JPH05129184A - 投影露光装置 - Google Patents
投影露光装置Info
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- JPH05129184A JPH05129184A JP3311651A JP31165191A JPH05129184A JP H05129184 A JPH05129184 A JP H05129184A JP 3311651 A JP3311651 A JP 3311651A JP 31165191 A JP31165191 A JP 31165191A JP H05129184 A JPH05129184 A JP H05129184A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- stage
- wafer stage
- grating
- linear motor
- interferometer
- Prior art date
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- Pending
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
- G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【目的】 ステ−ジ位置の計測を空気の揺らぎや温度む
ら等の環境条件の変化に影響を受けずに行うことのでき
る測長システムの達成。 【構成】 ＸＹ方向に可動なステ−ジにおいて、該ステ
−ジの駆動機構部と、該ステ−ジの搭載されている本体
の基準部に該基準部材と一体構造となっている固定部の
互いに対向する部分に、格子干渉測長器を構成する回折
格子と、一個または複数個のヘッドをそれぞれ取り付
け、該ステ−ジの位置を計測する装置。
ら等の環境条件の変化に影響を受けずに行うことのでき
る測長システムの達成。 【構成】 ＸＹ方向に可動なステ−ジにおいて、該ステ
−ジの駆動機構部と、該ステ−ジの搭載されている本体
の基準部に該基準部材と一体構造となっている固定部の
互いに対向する部分に、格子干渉測長器を構成する回折
格子と、一個または複数個のヘッドをそれぞれ取り付
け、該ステ−ジの位置を計測する装置。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は半導体製造に用いられる
投影露光装置に関するもので、特に該装置に用いられる
ステ−ジの位置計測に、格子干渉測長器を利用したもの
に関するものである。
投影露光装置に関するもので、特に該装置に用いられる
ステ−ジの位置計測に、格子干渉測長器を利用したもの
に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】近年半導体集積回路（ＬＳＩ）の集積度
の向上にともない、ＬＳＩの製造に用いられる縮小投影
型露光装置、所謂ステッパにはますます高解像度、高精
度位置合わせ、高スル−プット等の性能が要求されるよ
うになっている。このようなステッパの高性能化に対す
る要求のうち、ステ−ジ部分は位置合わせ精度、スル−
プット等に関連のある重要な構成部である。
の向上にともない、ＬＳＩの製造に用いられる縮小投影
型露光装置、所謂ステッパにはますます高解像度、高精
度位置合わせ、高スル−プット等の性能が要求されるよ
うになっている。このようなステッパの高性能化に対す
る要求のうち、ステ−ジ部分は位置合わせ精度、スル−
プット等に関連のある重要な構成部である。
【０００３】ステ−ジ部分の構成としては例えば「機械
設計」１９９０年８月号「最近の位置決め技術とセンサ
−」等に記載されているものが知られている。ステ−ジ
はベ−ス上にＸＹステ−ジ、Ｚステ−ジが構成され、該
Ｚステ−ジの上にレ−ザ干渉計用の移動鏡が配置されて
いる。更に傾斜の補正機構、位置合わせ用の回転補正に
用いられるθステ−ジが配置され、その上にウェハホル
ダがのって、ウェハを真空吸着する機構となっている。
設計」１９９０年８月号「最近の位置決め技術とセンサ
−」等に記載されているものが知られている。ステ−ジ
はベ−ス上にＸＹステ−ジ、Ｚステ−ジが構成され、該
Ｚステ−ジの上にレ−ザ干渉計用の移動鏡が配置されて
いる。更に傾斜の補正機構、位置合わせ用の回転補正に
用いられるθステ−ジが配置され、その上にウェハホル
ダがのって、ウェハを真空吸着する機構となっている。
【０００４】ステッパの場合にはレチクルとウェハの位
置合わせが重要視されるため、通常レ−ザ干渉計が使用
される。干渉計の参照位置は固定鏡を投影レンズの鏡筒
から下ろした部材で支持して固定することで形成され
る。ステ−ジの位置はこの固定鏡と、Ｚステ−ジ上の移
動鏡から反射されてくるレ−ザ光の干渉による公知のレ
−ザ干渉計によって位置座標として計測される。
置合わせが重要視されるため、通常レ−ザ干渉計が使用
される。干渉計の参照位置は固定鏡を投影レンズの鏡筒
から下ろした部材で支持して固定することで形成され
る。ステ−ジの位置はこの固定鏡と、Ｚステ−ジ上の移
動鏡から反射されてくるレ−ザ光の干渉による公知のレ
−ザ干渉計によって位置座標として計測される。
【０００５】ＸＹステ−ジは駆動機構にＤＣモ−タによ
るボ−ルネジ駆動、案内機構はＶ−Ｆ型ガイドで褶動面
にニ−ドルベアリングを用いるなどの方式が知られてい
る。また「ＯＭＲＯＮ ＴＥＣＨＮＩＣＳ」Ｎｏ．７６
（１９８５）などに見られるように駆動機構にリニアモ
−タを用い、案内機構に静圧空気軸受けを用いる構成を
とるＸＹステ−ジの発表も最近目立つようになってきて
いる。
るボ−ルネジ駆動、案内機構はＶ−Ｆ型ガイドで褶動面
にニ−ドルベアリングを用いるなどの方式が知られてい
る。また「ＯＭＲＯＮ ＴＥＣＨＮＩＣＳ」Ｎｏ．７６
（１９８５）などに見られるように駆動機構にリニアモ
−タを用い、案内機構に静圧空気軸受けを用いる構成を
とるＸＹステ−ジの発表も最近目立つようになってきて
いる。
【０００６】図７は静圧型のＸＹステ−ジの構成例であ
る。７１ａ〜７１ｄはリニアモ−タコイルとヨ−ガイド
で、このガイドに静圧空気軸受けが用いられている。７
０ａ〜７０ｄはリニアモ−タヨ−クで、それぞれのヨ−
クは中央のウェハステ−ジ７４をＸＹ方向に移動させる
ためのガイドと連結している。７０ａ，７０ｃのリニア
モ−タヨ−クはＹ方向移動のガイド７２に、リニアモ−
タヨ−ク７０ｂと７０ｄはＸ方向移動のガイド７３に連
結している。７２，７３のガイドにも静圧空気軸受けが
使用されている。
る。７１ａ〜７１ｄはリニアモ−タコイルとヨ−ガイド
で、このガイドに静圧空気軸受けが用いられている。７
０ａ〜７０ｄはリニアモ−タヨ−クで、それぞれのヨ−
クは中央のウェハステ−ジ７４をＸＹ方向に移動させる
ためのガイドと連結している。７０ａ，７０ｃのリニア
モ−タヨ−クはＹ方向移動のガイド７２に、リニアモ−
タヨ−ク７０ｂと７０ｄはＸ方向移動のガイド７３に連
結している。７２，７３のガイドにも静圧空気軸受けが
使用されている。
【０００７】７４はウェハステ−ジで、７５はウェハを
保持するウェハホルダである。ウェハステ−ジ７４上に
はウェハステ−ジ７４の位置のＸＹ座標を前述のレ−ザ
干渉計を用いて計測するためのミラ−７６、７７が取り
付けられている。７８、７９は前述の投影レンズから下
ろした部材で支持された固定鏡である。ウェハステ−ジ
７４の位置のＸ座標は移動ミラ−７６と固定鏡７９から
反射される２つのレ−ザ光によりヘテロダイン等の方式
により計測され、Ｙ座標についてもミラ−７７、固定鏡
７８からのレ−ザ光を用い、同様の計測が行われる。
保持するウェハホルダである。ウェハステ−ジ７４上に
はウェハステ−ジ７４の位置のＸＹ座標を前述のレ−ザ
干渉計を用いて計測するためのミラ−７６、７７が取り
付けられている。７８、７９は前述の投影レンズから下
ろした部材で支持された固定鏡である。ウェハステ−ジ
７４の位置のＸ座標は移動ミラ−７６と固定鏡７９から
反射される２つのレ−ザ光によりヘテロダイン等の方式
により計測され、Ｙ座標についてもミラ−７７、固定鏡
７８からのレ−ザ光を用い、同様の計測が行われる。
【０００８】
【発明が解決しようとしている課題】しかしながら上記
従来例ではステ−ジの位置計測にレ−ザ干渉計を用いて
いるため、ステ−ジを含む装置全体を格納しているサ−
マルチャンバ内の環境変動により計測誤差が生じる。
従来例ではステ−ジの位置計測にレ−ザ干渉計を用いて
いるため、ステ−ジを含む装置全体を格納しているサ−
マルチャンバ内の環境変動により計測誤差が生じる。
【０００９】一般に温度、湿度、気圧、炭酸ガス濃度な
どの環境変動は空気の屈折率を引き起こし、レ−ザの空
気中の波長に変化を与える。従ってチャンバ内の干渉計
の光路で発生した温度のむらや空気の揺らぎは、空気の
