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JPH0460403A - 落射型二光束干渉計 - Google Patents

落射型二光束干渉計

Info

Publication number
JPH0460403A
JPH0460403A JP2171184A JP17118490A JPH0460403A JP H0460403 A JPH0460403 A JP H0460403A JP 2171184 A JP2171184 A JP 2171184A JP 17118490 A JP17118490 A JP 17118490A JP H0460403 A JPH0460403 A JP H0460403A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
retardation
specimen
light
epi
light source
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2171184A
Other languages
English (en)
Inventor
Shinichi Hayashi
真市 林
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Olympus Corp
Original Assignee
Olympus Optical Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Olympus Optical Co Ltd filed Critical Olympus Optical Co Ltd
Priority to JP2171184A priority Critical patent/JPH0460403A/ja
Publication of JPH0460403A publication Critical patent/JPH0460403A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Instruments For Measurement Of Length By Optical Means (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、落射型二光束干渉計に関する。
〔従来の技術〕
従来の落射型二光束干渉計の光学系の一般的構成は第6
図に示した如く、光源lと、該光源lから発した光束を
標本8に導くための/%−フミラー等の落射照明手段3
と、該光束を前記標本8及びリファレンス9に夫々向か
う二つの光束に分割すると共に前記標本8及び前記リフ
ァレンス9からの二つの光束を合成する光分割合成手段
7から構成されていた。1)は観察者の眼である。
そして、上記構成の落射型二光束干渉計によれば、第7
図(A)に示した如き深さdの直線的な段差部12と平
坦部13及び14から成る段差標本15を観察するに際
し、リファレンス9を光軸に対して適度に傾けることに
より、第7図(B)に示した如く段差標本15の像に段
差部I2の位置で距離Sだけずれた間隔aの平行な干渉
縞が現れる。この時、前記段差部12の段差dは、前記
干渉縞の間隔aとずれの距離Sとにより、d =□λ a (但し、λは照明光の波長) で求められる。
C発明が解決しようとする課題〕 しかし、上記従来例では、第8図に示した如き波状標本
16では干渉縞が波状に現れるため、波状標本16の波
17の高さを精度良く測ることができないという欠点が
あった。又、第9図に示した如き小突起標本18に対し
ても、小突起19の上部の面積が小さければ該小突起1
9上の干渉縞が見にくくなり、該小突起19の高さを測
ることが困難となるという欠点もあった。
本発明は、上記問題点に鑑み、波状標本における波の高
さや小突起標本における小突起の高さも精度良く測れる
落射型二光束干渉計を提供することを目的とする。
〔課題を解決するための手段〕
本発明による落射型二光束干渉計の一つの光学系は、第
1図に示した如(、 光源Iと、該光源Iを発した光束を標本8に導くための
落射照明手段3と、該光束を前記標本8及びリファレン
ス9に夫々向かう二つの光束に分割すると共に前記標本
8及び前記リファレンス9からの二つの光束を合成する
光分割合成手段7′からなる落射型二光束干渉計におい
て、前記光分割合成手段7′は入射光束を互いに直交す
る振動成分に分割し且つ互いに直交する二つの振動成分
を合成する性質を有する偏光分割合成素子であり、前記
光源lと前記光分割合成手段7′の間の光路に配置した
偏光子2と、前記光分割合成手段7′の後方の光路上に
配置した検光子10と、前記偏光子2と前記検光子10
の間の光路上に配置されていて直交する二つの振動成分
の間に任意のリターデーションを与える複屈折板等のリ
ターデーション発生手段4と、該リターデーション発生
手段により発生するリターデーション量を読取るための
リターデーション読取手段5とを備えていることを特徴
