JPH05174587A - Electrically erasable nonvolatile memory - Google Patents
Electrically erasable nonvolatile memoryInfo
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- JPH05174587A JPH05174587A JP33921491A JP33921491A JPH05174587A JP H05174587 A JPH05174587 A JP H05174587A JP 33921491 A JP33921491 A JP 33921491A JP 33921491 A JP33921491 A JP 33921491A JP H05174587 A JPH05174587 A JP H05174587A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、例えばMNOS,MO
NOS等と呼ばれる電気的消去可能な不揮発性メモリに
関する。The present invention relates to, for example, MNOS, MO.
The present invention relates to an electrically erasable non-volatile memory called NOS or the like.
【0002】[0002]
【従来の技術】従来より、MNOS,MONOS等と呼
ばれる技術を用いた電気的に消去可能な不揮発性メモリ
セル(E2 PROM,フラッシュEPROM等)が広く
用いられている。このメモリセルは、電気的に絶縁され
た薄膜あるいはゲート極に電子を注入し(これを「書込
み」と呼ぶ)、あるいは該薄膜あるいはゲート極から電
子を引き出す(これを「消去」と呼ぶ)ことにより、そ
の記憶素子がオフ状態からオン状態に移行するゲートの
スレショルド電圧が上下し、このスレショルド電圧を上
下させることをもって情報の記録を行うものである。2. Description of the Related Art Conventionally, electrically erasable nonvolatile memory cells (E 2 PROM, flash EPROM, etc.) using a technique called MNOS, MONOS, etc. have been widely used. In this memory cell, electrons are injected into an electrically insulated thin film or gate electrode (this is called "writing"), or electrons are extracted from the thin film or gate electrode (this is called "erase"). As a result, the threshold voltage of the gate at which the storage element shifts from the off state to the on state rises and falls, and information is recorded by raising and lowering this threshold voltage.
【0003】図4は、MNOS,MONOSのスレショ
ルド電圧の、書込み時間、消去時間の依存性の一例を示
したグラフである。このグラフにみるように、例えば1
msecの書込み、消去を行なうとそのスレショルド電
圧は約+2V,−2Vとなる。一方、この記憶素子から
情報を読み出す場合、電子が注入された状態(書込み状
態;ここではこの状態を‘0’とする)のスレショルド
電圧と電子が引き出された状態(消去状態;ここではこ
の状態を‘1’とする)のスレショルド電圧の差(メモ
リウインドウ)をみることによって‘0’か‘1’かが
区別される。即ち、例えば上記両状態における各スレシ
ョルド電圧の中間の電位(例えばOV)をゲートに印加
すると、‘0’の状態ではスレショルド電圧が例えば+
2Vと高くしたがってゲートの電位OVがスレショルド
電圧+2Vに満たないのでオフ状態となり、‘1’の状
態ではスレショルド電圧が−2Vと低く、したがってゲ
ートの電位OVがスレショルド電圧−2Vを越えるため
オン状態となる。このように電圧検出の場合は読出し線
の電位をセンスすることによって、あるいは電流検出の
場合は読出し線に流れる電流を検出することによってそ
の記憶素子に記憶された内容が‘0’か‘1’かが検出
される。FIG. 4 is a graph showing an example of dependence of threshold voltages of MNOS and MONOS on write time and erase time. As shown in this graph, for example, 1
When writing and erasing for msec, the threshold voltage becomes about + 2V and -2V. On the other hand, when reading information from this memory element, a threshold voltage in a state where electrons are injected (writing state; here, this state is set to '0') and a state where electrons are extracted (erasing state; here, this state) It is discriminated whether it is "0" or "1" by observing the difference (memory window) in the threshold voltage of "1". That is, for example, when an intermediate potential (for example, OV) between the threshold voltages in the above two states is applied to the gate, the threshold voltage becomes + in the state of “0”.
Since it is as high as 2V, the potential OV of the gate is less than the threshold voltage + 2V, so that it is in an off state. In the state of '1', the threshold voltage is as low as -2V. Become. Thus, in the case of voltage detection, by sensing the potential of the read line, or in the case of current detection, the current flowing in the read line is detected, and the contents stored in the storage element are "0" or "1". Is detected.
