JPH05203928A - 液晶デバイスの製造方法 - Google Patents
液晶デバイスの製造方法Info
- Publication number
- JPH05203928A JPH05203928A JP1205192A JP1205192A JPH05203928A JP H05203928 A JPH05203928 A JP H05203928A JP 1205192 A JP1205192 A JP 1205192A JP 1205192 A JP1205192 A JP 1205192A JP H05203928 A JPH05203928 A JP H05203928A
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- Japan
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- liquid crystal
- light control
- injection hole
- control layer
- crystal device
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- Pending
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 液晶材料と透明性固体物質から成る調光層を
有する液晶デバイスにおいて、製造工程が少なく、且
つ、液晶デバイスの抵抗値及び電圧保持率を改善する液
晶デバイスの製造方法を提供する。 【構成】 液晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤
を含有する調光層形成材料を、真空注入法を用いて注入
孔を有するセルに注入し、次いで、注入孔に光硬化性封
孔剤を注入した後、可視光線を照射することによって、
調光層形成と封孔を同時に行う。
有する液晶デバイスにおいて、製造工程が少なく、且
つ、液晶デバイスの抵抗値及び電圧保持率を改善する液
晶デバイスの製造方法を提供する。 【構成】 液晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤
を含有する調光層形成材料を、真空注入法を用いて注入
孔を有するセルに注入し、次いで、注入孔に光硬化性封
孔剤を注入した後、可視光線を照射することによって、
調光層形成と封孔を同時に行う。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、大面積になし得る液晶
デバイスの製造方法に関し、更に詳しくは、本発明によ
って得られる液晶デバイスは、視野の遮断、開放及び明
かりもしくは照明光の透過制限、遮断、透過を電気的又
は熱的に操作し得るものであって、建物の窓やショーウ
ィンドウで視野遮断のスクリーンや、採光コントロール
のカーテンに利用されると共に、文字や図形を表示し、
高速応答性を以って電気的にその表示を切換えることに
よって、ＯＡ機器のディスプレイ等のハイインフォメー
ション表示体や広告板、案内板、装飾表示板等の表示用
デバイスとして利用される液晶デバイスの製造方法に関
する。
デバイスの製造方法に関し、更に詳しくは、本発明によ
って得られる液晶デバイスは、視野の遮断、開放及び明
かりもしくは照明光の透過制限、遮断、透過を電気的又
は熱的に操作し得るものであって、建物の窓やショーウ
ィンドウで視野遮断のスクリーンや、採光コントロール
のカーテンに利用されると共に、文字や図形を表示し、
高速応答性を以って電気的にその表示を切換えることに
よって、ＯＡ機器のディスプレイ等のハイインフォメー
ション表示体や広告板、案内板、装飾表示板等の表示用
デバイスとして利用される液晶デバイスの製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】電極層を有する少なくとも一方が透明な
２枚の基板間に液晶材料、光重合性組成物及び光重合開
始剤を含有する調光層形成材料を介在させ、紫外線を照
射して前記光重合性組成物を重合させることにより、液
晶材料の連続層中に透明性固体物質による３次元ネット
ワーク構造を形成して成る液晶デバイスの製造方法、又
は、ポリマー中に液晶が液滴状となって分散している液
晶デバイスの製造方法において、前記２枚の基板間の注
入孔を除く周縁部分をシール剤によって固定化してセル
を形成し、このセルに液晶材料、光重合性組成物及び光
重合開始剤を含有する調光層形成材料を真空注入法を用
いて注入した後、紫外線を照射して光重合性組成物を重
合させることによって、液晶材料及び透明性固体物質か
ら成る調光層を形成させ、次いで、光硬化性封孔剤を注
入孔に塗布し、更に紫外線を照射することによって封孔
する方法が用いられていた。
２枚の基板間に液晶材料、光重合性組成物及び光重合開
始剤を含有する調光層形成材料を介在させ、紫外線を照
射して前記光重合性組成物を重合させることにより、液
晶材料の連続層中に透明性固体物質による３次元ネット
ワーク構造を形成して成る液晶デバイスの製造方法、又
は、ポリマー中に液晶が液滴状となって分散している液
晶デバイスの製造方法において、前記２枚の基板間の注
入孔を除く周縁部分をシール剤によって固定化してセル
を形成し、このセルに液晶材料、光重合性組成物及び光
重合開始剤を含有する調光層形成材料を真空注入法を用
いて注入した後、紫外線を照射して光重合性組成物を重
合させることによって、液晶材料及び透明性固体物質か
ら成る調光層を形成させ、次いで、光硬化性封孔剤を注
入孔に塗布し、更に紫外線を照射することによって封孔
する方法が用いられていた。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、従来の
技術による液晶デバイスの製造方法では、紫外線を照射
して調光層を形成した後、注入孔部分の余剰調光層形成
材料液を拭き取り等の手段で取り除き、次いで、注入孔
に封孔剤を塗布し、加熱又は紫外線照射によって重合硬