としている。
又、本発明による落射型二光束干渉計の他の一つの光学
系は、上記構成に加えて、 前記光源1が直線偏光を射出するレーザー光源であると
共に、前記偏光子2を備えていないことを特徴としてい
る。
〔作 用〕
即ち、本発明による落射型二光束干渉計によれば、前記
偏光子2で直線偏光にされた照明光束は、偏光分割合成
素子である前記光分割合成手段7′で振動方向の直交す
る二つの偏光成分に分割され、そのうち一方の偏光成分
は前記標本8で正反射し且つ他方の偏光成分は前記リフ
ァレンス9で正反射して前記光分割合成手段7′で再び
一本の光束に合成される。その際前記光分割合成手段7
′前記標本8間の往復の光路長と前記光分割合成手段7
′、前記リフアレ ンス9間の往復の光路長との差の分
のリターデーションが前記合成された光束に生しる。更
に、前記合成された光束には前記リターデーション発生
手段4により任意のリターデーションを付与できる。前
記検光子lOにより前記合成された光束は振動方向を揃
えられ、前記合成された光束の持つ°リターデーション
に応じた干渉色を発生する。それ故、観察者は前記標本
8の像の上に、前記標本8と前記リファレンス9との凹
凸の差に応じた干渉パターンを観察することができる。
更に、前記リターデーション発生手段4により付与する
リターデーション量を調節することにより、前記標本8
上の任意の1点のリターデーションを0にし、該1点を
基準とした前記標本8の凹凸を干渉色により観察できる
。又、前記標本s上の任意の2点において各々リターデ
ーションが0になるように前記リターデーション発生手
段4を調節した時の前記リターデーション読取手段5に
よるリターデーションの読みの差をとることにより、該
2点の標高差が求められる。
従って、第8図に示した如く波状標本16や第9図に示
した如き小突起標本18でも高さを精度良く測定するこ
とができる。
〔実施例〕
以下、図示した実施例に基づき上記従来例と同一の部材
には同一符号を付して本発明の詳細な説明する。
第2図は本発明の第1実施例としてマイケルソン型の落
射型三光束干渉顕微鏡の光学系を示しており、ここでは
リターデーション発生手段4としてノマルスキープリズ
ム4′を用い、又光源lから発した光が効率良く標本8
を照明するように集光レンズ20.落射照明レンズ21
を具備し、リファレンス9には傾角調整装置22が備わ
っている。尚、前記ノマルスキープリズム4′の配置位
置は、通常の微分干渉顕微鏡の如く対物レンズ6の後側
焦点位置に略一致させである。観察者は接眼レンズ23
を通して標本8の対物レンズ6による像を観察する。
本実施例は上述の如く構成されているから、光源lを発
した光線は偏光子2を通過し検光子10を通過するまで
にノマルスキープリズム4′を往復二回通過して通常の
落射型微分干渉顕微鏡と同様に視野全体に亘り均一なリ
ターデーションを発生する。該リターデーションはノマ
ルスキープリズム4′を光軸に垂直な面内で移動させる
ことにより連続的に増減させることが可能であり、°該
すターデーションの変化量は該移動量に比例する為、リ
ターデーション読取装置5は該移動量を成る一定の比率
でリターデーション変化量に変換するようになっている
。勿論、標本8で反射した光とリファレンス9で反射し
た光との合成において、両者が経てきた光路長の差の分
のリターデーションも発生する。
従って、合成された光束の持つリターデーションに応じ
た干渉色を発生するので、観察者は標本8の像の上に、
標本8とリファレンス9との凹凸の差に応じた干渉パタ
ーンを観察することができる。更に、ノマルスキープリ
ズム4′により付与するリターデーション量を調節する
ことにより、標本8上の任意の1点のリターデーション
を0にし、該1点を基準とした標本8の凹凸を干渉色に
より観察できる。又、標本8上の任意の2点において各
々リターデーションが0になるようにノマルスキープリ
ズム4′を調節した時のリターデーション読取手段5に
よるリターデーションの読みの差をとることにより、該
2点の標高差が求められる。その結果、第8図に示した
如き波状標本16や第9図に示した如き小突起標本18
でも高さを精度良く測定することができる。
尚、光源lから落射照明手段3までの光路を第2図の紙
面に対し45°の方向にし、偏光子2の振動方向を落射
照明手段3の入射面に垂直或いは平行にすれば、落射照
明手段3での反射及び透過における偏光状態の乱れは最
小限に抑えられる。
第3図は本発明の第2実施例としてリニーク型の落射型
三光束干渉顕微鏡の光学系を示しており、ここではリタ
ーデーション発生手段4としてセナルモンコンペンセー
タ4′を用いている。即ち、174波長板4′をその光
学軸の射影が偏光子2を通過する光の振動面と直交する
ように配置し且つl/4波長板4′の射出側に検光子1
0’を設けている。そして、検光子lO′は光軸のまわ
りに回転可能であり、その回転角を読み取れるようにな
っている。
本実施例は上述の如く構成されているから、通常のセナ
ルモンコンペンセータの使用法と同様に、検光子10’
