JPH0498262A - Processing method for waterless planographic printing plate - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、水なし平版印刷版の処理方法に関するもので
あり、更に詳しくは染色液による染色工程を必要としな
い水なし平版印刷版のIA処理方法関する。Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for processing a waterless lithographic printing plate, and more specifically to an IA method for a waterless lithographic printing plate that does not require a dyeing process using a staining solution. Regarding processing method.
[発明の背景]
従来、水なし平版印刷版(以下、必要に応じ「版材料」
という)としては、支持体上に順に感光層及びインキ反
撥層を塗設したものが知られている。この版材料を露光
・現像することにより印刷版を得ることができる。[Background of the invention] Conventionally, waterless lithographic printing plates (hereinafter referred to as "plate materials" as necessary) have been used.
A known example is one in which a photosensitive layer and an ink repellent layer are sequentially coated on a support. A printing plate can be obtained by exposing and developing this plate material.
このような版材料は、現像時又は現像後の版の状態(現
像性、キズ、版の汚れ等)を調べる必要があり、そのた
め検版性に優れていなければならない。For such plate materials, it is necessary to examine the condition of the plate (developability, scratches, stains on the plate, etc.) during or after development, and therefore it must have excellent plate inspection properties.
この検眼性を良好にするために、従来、特公昭61−5
3716号公報や特公昭63−22304号公報等に記
載されている如く、現像した後、染料水溶液で画像部を
染色するか、または染色現像液で現像して可視画像を得
ることが行われている。In order to improve this optometry, conventionally,
As described in Japanese Patent Publication No. 3716 and Japanese Patent Publication No. 63-22304, after development, the image area is dyed with an aqueous dye solution or developed with a dye developer to obtain a visible image. There is.
しかしながら、版材料を現像後等に、画像部を可視画す
るために、染料を含む染色液でIA理すると、染色液を
補充する時や染色液の交換時等において手や衣服が汚れ
、また染色処理を行うことにより処理工程が増え、従っ
て自動現像機が大型になり設備上好ましくない。However, if the plate material is subjected to IA treatment with a staining solution containing dye in order to visualize the image area after development, hands and clothes may get stained when replenishing the dyeing solution or replacing the dyeing solution, etc. The dyeing process increases the number of processing steps, which increases the size of the automatic developing machine, which is not desirable in terms of equipment.
そこで、本発明者等は、前記の検版性を考慮すると共に
染色液を使用しない方法について種々研究した結果、予
めインキ着肉層中にロイコ色素を含有させておき、現像
した後又は現像と同時に酸又はフェノール性化合物を含
む処理液で処理して画像部のみを発色させることにより
画像部のみ発色した画像が得られることを見出し、ここ
に本発明を成すに至った。Therefore, the present inventors considered the above-mentioned plate inspection properties and conducted various studies on methods that do not use a staining solution, and as a result, the inventors included a leuco dye in the inked layer in advance and developed it either after or after development. At the same time, it was discovered that by treating with a processing liquid containing an acid or a phenolic compound to develop color only in the image area, an image in which only the image area was colored could be obtained, and the present invention was thus completed.
[発明の目的]
したがって、本発明の目的は、染色液を不要とし、従っ
て染色液で手や衣服が汚れたり、自動現像機が汚れると
いう煩わしさがなく、作業環境の良好な水なし平板印刷
版の処理方法を提供することにある。[Object of the Invention] Therefore, the object of the present invention is to provide waterless lithographic printing which eliminates the need for a dyeing solution, eliminates the trouble of staining hands and clothes with the dyeing solution, and does not cause the trouble of staining an automatic processor, and provides a good working environment. The purpose is to provide a method for processing editions.
[発明の構成]
本発明の前記目的は、インキ着肉層にロイコ色素を含み
、最上層がシリコーンゴム層である水なし平版印刷版を
画像露光した後、画像部のインキ着肉層を露出させる工
程または該工程以後の工程において、酸又はフェノール
性化合物を含む処理液で前記露光済印刷版を処理するこ
とを特徴とする水なし平版印刷版の処理方法によって達
成される。[Structure of the Invention] The object of the present invention is to imagewise expose a waterless lithographic printing plate whose inked layer contains a leuco dye and whose top layer is a silicone rubber layer, and then expose the inked layer in the image area. This is achieved by a method for treating a waterless lithographic printing plate, which is characterized in that the exposed printing plate is treated with a treatment liquid containing an acid or a phenolic compound in the step of exposing the exposed printing plate or in the step after the step.
以下に、本発明の構成について、更に具体的に説明する
。Below, the configuration of the present invention will be explained in more detail.
本発明は、水なし平版印刷版のインキ着肉層にロイコ色
素を含み、かつ画像部のインキ着肉層な露出させる工程
または該工程以後の工程において、酸又はフェノール性
化合物を含む処理液で前記露光済印刷版を処理すること
により画像部のみ発色した画像が得られるので、染色液
を使用しないで検眼性の優れた画像を得ることができ、
しかも手や衣服並ひに自動現像機等の汚れがなく、作業
性環境が良好になるという優れた効果を奏する。The present invention provides an ink-applied layer of a waterless lithographic printing plate containing a leuco dye, and a processing liquid containing an acid or a phenolic compound in the step of exposing the ink-applied layer in the image area or in the process subsequent to this step. By processing the exposed printing plate, an image in which only the image area is colored can be obtained, so an image with excellent optometry can be obtained without using a staining solution,
Furthermore, there is no dirt on hands, clothes, automatic developing machines, etc., resulting in an excellent working environment.
本発明に用いられる水なし平版印刷版は、支持体上にプ
ライマー層、感光層及びシリコーンゴム層をこの順に被
覆したものからなり、インキ着肉層とは、感光層及びプ
ライマー層を含む意味に使用している。The waterless lithographic printing plate used in the present invention consists of a support coated with a primer layer, a photosensitive layer, and a silicone rubber layer in this order, and the inking layer includes the photosensitive layer and the primer layer. I am using it.
本発明に用いられる水なし平版印刷版のインキ着肉層に
は、ロイコ色素を含有しているが、このロイコ色素とし
ては、それ自体殆ど無色の物質であるが、ビスフェノー
ルAなどの電子受容性物質と接触させると濃色に発色す
る性質を有する物質で、次のようなものが用いられる。The ink layer of the waterless lithographic printing plate used in the present invention contains a leuco dye, which is itself an almost colorless substance, but has electron-accepting properties such as bisphenol A. A substance that has the property of developing a deep color when it comes into contact with other substances, and the following are used.
1)トリフェニルメタン系のロイコ体
3.3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)フタリド
3.3−ビス(p−ジメチルアミノフェニル)−6−シ
メチルアミノフタリド(CVL)3.3−ビス(p−ジ
メチルアミノフェニル)−6−ジメチルアミノフェニル
4−ヒドロキシ−4′−ジメチルアミノトリフェニルメ
タンラクトン
44′−ビスジヒドロキシ−3,3′−ビスジアミノト
リフエ ニルメタンラクトン
2)フルオラン系のロイコ体
3−ジメチルアミノ−6−メトキシフルオラン36−ビ
ス−β−メトキシエトキシフルオラン3−ジエチルアミ
ノ−6−メチル−7−クロルフルオラン
3.7−ピスジエチルアニノフルオラン3−ジエヂルア
ミノ−7−メトキシフルオラン3)スピロピラン系のロ
イコ体
3−フェニル−8′−メトキシヘンゾインドリノスビロ
ビラン
8′−メトキシベンゾイントリノスビロピラン4 7.
8’ −1リメトキシベンゾインドリノスビロビラン
4)オーラミン系のロイコ体
44′−ビスジメヂルアミノ−34−クロルフェニルロ
イコオーラミン
4.4′−ビスジメチルアミノビベラジンハイドロール
5)フェノデアジン系のロイコ体
p−メトキシベンゾイルロイコメヂレンブルー以上の各
種のものが使用されるが、その種類によって青、黒、赤
、緑、橙などの種々の色調のものが得られる。1) Triphenylmethane-based leuco compound 3.3-bis(p-dimethylaminophenyl)phthalide 3.3-bis(p-dimethylaminophenyl)-6-dimethylaminophthalide (CVL) 3.3-bis (p-dimethylaminophenyl)-6-dimethylaminophenyl 4-hydroxy-4'-dimethylaminotriphenyl methane lactone 44'-bisdihydroxy-3,3'-bisdiaminotriphenyl methane lactone 2) Fluoran-based leuco 3-dimethylamino-6-methoxyfluoran 36-bis-β-methoxyethoxyfluoran 3-diethylamino-6-methyl-7-chlorofluoran 3.7-pis-diethylaninofluoran 3-diethylamino-7-methoxy Fluoran 3) Leuco derivative of spiropyran series 3-phenyl-8'-methoxyhenzoindolinos biropyran 8'-methoxybenzoindolinos biropyran 4 7.
8'-1 Limethoxybenzoindolinos birobilane 4) Auramine-based leuco form 44'-bisdimedylamino-34-chlorphenylleucoauramine 4.4'-bisdimethylaminoviverazine hydrol 5) Phenodeazine-based leuco form Various types of leuco derivatives such as p-methoxybenzoyl leucomedylene blue and above are used, and depending on the type, various colors such as blue, black, red, green, and orange can be obtained.
このロイコ色素のインキ着肉層に対する含有量は、0.
1重量%〜50重量%であり、好ましくは10重量%〜
30重量%である。The content of this leuco dye in the inked layer is 0.
1% to 50% by weight, preferably 10% to 50% by weight
It is 30% by weight.
本発明に用いられる水なし平版印刷版は、現像と同時又
は現像後において、酸またはフェノール性化合物を含む
処理液て処理して発色させるが、この酸またはフェノー
ル性化合物としては、電子受容性物質として知られてい
るものてあり、例えば酸性白土、カオリン、ゼオライト
等の粘土酸やシュウ酸、マレイン酸、クエン酸、ステア
リン酸、安息香酸、没食子酸等の有機酸、あるいは次の
ようなフェノール性化合物類がある。The waterless lithographic printing plate used in the present invention is colored by being treated with a processing solution containing an acid or phenolic compound at the same time or after development. Examples include clay acids such as acid clay, kaolin, and zeolite; organic acids such as oxalic acid, maleic acid, citric acid, stearic acid, benzoic acid, and gallic acid; and phenolic acids such as the following. There are compounds.
カテコール、レゾルシン、ヒドロキノン、αナフトール
、β−ナフトール、3.5−キシレノール、ヂモール、
ピロガロール、フロログルシン、フロログルシンカルボ
ン酸、4−tert−ブチルフェノール、4−フェニル
フェノール、4−ヒドロキシシフエノキシト、4−ヒド
ロキシアセトフェノン、メチル−4−ヒドロキシベンゾ
エート、4− tart−オフデルカテコール、4.4
′セカンダリーブヂリデンジフエノール、22′ジヒド
ロキシジフエノール、4.47−イツプロビリデンジフ
エノール(ビスフェノールA)、2.2′−メチレンビ
ス(4−メヂルー6− tertブチルフェノール)、
4.4′−シクロへキシリデンフェノール、4.4′−
イソプロピリデンビス(2−クロロフェノール)、
この化フェノールホルムアルデヒド、ノボラック型フェ
ノール樹脂、ハロゲン化ノボラック型フェノール樹脂等
も使用することかできる。Catechol, resorcinol, hydroquinone, α-naphthol, β-naphthol, 3.5-xylenol, dimol,
Pyrogallol, phloroglucin, phloroglucincarboxylic acid, 4-tert-butylphenol, 4-phenylphenol, 4-hydroxyciphenoxyto, 4-hydroxyacetophenone, methyl-4-hydroxybenzoate, 4-tart-ofdercatechol, 4. 4
'Secondary butylidene diphenol, 22' dihydroxydiphenol, 4.47-itupropylidene diphenol (bisphenol A), 2.2'-methylenebis (4-medy-6-tertbutylphenol),
4.4'-cyclohexylidenephenol, 4.4'-
Isopropylidene bis(2-chlorophenol), phenol formaldehyde, novolac type phenol resin, halogenated novolac type phenol resin, etc. can also be used.
