JPH05166369A - Semicnductor memory device - Google Patents
Semicnductor memory deviceInfo
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- JPH05166369A JPH05166369A JP3335317A JP33531791A JPH05166369A JP H05166369 A JPH05166369 A JP H05166369A JP 3335317 A JP3335317 A JP 3335317A JP 33531791 A JP33531791 A JP 33531791A JP H05166369 A JPH05166369 A JP H05166369A
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Abstract
Description
【0001】[0001]
【産業上の利用分野】本発明は、1つのキャパシタと1
つのトランジスタとからなるメモリセルを複数直列に接
続させた構造を有する半導体メモリ装置の改良に関す
る。BACKGROUND OF THE INVENTION The present invention relates to a capacitor and a capacitor.
The present invention relates to improvement of a semiconductor memory device having a structure in which a plurality of memory cells each including one transistor are connected in series.
【0002】[0002]
【従来の技術】半導体集積回路、特に半導体メモリ装置
に対して、より集積度(記憶容量)を向上させる要請が
あり、素子の微細化が進んでいる。2. Description of the Related Art There is a demand for semiconductor integrated circuits, particularly semiconductor memory devices, to further improve the degree of integration (storage capacity), and the elements are becoming finer.
【0003】このような背景の下、「1キャパシタ+1
トランジスタ」構造のメモリセルを直列に接続させてセ
ルブロックを構成し、そのセルブロックの一端をビット
線に接続させてなる半導体メモリ装置が提案されてお
り、かかるメモリ装置によれば、書き込み及び読み出し
に一定の制約があるものの、セル面積を同じとすれば従
来のメモリ装置よりその記憶容量を増大できる(例え
ば、「Kimura,K.他 ISSCC91,論文番
号TAM6.2」、又は「日経エレクトロニクス199
1年3月号87〜88頁」参照)。Under such a background, "1 capacitor + 1
A semiconductor memory device has been proposed in which memory cells having a “transistor” structure are connected in series to form a cell block, and one end of the cell block is connected to a bit line. According to such a memory device, writing and reading are performed. Although there is a certain constraint in the above, if the cell area is the same, the storage capacity can be increased as compared with the conventional memory device (for example, “Kimura, K. et al. ISSCC91, Article No. TAM6.2”, or “Nikkei Electronics 199”).
(March 1 issue, pp. 87-88)).
【0004】図3には、その提案されたメモリ装置の一
部構成が示されている。各ビット線10には、複数のセ
ルブロック12が接続され、そのセルブロック12は、
直列接続された所定数(例えば4つ)のメモリセル14
で構成されている。ここで、各セルブロック12は、記
憶素子としての一定の容量(電荷蓄積容量)をもつ1つ
のキャパシタ16と、ワード線に接続されたトランスフ
ァーゲートとしての転送トランジスタ18と、で構成さ
れている。FIG. 3 shows a partial structure of the proposed memory device. A plurality of cell blocks 12 are connected to each bit line 10, and the cell blocks 12 are
A predetermined number (for example, four) of memory cells 14 connected in series
It is composed of. Here, each cell block 12 is composed of one capacitor 16 having a fixed capacity (charge storage capacity) as a storage element and a transfer transistor 18 as a transfer gate connected to a word line.
【0005】すなわち、各メモリセル14は直列に接続
されており、書き込み及び読み出しがブロック単位で行
われメモリセル単位でのアクセスができない一方、1つ
1つのメモリセルにビット線を接続せさる必要がなく、
集積度を高められるという利点がある。That is, each memory cell 14 is connected in series, and writing and reading are performed in block units and cannot be accessed in memory cell units, while it is necessary to connect bit lines to each memory cell. Without
There is an advantage that the degree of integration can be increased.
【0006】図3において、第一番目のメモリセルは、
ビット線10に接続され、そのビット線10にはトラン
ジスタ20の作用により電圧Vpが印加される。また、
ビット線10には、データの読み出し検出を行うセンス
アンプ22が接続されている。In FIG. 3, the first memory cell is
The voltage Vp is applied to the bit line 10 by the action of the transistor 20. Also,
The bit line 10 is connected to a sense amplifier 22 that performs data read detection.
