JPH0462951A - ウエハ移し換え装置 - Google Patents
ウエハ移し換え装置Info
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- JPH0462951A JPH0462951A JP17409090A JP17409090A JPH0462951A JP H0462951 A JPH0462951 A JP H0462951A JP 17409090 A JP17409090 A JP 17409090A JP 17409090 A JP17409090 A JP 17409090A JP H0462951 A JPH0462951 A JP H0462951A
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- JP
- Japan
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- wafer
- carrier
- transfer arm
- wafer carrier
- sensor
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- 238000001514 detection method Methods 0.000 claims abstract description 11
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 claims abstract description 5
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 claims description 106
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 9
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〈産業上の利用分野〉
本発明はウェハ移し換え装置に係わり、特に、ウェハキ
ャリア内に収納されている半導体ウェハを一枚ずつ取り
出して他の場所に移し換える装置に用いて好適なもので
ある。
ャリア内に収納されている半導体ウェハを一枚ずつ取り
出して他の場所に移し換える装置に用いて好適なもので
ある。
〈従来の技術〉
周知の通り、半導体装置を製造する場合には、半導体ウ
ェハ(以下単にウェハとする)をウェハキャリア内に入
れて各製造装置間や各製造ライン間を搬送するようにし
ている。そして、上記ウェハキャリアを所定の位置まで
搬送したら、上記ウェハをウェハキャリア内から一枚ず
つ取り出して他の場所に移し換えて次の処理を行うよう
にしている。
ェハ(以下単にウェハとする)をウェハキャリア内に入
れて各製造装置間や各製造ライン間を搬送するようにし
ている。そして、上記ウェハキャリアを所定の位置まで
搬送したら、上記ウェハをウェハキャリア内から一枚ず
つ取り出して他の場所に移し換えて次の処理を行うよう
にしている。
第4図は、従来のウェハ移し換え装置における搬送アー
ムの構成を示す斜視図である。
ムの構成を示す斜視図である。
第4図から明らかなように、この搬送アーム1は略十字
形状に形成され、ウェハ(図示せず)と当接してこれを
支持する支持部2がそれぞれのアーム片1aの先端部に
設けられている。また、搬送アーム1の中心位置にバキ
ューム用開口部3が設けられていて、図示しない真空装
置が動作して上記バキューム用開口部3がら空気が吸引
されるように構成されている。したがって、上記搬送ア
ーム1がウェハキャリア内に差し込まれ、上記バキュー
ム用開口部3がウェハに対向している状態で上記真空装
置が動作すると、上記バキューム用開口部3にウェハが
吸着される。このようにして、ウェハを搬送アーム1上
に吸着したら、上記搬送アーム1をウェハキャリアから
引き出し、そこに吸着しているウェハを所定の位置に移
し換える。
形状に形成され、ウェハ(図示せず)と当接してこれを
支持する支持部2がそれぞれのアーム片1aの先端部に
設けられている。また、搬送アーム1の中心位置にバキ
ューム用開口部3が設けられていて、図示しない真空装
置が動作して上記バキューム用開口部3がら空気が吸引
されるように構成されている。したがって、上記搬送ア
ーム1がウェハキャリア内に差し込まれ、上記バキュー