屈折率を変化させるが、一様な変化でないためモニタが
難しく、レ−ザ干渉計の計測結果に悪影響を与える。
どの環境変動は空気の屈折率を引き起こし、レ−ザの空
気中の波長に変化を与える。従ってチャンバ内の干渉計
の光路で発生した温度のむらや空気の揺らぎは、空気の
屈折率を変化させるが、一様な変化でないためモニタが
難しく、レ−ザ干渉計の計測結果に悪影響を与える。
【００１０】特にステ−ジ周辺はステ−ジ自身が露光が
終了する度に次の位置に移動するため空気をかき回すの
で、揺らぎを発生しやすい。またステ−ジの駆動に用い
られる駆動機構の発熱も温度分布にむらを与える可能性
があるなどの厳しい条件下にある。
終了する度に次の位置に移動するため空気をかき回すの
で、揺らぎを発生しやすい。またステ−ジの駆動に用い
られる駆動機構の発熱も温度分布にむらを与える可能性
があるなどの厳しい条件下にある。
【００１１】例えばチャンバ内を±０．１。Ｃにコント
ロ−ルし、温度むらや空気揺らぎをかなり抑えたとして
も計測には０．０１〜０．０４μｍ程度の誤差が発生す
る。悪影響を与える要因は一方では機械を動かすために
必須のものであるため、完全に除去することは不可能で
ある。
ロ−ルし、温度むらや空気揺らぎをかなり抑えたとして
も計測には０．０１〜０．０４μｍ程度の誤差が発生す
る。悪影響を与える要因は一方では機械を動かすために
必須のものであるため、完全に除去することは不可能で
ある。
【００１２】これらの誤差要因に対しては干渉計の光路
を真空にするとか、空気より屈折率変動の少ないＨｅガ
スの雰囲気にするなどの改善方法が考えられるが、装置
が大がかりになり実際には採用が難しい。ここで問題と
したようなロ−カルな屈折率変動の影響を受けにくい干
渉計も開発されているが、装置が複雑化するといった問
題がある。
を真空にするとか、空気より屈折率変動の少ないＨｅガ
スの雰囲気にするなどの改善方法が考えられるが、装置
が大がかりになり実際には採用が難しい。ここで問題と
したようなロ−カルな屈折率変動の影響を受けにくい干
渉計も開発されているが、装置が複雑化するといった問
題がある。
【００１３】一方、従来のレ−ザ干渉計を用いた装置で
は、ステ−ジ位置の絶対基準は投影レンズの鏡筒から下
ろした部材に固定されている固定鏡である。鏡筒とステ
−ジの関係は従って間接的なものとなっており、振動、
熱などの外的要因に対して固定されているはずの固定鏡
の位置がわずかに変動する可能性がある。この結果鏡筒
とステ−ジとの位置の整合がとれなくなるといった問題
も生じている。
は、ステ−ジ位置の絶対基準は投影レンズの鏡筒から下
ろした部材に固定されている固定鏡である。鏡筒とステ
−ジの関係は従って間接的なものとなっており、振動、
熱などの外的要因に対して固定されているはずの固定鏡
の位置がわずかに変動する可能性がある。この結果鏡筒
とステ−ジとの位置の整合がとれなくなるといった問題
も生じている。
【００１４】
【課題を解決するための手段】本発明は上記従来例のよ
うに駆動機構としてリニアモ−タを用い、案内機構に静
圧空気軸受けを用いるＸＹステ−ジにおいて、ウェハス
テ−ジの位置計測に格子干渉測長器を用いることによ
り、ステ−ジ周辺の空気揺らぎ、温度むら等に全く影響
を受けないようにしたものである。このため本発明では
１個または複数個の格子干渉測長器のヘッドをＸＹそれ
ぞれのガイド両端部に設けるとともに、これと対向する
位置に格子干渉測長器の回折格子を鏡筒と一体構造の部
材に取り付けてウェハステ−ジの位置座標を計測するこ
とを特徴としている。位置座標はＸ方向、Ｙ方向に取り
つけられた格子干渉測長器によって、対応する１次元座
標に変換される。またこの格子干渉測長器のヘッドと回
折格子は、関係を逆にしてそれぞれ鏡筒と一体構造の部
材とリニアモ−タ可動部に取りつけても良い。このよう
にすれば鏡筒及び鏡筒周辺の振動、温度分布変動などの
要因に対しても常に鏡筒との位置が厳密にモニタ−でき
るため、より精密な計測が可能となる。
うに駆動機構としてリニアモ−タを用い、案内機構に静
圧空気軸受けを用いるＸＹステ−ジにおいて、ウェハス
テ−ジの位置計測に格子干渉測長器を用いることによ
り、ステ−ジ周辺の空気揺らぎ、温度むら等に全く影響
を受けないようにしたものである。このため本発明では
１個または複数個の格子干渉測長器のヘッドをＸＹそれ
ぞれのガイド両端部に設けるとともに、これと対向する
位置に格子干渉測長器の回折格子を鏡筒と一体構造の部
材に取り付けてウェハステ−ジの位置座標を計測するこ
とを特徴としている。位置座標はＸ方向、Ｙ方向に取り
つけられた格子干渉測長器によって、対応する１次元座
標に変換される。またこの格子干渉測長器のヘッドと回
折格子は、関係を逆にしてそれぞれ鏡筒と一体構造の部
材とリニアモ−タ可動部に取りつけても良い。このよう
にすれば鏡筒及び鏡筒周辺の振動、温度分布変動などの
要因に対しても常に鏡筒との位置が厳密にモニタ−でき
るため、より精密な計測が可能となる。
【００１５】
【実施例】図１及び図２は本発明の実施例１を示すもの
である。図１はステッパのステ−ジを投影レンズの方向
から観察したもので、駆動機構に可動ヨ−ク型リニアモ
−タ、案内機構に静圧空気軸受けを用いる公知の構成の
ステ−ジが示されている。図中２０は中央のウェハステ
−ジ２５が静圧空気軸受けを介して移動する際の基準面
となるベ−ス、即ちステ−ジベ−スである。２１ａ〜２
１ｄはリニアモ−タコイルとヨ−ガイドで、２１ａと２
１ｃはＸ方向、２１ｂと２１ｄはＹ方向に対応してい
る。２７ａ〜２７ｄはリニアモ−タヨ−クで、リニアモ
−タコイルとの間で推力を得てウェハステ−ジ２５を移
動させる役目を行う。２７ａ、２７ｃはＸ方向、２７
ｂ、２７ｄはＹ方向のリニアモ−タヨ−クで、中央のウ
ェハステ−ジ２５をＸ及びＹ方向に移動させるためのガ
イド２２、２３と連結している。図に示されているよう
にＸガイド２３は２７ｂと２７ｄのリニアモ−タヨ−ク
に、Ｙガイド２２は２７ａと２７ｃのリニアモ−タヨ−
クに連結している。ウェハステ−ジ２５上にはウェハホ
ルダ−２６が搭載されている。
である。図１はステッパのステ−ジを投影レンズの方向
から観察したもので、駆動機構に可動ヨ−ク型リニアモ
−タ、案内機構に静圧空気軸受けを用いる公知の構成の
ステ−ジが示されている。図中２０は中央のウェハステ
−ジ２５が静圧空気軸受けを介して移動する際の基準面
となるベ−ス、即ちステ−ジベ−スである。２１ａ〜２
１ｄはリニアモ−タコイルとヨ−ガイドで、２１ａと２
１ｃはＸ方向、２１ｂと２１ｄはＹ方向に対応してい
る。２７ａ〜２７ｄはリニアモ−タヨ−クで、リニアモ
−タコイルとの間で推力を得てウェハステ−ジ２５を移
動させる役目を行う。２７ａ、２７ｃはＸ方向、２７
ｂ、２７ｄはＹ方向のリニアモ−タヨ−クで、中央のウ
ェハステ−ジ２５をＸ及びＹ方向に移動させるためのガ
イド２２、２３と連結している。図に示されているよう
にＸガイド２３は２７ｂと２７ｄのリニアモ−タヨ−ク
に、Ｙガイド２２は２７ａと２７ｃのリニアモ−タヨ−
クに連結している。ウェハステ−ジ２５上にはウェハホ
ルダ−２６が搭載されている。
【００１６】２４ａ〜２４ｄは各リニアモ−タヨ−クに
装着された格子干渉測長器のヘッドで、本発明の根幹を
形成するところである。ウェハステ−ジ２５の位置座標
は各リニアモ−タヨ−ク２７ａ〜２７ｄの１次元座標に
置き換えられ、それぞれの格子干渉測長器で測定した値
がＸ及びＹ座標に対応する。ヘッド２４ａ、２４ｃはＸ
方向の位置座標計測、ヘッド２４ｂ、２４ｄはＹ方向の
位置座標計測を行う。
装着された格子干渉測長器のヘッドで、本発明の根幹を
形成するところである。ウェハステ−ジ２５の位置座標
は各リニアモ−タヨ−ク２７ａ〜２７ｄの１次元座標に
置き換えられ、それぞれの格子干渉測長器で測定した値
がＸ及びＹ座標に対応する。ヘッド２４ａ、２４ｃはＸ
方向の位置座標計測、ヘッド２４ｂ、２４ｄはＹ方向の
位置座標計測を行う。
【００１７】図２は図１のウェハステ−ジと対向する投
影レンズ部の構成をステ−ジの方向から観察した図であ
る。図中３３は投影レンズの最終面、３２は投影レンズ
が納められている鏡筒である。３１は鏡筒３２と一体で
形成された部材で、鏡筒側の基準となるもので、ここで
は鏡筒ベ−スと呼ぶ事にする。３０ａ〜３０ｄはこの鏡
筒ベ−ス３１に取り付けられた格子干渉測長器の回折格
子である。３０ａ、３０ｃには回折格子がＹ方向に形成
されており、３０ａは前述の格子干渉測長器のヘッド２
４ａと、回折格子３０ｃはヘッド２４ｃと対向し、両者
の測定値よりウェハステ−ジ２５のＸ方向の座標が計測
される。同様に３０ｂ、３０ｄには回折格子がＸ方向に
形成されており、回折格子３０ｂがヘッド２４ｂと、回
折格子３０ｄがヘッド２４ｄと対向し、両者の測定値よ
りウェハステ−ジ２５のＹ座標が計測される。
影レンズ部の構成をステ−ジの方向から観察した図であ