化させることによって封孔を行っていた。
技術による液晶デバイスの製造方法では、紫外線を照射
して調光層を形成した後、注入孔部分の余剰調光層形成
材料液を拭き取り等の手段で取り除き、次いで、注入孔
に封孔剤を塗布し、加熱又は紫外線照射によって重合硬
化させることによって封孔を行っていた。
【０００４】このような製造方法は工程が煩雑であるう
え、特に紫外線を照射する場合には、調光層形成と封孔
のために紫外線を２回照射しなければならず、これによ
って液晶材料は光劣化し、得られた液晶デバイスは比抵
抗が低く、消費電力の増大、寿命の低下、そして電圧保
持率の低下による表示画面にちらつきを起こすという問
題点を有していた。
え、特に紫外線を照射する場合には、調光層形成と封孔
のために紫外線を２回照射しなければならず、これによ
って液晶材料は光劣化し、得られた液晶デバイスは比抵
抗が低く、消費電力の増大、寿命の低下、そして電圧保
持率の低下による表示画面にちらつきを起こすという問
題点を有していた。
【０００５】更に、紫外線照射装置は高エネルギーを発
生するものであり、これによってオゾンの発生や、ある
いは皮膚障害をもたらすなど人体にも有害なものであ
り、特に大面積の液晶デバイスを製造する場合、多量の
紫外線が照射されることとなり、装置も高価なものが必
要となるので、紫外線を照射して重合させることは、実
用上、問題であった。
生するものであり、これによってオゾンの発生や、ある
いは皮膚障害をもたらすなど人体にも有害なものであ
り、特に大面積の液晶デバイスを製造する場合、多量の
紫外線が照射されることとなり、装置も高価なものが必
要となるので、紫外線を照射して重合させることは、実
用上、問題であった。
【０００６】本発明が解決しようとする課題は、液晶材
料の比抵抗及び電圧保持率が高く、消費電力の少ない液
晶デバイスの製造方法を提供し、従来と比較して製造工
程が少なく、更に人体に影響を与えない液晶デバイスの
製造方法を提供することにある。
料の比抵抗及び電圧保持率が高く、消費電力の少ない液
晶デバイスの製造方法を提供し、従来と比較して製造工
程が少なく、更に人体に影響を与えない液晶デバイスの
製造方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、液晶デバ
イスの製造上、紫外線照射による液晶材料の光劣化が予
想以上に大きく、これが液晶デバイスの比抵抗及び電圧
保持率の低下につながっていることを見い出し、この課
題を解決するために鋭意研究を進めた結果、本発明に至
った。
イスの製造上、紫外線照射による液晶材料の光劣化が予
想以上に大きく、これが液晶デバイスの比抵抗及び電圧
保持率の低下につながっていることを見い出し、この課
題を解決するために鋭意研究を進めた結果、本発明に至
った。
【０００８】即ち、本発明は上記課題を解決するため
に、（１）電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚
の基板から成る注入孔を有するセル中に、液晶材料、光
重合性組成物及び光重合開始剤を含有する調光層形成材
料を注入する第１工程、（２）光硬化性封孔剤を注入孔
に塗布する第２工程、（３）可視光線を照射して、前記
光重合性組成物及び光硬化性封孔剤を重合させることに
よって、液晶材料と透明性固体物質から成る調光層を形
成すると共に、注入孔を封孔する第３工程を有すること
を特徴とする液晶デバイスの製造方法を提供する。
に、（１）電極層を有する少なくとも一方が透明な２枚
の基板から成る注入孔を有するセル中に、液晶材料、光
重合性組成物及び光重合開始剤を含有する調光層形成材
料を注入する第１工程、（２）光硬化性封孔剤を注入孔
に塗布する第２工程、（３）可視光線を照射して、前記
光重合性組成物及び光硬化性封孔剤を重合させることに
よって、液晶材料と透明性固体物質から成る調光層を形
成すると共に、注入孔を封孔する第３工程を有すること
を特徴とする液晶デバイスの製造方法を提供する。
【０００９】本発明の液晶デバイスの製造方法によれ
ば、調光層形成材料をセルに注入し、次いで、光硬化性
封孔剤を注入孔に注入した後、１回の可視光線照射によ
り、調光層形成と封孔を同時に行うことができ、従来と
比較して製造工程が少なく、液晶材料の光劣化を抑えた
液晶デバイスを製造することができる。
ば、調光層形成材料をセルに注入し、次いで、光硬化性
封孔剤を注入孔に注入した後、１回の可視光線照射によ
り、調光層形成と封孔を同時に行うことができ、従来と
比較して製造工程が少なく、液晶材料の光劣化を抑えた
液晶デバイスを製造することができる。
【００１０】真空注入法を用いて調光層形成材料をセル
中に注入する際には、真空注入装置を完全に遮光する
等、光に暴露されない条件下で行なうことが好ましい。
これによって、形成される調光層にムラが発生せず、均
一な調光層を有する液晶デバイスを得ることができる。
中に注入する際には、真空注入装置を完全に遮光する
等、光に暴露されない条件下で行なうことが好ましい。
これによって、形成される調光層にムラが発生せず、均
一な調光層を有する液晶デバイスを得ることができる。
【００１１】光硬化性封孔剤を注入孔に注入する方法と
しては、 注入孔付近を更に高い温度にした状態で光硬化性封孔
剤を塗布し、これを冷却することにより注入孔内に吸引
注入させる方法、 注入孔付近に一定の圧力を加えた状態で光硬化性封孔
剤を塗布し、常圧に戻すことにより注入孔内に吸引注入
させる方法 等を挙げることができるが、の注入方法がより好まし
い。
しては、 注入孔付近を更に高い温度にした状態で光硬化性封孔
剤を塗布し、これを冷却することにより注入孔内に吸引
注入させる方法、 注入孔付近に一定の圧力を加えた状態で光硬化性封孔
剤を塗布し、常圧に戻すことにより注入孔内に吸引注入
させる方法 等を挙げることができるが、の注入方法がより好まし
い。
【００１２】この光硬化性封孔剤を注入孔に注入する際
も、光に暴露されない条件下で行なうことが好ましい。