【0007】図4には、図3に示した上記半導体メモリ
装置の読み出し時の動作がタイミングチャートで示され
ている。FIG. 4 is a timing chart showing the read operation of the semiconductor memory device shown in FIG.
【0008】図4において、セルブロックに記憶された
データを読み出す際には、まず、トランジスタ20がオ
ンにされ、プリチャージが行われ、プリチャージが終了
してトランジスタ20がOFFとなった後、ワード線W
1 が“H”に維持される。この時、第一のメモリセルの
キャパシタに格納されているデータ(“1”or
“0”)がビット線に現れ、それがセンスアンプ22に
て検出される。なお、図4最下段には、センスアンプで
検出されるビット線の電圧VBLが示されている。In FIG. 4, when reading the data stored in the cell block, first, the transistor 20 is turned on, precharge is performed, and after the precharge is completed and the transistor 20 is turned off, Word line W
1 is maintained at "H". At this time, the data stored in the capacitor of the first memory cell (“1” or
"0") appears on the bit line, which is detected by the sense amplifier 22. The voltage V BL of the bit line detected by the sense amplifier is shown at the bottom of FIG.
【0009】これと同様に、次にトランジスタ20がオ
ンにされ、ビット線が再びプリチャージされ、プリチャ
ージが終了した後、ワード線W2 が“H”にされると、
この際同時にワード線W1 が“H”に維持されているの
で、第二のメモリセルからデータがビット線10に現れ
る。Similarly, when the transistor 20 is turned on next, the bit line is precharged again, and the word line W 2 is set to "H" after the precharge is completed,
At this time, since the word line W 1 is maintained at “H” at the same time, data appears on the bit line 10 from the second memory cell.
【0010】以上の動作が、最後のN番目のメモリセル
まで行われ、ブロック内のデータすべてがセンスアンプ
にて検出され、その出力が例えば一旦レジスタに格納さ
れた後、外部に出力される。The above operation is performed up to the last Nth memory cell, all the data in the block is detected by the sense amplifier, and the output is once stored in the register and then output to the outside.
【0011】なお、上記参考文献では、以上の構造をも
つ上記半導体メモリ装置を、「BORAM(ブロック・
オリエンティッド・ランダム・アクセス・メモリ)」と
称しているが、上述の一端がビット線に接続した直列セ
ル構造は、必ずしもRAMに限られず、それ以外のもの
にも応用できる。In the reference, the semiconductor memory device having the above structure is referred to as "BORAM (block.
Oriented Random Access Memory) ”, the series cell structure in which one end is connected to the bit line is not necessarily limited to the RAM and can be applied to other types.
【0012】[0012]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
半導体メモリ装置においては、すべてのメモリセルにお
けるキャパシタの容量及びその極板間電圧は同一であ
り、ビット線から遠くに離れているメモリセルからの出
力信号ほど弱くなってしまうという問題があった。すな
わち、本来、各データの読み出しを安定させるために
は、センスアンプにて検出される各メモリセルからの出
力信号のレベルを一定にしてある所定値を確保する必要
がある。しかし、ビット線に接続された第一番目のメモ
リセルに対し、それより奥のメモリセルは、自己よりも
前に1ないし複数の他のメモリセルが存在し、自己の出
力経路に本来不要な容量が存在してしまうことから、セ
ンスアンプにて検出される電圧が降下してしまうという
問題があった。なお、図4において、第一のメモリセル
からの出力が101で例示され、第二以後のメモリセル
からの出力が、102〜104で例示されている。However, in the above-mentioned semiconductor memory device, the capacitance of the capacitors and the voltage between the plates of all the memory cells are the same, and the memory cells from the memory cells far from the bit line are the same. There was a problem that the output signal became weaker. That is, originally, in order to stabilize the reading of each data, it is necessary to secure a predetermined value that keeps the level of the output signal from each memory cell detected by the sense amplifier constant. However, with respect to the first memory cell connected to the bit line, the memory cell located deeper than the first memory cell has one or a plurality of other memory cells in front of itself, which is not necessary for its own output path. There is a problem that the voltage detected by the sense amplifier drops due to the presence of the capacitance. In FIG. 4, the output from the first memory cell is illustrated by 101, and the outputs from the second and subsequent memory cells are illustrated by 102 to 104.