る。図中３３は投影レンズの最終面、３２は投影レンズ
が納められている鏡筒である。３１は鏡筒３２と一体で
形成された部材で、鏡筒側の基準となるもので、ここで
は鏡筒ベ−スと呼ぶ事にする。３０ａ〜３０ｄはこの鏡
筒ベ−ス３１に取り付けられた格子干渉測長器の回折格
子である。３０ａ、３０ｃには回折格子がＹ方向に形成
されており、３０ａは前述の格子干渉測長器のヘッド２
４ａと、回折格子３０ｃはヘッド２４ｃと対向し、両者
の測定値よりウェハステ−ジ２５のＸ方向の座標が計測
される。同様に３０ｂ、３０ｄには回折格子がＸ方向に
形成されており、回折格子３０ｂがヘッド２４ｂと、回
折格子３０ｄがヘッド２４ｄと対向し、両者の測定値よ
りウェハステ−ジ２５のＹ座標が計測される。
【００１８】本実施例におけるウェハステ−ジ２５の位
置の計測動作について図３を用いて説明する。図３はウ
ェハステ−ジの可動範囲を表す座標系を示しており、図
中丸で示した箇所がウェハステ−ジの中心位置である。
ここでウェハステ−ジが座標（Ｘ１，Ｙ１）から（Ｘ
２，Ｙ２）へ移動する場合を考える。まず（Ｘ１，Ｙ
１）にステ−ジがある場合、各々の格子干渉測長器から
産出される座標値は（Ｘ１，０）、（Ｘ１，Ｌ）、
（０，Ｙ１）、（Ｌ，Ｙ１）となる。ここで座標原点は
図示されているように左下で、Ｌはウェハステ−ジ２５
の最大可動位置の値である。座標（Ｘ１，Ｙ１）から
（Ｘ２，Ｙ２）への移動では、まず（Ｘ２，Ｙ１）への
移動が行われる。この際ウェハステ−ジはＹガイドの中
心に位置しているとは限らない。このため、Ｘ１からＸ
２へと移動を行わせるＸ方向リニアモ−タ２１ａ、２７
ａとリニアモータ２１ｃ、２７ｃの推力は格子干渉測長
器２４ｂ、３０ｂ及び２４ｄ、３０ｄによる読みからモ
−メントを考えて比例配分される。比例配分された推力
によりウェハステ−ジ２５は余分な回転成分の力を受け
ずに移動を開始し、Ｘ方向の位置を測る格子干渉測長器
のペアであるヘッド２４ａ、回折格子３０ａとヘッド２
４ｃ、回折格子３０ｃから算出される座標値が所定値で
あるＸ２に達するまで移動が行われる。２つのリニアモ
−タ２１ａ、２７ａ及び２１ｃ、２７ｃは別々のフィ−
ドバックル−プにより独立に制御が行われる。
置の計測動作について図３を用いて説明する。図３はウ
ェハステ−ジの可動範囲を表す座標系を示しており、図
中丸で示した箇所がウェハステ−ジの中心位置である。
ここでウェハステ−ジが座標（Ｘ１，Ｙ１）から（Ｘ
２，Ｙ２）へ移動する場合を考える。まず（Ｘ１，Ｙ
１）にステ−ジがある場合、各々の格子干渉測長器から
産出される座標値は（Ｘ１，０）、（Ｘ１，Ｌ）、
（０，Ｙ１）、（Ｌ，Ｙ１）となる。ここで座標原点は
図示されているように左下で、Ｌはウェハステ−ジ２５
の最大可動位置の値である。座標（Ｘ１，Ｙ１）から
（Ｘ２，Ｙ２）への移動では、まず（Ｘ２，Ｙ１）への
移動が行われる。この際ウェハステ−ジはＹガイドの中
心に位置しているとは限らない。このため、Ｘ１からＸ
２へと移動を行わせるＸ方向リニアモ−タ２１ａ、２７
ａとリニアモータ２１ｃ、２７ｃの推力は格子干渉測長
器２４ｂ、３０ｂ及び２４ｄ、３０ｄによる読みからモ
−メントを考えて比例配分される。比例配分された推力
によりウェハステ−ジ２５は余分な回転成分の力を受け
ずに移動を開始し、Ｘ方向の位置を測る格子干渉測長器
のペアであるヘッド２４ａ、回折格子３０ａとヘッド２
４ｃ、回折格子３０ｃから算出される座標値が所定値で
あるＸ２に達するまで移動が行われる。２つのリニアモ
−タ２１ａ、２７ａ及び２１ｃ、２７ｃは別々のフィ−
ドバックル−プにより独立に制御が行われる。
【００１９】次いでウェハステ−ジ２５は（Ｘ２，Ｙ
１）から（Ｘ２，Ｙ２）への移動動作に移行する。この
際もＹ方向のリニアモ−タ２１ｂ、２７ｂとリニアモー
タ２１ｄ、２７ｄの推力は格子干渉測長器２４ａ、３０
ａ及び２４ｃ、３０ｃの読みからモ−メントを考慮した
比例配分が行われる。比例配分された推力によりウェハ
ステ−ジ２５は余分な回転成分の力を受けずに移動を開
始し、Ｙ方向の位置を測る格子干渉測長器のペアである
ヘッド２４ｂ、回折格子３０ｂとヘッド２４ｄ、回折格
子３０ｄから算出される座標値が所定値であるＹ２に達
するまで移動を行う。２つのリニアモ−タ２１ｂ、２７
ｂ及び２１ｄ、２７ｄは別々のフィ−ドバックル−プに
より独立に制御が行われる。この様に独立にＸＹの制御
を行うことにより、ウェハステ−ジは容易な制御で座標
（Ｘ１，Ｙ１）から（Ｘ２，Ｙ２）に移動することがで
きる。
１）から（Ｘ２，Ｙ２）への移動動作に移行する。この
際もＹ方向のリニアモ−タ２１ｂ、２７ｂとリニアモー
タ２１ｄ、２７ｄの推力は格子干渉測長器２４ａ、３０
ａ及び２４ｃ、３０ｃの読みからモ−メントを考慮した
比例配分が行われる。比例配分された推力によりウェハ
ステ−ジ２５は余分な回転成分の力を受けずに移動を開
始し、Ｙ方向の位置を測る格子干渉測長器のペアである
ヘッド２４ｂ、回折格子３０ｂとヘッド２４ｄ、回折格
子３０ｄから算出される座標値が所定値であるＹ２に達
するまで移動を行う。２つのリニアモ−タ２１ｂ、２７
ｂ及び２１ｄ、２７ｄは別々のフィ−ドバックル−プに
より独立に制御が行われる。この様に独立にＸＹの制御
を行うことにより、ウェハステ−ジは容易な制御で座標
（Ｘ１，Ｙ１）から（Ｘ２，Ｙ２）に移動することがで
きる。
【００２０】本実施例では格子干渉測長器が密接して置
かれているため従来例のような空気の揺らぎや温度むら
から来る空気の屈折率変化の影響を受けず、また基準位
置が鏡筒ベ−スに直接取り付けられているため誤差要因
を極めて小さくすることができる。またウェハステ−ジ
の移動をＸＹ独立に行えば、簡単な計算により余分な回
転成分の影響を受けずに安定した制御を行うことができ
る。
かれているため従来例のような空気の揺らぎや温度むら
から来る空気の屈折率変化の影響を受けず、また基準位
置が鏡筒ベ−スに直接取り付けられているため誤差要因
を極めて小さくすることができる。またウェハステ−ジ
の移動をＸＹ独立に行えば、簡単な計算により余分な回
転成分の影響を受けずに安定した制御を行うことができ
る。
【００２１】図４、図５に示したのは本発明の実施例２
の説明図で実施例１の格子干渉測長器を小型化した例で
ある。図中、前実施例と同じ部材については同一の番号
が付されている。実施例１の場合、測長範囲が大きいと
回折格子が長くなるということが一つの問題点としてあ
げられるが、本実施例ではヘッドを複数個設けてコンパ
クト化を図っている。
の説明図で実施例１の格子干渉測長器を小型化した例で
ある。図中、前実施例と同じ部材については同一の番号
が付されている。実施例１の場合、測長範囲が大きいと
回折格子が長くなるということが一つの問題点としてあ
げられるが、本実施例ではヘッドを複数個設けてコンパ
クト化を図っている。
【００２２】図４はＸＹステ−ジの構成で、図５は図４
のステ−ジと対向する投影レンズをステ−ジ側から見た
図である。ステ−ジ側で実施例１と異なるのはリニアモ
−タヨ−ク２７ａ〜２７ｄについている格子干渉測長器
のヘッド４０ａ〜４０ｈが各々ペア構成となっているこ
とである。また投影レンズ側で３０ａ’〜３０ｄ’は格
子干渉測長器の回折格子を表わしている。
のステ−ジと対向する投影レンズをステ−ジ側から見た
図である。ステ−ジ側で実施例１と異なるのはリニアモ
−タヨ−ク２７ａ〜２７ｄについている格子干渉測長器
のヘッド４０ａ〜４０ｈが各々ペア構成となっているこ
とである。また投影レンズ側で３０ａ’〜３０ｄ’は格
子干渉測長器の回折格子を表わしている。
【００２３】ウェハステ−ジ２５が移動する際、４０
ａ、４０ｂ及び４０ｅ、４０ｆのヘッドが対向する回折
格子３０ａ’、３０ｃ’と共同してＸ方向の座標を計測
し、同様にヘッド４０ｃ、４０ｄ及びヘッド４０ｇ、４
０ｈがＹ方向の座標を計測する。回折格子とヘッドの対
応関係は３０ａ’が４０ａと４０ｂ、３０ｂ’が４０ｃ
と４０ｄ、３０ｃ’が４０ｅと４０ｆ、３０ｄ’が４０
ｇと４０ｈとなっている。ここで回折格子３０ａ’〜３
０ｄ’が図２の回折格子３０ａ〜３０ｄより短くなって
いるのが本実施例の特徴で、これは各回折格子と対向す
るヘッドが２か所に設けてある結果である。
ａ、４０ｂ及び４０ｅ、４０ｆのヘッドが対向する回折
格子３０ａ’、３０ｃ’と共同してＸ方向の座標を計測
し、同様にヘッド４０ｃ、４０ｄ及びヘッド４０ｇ、４
０ｈがＹ方向の座標を計測する。回折格子とヘッドの対
応関係は３０ａ’が４０ａと４０ｂ、３０ｂ’が４０ｃ
と４０ｄ、３０ｃ’が４０ｅと４０ｆ、３０ｄ’が４０
ｇと４０ｈとなっている。ここで回折格子３０ａ’〜３
０ｄ’が図２の回折格子３０ａ〜３０ｄより短くなって
いるのが本実施例の特徴で、これは各回折格子と対向す
るヘッドが２か所に設けてある結果である。
【００２４】図６は本実施例における回折格子とヘッド