を回転させることにより付加するリターデーションの量
を変化させることができ、その量は検光子10’の回転
角に比例する。
このように、リターデーション発生手段4としてセナル
モンコンペンセータ4′を用いた本実施例は、ノマルス
キープリズム4′を用いた第1実施例に較べて視野のリ
ターデーションの均一性が極めて良好であり、読取り精
度も高い。但し、光源lはセナルモンコンペンセータ4
′の指定波長である単色光源を用いなければならず、使
用波長の半分以下の高さの測定に限られる。
尚、セナルモンコンペンセータ4′の代わりにプレース
ケーラーコンペンセータを用いても良い。
プレースケーラーコンペンセータとしては1/10λ〜
l/30λ程度の位相差の小さい波長板が用いられる。
その場合はプレースケーラーコンペンセータを光軸のま
わりに回転させることにより付加するリターデーション
の量を変化させることができ、その量はプレースケーラ
ーコンペンセータの回転角で定まる。この場合は、セナ
ルモンコンペンセータ4′を使用した場合に較べ、リタ
ーデーションの読取り精度が高くなるが、測定範囲は小
さくなる。更に、上述のようなセナルモンコンペンセー
タ4′やプレースケーラーコンペンセータを用いた場合
は、第7図に示した如き段差標本15の段差も従来より
精度良く測定できる。従来の干渉縞ずれを測定する方法
では、使用波長の20分のl (d線使用時で約30n
m)の段差が測定の限界と言われているが、本方式では
使用波長の100分のl (d線使用時で約6 nm)
以下の段差も十分測定できる。
又、光分割合成手段7′として高価な偏光ビームスプリ
ッタを使う代わりに、第4図に示した如く、ハーフプリ
ズム24と同厚の2枚の偏光子25を用いても良い。但
し、この場合は偏光ビームスプリッタを用いた時に較べ
光量の損失が太きい。
第5図は本発明の第3実施例としてレーザ光源使用の落
射型二光束干渉計の光学系を示しており、ここでレーザ
光源1′は直線偏光を射出し、リターデーション発生手
段としてセナルモンコンペンセータ4′を、観察手段と
してテレビカメラ26を夫々用いており、レーザ光源1
′と落射照明手段3を結ぶ光軸27は標本8とテレビカ
メラ26を結ぶ光軸28とリファレンス9と光分割合成
手段7′を結ぶ光軸29を含む第5図の紙面に対し45
°の角度を成していて、レーザ光源ビを射出する直線偏
光の偏光面は落射照明手段3の入射面に平行である。本
実施例は光源自体が直線偏光を射出するため第1図にお
ける偏光子2を省略できるという利点がある。
〔発明の効果〕
上述の如く、本発明による落射型二光束干渉計を用いれ
ば、標本面上の波状の凹凸や小突起の標高を精度良く測
定することができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による落射型二光束干渉計の光学系の基
本構成を示す図、第2図及び第3図は夫々第1及び第2
実施例の構成を示す図、第4図は上記第2実施例の光分
割合成手段の他の例を示す図、第5図は第3実施例の光
学系を示す図、第゛6図は従来例の光学系を示す図、第
7図(A)及び(B)は夫々段差標本の斜視図及び該段
差標本の上記従来例による観察像を示す図、第8図及び
第9図は夫々波状標本及び小突起標本の斜視図である。 ■・・・・光源、l′・・・・レーザー光源、2.25
・・・・偏光子、3・・・・落射照明手段、4・・・・
リターデーション発生手段、4′・・・・ノマルスキー
プリズム、4′・・・・セナルモンコンペンセータ、5
・・・・リターデーション読取手段、6・・・・対物レ
ンズ、7′・・・・光分割合成手段、8・・・・標本、
9・・・・リファレンス、10.10’・・・・検光子
、1)・・・・観察者の眼、12・・・・段差部、13
.14・・・・平坦部、15・・・・段差標本、16・
・・・波状標本、17・・・・波、18・・・・小突起
標本、19・・・・小突起、20・・・・集光レンズ、
21・・・・落射照明レンズ、22・・・・傾角調整装
置、23・・・・接眼レンズ、24・・・・ハーフプリ
ズム、26・・・・テレビカメラ、27.28.29・
・・・光軸。 第1 図 矛2図 図 1)−〕鉦 8〜−二 第5図 1P6図 1)7皐 8−二弘 8−eΣ 矛4図 図 (A) (B) 矛9 図 平成 3年 6月13日 特願平2−171)84号 う、補正の内容 (1)明細書第3頁5行目のrs」をtSlと訂正する
。 (2)同第4頁16行目及び第5頁15行目の[素子」
を「手段1と夫々訂正する。 (3)同第7頁2行目の[・・・・如く」を「如き1と
訂正する。 (4)同第7頁16行目の[る。Jの後にjまた、偏光
分割合成手段として偏光ビームスプリッタを用いている
。1を挿入し、[配置」を「ロー力ライズ1と訂正する
。 (5)同第100頁2行目「直交」の前に「平行或いは
1を挿入する。 (6)同第1)頁2〜3行目の N/loλ〜l/30λJを 「λ/10〜λ/301と訂正する。 (7)  図面中、第2図及び第7図(B)を夫々別紙
添付の通り訂正する。 5、補正の対象 明細書の発明の詳細な説明の欄及び図面。 矛2図 牙7図(B) −二一一