処理液へ加えられる酸又はフェノール性化合物の量は、
0.1重量%〜50重量%であり、好ましくは2.0重
量%〜30重量%である。The amount of acid or phenolic compound added to the processing solution is
The amount is 0.1% to 50% by weight, preferably 2.0% to 30% by weight.
またこの処理液のpl+は0.5〜5.0であり、好ま
しくは1.0〜3.5である。Moreover, pl+ of this treatment liquid is 0.5 to 5.0, preferably 1.0 to 3.5.
本発明に用いられる処理液には、緩衝剤又は塩を加える
ことが好ましく、例えば塩化ナトリウム、塩化カリウム
、フタル酸水素カリウム、塩酸、水酸化ナトリウム、グ
リシン、クエン酸、クエン酸すトリウム、クエン酸カリ
ウム、クエン酸水素カリウム、コハク酸、四ホウ酸ナト
リウム、酒石酸、酒石酸ナトリウム、乳酸、乳酸ナトリ
ウム、酢酸、酢酸ナトリウム、リン酸水素二ナトリウム
、リン酸三ナトリウム、ジエチルバルビッル酸、ホウ酸
、四1iIII酸ナトリウム、トリス(ヒドロキシメチ
ル)アミノメタンの単独又はこれらの組合せで用いられ
る。It is preferable to add a buffer or a salt to the treatment solution used in the present invention, such as sodium chloride, potassium chloride, potassium hydrogen phthalate, hydrochloric acid, sodium hydroxide, glycine, citric acid, sodium citrate, citric acid Potassium, potassium hydrogen citrate, succinic acid, sodium tetraborate, tartaric acid, sodium tartrate, lactic acid, sodium lactate, acetic acid, sodium acetate, disodium hydrogen phosphate, trisodium phosphate, diethylbarbic acid, boric acid, Sodium 41iIII acid and tris(hydroxymethyl)aminomethane are used alone or in combination.
また本発明に用いられる処理液には、有機溶剤、界面活
性剤、塩等を添加することが好ましい。Further, it is preferable to add an organic solvent, a surfactant, a salt, etc. to the treatment liquid used in the present invention.
好ましい有機溶剤としては、公知のものが使用でき、例
えば「溶剤ポケットブック」 (オーム社)に記載され
ているものが殆ど使用することができるものでる。As preferred organic solvents, known organic solvents can be used; for example, most of those described in "Solvent Pocket Book" (Ohm Co., Ltd.) can be used.
20℃における水に対する溶解度が10重量%未満の有
機溶剤、所謂水難溶性有機溶剤としては例えば、シイツ
ブデルケトン、アセトフェノン、イソホロン、コハク酸
ジエチル、安息香酸メチル、蓚酸ジエチル、フタル酸ジ
メチル、酢酸イソブチル、安息香酸ベンジル、エチレン
グリコールそノフェニルエーテル、エチレングリコール
ジブチルエーテル、エチレングリコールベンジルエーテ
ル、ジエチレングリコールジ−n−ブチルエーテル、ジ
エヂレングリコールジアセテート、nアミルアルコール
、ベンジルアルコール、シクロヘキサノン、シクロヘキ
サノール、N−ベンジルエタノールアミン、アニシルア
ルコール、ジメチルペンシルカルピトール、2−N−エ
チルアニリノエタノール、プロピレングリコールモノフ
ェニルエーテル、N−フェニルエタノールアミン等が挙
げられる。Examples of organic solvents having a solubility in water at 20°C of less than 10% by weight, so-called poorly water-soluble organic solvents, include citrate ketone, acetophenone, isophorone, diethyl succinate, methyl benzoate, diethyl oxalate, dimethyl phthalate, and isobutyl acetate. , benzyl benzoate, ethylene glycol sonophenyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol benzyl ether, diethylene glycol di-n-butyl ether, diethyl glycol diacetate, n-amyl alcohol, benzyl alcohol, cyclohexanone, cyclohexanol, N- Examples include benzylethanolamine, anisyl alcohol, dimethylpencylcarpitol, 2-N-ethylanilinoethanol, propylene glycol monophenyl ether, and N-phenylethanolamine.
これらの中でもエチレングリコールモノフェニルエーテ
ル、エチレングリコールベンジルエーテル、ベンジルア
ルコール、シクロヘキサノン、シクロヘキサノール、N
−ベンジルエタノールアミン、アニシルアルコール、ジ
メチルペンシルカルピトール、2−N−エチルアニリノ
エタノール、プロピレングリコールモノフェニルエーテ
ル、Nフェニルエタノールアミンが特に有効である。Among these, ethylene glycol monophenyl ether, ethylene glycol benzyl ether, benzyl alcohol, cyclohexanone, cyclohexanol, N
-Benzylethanolamine, anisyl alcohol, dimethylpencylcarpitol, 2-N-ethylanilinoethanol, propylene glycol monophenyl ether, and N-phenylethanolamine are particularly effective.
本発明に用いられる有機溶剤の使用量は、1重量5〜1
0重量%、好ましくは2重量%〜6重量%が好ましい。The amount of organic solvent used in the present invention is 5 to 1% by weight.
0% by weight, preferably 2% to 6% by weight is preferred.
本発明において用いられる特に好ましい有機溶剤として
は、20℃における水に対する溶解度が10%以上の有
機溶剤であり、アルコール類としては、メタノール、エ
タノール、n−プロパツール、イソプロパツール、n−
ブタノール、5ee−ブタノール、t−ブタノール、フ
ルフリルアルコール、テトラヒドロフルフリルアルコー
ル等が挙げられる。Particularly preferred organic solvents used in the present invention are those having a solubility in water of 10% or more at 20°C, and examples of alcohols include methanol, ethanol, n-propanol, isopropanol, n-
Examples include butanol, 5ee-butanol, t-butanol, furfuryl alcohol, and tetrahydrofurfuryl alcohol.
エーテル又はアセタールとしては、1,2−プロピレン
オキサイド、1,4−ジオキサン、テトラヒドロフラン
、メチツール等が挙げられる。Examples of the ether or acetal include 1,2-propylene oxide, 1,4-dioxane, tetrahydrofuran, methitool, and the like.
ケトンとしては、アセトン、メチルアセトン、メチルエ
チルケトン、アセトン油、アセトニルアセトン、ジアセ
トンアルコール等が挙げられる。Examples of the ketone include acetone, methylacetone, methylethylketone, acetone oil, acetonylacetone, diacetone alcohol, and the like.
エステルとしては、ギ酸メチル、酢酸メチル、乳酸メチ
ル、乳酸エチル等が挙げられる。Examples of esters include methyl formate, methyl acetate, methyl lactate, and ethyl lactate.
多価アルコールとその誘導体としては、エチレングリコ
ール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレ
ングリコールモノメチルエーテルアセテート、エチレン
グリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールジ
ブチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテートエヂレングリコールイソブロビルエーテル
、エチレングリコールジブチルエーテル、エチレングリ
コールジブチルエーテル、エチレングリコールモノブチ
ルエーテルアセテート、エチレングリコールイソアミル
エーテル、エチレングリコールモノフェニルエーテル、
メトキシメトキシエタノール、エチレングリコールモノ
アセテート、エチレングリコールジアセテート、エチレ
ンクロルヒドリン、ジエチレングリコール、ジエチレン
グリコール千ツメチルエーテル、ジエチレングリコール
ジエチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエ
ーテルアセテート、ジエチレングリコールモノブチルエ
ーテル、ジエチレングリコールジメチルエーテル、ジエ
チレングリコールメチルエチルエーテル、ジエチレング
リコールジエチルエーテル、ジエチレングリコールアセ
テート、トリエチレングリコール、トリエチレングリコ
ールモノメチルエーテル、トリエチレングリコールモノ
エチルエーテル、テトラエチレングリコール、プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル、プロピレングリコー
ルモノエチルエーテル、1−ブトキシエトキシプロパノ
ール、プロピレンクロルヒドリン、ジプロピレングリコ
ール、ジプロピレングリコールモノメチルエーテル、ジ
プロピレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピ
レングリコールモノメチルエーテル、トリメチレングリ
コール、ブタンジオール、1,5−ベンタンジオール、
ヘキシレングリコール、グリセリン、グリセリルモノア
セテート、グリセリルジアセテート、グリセリンエーテ
ル、グリセリン−α−モノクロルヒドリン、グリセリン
−α、γ−ジクロルヒドリン、トリメチロールプロパン
、1,2.6−ヘキサントリオール等が挙げられる。Polyhydric alcohols and their derivatives include ethylene glycol, ethylene glycol monomethyl ether, ethylene glycol monomethyl ether acetate, ethylene glycol monoethyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monoethyl ether acetate, ethylene glycol isobrobyl ether, and ethylene glycol dibutyl ether. Butyl ether, ethylene glycol dibutyl ether, ethylene glycol monobutyl ether acetate, ethylene glycol isoamyl ether, ethylene glycol monophenyl ether,
Methoxymethoxyethanol, ethylene glycol monoacetate, ethylene glycol diacetate, ethylene chlorohydrin, diethylene glycol, diethylene glycol methyl ether, diethylene glycol diethyl ether, diethylene glycol monoethyl ether acetate, diethylene glycol monobutyl ether, diethylene glycol dimethyl ether, diethylene glycol methyl ethyl ether, diethylene glycol diethyl Ether, diethylene glycol acetate, triethylene glycol, triethylene glycol monomethyl ether, triethylene glycol monoethyl ether, tetraethylene glycol, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, 1-butoxyethoxypropanol, propylene chlorohydrin, dipropylene Glycol, dipropylene glycol monomethyl ether, dipropylene glycol monoethyl ether, tripropylene glycol monomethyl ether, trimethylene glycol, butanediol, 1,5-bentanediol,
Examples include hexylene glycol, glycerin, glyceryl monoacetate, glyceryl diacetate, glycerin ether, glycerin-α-monochlorohydrin, glycerin-α, γ-dichlorohydrin, trimethylolpropane, 1,2.6-hexanetriol, and the like.
窒素化合物としては、モノメチルアミン、ジメチルアミ
ン、トリメチルアミン、モノメチルアミン、ジエチルア
ミン、トリエチルアミン、イソプロピルアミン、n−ブ
チルアミン、イソブチルアミン、5ec−ブチルアミン
、n−アミルアミン、5ec−アミルアミン、5ec−
ヘキシルアミン、シクロヘキシルアミン、モノエタノー
ルアミン、ジェタノールアミン、トリエタノールアミン
、エチルモノエタノールアミン、n−ブチルモノエタノ
ールアミン、ジエチルエタノールアミン、ジエチルエタ
ノールアミン、エチルジエタノールアミン、n−ブチル
ジェタノールアミン、トリイソプロパツールアミン、イ
ソプロパツールアミン(混合物)、ホルムアミド、アセ
トアミド、アセトニトリル、ビリ□ジン、α−ピコリン
、β−ピコリン、γ−ピコリン、2.4−ルチジン、2
,6−ルチジン、キノリン、モルホリン等が挙げられる
。Examples of nitrogen compounds include monomethylamine, dimethylamine, trimethylamine, monomethylamine, diethylamine, triethylamine, isopropylamine, n-butylamine, isobutylamine, 5ec-butylamine, n-amylamine, 5ec-amylamine, 5ec-
Hexylamine, cyclohexylamine, monoethanolamine, jetanolamine, triethanolamine, ethyl monoethanolamine, n-butyl monoethanolamine, diethylethanolamine, diethylethanolamine, ethyl diethanolamine, n-butyl jetanolamine, triisopropylene Paturamine, isopropaturamine (mixture), formamide, acetamide, acetonitrile, biridine, α-picoline, β-picoline, γ-picoline, 2,4-lutidine, 2
, 6-lutidine, quinoline, morpholine and the like.
