JPH04333850A - Photopolymerizable composition - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は光重合性組成物に関し、
更に詳しくは、新規な光重合開始剤を含有する光重合性
組成物に関する。[Industrial Application Field] The present invention relates to a photopolymerizable composition,
More specifically, the present invention relates to a photopolymerizable composition containing a novel photopolymerization initiator.
【0002】0002
【発明の背景】従来、平版印刷版の製造に当っては、網
点ネガ等を感光層に密着させ、これに強力な紫外光線、
例えば高圧水銀灯あるいはメタルハライド灯を用いて光
照射し、次いで適当な現像液で現像する方法がとられて
いた。BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, in the production of lithographic printing plates, a halftone dot negative or the like is brought into close contact with a photosensitive layer, and then strong ultraviolet light is applied to the photosensitive layer.
For example, a method has been used in which light is irradiated using a high-pressure mercury lamp or a metal halide lamp, and then development is performed with an appropriate developer.
【0003】ところが、近年レーザー光線を用いて感光
層に直接画線状の照射を行うことによる、製版工程の簡
略化された方法が提案されている。例えば米国特許第3
,664,737号明細書には、アルミニウム支持体上
に紫外線感光層、特にジアゾ感光層を有する記録材料を
直接レーザー光で照射して平版印刷版を製造する方法が
記載されている。However, in recent years, a method has been proposed that simplifies the plate-making process by directly irradiating the photosensitive layer in a linear pattern using a laser beam. For example, U.S. Patent No. 3
, 664,737 describes a method for producing a lithographic printing plate by directly irradiating a recording material with a UV-sensitive layer, especially a diazo-sensitive layer, on an aluminum support with laser light.
【0004】しかしながら、この方法は感光層として従
来から紫外線感光層として知られているものを用いるも
のであるため、これをレーザー光に適用することはレー
ザーの発光効率と感光材料の感光波長域の間の不一致に
より経済的見地からみて著しく不利であった。即ち、製
版用に使用可能なレーザー、例えばアルゴンイオンレー
ザーは、全発光エネルギーの大部分が450nm以上の
可視光線域にあり、紫外線の発光効率は全発光エネルギ
ーの5%にも満たないため、出力30W程度の大型レー
ザーを使用する必要があった。However, since this method uses a layer conventionally known as an ultraviolet light-sensitive layer, applying this method to laser light is dependent on the luminous efficiency of the laser and the sensitivity wavelength range of the photosensitive material. The discrepancies between the two countries were extremely disadvantageous from an economic standpoint. In other words, in lasers that can be used for plate making, such as argon ion lasers, most of the total emission energy is in the visible light range of 450 nm or more, and the emission efficiency of ultraviolet rays is less than 5% of the total emission energy, so the output is low. It was necessary to use a large laser of about 30W.
【0005】「フォトポリマーテクノロジー」(日刊工
業新聞、昭和63年)には、光重合性組成物に可視光域
に吸収を有する色素を含有させたものが開示されている
が、これは可視光レーザー域に感度を有するとはいうも
のの十分ではなく、従ってやはり高出力のレーザーを用
いる必要があり、コスト的にも装置の大型化という点か
らみても問題があった。"Photopolymer Technology" (Nikkan Kogyo Shimbun, 1986) discloses a photopolymerizable composition containing a dye that absorbs in the visible light range; Although it has sensitivity in the laser range, it is not sufficient, so it is still necessary to use a high-output laser, which poses problems in terms of cost and increasing the size of the device.
【0006】従って本発明の目的は、高感度で、低出力
の可視光レーザーに感応し、製版印刷版に使用可能な光
重合性組成物を提供することにある。[0006] Accordingly, an object of the present invention is to provide a photopolymerizable composition that has high sensitivity and is sensitive to low-power visible light laser and can be used for plate making printing plates.
【0007】[0007]
【発明の構成】本発明者等は鋭意研究の結果、本発明の
上記目的は、少なくともエチレン性不飽和化合物及びバ
インダー樹脂を含有し、更に下記一般式[1]で表わさ
れるピロロピロール化合物、下記一般式[4]で表わさ
れるキナクリドン系化合物及び下記一般式[5]又は[
6]で表わされるアゾ化合物の少なくとも1種を含有す
ることを特徴とする光重合性組成物を提供することによ
り達成されることを見出した。Composition of the Invention As a result of intensive research, the present inventors have found that the above object of the present invention is to provide a pyrrolopyrrole compound containing at least an ethylenically unsaturated compound and a binder resin, and further represented by the following general formula [1], Quinacridone compounds represented by the general formula [4] and the following general formula [5] or [
We have found that this can be achieved by providing a photopolymerizable composition characterized by containing at least one azo compound represented by [6].
【0008】[0008]
【化6】
(式中、A及びBは同一または異るアルキル基、アルア
ルキル基、シクロアルキル基、または炭素環もしくは複
素環式の芳香族基を表わし、R1及びR2はそれぞれ水
素原子または水溶性を付与しない置換基を表わし、Eは
硫黄原子または酸素原子を表わす。)embedded image (wherein A and B represent the same or different alkyl group, aralkyl group, cycloalkyl group, or carbocyclic or heterocyclic aromatic group, and R1 and R2 are each a hydrogen atom or a water-soluble (E represents a sulfur atom or an oxygen atom.)
【0009】[0009]
【化7】
(式中、R1は水素原子またはアルキル基を表わし、R
2はアルキル基またはパーハロゲン化アルキル基を表わ
す。)embedded image (wherein R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, R
2 represents an alkyl group or a perhalogenated alkyl group. )
【0010】0010
【化8】
(式中、R1はアルキル基を表わし、R2及びR3はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アシ
ルオキシ基、アルキルメルカプト基、又はアルコキシカ
ルボニル基を表わす。)(In the formula, R1 represents an alkyl group, and R2 and R3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, a carboxyl group, a hydroxy group, an acyloxy group, an alkylmercapto group, or an alkyl group) (Represents a carbonyl group.)
【0011】以下に、本発明を更に詳細に説明する。The present invention will be explained in more detail below.
【0012】本発明に用いられる光重合性組成物は、光
重合開始剤、エチレン性不飽和化合物及びバインダー樹
脂から実質的になる。The photopolymerizable composition used in the present invention consists essentially of a photopolymerization initiator, an ethylenically unsaturated compound, and a binder resin.
【0013】エチレン性不飽和化合物は、付加重合性不
飽和化合物からなり、好ましくは少なくとも2個の末端
ビニル基を有するビニル単量体である。The ethylenically unsaturated compound consists of an addition-polymerizable unsaturated compound, preferably a vinyl monomer having at least two terminal vinyl groups.
【0014】このビニル単量体としては、特公昭35−
5093号、同35−14719号、同44−2872
7号の各公報に記載されているものが用いられる。例え
ばポリオールのアクリル酸又はメタクリル酸エステル、
即ちジエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ト
リエチレングリコールジ(メタ)アクリレート、ペンタ
エリスリトールトリ(メタ)アクリレート、トリメチロ
ールプロパントリ(メタ)アクリレート等、あるいはメ
チレンビス(メタ)アクリルアミド、エチレンビス(メ
タ)アクリルアミドのようなビス(メタ)アクリルアミ
ド類、あるいはウレタン基を含有する不飽和単量体、例
えばジ−(2′−メタクリロキシエチル)−2,4−ト
リレンジウレタン、ジ−(2−アクリロキシエチル)ト
リメチレンジウレタン等のようなジオールモノ(メタ)
アクリレートとジイソシアネートとの反応生成物等が挙
げられる。[0014] As this vinyl monomer,
No. 5093, No. 35-14719, No. 44-2872
Those described in each publication No. 7 are used. For example, acrylic or methacrylic esters of polyols,
That is, diethylene glycol di(meth)acrylate, triethylene glycol di(meth)acrylate, pentaerythritol tri(meth)acrylate, trimethylolpropane tri(meth)acrylate, etc., or methylene bis(meth)acrylamide, ethylene bis(meth)acrylamide, etc. bis(meth)acrylamides, or unsaturated monomers containing urethane groups, such as di-(2'-methacryloxyethyl)-2,4-tolylene diurethane, di-(2-acryloxyethyl)tri Diol mono(meth) such as methylene diurethane etc.
Examples include reaction products of acrylate and diisocyanate.
【0015】これらのエチレン性不飽和化合物は光重合
性組成物中にその固形分に対し20〜80重量%含有さ
れることが好ましい。These ethylenically unsaturated compounds are preferably contained in the photopolymerizable composition in an amount of 20 to 80% by weight based on the solid content thereof.