【0004】[0004]
【発明が解決しようとする課題】ここで、上記メモリセ
ルは、経過時間とともにそのスレショルド電圧が変化
し、しかもこのスレショルド電圧の変化の仕方はメモリ
セル書込み、消去の回数によっても異なる。図5はMN
OSと呼ばれるメモリセルの、規定回数(1回,105
〜107 回)書込み、消去を繰り返した後の電荷保持特
性の例を示したグラフである。The threshold voltage of the memory cell changes with the lapse of time, and the manner of changing the threshold voltage also differs depending on the number of times of writing and erasing the memory cell. Figure 5 shows MN
A memory cell called an OS has a specified number of times (1 time, 10 5
10 is a graph showing an example of charge retention characteristics after repeating writing and erasing (up to 10 7 times).
【0005】このグラフに見るように、書込み状態では
時間の経過とともにそのスレショルド電圧が低下し、消
去状態では時間の経過とともにそのスレショルド電圧が
上昇し、これらの両状態におけるスレショルド電圧の差
が縮まる。また、書込み、消去を何回行なったかによっ
てもそのスレショルド電圧の変化状態は異なる。また、
このグラフには、ゲート電位をOVとしたときの弁別不
能範囲が示されている。書込み状態又は消去状態のスレ
ショルド電圧がこの弁別不能範囲内に入ると‘0’,
‘1’の識別が不能となり、したがってこの弁別不能範
囲内に入るまでの時間が、このメモリの寿命となる。こ
の弁別不能範囲は主に読出し系の回路構成によって種々
変化するが、例えば図5に示す例では、107 回書換え
が行われた場合は約106 秒(約11日)以下で消去状
態のスレショルド電圧が弁別不能範囲に入り、したがっ
てこれがこのメモリの寿命となる。このようなスレショ
ルド電圧の変化はMNOSに限られず、MONOS等に
ついても同様であり、MONOSの場合は一例として1
07 回書換後の寿命は約10年である。As can be seen from this graph, the threshold voltage decreases with the passage of time in the written state, and the threshold voltage rises with the passage of time in the erased state, and the difference between the threshold voltages in these two states decreases. Further, the change state of the threshold voltage varies depending on how many times writing and erasing are performed. Also,
This graph shows the non-discriminating range when the gate potential is OV. If the threshold voltage in the written state or erased state falls within this non-discrimination range, it becomes "0",
The identification of "1" becomes impossible, and therefore the time until it enters the indiscriminate range is the life of this memory. This non-discriminating range changes variously mainly depending on the circuit configuration of the reading system. For example, in the example shown in FIG. 5, when the rewriting is performed 10 7 times, the erased state is about 10 6 seconds (about 11 days) or less. The threshold voltage is in the non-discriminating range and thus this is the life of this memory. Such a change in the threshold voltage is not limited to MNOS, and the same applies to MONOS and the like. In the case of MONOS, as an example,
The life after rewriting 7 times is about 10 years.
【0006】ここでMNOSやMONOSといった消去
可能な不揮発性メモリの場合、書換可能回数をどこまで
増やして寿命をどこまで延ばすことができるかが重要な
特性の一つとして挙げられている。本発明は、上記事情
に鑑み、読出回路を工夫することによってメモリセルの
書換可能回数、寿命を延ばすことを目的とする。Here, in the case of an erasable non-volatile memory such as MNOS or MONOS, one of the important characteristics is how much the number of rewritable times can be increased and how long the life can be extended. In view of the above circumstances, it is an object of the present invention to improve the number of rewritable times and the life of a memory cell by devising a read circuit.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明の電気的消去可能
な不揮発性メモリは、多数のメモリセル、該多数のメモ
リセルそれぞれへの書込み、消去の回数を代表する回数
だけ書込み、消去されるサンプルセル、および書込み状
態のサンプルセルのスレショルド電圧と消去状態のサン
プルセルのスレショルド電圧とに基づいてこれらのスレ
ショルド電圧の中間的な電圧を出力しメモリセルの読出
し時に該中間的な電圧を該メモリセルのゲートに印加す
るゲート電圧制御回路を備えたことを特徴とするもので
ある。In the electrically erasable nonvolatile memory of the present invention, a large number of memory cells are written and erased a number of times representative of the number of times of writing and erasing in each of the plurality of memory cells. Based on the threshold voltages of the sample cell and the sample cell in the written state and the threshold voltage of the sample cell in the erased state, an intermediate voltage between these threshold voltages is output and the intermediate voltage is read when the memory cell is read. It is characterized by including a gate voltage control circuit applied to the gate of the cell.