【0013】本発明は上記従来の課題に鑑みなされたも
のであり、その目的は、一端がビット線に接続された直
列セル構造を有する半導体メモリ装置において、ビット
線からの遠近によらずに、センスアンプにて検出される
各メモリセルからの出力をほぼ一定にしてある所定値を
確保することを目的とする。The present invention has been made in view of the above conventional problems, and an object thereof is to provide a semiconductor memory device having a series cell structure in which one end is connected to a bit line, regardless of the distance from the bit line. The purpose is to secure a predetermined value that keeps the output from each memory cell detected by the sense amplifier substantially constant.
【0014】[0014]
【課題を解決するするための手段】上記目的を達成する
ために、本発明は、記憶素子としての1つのキャパシタ
とワード線に接続された1つの転送トランジスタとから
なるメモリセルを、複数直列に接続してなるセルブロッ
クが、ビット線に接続された半導体メモリ装置におい
て、前記セルブロックのうち、ビット線から遠くなるに
したがって、キャパシタの容量を順次大きくしたことを
特徴とする。In order to achieve the above object, the present invention provides a plurality of memory cells, each of which is composed of one capacitor as a storage element and one transfer transistor connected to a word line, in series. In the semiconductor memory device in which the connected cell blocks are connected to bit lines, the capacitance of the capacitors is sequentially increased as the distance from the bit lines in the cell blocks increases.
【0015】また、本発明は、前記セルブロックにおけ
る各メモリセルのキャパシタの容量をビット線に最も近
いメモリセルからC1 ,C2 ,C3 ,…,CN と定義
し、ビット線がもつ容量をCBLと定義した場合、各キャ
パシタの容量Ci (但し、i=2,3,…,N)が、 Ci /(CBL+C1 +C2 +…+Ci-1 )=C1 /CBL …(1) の関係をほぼ満たすことを特徴とする。Further, the present invention, the C 1 the capacitance of the capacitor of each memory cell from the closest memory cell to bit lines in the cell block, C 2, C 3, ..., is defined as C N, with the bit line When the capacitance is defined as C BL , the capacitance C i of each capacitor (where i = 2, 3, ..., N) is C i / (C BL + C 1 + C 2 + ... + C i-1 ) = C 1 It is characterized in that it substantially satisfies the relationship of / C BL (1).
【0016】さらに、本発明は、セルブロックにおける
メモリセルが、複数のグループに区分され、ビット線か
ら遠くなるにしたがって、グループ毎にキャパシタの容
量を順次大きくしたことを特徴とする。Further, the present invention is characterized in that the memory cells in the cell block are divided into a plurality of groups, and the capacitance of the capacitors is sequentially increased for each group as the memory cells are separated from the bit line.
【0017】[0017]
【作用】上記構成によれば、ビット線から遠くなるにし
たがって、キャパシタの容量を順次大きくしたので、ビ
ット線から遠い程、キャパシタの蓄積電荷量が増大し、
このため、それを読み出した時に、自己よりも前、すな
わち自己よりもビット線側に存在する他のメモリセルの
影響による出力電圧の降下を抑制できる。According to the above structure, since the capacitance of the capacitor is gradually increased as the distance from the bit line increases, the accumulated charge amount of the capacitor increases as the distance from the bit line increases.
Therefore, when it is read, it is possible to suppress a drop in the output voltage due to the influence of other memory cells existing before itself, that is, on the bit line side of itself.
【0018】また、上記第1式の条件により、各キャパ
シタの容量を設定すれば、ビット線の容量と第一のメモ
リセルのキャパシタの容量との比に、他のキャパシタに
ついての容量比(あるキャパシタの容量とそれより前の
キャパシタの容量を加えたビット線の容量との比)を合
わせることができるので、ほぼ各メモリセルからの出力
レベルを均一にできる。Further, if the capacitance of each capacitor is set according to the condition of the above first equation, the ratio of the capacitance of the bit line to the capacitance of the capacitor of the first memory cell (there is a capacitance ratio of other capacitors). Since the ratio of the capacitance of the capacitor to the capacitance of the bit line including the capacitance of the capacitor before the capacitor) can be matched, the output level from each memory cell can be made substantially uniform.