【0016】本発明においては光重合開始剤として、前
記一般式[1]で表わされるピロロピロール化合物、前
記一般式[4]で表わされるキナクリドン系化合物又は
前記一般式[5]又は[6]で表わされるアゾ化合物(
以上を総称して、「本発明の光重合開始剤」と称す)が
用いられる。In the present invention, as a photopolymerization initiator, a pyrrolopyrrole compound represented by the above general formula [1], a quinacridone compound represented by the above general formula [4], or a quinacridone compound represented by the above general formula [5] or [6] is used. The azo compound represented (
The above are collectively referred to as "the photopolymerization initiator of the present invention").
【0017】前記一般式[1]において、A及びBのそ
れぞれで表わされるアルキル基は直鎖もしくは枝分れ鎖
、飽和もしくは不飽和であることができ、好ましくは1
ないし18個、最も好ましくは1ないし12個の炭素原
子を有し、例えばメチル基、エチル基、n−プロピル基
、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三
ブチル基、第三アミル基、n−ペンチル基、n−ヘキシ
ル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基、n−ヘ
プチル基、n−オクチル基、ノニル基、デシル基、ウン
デシル基、ドデシル基またはステアリル基である。In the general formula [1], the alkyl group represented by each of A and B can be linear or branched, saturated or unsaturated, and preferably 1
having from 1 to 18 carbon atoms, most preferably from 1 to 12 carbon atoms, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, tert-butyl, Amyl group, n-pentyl group, n-hexyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, n-heptyl group, n-octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group or stearyl group It is.
【0018】A及びBのそれぞれで表わされるアルアル
キル基としては好ましくは、直鎖もしくは枝分れ鎖の炭
素原子数1ないし12、好ましくは炭素原子数1ないし
6、さらに好ましくは炭素原子数1ないし4のアルキル
基、もしくはアルケニル基を有する単環式ないし三環式
、最も好ましくは単環式もしくは二環式のアリール基を
含むものである。この様なアルアルキル基の例としては
ベンジル基及びフェニルエチル基が挙げられる。The aralkyl group represented by each of A and B is preferably a straight chain or branched chain having 1 to 12 carbon atoms, preferably 1 to 6 carbon atoms, more preferably 1 carbon atom. It contains a monocyclic to tricyclic, most preferably monocyclic or bicyclic aryl group having from 1 to 4 alkyl groups or alkenyl groups. Examples of such aralkyl groups include benzyl and phenylethyl groups.
【0019】A及びBのそれぞれで表わされる同素環式
芳香族基としては、好ましくは単環式ないし四環式の基
、最も好ましくは単環式または二環式の基であり、例え
ばフェニル基、ジフェニル基またはナフチル基である。The homocyclic aromatic group represented by each of A and B is preferably a monocyclic to tetracyclic group, most preferably a monocyclic or bicyclic group, such as phenyl. group, diphenyl group or naphthyl group.
【0020】A及びBのそれぞれで表わされる複素環式
芳香族基としては好ましくは単環式ないし三環式の基で
ある。該基は、純粋な複素環式基または複素環式基と1
個もしくはそれ以上の縮合したベンゼン環を含有するも
のであることができ、例えばピリジル基、ピリミジル基
、ピラジニル基、トリアジニル基、フラニル基、ピロリ
ル基、チオフェニル基、キノリル基、クマリニル基、ベ
ンゾフラニル基、ベンズイミダゾリル基、ベンズオキサ
ゾリル基、ジベンゾフラニル基、ベンゾチオフェニル基
、ジベンゾチオフェニル基、インドリル基、カルバゾリ
ル基、ピラゾリル基、イミダゾリル基、オキサゾリル基
、イソオキサゾリル基、チアゾリル基、インダゾリル基
、ベンゾチアゾリル基、ピリダジニル基、シンノリル基
、キナゾリル基、キノキサリル基、フタラジニル基、フ
タラジンジオニル基、フタルイミジル基、クロモニル基
、ナフトラクタミル基、ベンゾピリドニル基、マレイミ
ジル基、ナフタリジニル基、ベンズイミダゾロニル基、
ベンゾオキサゾロニル基、ベンゾチアゾロニル基、ベン
ゾチアゾリニル基、キナゾロニル基、ピリミジル基、キ
ノキサロニル基、フタラゾニル基、ジオキサピリミジニ
ル基、ピリドニル基、イソキノロニル基、イソキノリニ
ル基、イソチアゾリル基、ベンズイソキサゾリル基、ベ
ンズイソチアゾリル基、インダゾロニル基、アクリジニ
ル基、アクリドニル基、キナゾリンジオニル基、キノキ
サリンジオニル基、ベンゾキサチンジオニル基又はナフ
タルイミジル基である。The heterocyclic aromatic group represented by each of A and B is preferably a monocyclic to tricyclic group. The group may be a pure heterocyclic group or a heterocyclic group and 1
It can contain one or more fused benzene rings, such as pyridyl, pyrimidyl, pyrazinyl, triazinyl, furanyl, pyrrolyl, thiophenyl, quinolyl, coumarinyl, benzofuranyl, Benzimidazolyl group, benzoxazolyl group, dibenzofuranyl group, benzothiophenyl group, dibenzothiophenyl group, indolyl group, carbazolyl group, pyrazolyl group, imidazolyl group, oxazolyl group, isoxazolyl group, thiazolyl group, indazolyl group, benzothiazolyl group group, pyridazinyl group, cinnolyl group, quinazolyl group, quinoxalyl group, phthalazinyl group, phthalazinedionyl group, phthalimidyl group, chromonyl group, naphtolactamyl group, benzopyridonyl group, maleimidyl group, naphthalidinyl group, benzimidazolonyl group,
Benzoxazolonyl group, benzothiazolonyl group, benzothiazolinyl group, quinazolonyl group, pyrimidyl group, quinoxalonyl group, phthalazonyl group, dioxapyrimidinyl group, pyridonyl group, isoquinolonyl group, isoquinolinyl group, isothiazolyl group, benzisoxa These are a zolyl group, a benzisothiazolyl group, an indazolonyl group, an acridinyl group, an acridonyl group, a quinazolinedionyl group, a quinoxalinedionyl group, a benzoxatinedionyl group, or a naphthalimidyl group.
【0021】上記同素環式芳香族基および複素環式芳香
族基の両者とも、水不溶化置換基を含むことができる。
水不溶化置換基としては、例えば以下に掲げるものが用
いられる。Both the homoaromatic and heteroaromatic groups described above can contain water-insolubilizing substituents. As the water-insolubilizing substituent, for example, those listed below are used.
【0022】1)ハロゲン原子例えば塩素原子、臭素原
子またはフッ素原子。1) Halogen atoms such as chlorine, bromine or fluorine atoms.
【0023】2)好ましくは1ないし18、更に1ない
し12、特には1ないし8、そして最も好ましくは1な
いし4の炭素原子を含有する枝分れしたまたは枝分れし
ていないアルキル基。これらのアルキル基は、例えば次
に挙げるような水不溶化基を含有していてもよい:フッ
素原子、水酸基、シアノ基、−OCOR3,−OR4,
−COOR3,−CONR4R5または−R3−OCO
NHR3(ここでR3はアルキル基、アリール基例えば
ナフチル基、あるいはベンジル基またはハロゲン原子、
アルキル基もしくは−O−アルキル基で置換されたベン
ジル基、あるいは複素環式基を表わし;R4およびR5
はそれぞれ水素原子、アルキル基またはシアノ基もしく
は水酸基で置換されたアルキル基、あるいは炭素原子数
5ないし6のシクロアルキル基、アリール基またはヘテ
ロアリール基特にフェニル基またはハロゲン原子、アル
キル基もしくは−O−アルキル基で置換されたフェニル
基を表わすか、あるいはR4およびR5は窒素原子と一
緒になって形成する5−または6−員複素環例えばモル
ホリン、ピペリジンまたはフタルイミド環を表わす。)
。アルキル基の可能な置換基として更にはモノ−または
ジアルキル化アミノ基、アリール基例えばナフチル基ま
たは好ましくはフェニル基またはハロゲン原子、アルキ
ル基もしくは−O−アルキル基で置換されたフェニル基
、あるいは同様に非塩基性の複素環式芳香族基例えば2
−チエニル基または6−ベンゾイミダゾロニル基が挙げ
られる。2) Branched or unbranched alkyl groups containing preferably 1 to 18, even 1 to 12, especially 1 to 8 and most preferably 1 to 4 carbon atoms. These alkyl groups may contain water-insolubilizing groups such as the following: fluorine atom, hydroxyl group, cyano group, -OCOR3, -OR4,
-COOR3, -CONR4R5 or -R3-OCO
NHR3 (where R3 is an alkyl group, an aryl group such as a naphthyl group, or a benzyl group or a halogen atom,
Represents a benzyl group substituted with an alkyl group or an -O-alkyl group, or a heterocyclic group; R4 and R5
is a hydrogen atom, an alkyl group or an alkyl group substituted with a cyano group or a hydroxyl group, or a cycloalkyl group having 5 to 6 carbon atoms, an aryl group or a heteroaryl group, in particular a phenyl group or a halogen atom, an alkyl group or -O- It represents a phenyl group substituted with an alkyl group, or R4 and R5 together with the nitrogen atom form a 5- or 6-membered heterocycle, such as a morpholine, piperidine or phthalimide ring. )
. Possible substituents of the alkyl radicals are furthermore mono- or dialkylated amino radicals, aryl radicals such as naphthyl radicals or phenyl radicals preferably substituted with phenyl radicals or halogen atoms, alkyl radicals or -O-alkyl radicals, or likewise Non-basic heteroaromatic groups such as 2
-thienyl group or 6-benzimidazolonyl group.