本発明で使用する基板は、堅固な材料、例えば、ガラ
ス、金属等であっても良く、柔軟性を有する材料、例え
ば、プラスチックフィルムの如きものであっても良い。
そして、基板は、２枚が対向して適当な間隔を隔て得る
ものである。また、その少なくとも一方は、透明性を有
し、その２枚の間に挟持される液晶層及び透明性固体物
質を有する層から成る調光層を外界から視覚させるもの
でなければならない。但し、完全な透明性を必須とする
ものではない。もし、この液晶デバイスが、デバイスの
一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用させる
ために使用される場合は、２枚の基板は、共に適宜な透
明性が与えられる。この基板には、目的に応じて透明、
不透明の適宜な電極が、その全面又は部分的に配置され
ても良い。
も、光に暴露されない条件下で行なうことが好ましい。
本発明で使用する基板は、堅固な材料、例えば、ガラ
ス、金属等であっても良く、柔軟性を有する材料、例え
ば、プラスチックフィルムの如きものであっても良い。
そして、基板は、２枚が対向して適当な間隔を隔て得る
ものである。また、その少なくとも一方は、透明性を有
し、その２枚の間に挟持される液晶層及び透明性固体物
質を有する層から成る調光層を外界から視覚させるもの
でなければならない。但し、完全な透明性を必須とする
ものではない。もし、この液晶デバイスが、デバイスの
一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用させる
ために使用される場合は、２枚の基板は、共に適宜な透
明性が与えられる。この基板には、目的に応じて透明、
不透明の適宜な電極が、その全面又は部分的に配置され
ても良い。
【００１３】尚、２枚の基板間には、通常、周知の液晶
デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介在させる
こともできる。また、注入孔を除いた２枚の基板の周縁
部分を固定化するには、周知のシール剤を用いることが
できる。
デバイスと同様、間隔保持用のスペーサーを介在させる
こともできる。また、注入孔を除いた２枚の基板の周縁
部分を固定化するには、周知のシール剤を用いることが
できる。
【００１４】本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶
性化合物であることを要しないのは勿論で、２種以上の
液晶化合物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であ
っても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識さ
れるものであれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を
有するものが好ましい。用いられる液晶としては、ネマ
チック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が
好ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を
改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチ
ック液晶、カイラルスメクチック液晶等やカイラル化合
物が適宜含まれていてもよい。
性化合物であることを要しないのは勿論で、２種以上の
液晶化合物や液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であ
っても良く、通常この技術分野で液晶材料として認識さ
れるものであれば良く、そのうちの正の誘電率異方性を
有するものが好ましい。用いられる液晶としては、ネマ
チック液晶、スメクチック液晶、コレステリック液晶が
好ましく、ネマチック液晶が特に好ましい。その性能を
改善するために、コレステリック液晶、カイラルネマチ
ック液晶、カイラルスメクチック液晶等やカイラル化合
物が適宜含まれていてもよい。
【００１５】本発明で使用する液晶材料は、以下に示し
た化合物群から選ばれた１種以上の化合物から成る配合
組成物が好ましく、液晶材料の特性、即ち、等方性液体
と液晶の相転移温度、融点、粘度、複屈折率（Δｎ）、
誘電異方性（Δε）及び重合性組成物との溶解性等を調
整することを目的として適宜選択、配合して用いること
ができる。
た化合物群から選ばれた１種以上の化合物から成る配合
組成物が好ましく、液晶材料の特性、即ち、等方性液体
と液晶の相転移温度、融点、粘度、複屈折率（Δｎ）、
誘電異方性（Δε）及び重合性組成物との溶解性等を調
整することを目的として適宜選択、配合して用いること
ができる。
【００１６】液晶材料としては、例えば、４−置換安息
香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキ
サンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−置換
シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）
安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換
シクロヘキシル）安息香酸４’−置換フェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置
換シクロヘキシルエステル、４−置換４’−置換ビフェ
ニル、４−置換フェニル−４’−置換シクロヘキサン、
４−置換４”−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル
４’−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）
−５−置換ピリミジン等を挙げることができ、これらの
化合物の中でも、少なくとも分子の一方の末端にシアノ