ム用開口部3がウェハに対向している状態で上記真空装
置が動作すると、上記バキューム用開口部3にウェハが
吸着される。このようにして、ウェハを搬送アーム1上
に吸着したら、上記搬送アーム1をウェハキャリアから
引き出し、そこに吸着しているウェハを所定の位置に移
し換える。
そして、−枚目のウェハの移し換えが終わったら、第5
図の移送状態を説明するための斜視図において矢印で示
すように、ウェハキャリア5が載置されているキャリア
エレベータ4をウェハ6が収納されているピッチに対応
する距離だけ上動または下動させる。これにより、上記
搬送アーム1が二枚口のウェハ6のすぐ真下に移動して
上記真空装置による吸着が可能になるので、上記二枚口
のウェハ6を上記搬送アーム1上に真空吸着させてウェ
ハキャリア5から引き出し、所定の位置に移し換える。
図の移送状態を説明するための斜視図において矢印で示
すように、ウェハキャリア5が載置されているキャリア
エレベータ4をウェハ6が収納されているピッチに対応
する距離だけ上動または下動させる。これにより、上記
搬送アーム1が二枚口のウェハ6のすぐ真下に移動して
上記真空装置による吸着が可能になるので、上記二枚口
のウェハ6を上記搬送アーム1上に真空吸着させてウェ
ハキャリア5から引き出し、所定の位置に移し換える。
このような動作を繰り返し行うことにより上記ウェハキ
ャリア5内に収納されているウェハ6を所定の位置に移
し換えるようにしている。
ャリア5内に収納されているウェハ6を所定の位置に移
し換えるようにしている。
〈発明が解決しようとする課題〉
しかしながら、上記の従来の装置の場合には、上記キャ
リアエレベータ4を予め設定しである一定のピッチで上
下動させているので、上記ウェハ6を上記搬送アーム1
に必ずしも真空吸着させることが出来ないことがある。
リアエレベータ4を予め設定しである一定のピッチで上
下動させているので、上記ウェハ6を上記搬送アーム1
に必ずしも真空吸着させることが出来ないことがある。
すなわち、例えば上記ウェハキャリア5が歪んでいると
、上記ウェハキャリア5内に収納されている各ウェハ6
は上記キャリアエレベータ4に対して平行に載置されな
くなる。このため、この場合には当然のことながら、上
記ウェハ6と上記搬送アーム1とは所定の間隔で平行に
対向しなくなるので、上記真空吸引によって上記エバ6
を上記搬送アーム1上に吸着することが出来なくなる不
都合が生じる。この結果、従来はウェハキャリア5が歪
んでいると、ウェハ6を搬送アームlによりウェハキャ
リア5から引き出して所定の位置に移し換えることが出
来なかった。
、上記ウェハキャリア5内に収納されている各ウェハ6
は上記キャリアエレベータ4に対して平行に載置されな
くなる。このため、この場合には当然のことながら、上
記ウェハ6と上記搬送アーム1とは所定の間隔で平行に
対向しなくなるので、上記真空吸引によって上記エバ6
を上記搬送アーム1上に吸着することが出来なくなる不
都合が生じる。この結果、従来はウェハキャリア5が歪
んでいると、ウェハ6を搬送アームlによりウェハキャ
リア5から引き出して所定の位置に移し換えることが出
来なかった。
本発明は上述の問題点に鑑み、ウェハキャリアが歪んで
いるためにその内部に収納されているウェハがキャリア
エレベータの上面に対して平行に載置されていなくても
、上記ウェハと搬送アームとを所定の間隔を存して平行
に対向させることが出来るようにすることを目的とする
。
いるためにその内部に収納されているウェハがキャリア
エレベータの上面に対して平行に載置されていなくても
、上記ウェハと搬送アームとを所定の間隔を存して平行
に対向させることが出来るようにすることを目的とする
。
〈課題を解決するための手段〉
本発明のウェハ移し換え装置は、ウェハキャリア内に収
納されているウェハを一枚ずつ取り出して他の場所に移
し換えるウェハ移し換え装置において、上記ウェハを取
り出すために上記ウェハキャリア内に進入する搬送アー
ムと、上記ウェハと上記搬送アームとの平行状態を検出
するために、少なくとも上記搬送アーム上の三箇所に取
り付けられた平行検出用センサと、上記ウェハキャリア
を下方から三点支持するために上記ウェハキャリアが載
置される移し換え装置本体内の三箇所に設けられ、上記
ウェハキャリアを支持する高さを各点において調整する
平行調整機構とを具備している。
納されているウェハを一枚ずつ取り出して他の場所に移