【0024】また、上記2)で順次特定した置換基がア
ルキル基を含む場合に、そのアルキル基は枝分れしてい
ても枝分れしていなくてもよく、そして好ましくは1な
いし18、更に1ないし12、特には1ないし8、そし
て最も好ましくは1ないし4の炭素原子を含む。Further, when the substituents specified in the above 2) contain an alkyl group, the alkyl group may be branched or unbranched, and preferably 1 to 18, It further contains 1 to 12, especially 1 to 8 and most preferably 1 to 4 carbon atoms.
【0025】未置換または置換アルキル基の例としては
、次のものが挙げられる:メチル基、エチル基、n−プ
ロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル
基、第三ブチル基、第三アミル基、n−ペンチル基、n
−ヘキシル基、1,1,3,3−テトラメチルブチル基
、n−ヘプチル基、n−オクチル基、ノニル基、デシル
基、ウンデシル基、ドデシル基、ヒドロキシメチル基、
トリフルオルメチル基、トリフルオルエチル基、シアノ
メチル基、メトキシカルボニルメチル基、アセトキシメ
チル基またはベンジル基。Examples of unsubstituted or substituted alkyl groups include: methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, Tertiary amyl group, n-pentyl group, n
-hexyl group, 1,1,3,3-tetramethylbutyl group, n-heptyl group, n-octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, hydroxymethyl group,
Trifluoromethyl group, trifluoroethyl group, cyanomethyl group, methoxycarbonylmethyl group, acetoxymethyl group or benzyl group.
【0026】3)基−OR6(ここでR6は、水素原子
、アルキル基、またはアリール基例えばナフチル基また
は好ましくはフェニル基またはハロゲン原子、アルキル
基もしくは−O−アルキル基で置換されたフェニル基、
あるいは炭素原子数5または6のシクロアルキル基、ア
ルアルキル基、または非塩基性複素環式基を表わす。)
R6の定義中、アルキル基は上記の2)において好まし
いものとして特定した数の炭素原子を含んでいてもよい
。
R6の代表例としては次のものが挙げられる:メチル基
、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、トリフ
ルオルエチル基、フェニル基、o−,m−またはp−ク
ロルフェニル基、o−,m−またはp−メチルフェニル
基、α−またはβ−ナフチル基、シクロヘキシル基、ベ
ンジル基、チエニル基またはピラニルメチル基。3) the group -OR6 (where R6 is a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group such as a naphthyl group or preferably a phenyl group or a phenyl group substituted with a halogen atom, an alkyl group or an -O-alkyl group;
Alternatively, it represents a cycloalkyl group, an aralkyl group, or a non-basic heterocyclic group having 5 or 6 carbon atoms. )
In the definition of R6, the alkyl group may contain the number of carbon atoms specified as preferred in 2) above. Representative examples of R6 include: methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, trifluoroethyl, phenyl, o-, m- or p-chlorophenyl, o-, m- or p-methylphenyl group, α- or β-naphthyl group, cyclohexyl group, benzyl group, thienyl group or pyranylmethyl group.
【0027】4)−SR6基(ここでR6は上記3)で
定義されたものと同義である)R6の典型的な代表例と
しては、次のものが挙げられる:メチル基、エチル基、
n−プロピル基、イソプロピル基、フェニル基、o−,
m−またはp−クロルフェニル基、o−,m−またはp
−メチルフェニル基、α−またはβ−ナフチル基、シク
ロヘキシル基、ベンジル基、チエニル基またはピラニル
メチル基。4) -SR6 group (wherein R6 has the same meaning as defined in 3) above) Typical representative examples of R6 include: methyl group, ethyl group,
n-propyl group, isopropyl group, phenyl group, o-,
m- or p-chlorophenyl group, o-, m- or p
- methylphenyl, α- or β-naphthyl, cyclohexyl, benzyl, thienyl or pyranylmethyl group.
【0028】5)シアノ基。5) Cyano group.
【0029】6)式:−COOR3(ここでR3は前記
2)で定義したものと同義である)で表わされる基。R
3の例としては、次のものが挙げられる:メチル基、エ
チル基、イソプロピル基、第三ブチル基、n−ブチル基
、フェニル基、ベンジル基またはフルフリル基。6) A group represented by the formula: -COOR3 (where R3 has the same meaning as defined in 2) above. R
Examples of 3 include: methyl, ethyl, isopropyl, tert-butyl, n-butyl, phenyl, benzyl or furfuryl.
【0030】7)式:−COR6(ここでR6は前記3
)で定義したものと同義である)で表わされる基。R6
の例としては次のものが挙げられる:メチル基、エチル
基、第三ブチル基、フェニル基、o−,m−またはp−
クロルフェニル基、o−,m−またはp−メチルフェニ
ル基あるいはα−またはβ−ナフチル基。7) Formula: -COR6 (where R6 is the above 3
) has the same meaning as defined in ). R6
Examples include: methyl, ethyl, tert-butyl, phenyl, o-, m- or p-
Chlorphenyl group, o-, m- or p-methylphenyl group or α- or β-naphthyl group.
【0031】8)式:−NR7COR3(ここでR3は
前記2)で定義したものと同義であり、R7は水素原子
、アルキル基、アリール基例えばナフチル基または好ま
しくはフェニル基またはハロゲン原子、アルキル基もし
くは−O−アルキル基で置換されたフェニル基、または
炭素原子数5もしくは6のシクロアルキル基、アルアル
キル基または基−COR6を表わし、そして2つの基(
−COR6は窒素原子と一緒になって形成する複素環を
表わすこともできる。)で表わされる基。R7の定義中
、アルキル基は上記の2)において好ましいものとして
特定した数の炭素原子を含んでいてもよい。代表例とし
ては次のものが挙げられる:アセチルアミノ基、プロピ
オニルアミノ基、ブチリルアミノ基、ベンゾイルアミノ
基、p−クロルベンゾイルアミノ基、p−メチルベンゾ
イルアミノ基、N−メチルアセチルアミノ基、N−メチ
ルベンゾイルアミノ基、N−スクシンイミド基またはN
−フタルイミド基。8) Formula: -NR7COR3 (where R3 has the same meaning as defined in 2) above, R7 is a hydrogen atom, an alkyl group, an aryl group such as a naphthyl group, or preferably a phenyl group, a halogen atom, an alkyl group or a phenyl group substituted with an -O-alkyl group, or a cycloalkyl group having 5 or 6 carbon atoms, an aralkyl group or a group -COR6, and two groups (
-COR6 can also represent a heterocycle formed together with a nitrogen atom. ). In the definition of R7, the alkyl group may contain the number of carbon atoms specified as preferred in 2) above. Representative examples include: acetylamino group, propionylamino group, butyrylamino group, benzoylamino group, p-chlorobenzoylamino group, p-methylbenzoylamino group, N-methylacetylamino group, N-methyl benzoylamino group, N-succinimide group or N
-phthalimide group.
【0032】9)式:−NR6COOR3(ここでR3
及びR6は各々前記2)および3)で定義されたものと
同義である。)で表わされる基。代表例は基−NHCO
OCH3,NHCOOC2H5またはNHCOOC6H
5である。9) Formula: -NR6COOR3 (where R3
and R6 have the same meanings as defined in 2) and 3) above, respectively. ). A typical example is the group -NHCO
OCH3, NHCOOC2H5 or NHCOOC6H
It is 5.
【0033】10)式:−NR6CONR4R5(ここ
でR6,R5およびR4は前記3)および2)で定義さ
れたものと同義である。)で表わされる基。代表例は次
のものである:ウレイド基、N−メチルウレイド基、N
−フェニルウレイド基またはN,N−2′,4′−ジメ
チルフェニルウレイド基。10) Formula: -NR6CONR4R5 (where R6, R5 and R4 have the same meanings as defined in 3) and 2) above. ). Representative examples are: ureido group, N-methylureido group, N
-phenylureido group or N,N-2',4'-dimethylphenylureido group.
