JPH0437260U - - Google Patents
Info
- Publication number
- JPH0437260U JPH0437260U JP7904990U JP7904990U JPH0437260U JP H0437260 U JPH0437260 U JP H0437260U JP 7904990 U JP7904990 U JP 7904990U JP 7904990 U JP7904990 U JP 7904990U JP H0437260 U JPH0437260 U JP H0437260U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure chamber
- film forming
- high pressure
- gas
- chamber
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 238000001755 magnetron sputter deposition Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Physical Vapour Deposition (AREA)
- Physical Deposition Of Substances That Are Components Of Semiconductor Devices (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例によるマグネトロン
スパツタリング位置の概略構成図、第２図は本考
案の他の実施例による成膜装置の概略構成図であ
る。 １……チヤンバ、３……基板、８……隔室、９
……高圧室、１０……低圧室、１１……排気孔、
１２……ガス導入部。
スパツタリング位置の概略構成図、第２図は本考
案の他の実施例による成膜装置の概略構成図であ
る。 １……チヤンバ、３……基板、８……隔室、９
……高圧室、１０……低圧室、１１……排気孔、
１２……ガス導入部。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 チヤンバ内に配置された基板に成膜処理を行う
成膜装置において、 前記チヤンバ内に互いに連通するように形成さ
れた高圧室及び低圧室と、 前記高圧室内にガスを導入するガス導入手段と
、 前記高圧室の外周に設けられた隔室と、 前記隔室内を排気する排気手段と、 を備えた成膜装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7904990U JPH0437260U (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP7904990U JPH0437260U (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0437260U true JPH0437260U (ja) | 1992-03-30 |
Family
ID=31622866
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP7904990U Pending JPH0437260U (ja) | 1990-07-24 | 1990-07-24 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0437260U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018141195A (ja) * | 2017-02-27 | 2018-09-13 | Tdk株式会社 | 積層膜の製造装置と製造方法、および薄膜インダクタの製造方法 |
-
1990
- 1990-07-24 JP JP7904990U patent/JPH0437260U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2018141195A (ja) * | 2017-02-27 | 2018-09-13 | Tdk株式会社 | 積層膜の製造装置と製造方法、および薄膜インダクタの製造方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| JPH0437260U (ja) | ||
| JPS5612197A (en) | Diaphragm for loudspeaker | |
| JPS5412025A (en) | Motor bicycle | |
| JPS6279871U (ja) | ||
| JPH0351834U (ja) | ||
| JPS6319565U (ja) | ||
| JPH0397993U (ja) | ||
| JPS63143569U (ja) | ||
| JPH0328004U (ja) | ||
| JPS5612193A (en) | Diaphragm for loudspeaker | |
| JPH02102460U (ja) | ||
| JPS5270220A (en) | Exhaust manifold | |
| JPH0481645U (ja) | ||
| JPH021095U (ja) | ||
| JPH0187529U (ja) | ||
| JPH0198500U (ja) | ||
| JPS6395391U (ja) | ||
| JPS6445159U (ja) | ||
| JPS62118133U (ja) | ||
| JPH0385466U (ja) | ||
| JPH01129257U (ja) | ||
| JPS59155610U (ja) | 圧力制御機構 | |
| JPH01125356U (ja) | ||
| JPH03119432U (ja) | ||
| JPS6412198U (ja) |