基を有する化合物が特に好ましい。
香酸４’−置換フェニルエステル、４−置換シクロヘキ
サンカルボン酸４’−置換フェニルエステル、４−置換
シクロヘキサンカルボン酸４’−置換ビフェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキサンカルボニルオキシ）
安息香酸４’−置換フェニルエステル、４−（４−置換
シクロヘキシル）安息香酸４’−置換フェニルエステ
ル、４−（４−置換シクロヘキシル）安息香酸４’−置
換シクロヘキシルエステル、４−置換４’−置換ビフェ
ニル、４−置換フェニル−４’−置換シクロヘキサン、
４−置換４”−置換ターフェニル、４−置換ビフェニル
４’−置換シクロヘキサン、２−（４−置換フェニル）
−５−置換ピリミジン等を挙げることができ、これらの
化合物の中でも、少なくとも分子の一方の末端にシアノ
基を有する化合物が特に好ましい。
【００１７】調光層形成材料中の液晶材料の割合は、６
０重量％以上が好ましく、７５〜９０重量％の範囲が特
に好ましい。前記基板間に形成される透明性固体物質
は、ポリマー中に液晶材料が球状となって分散するもの
でもよいが、三次元網目状構造を有するものがより好ま
しい。
０重量％以上が好ましく、７５〜９０重量％の範囲が特
に好ましい。前記基板間に形成される透明性固体物質
は、ポリマー中に液晶材料が球状となって分散するもの
でもよいが、三次元網目状構造を有するものがより好ま
しい。
【００１８】この透明性固体物質の三次元網目状部分に
は、液晶材料が充填され、且つ、液晶材料が連続層を形
成することが好ましく、液晶材料の無秩序な状態を形成
することにより、光学的境界面を形成し、光の散乱を発
現させる上で必須である。
は、液晶材料が充填され、且つ、液晶材料が連続層を形
成することが好ましく、液晶材料の無秩序な状態を形成
することにより、光学的境界面を形成し、光の散乱を発
現させる上で必須である。
【００１９】これらの透明性固体物質としては、合成樹
脂が好適である。三次元網目状構造を与えるものとして
は、高分子形成性モノマー若しくはオリゴマーを重合さ
せて得られる光硬化型樹脂が好ましい。
脂が好適である。三次元網目状構造を与えるものとして
は、高分子形成性モノマー若しくはオリゴマーを重合さ
せて得られる光硬化型樹脂が好ましい。
【００２０】基板間に形成される透明性固体物質が三次
元網目状構造を形成する方法としては、セル中に封入さ
れた調光層形成材料を等方性液体状態に保持しながら可
視光線を照射し、光重合性組成物を重合させる方法を挙
げることができる。
元網目状構造を形成する方法としては、セル中に封入さ
れた調光層形成材料を等方性液体状態に保持しながら可
視光線を照射し、光重合性組成物を重合させる方法を挙
げることができる。
【００２１】透明性固体物質を形成する高分子形成性モ
ノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、
α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン：置換基とし
て、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−
エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メ
トキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ア
ルリル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチ
ル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロ
キシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノ
エチル等の如き基を有するアクリレート、メタクリレー
ト又はフマレート；エチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレング
リコール、1,3 −ブチレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン及び
ペンタエリスリトール等のモノ（メタ）アクリレート又
はポリ（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、酪酸ビニル
又は安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セチルビニル
エーテル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレ
ート、ジアリルイソフタレート、２−、３− 又は４−
ビニルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル
アミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアク
リルアミド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド
及びそれらのアルキルエーテル化合物；ネオペンチルグ
リコール１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若し
くはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ
（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパン１モル
に３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレン
オキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メ
タ）アクリレート；ビスフェノールＡ１モルに２モル以