これらの有機溶剤のうち、好ましくはアルコール、多価
アルコール及びしの誘導体が用いられる。Among these organic solvents, alcohols, polyhydric alcohols and their derivatives are preferably used.
これらの有機溶剤の含有量は、処理液に対して0.1重
量%〜40重量%てあり、好ましくは0,5重量%〜1
5重量%である。The content of these organic solvents is 0.1% to 40% by weight, preferably 0.5% to 1% by weight based on the processing liquid.
It is 5% by weight.
本発明に用いられる両方の有機溶剤は、それぞれ1つま
たは2つ以上を混合して用いることができる。また両方
の有機溶剤を混合して用いることもてきる。Both of the organic solvents used in the present invention can be used alone or in a mixture of two or more. It is also possible to use a mixture of both organic solvents.
本発明に用いられる処理液に添加されるノニオン界面活
性剤は、通常使用される公知のものが使用できる。As the nonionic surfactant added to the treatment liquid used in the present invention, commonly used known nonionic surfactants can be used.
好ましくは下記の一般式[r]または一般式[n ]で
表される少なくとも一つからなる。It preferably consists of at least one represented by the following general formula [r] or general formula [n].
形成[Iコ
一般式[II ]
す。またn、mは0〜300の整数であり、同時に0で
はない。]
前記−形成[i]または一般式[II ]で表されるノ
ニオン界面活性剤において、R,R,、R2、R3によ
って表されるアルキル基としては、例えばCH3、CH
sC112、CH3(CH2) 2、CH3(CI42
) 3、Cll3 (Cth) 4、
CH8(co2)、、CHs (f;H2) a、CH
3(CH2) 9、CH3(CI+□)、1、+1;H
3(にH2) l 3、CH3(CH12) +5、C
H3(C1h) + 7、C1h (CH2) + 9
、CHa (C)12) 2 +、CH3(CH2)
23等の炭素数1〜25の直鎖または分枝のアルキル基
が好ましい。Formation [I General formula [II] Further, n and m are integers from 0 to 300, and are not 0 at the same time. ] In the nonionic surfactant represented by -formation [i] or general formula [II], the alkyl groups represented by R, R,, R2, and R3 include, for example, CH3, CH
sC112, CH3(CH2) 2, CH3(CI42
) 3, Cll3 (Cth) 4, CH8 (co2),, CHs (f; H2) a, CH
3 (CH2) 9, CH3 (CI+□), 1, +1; H
3 (H2) l 3, CH3 (CH12) +5, C
H3 (C1h) + 7, C1h (CH2) + 9
, CHa (C)12) 2 +, CH3(CH2)
A straight chain or branched alkyl group having 1 to 25 carbon atoms such as 23 is preferred.
アリール基としては、例えば、フェニル基、[式中、R
,R,、R2、R,はそれぞれ水素原子、アルキル基、
アリール基、アラルキル基、ア(Ilは1〜10の整数
を表す。)のいづれかを表し量13
直鎮または分校のアルキル基で置換基を有するものが含
まれる。Examples of the aryl group include a phenyl group, [wherein R
, R, , R2, R, are each a hydrogen atom, an alkyl group,
It represents any one of an aryl group, an aralkyl group, and (Il represents an integer from 1 to 10), and includes a straight or branched alkyl group having a substituent.
またアルケニル基またはアルキニル基としては、例えば
Cth−CH(Cth) 7−1C)I3C1hCII
−CH(C1h) ?−5C1h (CL) 5f:f
lll:H−1C)+3 (Cll2) 7CII−C
H−1C1l、 (C)12) 5CI+ (011)
C112C112CI−ell (c++2) 、−
1CH3(CH2)+oCH−CH(CI(2)4−1
CH3(Cll2) 5cl−1−Cll (CHz)
9−。Further, as the alkenyl group or alkynyl group, for example, Cth-CH(Cth) 7-1C)I3C1hCII
-CH(C1h)? -5C1h (CL) 5f:f
lll:H-1C)+3 (Cll2) 7CII-C
H-1C1l, (C)12) 5CI+ (011)
C112C112CI-ell (c++2), -
1CH3(CH2)+oCH-CH(CI(2)4-1
CH3(Cll2) 5cl-1-Cll (CHz)
9-.
CH3(fl、H2) 4C11−C1lf:11□C
l1−CH(Cll2) 7−1CH3CH2GH−C
llCH2CH−CHCH2CH−CH(II:th)
7−1C1h (CH2) 3(CI−C1l) 3
(C1h) 7−1C)+3 (C1−12) a
(C)l−C)I) 3(Cfh) 4GO(Cll2
) 2−1CI(3(f;lh) 7(= C(CH2
) ?−1CH3(CI(219cH−[;H(Cll
□)7−1等の炭素数9〜24のものが挙げられる。CH3(fl, H2) 4C11-C1lf:11□C
l1-CH(Cll2) 7-1CH3CH2GH-C
llCH2CH-CHCH2CH-CH(II:th)
7-1C1h (CH2) 3 (CI-C1l) 3
(C1h) 7-1C)+3 (C1-12) a
(C)l-C)I) 3(Cfh) 4GO(Cll2
) 2-1CI(3(f;lh) 7(=C(CH2
)? -1CH3(CI(219cH-[;H(Cll
□) Examples include those having 9 to 24 carbon atoms such as 7-1.
またアラルキル基としては、
等の単環または2環のアリール基およびこれらにしII
3 L 113等の、ア
ルキル基にアリル基が付加した構造を有するものが挙げ
られる。In addition, as aralkyl groups, monocyclic or bicyclic aryl groups such as
Examples include those having a structure in which an allyl group is added to an alkyl group, such as 3 L 113.
また前記−形成[I]または一般式[11]において、
n、mの値は1〜100が好ましく、特に好ましくは1
〜50である。更にn;mは1:10〜10:1が好ま
しい。In addition, in the above-formation [I] or general formula [11],
The values of n and m are preferably 1 to 100, particularly preferably 1
~50. Further, n;m is preferably 1:10 to 10:1.
本発明に用いられる一般式[I]または一般式[11]
で表されるノニオン界面活性剤の好ましい具体例は、以
下に示されるが、これらに限定されるものではない。General formula [I] or general formula [11] used in the present invention
Preferred specific examples of the nonionic surfactant represented by are shown below, but are not limited thereto.
例えばポリエチレングリコール、ポリオキシエチレンラ
ウリルエーテル、ポリオキシエチレンノニルエーテル、
ポリオキシエチレンノニルエーテル、ポリオキシエチレ
ンステアリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエ
ーテル、ポリオキシエチレンベヘニルエーテル、ポリオ
キシエチレンポリオキシブロビレンセヂルエーテル、ポ
リオキシエチレンポリオキシプロピレンベヘニルエーテ
ル、ポリオキシエチレンフェニルエーテル、ポリオキシ
エチレンオクチルフェニルエーテル、オキシエヂレンオ
キシブロビレンブロックボリマージスヂレン化フェノー
ルボリエヂレンオキシド付加物、トリペンシルフェノー
ルボリエヂレンオキシド付加物、オクチルフェノールポ
リオキシエヂレンポリオキシブロビレン付加物等。For example, polyethylene glycol, polyoxyethylene lauryl ether, polyoxyethylene nonyl ether,
Polyoxyethylene nonyl ether, polyoxyethylene stearyl ether, polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyethylene behenyl ether, polyoxyethylene polyoxybrobylene sedyl ether, polyoxyethylene polyoxypropylene behenyl ether, polyoxyethylene phenyl ether, Polyoxyethylene octylphenyl ether, oxyethylene oxybrobylene block polymer distylenated phenol polyethylene oxide adduct, tripentylphenol polyoxyethylene oxide adduct, octylphenol polyoxyethylene polyoxybrobylene adduct, etc. .
これらのノニオン界面活性剤の具体的商品例としては、
日光ケミカルズ(株)製のニラコール、化工(株)製の
エマルケン等が挙げられる。Specific product examples of these nonionic surfactants include:
Examples include Nilacol manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd. and Emulken manufactured by Kako Co., Ltd.
これらのノニオン界面活性剤の添加量は、処理液に対し
て、0.1重量%〜10重量%、好ましくは0.2重量
%〜5重量%である。The amount of these nonionic surfactants added is 0.1% to 10% by weight, preferably 0.2% to 5% by weight, based on the treatment liquid.
前記のノニオン界面活性剤は、1つ又はそれ以上を混合
して用いることができる。One or more of the above nonionic surfactants can be used in combination.
前記の例示されたノニオン界面活性剤は、HLB値が1
3.0〜1g、0の範囲にある。The above-mentioned nonionic surfactants have an HLB value of 1.
It is in the range of 3.0 to 1 g, 0.
本発明に用いられるアニオン界面活性剤としては、例え
は、高級アルコール、(Ca−C2z)vt酸エステル
塩類[例えば、ラウリルアルコールサルフェートのナト
リウム塩、オクチルアルコールサルフェートのナトリウ
ム塩、ラウリルアルコールサルフェートのアンモニウム
塩、「ティーボールB−8M (商品名・シェル化学
製、第二ナトリウムアルキルサルフェート等)]、脂肪
酸アルコールリン酸エステル塩類(例えば、セヂルアル
コールりん酸エステルのナトリウム塩等)、アルキルア
リールスルホン酸塩類(例えば、ドデシルベンゼンスル
ホン酸のナトリウム塩、イソプロピルナフタレンスルポ
ン酸のナトリウム塩、シナフタレンジスルポン酸のナト
リウム塩、メタニトロベンゼンスルホン酸のナトリウム
塩等)、アルキルアミドのスルホン酸塩類
塩基性脂肪酸エステルのスルホン酸塩類(例えば、ナト
リウムスルホコハク酸ジオクチルエステル、ナトリウム
スルホコハク酸ジヘキシルエステル等)がある。Examples of the anionic surfactant used in the present invention include higher alcohols, (Ca-C2z)vt acid ester salts [e.g., sodium salt of lauryl alcohol sulfate, sodium salt of octyl alcohol sulfate, ammonium salt of lauryl alcohol sulfate] , "T-Ball B-8M (trade name, manufactured by Shell Chemical, secondary sodium alkyl sulfate, etc.)", fatty acid alcohol phosphate ester salts (e.g., sodium salt of cedyl alcohol phosphate ester, etc.), alkylaryl sulfonates (e.g., sodium salt of dodecylbenzenesulfonic acid, sodium salt of isopropylnaphthalenesulfonic acid, sodium salt of sinapthalenedisulfonic acid, sodium salt of metanitrobenzenesulfonic acid, etc.), sulfonic acid salts of alkylamides, and basic fatty acid esters. There are sulfonic acid salts (eg, sodium sulfosuccinate dioctyl ester, sodium sulfosuccinate dihexyl ester, etc.).
