ樹脂,アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1
種との混合樹脂からなることが望ましい。
Here, the matrix heat-resistant resin used in the present invention has excellent heat resistance, electrical insulation, chemical stability and adhesiveness, and becomes hard to be dissolved in an oxidant by curing treatment. Any resin having characteristics can be used, and in particular, the heat-resistant resin matrix in which the resin fine powder is dispersed is at least one selected from polyfunctional epoxy resins, acrylic group-containing resins, and acrylic resins. Resin, or the above,
At least one selected from the above resins and at least one selected from bifunctional epoxy resins and acrylic resins
Desirably it is made of a mixed resin with the seed.

【0025】この上記マトリックス中の耐熱性樹脂は、
固形分で、20〜100 wt%の多官能性の、エポキシ樹
脂,アクリル基を有する樹脂,アクリル樹脂から選
ばれる少なくとも1種と、0〜80wt%の2官能性の、
エポキシ樹脂,アクリル樹脂から選ばれる少なくとも
1種との混合樹脂からなることが好適である。この理由
は、多官能性樹脂の固形分20wt%より少ない場合には、
接着剤の硬度が低下し、しかも耐薬品性が低下するから
である。
The heat resistant resin in this matrix is
In terms of solid content, at least one selected from an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin having a polyfunctionality of 20 to 100 wt% and a bifunctionality of 0 to 80 wt%,
It is preferable to use a mixed resin with at least one selected from an epoxy resin and an acrylic resin. The reason for this is that when the solid content of the polyfunctional resin is less than 20 wt%,
This is because the hardness of the adhesive decreases and the chemical resistance also decreases.

【0026】また、このマトリックス樹脂の硬化剤とし
ては、DICY,アミン系硬化剤,酸無水物およびイミダゾ
ール系硬化剤などがよい。特に、エポキシ樹脂の場合
は、このマトリックスの合計固形分に対して2〜10wt%
のイミダゾール系硬化剤を含有させることが好ましい。
この理由は、10wt%を超えると硬化しすぎて脆くなり、
2wt%より少ないと硬化が不十分なためである。
As a curing agent for this matrix resin, DICY, an amine type curing agent, an acid anhydride, an imidazole type curing agent and the like are preferable. In particular, in the case of epoxy resin, it is 2 to 10 wt% with respect to the total solid content of this matrix.
It is preferable to include the imidazole-based curing agent.
The reason for this is that if it exceeds 10 wt%, it becomes too hard and becomes brittle.
This is because if it is less than 2 wt%, the curing will be insufficient.

【0027】なお、硬化済の2官能性エポキシ樹脂微粉
末を、未硬化の多官能性エポキシ樹脂および2官能性エ
ポキシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1種の耐熱性
樹脂マトリックス中に分散させてなる混合物は、イミダ
ゾール系硬化剤とそれぞれ分離して保存し、使用直前に
この両者を混合し、使用することが望ましい。
The hardened bifunctional epoxy resin fine powder is dispersed in at least one heat-resistant resin matrix selected from uncured polyfunctional epoxy resin and bifunctional epoxy resin. It is desirable that the mixture is stored separately from the imidazole-based curing agent, and both are mixed and used immediately before use.

【0028】また、このマトリックス用耐熱性樹脂とし
ては、溶剤を含まない耐熱性樹脂をそのまま使用するこ
ともできるが、耐熱性樹脂を溶剤に溶解してなる耐熱性
樹脂は、粘度調節が容易にできるため微粉末を均一に分
散させることができ、しかも基板に塗布し易いので有利
に使用することができる。なお、前記耐熱性樹脂を溶解
するのに使用する溶剤としては、通常溶剤、例えばメチ
ルエチルケトン,メチルセロソルブ,エチルセロソル
ブ,ブチルセロソルブ,ブチルセロソルブアセテート,
ブチルカルビトール,ブチルセルロース,テトラリン,
ジメチルホルムアミド,ノルマルメチルピロリドンなど
を挙げることができる。また、上記マトリックス耐熱性
樹脂に、例えば、フッ素樹脂やポリイミド樹脂,ベンゾ
グアナミン樹脂などの有機質充填剤、あるいはシリカや
アルミナ,酸化チタン,ジルコニアなどの無機質微粉末
からなる充填剤を適宜配合してもよい。その他、着色剤
(顔料),レベリング剤,消泡剤,紫外線吸収剤および
難燃化剤などの添加剤を用いることができる。
As the heat-resistant resin for the matrix, a heat-resistant resin containing no solvent can be used as it is, but the heat-resistant resin obtained by dissolving the heat-resistant resin in the solvent can easily adjust the viscosity. Therefore, the fine powder can be uniformly dispersed, and since it can be easily applied to the substrate, it can be advantageously used. The solvent used for dissolving the heat resistant resin is usually a solvent such as methyl ethyl ketone, methyl cellosolve, ethyl cellosolve, butyl cellosolve, butyl cellosolve acetate,
Butyl carbitol, butyl cellulose, tetralin,
Examples thereof include dimethylformamide and normal methylpyrrolidone. In addition, for example, an organic filler such as a fluororesin, a polyimide resin, or a benzoguanamine resin, or a filler made of an inorganic fine powder such as silica, alumina, titanium oxide, or zirconia may be appropriately mixed with the matrix heat-resistant resin. . In addition, additives such as colorants (pigments), leveling agents, defoaming agents, ultraviolet absorbers and flame retardants can be used.

【0029】次に、前記接着剤を用いてプリント配線板
を製造する方法について説明する。本発明の製造方法
は、基板上に、耐熱性樹脂微粉末をマトリックスとなる
耐熱性樹脂中に分散させて得られる前記接着剤を、ロー
ルコーターなどにより塗布し、乾燥硬化して、接着剤層
を形成する。この接着剤層の厚さは通常2〜40μm程度
であるが、この接着剤層を金属基板や多層配線板の層間
絶縁層を兼ねて使用する場合にはそれ以上に厚く塗布す
ることもできる。
Next, a method of manufacturing a printed wiring board using the adhesive will be described. The production method of the present invention, the adhesive obtained by dispersing the heat-resistant resin fine powder in the heat-resistant resin as a matrix on the substrate, is applied by a roll coater or the like, dried and cured, the adhesive layer To form. The thickness of this adhesive layer is usually about 2 to 40 μm, but when this adhesive layer is also used as an interlayer insulating layer of a metal substrate or a multilayer wiring board, it can be applied thicker than that.

【0030】この塗布に当っては、耐熱性樹脂マトリッ
クスがエポキシ樹脂の場合は、コーティングローラとド
クターバーとの隙間を0.2 〜0.6mm 、搬送速度を0.1 〜
3.0m/分とすることが好ましい。この理由は、前記隙間
が0.6mm より広いと塗膜にムラが発生しやすく、0.2mm
より狭いと適切な膜厚を得難いからである。また、搬送
速度が0.1mm /分より遅いと量産性に欠け、3.0mm /分
より速いと膜厚が不均一となるからである。一方、耐熱
性樹脂マトリックスがアクリル基を有する樹脂もしくは
アクリル樹脂の場合も同様である。
In this coating, when the heat-resistant resin matrix is an epoxy resin, the gap between the coating roller and the doctor bar is 0.2 to 0.6 mm, and the conveying speed is 0.1 to.
It is preferably 3.0 m / min. The reason for this is that if the above-mentioned gap is wider than 0.6 mm, the coating film tends to be uneven and
This is because if it is narrower, it is difficult to obtain an appropriate film thickness. Also, if the transport speed is lower than 0.1 mm / min, the mass productivity is poor, and if it is higher than 3.0 mm / min, the film thickness becomes non-uniform. On the other hand, the same applies when the heat-resistant resin matrix is a resin having an acrylic group or an acrylic resin.

【0031】本発明の製造方法で使用する上記基板とし
ては、例えばプラスチック基板,セラミック基板,金属
基板およびフィルム基板などを使用することができ、具
体的にはガラスエポキシ基板,ガラスポリイミド基板,
アルミナ基板,低温焼成セラミック基板,窒化アルミニ
ウム基板,アルミニウム基板,鉄基板およびポリイミド
フィルム基板などを使用することができる。そして、こ
れらの基板を用いて、片面配線板,両面スルーホール配
線板およびCu/ポリイミド多層配線板のような多層配線
板などを製作することができる。なお、上記接着剤その
ものを板状あるいはフィルム状プリプレグに成形して無
電解めっきを施すことのできる接着性を有する基体とす
ることもできる。
As the substrate used in the manufacturing method of the present invention, for example, a plastic substrate, a ceramic substrate, a metal substrate, a film substrate or the like can be used. Specifically, a glass epoxy substrate, a glass polyimide substrate,
An alumina substrate, a low temperature fired ceramic substrate, an aluminum nitride substrate, an aluminum substrate, an iron substrate, a polyimide film substrate or the like can be used. Then, using these substrates, a single-sided wiring board, a double-sided through-hole wiring board, and a multilayer wiring board such as a Cu / polyimide multilayer wiring board can be manufactured. The adhesive itself may be molded into a plate-shaped or film-shaped prepreg to be used as a substrate having an adhesive property capable of performing electroless plating.

【0032】次いで、前記接着層の表面に分散している
耐熱性樹脂微粉末微粉末の少なくとも一部を、酸もしく
は酸化剤を用いて溶解除去する。この方法としては、前
記酸もしくは酸化剤の溶液を用いて、接着層を形成した
基板をその溶液中に浸漬するか、あるいは基板に酸もし
くは酸化剤溶液をスプレーするなどの手段によって実施
することができ、その結果接着層の表面を粗化すること
ができる。なお、この耐熱性樹脂微粉末フィラーの溶解
除去を効果的に行わせることを目的として、予め前記接
着層の表面部分を、例えば微粉研磨剤によるポリシング
や液体ホーニングを行うことにより軽く粗化することが
極めて有効である。
Next, at least a part of the heat resistant resin fine powder fine powder dispersed on the surface of the adhesive layer is dissolved and removed using an acid or an oxidizing agent. This method may be carried out by using the solution of the acid or the oxidant, immersing the substrate on which the adhesive layer is formed in the solution, or spraying the substrate with the acid or the oxidant solution. As a result, the surface of the adhesive layer can be roughened. In order to effectively remove the heat-resistant resin fine powder filler by dissolving, the surface portion of the adhesive layer is lightly roughened in advance by polishing or liquid honing with a fine powder abrasive, for example. Is extremely effective.

【0033】接着剤を粗化する酸化剤としては、クロム
酸やクロム酸塩,過マンガン酸塩,オゾンなどがよい。
また、酸としては、塩酸や硫酸,有機酸などがよい。
As the oxidizing agent for roughening the adhesive, chromic acid, chromate, permanganate, ozone, etc. are preferable.
As the acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, organic acid and the like are preferable.