し換えるウェハ移し換え装置において、上記ウェハを取
り出すために上記ウェハキャリア内に進入する搬送アー
ムと、上記ウェハと上記搬送アームとの平行状態を検出
するために、少なくとも上記搬送アーム上の三箇所に取
り付けられた平行検出用センサと、上記ウェハキャリア
を下方から三点支持するために上記ウェハキャリアが載
置される移し換え装置本体内の三箇所に設けられ、上記
ウェハキャリアを支持する高さを各点において調整する
平行調整機構とを具備している。
〈作用〉
ウェハキャリア内に収納されている各ウェハに搬送アー
ムを接近させる際には、上記搬送アーム上に設けられた
センサの出力に基づいて平行調整機構を動作させ、上記
ウェハと上記搬送アームとを所定間隔で平行に対向させ
る。これにより、上記ウェハキャリアが歪んでいること
等により、上記ウェハがキャリアエレベータ上に平行に
載置されていない場合でも、上記搬送アームに設けられ
ているバキューム用開口部と上記ウェハとを、予め設定
した所定の相対位置にして対向させることが可能となる
。
ムを接近させる際には、上記搬送アーム上に設けられた
センサの出力に基づいて平行調整機構を動作させ、上記
ウェハと上記搬送アームとを所定間隔で平行に対向させ
る。これにより、上記ウェハキャリアが歪んでいること
等により、上記ウェハがキャリアエレベータ上に平行に
載置されていない場合でも、上記搬送アームに設けられ
ているバキューム用開口部と上記ウェハとを、予め設定
した所定の相対位置にして対向させることが可能となる
。
〈実施例〉
第1図は、本発明のウェハ移し換え装置の一実施例を示
す搬送アーム1の斜視図、第2図はキャリアエレベータ
4の斜視図である。
す搬送アーム1の斜視図、第2図はキャリアエレベータ
4の斜視図である。
第1図から明らかなように、実施例のウェハ移し換え装
置は、搬送アーム1に設けられている三箇所の支持部2
のそれぞれに、第1〜第3のセンサ8a、8b、8cが
それぞれ配設されている。
置は、搬送アーム1に設けられている三箇所の支持部2
のそれぞれに、第1〜第3のセンサ8a、8b、8cが
それぞれ配設されている。
これらのセンサ8a〜8cは、ウェハキャリア5内に収
納されているウェハ6に搬送アーム1を接近させたとき
に、各支持部2とウェハ6との間隔を検出するために配
設されているもので、搬送アーム1とウェハ6とを所定
の間隔で平行に対向させることを可能にするものである
。このような目的で用いられる平行度センサ8a〜8c
としては、例えば赤外線を検出光として使用する反射型
光センサを用いることが出来る。
納されているウェハ6に搬送アーム1を接近させたとき
に、各支持部2とウェハ6との間隔を検出するために配
設されているもので、搬送アーム1とウェハ6とを所定
の間隔で平行に対向させることを可能にするものである
。このような目的で用いられる平行度センサ8a〜8c
としては、例えば赤外線を検出光として使用する反射型
光センサを用いることが出来る。
一方、第2図に示すように、キャリアエレベータ4の上
面4aの三箇所に設けられているガイド9のすぐ内側に
支持ピン10を突出させている。
面4aの三箇所に設けられているガイド9のすぐ内側に
支持ピン10を突出させている。
これらの支持ピン10はキャリアエレベータ4を支持す
るために設けられているもので、各支持ピン10はキャ
リアエレベータ4の内部を説明するための第3図に示す
ように、第1〜第3の微調整用モータlla、llb、
llcの動作により図中上下方向に移動するようになさ
れている。
るために設けられているもので、各支持ピン10はキャ
リアエレベータ4の内部を説明するための第3図に示す
ように、第1〜第3の微調整用モータlla、llb、
llcの動作により図中上下方向に移動するようになさ
れている。
そして、本実施例では、第1のセンサ8aの検出出力で
第1の微調整用モータllaの動作を制御するとともに
、第2のセンサ8bの出力で第2の微調整用モータll
bの動作を制御する。また、第3のセンサ8cの検出出
力で第3の微調整用モータllcの動作を制御し、ウェ
ハキャリア5内に収納されているウェハ6の平行状態を
微調整するようにしている。
第1の微調整用モータllaの動作を制御するとともに
、第2のセンサ8bの出力で第2の微調整用モータll
bの動作を制御する。また、第3のセンサ8cの検出出
力で第3の微調整用モータllcの動作を制御し、ウェ