この他、本発明に好ましく用いられるアニオン界面活性
剤としては、α−オレフィンスルポン酸塩、ジアルキル
スルホコハク酸塩、α−スルポン化脂肪酸塩、ポリオキ
シエチレンアルキルエーテル硫酸塩、ポリオキシエチレ
ンアルキルアリールエーテル硫酸塩(例えばポリオキシ
エチレンノニルフェニルエーテル硫酸塩、ポリオキシエ
チレンナフチルエーテル硫酸塩等)、アルキルリン酸塩
、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸塩、ナフ
タレンスルポン酸塩ホルムアルデヒド綜合物、ポリカル
ボン酸型高分子界面活性剤等が挙げられる。In addition, the anionic surfactants preferably used in the present invention include α-olefin sulfonates, dialkyl sulfosuccinates, α-sulfonated fatty acid salts, polyoxyethylene alkyl ether sulfates, and polyoxyethylene alkylaryl ethers. Sulfates (e.g. polyoxyethylene nonylphenyl ether sulfate, polyoxyethylene naphthyl ether sulfate, etc.), alkyl phosphates, polyoxyethylene alkyl ether phosphates, naphthalene sulfonate formaldehyde complexes, polycarboxylic acid types Examples include polymeric surfactants.
本発明に用いられる処理液には、通常用いられるキレー
ト剤を加えるのが好ましい。It is preferable to add a commonly used chelating agent to the treatment liquid used in the present invention.
本発明に用いられるキレート化剤としては、金属イオン
と配位結合してキレート化合物を形成する化合物、例え
ばポリスルボン酸類、ポリリン酸塩、オキシ酸、アミノ
ポリカルボン酸類が好ましい。The chelating agent used in the present invention is preferably a compound that forms a chelate compound by coordinating with a metal ion, such as polysulfonic acids, polyphosphates, oxyacids, and aminopolycarboxylic acids.
このアミノポリカルボン酸類は、
一般式 >N+cu2+coon(式中、nは
1又は2を表し、Rは水素原子又はアルカリ金属を表す
。)で表される基を分子中に有する化合物てあり、(C
12+GOOR基をXで表せば、次のように分類するこ
とができる。These aminopolycarboxylic acids are compounds having a group represented by the general formula >N+cu2+coon (in the formula, n represents 1 or 2, and R represents a hydrogen atom or an alkali metal) in the molecule, and (C
If the 12+GOOR group is represented by X, it can be classified as follows.
(1) RNX2型化合物
(2) NX3型化合物
(3) R−NX−CH2−CH2−NX−R型化合物
(4) R−NX−C)I2−C112−NH2型化合
物(5) X2N−R’−NX2型及びXを4以上含む
化合物(式中、Rは水素原子、アルキル基、ヒドロキシ
アルキル基、アルコキシアルキル基等の置換基を有して
いてもよい有機基を表し、R′は鎖状又は環状アルキレ
ン基、フェニレン基等の有機基又はその置換体を表す。(1) RNX2 type compound (2) NX3 type compound (3) R-NX-CH2-CH2-NX-R type compound (4) R-NX-C)I2-C112-NH2 type compound (5) X2N-R '-NX2 type and a compound containing 4 or more represents an organic group such as a cyclic or cyclic alkylene group or a phenylene group, or a substituted product thereof.
)
アミノポリカルボン酸の代表的な化合物の例としては、
イミノジ酢酸、イミノジプロピオン酸、N−(3,3−
ジメチルブチル)イミノジ酢酸、メルカプトエチルイミ
ノジ酢酸、メトキシエチルイミノジ酢酸、メチルチオエ
チルイミノジ酢酸、N−(カルバモイル)イミノジ酢酸
、アミノエチルイミノジ酢酸、2−エトキシカルボニル
アミノエチルイミノジ酢酸、スルホエチルイミノジ酢酸
、ニトリロトリ酢酸、カルボキシエチルイミノジ酢酸、
N、N’ −エチレンジアミンジ酢酸、N(2−ヒドロ
キシシクロヘキシル)エチレンジアミントリ酢酸、N′
−ヒドロキシエチル−エチレンジアミン−N、N、N’
−トリ酢酸、エチレンジアミンテトラ酢酸、エチレンジ
アミン−NH4−ジ酢酸−N、N’−ジプロピオン酸、
12−プロピレンジアミンテトラ酢酸、トリメヂレンジ
アミンテトラ酢酸、ヘキサエチレンジアミンテトラ酢酸
、1.2−シクロペンタンジアミンテトラ酢酸、tra
ns−シクロヘキサン−1,2−ジアミンテトラ酢酸、
2.2’ −ジアミノエチルエーテル−N、N、N’
、N’−テトラ酢酸、ジエチレントリアミンペンタ酢酸
、グリコールジアミンテトラ酢酸、チオグリコールジア
ミンテトラ酢酸、2.2’ −ジアミノエチルチオエー
テル−N、N、N’ 、N’−テトラ酢酸、N’ 、N
”−ジメチルトリメチレンテトラミン−N、N、N−N
″−テトラ酢酸、トリメヂレンテトラミンヘキサ酢酸、
及びこれらのナトリウム又はカリウム塩等を挙げること
ができる。) Examples of typical compounds of aminopolycarboxylic acids include:
Iminodiacetic acid, iminodipropionic acid, N-(3,3-
dimethylbutyl)iminodiacetic acid, mercaptoethyliminodiacetic acid, methoxyethyliminodiacetic acid, methylthioethyliminodiacetic acid, N-(carbamoyl)iminodiacetic acid, aminoethyliminodiacetic acid, 2-ethoxycarbonylaminoethyliminodiacetic acid, sulfoethyl iminodiacetic acid, nitrilotriacetic acid, carboxyethyliminodiacetic acid,
N,N'-ethylenediaminediacetic acid, N(2-hydroxycyclohexyl)ethylenediaminetriacetic acid, N'
-Hydroxyethyl-ethylenediamine-N, N, N'
-triacetic acid, ethylenediaminetetraacetic acid, ethylenediamine-NH4-diacetic acid-N,N'-dipropionic acid,
12-Propylenediaminetetraacetic acid, trimedylenediaminetetraacetic acid, hexaethylenediaminetetraacetic acid, 1,2-cyclopentanediaminetetraacetic acid, tra
ns-cyclohexane-1,2-diaminetetraacetic acid,
2.2'-diaminoethyl ether-N, N, N'
, N'-tetraacetic acid, diethylenetriaminepentaacetic acid, glycoldiaminetetraacetic acid, thioglycoldiaminetetraacetic acid, 2.2'-diaminoethylthioether-N,N,N', N'-tetraacetic acid, N',N
”-dimethyltrimethylenetetramine-N,N,N-N
″-tetraacetic acid, trimedylenetetraminehexaacetic acid,
and their sodium or potassium salts.
有機ホスホン酸類あるいはボスポントリカルボン酸類と
しては、2−ホスホノブタントリカルボン酸−1,2,
4、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、2−ホスホノ
ブタントリカルボン酸−2,3,4、そのカリウム塩、
そのナトリウム塩、1−ホスホノエタントリカルボン酸
−12,2、そのカリウム塩、そのナトリウム塩、1−
ヒドロキシエタン−1,1−ジホスホン酸、そのカリウ
ム塩、そのナトリウム塩、アミノトリ(メチレンホスホ
ン酸)、そのカリウム塩、そのナトリウム塩等を挙げる
ことができる。上記のキレート剤のカリウム塩またはナ
トリウム塩の代りに有機アミン塩も有効である。Examples of organic phosphonic acids or bospontricarboxylic acids include 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-1,2,
4, its potassium salt, its sodium salt, 2-phosphonobutanetricarboxylic acid-2,3,4, its potassium salt,
its sodium salt, 1-phosphonoethanetricarboxylic acid-12,2, its potassium salt, its sodium salt, 1-
Hydroxyethane-1,1-diphosphonic acid, its potassium salt, its sodium salt, aminotri(methylenephosphonic acid), its potassium salt, its sodium salt, etc. can be mentioned. Organic amine salts are also effective in place of the potassium or sodium salts of the above chelating agents.
ポリリン酸塩としては、Na2P207、Na5P30
3、Na5P30.、Na204P (Na03P)
PO5Na2、カルボン(ポリメタリン酸ナトリウム)
等が挙げられる。As polyphosphates, Na2P207, Na5P30
3. Na5P30. , Na204P (Na03P)
PO5Na2, carvone (sodium polymetaphosphate)
etc.
オキシ酸としては、クエン酸、酒石酸、グルコン酸等の
脂肪族オキシ酸、サリチル酸、ヒドロキシナフトエ酸等
の芳香族オキシ酸か挙げられる。Examples of the oxyacid include aliphatic oxyacids such as citric acid, tartaric acid, and gluconic acid, and aromatic oxyacids such as salicylic acid and hydroxynaphthoic acid.
これらのうち、特に好ましいものは、ポリリン酸塩と脂
肪族オキシ酸である。Among these, particularly preferred are polyphosphates and aliphatic oxyacids.
本発明に用いられる染色液は、前記キレート化剤の少な
くとも1種を0.01重量%〜2重量%の範囲で含有す
るが、好ましくは0,05重量%〜0.5重量%の範囲
である。The staining solution used in the present invention contains at least one of the above chelating agents in a range of 0.01% to 2% by weight, preferably in a range of 0.05% to 0.5% by weight. be.
本発明に用いられるブライマー層としては、例えばポリ
エステル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アク
リル樹脂、塩化ビニル樹脂、ボリアミド樹脂、ポリビニ
ルブチラール樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート系共重
合体、酢酸ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウ
レタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニト
リルブタジェン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。Examples of the brimer layer used in the present invention include polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, vinyl chloride resin, polyamide resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, acrylate copolymer, and vinyl acetate copolymer. Examples include polymers, phenoxy resins, polyurethane resins, polycarbonate resins, polyacrylonitrile butadiene, polyvinyl acetate, and the like.
好ましくはアクリル樹脂、ポリエステル樹脂、ウレタン
樹脂等を挙げることができる。これらの樹脂は、熱又は
光で硬化させた形で用いることが好ましい。特に好まし
くは熱重合または光重合により硬化させたブライマー層
である。Preferred examples include acrylic resin, polyester resin, and urethane resin. These resins are preferably used in the form of being cured by heat or light. Particularly preferred is a brimer layer cured by thermal polymerization or photopolymerization.
例えば水酸基及び/又はカルボキシル基を含むアクリル
樹脂を熱により硬化させる場合、架橋剤として例えばメ
ラミン樹脂、ジイソシアネート類等を用いることができ
る。また光硬化させる場合は、ジアゾ樹脂等を用いるこ
とができる。For example, when an acrylic resin containing a hydroxyl group and/or a carboxyl group is cured by heat, a melamine resin, diisocyanates, etc. can be used as a crosslinking agent. Further, when photocuring, diazo resin or the like can be used.
また上記ブライマー層を構成するアンカー剤としては、
例えばシランカップリング剤、シリコーンブライマー等
を用いることができ、また有機ヂタネート等も有効であ
る。In addition, as the anchor agent constituting the above-mentioned brimer layer,
For example, silane coupling agents, silicone primers, etc. can be used, and organic ditanates and the like are also effective.
上記ブライマー層の厚さは、通常0.1〜20μmであ
り、好ましくは0.3〜10μmである。The thickness of the brimer layer is usually 0.1 to 20 μm, preferably 0.3 to 10 μm.