【0034】11)式:−NHSO2R6(ここでR6
は前記3)で定義されたものと同義である)で表わされ
る基。代表例は次のものである:メタンスルホニルアミ
ノ基、フェニルスルホニルアミノ基、p−トルイルスル
ホニルアミノ基またはβ−ナフチルスルホニルアミノ基
。11) Formula: -NHSO2R6 (where R6
has the same meaning as defined in 3) above. Representative examples are: methanesulfonylamino, phenylsulfonylamino, p-tolylsulfonylamino or β-naphthylsulfonylamino.
【0035】12)式:−SO2R3またはSOR3(
ここでR3は前記2)で定義されたものと同義である)
で表わされる基。代表例は次のものである:メチルスル
ホニル基、エチルスルホニル基、フェニルスルホニル基
、2−ナフチルスルホニル基、フェニルスルホキシジル
基。12) Formula: -SO2R3 or SOR3 (
Here R3 has the same meaning as defined in 2) above)
A group represented by Representative examples are: methylsulfonyl, ethylsulfonyl, phenylsulfonyl, 2-naphthylsulfonyl, phenylsulfoxidyl.
【0036】13)式:−SO2R3(ここでR3は前
記2)で定義されたものと同義である)で表わされる基
。
R3の代表例としては次のものが挙げられる:メチル基
、エチル基、フェニル基、o−,m−またはp−クロル
フェニル基、o−,m−またはp−メチルフェニル基、
α−またはβ−ナフチル基。13) A group represented by the formula: -SO2R3 (where R3 has the same meaning as defined in 2) above. Representative examples of R3 include: methyl, ethyl, phenyl, o-, m- or p-chlorophenyl, o-, m- or p-methylphenyl,
α- or β-naphthyl group.
【0037】14)式:−CONR4R5(ここでR4
およびR5は各々前記2)で定義されたものと同義であ
る)で表わされる基。R4およびR5の例としては次の
ものが挙げられる:カルバモイル基、N−メチルカルバ
モイル基、N−エチルカルバモイル基、N−フェニルカ
ルバモイル基、N,N−ジメチルカルバモイル基、N−
メチル−N−フェニルカルバモイル基、N−α−N−ナ
フチルカルバモイル基またはN−ピペリジルカルバモイ
ル基。14) Formula: -CONR4R5 (where R4
and R5 each have the same meaning as defined in 2) above. Examples of R4 and R5 include: carbamoyl group, N-methylcarbamoyl group, N-ethylcarbamoyl group, N-phenylcarbamoyl group, N,N-dimethylcarbamoyl group, N-
Methyl-N-phenylcarbamoyl group, N-α-N-naphthylcarbamoyl group or N-piperidylcarbamoyl group.
【0038】15)式:SO2NR4R5(ここでR4
およびR5は各々前記2)で定義したものと同義である
)で表わされる基。代表例としては次のものが挙げられ
る:スルファモイル基、N−メチルスルファモイル基、
N−エチルスルファモイル基、N−フェニルスルファモ
イル基、N−メチル−N−フェニルスルファモイル基ま
たはN−モルホリルスルファモイル基。15) Formula: SO2NR4R5 (where R4
and R5 each have the same meaning as defined in 2) above. Representative examples include: sulfamoyl group, N-methylsulfamoyl group,
N-ethylsulfamoyl group, N-phenylsulfamoyl group, N-methyl-N-phenylsulfamoyl group or N-morpholylsulfamoyl group.
【0039】16)式:−N=N−R8(ここでR8は
カップリング成分の基または未置換またはハロゲン原子
、アルキル基もしくはO−アルキル基で置換されたフェ
ニル基を表わす。)で表わされる基。R8の定義中、ア
ルキル基は前記2)において好ましいものとして特定し
た数の炭素原子を含んでいてよい。R8の例としては次
のものが挙げられる:アセトアセトアリーリド基、ピラ
ゾリル基、ピリドニル基、o−またはp−ヒドロキシフ
ェニル基、o−ヒドロキシナフチル基、p−アミノフェ
ニル基またはp−N,N−ジメチルアミノフェニル基。16) Represented by the formula: -N=N-R8 (where R8 represents a coupling component group or a phenyl group that is unsubstituted or substituted with a halogen atom, an alkyl group, or an O-alkyl group). Base. In the definition of R8, the alkyl group may contain the number of carbon atoms specified as preferred in 2) above. Examples of R8 include: acetoacetoarylide, pyrazolyl, pyridonyl, o- or p-hydroxyphenyl, o-hydroxynaphthyl, p-aminophenyl or p-N,N -dimethylaminophenyl group.
【0040】17)式:−OCOR3(ここでR3は前
記2)で定義されたものと同義である)で表わされる基
。
R3の例としては次のものが挙げられる:メチル基、エ
チル基、フェニル基、o−,m−またはp−クロルフェ
ニル基。17) A group represented by the formula: -OCOR3 (where R3 has the same meaning as defined in 2) above. Examples of R3 include: methyl, ethyl, phenyl, o-, m- or p-chlorophenyl.
【0041】18)式:−OCONHR3(ここでR3
は上記2)で定義された意味を表わす。)で表わされる
基。
R3の例としては次のものが挙げられる:メチル基、エ
チル基、フェニル基、o−,m−またはp−クロルフェ
ニル基。18) Formula: -OCONHR3 (where R3
represents the meaning defined in 2) above. ). Examples of R3 include: methyl, ethyl, phenyl, o-, m- or p-chlorophenyl.
【0042】前記一般式[1]におけるR1及びR2の
それぞれで表わされる水溶性を付与しない置換基は、例
えば直鎖もしくは枝分れ鎖、飽和もしくは不飽和の炭素
原子数1ないし18、最も好ましくは炭素原子数1ない
し12のアルキル基である。これらの基は未置換でもヒ
ドロキシ基、ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキ
シ基、アルキルメルカプト基、アルコキシカルボニル基
もしくはシアノ基で置換されていてもよい。この様な基
の例としては、メチル基、エチル基、n−プロピル基、
イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチル基、第三ブ
チル基、メチルブチル基、n−ヘプチル基、n−オクチ
ル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基
、ステアリル基、ヒドロキシメチル基、トリフルオロメ
チル基、トリフルオロエチル基、シアノエチル基、メト
キシカルボニルメチル基またはアセトキシメチル基が挙
げられる。The substituent which does not impart water solubility represented by each of R1 and R2 in the general formula [1] is, for example, a straight chain or branched chain, saturated or unsaturated, having 1 to 18 carbon atoms, most preferably is an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms. These groups may be unsubstituted or substituted with a hydroxy group, halogen atom, alkoxy group, acyloxy group, alkylmercapto group, alkoxycarbonyl group or cyano group. Examples of such groups include methyl, ethyl, n-propyl,
Isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, methylbutyl group, n-heptyl group, n-octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, stearyl group, hydroxymethyl group, Examples include trifluoromethyl group, trifluoroethyl group, cyanoethyl group, methoxycarbonylmethyl group, and acetoxymethyl group.
【0043】R1及びR2は各々アリール基であっても
よく、好ましくは未置換もしくはハロゲン原子、炭素原
子数1ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし1
2のアルコキシ基、炭素原子数1ないし12のアルキル
メルカプト基、トリフルオロメチル基もしくはニトロ基
により置換されたフェニル基である。R1 and R2 may each be an aryl group, preferably unsubstituted or a halogen atom, an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkyl group having 1 to 1 carbon atoms.
2 alkoxy group, an alkylmercapto group having 1 to 12 carbon atoms, a phenyl group substituted with a trifluoromethyl group or a nitro group.
【0044】一般式[1]で表わされる化合物としては
、R1及びR2がそれぞれ水素原子である化合物が特に
好ましい。同様に、A及びBがそれぞれ同一または異な
る下記一般式[2]で表わされる基を表わす化合物が好
ましい。As the compound represented by the general formula [1], a compound in which R1 and R2 are each a hydrogen atom is particularly preferred. Similarly, compounds in which A and B are each the same or different groups represented by the following general formula [2] are preferred.
【0045】[0045]
【化9】
(式中、X,Y及びZは各々独立に水素原子、ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、炭素原子数1
ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし12のアルキルメルカ
プト基、炭素原子数2ないし6のアルコキシカルボニル
基、炭素原子数2ないし6のジアルキルアミノ基、また
は各々未置換もしくはハロゲン原子、炭素原子数1ない
し6のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし6のアル
コキシ基により置換されたフェノキシ基、フェニルメル
カプト基もしくはフェノキシカルボニル基を表わし、X
,Y及びZのうち少なくとも1個は水素原子を表わす。
)[Formula 9] (wherein, X, Y and Z each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group, a cyano group, a carbon atom number 1
an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylmercapto group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 6 carbon atoms, or each represents a phenoxy group, a phenylmercapto group or a phenoxycarbonyl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, or an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms;
, Y and Z represent a hydrogen atom. )
【0046】X,Y及びZは好ましくはジチオケトピ
ロロピロール基又はジケトピロロピロール基に対してオ
ルト位、メタ位またはパラ位、好ましくはメタ位または
パラ位に位置する。X, Y and Z are preferably located in the ortho, meta or para position, preferably in the meta or para position relative to the dithioketopyrrolopyrrole group or diketopyrrolopyrrole group.