の相対関係を表わす説明図で、代表として回折格子３０
ａ’、ヘッド４０ａ、４０ｂ、リニアモ−タヨ−ク２７
ａを−Ｙ方向から観察した状態を示している。今ウェハ
ステ−ジ２５がある位置にあり、そのときのリニアモ−
タヨ−ク２７ａと回折格子３０ａ’の位置が図６（Ａ）
のようになっているとする。この状態でウェハステ−ジ
２５の位置を計測するのはヘッド４０ａである。
の相対関係を表わす説明図で、代表として回折格子３０
ａ’、ヘッド４０ａ、４０ｂ、リニアモ−タヨ−ク２７
ａを−Ｙ方向から観察した状態を示している。今ウェハ
ステ−ジ２５がある位置にあり、そのときのリニアモ−
タヨ−ク２７ａと回折格子３０ａ’の位置が図６（Ａ）
のようになっているとする。この状態でウェハステ−ジ
２５の位置を計測するのはヘッド４０ａである。
【００２５】図６（Ａ）の状態からウェハステ−ジ２５
が−Ｘ方向に移動した状態を表わしているのが図６
（Ｂ）である。ウェハステ−ジ２５の移動に伴いリニア
モ−タヨ−ク２７ａが移動し、ヘッド４０ａと４０ｂの
両方に回折格子３０ａ’がかかっている。この状態での
座標計測はヘッド４０ａで行われている。更にウェハス
テ−ジ２５が−Ｘ方向に移動し、リニアモ−タヨ−ク２
７ａが移動した状態を示したのが図６（Ｃ）である。回
折格子３０ａ’に対向して計測を行うのは今度はヘッド
４０ｂである。
が−Ｘ方向に移動した状態を表わしているのが図６
（Ｂ）である。ウェハステ−ジ２５の移動に伴いリニア
モ−タヨ−ク２７ａが移動し、ヘッド４０ａと４０ｂの
両方に回折格子３０ａ’がかかっている。この状態での
座標計測はヘッド４０ａで行われている。更にウェハス
テ−ジ２５が−Ｘ方向に移動し、リニアモ−タヨ−ク２
７ａが移動した状態を示したのが図６（Ｃ）である。回
折格子３０ａ’に対向して計測を行うのは今度はヘッド
４０ｂである。
【００２６】ヘッド４０ａからヘッド４０ｂへの計測ヘ
ッドの切り換えは、自動的に行われる。切り換えはヘッ
ド４０ａからの信号パルスが所定のカウント数に達した
とき、前もって短期間だけ信号パルスを計測していた不
活性なヘッド４０ｂを自動的に活性化して、座標計測ヘ
ッドにするなどという構成で容易に実現できる。
ッドの切り換えは、自動的に行われる。切り換えはヘッ
ド４０ａからの信号パルスが所定のカウント数に達した
とき、前もって短期間だけ信号パルスを計測していた不
活性なヘッド４０ｂを自動的に活性化して、座標計測ヘ
ッドにするなどという構成で容易に実現できる。
【００２７】実施例２のような格子干渉測長器の構成で
ヘッドを２つ設けた場合、回折格子の長さは実施例１の
約１／２にすることができ、コンパクトな測長系が実現
される。
ヘッドを２つ設けた場合、回折格子の長さは実施例１の
約１／２にすることができ、コンパクトな測長系が実現
される。
【００２８】また本実施例とは逆にヘッドを固定し回折
格子を可動としたとき、即ちリニアモ−タヨ−ク２７ａ
〜ｄに回折格子を、鏡筒ベ−ス３１にヘッドを付けた場
合も同様である。回折格子はヘッド位置に常に対向して
存在しなければならないので、ヘッドが一つの場合、両
端の可動範囲が大きなって長い回折格子が必要となる。
実施例２のようにヘッドを複数とすればコンパクト化の
効果は大きい。また本実施例では一つの回折格子に対し
て２つのヘッドを設けたが、更に多数のヘッドを設け、
それらを連動させても良い。
格子を可動としたとき、即ちリニアモ−タヨ−ク２７ａ
〜ｄに回折格子を、鏡筒ベ−ス３１にヘッドを付けた場
合も同様である。回折格子はヘッド位置に常に対向して
存在しなければならないので、ヘッドが一つの場合、両
端の可動範囲が大きなって長い回折格子が必要となる。
実施例２のようにヘッドを複数とすればコンパクト化の
効果は大きい。また本実施例では一つの回折格子に対し
て２つのヘッドを設けたが、更に多数のヘッドを設け、
それらを連動させても良い。
【００２９】本実施例の場合にも格子干渉測長器が密接
して置かれているため、従来例のような空気の揺らぎや
温度むらから来る空気の屈折率変化の影響を受けない。
また基準位置が鏡筒ベ−スに直接取り付けられているた
め、誤差要因を小さくすることができる。
して置かれているため、従来例のような空気の揺らぎや
温度むらから来る空気の屈折率変化の影響を受けない。
また基準位置が鏡筒ベ−スに直接取り付けられているた
め、誤差要因を小さくすることができる。
【００３０】
【発明の効果】以上説明したように、本発明の投影露光
装置では格子干渉測長器を構成するペアである回折格子
と、一個または複数個のヘッドをリニアモ−タのような
ステ−ジ駆動機構の可動部と、装置本体の基準位置であ
る鏡筒と一体構造となっている部材のそれぞれ互いに対
応する部分に取り付けることで、該ステ−ジの位置をス
テ−ジ周辺の空気の揺らぎや温度むら等の環境条件の影
響を受けることなく正確に計測することを可能とした。
また鏡筒及び鏡筒付近の振動温度分布などの要因に対し
ても、測長器の基準が鏡筒と一体で付いているため位置
関係が明確で、従来例に比べて精度の高い計測を行うこ
とが可能となった。
装置では格子干渉測長器を構成するペアである回折格子
と、一個または複数個のヘッドをリニアモ−タのような
ステ−ジ駆動機構の可動部と、装置本体の基準位置であ
る鏡筒と一体構造となっている部材のそれぞれ互いに対
応する部分に取り付けることで、該ステ−ジの位置をス
テ−ジ周辺の空気の揺らぎや温度むら等の環境条件の影
響を受けることなく正確に計測することを可能とした。
また鏡筒及び鏡筒付近の振動温度分布などの要因に対し
ても、測長器の基準が鏡筒と一体で付いているため位置
関係が明確で、従来例に比べて精度の高い計測を行うこ
とが可能となった。
【図１】 本発明の実施例１のＸＹステ−ジの構成を示
す図
す図
【図２】 本発明の実施例１の鏡筒部の構成を示す図
【図３】 本発明のウェハステ−ジの位置座標の説明図
【図４】 本発明の実施例２のＸＹステ−ジの構成を示
す図
す図
【図５】 本発明の実施例２の鏡筒部の構成を示す図
【図６】 複数の格子干渉測長器ヘッドの動作原理を示
す図
す図
【図７】 従来例のＸＹステ−ジの構成を示す図
２１，７１ リニアモ−タコイルとヨ−ガイド ２２，７２ Ｙガイド ２３，７３ Ｘガイド ２４，４０ 格子干渉測長器のヘッド ２５，７４ ウェハステ−ジ ２６，７５ ウェハホルダ ２７，７０ リニアモ−タヨ−ク ３０ 格子干渉測長器の回折格子 ３１ 鏡筒ベ−ス ３２ 投影レンズ最終面 ３３ 投影レンズの鏡筒 ７６，７７ レ−ザ干渉計ミラ− ７８，７９ 固定ミラ−
Claims (1)
- 【請求項１】 ＸＹ方向に可動なステ−ジを搭載した投
影露光装置において、該ステ−ジの駆動機構部と、該投
影露光装置本体の基準となる部材と一体構造となってい
る固定部の一方に格子干渉測長器を構成する回折格子を
取り付けるとともに、他方の対向する部分に一個または
複数個の格子干渉測長器のヘッドを取り付け、該ステ−
ジの位置を計測することを特徴とする投影露光装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3311651A JPH05129184A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 投影露光装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3311651A JPH05129184A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 投影露光装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05129184A true JPH05129184A (ja) | 1993-05-25 |
Family
ID=18019851
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3311651A Pending JPH05129184A (ja) | 1991-10-30 | 1991-10-30 | 投影露光装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH05129184A (ja) |
Cited By (27)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1826615A2 (en) * | 2006-02-22 | 2007-08-29 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2007318119A (ja) * | 2006-05-09 | 2007-12-06 | Asml Netherlands Bv | 変位測定システム、リソグラフィ装置、変位測定方法およびデバイス製造方法 |