以下余白
本発明に用いられる水なし平版印刷版の感光層に用いら
れる感光性組成物としては、公知のいづれの感光性組成
物を用いることができるが、好ましくはジアゾ樹脂及び
光重合性化合物が用いられ、特に好ましくはジアゾ樹脂
である。Margin below As the photosensitive composition used in the photosensitive layer of the waterless lithographic printing plate used in the present invention, any known photosensitive composition can be used, but preferably a diazo resin and a photopolymerizable compound are used. Particularly preferred are diazo resins.
以下、感光性組成物について具体的に説明する。The photosensitive composition will be specifically explained below.
(1)ジアゾ樹脂を含む感光性組成物
本発明に用いられるジアゾ樹脂は、種々のものを含むが
、好ましくは、p−ジアゾジフェニルアミンとホルムア
ルデヒドとの縮合物で代表されるジアゾ樹脂であって、
水不溶性で有機溶媒可溶性のもので、好ましくは特公昭
47−1167号及び同57−43890号公報等に記
載されているような水不溶性かつ通常の有機溶媒可溶性
のものが使用される。特に好ましくは下記の一般式[1
]で示されるジアゾ樹脂である。(1) Photosensitive composition containing diazo resin The diazo resin used in the present invention includes various types, but is preferably a diazo resin typified by a condensate of p-diazodiphenylamine and formaldehyde,
Those that are water-insoluble and soluble in organic solvents are used, preferably those that are water-insoluble and soluble in ordinary organic solvents as described in Japanese Patent Publications No. 47-1167 and Japanese Patent Publication No. 57-43890. Particularly preferably, the following general formula [1
] It is a diazo resin shown by.
−形成[1]
[式中、Rl 、 R2およびR3は、水素原子、アル
キル基又はアルコキシ基を示し、R4は水素原子、アル
キル基又はフェニル基を示す。- Formation [1] [In the formula, Rl, R2 and R3 represent a hydrogen atom, an alkyl group or an alkoxy group, and R4 represents a hydrogen atom, an alkyl group or a phenyl group.
XはPF、又は BF4を示し、Yは−N)l−5−又
は−〇−を示す。コ
本発明に用いられるジアゾ樹脂におけるジアゾモノマー
としては、例えば、4−ジアゾ−ジフェニルアミン、3
−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン、3−エトキ
シ−4−ジアゾジフェニルアミン、3(n−プロポキシ
)−4−ジアゾジフェニルアミン、3−(イソプロポキ
シ)−4−ジアゾジフェニルアミン等が挙げられる。X represents PF or BF4, and Y represents -N)l-5- or -0-. Examples of the diazo monomer in the diazo resin used in the present invention include 4-diazo-diphenylamine, 3
-Methoxy-4-diazodiphenylamine, 3-ethoxy-4-diazodiphenylamine, 3(n-propoxy)-4-diazodiphenylamine, 3-(isopropoxy)-4-diazodiphenylamine, and the like.
前記ジアゾモノマーとの縮合剤として用いられるアルデ
ヒドとしては、例えば、ホルムアルデヒド、アデトアル
デヒド、プロピオンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イ
ソブチルアルデヒド、またはベンズアルデヒド等が挙げ
られる。Examples of the aldehyde used as a condensing agent with the diazo monomer include formaldehyde, adetaldehyde, propionaldehyde, butyraldehyde, isobutyraldehyde, and benzaldehyde.
更に陰イオンとしては、塩素イオンやテトラクロロ亜鉛
酸等を用いることにより水溶性のジアゾ樹脂を得ること
ができ、また四フッ化ホウ素、六フッ化燐酸、トリイソ
プロピルナフタレンスルポン酸、4,4−ビフェニルジ
スルホン酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、2−メトキシ−4−ヒド
ロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホン酸等を用い
ることにより、有機溶剤可溶性のジアゾ樹脂を得ること
ができる。特に好ましくは、六フッ化燐酸からなるジア
ゾ樹脂が用いられる。Furthermore, water-soluble diazo resins can be obtained by using chloride ions, tetrachlorozinc acid, etc. as anions, and boron tetrafluoride, hexafluorophosphoric acid, triisopropylnaphthalene sulfonic acid, 4,4 -Biphenyldisulfonic acid, 2,5-dimethylbenzenesulfonic acid, 2
By using -nitrobenzenesulfonic acid, 2-methoxy-4-hydroxy-5-benzoyl-benzenesulfonic acid, etc., an organic solvent-soluble diazo resin can be obtained. Particularly preferably, a diazo resin made of hexafluorophosphoric acid is used.
ジアゾ樹脂は皮膜形成性樹脂、特に水酸基を有する親油
性高分子化合物と混合して使用するのが好ましい。この
ような親油性高分子化合物としては、側鎖に脂肪族水酸
基を有するモノマー、例えば2−ヒトロキシエヂルアク
リレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレートと他
の共重合し得る千ツマ−との共重合体が挙げられる。こ
れら以外にも、必要に応じてポリビニルブチラール樹脂
、ポリウレタン樹脂、ポリアミド樹脂、エポキシ樹脂、
ノボラック樹脂、天然樹脂等を添加してもよい。The diazo resin is preferably used in combination with a film-forming resin, particularly a lipophilic polymer compound having a hydroxyl group. Such a lipophilic polymer compound includes a monomer having an aliphatic hydroxyl group in a side chain, such as a copolymer of 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate with other copolymerizable monomers. can be mentioned. In addition to these, polyvinyl butyral resin, polyurethane resin, polyamide resin, epoxy resin,
Novolak resin, natural resin, etc. may be added.
この他ジアゾニウム塩と併用される結合剤としては種々
の高分子化合物が使用され得るが、好ましくは特開昭5
4−98613号公報に記載されているような芳香族性
水酸基を有する単量体、例えばN−(4−ヒドロキシフ
ェニル)アクリルアミド、N−(4−ヒドロキシフェニ
ル)メタクリルアミド、o−、m+、またはp−ヒドロ
キシスチレン、o−、m−、またはp−ヒドロキシフェ
ニルメタクリレート等と他の単量体との共重合体、米国
特許第4,123,276号明細書に記載されているよ
うなヒドロキシエチルアクリレート単位またはヒドロキ
シエチルメタクリレート単位を主なる繰り返し単位とし
て含むポリマー、シェラツク、ロジン等の天然樹脂、ポ
リビニルアルコール、米国特許第3,751,257号
明細書に記載されているポリアミド樹脂、米国特許第3
.660,097号明細書に記載されている線状ポリウ
レタン樹脂、ポリビニルアルコールのフタレート化樹脂
、ビスフェノールAとエピクロルヒドリンから縮合され
たエポキシ樹脂、アルカリ可溶性樹脂としては、ノボラ
ック樹脂、フェノール性水酸基を有するビニル系重合体
、特開昭5557841号公報に記載されている多価フ
ェノールとアルデヒド又はケトンとの縮合樹脂等が挙げ
られる。ノボラック樹脂としては、例えばフェノール・
ホルムアルデヒド樹B旨、タレゾール・ホルムアルデヒ
ド樹脂、特開昭55’−57841号公報に記載されて
いるようなフェノール・クレゾール・ホルムアルデヒド
共重縮合樹脂、特開昭55−127553号公報に記載
されているようなp−置換フェノールとフェノールもし
くは、クレゾールとホルムアルデヒドとの共重縮合樹脂
等が挙げられる。In addition, various polymer compounds can be used as the binder used in combination with the diazonium salt, but preferably,
A monomer having an aromatic hydroxyl group as described in Japanese Patent No. 4-98613, such as N-(4-hydroxyphenyl)acrylamide, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide, o-, m+, or Copolymers of p-hydroxystyrene, o-, m-, or p-hydroxyphenyl methacrylate, etc., with other monomers, hydroxyethyl as described in U.S. Pat. No. 4,123,276. Polymers containing acrylate units or hydroxyethyl methacrylate units as the main repeating unit, natural resins such as shellac and rosin, polyvinyl alcohol, polyamide resins described in U.S. Pat. No. 3,751,257, U.S. Pat.
.. 660,097, linear polyurethane resins, polyvinyl alcohol phthalate resins, epoxy resins condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, alkali-soluble resins such as novolac resins, and vinyl-based resins having phenolic hydroxyl groups. Polymers, condensation resins of polyhydric phenols and aldehydes or ketones described in JP-A-5557841, and the like can be mentioned. Examples of novolac resins include phenol and
Formaldehyde tree B, talesol/formaldehyde resin, phenol/cresol/formaldehyde copolycondensation resin as described in JP-A-55-57841, as described in JP-A-55-127553 Examples include copolycondensation resins of p-substituted phenol and phenol, or copolycondensation resins of cresol and formaldehyde.
またこれらの感光性組成物には、上記の素材の他、必要
に応じて染料、顔料等の色素、感脂化剤、可塑剤、界面
活性剤、有機酸、酸無水物、露光により酸を発生し得る
化合物等を添加することができる。In addition to the above-mentioned materials, these photosensitive compositions may also contain colorants such as dyes and pigments, sensitizing agents, plasticizers, surfactants, organic acids, acid anhydrides, and acids that can be removed by exposure to light. Compounds that may be generated can be added.
これらの結合剤は感光性組成物の固形分中に10〜95
重量%、好ましくは40〜80重量%含有される。また
ジアゾ樹脂は5〜80重量%、好ましくは15〜60重
景%含重量れる。These binders are present in an amount of 10 to 95% in the solid content of the photosensitive composition.
It is contained in an amount of 40 to 80% by weight. The diazo resin is contained in an amount of 5 to 80% by weight, preferably 15 to 60% by weight.
これらの感光性組成物には、その他の染料、顔料等の色
素、感脂化剤、可塑剤、界面活性剤などを添加すること
ができる。Other dyes, pigments such as pigments, fat-sensitizing agents, plasticizers, surfactants, etc. can be added to these photosensitive compositions.
(2)重合体の主鎖又は側鎖に−CH−CII −C−
基を有する高分子化合物を含む感光性組成物
このような高分子化合物としては、重合体の主ロ
鎖又は側鎖に感光性基として−CH−CII −C−を
含むポリエステル類、ポリアミド類、ポリカーボネート
類のような感光性重合体を主成分とするもの(例えば米
国特許第3,030,208号、同第3707.373
号及び同第3,453,237号に記載されているよう
な化合物);シンナミリデンマロン酸等の(2−プロペ
リデン)マロン酸化合物及び二官能性グリコール類から
銹導される感光性ポリエステル類を主成分としたもの(
例えば米国特許第2,956,878号及び同第3,1
73.787号に記載されているような感光性重合体)
;ポリビニールアルコール、澱粉、セルロース及びその
類似物のような水酸基含有重合体のケイ皮酸エステル類
(例えば米国特許第2,690.966号、同第2.7
52,372号、同第2.732,301号等に記載さ
れているような感光性重合体)等が挙げられる。(2) -CH-CII-C- in the main chain or side chain of the polymer
Photosensitive composition containing a polymer compound having a group Examples of such a polymer compound include polyesters, polyamides, etc. containing -CH-CII-C- as a photosensitive group in the main chain or side chain of the polymer; Those whose main component is a photosensitive polymer such as polycarbonates (for example, U.S. Pat. No. 3,030,208, U.S. Pat. No. 3,707,373)
No. 3,453,237); photosensitive polyesters derived from (2-properidene) malonic acid compounds such as cinnamylidene malonic acid and difunctional glycols; The main component is (
For example, U.S. Patent Nos. 2,956,878 and 3,1
73.787)
; cinnamate esters of hydroxyl-containing polymers such as polyvinyl alcohol, starch, cellulose, and the like (e.g., U.S. Pat. No. 2,690.966, U.S. Pat. No. 2.7;
52,372, 2.732,301, etc.).