ハキャリア5内に収納されているウェハ6の平行状態を
微調整するようにしている。
次に、このように構成された実施例のウェハ移し換え装
置の動作を説明する。
置の動作を説明する。
ウェハ6が収納されたウェハキャリア5がキャリアエレ
ベータ4上に載置されると粗調整用モータ12が動作し
、例えばキャリアエレベータ4を下動させる。この下動
は、ウェハキャリア5内に挿入されている搬送アーム1
上に設けられているセンサ8a〜8cのいずれか一つが
、ウェハ6に対して所定の距離に接近するまで行われる
。
ベータ4上に載置されると粗調整用モータ12が動作し
、例えばキャリアエレベータ4を下動させる。この下動
は、ウェハキャリア5内に挿入されている搬送アーム1
上に設けられているセンサ8a〜8cのいずれか一つが
、ウェハ6に対して所定の距離に接近するまで行われる
。
そして、成るセンサ、すなわち成る支持部2とウェハ6
とが所定の距離まで接近すると、そのセンサから接近検
出出力が導出される。この接近検出出力が図示しないコ
ントローラに与えられと、コントローラの制御により粗
調整用モータ12の動作が停止される。
とが所定の距離まで接近すると、そのセンサから接近検
出出力が導出される。この接近検出出力が図示しないコ
ントローラに与えられと、コントローラの制御により粗
調整用モータ12の動作が停止される。
粗調整用モータ12の動作が停止されると、次に、微調
整用モータlla、llb、llcの内、未だウェハ6
に対して所定の位置まで接近していないセンサに対応す
る微調整用モータが動作する。
整用モータlla、llb、llcの内、未だウェハ6
に対して所定の位置まで接近していないセンサに対応す
る微調整用モータが動作する。
すなわち、例えば第1のセンサ8aがウェハ6に対して
所定の距離まで接近していて、第2および第3のセンサ
8b、8cが未だウェハ6に対して所定の距離まで接近
していないとする。この場合、第2および第3のセンサ
8b、8cに対応する第2の微調整用モータllbおよ
び第3の微調整用モータllcが動作し、これらのモー
タ8b。
所定の距離まで接近していて、第2および第3のセンサ
8b、8cが未だウェハ6に対して所定の距離まで接近
していないとする。この場合、第2および第3のセンサ
8b、8cに対応する第2の微調整用モータllbおよ
び第3の微調整用モータllcが動作し、これらのモー
タ8b。
8cに対応する支持ピン1oを下方に下げる。これによ
り、ウェハキャリア5の支持状態が変わり、第2および
第3のセンサ8b、8cとウェハ6とが近づく。そして
、これらの間隔が所定の距離まで接近すると、各センサ
8b、8cがら接近検出出力が導出され、それに対応す
る微調整用モータ11b、llcの動作が停止する。
り、ウェハキャリア5の支持状態が変わり、第2および
第3のセンサ8b、8cとウェハ6とが近づく。そして
、これらの間隔が所定の距離まで接近すると、各センサ
8b、8cがら接近検出出力が導出され、それに対応す
る微調整用モータ11b、llcの動作が停止する。
このようにして微調整が行われることにより、搬送アー
ム1上の三点がウェハ6に対して所定の距離になると、
ウェハ6と搬送アーム1とが予め設定されている距離を
開けて平行に対向する。次に、真空装置を動作させてバ
キューム用開口部3から吸引を開始し、ウェハ6を搬送
アーム1上に吸着する。この場合、搬送アームlをウェ
ハ6に対して所定の間隔で平行に対向させているので、
ウェハ6を容易にかつ確実に搬送アーム1上に吸着させ
ることができる。したがって、実施例のウェハ移し換え
装置によれば、例えばウェハキャリア5が歪んでいるた
めにウェハ6がキャリアエレベータ4上に平行に載置さ
れていない場合でも、ウェハ6と搬送アーム1とを所定
の距離で平行に対向させることが出来る。このため、移
し換えするウェハ6が収納されているウェハキャリア5
が歪んでいても安定した真空吸着を行うことが出来、ウ
ェハキャリア5の歪みによる不都合を確実に防止するこ
とが出来る。
ム1上の三点がウェハ6に対して所定の距離になると、
ウェハ6と搬送アーム1とが予め設定されている距離を
開けて平行に対向する。次に、真空装置を動作させてバ
キューム用開口部3から吸引を開始し、ウェハ6を搬送
アーム1上に吸着する。この場合、搬送アームlをウェ
ハ6に対して所定の間隔で平行に対向させているので、
ウェハ6を容易にかつ確実に搬送アーム1上に吸着させ