【0034】そしてその後、基板上の表面粗化された接
着層に無電解めっきを施して、所望のプリント配線板を
得る。この無電解めっきとしては、例えば無電解銅めっ
き,無電解ニッケルめっき,無電解スズめっき,無電解
金めっきおよび無電解銀めっきなどを挙げることがで
き、特に無電解銅めっき,無電解ニッケルめっきおよび
無電解金めっきのいずれか少なくとも1種であることが
好適である。なお、前記無電解めっきを施した上に更に
異なる種類の無電解めっきあるいは電気めっきを行った
り、ハンダをコートしたりすることもできる。
Then, the surface-roughened adhesive layer on the substrate is subjected to electroless plating to obtain a desired printed wiring board. Examples of the electroless plating include electroless copper plating, electroless nickel plating, electroless tin plating, electroless gold plating and electroless silver plating, and especially electroless copper plating, electroless nickel plating and It is preferable that the electroless gold plating is at least one kind. In addition, it is also possible to further perform different types of electroless plating or electroplating on the above-mentioned electroless plating, or to coat solder.

【0035】なお、上述したような本発明の方法により
得られた配線板は、既知のプリント配線板について実施
されている種々の方法でも導体回路を形成することがで
き、例えば基板に無電解めっきを施してから回路をエッ
チングする方法や無電解めっきを施す際に直接回路を形
成する方法などを適用することができる。
The wiring board obtained by the method of the present invention as described above can be formed with a conductor circuit by various methods which have been carried out for known printed wiring boards. For example, electroless plating is performed on a substrate. It is possible to apply a method of etching the circuit after performing the above, or a method of directly forming the circuit when performing the electroless plating.

【0036】次に、上述のようにして得られる本発明の
プリント配線板について説明する。本発明のプリント配
線板としては、例えば、図1(f),図3(f) に示すように
基板1上に接着剤層2を介してめっきレジスト3および
導体回路4を形成してなる片面プリント配線板、図2
(f),図4(f)に示すように基板1両面の接着剤層2とス
ルーホール5を介してめっきレジスト3および導体回路
4を形成してなる両面プリント配線板、および図5〜図
10に示すように第1導体層4を形成させた基板1′上
に、バイアホール7を有する層間絶縁層(接着剤層)
2′を介した導体回路(4,6,8,10)を多層形成させてな
るビルドアップ多層配線板において、
Next, the printed wiring board of the present invention obtained as described above will be described. As the printed wiring board of the present invention, for example, as shown in FIG. 1 (f) and FIG. 3 (f), a single-sided surface is obtained by forming a plating resist 3 and a conductor circuit 4 on a substrate 1 via an adhesive layer 2. Printed wiring board, Figure 2
(f), a double-sided printed wiring board formed by forming a plating resist 3 and a conductor circuit 4 through an adhesive layer 2 and through holes 5 on both sides of a substrate 1 as shown in FIG.
As shown in 10, an interlayer insulating layer (adhesive layer) having a via hole 7 on the substrate 1'on which the first conductor layer 4 is formed
In a build-up multilayer wiring board in which conductor circuits (4, 6, 8, 10) via 2'are formed in multiple layers,

【0037】上記接着剤が、いずれの場合も、酸あるい
は酸化剤に対して可溶性である硬化処理済の耐熱性樹脂
微粉末を、硬化処理が施された場合には酸あるいは酸化
物に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐熱性樹
脂マトリックス中に分散させてなるものであり、前記耐
熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化されたエポ
キシ樹脂を用いることを特徴とし、前記耐熱性樹脂マト
リックスは、多官能性の、エポキシ樹脂,アクリル
基を有する樹脂およびアクリル樹脂から選ばれる少な
くとも1種の樹脂、もしくは前記,,の樹脂から
選ばれる少なくとも1種と2官能性の、エポキシ樹脂
およびアクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種との
混合樹脂からなることが望ましい。なお、エポキシ樹脂
の場合は、イミダゾール系硬化剤で硬化させることが有
利である。
In any case, the above-mentioned adhesive is hardened heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidizing agent, and when hardened, it is applied to an acid or an oxide. It is one which is dispersed in an uncured heat-resistant resin matrix having a property of becoming poorly soluble, characterized by using an epoxy resin cured with an amine curing agent as the heat-resistant resin fine powder, The resin matrix is a polyfunctional epoxy resin, at least one resin selected from an acrylic group-containing resin and an acrylic resin, or at least one resin selected from the above resins and a bifunctional epoxy resin. It is desirable to use a mixed resin with at least one selected from acrylic resins. In the case of an epoxy resin, it is advantageous to cure it with an imidazole-based curing agent.

【0038】[0038]

【実施例】(実施例1) (1) ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)
100 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として鎖上脂肪族
ポリアミン(ジエチレントリアミン;住友化学製)を8
重量部配合した後、100 ℃で2時間乾燥硬化した。この
硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕し、その後、液体窒素
で凍結させながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニュー
マチック工業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機
(日本ドナルドソン製)を使用して分級して、平均粒径
1.7μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)60重量部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化
シェル製)40重量部およびイミダゾール系硬化剤(四国
化成製)5重量部をブチルセロソルブアセテートに溶解
し、この組成物の固形分100 重量部に対して、(1) で作
成した微粉末を50重量部の割合で混合して、その後3本
ロールで混練し、さらにブチルセロソルブアセテートを
添加して固形分濃度75%の接着剤溶液を作成した。この
溶液の粘度は、JIS−K7117に準じ、東京計器製デジ
タル粘度計を用い、20℃、60秒間測定したところ、回転
数6rpm で5.2 Pa・s 、60rpm で2.5 Pa・s であり、そ
のSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であった。 (3) ガラスエポキシ樹脂基板1を研磨により粗化し、J
IS−B0601 Rmax =2〜3μmの粗面を形成後、前
記(2) で作成した感光性樹脂組成物の溶液をロールコー
ターを用いて塗布した。この時の塗布方法は、コーティ
ングロールとして、中高粘度用レジスト用コーティング
ロール(大日本スクリーン製)を用い、コーティングロ
ーラとドクターバーとの隙間を0.4mm 、コーティングロ
ーラとバックアップローラとの隙間を1.4mm および搬送
速度を400mm/s とした。そして、水平状態で20分放置し
た後、70℃で乾燥させて厚さ約50μmの接着剤層2を形
成した(図1(b),(c) 参照)。 (4) 前記(3) の基板1を、クロム酸(CrO3 )500g/l
水溶液からなる酸化剤に70℃で15分間浸漬して接着剤層
の表面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社製、PN
−950 )に浸漬して水洗した。接着剤が粗化された基板
1にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与して接着剤
層2の表面を活性化させた(図1(d) 参照)。 (5) 前記基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)中で12
0 ℃で30分、触媒固定化の熱処理を行い、その後、感光
性のドライフィルムをラミネートし、露光した後、変成
クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚さ40μm )
を形成した(図1(e) 参照)。 (6) めっきレジスト3形成し終えた前記基板1を、表1
に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっ
き膜4の厚さ25μm の無電解銅めっきを施し、プリント
配線板を得た(図1(f) 参照)。
(Example) (Example 1) (1) Bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell)
100 parts by weight was diluted with MEK, and an aliphatic polyamine on a chain (diethylenetriamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was used as a curing agent.
After blending parts by weight, the mixture was dried and cured at 100 ° C. for 2 hours. The hardened epoxy resin is roughly crushed, and then, while being frozen in liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), and further a wind classifier (manufactured by Donaldson Japan). Use to classify, average particle size
1.7 μm epoxy resin fine powder was obtained. (2) Dissolve 60 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin (made by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell) and 5 parts by weight of imidazole type curing agent (made by Shikoku Kasei) in butyl cellosolve acetate. Then, 50 parts by weight of the fine powder prepared in (1) was mixed with 100 parts by weight of the solid content of this composition, and then the mixture was kneaded with a three-roll mill, and butyl cellosolve acetate was further added to solidify the composition. An adhesive solution having a partial concentration of 75% was prepared. According to JIS-K7117, the viscosity of this solution was measured at 20 ° C for 60 seconds using a digital viscometer manufactured by Tokyo Keiki Co., Ltd. and found to be 5.2 Pa · s at 6 rpm and 2.5 Pa · s at 60 rpm. The value (thixotropic property) was 2.0. (3) The glass epoxy resin substrate 1 is roughened by polishing, and J
After forming a rough surface of IS-B0601 R max = 2 to 3 μm, the solution of the photosensitive resin composition prepared in the above (2) was applied using a roll coater. The coating method at this time was to use a medium-high viscosity resist coating roll (manufactured by Dainippon Screen) as the coating roll. The gap between the coating roller and the doctor bar was 0.4 mm, and the gap between the coating roller and the backup roller was 1.4 mm. And the transport speed was 400 mm / s. Then, after standing in a horizontal state for 20 minutes, it was dried at 70 ° C. to form an adhesive layer 2 having a thickness of about 50 μm (see FIGS. 1 (b) and 1 (c)). (4) Chromic acid (CrO 3 ) 500 g / l
The surface of the adhesive layer is roughened by immersing it in an oxidizing agent consisting of an aqueous solution at 70 ° C. for 15 minutes, and then a neutralizing solution (PN, Shipley, PN) is used.
-950) and washed with water. A palladium catalyst (manufactured by Shipley Co.) was applied to the substrate 1 having the roughened adhesive to activate the surface of the adhesive layer 2 (see FIG. 1 (d)). (5) The substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen) 12
Heat treatment for catalyst immobilization was carried out at 0 ° C for 30 minutes, after which a photosensitive dry film was laminated, exposed, and then developed with modified chlorothane, and plating resist 3 (thickness 40 μm).
Were formed (see FIG. 1 (e)). (6) Table 1 shows the substrate 1 on which the plating resist 3 has been formed.
It was immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in 11 hours for 11 hours to carry out electroless copper plating with a plating film 4 having a thickness of 25 μm to obtain a printed wiring board (see FIG. 1 (f)).