【0047】特に好ましい一般式[1]で表わされる化
合物としては、A及びBが同一又は異なる下記一般式[
3]で表わされる基を表わす化合物である。Particularly preferred compounds represented by the general formula [1] include those represented by the following general formula [1] where A and B are the same or different;
3].
【0048】[0048]
【化10】
(式中、X1及びY1のうちの1方は水素原子、塩素原
子、臭素原子、メチル基、シアノ基、N,N−ジメチル
アミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、炭素原子数1な
いし12のアルコキシ基、炭素原子数1ないし12のア
ルキルメルカプト基または炭素原子数2ないし4のアル
コキシカルボニル基を表わし、X1及びY1のもう一方
の置換基は水素原子を表わす。)[Formula 10] (wherein, one of X1 and Y1 is a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, a cyano group, an N,N-dimethylamino group, an N,N-diethylamino group, and the number of carbon atoms represents an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylmercapto group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, and the other substituent of X1 and Y1 represents a hydrogen atom.)
【0049】X1及びY1は好ましくはジチオケトピロ
ロピロール基またはジケトピロロピロール基に対してオ
ルト−、メタ−またはパラ位、好ましくはメタ−または
パラ位に位置する。X1 and Y1 are preferably located in the ortho-, meta- or para-position, preferably in the meta- or para-position relative to the dithioketopyrrolopyrrole or diketopyrrolopyrrole group.
【0050】本発明の光重合性組成物に用いられるキナ
クリドン系化合物は前記一般式[4]で表わされる。The quinacridone compound used in the photopolymerizable composition of the present invention is represented by the general formula [4].
【0051】前記一般式[4]において、R1は水素原
子またはアルキル基、好ましくは直鎖アルキル基を表わ
し、R2はアルキル基またはパーハロゲン化アルキル基
、好ましくは直鎖アルキル基又はパーハロゲン化直鎖ア
ルキル基を表わす。In the general formula [4], R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, preferably a straight chain alkyl group, and R2 represents an alkyl group or a perhalogenated alkyl group, preferably a straight chain alkyl group or a perhalogenated straight alkyl group. Represents a chain alkyl group.
【0052】一般式[4]においてR1及びR2で表わ
されるアルキル基は直鎖もしくは枝分れ鎖、飽和もしく
は不飽和であることができ、好ましくは直鎖で1ないし
18個の炭素原子を有し、例えばメチル基、エチル基、
n−プロピル基、n−ブチル基、n−ペンチル基、n−
ヘキシル基、n−ヘプチル基、n−オクチル基、ノニル
基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル
基、テトラデシル基、ペンタデシル基、ヘキサデシル基
、ヘプタデシル基、オクタデシル基が挙げられる。R2
で表わされるパーハロゲン化アルキル基は直鎖もしくは
枝分れ鎖、飽和もしくは不飽和であることができ、好ま
しくは直鎖で1ないし18個の炭素原子を有し、例えば
、トリフルオロメチル基、ペンタクロロエチル基、ヘプ
タブロモ−n−プロピル基、ノナヨード−n−ブチル基
が挙げられる。The alkyl group represented by R1 and R2 in the general formula [4] can be straight chain or branched chain, saturated or unsaturated, preferably straight chain and having 1 to 18 carbon atoms. For example, methyl group, ethyl group,
n-propyl group, n-butyl group, n-pentyl group, n-
Examples include hexyl group, n-heptyl group, n-octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, pentadecyl group, hexadecyl group, heptadecyl group, and octadecyl group. R2
The perhalogenated alkyl group represented by can be straight chain or branched, saturated or unsaturated, preferably straight chain and having 1 to 18 carbon atoms, for example trifluoromethyl group, Examples include pentachloroethyl group, heptabromo-n-propyl group, and nonaiodo-n-butyl group.
【0053】本発明の光重合性組成物に用いられるアゾ
化合物は前記一般式[5]又は[6]で表わされる。The azo compound used in the photopolymerizable composition of the present invention is represented by the above general formula [5] or [6].
【0054】前記一般式[5]又は[6]において、R
1で表わされるアルキル基は、直鎖もしくは枝分れ鎖、
飽和もしくは不飽和であることができ、例えばメチル基
、エチル基、n−プロピル基、イソプロピル基、n−ブ
チル基、第二ブチル基、第三ブチル基、第三アミル基、
n−ペンチル基、n−ヘキシル基が挙げられる。In the general formula [5] or [6], R
The alkyl group represented by 1 is a straight chain or branched chain,
Can be saturated or unsaturated, such as methyl, ethyl, n-propyl, isopropyl, n-butyl, sec-butyl, tert-butyl, tert-amyl,
Examples include n-pentyl group and n-hexyl group.
【0055】R2で表わされるアルキル基は、直鎖もし
くは枝分れ鎖、飽和もしくは不飽和であることができる
。この様な基の例としては、メチル基、エチル基、n−
プロピル基、イソプロピル基、n−ブチル基、第二ブチ
ル基、第三ブチル基、メチルブチル基、n−ヘプチル基
、ステアリル基、ヒドロキシメチル基、トリフルオロメ
チル基、トリフルオロエチル基、シアノエチル基、メト
キシカルボニルメチル基、またはアセトキシメチル基が
挙げられる。これらの基は未置換でも、ヒドロキシ基、
ハロゲン原子、アルコキシ基、アシルオキシ基、アルキ
ルメルカプト基、アルコキシカルボニル基もしくはシア
ノ基で置換されていてもよい。The alkyl group represented by R2 can be straight chain or branched, saturated or unsaturated. Examples of such groups include methyl, ethyl, n-
Propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, tert-butyl group, methylbutyl group, n-heptyl group, stearyl group, hydroxymethyl group, trifluoromethyl group, trifluoroethyl group, cyanoethyl group, methoxy Examples include carbonylmethyl group and acetoxymethyl group. Even if these groups are unsubstituted, hydroxy groups,
It may be substituted with a halogen atom, an alkoxy group, an acyloxy group, an alkylmercapto group, an alkoxycarbonyl group, or a cyano group.
【0056】本発明の光重合開始剤は光重合性組成物中
に、その固形分に対し、一般式[1]で表わされるピロ
ロピロール化合物及び一般式[5]又は[6]で表わさ
れるアゾ化合物の場合は0.1〜20重量%、一般式[
4]で表わされるキナクリドン系化合物の場合は0.1
〜30重量%含有されることが好ましい。The photopolymerization initiator of the present invention contains a pyrrolopyrrole compound represented by the general formula [1] and an azozo compound represented by the general formula [5] or [6] in the photopolymerizable composition based on the solid content. In the case of compounds, 0.1 to 20% by weight, general formula [
4] in the case of a quinacridone compound represented by 0.1
The content is preferably 30% by weight.
【0057】以下に本発明の光重合開始剤の合成例を示
す。Examples of the synthesis of the photopolymerization initiator of the present invention are shown below.
【0058】合成例−1
[ピロロピロール化合物−1]ナトリウム400mgと
スルホコハク酸 ビス−2−エチルヘキシルエステル
のナトリウム塩20mgとを、反応が完了するまで、第
3−アミルアルコール15ml中還流温度で攪拌する。
この清澄な溶液に、テレフタロニトリル1.58mgを
添加し、下記構造式で示されるピロリノン1.68gを
20分かけて少量ずつ添加する。この際温度は85℃に
保持する。Synthesis Example-1 [Pyrrolopyrrole Compound-1] 400 mg of sodium and 20 mg of sodium salt of sulfosuccinic acid bis-2-ethylhexyl ester are stirred at reflux temperature in 15 ml of tertiary-amyl alcohol until the reaction is completed. . To this clear solution, 1.58 mg of terephthalonitrile is added, and 1.68 g of pyrrolinon represented by the following structural formula is added little by little over 20 minutes. At this time, the temperature is maintained at 85°C.
【0059】[0059]
【化11】
暗赤色の反応混合物を85℃で30分間攪拌し、次いで
、第3−アミルアルコール20mlに溶解させた氷酢酸
8mlを添加することにより、酸性にする。100℃で
1.5時間煮沸した後、70℃で濾過する。この濾過ケ
ーキを、無色になるまでメタノールで洗浄し、真空中6
0℃で乾燥すると下記構造式で示される化合物が80%
の収率で単離される。embedded image The dark red reaction mixture is stirred at 85° C. for 30 minutes and then acidified by adding 8 ml of glacial acetic acid dissolved in 20 ml of tertiary-amyl alcohol. After boiling at 100°C for 1.5 hours, filter at 70°C. The filter cake was washed with methanol until colorless and washed in vacuo for 6 minutes.