| WO2008026742A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Nikon Corporation | Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif |
| WO2008029757A1 (en) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Nikon Corporation | Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method |
| JP2009004737A (ja) * | 2007-03-29 | 2009-01-08 | Asml Netherlands Bv | 可動物体の位置依存信号を測定するための測定システム、リソグラフィ装置および方法 |
| WO2009011356A1 (ja) * | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Nikon Corporation | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 |
| WO2009013903A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Nikon Corporation | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2009033166A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、位置制御方法及び位置制御システム、並びにデバイス製造方法 |
| JP2009032751A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| JP2009055032A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2009055031A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、デバイス製造方法、並びに処理システム |
| JP2009055033A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| US7839485B2 (en) | 2006-01-19 | 2010-11-23 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US8027021B2 (en) | 2006-02-21 | 2011-09-27 | Nikon Corporation | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| JP2014220505A (ja) * | 2006-02-21 | 2014-11-20 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US8937710B2 (en) | 2006-08-31 | 2015-01-20 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus compensating measuring error of encoder due to grating section and displacement of movable body in Z direction |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9690214B2 (en) | 2006-02-21 | 2017-06-27 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| US9874822B2 (en) | 2006-09-01 | 2018-01-23 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US10067428B2 (en) | 2006-08-31 | 2018-09-04 | Nikon Corporation | Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| CN113155051A (zh) * | 2019-12-26 | 2021-07-23 | 南京力安半导体有限公司 | 晶圆测量装置 |
-
1991
- 1991-10-30 JP JP3311651A patent/JPH05129184A/ja active Pending
Cited By (98)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US9885959B2 (en) | 2003-04-09 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having deflecting member, lens, polarization member to set polarization in circumference direction, and optical integrator |
| US9678437B2 (en) | 2003-04-09 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus having distribution changing member to change light amount and polarization member to set polarization in circumference direction |
| US9760014B2 (en) | 2003-10-28 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US9423698B2 (en) | 2003-10-28 | 2016-08-23 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus and projection exposure apparatus |
| US10281632B2 (en) | 2003-11-20 | 2019-05-07 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical member with optical rotatory power to rotate linear polarization direction |
| US9885872B2 (en) | 2003-11-20 | 2018-02-06 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method with optical integrator and polarization member that changes polarization state of light |
| US20130271945A1 (en) | 2004-02-06 | 2013-10-17 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10007194B2 (en) | 2004-02-06 | 2018-06-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10241417B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-26 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10234770B2 (en) | 2004-02-06 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Polarization-modulating element, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and exposure method |