上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイド
を付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート；２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート１モルとフェ
ニルイソシアネート若しくはｎ−ブチルイソシアネート
１モルとの反応生成物；ジペンタエリスリトールのポリ
（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
ノマーとしては、例えば、スチレン、クロロスチレン、
α−メチルスチレン、ジビニルベンゼン：置換基とし
て、メチル、エチル、プロピル、ブチル、アミル、２−
エチルヘキシル、オクチル、ノニル、ドデシル、ヘキサ
デシル、オクタデシル、シクロヘキシル、ベンジル、メ
トキシエチル、ブトキシエチル、フェノキシエチル、ア
ルリル、メタリル、グリシジル、２−ヒドロキシエチ
ル、２−ヒドロキシプロピル、３−クロロ−２−ヒドロ
キシプロピル、ジメチルアミノエチル、ジエチルアミノ
エチル等の如き基を有するアクリレート、メタクリレー
ト又はフマレート；エチレングリコール、ポリエチレン
グリコール、プロピレングリコール、ポリプロピレング
リコール、1,3 −ブチレングリコール、テトラメチレン
グリコール、ヘキサメチレングリコール、ネオペンチル
グリコール、トリメチロールプロパン、グリセリン及び
ペンタエリスリトール等のモノ（メタ）アクリレート又
はポリ（メタ）アクリレート；酢酸ビニル、酪酸ビニル
又は安息香酸ビニル、アクリロニトリル、セチルビニル
エーテル、リモネン、シクロヘキセン、ジアリルフタレ
ート、ジアリルイソフタレート、２−、３− 又は４−
ビニルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリル
アミド、メタクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシメチルアク
リルアミド又はＮ−ヒドロキシエチルメタクリルアミド
及びそれらのアルキルエーテル化合物；ネオペンチルグ
リコール１モルに２モル以上のエチレンオキサイド若し
くはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ
（メタ）アクリレート；トリメチロールプロパン１モル
に３モル以上のエチレンオキサイド若しくはプロピレン
オキサイドを付加して得たトリオールのジ又はトリ（メ
タ）アクリレート；ビスフェノールＡ１モルに２モル以
上のエチレンオキサイド若しくはプロピレンオキサイド
を付加して得たジオールのジ（メタ）アクリレート；２
−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート１モルとフェ
ニルイソシアネート若しくはｎ−ブチルイソシアネート
１モルとの反応生成物；ジペンタエリスリトールのポリ
（メタ）アクリレート等を挙げることができる。
【００２２】透明性固体物質を形成する高分子形成性オ
リゴマーとしては、例えば、エポキシ（メタ）アクリレ
ート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタ
ン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリ
レート、等が挙げられる。
リゴマーとしては、例えば、エポキシ（メタ）アクリレ
ート、ポリエステル（メタ）アクリレート、ポリウレタ
ン（メタ）アクリレート、ポリエーテル（メタ）アクリ
レート、等が挙げられる。
【００２３】本発明で使用する光硬化性封孔剤は、可視
光線を照射することによって重合硬化するものが好まし
く、調光層形成材料との溶解性が低いもの、更に、硬化
した後、基板及びシール剤との密着性に優れ、且つ、液
晶材料と混合し難く、耐湿性に優れ、特に、粘度が2000
cps以上であるエポキシアクリレートが好ましい。
光線を照射することによって重合硬化するものが好まし
く、調光層形成材料との溶解性が低いもの、更に、硬化
した後、基板及びシール剤との密着性に優れ、且つ、液
晶材料と混合し難く、耐湿性に優れ、特に、粘度が2000
cps以上であるエポキシアクリレートが好ましい。
【００２４】そのような化合物としては、例えば、スリ
ーボンド社製の「スリーボンド３００６」、「スリーボ
ンド３０１４Ｃ」、「スリーボンド３０３３」、「スリ
ーボンド３０５１」、「スリーボンド３０５２Ｃ」、
「スリーボンド３０５６Ｃ」、東邦化成社製の「ハイロ
ック５７０」、「ハイロック５８０」、「ハイロック５
９０」、「ハイロック６００」、「ハイロックＵＶー８
２Ｅ」、日本ロックタイト社製の「ロックタイト３５
０」、「ロックタイト３５２」、「ロックタイト３５
８」、「ロックタイト３５９」、「ロックタイト３５２
１」、「ロックタイト３６３」、大日本インキ化学工業
（株）社製の「ユニディック−５５００」、「ユニディ
ック−５５０２」、「ディックライトＵＥ８１００」、
「ディックライトＵＥ８２００」、ノーランド社製の
「ＶＵＳ−９１」等を挙げることができる。
ーボンド社製の「スリーボンド３００６」、「スリーボ
ンド３０１４Ｃ」、「スリーボンド３０３３」、「スリ
ーボンド３０５１」、「スリーボンド３０５２Ｃ」、
「スリーボンド３０５６Ｃ」、東邦化成社製の「ハイロ
ック５７０」、「ハイロック５８０」、「ハイロック５
９０」、「ハイロック６００」、「ハイロックＵＶー８
２Ｅ」、日本ロックタイト社製の「ロックタイト３５
０」、「ロックタイト３５２」、「ロックタイト３５
８」、「ロックタイト３５９」、「ロックタイト３５２
１」、「ロックタイト３６３」、大日本インキ化学工業
（株）社製の「ユニディック−５５００」、「ユニディ
ック−５５０２」、「ディックライトＵＥ８１００」、
「ディックライトＵＥ８２００」、ノーランド社製の
「ＶＵＳ−９１」等を挙げることができる。
【００２５】更に、これらの光硬化性封孔剤に、可視光