When dried at 0°C, 80% of the compound represented by the following structural formula
isolated with a yield of .
【0060】[0060]
【化12】
DMF中の吸収スペクトル:λmax[nm]:271
,310,485,520
C15H11N3O2 計算値:C 72.8
4%;H 3.54%;N 13.41%
実測値:C 72.15%;H 3.64%;N
13.40%[Formula 12] Absorption spectrum in DMF: λmax [nm]: 271
,310,485,520 C15H11N3O2 Calculated value: C 72.8
4%; H 3.54%; N 13.41% Actual value: C 72.15%; H 3.64%; N
13.40%
【0061】合成例−2
[ピロロピロール化合物−2]ベンゾイルコハク酸ジエ
チルエステル100gと酢酸アンモニウム111gとを
氷酢酸300ml中で還流下16時間煮沸する。反応混
合物を冷水3リットルに注ぐ。結晶性の沈澱が生成し、
この沈澱を吸引濾過し、水500mlで洗浄する。得ら
れた粗生成物を塩化メチレンで再結晶すると、下記構造
式で示される化合物48.9gが結晶の形で単離される
。Synthesis Example-2 [Pyrrolopyrrole Compound-2] 100 g of diethyl benzoylsuccinate and 111 g of ammonium acetate were boiled under reflux for 16 hours in 300 ml of glacial acetic acid. Pour the reaction mixture into 3 liters of cold water. A crystalline precipitate forms,
The precipitate is filtered with suction and washed with 500 ml of water. When the obtained crude product is recrystallized from methylene chloride, 48.9 g of a compound represented by the following structural formula is isolated in the form of crystals.
【0062】[0062]
【化13】
一方、ナトリウム1.55gとスルホコハク酸 ビス
−2−エチルヘキシルエステルのナトリウム塩(乳化剤
)を、反応が完了するまで、第3−アミルアルコール2
7ml中還流温度で攪拌する。この清澄な溶液にp−ト
ルニトリル6gを100℃で添加し、次いで、上記構造
式で示される化合物5.1gを少しずつ30分かけて添
加する。[Chemical Formula 13] Meanwhile, 1.55 g of sodium and the sodium salt of sulfosuccinic acid bis-2-ethylhexyl ester (emulsifier) were mixed with tertiary-amyl alcohol 2 until the reaction was completed.
Stir in 7 ml at reflux temperature. To this clear solution, 6 g of p-tolnitrile is added at 100 DEG C., and then 5.1 g of the compound represented by the above structural formula is added little by little over 30 minutes.
【0063】反応混合物を100℃で1時間攪拌し、そ
の後冷水200mlに注ぐ。この反応混合物を還流温度
で1時間攪拌し、次いで、水蒸気を1時間導入し有機溶
剤を除去する。こうして得られた化合物の懸濁物を濾過
し、濾過ケーキを真空中80℃で乾燥すると、下記構造
式で示される化合物が49%の収率で単離される。The reaction mixture is stirred at 100° C. for 1 hour and then poured into 200 ml of cold water. The reaction mixture is stirred for 1 hour at reflux temperature and then steam is introduced for 1 hour to remove the organic solvent. The suspension of the compound thus obtained is filtered and the filter cake is dried in vacuo at 80° C., the compound having the following structural formula is isolated in a yield of 49%.
【0064】[0064]
【化14】
UV/VIS(NMP,λmax),307(1400
0),312(14000)472(23000),5
07(35600)C19H14N2O2 計算
値:C 75.48%;H 4.67%;N 9
.27%
実測値:C 75.30%;H 4.70%;N
9.23%[Chemical formula 14] UV/VIS (NMP, λmax), 307 (1400
0), 312 (14000) 472 (23000), 5
07 (35600) C19H14N2O2 Calculated value: C 75.48%; H 4.67%; N 9
.. 27% Actual value: C 75.30%; H 4.70%; N
9.23%
【0065】合成例−3
[ピロロピロール化合物−3]テトラヒドロフロン15
0ml中のアリル亜鉛プロミド9.3g(0.05モル
)の溶液を、テトラヒドロフラン50ml中のエチルβ
−アミノシンナメート9.55g(0.05モル)溶液
に加え、混合物を10℃で3時間反応させた。ついで溶
媒を真空下で留去して、得られた塩をベンゾニトリル5
0ml中に溶解し、この溶液にエチルブロムアセテート
8.35g(0.05モル)を添加した。
混合物を120℃で8時間攪拌し、ついで赤色懸濁液を
冷却し、アセトン50mlで希釈し、そしてさらに10
分間攪拌した。そのバッチをろ過し、残渣をアセトンで
洗浄し、そして氷酢酸25ml中で還流温度で4時間沸
騰させて精製した。生成物をろ過によって単離し、アセ
トンで再度洗浄し、そして真空下で80℃で乾燥して下
記構造式で示される化合物3.2gを得た。Synthesis Example-3 [Pyrrolopyrrole Compound-3] Tetrahydrofuron 15
A solution of 9.3 g (0.05 mol) of allylzinc bromide in 0 ml was dissolved in ethyl β in 50 ml of tetrahydrofuran.
-Aminocinnamate 9.55g (0.05mol) solution and the mixture was reacted at 10°C for 3 hours. The solvent was then distilled off under vacuum and the resulting salt was dissolved in benzonitrile 5
8.35 g (0.05 mol) of ethyl bromoacetate was added to this solution. The mixture was stirred at 120° C. for 8 hours, then the red suspension was cooled, diluted with 50 ml of acetone and further diluted with 10 ml of acetone.
Stir for a minute. The batch was filtered, the residue washed with acetone and purified by boiling in 25 ml of glacial acetic acid at reflux temperature for 4 hours. The product was isolated by filtration, washed again with acetone, and dried under vacuum at 80° C. to yield 3.2 g of a compound with the following structural formula.
【0066】[0066]
【化15】
次いで、プロペラミキサー、温度計及び還流冷却器を付
けた200mlのスルホン化用フラスコに、窒素雰囲気
下で上記構造式で示される化合物2.89g及び2,4
−ビス(4−メトキシフェニル)−1,3−ジチア−2
,4−ジホスフェタン2,4−ジスルフィド(Lawe
sson試薬)4.95gを入れ、その後該化合物を、
キシレン混合物60ml及びヘキサメチルリン酸トリア
ミド25mlで覆う。混合物を激しく攪拌した後、還流
下133℃に加熱する。7時間煮沸した後、混合物を約
90℃に冷却する。得られた生成物を濾過により単離し
、温めたキシレンで洗浄し、その後少量のアセトンで、
最後にメタノールで洗浄した後、減圧下90℃で乾燥す
ると下記構造式で表わされる化合物3.04gが黒色を
帯びた青色の結晶性粉末として得られる。embedded image Next, 2.89 g of the compound represented by the above structural formula and 2,4
-bis(4-methoxyphenyl)-1,3-dithia-2
, 4-diphosphetane 2,4-disulfide (Lawe
sson reagent), and then the compound,
Cover with 60 ml of xylene mixture and 25 ml of hexamethylphosphoric triamide. The mixture is stirred vigorously and then heated to 133° C. under reflux. After boiling for 7 hours, the mixture is cooled to about 90°C. The resulting product was isolated by filtration, washed with warm xylene and then with a small amount of acetone.
Finally, after washing with methanol and drying at 90° C. under reduced pressure, 3.04 g of a compound represented by the following structural formula is obtained as a blackish blue crystalline powder.
【0067】[0067]
【化16】
DMF中の吸収スペクトル:λmax[nm]:500
,589,622[Formula 16] Absorption spectrum in DMF: λmax [nm]: 500
,589,622
【0068】合成例−4
[キナクリドン系化合物−1]アニリンとヘキシルアル
コールからp−ヘキシルアニリン(II)を調製し、(
II)とスクシニルコハク酸ジエチル(III)とをエ
タノール中塩酸酸性で縮合させて化合物(IV)を合成
した。これを、フタル酸ジ−n−ブチル中150℃で2
時間攪拌して熱閉環を行うことにより化合物(V)と化
合物(VI)の混合物を得た。この混合物を減圧昇華す
ることにより構造式(VI)で示されるキナクリドン系
化合物−1が56%の収率で単離された。
H2SO4中の吸収スペクトル:λmax[nm]:3
05,396,559,606Synthesis Example-4 [Quinacridone Compound-1] p-hexylaniline (II) was prepared from aniline and hexyl alcohol, and (
Compound (IV) was synthesized by condensing II) and diethyl succinylsuccinate (III) with hydrochloric acid in ethanol. This was dissolved in di-n-butyl phthalate at 150°C for 2 hours.