| US10133195B2 (en) | 2006-01-19 | 2018-11-20 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US10185227B2 (en) | 2006-01-19 | 2019-01-22 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US10185228B2 (en) | 2006-01-19 | 2019-01-22 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US10203613B2 (en) | 2006-01-19 | 2019-02-12 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| JP2016105189A (ja) * | 2006-01-19 | 2016-06-09 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US7839485B2 (en) | 2006-01-19 | 2010-11-23 | Nikon Corporation | Movable body drive method, movable body drive system, pattern formation method, pattern forming apparatus, exposure method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US10345121B2 (en) | 2006-02-21 | 2019-07-09 | Nikon Corporation | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
| US9329060B2 (en) | 2006-02-21 | 2016-05-03 | Nikon Corporation | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
| US10234773B2 (en) | 2006-02-21 | 2019-03-19 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method |
| US9989859B2 (en) | 2006-02-21 | 2018-06-05 | Nikon Corporation | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
| US10088759B2 (en) | 2006-02-21 | 2018-10-02 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| US8027021B2 (en) | 2006-02-21 | 2011-09-27 | Nikon Corporation | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
| US10139738B2 (en) | 2006-02-21 | 2018-11-27 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| US10132658B2 (en) | 2006-02-21 | 2018-11-20 | Nikon Corporation | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
| US10409173B2 (en) | 2006-02-21 | 2019-09-10 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method |
| US10012913B2 (en) | 2006-02-21 | 2018-07-03 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| US9857697B2 (en) | 2006-02-21 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus, mark detecting apparatus, exposure apparatus, pattern forming method, exposure method, and device manufacturing method |
| US9690214B2 (en) | 2006-02-21 | 2017-06-27 | Nikon Corporation | Pattern forming apparatus and pattern forming method, movable body drive system and movable body drive method, exposure apparatus and exposure method, and device manufacturing method |
| JP2014220505A (ja) * | 2006-02-21 | 2014-11-20 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US10088343B2 (en) | 2006-02-21 | 2018-10-02 | Nikon Corporation | Measuring apparatus and method, processing apparatus and method, pattern forming apparatus and method, exposure apparatus and method, and device manufacturing method |
| EP1826615A2 (en) * | 2006-02-22 | 2007-08-29 | ASML Netherlands BV | Lithographic apparatus and device manufacturing method |
| JP2007266581A (ja) * | 2006-02-22 | 2007-10-11 | Asml Netherlands Bv | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP4486976B2 (ja) * | 2006-02-22 | 2010-06-23 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置およびデバイス製造方法 |
| JP4660503B2 (ja) * | 2006-05-09 | 2011-03-30 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | リソグラフィ装置 |
| JP2007318119A (ja) * | 2006-05-09 | 2007-12-06 | Asml Netherlands Bv | 変位測定システム、リソグラフィ装置、変位測定方法およびデバイス製造方法 |
| US10073359B2 (en) | 2006-08-31 | 2018-09-11 | Nikon Corporation | Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method |
| US9958792B2 (en) | 2006-08-31 | 2018-05-01 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| JP5035245B2 (ja) * | 2006-08-31 | 2012-09-26 | 株式会社ニコン | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| US10162274B2 (en) | 2006-08-31 | 2018-12-25 | Nikon Corporation | Movable body drive method and system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus for driving movable body based on measurement value of encoder and information on flatness of scale, and device manufacturing method |
| US10101673B2 (en) | 2006-08-31 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Movable body drive method and system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus for driving movable body based on measurement value of encoder and information on flatness of scale, and device manufacturing method |