これらの感光性組成物には、他の増感剤、安定化剤、可
塑剤、顔料や染料等を含有させることができる。These photosensitive compositions may contain other sensitizers, stabilizers, plasticizers, pigments, dyes, and the like.
(3)付加重合性不飽和化合物からなる光重合性組成物
この組成物は、好ましくは、(a)少なくとも2個のエ
チレン性不飽和二重結合を有するビニル単量体、
(b)光重合開始剤及び(c)バインダー樹脂としての
高分子化合物からなる。(3) Photopolymerizable composition comprising an addition polymerizable unsaturated compound This composition preferably comprises (a) a vinyl monomer having at least two ethylenically unsaturated double bonds; (b) photopolymerizable It consists of an initiator and (c) a polymer compound as a binder resin.
この成分(a)のビニル単量体としては、特公昭35−
5093号、同35−14719号、同44−2872
7号の各公報に記載されている。The vinyl monomer of this component (a) is
No. 5093, No. 35-14719, No. 44-2872
It is described in each publication No. 7.
ポリオールのアクリル酸又はメタクリル酸エステル、即
ちジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、トリ
エヂレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタエ
リスリトールトリ (メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート等、あるいはメ
チレンビス(メタ)アクリルアミド、エチレンビス(メ
タ)アクリルアミドのようなビス(メタ)アクリルアミ
ド類、あるいはウレタン基を含有する不飽和単量体、例
えばジー(2′−メタクリロキシエチル)2.4−1−
リレンジウレタン、ジー(2−アクリロキシエチル)ト
リメチレンジウレタン等のようなジオールモノ(メタ)
アクリレートとジイソシアネートとの反応生成物等が挙
げられる。Acrylic or methacrylic esters of polyols, such as diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, or methylene bis(meth)acrylate Acrylamide, bis(meth)acrylamides such as ethylene bis(meth)acrylamide, or unsaturated monomers containing urethane groups, such as di(2'-methacryloxyethyl)2.4-1-
Diol mono(meth) such as lylene diurethane, di(2-acryloxyethyl) trimethylene diurethane, etc.
Examples include reaction products of acrylate and diisocyanate.
前記成分(b)の光重合開始剤としては、例えば、J、
Kosar著「ライト・センシシティブ・システムズ」
第5章に記載されているようなカルボニル化合物、有機
硫黄化合物、過流化物、レドックス系化合物、アゾ並び
にジアゾ化合物、ハロゲン化合物、光還元性色素などが
ある。更に具体的には英国特許第1,459,563号
に開示されている。As the photopolymerization initiator of the component (b), for example, J,
"Light Sensitive Systems" by Kosar
Examples include carbonyl compounds, organic sulfur compounds, perfusate compounds, redox compounds, azo and diazo compounds, halogen compounds, and photoreducible dyes as described in Chapter 5. More specifically, it is disclosed in British Patent No. 1,459,563.
更に、成分(e)のバインダー樹脂(結合剤)としては
、公知の種々のポリマーを使用することができる。また
前記ジアゾ樹脂の結合剤として挙げた高分子化合物も好
ましく使用できる。具体的なバインダー樹脂の詳細は、
米国特許第4,072.527号に記載されている。Furthermore, various known polymers can be used as the binder resin (binder) of component (e). Furthermore, the polymer compounds mentioned above as binders for the diazo resin can also be preferably used. For details on specific binder resins, see
Described in U.S. Pat. No. 4,072.527.
これらの光重合性組成物には、熱重合禁止剤、可塑剤、
染料や顔料等を含有させることができる。These photopolymerizable compositions contain thermal polymerization inhibitors, plasticizers,
It can contain dyes, pigments, etc.
前記感光性組成物に添加される感脂化剤、界面活性剤、
増感剤、安定化剤、熱重合禁止剤、可塑剤、染料や顔料
等の色素などの添加剤類は、その種類によって添加量は
異るが、概して感光性塗布量%、好ましくは0,05〜
10重量%が適当である。A liposensitizing agent and a surfactant added to the photosensitive composition,
The amount of additives such as sensitizers, stabilizers, thermal polymerization inhibitors, plasticizers, and pigments such as dyes and pigments varies depending on the type, but generally the photosensitive coating amount is %, preferably 0. 05~
10% by weight is suitable.
本発明に用いられるシリコーンゴムとしては、次のよう
な一般式[■コで示される繰り返し単位を有する分子量
数千〜数十万の主鎖中または主鎖の末端に水酸基を有す
る線状有機ポリシロキサンを主成分とするものが好まし
い。The silicone rubber used in the present invention is a linear organic polymer having a repeating unit represented by the following general formula [■] and having a molecular weight of several thousand to hundreds of thousands and a hydroxyl group in the main chain or at the end of the main chain. Those containing siloxane as a main component are preferred.
一般式[11
%式%
ここでnは2以上の整数、Rは炭素数1〜10のアルキ
ル基、ハロゲン化アルキル基、アルコキシル基、ビニル
基、アリール基、シラノール基(0)1基)、であり、
Rの60%以上がメチル基であるものが好ましい。なお
上記シラノール基(011基)は主鎖中または主鎖の末
端のどちらにあってもよいが、末端にあることが好まし
い。General formula [11% formula% where n is an integer of 2 or more, R is an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, a halogenated alkyl group, an alkoxyl group, a vinyl group, an aryl group, 1 silanol group (0)), and
Preferably, 60% or more of R is a methyl group. The silanol group (011 group) may be located either in the main chain or at the end of the main chain, but is preferably located at the end.
本発明に用いられるシランカップリング剤(またはシリ
コーン架橋剤)としては、
R,1SiX4−n
(式中、nは1〜3の整数であり、Rはアルキル、アリ
ール、アルケニルまたはこれらの組合された一価の基を
表し、またこれらの基はハロゲン、アミン、ヒドロキシ
、アルコキシ、アリーロキシ、チオール等の官能基を有
していてもよい。The silane coupling agent (or silicone crosslinking agent) used in the present invention is R,1SiX4-n (wherein, n is an integer of 1 to 3, and R is alkyl, aryl, alkenyl, or a combination thereof. It represents a monovalent group, and these groups may have a functional group such as halogen, amine, hydroxy, alkoxy, aryloxy, thiol, etc.
Xは一01l、−〇R2、−〇AC1−0−N−Cぐ
、 −cp、−Br、−■等の置換基を表す。ここ
でR2、R3は上記のRと同じものを表し、R2、R3
はそれぞれ同じであっても異っていてもよい。また八c
はアセチル基を表す。)で示されるシラン化合物である
。X is 101l, -〇R2, -〇AC1-0-N-C
, -cp, -Br, -■, and other substituents. Here, R2 and R3 represent the same as R above, and R2 and R3
may be the same or different. 8c again
represents an acetyl group. ) is a silane compound represented by
つまり本発明において有用なシリコーンゴムは、このよ
うなシリコーン・ベースポリマーと、上記に挙げるよう
なシリコーン架橋剤との縮合反応によって得られるもの
である。That is, the silicone rubber useful in the present invention is obtained by a condensation reaction between such a silicone base polymer and a silicone crosslinking agent such as those listed above.
本発明に用いられるシランカップリング剤の具体例とし
ては、
11N[(C1+2)3si(OMe)3コ2、ビニル
トリスi・キシシラン、CJ) (CI+2) 3sI
(OMe) 3、Cl13Si(0八C)3、IIs
(elf) 5Si(OIJe) 3、ビニルトリス
(メチルエヂルケトオキシム)シラン等が挙げられる。Specific examples of the silane coupling agent used in the present invention include 11N[(C1+2)3si(OMe)3co2, vinyltris-i xysilane, CJ) (CI+2)3sI
(OMe) 3,Cl13Si(08C)3,IIs
(elf) 5Si(OIJe) 3, vinyl tris(methyl edyl ketoxime) silane, and the like.
前記のシリコーンゴムは市販品としても入手でき、例え
ば東芝シリコーン社製YE−3085等がある。またそ
の他の有用なシリコーンゴムは、前述の如きベース・ポ
リマーと、次のような一般式[11]で示される繰り返
し単位を有するシリコーンオイルとの反応、あるいはR
の3%程度がビニル基であるシリコーンのベース・ポリ
マーとのイ」加反応、あるいは該シリコーンオイル同士
の反応によっても得ることができる。The silicone rubber described above is also available as a commercial product, such as YE-3085 manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd. In addition, other useful silicone rubbers can be produced by reacting the above-mentioned base polymer with a silicone oil having repeating units represented by the following general formula [11], or by reacting R
It can also be obtained by addition reaction with a base polymer of silicone, of which about 3% is vinyl groups, or by reaction between the silicone oils.
(式中、Rは一般式[I]で示されるポリマーの置換基
であるRと同義であり、■は2以上の整数、nはOまた
は1以上の整数である。)このような架橋反応によって
シリコーンゴムを得るためには、架橋反応を触媒を用い
て行う。この触媒としては、錫、亜鉛、コバルト、鉛、
カルシウム、マンガン、等の金属の有機カルボン酸塩、
例えはラウリル酸ジブチルスズ、スズ(I+ )オクト
エート、ナフテン酸コバルト等、あるいは塩化金酸等が
用いられる。(In the formula, R has the same meaning as R, which is a substituent of the polymer represented by general formula [I], ■ is an integer of 2 or more, and n is O or an integer of 1 or more.) Such a crosslinking reaction To obtain silicone rubber, the crosslinking reaction is carried out using a catalyst. This catalyst includes tin, zinc, cobalt, lead,
Organic carboxylates of metals such as calcium, manganese, etc.
For example, dibutyltin laurate, tin (I+) octoate, cobalt naphthenate, or chloroauric acid can be used.
またシリコーンゴムの強度を向上させ、印刷作業中に生
じる摩擦力に耐えるシリコーンゴムな得るためには、充
填剤(フィラー)を混合することもできる。予めフィラ
ーの混合されたシリコーンゴムは、シリコーンゴムスト
ック、あるいはシリコーンゴムディスバージョンとして
市販されており、本発明のようにコーティングによりシ
リコーンゴム膜を得ることが好ましい場合には、RTV
あるいはLTVシリコーンゴムのディスバージョンが好
んで用いられる。このような例としては、トーレシリコ
ーン社製Syl Off 23.5RX−257,5H
237等のベーパーコーティング用シリコーンゴムディ
スバージョンがある。Fillers can also be mixed in to improve the strength of the silicone rubber and to make it resistant to the frictional forces generated during printing operations. Silicone rubber mixed with filler in advance is commercially available as silicone rubber stock or silicone rubber dispersion, and when it is preferable to obtain a silicone rubber film by coating as in the present invention, RTV
Alternatively, dispersion of LTV silicone rubber is preferably used. An example of this is Syl Off 23.5RX-257,5H manufactured by Toray Silicone.
There are silicone rubber dispersions for vapor coating such as 237.
本発明においては、縮合架橋タイプのシリコーンゴムを
用いることが好ましい。In the present invention, it is preferable to use condensation and crosslinking type silicone rubber.
シリコーンゴム層には、更に接着性を向上させるために
アミノ基を有するシランカップリング剤を含有している
ことが好ましい。The silicone rubber layer preferably contains a silane coupling agent having an amino group in order to further improve adhesiveness.
好ましいシランカップリング剤としては、例えば次のよ
うなものがある。Examples of preferable silane coupling agents include the following.