ることができる。したがって、実施例のウェハ移し換え
装置によれば、例えばウェハキャリア5が歪んでいるた
めにウェハ6がキャリアエレベータ4上に平行に載置さ
れていない場合でも、ウェハ6と搬送アーム1とを所定
の距離で平行に対向させることが出来る。このため、移
し換えするウェハ6が収納されているウェハキャリア5
が歪んでいても安定した真空吸着を行うことが出来、ウ
ェハキャリア5の歪みによる不都合を確実に防止するこ
とが出来る。
〈発明の効果〉
本発明は上述したように、搬送アーム上の三箇所に接近
検出センサを設け、上記搬送アームをウェハキャリア内
に収納されている各ウェハに接近させる際には、上記セ
ンサの出力に基づいて平行調整機構を動作させ、上記ウ
ェハと上記搬送アームとを所定間隔で平行に対向させる
ようにしたので、上記ウェハキャリアが歪んでいること
等により、その内部に収納されているウェハがキャリア
エレベータ上に平行に載置されない場合でも、上記搬送
アームに設けられているバキューム用開口部と上記ウェ
ハとの相対位置が、予め設定したある所定の相対位置と
なるようにすることが出来る。
検出センサを設け、上記搬送アームをウェハキャリア内
に収納されている各ウェハに接近させる際には、上記セ
ンサの出力に基づいて平行調整機構を動作させ、上記ウ
ェハと上記搬送アームとを所定間隔で平行に対向させる
ようにしたので、上記ウェハキャリアが歪んでいること
等により、その内部に収納されているウェハがキャリア
エレベータ上に平行に載置されない場合でも、上記搬送
アームに設けられているバキューム用開口部と上記ウェ
ハとの相対位置が、予め設定したある所定の相対位置と
なるようにすることが出来る。
したがって、ウェハキャリアが歪んでいる場合でも、そ
の内部に収納されているウェハを上記搬送アーム上に確
実に吸着させることが出来、ウェハの移し換え動作を安
定化させることが出来る。
の内部に収納されているウェハを上記搬送アーム上に確
実に吸着させることが出来、ウェハの移し換え動作を安
定化させることが出来る。
第1図は、本発明の装置実施例を示す搬送アームの斜視
図、 第2図は、キャリアエレベータの斜視図、第3図は、キ
ャリアエレベータの内部説明図、第4図は、従来技術を
示す搬送アームの斜視図、第5図は、従来のウェハ移し
換え装置の主要部の構成を示す斜視図である。 1・・・搬送アーム、 2・・・支持部。 3・・・バキューム用開口部。 4・・・キャリアエレベータ。 5・・・ウェハキャリア。 6・・・ウェハ。 8a〜8c・・・平行度検出用センサ 10・・・支持ビン。 11a〜llc・・・微調整用モータ。 特許出願人 沖電気工業株式会社
図、 第2図は、キャリアエレベータの斜視図、第3図は、キ
ャリアエレベータの内部説明図、第4図は、従来技術を
示す搬送アームの斜視図、第5図は、従来のウェハ移し
換え装置の主要部の構成を示す斜視図である。 1・・・搬送アーム、 2・・・支持部。 3・・・バキューム用開口部。 4・・・キャリアエレベータ。 5・・・ウェハキャリア。 6・・・ウェハ。 8a〜8c・・・平行度検出用センサ 10・・・支持ビン。 11a〜llc・・・微調整用モータ。 特許出願人 沖電気工業株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ウェハキャリア内に収納されているウェハを一枚ずつ
取り出して他の場所に移し換えるウェハ移し換え装置に
おいて、 上記ウェハを取り出すために上記ウェハキャリア内に進
入する搬送アームと、 上記ウェハと上記搬送アームとの平行状態を検出するた
めに、少なくとも上記搬送アーム上の三箇所に取り付け
られた平行検出用センサと、上記ウェハキャリアを下方
から三点支持するために上記ウェハキャリアが載置され
る移し換え装置本体内の三箇所に設けられ、上記ウェハ
キャリアを支持する高さを各点において調整する平行度
調整機構とを具備することを特徴とするウェハ移し換え
装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17409090A JP2884522B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | ウエハ移し換え装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP17409090A JP2884522B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | ウエハ移し換え装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0462951A true JPH0462951A (ja) | 1992-02-27 |