領域において活性化可能な光重合開始剤、必要に応じて
増感剤等を混合して用いることが必要である。本発明で
使用する光重合開始剤としては、３９０〜８００nmの波
長域に吸収を有するものであればよく、例えば、カンフ
ァーキノン等のジカルボニル系化合物、2,4,6-トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のアシル
フォスフィンオキシド系化合物、２−クロルチオキサン
ソン等のチオキサンソン系化合物等を用いることがで
き、更に、アミン類等の増感剤を併用することによって
重合性を改善することができる。特にカンファーキノン
とアミン類の増感剤を併用することが望ましい。
領域において活性化可能な光重合開始剤、必要に応じて
増感剤等を混合して用いることが必要である。本発明で
使用する光重合開始剤としては、３９０〜８００nmの波
長域に吸収を有するものであればよく、例えば、カンフ
ァーキノン等のジカルボニル系化合物、2,4,6-トリメチ
ルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド等のアシル
フォスフィンオキシド系化合物、２−クロルチオキサン
ソン等のチオキサンソン系化合物等を用いることがで
き、更に、アミン類等の増感剤を併用することによって
重合性を改善することができる。特にカンファーキノン
とアミン類の増感剤を併用することが望ましい。
【００２６】可視光照射光源としては３９０〜８００nm
の波長域の発光源であれば良く、例えば、太陽光、蛍光
灯等でも可能であるが、効率の点で、キセノンランプ、
ハロゲンランプが好ましく、液晶材料の光劣化を防ぐと
いう初期の目的達成のために、３９０nm未満の紫外線を
フィルター等でカットすることが望ましい。
の波長域の発光源であれば良く、例えば、太陽光、蛍光
灯等でも可能であるが、効率の点で、キセノンランプ、
ハロゲンランプが好ましく、液晶材料の光劣化を防ぐと
いう初期の目的達成のために、３９０nm未満の紫外線を
フィルター等でカットすることが望ましい。
【００２７】
【実施例】以下に、本発明の実施例を示し、本発明を更
に具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの
実施例に限定されるものではない。
に具体的に説明する。しかしながら、本発明はこれらの
実施例に限定されるものではない。
【００２８】以下の実施例において「％」は『重量％』
を表わし、評価特性の各々は、以下の記号及び内容を意
味する。 (1)Ｔ0＝白濁度；印加電圧０の時の光透過率（％） (2)Ｔ100＝透明度；印加電圧を増加させていき光透過率
がほとんど増加しなくなった時の光透過率（％） (3)Ｖ10＝しきい値電圧；Ｔ0を０％、Ｔ100を１００％
としたとき、光透過率が１０％となる印加電圧
（Ｖrms） (4)Ｖ90＝飽和電圧；同上光透過率が９０％となる印加
電圧（Ｖrms） (5)ＣＲ＝コントラスト＝Ｔ100／Ｔ0 (6)Ｒ＝比抵抗値（Ω・cm） (7)ＨＶ＝電圧保持率（％）；フレーム周波数３０Ｈ
ｚ、電圧１１Ｖ、ＯＮ状態の時間６４マイクロ秒の矩形
波を印加し、ＯＮ状態で蓄積された電荷をＱ0、ＯＦＦ
状態でもれる電流を高インピーダンス電圧計で測定し、
残存電荷をＱとした時、 ＨＶ＝Ｑ／Ｑ0 で表わす。 （実施例１）ＩＴＯ電極を形成した２枚の透明基板の基
板間の注入孔を除く外周部を、封止剤「ＤＳＡ−００
１」（ロディック社製）でシールし、１０cm×１０cm
角、セル厚１１．０μｍの空セルを作製した。
を表わし、評価特性の各々は、以下の記号及び内容を意
味する。 (1)Ｔ0＝白濁度；印加電圧０の時の光透過率（％） (2)Ｔ100＝透明度；印加電圧を増加させていき光透過率
がほとんど増加しなくなった時の光透過率（％） (3)Ｖ10＝しきい値電圧；Ｔ0を０％、Ｔ100を１００％
としたとき、光透過率が１０％となる印加電圧
（Ｖrms） (4)Ｖ90＝飽和電圧；同上光透過率が９０％となる印加
電圧（Ｖrms） (5)ＣＲ＝コントラスト＝Ｔ100／Ｔ0 (6)Ｒ＝比抵抗値（Ω・cm） (7)ＨＶ＝電圧保持率（％）；フレーム周波数３０Ｈ
ｚ、電圧１１Ｖ、ＯＮ状態の時間６４マイクロ秒の矩形
波を印加し、ＯＮ状態で蓄積された電荷をＱ0、ＯＦＦ
状態でもれる電流を高インピーダンス電圧計で測定し、
残存電荷をＱとした時、 ＨＶ＝Ｑ／Ｑ0 で表わす。 （実施例１）ＩＴＯ電極を形成した２枚の透明基板の基
板間の注入孔を除く外周部を、封止剤「ＤＳＡ−００
１」（ロディック社製）でシールし、１０cm×１０cm
角、セル厚１１．０μｍの空セルを作製した。
【００２９】液晶材料として「ＰＮ−００８」（ロディ
ック社製）８０．０％、光重合性組成物として「カヤラ
ッドＨＸ６２０」（日本化薬社製カプロラクトン変性ヒ
ドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ
アクリレート）１１．６％、ラウリルアクリレート８．
０％及び光重合開始剤としてカンファーキノン０．２
％、増感剤としてジメチルアミノエチルメタアクリレー
ト０．２％から成る調光層形成材料を、５５℃に保ちな
がら空セル中に真空注入法を用いて注入した。
ック社製）８０．０％、光重合性組成物として「カヤラ
ッドＨＸ６２０」（日本化薬社製カプロラクトン変性ヒ
ドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリコールジ
アクリレート）１１．６％、ラウリルアクリレート８．
０％及び光重合開始剤としてカンファーキノン０．２
％、増感剤としてジメチルアミノエチルメタアクリレー
ト０．２％から成る調光層形成材料を、５５℃に保ちな
がら空セル中に真空注入法を用いて注入した。
【００３０】次に、セルの注入孔付近に光硬化性封孔剤
「ユニディック５５００」（大日本インキ化学工業
（株）社製）を塗布した後、基板温度を３８℃に冷却
し、そのまま５分間放置した。
「ユニディック５５００」（大日本インキ化学工業