【0039】[0039]

【表1】 [Table 1]

【0040】(実施例2) (1) ビスフェノールF型エポキシ樹脂(油化シェル製)
100 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として環状脂肪族
ポリアミン(メンセンジアミンRohm and Hase製)を20
重量部配合した後、100 ℃で1時間、150 で2時間乾燥
硬化した。この硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕し、そ
の後、液体窒素で凍結させながら、超音速ジェット粉砕
機(日本ニューマチック工業製)を用いて微粉砕して、
さらに風力分級機(日本ドナルドソン製)を使用して分
級し、平均粒径1.3 μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) オルソクレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化
シェル製)100 重量部およびキュアゾール硬化剤(四国
化成製)5重量部を、ブチルセロソルブとジメチルホル
ムアミドの混合溶媒(比率6/4)に溶解して、この組
成物の固形分100 重量部に対して、(1) で作成した微粉
末を50重量部の割合で混合し、その後3本ロールで混練
し、さらにブチルセロソルブアセテートを添加して固形
分70%の接着剤溶液を得た。この溶液の粘度は、回転数
6rpm で4.2 Pa・s 、60rpm で2.7 Pa・s であり、その
SVI値(チキソトロピック性)は1.8 であった。 (3) ガラスエポキシ樹脂基板1両面を実施例1(3) と同
様に処理し、厚さ約45μmの接着剤層2を形成した(図
2(b),(c) 参照)。 (4) 次に、前記(3) の基板1を、ドリルにより削孔し、
この基板表面を研磨して、フィラーを露出させた後、6
N塩酸水溶液からなる酸に70℃で15分間浸漬して接着剤
層2の表面を粗化してから、中和溶液(シプレイ社製)
に浸漬して水洗した。そして、接着剤が粗化された基板
1にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与して接着剤
層2の表面を活性化させた(図2(d),(e) 参照)。 (5) 前記基板1を窒素ガス雰囲気(10ppm 酸素)中で12
0 ℃で30分、触媒固定化の熱処理を行い、その後、感光
性のドライフィルムをラミネートし、露光した後、変成
クロロセンで現像し、めっきレジスト3(厚さ40μm )
を形成した(図2(f) 参照)。 (6) めっきレジスト3形成し終えた前記基板1を、表1
に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬して、両面
にめっき膜4の厚さ30μm の無電解銅めっきを施し、導
体回路とスルーホールを形成し、両面プリント配線板を
得た(図2(f)参照)。
(Example 2) (1) Bisphenol F type epoxy resin (made by Yuka Shell)
Dilute 100 parts by weight with MEK and add 20% cycloaliphatic polyamine (Mensendiamine Rohm and Hase) as a curing agent.
After blending parts by weight, the mixture was dried and cured at 100 ° C. for 1 hour and at 150 ° C. for 2 hours. The cured epoxy resin is roughly crushed, and then, while being frozen with liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.),
Further, classification was performed using a wind force classifier (manufactured by Donaldson Japan) to obtain an epoxy resin fine powder having an average particle size of 1.3 μm. (2) 100 parts by weight of an orthocresol novolac type epoxy resin (made by Yuka Shell) and 5 parts by weight of a curing agent (made by Shikoku Kasei) are dissolved in a mixed solvent of butyl cellosolve and dimethylformamide (ratio 6/4), 50 parts by weight of the fine powder prepared in (1) was mixed with 100 parts by weight of the solid content of this composition, and then the mixture was kneaded by three rolls, and butyl cellosolve acetate was further added to obtain a solid content of 70%. An adhesive solution of The viscosity of this solution was 4.2 Pa · s at 6 rpm and 2.7 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 1.8. (3) Both surfaces of the glass epoxy resin substrate 1 were treated in the same manner as in Example 1 (3) to form an adhesive layer 2 having a thickness of about 45 μm (see FIGS. 2 (b) and 2 (c)). (4) Next, the substrate 1 of (3) above is drilled,
After polishing the substrate surface to expose the filler, 6
The surface of the adhesive layer 2 is roughened by immersing it in an acid consisting of an aqueous solution of N hydrochloric acid at 70 ° C. for 15 minutes, and then a neutralizing solution (made by Shipley).
And then washed with water. Then, a palladium catalyst (manufactured by Shipley Co., Ltd.) was applied to the substrate 1 having the roughened adhesive to activate the surface of the adhesive layer 2 (see FIGS. 2D and 2E). (5) The substrate 1 is placed in a nitrogen gas atmosphere (10 ppm oxygen) 12
Heat treatment for catalyst immobilization was carried out at 0 ° C for 30 minutes, after which a photosensitive dry film was laminated, exposed, and then developed with modified chlorothane, and plating resist 3 (thickness 40 μm).
Were formed (see FIG. 2 (f)). (6) Table 1 shows the substrate 1 on which the plating resist 3 has been formed.
It was immersed in an electroless copper plating solution having the composition shown in 11 hours for 11 hours, and electroless copper plating with a thickness of 30 μm of the plating film 4 was applied to both surfaces to form a conductor circuit and through holes to obtain a double-sided printed wiring board ( See Fig. 2 (f).

【0041】(実施例3) (1) フェノールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)100 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として脂肪芳
香族アミン(m−キシレンジアミン;昭和電工製)を15
重量部配合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この
硬化させたエポキシ樹脂を粗粉砕して、その後液体窒素
で凍結させながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニュー
マチック工業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機
(日本ドナルドソン製)を使用して分級し、平均粒径1.
8 μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) 特殊官能性エポキシ樹脂(油化シェル製)80重量
部、ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)
20重量部およびキュアゾール硬化剤(四国化成製)7重
量部をキシレンに溶解し、この組成物の固形分100 重量
部に対して、前記(1) で作成したエポキシ樹脂微粉末を
50重量部の割合で混合した後、3本ロールで混練し、さ
らにブチルセロソルブアセテートを添加して固形分濃度
80%の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度は、回転
数6rpm で5.8 Pa・s 、60rpmで2.0 Pa・s であり、そ
のSVI値は2.2 であった。 (3) この接着剤を用いて実施例1と同様にして、プリン
ト配線板を作成した。
Example 3 (1) 100 parts by weight of a phenol novolac type epoxy resin (made by Yuka Shell) was diluted with MEK, and a fatty aromatic amine (m-xylenediamine; Showa Denko) was used as a curing agent.
After blending by weight, the mixture was dried and cured at 120 ° C. for 3 hours. This hardened epoxy resin is roughly crushed, and then while being frozen in liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), and further a wind force classifier (manufactured by Donaldson Japan). Use to classify, average particle size 1.
An epoxy resin fine powder of 8 μm was obtained. (2) 80 parts by weight of special functional epoxy resin (made by oiled shell), bisphenol A type epoxy resin (made by oiled shell)
20 parts by weight and 7 parts by weight of a curing agent (Shikoku Kasei) were dissolved in xylene, and 100 parts by weight of the solid content of this composition was mixed with the epoxy resin fine powder prepared in (1) above.
After mixing at a ratio of 50 parts by weight, kneading with a three-roll mill, and adding butyl cellosolve acetate to obtain a solid content concentration.
An 80% adhesive solution was made. The viscosity of this solution was 5.8 Pa · s at 6 rpm and 2.0 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value was 2.2. (3) A printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 using this adhesive.

【0042】(実施例4) (1) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を15重量部配
合した後、80℃で2時間乾燥硬化した。この硬化させた
エポキシ樹脂を粗粉砕して、その後液体窒素で凍結させ
ながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工
業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナ
ルドソン製)を使用して分級し、平均粒径1.8 μmのエ
ポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂(油化シェル
製)50重量部、ノボラック型多官能エポキシ樹脂(油化
シェル製)50重量部およびキュアゾール硬化剤(四国化
成製)5重量部を、ブチルセロソルブアセテートに溶解
し、この組成物の固形分100 重量部に対して、前記(1)
で得たエポキシ樹脂微粉末を50重量部の割合で混合した
後、3本ロールで混練し、さらにブチルセロソルブアセ
テートを添加して固形分濃度80%の接着剤溶液を得た。
この溶液の粘度は、回転数6rpmで5.8 Pa・s ,60rpm
で2.0 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック
性)は2.2 であった。 (3) 前記(2) で作成した接着剤溶液をロールコータ(大
日本スクリーン製)を使用して、予めシリコン等の離型
剤を塗布してあるポリエチレンフィルムに塗布して70℃
で1時間乾燥させ、フィルム状接着剤を作成した。 (4) 前記(3) で作成したフィルム状接着剤を銅箔が粘着
されていないガラスポリイミド基板1(東芝ケミカル
製)上に接着剤が塗布されている面を基板側にして、15
0 ℃、40kg/cm2 で200 分間加圧して接着剤層2を形成
した。 (5) 前記(4) で得られた基板1に実施例1の(3) 〜(6)
の工程を実施することによりプリント配線板を作成し
た。
(Example 4) (1) Glycidylamine type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight was diluted with MEK, and 15 parts by weight of an aromatic amine (m-xylenediamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, followed by drying and curing at 80 ° C. for 2 hours. This hardened epoxy resin is roughly crushed, and then while being frozen in liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), and further a wind force classifier (manufactured by Donaldson Japan). It was used and classified to obtain an epoxy resin fine powder having an average particle size of 1.8 μm. (2) 50 parts by weight of phenol aralkyl type epoxy resin (made by Yuka Shell), 50 parts by weight of novolac type polyfunctional epoxy resin (made by Yuka Shell) and 5 parts by weight of curing agent (made by Shikoku Kasei) to butyl cellosolve acetate. Dissolved, 100 parts by weight of the solid content of this composition, the above (1)
The epoxy resin fine powder obtained in 1 was mixed at a ratio of 50 parts by weight, then kneaded with a three-roll mill, and butyl cellosolve acetate was further added to obtain an adhesive solution having a solid content concentration of 80%.
The viscosity of this solution is 5.8 Pa · s at 60 rpm and 60 rpm.
It was 2.0 Pa · s and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) Using the roll coater (manufactured by Dainippon Screen), apply the adhesive solution prepared in (2) above to a polyethylene film that has been previously coated with a mold release agent such as silicon, and then apply 70 ° C.
And dried for 1 hour to prepare a film adhesive. (4) The film adhesive prepared in (3) above is applied to the glass polyimide substrate 1 (manufactured by Toshiba Chemical) on which the copper foil is not adhered, with the surface coated with the adhesive as the substrate side.
The pressure-sensitive adhesive layer 2 was formed by applying pressure at 0 ° C. and 40 kg / cm 2 for 200 minutes. (5) (3) to (6) of Example 1 on the substrate 1 obtained in (4) above
A printed wiring board was prepared by carrying out the process of.