【0008】ここで、サンプルセルを1つだけ備え、こ
のサンプルセルに書込み、消去を行った際のスレショル
ド電圧の少なくとも一方を記憶しておいてそれらのスレ
ショルド電圧の中間的な電圧を出力するように構成して
もよいが、複数のサンプルセルを備え、一方を書込み状
態用、他方を消去状態用として用いてもよい。また、上
記本発明の電気的消去可能な不揮発性メモリにおいて、
ゲート電圧制御回路が、メモリセルが書込み状態にある
か消去状態にあるかの弁別が不能な電圧範囲の書込み状
態側の境界の電圧とメモリセルが書込み状態にあるとき
のスレショルド電圧との差、および上記電圧範囲の消去
状態側の境界の電圧とメモリセルが消去状態にあるとき
のスレショルド電圧との差が互いに略均等となるような
中間的な電圧を出力するものであることが好ましい。Here, only one sample cell is provided, and at least one of the threshold voltages at the time of writing and erasing to this sample cell is memorized and an intermediate voltage of those threshold voltages is outputted. Alternatively, a plurality of sample cells may be provided and one may be used for the write state and the other for the erase state. In the electrically erasable nonvolatile memory of the present invention,
The gate voltage control circuit determines the difference between the threshold voltage when the memory cell is in the write state and the voltage at the write state side of the voltage range in which it is impossible to distinguish whether the memory cell is in the write state or the erase state. It is preferable that the intermediate voltage is output so that the difference between the voltage at the erased state side of the voltage range and the threshold voltage when the memory cell is in the erased state is substantially equal to each other.
【0009】[0009]
【作用】本発明の電気的消去可能な不揮発性メモリは、
メモリセルへの書込み、消去と同様な回数だけ書込み、
消去されるサンプルセルを備え、書込み状態のサンプル
セルのスレショルド電圧と消去状態のサンプルセルのス
レショルド電圧との中間的な電圧をメモリセルのゲート
に印加して読出しを行なうようにしたため、例えば図5
に示す107 回書換えの場合、従来の106 秒以下から
107 秒以上にまで飛躍的にその寿命を延ばすことがで
きる。The electrically erasable nonvolatile memory of the present invention is
Write to the memory cell, write as many times as erase,
Since a sample cell to be erased is provided and an intermediate voltage between the threshold voltage of the sample cell in the written state and the threshold voltage of the sample cell in the erased state is applied to the gate of the memory cell to perform the reading, for example, FIG.
In the case of rewriting 10 7 times as shown in, the life can be remarkably extended from the conventional 10 6 seconds or less to 10 7 seconds or more.
【0010】また、上記中間的な電圧を求めるにあた
り、その読出回路によって定まる弁別不能範囲の境界の
電圧を考慮して書込み状態側と消去状態側とに略均等な
マージンをもつようにその中間的な電圧を求めると、一
層その寿命を延ばすことができることとなる。Further, in obtaining the intermediate voltage, the intermediate voltage is set so that the write state side and the erase state side have substantially equal margins in consideration of the voltage at the boundary of the non-discriminating range determined by the read circuit. If the desired voltage is obtained, the life can be further extended.
【0011】[0011]
【実施例】以下、本発明の実施例について説明する。
尚、ここでは特徴的な部分のみを図示、説明することと
し、不揮発性メモリを構成するために自明な回路、例え
ば消去、書込み用の回路、昇圧回路、センスアンプ等の
図示、説明は省略されている。EXAMPLES Examples of the present invention will be described below.
It should be noted that, here, only the characteristic parts are shown and described, and the circuits and circuits obvious for configuring the nonvolatile memory, such as the erase and write circuits, the booster circuit, and the sense amplifier, are omitted. ing.
【0012】図1は、本発明の一実施例の電気的消去可
能な不揮発性メモリに備えられた、書込み状態のサンプ
ルセル(図1(A))、消去状態のサンプルセル(図1
(B))とその周辺回路を示した回路図である。図1
(A)と図1(B)に共通の要素には、図1(A)と図
1(B)との双方に互いに同一の番号を付し、双方同時
に説明する。FIG. 1 shows a sample cell in a written state (FIG. 1A) and a sample cell in an erased state (see FIG. 1) provided in an electrically erasable nonvolatile memory according to an embodiment of the present invention.
It is a circuit diagram showing (B)) and its peripheral circuits. Figure 1
Elements common to (A) and FIG. 1 (B) are assigned the same numbers in both FIG. 1 (A) and FIG. 1 (B), and will be described simultaneously.