(a) 1IiNclhcHJII (CI+2) 3
51 (OCH3) 5(b) HJCE2C1lJl
l (C112) 3sI (OCH3) 2 (C1
l、り(C) H2N (f;L) 3si (OEt
) 3本発明に用いられるシリコーンゴム層中には、更
に光増感剤を少量含有させることができる。(a) 1IiNclhcHJII (CI+2) 3
51 (OCH3) 5(b) HJCE2C1lJl
l (C112) 3sI (OCH3) 2 (C1
l,ri (C) H2N (f;L) 3si (OEt
) 3 The silicone rubber layer used in the present invention may further contain a small amount of photosensitizer.
本発明に用いられるシリコーンゴム層は、シリコーンゴ
ムを適当な溶媒に溶解した後、感光層上に塗布、乾燥す
る。The silicone rubber layer used in the present invention is prepared by dissolving silicone rubber in a suitable solvent, applying it onto the photosensitive layer, and drying it.
本発明の支持体としては、通常の平版印刷機にセットで
きるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えるものである
ことが好ましく、例えばアルミニウム、亜鉛、銅、鋼等
の金属板、及びクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アルミニ
ウム及び鉄等がメツキまたは蒸着された金属板、紙、プ
ラスデックフィルム及びガラス板、樹脂コート紙、アル
ミニウム等の金属箔か張られた紙等が挙げられる。The support of the present invention is preferably one that is flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and that can withstand the load applied during printing, such as metal plates such as aluminum, zinc, copper, and steel, and metal plates such as chromium, zinc, Examples include metal plates plated or vapor-deposited with copper, nickel, aluminum, iron, etc., paper, plus deck film, glass plates, resin coated paper, paper covered with metal foil such as aluminum, and the like.
これらのうち9丁ましいものはアルミニウム板てある。Nine of these are made of aluminum plates.
上記接着性向上のための支持体自体に対する処理は特に
限定されるものではなく、各種粗面化処理等が含まれる
。The treatment for the support itself to improve the adhesion is not particularly limited, and includes various surface roughening treatments.
本発明において、シリコーンゴム層の上面には必要に応
じて保護層を有していてもよい。In the present invention, a protective layer may be provided on the upper surface of the silicone rubber layer, if necessary.
[実施例]
以下に本発明を実施例を用いて説明するが、本発明は、
これらの例に限定されるものではない。[Example] The present invention will be explained below using Examples.
It is not limited to these examples.
実施例−1
アルミ基板上に下記の組成の感光性組成物を、厚さ10
μの光硬化性感光層として設けた。Example-1 A photosensitive composition having the following composition was deposited on an aluminum substrate to a thickness of 10
It was provided as a μ photocurable photosensitive layer.
[感光性組成物〕
リポキシ5P−1509(昭和高分子社製、ビスフェノ
ールA系エポキシアクリレート)100部
トリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレート
80部2.4−ジエ
チルチオキサントン 4部p−ジメチルアミノ安
息香酸エヂルエステル4部
クリスタルバイオレットラクトン 30部黄色顔料
(KET−YELLOW402、犬日本インキ化学社製
) 8部トロペオリン
5部次いで上記感光層上に下記シリ
コーンゴム組成物を乾燥重量で2.0g/m2になるよ
うに塗布し、90℃で10分間乾燥し、水なし平版印刷
版を得た。[Photosensitive composition] Lipoxy 5P-1509 (manufactured by Showa Kobunshi Co., Ltd., bisphenol A-based epoxy acrylate) 100 parts Trimethylolpropane triethoxy triacrylate 80 parts 2.4-diethylthioxanthone 4 parts p-dimethylaminobenzoic acid edyl ester 4 Part: Crystal Violet Lactone 30 parts Yellow pigment (KET-YELLOW402, manufactured by Inu Nippon Ink Chemical Co., Ltd.) 8 parts Tropeolin
5 parts Then, the following silicone rubber composition was coated on the photosensitive layer at a dry weight of 2.0 g/m 2 and dried at 90° C. for 10 minutes to obtain a waterless lithographic printing plate.
[シリコーンゴム層組成物]
両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(分子
量52,000) 100部トリアセトキシ
メチルシラン 10部ジブチル錫ラウレート
0.8部アイソパーG(エッソ化学製)
900部次に、上記シリコーンゴム層上にポ
ジフィルムを真空密着させた後、光源としてメタルハラ
イドランプを用いて露光した。[Silicone rubber layer composition] Dimethylpolysiloxane having hydroxyl groups at both ends (molecular weight 52,000) 100 parts triacetoxymethylsilane 10 parts dibutyltin laurate
0.8 parts Isopar G (manufactured by Esso Chemical)
900 parts Next, a positive film was vacuum-adhered onto the silicone rubber layer, and then exposed to light using a metal halide lamp as a light source.
このようして得られた露光済版材料を東し社製の水なし
平版用現像液HP−7Nを用いてバットで版面をこする
ことにより現像すると、画像部のシリコーンゴム層が除
去された。When the exposed plate material thus obtained was developed by rubbing the plate surface with a vat using Toshisha's waterless lithographic developer HP-7N, the silicone rubber layer in the image area was removed. .
この版材料を水洗した後、下記の処理液中に30秒間浸
漬した。液温は25℃であフた。After washing this plate material with water, it was immersed in the following treatment solution for 30 seconds. The liquid temperature was 25°C.
[処理液]
水
100部プロピレングリコールモノフェニルエーテル
2部
シュウ酸 10部ポリオキ
シエチレンラウリルエーテル(ノニオン界面活性剤)0
.5部
ドデシルベンゼンスルポン酸ナトリウム(アニオン界面
活性剤) 1部エチレンジアミ
ン四酢酸4ナトリウム
0.05部
上記処理によフて得られた画像部の色は、青色に発色し
、良好な可視画像が得られた。[Processing liquid] Water
100 parts Propylene glycol monophenyl ether 2 parts Oxalic acid 10 parts Polyoxyethylene lauryl ether (nonionic surfactant) 0
.. 5 parts Sodium dodecylbenzenesulfonate (anionic surfactant) 1 part Tetrasodium ethylenediaminetetraacetate 0.05 parts The color of the image area obtained by the above treatment is blue, and a good visible image is obtained. Obtained.
実施例2
通常の方法で脱脂したスムーズアルミ板上に下記の組成
のブライマー層を、硬化後の膜厚が15μmになるよう
に塗布し乾燥した後、高圧水銀ランプ(出力aow/c
m)を用いて露光し硬化させた。なお、部は重量部を表
す。以下同様である。Example 2 A brimer layer with the following composition was coated on a smooth aluminum plate degreased in a conventional manner so that the film thickness after curing was 15 μm, and after drying,
m) was used to expose and cure. Note that parts represent parts by weight. The same applies below.
[プライマー層組成物コ
2−ヒドロキシエヂルメタクリレート、メタクリル酸メ
チルのモル比が40
/60の共重合体 100部トリメヂ
ロールプロパントリエトキシ
トリアクリレート 80部2.4
−ジエチルチオキサントン 4部p−ジメヂル
アミノ安息香酸エチル
エステル 4部クリス
タルバイオレットラクトン 50部黄色顔料(M
ET−YELLOW402、大日木インキ化学社製)
8黄白色顔料(酸化亜鉛、FTN
EX−25、堺化学社製)
25部ブロビレングリコールモノメヂル
エーテル 600部次に上記ブ
ライマー層上に下記の組成の感光性組成物を塗布し、1
00℃で2分間乾燥して厚さ0.5 μmの感光層を形
成した。[Primer layer composition copolymer of co-2-hydroxyedyl methacrylate and methyl methacrylate in a molar ratio of 40/60 100 parts trimedylolpropane triethoxy triacrylate 80 parts 2.4
-Diethylthioxanthone 4 parts p-dimedylaminobenzoic acid ethyl ester 4 parts Crystal violet lactone 50 parts Yellow pigment (M
ET-YELLOW402, manufactured by Dainichi Ink Chemical Co., Ltd.)
8 Yellow-white pigment (zinc oxide, FTN
EX-25, manufactured by Sakai Chemical Co.)
25 parts brobylene glycol monomethyl ether 600 parts Next, a photosensitive composition having the following composition was coated on the above-mentioned brimer layer, and 1
It was dried at 00° C. for 2 minutes to form a photosensitive layer with a thickness of 0.5 μm.
(感光性組成物)
ジアゾ樹脂−140部
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、アクリル酸のモル
比50/47/3の共重合体50部
ビクトリアピュアブルーBOH(採土ケ谷化学(株)製
、染料) 1部メチルセロソルブ
900部ジアゾ樹脂−1の合成
なお、ジアゾ樹脂−1は、以下のようにして合成した。(Photosensitive composition) Diazo resin - 140 parts 2-hydroxyethyl methacrylate, N-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, acrylic acid in a molar ratio of 50/47/3 copolymer 50 parts (manufactured by Tsuchigaya Kagaku Co., Ltd., dye) 1 part methyl cellosolve 900 parts Synthesis of diazo resin-1 Diazo resin-1 was synthesized as follows.
p−ジアゾジフェニルアミン硫酸塩14.5g (50
ミリモル)を水冷下で40.9g(7)濃硫酸に溶解し
た。この反応液に1.+sg(4sミリモル)のバラホ
ルムアルデヒドを反応温度が10℃を超えないようにゆ
っくり添加した。p-diazodiphenylamine sulfate 14.5g (50
mmol) was dissolved in 40.9 g (7) of concentrated sulfuric acid under water cooling. Add 1. +sg (4s mmol) of rose formaldehyde was added slowly so that the reaction temperature did not exceed 10°C.
この反応混合物を水冷下、500mA+のエタノールに
滴下し、生じた沈殿を濾過した。エタノールで洗浄後、
この沈殿物を100nbl!の純水に溶解し、この液に
6.8gの塩化亜鉛を溶解した冷濃厚水溶液を加えた。This reaction mixture was added dropwise to 500 mA+ ethanol under water cooling, and the resulting precipitate was filtered. After washing with ethanol,
100nbl of this precipitate! of pure water, and to this solution was added a cold concentrated aqueous solution containing 6.8 g of zinc chloride.
生じた沈殿を濾過した後、エタノールで洗浄し、これを
150mjZの純水に溶解した。この液に8gのへキサ
フルオロリン酸アンモニウムを溶解した冷濃厚水溶液を
加えた。生じた沈殿を濾取し水洗した後、乾燥してジア
ゾ樹脂−1を得た。The resulting precipitate was filtered, washed with ethanol, and dissolved in 150 mjZ pure water. To this liquid was added a cold concentrated aqueous solution in which 8 g of ammonium hexafluorophosphate was dissolved. The resulting precipitate was collected by filtration, washed with water, and then dried to obtain diazo resin-1.
次いで上記感光層上に下記シリコーンゴム組成物を乾燥
重量で2.0g/m2になるように塗布し、90℃で1
0分間乾燥し、水なし平版印刷版を得た。Next, the following silicone rubber composition was coated on the photosensitive layer at a dry weight of 2.0 g/m2 and heated at 90°C for 1
After drying for 0 minutes, a waterless lithographic printing plate was obtained.
[シリコーンゴム層組成物]
両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(分子
量52,000) 、 100部トリ
アセトキシメチルシラン 10部ジプチル錫ラ
ウレート 0.8部アイソパーG(エッ
ソ化学製) 900部次に、上記シリコーンゴム
層上にポジフィルムを真空密着させた後、光源としてメ
タルハライドランプを用いて露光した。[Silicone rubber layer composition] Dimethylpolysiloxane having hydroxyl groups at both ends (molecular weight 52,000), 100 parts triacetoxymethylsilane 10 parts diptyltin laurate 0.8 parts Isopar G (manufactured by Esso Chemical) 900 parts Next, After a positive film was vacuum-adhered onto the silicone rubber layer, it was exposed to light using a metal halide lamp as a light source.