【0043】(実施例5) (1) 実施例1の(1) と同様の方法で作成されたエポキシ
樹脂粒子(平均粒径3.9 μm )200gを、5lのアセトン
中に分散させたエポキシ樹脂粒子懸濁液中へ、ヘンシェ
ルミキサー(三井三池化工機製)内で攪拌しながら、ア
セトン1lに対してエポキシ樹脂(三井石油化学製)を
30gの割合で溶解させたアセトン溶液中に実施例1の
(1) と同様の方法で作成されたエポキシ樹脂粒子(平均
粒径0.5 μm )300gを分散させた懸濁液を滴下すること
により、上記エポキシ樹脂粒子表面にエポキシ樹脂粉末
を付着せしめた後、上記アセトンを除去し、その後、15
0 ℃に加熱して、擬似粒子を作成した。この擬似粒子
は、平均粒径が約4.3 μm であり、約75重量%が、平均
粒径を中心として±2μmの範囲に存在していた。 (2) 前記(1) で調製した疑似粒子50重量部、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重
量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量
部の混合物に、ブチルカルビトールを加えてホモディス
パー分散機で調整し、固形分濃度80%の接着剤溶液を作
成した。この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s
、60rpmで2.0 Pa・s であり、そのSVI値(チキソト
ロピック性)は2.2 であった。 (3) この接着剤を用いて実施例1と同様にして、プリン
ト配線板を作成した(図3参照)。
Example 5 (1) Epoxy resin particles prepared by dispersing 200 g of epoxy resin particles (average particle size 3.9 μm) prepared by the same method as in (1) of Example 1 in 5 l of acetone. While stirring in the suspension in a Henschel mixer (Mitsui Miike Kakoki), an epoxy resin (Mitsui Petrochemical) was added to acetone 1 liter.
Example 1 was added to an acetone solution dissolved at a rate of 30 g.
After the epoxy resin particles (average particle diameter 0.5 μm) 300 g prepared in the same manner as (1) were added dropwise to the suspension, the epoxy resin powder was attached to the surface of the epoxy resin particles. Remove the acetone, then 15
The particles were heated to 0 ° C. to prepare pseudo particles. The pseudo particles had an average particle size of about 4.3 μm, and about 75% by weight was present within a range of ± 2 μm centering on the average particle size. (2) 50 parts by weight of the pseudo particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin (made by Yuka Shell),
To a mixture of 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell) and 5 parts by weight of an imidazole type curing agent (made by Shikoku Kasei), butyl carbitol was added and adjusted with a homodisper disperser to obtain a solid content concentration of 80%. An adhesive solution was prepared. The viscosity of this solution is 5.8 Pa · s at 6 rpm.
At 60 rpm, it was 2.0 Pa · s, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) Using this adhesive, a printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1 (see FIG. 3).

【0044】(実施例6) (1) 実施例1の(1) と同様の方法で作成されたエポキシ
樹脂粒子(平均粒径3.9 μm )を熱風乾燥機内に装入
し、180 ℃で3時間加熱処理して凝集結合させた。この
凝集結合させたエポキシ樹脂粒子を、アセトン中に分散
させ、ボールミルにて5時間解砕した後、風力分級機を
使用して分級し、凝集粒子を作成した。この凝集粒子
は、平均粒径が約3.5 μmであり、約68重量%が、平均
粒径を中心として±2μmの範囲に存在していた。 (2) 前記(1) で調製した凝集粒子50重量部、フェノール
ノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(油化シェル製)40重
量部およびイミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量
部の混合物に、ブチルカルビトールを加えてホモディス
パー分散機で調整し、固形分濃度80%の接着剤溶液を作
成した。この溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s
、60rpmで2.0 Pa・s であり、そのSVI値(チキソト
ロピック性)は2.2 であった。 (3) この接着剤を用いて実施例2と同様にして、プリン
ト配線板を作成した(図4参照)。
Example 6 (1) Epoxy resin particles (average particle size 3.9 μm) prepared by the same method as in Example 1 (1) were charged into a hot air dryer and heated at 180 ° C. for 3 hours. Heat treatment was performed to cause cohesive bonding. The agglomerated and bonded epoxy resin particles were dispersed in acetone, crushed with a ball mill for 5 hours, and then classified using an air classifier to prepare agglomerated particles. The agglomerated particles had an average particle size of about 3.5 μm, and about 68% by weight was present in the range of ± 2 μm centering on the average particle size. (2) 50 parts by weight of the agglomerated particles prepared in (1) above, 60 parts by weight of phenol novolac type epoxy resin (made by Yuka Shell),
To a mixture of 40 parts by weight of a bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell) and 4 parts by weight of an imidazole-based curing agent (made by Shikoku Kasei), butyl carbitol was added and adjusted with a homodisper disperser to obtain a solid content concentration of 80%. An adhesive solution was prepared. The viscosity of this solution is 5.8 Pa · s at 6 rpm.
At 60 rpm, it was 2.0 Pa · s, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) Using this adhesive, a printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 2 (see FIG. 4).

【0045】(実施例7) (1) ガラスエポキシ銅張積層板(東芝ケミカル製)に感
光性ドライフィルム(デュポン製)をラミネートし、所
望の導体回路パターンが描画されたマスクフィルムを通
して紫外線露光させ画像を焼きつける。ついで、1,
1,1−トリクロロエタンで現像を行い、塩化第2銅エ
ッチング液を用いて非導体部の銅を除去した後、メチレ
ンクロリドでドライフィルムを剥離する。これにより、
複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配線
板1′を形成した(図5(a) 参照)。 (2) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂の50%アクリ
ル化物100 重量部、ジアリルテレフタレート15重量部、
2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モルフ
ォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量部および実施
例1と同様に作成された平均粒径3.9 μmと平均粒径0.
5 μmの2種類のエポキシ樹脂粒子、それぞれ10重量
部、25重量部からなる混合物に、ブチルカルビトールを
加えてホモディスパー分散機で調製し、次いで3本ロー
ラーで混練して固形分濃度80%の接着剤溶液を作成し
た。この溶液の粘度は、回転数6rpm で6.5 Pa・s 、60
rpm で2.9 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピ
ック性)は2.2 であった。 (3) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(2) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し、水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて
厚さ約50μm感光性樹脂絶縁層2′を形成した(図5
(b) 参照)。 (4) 前記(3) の処理を施した配線板1′に100 μmφの
黒円が印刷されたフォトマスクフィルムを密着させ、超
高圧水銀灯により500mj/cm2 で露光した。これを、1,
1,1−トリクロロエタンで超音波現像処理することに
より、配線板1′上に100 μmφのバイアホールとなる
開口7を形成した。前記配線板1′を超高圧水銀灯によ
り約3000mj/cm2で露光しさらに100 ℃で1時間、その後
150 ℃で10時間加熱処理することによりフォトマスクフ
ィルムに相当する寸法精度に優れた開口7を有する層間
絶縁層2′を形成した(図5(c) 参照)。 (5) 前記(4) で作成した配線板1を、クロム酸(CrO
3)500g/l水溶液からなる酸化剤に70℃,15分間浸漬し
て層間絶縁層2′の表面を粗化してから、中和溶液(シ
プレイ社製)に浸漬して水洗し、その後、常法によりス
ルーホール5を作成した。そして、この層間絶縁層2′
が粗化された基板1′にパラジウム触媒(プレイ社製)
を付与して絶縁層の表面を活性化させ、120 ℃,30分間
パラジウム触媒を固定するための加熱処理を行った(図
5(d),(e) 参照)。 (6) 次いで、配線板1′に感光性ドライフィルム(サン
ノプコ製)をラミネートし、導体パターンを露光した後
現像した(図5(e) 参照)。 (7) 表1に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬し
て、めっき膜6の厚さ25μm の無電解銅めっきを施し、
多層プリント配線板を作成した(図5(f) 参照)。
(Example 7) (1) A photosensitive dry film (manufactured by DuPont) was laminated on a glass epoxy copper clad laminate (manufactured by Toshiba Chemical) and exposed to ultraviolet light through a mask film on which a desired conductor circuit pattern was drawn. Burn the image. Then, 1,
After developing with 1,1-trichloroethane and removing the copper in the non-conductor portion using a cupric chloride etching solution, the dry film is peeled off with methylene chloride. This allows
A wiring board 1'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed (see FIG. 5 (a)). (2) 100 parts by weight of 50% acrylate of phenol aralkyl type epoxy resin, 15 parts by weight of diallyl terephthalate,
4-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba-Geigy) 4 parts by weight, 4 parts by weight of imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) and as in Example 1 Average particle size 3.9 μm and average particle size 0.
Butyl carbitol was added to a mixture consisting of two types of 5 μm epoxy resin particles, 10 parts by weight and 25 parts by weight, respectively, to prepare with a homodisper disperser, and then kneaded with three rollers to obtain a solid content concentration of 80%. An adhesive solution was prepared. The viscosity of this solution is 6.5 Pa · s, 60 at 6 rpm.
The rpm was 2.9 Pa · s, and the SVI value (thixotropic property) was 2.2. (3) Apply the solution of the photosensitive resin composition prepared in (2) above onto the wiring board 1'prepared in (1) above using a roll coater, leave it for 20 minutes in a horizontal state, and then at 70 ° C. And dried to form a photosensitive resin insulation layer 2'having a thickness of about 50 μm (see FIG. 5).
(See (b)). (4) A photomask film having a 100 μmφ black circle printed thereon was brought into close contact with the wiring board 1 ′ that had been subjected to the treatment of (3) above, and exposed at 500 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp. This is 1,
An ultrasonic development treatment with 1,1-trichloroethane was performed to form an opening 7 serving as a via hole of 100 μmφ on the wiring board 1 '. The wiring board 1'is exposed by an ultra-high pressure mercury lamp at about 3000 mj / cm 2 and further exposed at 100 ° C. for 1 hour, then
By heat-treating at 150 ° C. for 10 hours, an interlayer insulating layer 2 ′ having an opening 7 excellent in dimensional accuracy corresponding to a photomask film was formed (see FIG. 5 (c)). (5) The wiring board 1 prepared in (4) above is treated with chromic acid (CrO).
3 ) Immerse in an oxidizing agent consisting of 500 g / l aqueous solution at 70 ° C for 15 minutes to roughen the surface of the interlayer insulating layer 2 ', then soak in a neutralizing solution (manufactured by Shipley Co., Ltd.) and wash with water. The through hole 5 was created by the method. Then, this interlayer insulating layer 2 '
Palladium catalyst (made by Play Co.) on the roughened substrate 1 '
Was applied to activate the surface of the insulating layer, and heat treatment for fixing the palladium catalyst was performed at 120 ° C. for 30 minutes (see FIGS. 5 (d) and 5 (e)). (6) Next, a photosensitive dry film (manufactured by San Nopco) was laminated on the wiring board 1 ', and the conductor pattern was exposed and then developed (see FIG. 5 (e)). (7) Immerse in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to apply electroless copper plating having a thickness of 25 μm on the plating film 6,
A multilayer printed wiring board was created (see Fig. 5 (f)).

【0046】(比較例1)基本的には実施例1と同じで
あるが、耐熱性樹脂微粉末として、ジシアン系硬化剤で
硬化させたエポキシ樹脂を使用してプリント配線板を作
成した。
Comparative Example 1 Basically the same as in Example 1, but a printed wiring board was prepared by using, as the heat-resistant resin fine powder, an epoxy resin cured with a dicyan hardener.