A mixture of compound (V) and compound (VI) was obtained by performing thermal ring closure with stirring for a period of time. By sublimating this mixture under reduced pressure, quinacridone compound-1 represented by structural formula (VI) was isolated in a yield of 56%. Absorption spectrum in H2SO4: λmax [nm]: 3
05,396,559,606
【0069】[0069]
【化17】[Chemical formula 17]
【0070】合成例−5
[キナクリドン系化合物−2]合成例−4に示した方法
に従い、化合物(V)と化合物(VI)の混合物を得た
。
この混合物を相間移動触媒を用いて臭化オクチルと反応
させN−アルキル化し、構造式(VII)で示されるキ
ナクリドン系化合物−2が収率11%で得られた。
CHCl3中の吸収スペクトル:λmax[nm]:3
03,500,535Synthesis Example-5 [Quinacridone Compound-2] According to the method shown in Synthesis Example-4, a mixture of compound (V) and compound (VI) was obtained. This mixture was N-alkylated by reacting with octyl bromide using a phase transfer catalyst to obtain quinacridone compound-2 represented by structural formula (VII) in a yield of 11%. Absorption spectrum in CHCl3: λmax [nm]: 3
03,500,535
【0071】[0071]
【化18】[Chemical formula 18]
【0072】合成例−6
[キナクリドン系化合物−3]p−ヨードアニリンとヨ
ウ化パーフルオロヘキシルからp−パーフルオロヘキシ
ルアニリン(VIII)を合成し、(VIII)とスク
シニルコハク酸ジエチル(III)とをエタノール中塩
酸酸性で縮合させて化合物(IV)を合成した。これを
、フタル酸ジ−n−ブチル中150℃で2時間攪拌して
熱閉環を行うことにより化合物(X)と化合物(XI)
の混合物を得た。
この混合物を減圧昇華することにより構造式(XI)で
示されるキナクリドン系化合物−3が収率34%で単離
された。
H2SO4中の吸収スペクトル:λmax[nm]:2
99,385,547,591Synthesis Example-6 [Quinacridone Compound-3] p-Perfluorohexylaniline (VIII) was synthesized from p-iodoaniline and perfluorohexyl iodide, and (VIII) and diethyl succinyl succinate (III) were synthesized. was condensed with hydrochloric acid in ethanol to synthesize compound (IV). This was stirred in di-n-butyl phthalate at 150°C for 2 hours to perform thermal ring closure to form compound (X) and compound (XI).
A mixture of was obtained. By sublimating this mixture under reduced pressure, quinacridone compound-3 represented by structural formula (XI) was isolated in a yield of 34%. Absorption spectrum in H2SO4: λmax [nm]: 2
99,385,547,591
【0073】[0073]
【化19】[Chemical formula 19]
【0074】合成例−7
[アゾ化合物−1]アセナフテン(III)をニトロ化
、酸化、エチルイミド化し、ついで還元して4−アミノ
−N−エチル−1,8−ナフタレンジカルボキシイミド
(IV)を合成し、さらに(IV)をニトロシル硫酸法
によりジアゾ化して化合物(V)を得た。化合物(V)
と4−メチル−1−ナフトール(VI)とをアルカリ性
で5±1℃、3時間カップリングを行って、構造式(V
II)で示されるアゾ化合物−1が73%の収率で得ら
れた。
DMF中の吸収スペクトル:λmax[nm]:493
Synthesis Example-7 [Azo Compound-1] Acenaphthene (III) is nitrated, oxidized, ethylimidated, and then reduced to yield 4-amino-N-ethyl-1,8-naphthalene dicarboximide (IV). Compound (V) was obtained by diazotizing (IV) by the nitrosyl sulfuric acid method. Compound (V)
and 4-methyl-1-naphthol (VI) were coupled in alkaline conditions at 5±1°C for 3 hours to obtain the structural formula (V
Azo compound-1 represented by II) was obtained with a yield of 73%. Absorption spectrum in DMF: λmax [nm]: 493
【0075】[0075]
【化20】[C20]
【0076】合成例−8
[アゾ化合物−2]合成例−7に示した方法に従い、化
合物(V)を得た。化合物(V)と3,6−ジエチル−
1−ナフトール(VIII)とをアルカリ性で5±1℃
、3時間カップリングを行って、構造式(IX)で示さ
れるアゾ化合物−2が54%の収率で得られた。
DMF中の吸収スペクトル:λmax[nm]:500
Synthesis Example-8 [Azo Compound-2] Compound (V) was obtained according to the method shown in Synthesis Example-7. Compound (V) and 3,6-diethyl-
1-naphthol (VIII) in an alkaline condition at 5±1°C.
After coupling for 3 hours, azo compound-2 represented by structural formula (IX) was obtained in a yield of 54%. Absorption spectrum in DMF: λmax [nm]: 500
【0077】[0077]
【化21】[C21]
【0078】合成例−9
[アゾ化合物−3]アセナフテン(III)をニトロ化
、酸化、プロピルイミド化ついで還元して4−アミノ−
N−プロピル−1,8−ナフタレンジカルボキシイミド
を合成し、これをさらにニトロシル硫酸法によりジアゾ
化して化合物(X)を得た。化合物(X)と8−エチル
−1−ナフトール(XI)とをアルカリ性で5±1℃、
3時間カップリングを行って、構造式(XII)で示さ
れるアゾ化合物−3が38%の収率で得られた。
DMF中の吸収スペクトル:λmax[nm]:512
Synthesis Example-9 [Azo Compound-3] Acenaphthene (III) is nitrated, oxidized, propylimidated, and then reduced to form 4-amino-
N-propyl-1,8-naphthalene dicarboximide was synthesized, and this was further diazotized by the nitrosyl sulfuric acid method to obtain compound (X). Compound (X) and 8-ethyl-1-naphthol (XI) were heated under alkaline conditions at 5±1°C.
Coupling was performed for 3 hours, and azo compound-3 represented by structural formula (XII) was obtained in a yield of 38%. Absorption spectrum in DMF: λmax [nm]: 512
【0079】[0079]
【化22】[C22]
【0080】本発明においては、本発明の光重合開始剤
と他の光重合開始剤とを併用させることができる。In the present invention, the photopolymerization initiator of the present invention and other photopolymerization initiators can be used together.
【0081】本発明の光重合開始剤と併用できる光重合
開始剤としては、例えば、J.Kosar著「ライト・
センシシティブ・システムズ」第5章に記載されている
ようなカルボニル化合物、有機硫黄化合物、過流化物、
レドックス系化合物、アゾ並びにジアゾ化合物、ハロゲ
ン化合物、光還元性色素などがある。更に具体的には英
国特許第1,459,563号に開示されている。Photopolymerization initiators that can be used in combination with the photopolymerization initiator of the present invention include, for example, J. Written by Kosar “Light
Carbonyl compounds, organic sulfur compounds, perfusates, as described in Chapter 5 of “Sensitive Systems”
Examples include redox compounds, azo and diazo compounds, halogen compounds, and photoreducible dyes. More specifically, it is disclosed in British Patent No. 1,459,563.
【0082】例えばベンゾインメチルエーテル、ベンゾ
インイソプロピルエーテル、α,α−ジメトキシ−α−
フェニルアセトフェノン等のベンゾイン誘導体、ベンゾ
フェノン、2,4−ジクロルベンゾフェノン、o−ベン
ゾイル安息香酸メチル、4,4′−ビス(ジメチルアミ
ノ)ベンゾフェノン、4,4′−ビス(ジエチルアミノ
)ベンゾフェノン等のベンゾフェノン誘導体、2−クロ
ルチオキサントン、2−イソプロピルチオキサントン等
のチオキサントン誘導体、2−クロルアントラキノン、
2−メチルアントラキノン等のアントラキノン誘導体、
N−メチルアクリドン、N−ブチルアクリドン等のアク
リドン誘導体、α,α−ジエトキシアセトフェノン、ベ
ンジル、フレオレノン、キサントン、ウラニル化合物、
ハロゲン化合物等が挙げられる。For example, benzoin methyl ether, benzoin isopropyl ether, α,α-dimethoxy-α-
Benzoin derivatives such as phenylacetophenone, benzophenone derivatives such as benzophenone, 2,4-dichlorobenzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4'-bis(dimethylamino)benzophenone, 4,4'-bis(diethylamino)benzophenone , thioxanthone derivatives such as 2-chlorothioxanthone and 2-isopropylthioxanthone, 2-chloroanthraquinone,
anthraquinone derivatives such as 2-methylanthraquinone,
Acridone derivatives such as N-methylacridone and N-butylacridone, α,α-diethoxyacetophenone, benzyl, fluorenone, xanthone, uranyl compounds,
Examples include halogen compounds.