JP2884522B2 JP2884522B2 (ja) | 1999-04-19 |
Family
ID=15972479
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP17409090A Expired - Lifetime JP2884522B2 (ja) | 1990-06-29 | 1990-06-29 | ウエハ移し換え装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2884522B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07321176A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-08 | Hitachi Ltd | 基板搬送方法 |
US5885054A (en) * | 1996-01-31 | 1999-03-23 | Komatsu Electronics Metals Co. Ltd. | Carrying device for semiconductor wafers |
US6123502A (en) * | 1997-07-08 | 2000-09-26 | Brooks Automation, Inc. | Substrate holder having vacuum holding and gravity holding |
US6183026B1 (en) * | 1999-04-07 | 2001-02-06 | Gasonics International Corporation | End effector |
EP1116099A1 (en) * | 1998-05-11 | 2001-07-18 | Genmark Automation, Inc. | Prealigner and planarity teaching station |
-
1990
- 1990-06-29 JP JP17409090A patent/JP2884522B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH07321176A (ja) * | 1994-05-20 | 1995-12-08 | Hitachi Ltd | 基板搬送方法 |
US5885054A (en) * | 1996-01-31 | 1999-03-23 | Komatsu Electronics Metals Co. Ltd. | Carrying device for semiconductor wafers |
US6123502A (en) * | 1997-07-08 | 2000-09-26 | Brooks Automation, Inc. | Substrate holder having vacuum holding and gravity holding |
EP1116099A1 (en) * | 1998-05-11 | 2001-07-18 | Genmark Automation, Inc. | Prealigner and planarity teaching station |
EP1116099A4 (en) * | 1998-05-11 | 2005-04-20 | Genmark Automation Inc | TRAINING STATION FOR PREFERENCE AND PLANAR ALIGNMENT |
US6183026B1 (en) * | 1999-04-07 | 2001-02-06 | Gasonics International Corporation | End effector |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2884522B2 (ja) | 1999-04-19 |
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