【0047】実施例1〜7、比較例1で得られたプリン
ト配線板の基板と銅めっき膜との密着強度をJIS-C-6481
の方法で測定したところ、ピール強度は表2に示す結果
となった。表2から明らかなように、比較例で使用した
ジシアン系硬化剤で硬化させたエポキシ樹脂は、酸や酸
化剤に対する溶解度が低いため、本発明のアミン系硬化
剤で硬化させたエポキシ樹脂の場合に比べて低いピール
強度を示した。
The adhesion strength between the substrate and the copper plating film of the printed wiring board obtained in Examples 1 to 7 and Comparative Example 1 was measured according to JIS-C-6481.
When the peel strength was measured by the above method, the peel strength was as shown in Table 2. As is clear from Table 2, the epoxy resin cured with the dicyan-based curing agent used in Comparative Example has low solubility in acids and oxidants, and therefore, in the case of the epoxy resin cured with the amine-based curing agent of the present invention. The peel strength was lower than that of

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【0049】(実施例8) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図6(a) 参照)。 (2) 実施例1(1) と同様にして、平均粒径1.7 μmのエ
ポキシ樹脂微粉末を得た。 (3) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(油化シェル
製)の5%アクリル化物60重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製、エピコート1001)40重量
部、ジアリルテレフタレート15重量部、2-メチル- 1-
〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2-モルフォリノプロパ
ノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イミダゾール系
硬化剤(四国化成製)4重量部および前記(2) で得られ
たエポキシ樹脂微粉末50重量部を混合した後、ブチルセ
ロソルブを添加しながらホモディスパー分散機で調製
し、次いで3本ローラーで混練して固形分濃度70%の感
光性の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度は、回転
数6rpm で5.0 Pa・s 、60rpmで2.5 Pa・s であり、そ
のSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であった。 (4) 実施例7(3) 〜(7) と同様にして、配線層が4層
(4,6,8,10)のビルドアップ多層配線板を作成した(図
6参照)。
Example 8 (1) In the same manner as in Example 7, a wiring board 1'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (see FIG. 6 ( See a)). (2) In the same manner as in Example 1 (1), an epoxy resin fine powder having an average particle size of 1.7 μm was obtained. (3) 60 parts by weight of 5% acrylate of cresol novolac type epoxy resin (made by Yuka Shell), 40 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (made by Yuka Shell, Epicoat 1001), 15 parts by weight of diallyl terephthalate, 2-methyl -1-
[4- (Methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba Geigy) 4 parts by weight, imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) 4 parts by weight, and the epoxy resin fine powder obtained in the above (2) After mixing 50 parts by weight of the powder, a butyl cellosolve was added to prepare a homodisper dispersion machine, and the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content concentration of 70%. The viscosity of this solution was 5.0 Pa · s at 6 rpm and 2.5 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.0. (4) In the same manner as in Example 7 (3) to (7), a buildup multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, 10) was prepared (see FIG. 6).

【0050】(実施例9) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図7(a) 参照)。 (2) ビスフェノールF型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として環状脂肪族
ポリアミン(メンセンジアミン;住友化学製)を5重量
部配合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化
させたエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させ
ながら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工
業製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナ
ルドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μmと0.
5 μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (3) (2) の方法で作成された樹脂粒子(平均粒径3.9 μ
m)200gを、5lのアセトン中に分散させたエポキシ樹
脂粒子懸濁液中へ、ヘンシェルミキサー(三井三池化工
機製)を30gの割合で溶解させたアセトン溶液中に、
(1) と同様に作成された樹脂粒子(平均粒径0.5μm)3
00gを分散させた懸濁液を滴下することにより、上記エ
ポキシ樹脂粒子表面にエポキシ樹脂粉末を付着せしめた
後、上記アセトンを除去し、その後150 ℃に加熱して、
疑似粒子を作成した。この疑似粒子は、平均粒径が約4.
3 μmであり、約75重量%が、平均粒径を中心として±
2μmの範囲に存在していた。 (4) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
製)の75%アクリル化物50重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(ダウケミカル製)50重量部、ジペンタエ
リスリトールヘキサアクレート25重量部、ベンジルアク
リルケタール(チバ・ガイギー製)5重量部、イミダゾ
ール系硬化剤(四国化成製)6重量部および前記(2) で
作成したエポキシ樹脂微粉末50重量部を混合した後、ブ
チルセロソルブを添加しながらホモディスパー攪拌機で
攪拌し、その後、3本ローラーで混練して、固形分濃度
70%の感光性の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度
は、回転数6rpm で5.2 Pa・s 、60rpm で2.6 Pa・s で
あり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.0 であ
った。 (5) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(4) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚
さ約45μm感光性樹脂層2′を形成した。 (6) 実施例7(4) 〜(6) と同様にして、配線層が4層
(4,6,8,10)のビルドアップ多層配線板を作成した(図
7参照)。
(Example 9) (1) In the same manner as in Example 7, a wiring board 1'having a first conductor layer 4 consisting of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (see FIG. 7 ( See a)). (2) Bisphenol F type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight was diluted with MEK, 5 parts by weight of a cycloaliphatic polyamine (mensendiamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, and the mixture was dried and cured at 120 ° C. for 3 hours. This hardened epoxy resin is roughly crushed, frozen with liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), and a wind classifier (manufactured by Donaldson Japan) is used. Then, the particles were classified, and the average particle size was 3.9 μm and was 0.1.
An epoxy resin fine powder of 5 μm was obtained. (3) Resin particles prepared by the method of (2) (average particle size 3.9 μ
m) 200 g of an epoxy resin particle suspension dispersed in 5 l of acetone was dissolved in an acetone solution in which a Henschel mixer (manufactured by Mitsui Miike Kakoki Co., Ltd.) was dissolved at a rate of 30 g,
Resin particles prepared in the same way as (1) (average particle size 0.5 μm) 3
By dropping a suspension in which 00g is dispersed, to adhere the epoxy resin powder to the surface of the epoxy resin particles, remove the acetone, and then heat to 150 ℃,
Pseudo particles were created. The pseudo particles have an average particle size of about 4.
3 μm, about 75% by weight is centered on the average particle size ±
It was present in the range of 2 μm. (4) 75 parts by weight of 75% acrylate of cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku), 50 parts by weight of bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Dow Chemical), 25 parts by weight of dipentaerythritol hexaacrate, benzyl acrylic ketal (Ciba Geigy) 5 parts by weight, imidazole-based curing agent (Shikoku Kasei) 6 parts by weight, and epoxy resin fine powder 50 parts by weight prepared in (2) above are mixed, and then homodisper stirrer is added while adding butyl cellosolve. And then kneading with 3 rollers to obtain solid content
A 70% photosensitive adhesive solution was prepared. The viscosity of this solution was 5.2 Pa · s at 6 rpm and 2.6 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.0. (5) Apply the solution of the photosensitive resin composition prepared in (4) above onto the wiring board 1'prepared in (1) above using a roll coater and leave it in a horizontal state for 20 minutes, then at 70 ° C. It was dried to form a photosensitive resin layer 2'having a thickness of about 45 μm. (6) A build-up multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, 10) was prepared in the same manner as in Example 7 (4) to (6) (see FIG. 7).

【0051】(実施例10) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図8(a) 参照)。 (2) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を5重量部配
合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化させ
たエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させなが
ら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工業
製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナル
ドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μmのエポ
キシ樹脂微粉末を得た。 (3) 前記(2) の方法で作成された樹脂粒子(平均粒径3.
9μm)を熱風乾燥機内に装入し、180 ℃で3時間加熱
処理して凝集結合させた。この凝集結合させたエポキシ
樹脂粒子を、アセトン中に分散させ、ボールミルにて5
時間解砕した後、風力分級機を使用して分級し、凝集粒
子を作成した。この凝集粒子は、平均粒径が約3.5 μm
であり、約68重量%が、平均粒径を中心として±2μm
の範囲に存在していた。 (4) クレゾールノボラック型エポキシ樹脂(日本化薬
製)の50%アクリル化物40重量部、ビスフェノールA型
エポキシ樹脂(油化シェル製)60重量部、ジアクリルテ
レフタレート15重量部、2-ヒドロキシ-1,3−ビス(ヒド
ラジノカルボエチル)-5- イソプロピルヒドントイン
(味の素製)30重量部および前記(3) で作成したエポキ
シ樹脂微粉末60重量部を混合した後、ブチルセロソルブ
を添加しながらホモディスパー攪拌機で攪拌し、その
後、3本ローラーで混練して、固形分濃度60%の感光性
の接着剤溶液を作成した。 (5) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(4) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚
さ約45μm感光性樹脂層2′を形成した。 (6) 実施例7(4) 〜(6) と同様にして、配線層が4層
(4,6,8,10)のビルドアップ多層配線板を作成した(図
8参照)。
(Example 10) (1) In the same manner as in Example 7, a wiring board 1'having a first conductor layer 4 composed of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (see FIG. 8 ( See a)). (2) Glycidylamine type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight was diluted with MEK, 5 parts by weight of an aromatic amine (m-xylenediamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, and the mixture was dried and cured at 120 ° C. for 3 hours. This hardened epoxy resin is roughly crushed, frozen with liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), and a wind classifier (manufactured by Donaldson Japan) is used. The powder was classified to obtain an epoxy resin fine powder having an average particle diameter of 3.9 μm. (3) Resin particles (average particle size 3.
9 μm) was placed in a hot-air dryer and heat-treated at 180 ° C. for 3 hours to aggregate and bond. The coagulated and bonded epoxy resin particles are dispersed in acetone, and the mixture is mixed with a ball mill to form 5
After crushing for a period of time, classification was performed using an air classifier to create agglomerated particles. The aggregated particles have an average particle size of about 3.5 μm.
And about 68% by weight is ± 2 μm centered on the average particle size.
Existed in the range. (4) Cresol novolac type epoxy resin (manufactured by Nippon Kayaku) 40% by weight acrylate, bisphenol A type epoxy resin (manufactured by Yuka Shell) 60 parts by weight, diacrylic terephthalate 15 parts by weight, 2-hydroxy-1 After mixing 30 parts by weight of 3,3-bis (hydrazinocarboethyl) -5-isopropylhydrontoin (manufactured by Ajinomoto) and 60 parts by weight of the epoxy resin fine powder prepared in (3) above, butyl cellosolve was added while homogenizing. The mixture was stirred with a Disper stirrer and then kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content concentration of 60%. (5) Apply the solution of the photosensitive resin composition prepared in (4) above onto the wiring board 1'prepared in (1) above using a roll coater and leave it in a horizontal state for 20 minutes, then at 70 ° C. It was dried to form a photosensitive resin layer 2'having a thickness of about 45 μm. (6) In the same manner as in Example 7 (4) to (6), a build-up multilayer wiring board having four wiring layers (4, 6, 8, 10) was prepared (see FIG. 8).