【0019】さらに、セルブロック内を複数のグループ
に分けて、グループ毎に容量を変化させれば、上記と同
様の効果を得つつ、設計及び製造を簡易化できるという
利点がある。Further, if the cell block is divided into a plurality of groups and the capacity is changed for each group, there is an advantage that the design and manufacturing can be simplified while obtaining the same effect as the above.
【0020】[0020]
【実施例】以下、本発明の好適な実施例を図面に基づい
て説明する。DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENT A preferred embodiment of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【0021】図1には、本発明に係る半導体メモリ装置
の好適な実施例が示されており、図1は第1実施例を示
すブロック図である。FIG. 1 shows a preferred embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention, and FIG. 1 is a block diagram showing a first embodiment.
【0022】図1において、この第1実施例の半導体メ
モリ装置は、基本的構成が図3に示した従来の半導体メ
モリ装置と同じであるが、各メモリセルのキャパシタの
容量がそれぞれ異なる値に設定されている点において図
3に示した構成と相違する。すなわち、この第1実施例
においては、セルブロック12における各メモリセルの
キャパシタの容量をビット線10に最も近いメモリセル
からC1 ,C2 ,C3 ,…,Cn と定義した場合、各キ
ャパシタの容量が、次の第2式の条件を満たすように設
定されている。In FIG. 1, the semiconductor memory device of the first embodiment has the same basic configuration as the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 3, but the capacitances of the capacitors of the memory cells have different values. The configuration is different from the configuration shown in FIG. That is, in the first embodiment, when the capacitance of the capacitor of each memory cell in the cell block 12 is defined as C 1 , C 2 , C 3 , ..., C n from the memory cell closest to the bit line 10, The capacitance of the capacitor is set so as to satisfy the following second equation.
【0023】 CN >…>C3 >C2 >C1 …(2) つまり、この第1実施例においては、ビット線から遠く
なるにしたがってキャパシタの容量が順次大きく設定さ
れている。具体的には、キャパシタの極板面積を変化さ
せることにより、容量が可変されている。C N >...> C 3 > C 2 > C 1 (2) In other words, in the first embodiment, the capacitance of the capacitor is set to be successively larger as the distance from the bit line increases. Specifically, the capacitance is changed by changing the electrode plate area of the capacitor.
【0024】以上のような条件設定によれば、ビット線
から遠くなるにしたがってキャパシタの容量が増加する
ので、ビット線から遠いほどキャパシタの蓄積電荷量が
増大し、これによって自己よりもビット線側に存在する
他のメモリセルの容量の影響による出力電圧の降下を抑
制できる。According to the above-mentioned condition setting, the capacitance of the capacitor increases as the distance from the bit line increases, so that the stored charge amount of the capacitor increases as the distance from the bit line increases. It is possible to suppress a drop in the output voltage due to the influence of the capacity of other memory cells existing in.
【0025】また、より厳密にセンスアンプ22にて検
出される出力電圧の均一化を達成するためには、次の第
3式の条件をほぼ満たすように各キャパシタの容量を設
定すれば良い。Further, in order to more strictly achieve the equalization of the output voltage detected by the sense amplifier 22, the capacitance of each capacitor may be set so as to substantially satisfy the condition of the following third equation.
【0026】 C1 /CBL=C2 /(CBL+C1 )=…=CN /(CBL+C1 +…+CN-1 ) …(3) 但し、CBLは、ビット線が持つ容量を示している。この
第3式は、ビット線の容量と第1のメモリセルのキャパ
シタの容量との比を基準として、他のキャパシタについ
て、その容量比を合わせたことを示すものであり、セン
スアンプ22によって検出される出力電圧をより均一化
できる。なお、各式における=は、厳密な意味での同一
を示すものではなく、ほぼ同一を示すものである。C 1 / C BL = C 2 / (C BL + C 1 ) = ... = C N / (C BL + C 1 + ... + C N-1 ) (3) However, C BL has a bit line. Shows capacity. The third expression shows that the capacitance ratios of the other capacitors are matched with the ratio of the capacitance of the bit line to the capacitance of the capacitor of the first memory cell as a reference, and is detected by the sense amplifier 22. The output voltage can be made more uniform. In addition, = in each formula does not indicate the same in a strict sense, but indicates almost the same.