（株）社製）を塗布した後、基板温度を３８℃に冷却
し、そのまま５分間放置した。
【００３１】このようにして調光層形成材料及び封孔剤
を注入したセルを３８℃に保ちながら、可視光線用照射
装置「ＬＵＸＰＯＴ」（ＩＣＩ社製）を用いて、可視光
線を６０秒間照射して液晶デバイスを得た。
を注入したセルを３８℃に保ちながら、可視光線用照射
装置「ＬＵＸＰＯＴ」（ＩＣＩ社製）を用いて、可視光
線を６０秒間照射して液晶デバイスを得た。
【００３２】得られた液晶デバイスの調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質を
確認できた。この液晶デバイスの特性を測定したとこ
ろ、以下の通りであった。
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質を
確認できた。この液晶デバイスの特性を測定したとこ
ろ、以下の通りであった。
【００３３】Ｔ0＝３．９％、Ｔ100＝８５．７％、ＣＲ
＝２２．０、Ｖ10＝５．１Ｖrms、Ｖ90＝１０．９
Ｖrms、Ｒ＝３．５×１０10（Ω・cm）、ＨＶ＝８２．
５％ （比較例）実施例１において、重合開始剤としてカンフ
ァーキノンを用いる代わりに、「イルガキュア６５１」
（チバ・ガイギー社製）を同量用いた以外は実施例１と
同様にして、調光層構成材料をセル中に注入した。
＝２２．０、Ｖ10＝５．１Ｖrms、Ｖ90＝１０．９
Ｖrms、Ｒ＝３．５×１０10（Ω・cm）、ＨＶ＝８２．
５％ （比較例）実施例１において、重合開始剤としてカンフ
ァーキノンを用いる代わりに、「イルガキュア６５１」
（チバ・ガイギー社製）を同量用いた以外は実施例１と
同様にして、調光層構成材料をセル中に注入した。
【００３４】次いで、このセルに３０mW／cm2の紫外線
を６０秒間照射した後、注入孔に封孔剤として「ユニデ
ィック５５００」を塗布し、再度、３０mW／cm2の紫外
線を６０秒間照射して、液晶デバイスを得た。
を６０秒間照射した後、注入孔に封孔剤として「ユニデ
ィック５５００」を塗布し、再度、３０mW／cm2の紫外
線を６０秒間照射して、液晶デバイスを得た。
【００３５】得られた液晶デバイスの調光層を電子顕微
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質を
確認できた。この液晶デバイスの特性を測定したとこ
ろ、以下の通りであった。
鏡で観察したところ、三次元網目状の透明性固体物質を
確認できた。この液晶デバイスの特性を測定したとこ
ろ、以下の通りであった。
【００３６】Ｔ0＝４．３％、Ｔ100＝８５．１％、ＣＲ
＝１９．８、Ｖ10＝５．８Ｖrms、Ｖ90＝１１．８
Ｖrms、Ｒ＝４．５×１０9（Ω・cm）、ＨＶ＝３２．５
％ このことから、本発明の製造方法によって得られた液晶
デバイスは、比較例に比べて電気抵抗値、及び電圧保持
率が高いことが明らかである。
＝１９．８、Ｖ10＝５．８Ｖrms、Ｖ90＝１１．８
Ｖrms、Ｒ＝４．５×１０9（Ω・cm）、ＨＶ＝３２．５
％ このことから、本発明の製造方法によって得られた液晶
デバイスは、比較例に比べて電気抵抗値、及び電圧保持
率が高いことが明らかである。
【００３７】
【発明の効果】本発明の製造方法によれば、従来と比べ
て少ない製造工程で、光散乱型液晶デバイスにおいて問
題となっていた電気抵抗値及び電圧保持率を改善し、低
電圧駆動及び時分割駆動が可能であり、高コントラスト
で、画面のちらつきがほとんどない液晶デバイスを提供
することができる。
て少ない製造工程で、光散乱型液晶デバイスにおいて問
題となっていた電気抵抗値及び電圧保持率を改善し、低
電圧駆動及び時分割駆動が可能であり、高コントラスト
で、画面のちらつきがほとんどない液晶デバイスを提供
することができる。
【００３８】従って、本発明によって得られる液晶デバ
イスは、コンピュータ端末の表示器、プロジェクション
用の光シャッターとして有用である。
イスは、コンピュータ端末の表示器、プロジェクション
用の光シャッターとして有用である。
Claims (4)
- 【請求項１】 （１）電極層を有する少なくとも一方が
透明な２枚の基板から成る注入孔を有するセル中に、液
晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤を含有する調
光層形成材料を注入する第１工程、（２）光硬化性封孔
剤を注入孔に塗布する第２工程、（３）可視光線を照射
して、前記光重合性組成物及び光硬化性封孔剤を重合さ
せることによって、液晶材料と透明性固体物質から成る
調光層を形成すると共に、注入孔を封孔する第３工程を
有することを特徴とする液晶デバイスの製造方法。 - 【請求項２】 調光層が、液晶材料の連続層中に三次元
網目状構造を形成して成る透明性固体物質を有すること
を特徴とする請求項１記載の液晶デバイスの製造方法。 - 【請求項３】 注入孔に光硬化性封孔剤を塗布した後、
基板を冷却することによって、注入孔に封孔剤を注入す
ることを特徴とする請求項１又は２記載の液晶デバイス
の製造方法。 - 【請求項４】 調光層形成材料及び光硬化性封孔剤を遮
光下で注入することを特徴とする請求項１、２又は３記
載の液晶デバイスの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1205192A JPH05203928A (ja) | 1992-01-27 | 1992-01-27 | 液晶デバイスの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1205192A JPH05203928A (ja) | 1992-01-27 | 1992-01-27 | 液晶デバイスの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05203928A true JPH05203928A (ja) | 1993-08-13 |
Family
ID=11794802