【0052】(実施例11) (1) 実施例7と同様にして、ガラスエポキシ銅張積層板
に複数の導体パターンからなる第一導体層4を有する配
線板1′を形成した(図9(a),(b) 参照)。 (2) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を5重量部配
合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化させ
たエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させなが
ら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工業
製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナル
ドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μm、0.5
μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (3) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂の80%アクリ
ル化物100 重量部、ジアリルテレフタレート15重量部、
2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モルフ
ォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量部および前記
(2) で得られた平均粒径3.9 μm、0.5μmの2種類の
エポキシ樹脂微粉末をそれぞれ10重量部,25重量部を混
合した後、ブチルカルビトールを添加しながらホモディ
スパー分散機で調製し、次いで3本ローラーで混練して
固形分濃度80%の感光性の接着剤溶液を作成した。この
溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s 、60rpm で2.
5 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック性)
は2.1 であった。 (4) 前記(1) の基板1′上に感光性の接着剤溶液を塗布
し、120 ℃,30 分加熱し乾燥させた。さらに、この基板
1′に100 μmφの黒円が印刷されたフォトマスクフィ
ルムを密着させ、超高圧水銀灯により500mj/cm2 で露光
した。これを、1,1,1−トリクロロエタンで超音波
現像処理することにより、配線板上に100 μmφのバイ
アホールとなる開口7を形成した。前記配線板を超高圧
水銀灯により約3000mj/cm2で露光しさらに100 ℃で1時
間、その後150 ℃で10時間加熱処理することによりフォ
トマスクフィルムに相当する寸法精度に優れた開口部7
を形成した(図9(c),(d) 参照)。 (5) 前記(1) で作成した配線板1′上に前記(3) で作成
した感光性樹脂組成物の溶液をロールコーターを用いて
塗布し水平状態で20分放置した後、70℃で乾燥させて厚
さ約50μm感光性樹脂層2′を形成した。次いで、前記
(4) と同様の処理(但し、黒円の径は85μm)により、
バイヤホール開口部7を形成した(図9(e),(f) 参
照)。 (6) 前記(5) で作成した配線板1′を、6N塩酸からな
る酸に70℃,15分間浸漬して層間絶縁層2′の表面を粗
化してから、中和溶液(シプレイ社製)に浸漬して水洗
した。この層間絶縁層2′が粗化された基板1′にパラ
ジウム触媒(シプレイ社製)を付与して絶縁層2′の表
面を活性化させ、120 ℃,30分間パラジウム触媒を固定
するための加熱処理を行い、その後表1に示す組成の無
電解銅めっき液に11時間浸漬して、めっき膜6の厚さ25
μm の無電解銅めっきを施した(図9(g),(h) 参照)。
(7) 前記(4) 〜(6) までの工程を2回繰り返し行うこと
により、配線層が4層のビルドアップ多層配線板を作成
した(図9参照)。
(Example 11) (1) In the same manner as in Example 7, a wiring board 1'having a first conductor layer 4 consisting of a plurality of conductor patterns was formed on a glass epoxy copper clad laminate (Fig. 9 ( See a) and (b). (2) Glycidylamine type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight was diluted with MEK, 5 parts by weight of an aromatic amine (m-xylenediamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, and the mixture was dried and cured at 120 ° C. for 3 hours. This hardened epoxy resin is roughly crushed, frozen with liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), and a wind classifier (manufactured by Donaldson Japan) is used. And classify, average particle size 3.9 μm, 0.5
A fine powder of epoxy resin having a size of μm was obtained. (3) 100 parts by weight of 80% acrylate of phenol aralkyl type epoxy resin, 15 parts by weight of diallyl terephthalate,
2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba Geigy) 4 parts by weight, imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) and 4 parts by weight and the above
Prepared with a homodisper disperser while adding butyl carbitol after mixing 10 parts by weight and 25 parts by weight of the two kinds of fine epoxy resin powders having an average particle size of 3.9 μm and 0.5 μm obtained in (2) respectively. Then, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content concentration of 80%. The viscosity of this solution is 5.8 Pa · s at 6 rpm and 2. at 60 rpm.
5 Pa · s and its SVI value (thixotropic property)
Was 2.1. (4) A photosensitive adhesive solution was applied on the substrate 1'of the above (1), heated at 120 ° C. for 30 minutes and dried. Further, a photomask film having a 100 μmφ black circle printed thereon was brought into close contact with the substrate 1 ′ and exposed at 500 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp. This was ultrasonically developed with 1,1,1-trichloroethane to form an opening 7 serving as a via hole of 100 μmφ on the wiring board. The wiring board is exposed at about 3000 mj / cm 2 by an ultra-high pressure mercury lamp and further heat-treated at 100 ° C. for 1 hour, and then at 150 ° C. for 10 hours to form an opening 7 with excellent dimensional accuracy equivalent to a photomask film.
Were formed (see FIGS. 9 (c) and 9 (d)). (5) Apply the solution of the photosensitive resin composition prepared in (3) above onto the wiring board 1'prepared in (1) above using a roll coater, leave it for 20 minutes in a horizontal state, and then at 70 ° C. It was dried to form a photosensitive resin layer 2'having a thickness of about 50 µm. Then the above
By the same processing as (4) (however, the diameter of the black circle is 85 μm)
A via hole opening 7 was formed (see FIGS. 9 (e) and 9 (f)). (6) The wiring board 1 ′ prepared in (5) above is immersed in an acid consisting of 6N hydrochloric acid at 70 ° C. for 15 minutes to roughen the surface of the interlayer insulating layer 2 ′, and then a neutralizing solution (made by Shipley Co., Ltd. ) And washed with water. Palladium catalyst (manufactured by Shipley Co.) is applied to the substrate 1'having the roughened interlayer insulating layer 2'to activate the surface of the insulating layer 2'and heating for fixing the palladium catalyst at 120 ° C for 30 minutes. Treatment, and then immersing in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to obtain a plating film 6 having a thickness of 25
Electroless copper plating of μm was applied (see FIGS. 9 (g) and 9 (h)).
(7) By repeating the steps (4) to (6) twice, a build-up multilayer wiring board having four wiring layers was prepared (see FIG. 9).

【0053】(実施例12) (1) グリシジルアミン型エポキシ樹脂(油化シェル製)
110 重量部をMEKで希釈し、硬化剤として芳香族アミ
ン(m−キシレンジアミン;住友化学製)を5重量部配
合した後、120 ℃で3時間乾燥硬化した。この硬化させ
たエポキシ樹脂を粗粉砕して、液体窒素で凍結させなが
ら、超音速ジェット粉砕機(日本ニューマチック工業
製)を用いて微粉砕し、さらに風力分級機(日本ドナル
ドソン製)を使用して分級し、平均粒径3.9 μm、0.5
μmのエポキシ樹脂微粉末を得た。 (2) フェノールアラルキル型エポキシ樹脂の50%アクリ
ル化物100 重量部、ジアリルテレフタレート15重量部、
2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モルフ
ォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量部、イ
ミダゾール系硬化剤(四国化成製)4重量部および前記
(2) で得られた平均粒径3.9 μm、0.5μmの2種類の
エポキシ樹脂微粉末をそれぞれ10重量部,25重量部を混
合した後、ブチルカルビトールを添加しながらホモディ
スパー分散機で調製し、次いで3本ローラーで混練して
固形分濃度80%の感光性の接着剤溶液を作成した。この
溶液の粘度は、回転数6rpm で5.8 Pa・s 、60rpm で2.
5 Pa・s であり、そのSVI値(チキソトロピック性)
は2.1 であった。 (3) 次に、ガラスエポキシ両面銅張積層板の表面銅箔を
常法によりフォトエッチングして得られた配線板1′上
に、前記(3) で作成した接着剤溶液をロールコーターで
全面に塗布した後、100 ℃で1時間、さらに150 ℃で5
時間乾燥硬化して絶縁層2′を形成した(図5(a),(b)
参照)。 (4) この基板1′に100 μmφの黒円が印刷されたフォ
トマスクフィルムを密着させ、超高圧水銀灯により500m
j/cm2 で露光した。これを、1,1,1−トリクロロエ
タンで超音波現像処理することにより、配線板上に100
μmφのバイアホールとなる開口7を形成した。前記配
線板1′を超高圧水銀灯により約3000mj/cm2で露光しさ
らに100 ℃で1時間、その後150 ℃で10時間加熱処理す
ることによりフォトマスクフィルムに相当する寸法精度
に優れた開口部7を形成した(図5(c) 参照)。 (5) 次いで硫酸に10分間浸漬し、樹脂表面を粗化し、中
和後水洗した(図5(d) 参照)。 (6) 常法により、スルーホール5を作成した。 (7) 基板1′にパラジウム触媒(シプレイ社製)を付与
して絶縁層2′の表面を活性化させ、窒素ガス雰囲気
下、120 ℃で30分間加熱して触媒を固定化した。 (8) 次いで、配線板1′に感光性ドライフィルム(サン
ノプコ製)をラミネートし、導体パターンを露光した後
現像した(図5(e) 参照)。 (9) 表1に示す組成の無電解銅めっき液に11時間浸漬し
て、めっき膜6の厚さ25μm の無電解銅めっきを施し、
多層プリント配線板を作成した(図5(f) 参照)。
(Example 12) (1) Glycidylamine type epoxy resin (made by Yuka Shell)
110 parts by weight was diluted with MEK, 5 parts by weight of an aromatic amine (m-xylenediamine; manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd.) was added as a curing agent, and the mixture was dried and cured at 120 ° C. for 3 hours. This hardened epoxy resin is roughly crushed, frozen with liquid nitrogen, finely crushed using a supersonic jet crusher (manufactured by Nippon Pneumatic Mfg. Co., Ltd.), and a wind classifier (manufactured by Donaldson Japan) is used. And classify, average particle size 3.9 μm, 0.5
A fine powder of epoxy resin having a size of μm was obtained. (2) 100 parts by weight of 50% acrylate of phenol aralkyl type epoxy resin, 15 parts by weight of diallyl terephthalate,
2-Methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba Geigy) 4 parts by weight, imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) and 4 parts by weight and the above
Prepared with a homodisper disperser while adding butyl carbitol after mixing 10 parts by weight and 25 parts by weight of the two kinds of fine epoxy resin powders having an average particle size of 3.9 μm and 0.5 μm obtained in (2) respectively. Then, the mixture was kneaded with three rollers to prepare a photosensitive adhesive solution having a solid content concentration of 80%. The viscosity of this solution is 5.8 Pa · s at 6 rpm and 2. at 60 rpm.
5 Pa · s and its SVI value (thixotropic property)
Was 2.1. (3) Next, on the wiring board 1'obtained by photoetching the surface copper foil of the glass-epoxy double-sided copper-clad laminate by a conventional method, the adhesive solution prepared in (3) above was entirely coated with a roll coater. After applying it to 100 ° C for 1 hour, then at 150 ° C for 5 hours
Insulating layer 2'is formed by drying and curing for an hour (Figs. 5 (a) and 5 (b)).
reference). (4) A photomask film on which a 100 μmφ black circle is printed is brought into close contact with this substrate 1 ', and it is exposed to 500 m with an ultra-high pressure mercury lamp.
It was exposed at j / cm 2 . By ultrasonically developing this with 1,1,1-trichloroethane, 100
An opening 7 was formed to be a μmφ via hole. The wiring board 1'is exposed by an ultra-high pressure mercury lamp at about 3000 mj / cm 2 and further heat-treated at 100 ° C. for 1 hour and then at 150 ° C. for 10 hours to obtain an opening 7 having excellent dimensional accuracy equivalent to a photomask film. Was formed (see FIG. 5 (c)). (5) Next, the resin surface was roughened by immersing it in sulfuric acid for 10 minutes, neutralized and washed with water (see FIG. 5 (d)). (6) Through holes 5 were prepared by a conventional method. (7) A palladium catalyst (manufactured by Shipley) was applied to the substrate 1'to activate the surface of the insulating layer 2 ', and the catalyst was fixed by heating at 120 ° C for 30 minutes in a nitrogen gas atmosphere. (8) Next, a photosensitive dry film (manufactured by San Nopco) was laminated on the wiring board 1 ', and the conductor pattern was exposed and then developed (see FIG. 5 (e)). (9) Immerse in an electroless copper plating solution having the composition shown in Table 1 for 11 hours to perform electroless copper plating with a plating film 6 thickness of 25 μm.
A multilayer printed wiring board was created (see Fig. 5 (f)).