【0027】図5には、本実施例の半導体メモリ回路に
おけるセンスアンプ22にて検出されるビット線のレベ
ルが示されており、これは図4のVBLに相当するもので
ある。図5に示されるように、本実施例の半導体メモリ
装置によれば各キャパシタからの出力レベルを均一化で
きることが理解される。FIG. 5 shows the level of the bit line detected by the sense amplifier 22 in the semiconductor memory circuit of this embodiment, which corresponds to V BL in FIG. As shown in FIG. 5, it is understood that the semiconductor memory device of this embodiment can make the output levels from the capacitors uniform.
【0028】図2には、第2実施例の半導体メモリ装置
の構成が示されている。FIG. 2 shows the configuration of the semiconductor memory device of the second embodiment.
【0029】図2において、セルブロック12は、M個
のグループに分割され、各グループにおけるキャパシタ
は、次の第4式の条件をほぼ満たすようにその容量が設
定されている。In FIG. 2, the cell block 12 is divided into M groups, and the capacitances of the capacitors in each group are set so as to substantially satisfy the condition of the following fourth equation.
【0030】 CN =CN-1 =CN-2 =CN-3 >CN-4 =…>C4 =C3 =C2 =C1 …(4) すなわち、各グループ内におけるキャパシタにはほぼ同
一の容量が設定され、ビット線10に近いグループから
順次キャパシタの容量が増大している。C N = C N-1 = C N-2 = C N-3 > C N-4 = ...> C 4 = C 3 = C 2 = C 1 (4) That is, the capacitors in each group Are set to almost the same capacitance, and the capacitances of the capacitors increase sequentially from the group close to the bit line 10.
【0031】なお、より適正に容量を設定するために
は、次の第5式をほぼ満たすように容量の設定を行えば
良い。In order to set the capacity more properly, the capacity should be set so that the following fifth formula is almost satisfied.
【0032】 C1 /CBL=C5 /(CBL+C1 +C2 +C3 +C4 )=… =CN /(CBL+C1 +…+CN-3 ) …(5) ちなみに、この第2実施例においては、各グループは4
つのメモリセルで構成されているが、当然4つには限ら
れず他の個数であっても良い。C 1 / C BL = C 5 / (C BL + C 1 + C 2 + C 3 + C 4 ) = ... = C N / (C BL + C 1 + ... + C N-3 ) (5) By the way, this first In two embodiments, each group has four
Although it is composed of one memory cell, naturally it is not limited to four and may be another number.
【0033】この第2実施例によれば、第1実施例と比
べ、ある程度の個数まとめて容量設定が行えるので、そ
の設計及び製造を簡易化できるという利点がある。According to the second embodiment, as compared with the first embodiment, it is possible to collectively set a certain number of capacities, so that there is an advantage that the design and manufacture thereof can be simplified.
【0034】以上のように、第1実施例及び第2実施例
の半導体メモリ装置によれば、センスアンプにて検出さ
れる各キャパシタの出力レベルを均一化してある所定値
を確保し、センスアンプのデータ読出し動作を安定化さ
せることができ、換言すれば、センスアンプの動作余裕
を確保することができる。また、以上の構成によれば、
セルブロック内の各キャパシタの出力レベルのばらつき
により、直列接続し得るメモリセルの個数に制限があっ
たが、以上の半導体メモリ装置によればそのような制約
によらずに直列接続し得るメモリセルの個数を増加でき
るという効果がある。As described above, according to the semiconductor memory devices of the first embodiment and the second embodiment, the output levels of the capacitors detected by the sense amplifier are made uniform and a predetermined value is ensured, and the sense amplifier is secured. The data reading operation can be stabilized, in other words, the operation margin of the sense amplifier can be secured. According to the above configuration,
The number of memory cells that can be connected in series is limited due to the variation in the output level of each capacitor in the cell block. However, according to the semiconductor memory device described above, memory cells that can be connected in series are not subject to such restrictions. There is an effect that the number of can be increased.
【0035】[0035]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
ビット線から遠いほど、キャパシタの蓄積電荷を増大さ
せて、ビット線に出力される各キャパシタからの出力レ
ベルを均一化してある所定値を確保することができる。
従って、ビット線に接続されたセンスアンプの動作を安
定化できると共に、メモリセルの直列接続の段数を増大
できるという効果がある。As described above, according to the present invention,
As the distance from the bit line increases, the accumulated charge of the capacitor can be increased and the output level of each capacitor output to the bit line can be made uniform to ensure a predetermined value.