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1205192A Pending JPH05203928A (ja) | 1992-01-27 | 1992-01-27 | 液晶デバイスの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05203928A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5724110A (en) * | 1994-05-27 | 1998-03-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal panel and method for producing the same in which the seal section is formed from a mixture of liquid crystal and resin |
| US5771084A (en) * | 1996-03-05 | 1998-06-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
| JP2007286641A (ja) * | 2001-08-31 | 2007-11-01 | Sharp Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| CN100399138C (zh) * | 2006-06-26 | 2008-07-02 | 友达光电股份有限公司 | 液晶面板及其制造方法 |
| CN107402477A (zh) * | 2017-09-22 | 2017-11-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制备方法、显示装置 |
| WO2018038016A1 (ja) * | 2016-08-26 | 2018-03-01 | シャープ株式会社 | シール材組成物、液晶セル、及び液晶セルの製造方法 |
| WO2018038014A1 (ja) * | 2016-08-26 | 2018-03-01 | シャープ株式会社 | シール材組成物、液晶セル、及び液晶セルの製造方法 |
-
1992
- 1992-01-27 JP JP1205192A patent/JPH05203928A/ja active Pending
Cited By (13)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5724110A (en) * | 1994-05-27 | 1998-03-03 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal panel and method for producing the same in which the seal section is formed from a mixture of liquid crystal and resin |
| US5771084A (en) * | 1996-03-05 | 1998-06-23 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display device and method for fabricating the same |
| KR100248526B1 (ko) * | 1996-03-05 | 2000-03-15 | 마찌다 가쯔히꼬 | 액정표시소자및그의제조방법 |
| JP2007286641A (ja) * | 2001-08-31 | 2007-11-01 | Sharp Corp | 液晶表示装置及びその製造方法 |
| JP4602381B2 (ja) * | 2001-08-31 | 2010-12-22 | シャープ株式会社 | 液晶表示装置 |
| CN100399138C (zh) * | 2006-06-26 | 2008-07-02 | 友达光电股份有限公司 | 液晶面板及其制造方法 |
| CN109642145A (zh) * | 2016-08-26 | 2019-04-16 | 夏普株式会社 | 密封材料组成物、液晶单元以及液晶单元的制造方法 |
| WO2018038016A1 (ja) * | 2016-08-26 | 2018-03-01 | シャープ株式会社 | シール材組成物、液晶セル、及び液晶セルの製造方法 |
| WO2018038014A1 (ja) * | 2016-08-26 | 2018-03-01 | シャープ株式会社 | シール材組成物、液晶セル、及び液晶セルの製造方法 |
| US10947416B2 (en) | 2016-08-26 | 2021-03-16 | Sharp Kabushiki Kaisha | Sealant composition, liquid crystal cell, and method of producing liquid crystal cell |
| CN109642145B (zh) * | 2016-08-26 | 2022-01-07 | 夏普株式会社 | 密封材料组成物、液晶单元以及液晶单元的制造方法 |
| US11384169B2 (en) | 2016-08-26 | 2022-07-12 | Sharp Kabushiki Kaisha | Sealant composition, liquid crystal cell, and method of producing liquid crystal cell |
| CN107402477A (zh) * | 2017-09-22 | 2017-11-28 | 京东方科技集团股份有限公司 | 一种显示面板及其制备方法、显示装置 |
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