次に第1図に示す現像液5及び後処理液6を有する処理
装置を用いて現像及び後処理を行った。Next, development and post-processing were performed using a processing apparatus having a developer solution 5 and a post-processing solution 6 shown in FIG.
現像部のブラシロール12、13の外径はそれぞれ80
mm、100mm、またブラシ毛の径はそれぞれ太さ9
4H 、 0.15Il1m,毛足の長さはいづれも1
5mmとした。またブラシ毛にはナイロン6・12を使
用した。ブラシロール12、13の回転周速・は、いづ
れも1 2 0 m/minとなるように回転数を調整
して処理した。このとぎ現像時間は60秒、後処理時間
は20秒とした。The outer diameter of the brush rolls 12 and 13 in the developing section is 80 mm each.
mm, 100mm, and the diameter of the brush bristles is 9.
4H, 0.15Il1m, hair length is 1
It was set to 5 mm. Also, nylon 6/12 was used for the brush bristles. The rotational speed of the brush rolls 12 and 13 was adjusted so that both of them were 120 m/min. This sharpening development time was 60 seconds, and the post-processing time was 20 seconds.
現像液5は、コニカ社製ポジps版用現像液SDR−1
を水で6倍に稀釈したものを27℃に温調して使用した
。The developer 5 is a positive PS plate developer SDR-1 manufactured by Konica Corporation.
was diluted 6 times with water and used at 27°C.
後処理液には、以下の組成の液を30℃に温調して用い
た。As the post-treatment liquid, a liquid having the following composition was used after adjusting the temperature to 30°C.
[後処理液]
水
1 0 0部ベンジルアルコール
4部ポリオキシエチレンラウリルエーテル(ノニオン
界面活性剤)1,5部
ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム(アニオン界面
活性剤) 1部クエン酸
10部クエン酸カリウム
10部エチレンジアミン四酢酸4ナトリ
ウム
0、05部
現像後、後処理液で!A理することにより、画像部のプ
ライマー層が青色に発色した可視画性の良好な印刷版が
得られた。[Post-treatment liquid] Water
100 parts benzyl alcohol
4 parts polyoxyethylene lauryl ether (nonionic surfactant) 1.5 parts sodium dodecylbenzenesulfonate (anionic surfactant) 1 part citric acid
10 parts potassium citrate
10 parts ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium 0.05 parts After development, use post-processing solution! By processing A, a printing plate with good visible image quality in which the primer layer in the image area was colored blue was obtained.
前会版1000版を処理に際し、現像液を1版当り5c
cずつ、また後処理液を1版当り5cc補充しながら連
続lA理した結果、いづれも良好な印刷版を得ることが
できた。When processing the 1000th edition of the previous edition, use 5c of developer per plate.
As a result of continuous 1A processing while replenishing 5 cc of post-treatment liquid per plate, good printing plates were obtained in all cases.
実施例3
実施例2のブライマー層上に次の組成の感光性組成物を
塗布し、100℃で2分間乾燥して0.5μmの感光層
を形成した。Example 3 A photosensitive composition having the following composition was applied onto the brimer layer of Example 2 and dried at 100° C. for 2 minutes to form a 0.5 μm thick photosensitive layer.
[感光性組成物]
メタクリル酸メヂルとN、N−ジメヂルアミノエヂルメ
タクリレートのモル比50150の共重合体
10部ペンタエリスリトールトリ
アクリレート4部
ニスレックスW−201(セキスイプラスチックス(株
)製、水溶性ポリビニルアセタール樹脂)
、3部2.4−ジエチルチオキサント
ン 0.4部p−ジメヂルアミノ安息香酸エチル
エステル0.4部
CH2−CH3i (011:H2C1hO011:I
I+) 2 0 、3部水
200部メタ
ノール 100部クリスタルバ
イオレットラクトン 5部次いで上記感光層上に
下記シリコーンゴム組成物を乾燥重量で2.[1g/m
2になるように塗布し、90℃で10分間乾燥し、水な
し平版印刷版を得た。[Photosensitive composition] Copolymer of medyl methacrylate and N,N-dimedylaminoedyl methacrylate in a molar ratio of 50150
10 parts Pentaerythritol triacrylate 4 parts Nisrex W-201 (manufactured by Sekisui Plastics Co., Ltd., water-soluble polyvinyl acetal resin)
, 3 parts 2.4-diethylthioxanthone 0.4 part p-dimedylaminobenzoic acid ethyl ester 0.4 part CH2-CH3i (011:H2C1hO011:I
I+) 20, 3 parts water
200 parts methanol 100 parts crystal violet lactone 5 parts Next, 2.0 parts of the following silicone rubber composition was applied on the photosensitive layer by dry weight. [1g/m
2 and dried at 90° C. for 10 minutes to obtain a waterless lithographic printing plate.
[シリコーンゴム層組成物]
両末端に水酸基を有するジメチルポリシロキサン(分子
量52,000) 100部トリアセ
トキシメチルシラン 10部ジブチル錫ラウレ
ート 0.8部アイソパーG(エッソ化
学製) 900部次に、上記シリコーンゴム層上
にポジフィルムを真空密着させた後、光源としてメタル
ハライドランプを用いて露光した。[Silicone rubber layer composition] Dimethylpolysiloxane having hydroxyl groups at both ends (molecular weight 52,000) 100 parts Triacetoxymethylsilane 10 parts Dibutyltin laurate 0.8 parts Isopar G (manufactured by Esso Chemical) 900 parts Next, the above After a positive film was vacuum-adhered onto the silicone rubber layer, it was exposed to light using a metal halide lamp as a light source.
このようにして得られた露光済版材料を現像液として実
施例2の後処理液を用い、現像lA理後、水で処理する
以外は、実施例2と同様にIA理を行った。The thus obtained exposed plate material was subjected to IA treatment in the same manner as in Example 2, except that the post-treatment solution of Example 2 was used as the developer and the treatment was performed with water after the development IA treatment.
得られた版材料は、画像部のブライマー層が青色に発色
した可視画性の良好な印刷版であった。The obtained plate material was a printing plate with good visible image quality in which the brimer layer in the image area was colored blue.
実施例4
実施例2で作製された水なし平版印刷版と実施例2で用
いた現像液を使用し、第2図に示される自動現像機の後
処理部Cにクエン酸のかわりに没食子酸10部を用いた
以外は、実施例2で使用し5 ま
たものと同じ処理液を入れ、30℃に温調した後、処理
を行った。Example 4 Using the waterless lithographic printing plate prepared in Example 2 and the developer used in Example 2, gallic acid was added in place of citric acid to the post-processing section C of the automatic processor shown in FIG. The same treatment solution used in Example 2 was added, except that 10 parts was used, and the treatment was carried out after controlling the temperature to 30°C.
即ち、前記自動現像機は、現像工程A、第1水洗工程B
、後処理工程C1第2水洗工程を有するものからなり、
現像工程Aはロール3で送られてぎな平版印刷版1をト
レイ41上で現像液シャワー51により現像液をかけら
れ、その後ブラシワール21〜23でこすられて現像さ
れる。That is, the automatic developing machine has a developing process A, a first water washing process B,
, a post-treatment step C1 comprising a second water washing step,
In the developing step A, the planographic printing plate 1 that is fed by the roll 3 is sprayed with a developer by a developer shower 51 on a tray 41, and then rubbed with brush swirls 21 to 23 to be developed.
続いて第1水洗工程Bにより、ブラシロール24でこす
られながら水洗される。水洗後、印刷版は後処理工程C
においてシャワー53で処理液をかけられ発色する。最
後に水洗されて画像部が可視画化された良好な印刷版が
得られた。Subsequently, in a first water washing step B, the material is washed with water while being rubbed with a brush roll 24. After washing with water, the printing plate undergoes post-processing step C.
In the shower 53, a treatment liquid is applied to develop color. Finally, the plate was washed with water to obtain a good printing plate in which the image area was visualized.
[発明の効果]
本発明は、水なし平版印刷版のインキ着肉層にロイコ色
素を含有させ、この版材料を酸又はフェノール性化合物
を含む処理液で処理することにより、染色液による染色
工程が不要となり、その結果子や衣服の汚れがないばか
りか汚れに気を使うという煩わしさがなく作業環境が良
くなるという優れた効果を有する。[Effects of the Invention] The present invention includes a leuco dye in the inked layer of a waterless lithographic printing plate, and processes this plate material with a treatment solution containing an acid or a phenolic compound, thereby reducing the dyeing process using the dyeing solution. As a result, there is no need to worry about stains on children or clothes, and there is no need to worry about stains, resulting in an excellent working environment.
第1図は、本発明に用いられる現像部及び処理液部を有
する処理装置を示す断面図である。
第2図は、本発明に用いられる現像部及び処理液部を有
する他の自動処理装置を示す断面図である。
符号の説明
1・・平版印刷版の通路又は平版印刷版12.13.2
1.22.23.24・・ブラシロール
3・・ローラー 31・・串ロール41・・トレイ
4.51・・現像液シャワー42・・案内板
52.54.55・・水洗水シャワー
8.53・・処理液シャワー
5 ・ ・ 現イ象4曹 6 ・ ・
%%里ン夜槽61.62.63・・フィルター
64・・水洗槽 65・・網状フィルター7・・ポン
プ 9・・温度センサー・ヒーター
・・温調ユニット
・現像工程
・処理工程
・第1水洗工程
・第2水洗工程FIG. 1 is a sectional view showing a processing apparatus having a developing section and a processing liquid section used in the present invention. FIG. 2 is a sectional view showing another automatic processing apparatus having a developing section and a processing liquid section used in the present invention. Explanation of symbols 1: Passage of lithographic printing plate or lithographic printing plate 12.13.2
1.22.23.24...Brush roll 3...Roller 31...Skewer roll 41...Tray 4.51...Developer shower 42...Guide plate 52.54.55...Wash water shower 8.53・Processing liquid shower 5 ・ ・ Phenomenon 4 So 6 ・ ・
%%Rin night tank 61.62.63... Filter 64... Washing tank 65... Reticulated filter 7... Pump 9... Temperature sensor, heater, temperature control unit, developing process, processing process, 1st washing Process/Second washing process
Claims (1)
ゴム層である水なし平版印刷版を画像露光した後、画像
部のインキ着肉層を露出させる工程または該工程以後の
工程において、酸又はフェノール性化合物を含む処理液
で前記露光済印刷版を処理することを特徴とする水なし
平版印刷版の処理方法。After imagewise exposing a waterless lithographic printing plate whose inked layer contains a leuco dye and whose top layer is a silicone rubber layer, an acid or A method for processing a waterless lithographic printing plate, comprising processing the exposed printing plate with a processing liquid containing a phenolic compound.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21581790A JPH0498262A (en) | 1990-08-17 | 1990-08-17 | Processing method for waterless planographic printing plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP21581790A JPH0498262A (en) | 1990-08-17 | 1990-08-17 | Processing method for waterless planographic printing plate |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2537091A Division JPH04226465A (en) | 1991-01-24 | 1991-01-24 | Device for processing waterless planographic printing plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0498262A true JPH0498262A (en) | 1992-03-30 |
Family
ID=16678751
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP21581790A Pending JPH0498262A (en) | 1990-08-17 | 1990-08-17 | Processing method for waterless planographic printing plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0498262A (en) |
-
1990
- 1990-08-17 JP JP21581790A patent/JPH0498262A/en active Pending
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