Therefore, it is possible to stabilize the operation of the sense amplifier connected to the bit line and increase the number of serially connected memory cells.
【図1】本発明に係る半導体メモリ装置の第1実施例を
示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing a first embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.
【図2】本発明に係る半導体メモリ装置の第2実施例を
示す回路図である。FIG. 2 is a circuit diagram showing a second embodiment of a semiconductor memory device according to the present invention.
【図3】従来の半導体メモリ装置の回路図である。FIG. 3 is a circuit diagram of a conventional semiconductor memory device.
【図4】従来の半導体メモリ装置の装置の動作を示すタ
イミングチャートである。FIG. 4 is a timing chart showing the operation of the conventional semiconductor memory device.
【図5】本実施例の半導体メモリ装置の動作を示す説明
図である。FIG. 5 is an explanatory diagram showing the operation of the semiconductor memory device of this embodiment.
10 ビット線 12 セルブロック 14 メモリセル 16 キャパシタ 18 転送トランジスタ 22 センスアンプ 10 bit line 12 cell block 14 memory cell 16 capacitor 18 transfer transistor 22 sense amplifier
Claims (3)
接続された転送トランジスタとからなるメモリセルを、
複数直列に接続してなるセルブロックが、ビット線に接
続された半導体メモリ装置において、 ビット線から遠くなるにしたがって、前記セルブロック
における各メモリセルのキャパシタの容量を順次大きく
したことを特徴とする半導体メモリ装置。1. A memory cell comprising a capacitor as a memory element and a transfer transistor connected to a word line,
In a semiconductor memory device in which a plurality of cell blocks connected in series are connected to a bit line, the capacitance of a capacitor of each memory cell in the cell block is sequentially increased as the distance from the bit line increases. Semiconductor memory device.
て、 前記セルブロックにおける各メモリセルのキャパシタの
容量をビット線に最も近いものからC1 ,C2 ,C3 ,
…,CN と定義し、ビット線がもつ容量をCBLと定義し
た場合、各キャパシタの容量Ci (但し、i=2,3,
…,N)が、 Ci /(CBL+C1 +C2 +…+Ci-1 )=C1 /CBL の関係をほぼ満たすことを特徴とする半導体メモリ装
置。2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the capacitances of the capacitors of the memory cells in the cell block are C 1 , C 2 , C 3 , from the closest one to the bit line.
, C N and the capacitance of the bit line is defined as C BL , the capacitance C i of each capacitor (where i = 2, 3,
, N) substantially satisfies the relationship of C i / (C BL + C 1 + C 2 + ... + C i-1 ) = C 1 / C BL .
接続された転送トランジスタとからなるメモリセルを、
複数直列に接続してなるセルブロックが、ビット線に接
続された半導体メモリ装置において、 前記セルブロックにおける複数のメモリセルは、複数の
グループに区分され、ビット線から遠くなるにしたがっ
て、グループ毎にキャパシタの容量を順次大きくしたこ
とを特徴とする半導体メモリ装置。3. A memory cell comprising a capacitor as a memory element and a transfer transistor connected to a word line,
In a semiconductor memory device in which a plurality of cell blocks connected in series are connected to a bit line, a plurality of memory cells in the cell block are divided into a plurality of groups, and as the distance from the bit line increases, each group is divided into groups. A semiconductor memory device characterized in that the capacitance of a capacitor is sequentially increased.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3335317A JPH05166369A (en) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | Semicnductor memory device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3335317A JPH05166369A (en) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | Semicnductor memory device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH05166369A true JPH05166369A (en) | 1993-07-02 |
Family
ID=18287172
Family Applications (1)
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JP3335317A Pending JPH05166369A (en) | 1991-12-18 | 1991-12-18 | Semicnductor memory device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH05166369A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6288930B1 (en) | 1999-12-28 | 2001-09-11 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device |
-
1991
- 1991-12-18 JP JP3335317A patent/JPH05166369A/en active Pending
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6288930B1 (en) | 1999-12-28 | 2001-09-11 | Fujitsu Limited | Semiconductor memory device |
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