| US9983486B2 (en) | 2006-08-31 | 2018-05-29 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| US8947639B2 (en) | 2006-08-31 | 2015-02-03 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus measuring position of movable body based on information on flatness of encoder grating section |
| US10067428B2 (en) | 2006-08-31 | 2018-09-04 | Nikon Corporation | Movable body drive system and movable body drive method, pattern formation apparatus and method, exposure apparatus and method, device manufacturing method, and decision-making method |
| JPWO2008026742A1 (ja) * | 2006-08-31 | 2010-01-21 | 株式会社ニコン | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| US10338482B2 (en) | 2006-08-31 | 2019-07-02 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| US10353302B2 (en) | 2006-08-31 | 2019-07-16 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| US10353301B2 (en) | 2006-08-31 | 2019-07-16 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| WO2008026742A1 (fr) * | 2006-08-31 | 2008-03-06 | Nikon Corporation | Procédé d'entraînement de corps mobile et système d'entraînement de corps mobile, procédé et appareil de mise en forme de motif, procédé et appareil d'exposition et procédé de fabrication de dispositif |
| US8937710B2 (en) | 2006-08-31 | 2015-01-20 | Nikon Corporation | Exposure method and apparatus compensating measuring error of encoder due to grating section and displacement of movable body in Z direction |
| TWI416269B (zh) * | 2006-08-31 | 2013-11-21 | 尼康股份有限公司 | Mobile body driving method and moving body driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, and component manufacturing method |
| JP5035247B2 (ja) * | 2006-09-01 | 2012-09-26 | 株式会社ニコン | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにキャリブレーション方法 |
| US10197924B2 (en) | 2006-09-01 | 2019-02-05 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| WO2008029757A1 (en) * | 2006-09-01 | 2008-03-13 | Nikon Corporation | Mobile object driving method, mobile object driving system, pattern forming method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method and calibration method |
| US9625834B2 (en) | 2006-09-01 | 2017-04-18 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| US9740114B2 (en) | 2006-09-01 | 2017-08-22 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| US10289010B2 (en) | 2006-09-01 | 2019-05-14 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| US9760021B2 (en) | 2006-09-01 | 2017-09-12 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| US10289012B2 (en) | 2006-09-01 | 2019-05-14 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| US9846374B2 (en) | 2006-09-01 | 2017-12-19 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| JPWO2008029757A1 (ja) * | 2006-09-01 | 2010-01-21 | 株式会社ニコン | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、デバイス製造方法、並びにキャリブレーション方法 |
| JP2012169655A (ja) * | 2006-09-01 | 2012-09-06 | Nikon Corp | 移動体駆動方法 |
| JP2016191923A (ja) * | 2006-09-01 | 2016-11-10 | 株式会社ニコン | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US9874822B2 (en) | 2006-09-01 | 2018-01-23 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, and device manufacturing method |
| JP2014007411A (ja) * | 2006-09-01 | 2014-01-16 | Nikon Corp | 露光装置及び露光方法、並びにデバイス製造方法 |
| US9377698B2 (en) | 2006-09-01 | 2016-06-28 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| JP2014197703A (ja) * | 2006-09-01 | 2014-10-16 | 株式会社ニコン | 露光方法及び露光装置、並びにデバイス製造方法 |
| US9971253B2 (en) | 2006-09-01 | 2018-05-15 | Nikon Corporation | Movable body drive method and movable body drive system, pattern formation method and apparatus, exposure method and apparatus, device manufacturing method, and calibration method |