【0013】サンプルセル10のゲート10aにはアナ
ログスイッチ12が接続されており、書込み/消去時に
はセレクト信号SがLレベルとなってサンプルセル10
のゲート10aに書込み/消去用電圧V1が印加され
る。この書込み/消去用電圧V1としては、書込み時に
は例えば+5〜+12V、消去時には例えば−4〜−1
0Vが選ばれる。またサンプルセル10のドレイン10
bにもセレクト信号Sによって切替えられるアナログス
イッチ14が接続されており、書込み/消去時には入出
力線16を経由してドレイン10bに書込み/消去用電
圧V2が印加される。この書込み/消去用電圧V2とし
ては、例えば書込み時−4V、消去時+5Vが選ばれ
る。またサンプルセル10のソース10cは接地されて
いる。このようにして、この図1においては図示されて
いない、このサンプルセル10と同一特性の多数のメモ
リセルに書込み、消去が行なわれると、それら多数のメ
モリセルのそれぞれに平均一回ずつ書込み、消去が行な
われる毎に、図1(A)に示すサンプルセル10につい
ては先ず消去、次に書込みが行なわれ、図1(B)に示
すサンプルセル10については先ず書込み、次に消去が
行なわれる。An analog switch 12 is connected to the gate 10a of the sample cell 10 so that the select signal S becomes L level during writing / erasing.
A write / erase voltage V1 is applied to the gate 10a of the. The writing / erasing voltage V1 is, for example, +5 to +12 V when writing, and is -4 to -1 when erasing.
0V is selected. In addition, the drain 10 of the sample cell 10
The analog switch 14 which is switched by the select signal S is also connected to b, and the write / erase voltage V2 is applied to the drain 10b via the input / output line 16 at the time of write / erase. As the write / erase voltage V2, for example, -4V at the time of writing and + 5V at the time of erasing are selected. The source 10c of the sample cell 10 is grounded. In this way, when a large number of memory cells (not shown in FIG. 1) having the same characteristics as the sample cell 10 are written and erased, each of the large number of memory cells is written once on average, Every time erasing is performed, the sample cell 10 shown in FIG. 1A is first erased and then written, and the sample cell 10 shown in FIG. 1B is first written and then erased. ..
【0014】セレクト信号SがHレベルに切換わると、
これによりアナログスイッチ12,14が切換わり、ア
ナログスイッチ14,12を経由してドレイン10bと
ゲート10aとが接続される。図1(A)については、
メモリセル10に書込みが行なわれているため、そのス
レショルド電圧は例えば+2V等の正の電圧であり、し
たがって正の電圧VCCを印加することにより、このメモ
リセル10の書込み時のスレショルド電圧Vwr ite が出
力される。When the select signal S is switched to H level,
As a result, the analog switches 12 and 14 are switched, and the drain 10b and the gate 10a are connected via the analog switches 14 and 12. Regarding FIG. 1 (A),
Since the memory cell 10 is programmed, the threshold voltage thereof is a positive voltage such as + 2V. Therefore, by applying the positive voltage V CC , the threshold voltage V wr of the memory cell 10 at the time of programming is increased. ite is output.
【0015】また図1(B)については、メモリセル1
0は消去が行なわれているため、そのスレショルド電圧
は例えば−2V等の負の電圧であり、したがって負の電
圧V n を印加することによりこのメモリセル10の消去
時のスレショルド電圧Veras e が出力される。図2は、
平均電圧出力回路の一例を示した図である。図1に示す
各サンプルセル回路から出力された各スレショルド電圧
Vwrite 、Verase は、この平均電圧出力回路20を構
成する、それぞれバッファ回路21,22を経由した
後、それぞれ抵抗23,24の各一端に伝達される。本
実施例ではこれらの抵抗23,24は互いに同一の抵抗
値を有しており、したがってこれら2本の抵抗23,2
4の接続点の電圧Vout は、 Vout =(Vwrite +Verase )/2 ……(1) となる。この電圧Vout がバッファ回路25を経由して
出力される。As for FIG. 1B, memory cell 1
Since 0 is erased, its threshold voltage is
Is a negative voltage, such as -2V, and thus a negative voltage
Pressure V n Erasing this memory cell 10 by applying
Threshold voltage Veras e Is output. Figure 2
It is the figure which showed an example of the average voltage output circuit. Shown in Figure 1
Each threshold voltage output from each sample cell circuit
Vwrite , Verase Configures this average voltage output circuit 20.
Via buffer circuits 21 and 22, respectively
After that, they are transmitted to one end of each of the resistors 23 and 24. Book
In the embodiment, these resistors 23 and 24 have the same resistance.