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光源と、該光源を発した光束を標本に導くための
    落射照明手段と、該光束を前記標本及びリファレンスに
    夫々向かう二つの光束に分割すると共に前記標本及び前
    記リファレンスからの二つの光束を合成する光分割合成
    手段からなる落射型二光束干渉計において、前記光分割
    合成手段は入射光束を互いに直交する振動成分に分割し
    且つ互いに直交する二つの振動成分を合成する性質を有
    する偏光分割合成手段であり、前記光源と前記光分割合
    成手段の間の光路上に配置した偏光子と、前記光分割合
    成手段の後方の光路上に配置した検光子と、前記偏光子
    と前記検光子の間の光路上に配置されていて直交する二
    つの振動成分の間に任意のリターデーションを与えるリ
    ターデーション発生手段と、該リターデーション発生手
    段により発生するリターデーション量を読取るためのリ
    ターデーション読取手段とを備えていることを特徴とす
    る落射型二光束干渉計。
  2. (2)前記光源が直線偏光を射出するレーザー光源であ
    ると共に、前記偏光子を備えていないことを特徴とする
    請求項(1)に記載の落射型二光束干渉計。
JP2171184A 1990-06-28 1990-06-28 落射型二光束干渉計 Pending JPH0460403A (ja)

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JP2171184A JPH0460403A (ja) 1990-06-28 1990-06-28 落射型二光束干渉計

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JP2171184A JPH0460403A (ja) 1990-06-28 1990-06-28 落射型二光束干渉計

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JP (1) JPH0460403A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015148566A (ja) * 2014-02-07 2015-08-20 オリンパス株式会社 リターデーション測定方法、リターデーション測定装置、複屈折波長特性測定方法
JP2018189622A (ja) * 2017-05-09 2018-11-29 孝雄 真木 干渉顕微鏡

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