| US8457385B2 (en) | 2007-03-29 | 2013-06-04 | Asml Netherlands B.V. | Measurement system and lithographic apparatus for measuring a position dependent signal of a movable object |
| JP2009004737A (ja) * | 2007-03-29 | 2009-01-08 | Asml Netherlands Bv | 可動物体の位置依存信号を測定するための測定システム、リソグラフィ装置および方法 |
| US7903866B2 (en) | 2007-03-29 | 2011-03-08 | Asml Netherlands B.V. | Measurement system, lithographic apparatus and method for measuring a position dependent signal of a movable object |
| JP4686563B2 (ja) * | 2007-03-29 | 2011-05-25 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 可動物体の位置依存信号を測定するための測定システム、リソグラフィ装置および方法 |
| JP2018063446A (ja) * | 2007-07-18 | 2018-04-19 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
| US9804506B2 (en) | 2007-07-18 | 2017-10-31 | Nikon Corporation | Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus |
| EP2818927A3 (en) * | 2007-07-18 | 2015-03-11 | Nikon Corporation | Measurement method, stage apparatus, and exposure apparatus |
| TWI579655B (zh) * | 2007-07-18 | 2017-04-21 | 尼康股份有限公司 | An exposure apparatus, an exposure method, and an element manufacturing method |
| JP2014195093A (ja) * | 2007-07-18 | 2014-10-09 | Nikon Corp | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
| JP2016014881A (ja) * | 2007-07-18 | 2016-01-28 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
| EP3056945A1 (en) * | 2007-07-18 | 2016-08-17 | Nikon Corporation | Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus |
| JP2015119187A (ja) * | 2007-07-18 | 2015-06-25 | 株式会社ニコン | 露光装置、露光方法、及びデバイス製造方法 |
| WO2009011356A1 (ja) * | 2007-07-18 | 2009-01-22 | Nikon Corporation | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 |
| EP2177867A4 (en) * | 2007-07-18 | 2015-03-18 | Nikon Corp | MEASURING METHOD, CARRIAGE DEVICE AND EXPOSURE DEVICE |
| EP2933683A1 (en) * | 2007-07-18 | 2015-10-21 | Nikon Corporation | Measuring method, stage apparatus, and exposure apparatus |
| KR20150121256A (ko) * | 2007-07-18 | 2015-10-28 | 가부시키가이샤 니콘 | 계측 방법, 스테이지 장치, 및 노광 장치 |
| JPWO2009011356A1 (ja) * | 2007-07-18 | 2010-09-24 | 株式会社ニコン | 計測方法、ステージ装置、及び露光装置 |
| TWI610148B (zh) * | 2007-07-18 | 2018-01-01 | Nikon Corp | 曝光裝置、曝光方法、以及元件製造方法 |
| US8264669B2 (en) | 2007-07-24 | 2012-09-11 | Nikon Corporation | Movable body drive method, pattern formation method, exposure method, and device manufacturing method for maintaining position coordinate before and after switching encoder head |
| JP2009032751A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Nikon Corp | 露光装置及びデバイス製造方法 |
| US9612539B2 (en) | 2007-07-24 | 2017-04-04 | Nikon Corporation | Movable body drive method, pattern formation method, exposure method, and device manufacturing method for maintaining position coordinate before and after switching encoder head |
| JP2009033166A (ja) * | 2007-07-24 | 2009-02-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、位置制御方法及び位置制御システム、並びにデバイス製造方法 |
| WO2009013903A1 (ja) * | 2007-07-24 | 2009-01-29 | Nikon Corporation | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2009055033A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| JP2009055031A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、デバイス製造方法、並びに処理システム |
| JP2009055032A (ja) * | 2007-08-24 | 2009-03-12 | Nikon Corp | 移動体駆動方法及び移動体駆動システム、パターン形成方法及び装置、露光方法及び装置、並びにデバイス製造方法 |
| US10101666B2 (en) | 2007-10-12 | 2018-10-16 | Nikon Corporation | Illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9857599B2 (en) | 2007-10-24 | 2018-01-02 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9341954B2 (en) | 2007-10-24 | 2016-05-17 | Nikon Corporation | Optical unit, illumination optical apparatus, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| US9678332B2 (en) | 2007-11-06 | 2017-06-13 | Nikon Corporation | Illumination apparatus, illumination method, exposure apparatus, and device manufacturing method |
| CN113155051A (zh) * | 2019-12-26 | 2021-07-23 | 南京力安半导体有限公司 | 晶圆测量装置 |
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