Has a value and therefore these two resistors 23, 2
Voltage V at the connection point of 4out Is Vout = (Vwrite + Verase ) / 2 (1) This voltage Vout Via the buffer circuit 25
Is output.
【0016】図3は、本発明の一実施例の不揮発性メモ
リの読出回路を示した回路図である。ここではメモリセ
ルの記憶内容の読出しに限って説明する。上記のように
して各サンプルセル10から出力された各スレショルド
電圧、V write ,Verase は平均電圧出力回路において
平均化されて(1)式に示すVou t が得られ、読出し時
にはセレクト信号Sが‘Hレベル’となってこの電圧V
ou t がメモリセル32のゲート32aに印加されるよう
にアナログスイッチ31が切り替えられる。このとき、
内容を読み出そうとしているメモリセル32が書込み状
態‘0’にあるときはメモリセル32はオフ状態にとど
まり、消去状態‘1’にあるときはそのメモリセル32
はオン状態となる。これが読出し線33を経由して図示
しないセンスアンプで検出される。FIG. 3 is a nonvolatile memory of an embodiment of the present invention.
FIG. 6 is a circuit diagram showing a read circuit of a memory. Here is the memory
Only the reading of the stored contents of the file will be described. as mentioned above
And each threshold output from each sample cell 10
Voltage, V write , Verase Is the average voltage output circuit
V after being averaged and shown in equation (1)ou t Is obtained and read
The select signal S becomes "H level" and the voltage V
ou t Is applied to the gate 32a of the memory cell 32
The analog switch 31 is switched to. At this time,
The memory cell 32 whose contents are to be read
When in the state '0', the memory cell 32 remains in the off state.
That is, when the erased state is "1", the memory cell 32
Is turned on. This is shown via read line 33
Not detected by the sense amplifier.
【0017】ここで上記実施例では、サンプルセル10
を2つ備えて一方を書込み状態、他方を消去状態とし、
それらのスレショルド電圧Vwrite ,Verase を求めて
それらの平均電圧Vout を求め、この平均電圧Vout を
メモリセル32のゲート32aに印加するようにしたた
め、従来のように読出し時にメモリセル32のゲートに
例えばOV等の一定電圧を印加する場合と比べ、スレシ
ョルド電圧の時間的な変化が考慮され、この不揮発性メ
モリの寿命が大幅に延びることになる。Here, in the above embodiment, the sample cell 10 is used.
Two are provided, one is in a write state and the other is in an erased state,
Since those threshold voltages V write and V erase are obtained to obtain their average voltage V out and this average voltage V out is applied to the gate 32a of the memory cell 32, the memory cell 32 of the memory cell 32 is read at the time of reading as in the conventional case. Compared with the case where a constant voltage such as OV is applied to the gate, the change over time of the threshold voltage is taken into consideration, and the life of this nonvolatile memory is significantly extended.
【0018】また、上記実施例ではサンプルセルのスレ
ショルド電圧Vwrite ,Verase の平均電圧Vout を求
めたが、単純な平均電圧を求めることに代え、前述した
弁別不能範囲を考慮して最適化された電圧を求めると、
その寿命を一層引き延ばすことができることとなる。さ
らに上記実施例では書込み状態と消去状態の2つのサン
プルセルを備えていたが、サンプルセルの数は2つであ
る必要はなく、さらに多数備えていてもよく、もしくは
サンプルセルを1つだけ備え、交互に書込み状態と消去
状態を作り出してそれらのスレショルド電圧の少なくと
も一方を記憶しておいて平均電圧を求めるようにしても
よい。Further, in the above embodiment, the threshold voltages V write and V erase of the sample cell are obtained as the average voltage V out , but instead of obtaining the simple average voltage, optimization is performed in consideration of the non-discrimination range described above. If you find the applied voltage,
The life can be further extended. Further, in the above embodiment, the two sample cells in the written state and the erased state are provided, but the number of the sample cells does not have to be two, and more sample cells may be provided, or only one sample cell is provided. Alternatively, the write state and the erase state may be alternately created, and at least one of the threshold voltages thereof may be stored and the average voltage may be obtained.
【0019】[0019]
【発明の効果】以上説明したように、本発明の電気的消
去可能な不揮発性メモリは、サンプルセルを備え、書込
み状態のサンプルセルのスレショルド電圧と消去状態の
サンプルセルのスレショルド電圧とに基づいてこれらの
スレショルド電圧の中間的な電圧を出力してメモリセル
のゲートに印加するようにしたため、メモリセルのスレ
ショルド電圧の経年変化が補償され、書換可能回数、寿
命が大幅に延長される。As described above, the electrically erasable non-volatile memory of the present invention includes the sample cell and is based on the threshold voltage of the sample cell in the written state and the threshold voltage of the sample cell in the erased state. Since the intermediate voltage of these threshold voltages is output and applied to the gate of the memory cell, the secular change of the threshold voltage of the memory cell is compensated, and the number of rewritable times and the life are greatly extended.