【0054】(実施例13) (1) 実施例1の(1),(2) と同様の処理を行い、接着剤溶
液Aを得た。ただし、イミダゾール系硬化剤(四国化成
製)を混合しなかった。 (2) イミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部を適
量のブチルセロソルブアセテートに混合し、接着剤溶液
Bを得た。 (3) 接着剤溶液Aと接着剤溶液Bを混合し、ホモジナイ
ザー攪拌機で混合した。得られた接着剤の特性は実施例
1と同様であった。 (4) この接着剤を用い、実施例1と同様の処理を行い、
プリント配線板を製造した。前記接着剤溶液A,Bは、
長期保存が可能である。
Example 13 (1) An adhesive solution A was obtained by performing the same treatments as in (1) and (2) of Example 1. However, the imidazole type curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) was not mixed. (2) 5 parts by weight of an imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) was mixed with an appropriate amount of butyl cellosolve acetate to obtain an adhesive solution B. (3) Adhesive solution A and adhesive solution B were mixed and mixed with a homogenizer stirrer. The properties of the obtained adhesive were the same as in Example 1. (4) Using this adhesive, perform the same treatment as in Example 1,
A printed wiring board was manufactured. The adhesive solutions A and B are
Can be stored for a long period of time.

【0055】(実施例14) (1) 本実施例は基本的には実施例1と同様であるが、特
殊多官能性エポキシ樹脂(油化シェル製)100 重量部と
イミダゾール系硬化剤(四国化成製)5重量部をブチル
セロソルブアセテートに溶解し、この組成物の固形分10
0 重量部に対して、実施例1の(1) で作成した微粉末を
50重量部の割合で混合して、その後3本ロールで混練
し、さらにブチルセロソルブアセテートを添加して固形
分濃度75wt%の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘度
は、回転数6rpm で5.3 Pa・s 、60rpm で2.4 Pa・s で
あり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.2 であ
った。 (2) この接着剤を用い、実施例1と同様にしてプリント
配線板を作成した。
Example 14 (1) This example is basically the same as Example 1, except that 100 parts by weight of a special polyfunctional epoxy resin (made by Yuka Shell) and an imidazole type curing agent (Shikoku 5 parts by weight) was dissolved in butyl cellosolve acetate to obtain a solid content of 10%.
0 parts by weight of the fine powder prepared in (1) of Example 1
The mixture was mixed at a ratio of 50 parts by weight, then kneaded with a three-roll mill, and butyl cellosolve acetate was further added to prepare an adhesive solution having a solid content concentration of 75 wt%. The viscosity of this solution was 5.3 Pa · s at 6 rpm and 2.4 Pa · s at 60 rpm, and its SVI value (thixotropic property) was 2.2. (2) Using this adhesive, a printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 1.

【0056】(実施例15) (1) 本実施例は基本的には実施例8と同様であるが、オ
ルトクレゾール型エポキシ樹脂(日本化薬製)の70%ア
クリル化物 100重量部、ジアリルテレフタレート15重量
部、2-メチル- 1-〔4-(メチルチオ)フェニル〕-2- モ
ルフォリノプロパノン-1(チバ・ガイギー製)4重量
部、イミダゾール系硬化剤(四国化成製)2重量部、光
開始剤(チバガイギー製)5重量部および実施例8の
(2) で得られたエポキシ樹脂微粉末50重量部を混合した
後、ブチルセロソルブを添加しながらホモディスパー分
散機で調製し、次いで3本ローラーで混練して固形分濃
度70%の感光性の接着剤溶液を作成した。この溶液の粘
度は、回転数6rpm で5.1 Pa・s 、60rpm で2.4 Pa・s
であり、そのSVI値(チキソトロピック性)は2.1 で
あった。 (2) この接着剤を用い、実施例8と同様にして多層プリ
ント配線板を作成した。
Example 15 (1) This example is basically the same as Example 8, except that 100 parts by weight of 70% acrylate of ortho-cresol type epoxy resin (Nippon Kayaku) and diallyl terephthalate are used. 15 parts by weight, 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1 (manufactured by Ciba Geigy) 4 parts by weight, imidazole-based curing agent (manufactured by Shikoku Kasei) 2 parts by weight, light 5 parts by weight of an initiator (manufactured by Ciba Geigy) and that of Example 8
After mixing 50 parts by weight of the epoxy resin fine powder obtained in (2), prepare with a homodisper disperser while adding butyl cellosolve, and then knead with 3 rollers to obtain a photosensitive adhesive with a solid content of 70%. An agent solution was prepared. The viscosity of this solution is 5.1 Pa · s at 6 rpm and 2.4 Pa · s at 60 rpm.
And its SVI value (thixotropic property) was 2.1. (2) Using this adhesive, a multilayer printed wiring board was prepared in the same manner as in Example 8.

【0057】(比較例2)基本的には実施例1と同じで
あるが、耐熱性樹脂微粉末として、ジシアン系硬化剤で
硬化させたエポキシ樹脂を使用してプリント配線板を作
成した。
COMPARATIVE EXAMPLE 2 Basically the same as in Example 1, but a printed wiring board was prepared by using, as the heat resistant resin fine powder, an epoxy resin cured with a dicyan hardener.

【0058】実施例8〜12、比較例2で得られたプリン
ト配線板の基板と銅めっき膜との密着強度をJIS-C-6481
の方法で測定したところ、ピール強度は表3に示す結果
となった。表3から明らかなように、比較例で使用した
ジシアン系硬化剤で硬化させたエポキシ樹脂は、酸や酸
化剤に対する溶解度が低いため、本発明のアミン系硬化
剤で硬化させたエポキシ樹脂の場合に比べて低いピール
強度を示した。さらに、本発明の接着剤は、破壊靱性値
が大きく、ドリル加工性や打ち抜き加工性が優れている
ことが判った。
The adhesion strength between the substrate and the copper plating film of the printed wiring board obtained in Examples 8 to 12 and Comparative Example 2 was measured according to JIS-C-6481.
When the peel strength was measured by the above method, the results are shown in Table 3. As is clear from Table 3, since the epoxy resin cured with the dicyan-based curing agent used in Comparative Example has low solubility in an acid and an oxidizing agent, the epoxy resin cured with the amine-based curing agent of the present invention The peel strength was lower than that of Further, it was found that the adhesive of the present invention has a large fracture toughness value and excellent drilling workability and punching workability.

【0059】[0059]

【表3】 [Table 3]

【0060】[0060]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の配線板用
接着剤とこの接着剤を用いた配線板の製造方法によれ
ば、接着剤の対無電解めっき性,耐熱性,電気特性,基
板と無電解めっき膜との密着性,加工性および塗布性に
極めて優れる配線板用接着剤およびこの接着剤を用いた
プリント配線板を容易に得ることができる。
As described above, according to the adhesive for wiring boards of the present invention and the method for producing a wiring board using this adhesive, the adhesive resistance to electroless plating, heat resistance, electrical characteristics, It is possible to easily obtain an adhesive for wiring boards, which has extremely excellent adhesion, workability, and coatability between the substrate and the electroless plating film, and a printed wiring board using this adhesive.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明のプリント配線板の一実施例を示す製造
工程図である。
FIG. 1 is a manufacturing process diagram showing an embodiment of a printed wiring board of the present invention.

【図2】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 2 is another manufacturing process drawing showing an embodiment of the printed wiring board of the present invention.