【図1】本発明の一実施例の電気的消去可能な不揮発性
メモリに備えられた、書込み状態のサンプルセル(図1
(A))、消去状態のサンプルセル(図1(B))とそ
の周辺回路を示した回路図である。FIG. 1 shows a sample cell in a written state provided in an electrically erasable nonvolatile memory according to an embodiment of the present invention (FIG. 1).
FIG. 1A is a circuit diagram showing a sample cell in an erased state (FIG. 1B) and its peripheral circuits.
【図2】平均電圧出力回路の一例を示した図である。FIG. 2 is a diagram showing an example of an average voltage output circuit.
【図3】本発明の一実施例の不揮発性メモリの読出回路
を示した回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram showing a read circuit of a nonvolatile memory according to an embodiment of the present invention.
【図4】MNOS,MONOSのスレショルド電圧の、
書込み時間、消去時間の依存性の一例を示したグラフで
ある。FIG. 4 shows threshold voltages of MNOS and MONOS,
6 is a graph showing an example of the dependence of the writing time and the erasing time.
【図5】MNOSと呼ばれるメモリセルの、規定回数
(1回,105 〜107 回)書込み、消去を繰り返した
後の電荷保持特性の例を示したグラフである。FIG. 5 is a graph showing an example of charge retention characteristics of a memory cell called MNOS after writing and erasing a specified number of times (1 time, 10 5 to 10 7 times).
10 メモリセル 12,14,31 アナログスイッチ 21,22,25 バッファ回路 32 メモリセル 16,33 読出し線 10 memory cell 12, 14, 31 analog switch 21, 22, 25 buffer circuit 32 memory cell 16, 33 read line
Claims (2)
代表する回数だけ書込み、消去されるサンプルセル、お
よび書込み状態の前記サンプルセルのスレショルド電圧
と消去状態の前記サンプルセルのスレショルド電圧とに
基づいてこれらのスレショルド電圧の中間的な電圧を出
力し前記メモリセルの読出し時に該中間的な電圧を該メ
モリセルのゲートに印加するゲート電圧制御回路を備え
たことを特徴とする電気的消去可能な不揮発性メモリ。1. A plurality of memory cells, write to each of the plurality of memory cells, write a number of times representative of the number of erase times, sample cells to be erased, and threshold voltages of the sample cells in a write state and erase states. A gate voltage control circuit for outputting an intermediate voltage of these threshold voltages based on the threshold voltage of the sample cell and applying the intermediate voltage to the gate of the memory cell when the memory cell is read. An electrically erasable non-volatile memory characterized by:
セルが書込み状態にあるか消去状態にあるかの弁別が不
能な電圧範囲の書込み状態側の境界の電圧と前記メモリ
セルが書込み状態にあるときのスレショルド電圧との
差、および前記電圧範囲の消去状態側の境界の電圧と前
記メモリセルが消去状態にあるときのスレショルド電圧
との差が互いに略均等となるような前記中間的な電圧を
出力するものであることを特徴とする電気的消去可能な
不揮発性メモリ。2. The gate voltage control circuit is capable of discriminating whether the memory cell is in a written state or an erased state, and a voltage at a boundary on the written state side of a voltage range where the memory cell is in a written state and the memory cell is in a written state. And a threshold voltage when the memory cell is in the erased state and a threshold voltage when the memory cell is in the erased state are substantially equal to each other. An electrically erasable non-volatile memory characterized by being output.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33921491A JPH05174587A (en) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | Electrically erasable nonvolatile memory |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33921491A JPH05174587A (en) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | Electrically erasable nonvolatile memory |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05174587A true JPH05174587A (en) | 1993-07-13 |
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ID=18325330
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP33921491A Withdrawn JPH05174587A (en) | 1991-12-24 | 1991-12-24 | Electrically erasable nonvolatile memory |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05174587A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007257772A (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor memory device |
-
1991
- 1991-12-24 JP JP33921491A patent/JPH05174587A/en not_active Withdrawn
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007257772A (en) * | 2006-03-24 | 2007-10-04 | Toshiba Corp | Nonvolatile semiconductor memory device |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19990311 |