【図3】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 3 is another manufacturing process diagram showing the embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【図4】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 4 is another manufacturing process diagram showing the embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【図5】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 5 is another manufacturing process diagram showing the embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【図6】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 6 is another manufacturing process drawing showing the embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【図7】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 7 is another manufacturing process diagram showing the embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【図8】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 8 is another manufacturing process diagram showing the embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【図9】本発明のプリント配線板の一実施例を示す他の
製造工程図である。
FIG. 9 is another manufacturing process drawing showing the embodiment of the printed wiring board according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1,1′ 基板(配線板) 2,2′ 接着剤層(絶縁層) 3 めっきレジスト 4,6,8,10 配線板(めっき膜,導体層) 5 スルーホール用孔 7 バイアホール用開口 1,1 'substrate (wiring board) 2,2 'Adhesive layer (insulating layer) 3 plating resist 4, 6, 8, 10 Wiring board (plating film, conductor layer) 5 Through hole 7 Via hole openings

【手続補正書】[Procedure amendment]

【提出日】平成3年10月31日[Submission date] October 31, 1991

【手続補正1】[Procedure Amendment 1]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】特許請求の範囲[Name of item to be amended] Claims

【補正方法】追加[Correction method] Added

【補正内容】[Correction content]

【特許請求の範囲】[Claims]

【手続補正2】[Procedure Amendment 2]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0048[Correction target item name] 0048

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0048】[0048]

【表2】 [Table 2]

【手続補正3】[Procedure 3]

【補正対象書類名】明細書[Document name to be amended] Statement

【補正対象項目名】0059[Correction target item name] 0059

【補正方法】変更[Correction method] Change

【補正内容】[Correction content]

【0059】[0059]

【表3】 [Table 3]

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C23C 18/18 8414−4K 18/20 Z 8414−4K // H05K 3/18 A 6736−4E ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of the front page (51) Int.Cl. 5 Identification code Office reference number FI technical display location C23C 18/18 8414-4K 18/20 Z 8414-4K // H05K 3/18 A 6736-4E

Claims (14)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施された
場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる特性を
有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させて
なる接着剤において、 耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化されたエ
ポキシ樹脂を用いることを特徴とする配線板用接着剤。
1. A cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidant, has a characteristic of being hardly soluble in an acid or an oxide when subjected to a curing treatment. An adhesive for wiring boards, characterized in that an epoxy resin cured with an amine-based curing agent is used as the heat-resistant resin fine powder in an adhesive dispersed in a curing heat-resistant resin matrix.
【請求項2】 酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施された
場合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる特性を
有する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させて
なる接着剤において、 前記耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化され
たエポキシ樹脂を用い、前記耐熱性樹脂マトリックスと
してイミダゾール系硬化剤で硬化されるエポキシ樹脂を
用いることを特徴とする配線板用接着剤。
2. A cured heat-resistant resin fine powder which is soluble in an acid or an oxidant, has a characteristic of being hardly soluble in an acid or an oxide when subjected to a curing treatment. In an adhesive that is dispersed in a heat-resistant resin matrix for curing, an epoxy resin cured with an amine-based curing agent is used as the heat-resistant resin fine powder, and is cured with an imidazole-based curing agent as the heat-resistant resin matrix. An adhesive for wiring boards, characterized by using an epoxy resin.
【請求項3】 酸あるいは酸化剤に対して可溶性である
硬化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化物が酸あるいは
酸化物に対して難溶性となる特性を有する未硬化の耐熱
性樹脂マトリックス中に分散させてなる接着剤におい
て、 前記耐熱性樹脂微粉末としてアミン系硬化剤で硬化され
たエポキシ樹脂を用い、前記耐熱性樹脂マトリックスと
してエポキシ樹脂,アクリル基を有する樹脂およびアク
リル樹脂から選ばれる少なくとも1種を用いることを特
徴とする配線板用接着剤。
3. An uncured heat-resistant resin matrix having a characteristic that a cured heat-resistant resin fine powder that is soluble in an acid or an oxidizing agent is hard to be dissolved in an acid or an oxide. In an adhesive dispersed therein, an epoxy resin cured with an amine curing agent is used as the heat resistant resin fine powder, and an epoxy resin, a resin having an acrylic group and an acrylic resin is selected as the heat resistant resin matrix. At least one adhesive is used for a wiring board.
【請求項4】 上記接着剤のその粘度を回転粘度計で測
定した粘度が、回転数6rpm のとき5.1 ±2.0 Pa・s 、
回転数60rpmのとき2.4 ±1.0 Pa・s を示し、かつ回
転数6rpmの粘度と回転数60rpmの粘度との比が、
2.1 ±1.0 を示す請求項1〜3のいずれか1つに記載の
接着剤。
4. The viscosity of the adhesive measured by a rotational viscometer is 5.1 ± 2.0 Pa · s when the rotational speed is 6 rpm,
When the rotation speed is 60 rpm, it shows 2.4 ± 1.0 Pa · s, and the ratio of the viscosity at the rotation speed of 6 rpm and the viscosity at the rotation speed of 60 rpm is
The adhesive according to any one of claims 1 to 3, which exhibits 2.1 ± 1.0.
【請求項5】 硬化済の2官能性エポキシ樹脂微粉末
を、未硬化の多官能性エポキシ樹脂および2官能性エポ
キシ樹脂のなかから選ばれる少なくとも1種からなるマ
トリックス樹脂中に、分散させてなる混合物と、イミダ
ゾール系硬化剤とからなる請求項2に記載の接着剤。
5. A cured bifunctional epoxy resin fine powder is dispersed in a matrix resin comprising at least one selected from an uncured polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin. The adhesive according to claim 2, comprising a mixture and an imidazole-based curing agent.
【請求項6】 上記樹脂マトリックスは、固形分で、20
〜100 wt%の多官能性エポキシ樹脂と0〜80wt%の2官
能性エポキシ樹脂で構成し、2官能性エポキシ樹脂微粉
末の含有量を、マトリックスの合計固形分100 重量部に
対して10〜100 重量部とした請求項5に記載の接着剤。
6. The resin matrix has a solid content of 20
Consisting of 〜100 wt% polyfunctional epoxy resin and 0-80 wt% difunctional epoxy resin, the content of bifunctional epoxy resin fine powder is 10〜100% by weight of the total solid content of the matrix. The adhesive according to claim 5, which is 100 parts by weight.
【請求項7】 硬化済の2官能性エポキシ樹脂を、未硬
化の多官能性エポキシ樹脂および2官能性エポキシ樹脂
のなかから選ばれる少なくとも1種からなる樹脂と、イ
ミダゾール系硬化剤の混合物からなるマトリックス中
に、分散させてなる請求項2に記載の接着剤。
7. A mixture of a cured bifunctional epoxy resin, at least one resin selected from an uncured polyfunctional epoxy resin and a bifunctional epoxy resin, and an imidazole curing agent. The adhesive according to claim 2, which is dispersed in a matrix.
【請求項8】 上記マトリックスは、固形分で、20〜10
0 wt%の多官能性エポキシ樹脂と0〜80wt%の2官能性
エポキシ樹脂とからなる耐熱性樹脂と、マトリックスの
合計固形分に対して2〜10wt%のイミダゾール系硬化剤
とで構成し、2官能性エポキシ樹脂微粉末の含有量を、
上記マトリックスの固形分100 重量部に対して10〜100
重量部とした請求項7に記載の接着剤。
8. The matrix has a solid content of 20 to 10
A heat-resistant resin composed of 0 wt% of a polyfunctional epoxy resin and 0 to 80 wt% of a bifunctional epoxy resin, and 2 to 10 wt% of an imidazole-based curing agent based on the total solid content of the matrix, The content of the bifunctional epoxy resin fine powder is
10-100 based on 100 parts by weight of solids in the above matrix
The adhesive according to claim 7, which is defined as parts by weight.
【請求項9】 硬化済の2官能性エポキシ樹脂を、未硬
化の、多官能性エポキシ樹脂,多官能性のアクリル基を
有する樹脂および多官能性アクリル樹脂から選ばれる少
なくとも1種の樹脂、もしくは、多官能性エポキシ樹
脂,多官能性のアクリル基を有する樹脂および多官能性
アクリル樹脂から選ばれる少なくとも1種と2官能性エ
ポキシ樹脂および2官能性アクリル樹脂から選ばれる少
なくとも1種の混合樹脂中に、分散させてなる請求項3
に記載の接着剤。
9. A cured bifunctional epoxy resin, at least one resin selected from an uncured polyfunctional epoxy resin, a resin having a polyfunctional acrylic group, and a polyfunctional acrylic resin, or In a mixed resin of at least one selected from a polyfunctional epoxy resin, a resin having a polyfunctional acrylic group, and a polyfunctional acrylic resin, and at least one selected from a bifunctional epoxy resin and a bifunctional acrylic resin. 4. The dispersion according to claim 3
The adhesive according to.
【請求項10】 上記耐熱性樹脂マトリックスは、固形分
で、20〜100 wt%の多官能性エポキシ樹脂,多官能性の
アクリル基を有する樹脂および多官能性アクリル樹脂か
ら選ばれる少なくとも1種と、0〜80wt%の2官能性エ
ポキシ樹脂,および2官能性アクリル樹脂から選ばれる
少なくとも1種で構成し、2官能性エポキシ樹脂微粉末
の含有量を、マトリックスの合計固形分100 重量部に対
して10〜100 重量部とした請求項9に記載の接着剤。
10. The heat-resistant resin matrix comprises at least one selected from a polyfunctional epoxy resin having a solid content of 20 to 100 wt%, a resin having a polyfunctional acrylic group, and a polyfunctional acrylic resin. , At least one selected from a bifunctional epoxy resin of 0 to 80 wt% and a bifunctional acrylic resin, and the content of the bifunctional epoxy resin fine powder is based on 100 parts by weight of the total solid content of the matrix. The adhesive according to claim 9, wherein the total amount is 10 to 100 parts by weight.
【請求項11】 マトリックス中の耐熱性樹脂微粉末,未
硬化の耐熱性樹脂および硬化剤の固形分濃度が、55〜85
wt%である請求項1に記載の接着剤。
11. The solid content concentration of the heat-resistant resin fine powder, the uncured heat-resistant resin and the curing agent in the matrix is 55 to 85.
The adhesive according to claim 1, which is wt%.
【請求項12】 少なくとも一方の基板表面に接着剤層を
設けて、その上に導体回路を形成してなるプリント配線
板において、酸あるいは酸化剤に対して可溶性である硬
化処理済の耐熱性樹脂微粉末を、硬化処理が施された場
合には酸あるいは酸化物に対して難溶性となる特性を有
する未硬化の耐熱性樹脂マトリックス中に分散させてな
る接着剤として、前記耐熱性樹脂微粉末がアミン系硬化
剤で硬化されたエポキシ樹脂であるものを用いることを
特徴とするプリント配線板。
12. In a printed wiring board having an adhesive layer on at least one substrate surface and a conductor circuit formed thereon, a cured heat-resistant resin soluble in an acid or an oxidant. The heat-resistant resin fine powder as an adhesive obtained by dispersing the fine powder in an uncured heat-resistant resin matrix having a property of being hardly soluble in an acid or an oxide when subjected to a curing treatment. A printed wiring board characterized by using an epoxy resin cured with an amine-based curing agent.
【請求項13】 前記耐熱性樹脂マトリックスは、イミダ
ゾール系硬化剤で硬化されるエポキシ樹脂である請求項
12に記載のプリント配線板。
13. The heat-resistant resin matrix is an epoxy resin that is cured with an imidazole-based curing agent.
The printed wiring board described in 12.
【請求項14】 前記耐熱性樹脂マトリックスは、エポキ
シ樹脂,アクリル基を有する樹脂およびアクリル樹脂か
ら選ばれる少なくとも1種の樹脂である請求項12に記載
のプリント配線板。
14. The printed wiring board according to claim 12, wherein the heat-resistant resin matrix is at least one resin selected from an epoxy resin, a resin having an acrylic group, and an acrylic resin.
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