【0083】更に、本発明の光重合性組成物に用いられ
るバインダー樹脂としては、公知の種々のポリマーを使
用することができる。具体的なバインダーの詳細は、米
国特許第4,072,527号に記載されており、より
好ましくは特開昭54−98613号公報に記載されて
いるような芳香族性水酸基を有する単量体、例えばN−
(4−ヒドロキシフェニル)アクリルアミド、N−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、o−、m−
、またはp−ヒドロキシスチレン、o−、m−、または
p−ヒドロキシフェニルメタクリレート等と他の単量体
との共重合体、米国特許第4,123,276号明細書
中に記載されているようなヒドロキシエチルアクリレー
ト単位またはヒドロキシエチルメタクリレート単位を主
なる繰り返し単位として含むポリマー、シェラック、ロ
ジン等の天然樹脂、ポリビニルアルコール、米国特許第
3,751,257号明細書中に記載されているような
ポリアミド樹脂、米国特許第3,660,097号明細
書中に記載されているような線状ポリウレタン樹脂、ポ
リビニルアルコールのフタレート化樹脂、ビスフェノー
ルAとエピクロルヒドリンから縮合されたエポキシ樹脂
、酢酸セルロース、セルロースアセテートフタレート等
のセルロース類が包含される。Furthermore, various known polymers can be used as the binder resin used in the photopolymerizable composition of the present invention. Details of the specific binder are described in U.S. Pat. No. 4,072,527, and more preferably monomers having an aromatic hydroxyl group as described in JP-A-54-98613. , for example N-
(4-hydroxyphenyl)acrylamide, N-(4
-hydroxyphenyl) methacrylamide, o-, m-
or copolymers of p-hydroxystyrene, o-, m-, or p-hydroxyphenyl methacrylate, etc., with other monomers, as described in U.S. Pat. No. 4,123,276. Polymers containing hydroxyethyl acrylate units or hydroxyethyl methacrylate units as the main repeating unit, natural resins such as shellac, rosin, polyvinyl alcohol, polyamides such as those described in U.S. Pat. No. 3,751,257. resins, linear polyurethane resins as described in U.S. Pat. No. 3,660,097, phthalated resins of polyvinyl alcohol, epoxy resins condensed from bisphenol A and epichlorohydrin, cellulose acetate, cellulose acetate phthalate. These include celluloses such as.
【0084】上記バインダー樹脂は光重合組成物中に、
その固形分に対し20〜80重量%含有される。[0084] The above binder resin is included in the photopolymerizable composition.
It is contained in an amount of 20 to 80% by weight based on the solid content.
【0085】本発明の光重合性組成物には、感脂化剤、
界面活性剤、増感剤、安定化剤、熱重合禁止剤、可塑剤
、染料や顔料等の色素などの添加剤類を含有させること
ができる。これらの添加剤は、その種類によって組成物
中における添加量は異るが、概して組成物に対して、0
.01〜20重量%、好ましくは0.05〜10重量%
が含有される。The photopolymerizable composition of the present invention contains a fat-sensitizing agent,
Additives such as surfactants, sensitizers, stabilizers, thermal polymerization inhibitors, plasticizers, and pigments such as dyes and pigments can be included. The amount of these additives added to the composition varies depending on the type, but in general, the amount of these additives added to the composition is 0.
.. 01-20% by weight, preferably 0.05-10% by weight
Contains.
【0086】本発明の光重合性組成物は、その用途は特
に限定されるものではないが、好ましくは製版材料に用
いられる。この製版材料には、例えばPS版等の平版印
刷版や湿し水不要感光性平版印刷版があり、特に湿し水
不要感光性平版印刷版に用いることが好ましい。The use of the photopolymerizable composition of the present invention is not particularly limited, but it is preferably used as a plate-making material. This plate-making material includes, for example, a lithographic printing plate such as a PS plate and a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, and is particularly preferably used in a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water.
【0087】この湿し水不要感光性平版印刷版は、支持
体上に感光層、インキ反撥層(例えばシリコーンゴム層
)及び必要に応じ保護層が順に被覆されているものであ
り、好ましくは支持体と感光層との間にプライマー層が
設けられている。This photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water is one in which a support is coated with a photosensitive layer, an ink repellent layer (for example, a silicone rubber layer), and an optional protective layer in this order. A primer layer is provided between the body and the photosensitive layer.
【0088】湿し水不要感光性平版印刷版は、現像後、
画像部のシリコーンゴム層のみが除去されるタイプのも
のにも使用されるが、好ましくは現像後、画像部の感光
層が除去され、画像部のプライマー層が露出されるタイ
プのものがよい。[0088] After development, the photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water
A type in which only the silicone rubber layer in the image area is removed is also used, but a type in which the photosensitive layer in the image area is removed after development and the primer layer in the image area is exposed is preferable.
【0089】上記版材料の製造方法は、支持体上に設け
られたプライマー層を光硬化した後、感光層及びインキ
反撥層を順に塗設することが必要である。[0089] In the method for producing the plate material described above, it is necessary to photocure the primer layer provided on the support, and then apply the photosensitive layer and the ink repellent layer in this order.
【0090】プライマー層としては、例えばポリエステ
ル樹脂、塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、アクリル樹
脂、塩化ビニル樹脂、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチ
ラール樹脂、エポキシ樹脂、アクリレート系共重合体、
酢酸ビニル系共重合体、フェノキシ樹脂、ポリウレタン
樹脂、ポリカーボネート樹脂、ポリアクリロニトリルブ
タジエン、ポリ酢酸ビニル等が挙げられる。また上記プ
ライマー層を構成するアンカー剤としては、例えばシラ
ンカップリング剤、シリコーンプライマー等を用いるこ
とができ、また有機チタネート等も有効である。Examples of the primer layer include polyester resin, vinyl chloride-vinyl acetate copolymer, acrylic resin, vinyl chloride resin, polyamide resin, polyvinyl butyral resin, epoxy resin, acrylate copolymer,
Examples include vinyl acetate copolymers, phenoxy resins, polyurethane resins, polycarbonate resins, polyacrylonitrile butadiene, and polyvinyl acetate. Further, as the anchor agent constituting the primer layer, for example, a silane coupling agent, a silicone primer, etc. can be used, and organic titanates and the like are also effective.
【0091】上記のプライマー層の厚さは、6μm以上
あることが好ましく、特に好ましくは6μm〜50μm
である。プライマー層の厚さが、6μm以下の場合は、
シリコーンゴム層に硬いもので衝撃が加わったり現像ブ
ラシ、布等でこすられるとシリコーンゴム層は傷がつい
てしまう。これに対して6μm以上の場合には上記の衝
撃やこすりがプライマー層で緩和(クッション作用)さ
れて傷つきにくくなる。[0091] The thickness of the above primer layer is preferably 6 μm or more, particularly preferably 6 μm to 50 μm.
It is. If the thickness of the primer layer is 6 μm or less,
If the silicone rubber layer is subjected to an impact with a hard object or rubbed with a developing brush, cloth, etc., the silicone rubber layer will be damaged. On the other hand, if the thickness is 6 .mu.m or more, the above-mentioned impact or rubbing is alleviated (cushioning effect) by the primer layer, making it less likely to be damaged.
【0092】支持体としては、通常の平版印刷機にセッ
トできるたわみ性と印刷時に加わる荷重に耐えるもので
あることが好ましく、例えばアルミニウム、亜鉛、銅、
鋼等の金属板、及びクロム、亜鉛、銅、ニッケル、アル
ミニウム及び鉄等がメッキまたは蒸着された金属板、紙
、プラスチックフィルム及びガラス板、樹脂コート紙、
アルミニウム等の金属箔が張られた紙等が挙げられる。The support is preferably one that is flexible enough to be set in a normal lithographic printing machine and that can withstand the load applied during printing, such as aluminum, zinc, copper,
Metal plates such as steel, metal plates plated or vapor-deposited with chromium, zinc, copper, nickel, aluminum, iron, etc., paper, plastic films and glass plates, resin coated paper,
Examples include paper covered with metal foil such as aluminum.
【0093】これらのうち好ましいものはアルミニウム
板である。Among these, preferred is an aluminum plate.
【0094】上記接着性向上のための支持体自体に対す
る処理は特に限定されるものではなく、各種粗面化処理
等が含まれる。[0094] The treatment for the support itself to improve the adhesiveness is not particularly limited, and includes various surface roughening treatments.
【0095】本発明の光重合性組成物を湿し水不要感光
性平版印刷版に使用する場合、その版材を構成する各層
の厚さは、以下の通りである。即ち支持体は50〜40
0μm、好ましくは100〜300μm、感光層は0.
05〜10μm、好ましくは0.5〜5μm、シリコー
ンゴム層は0.1〜10μm、好ましくは0.5〜2μ
mである。When the photopolymerizable composition of the present invention is used in a photosensitive lithographic printing plate that does not require dampening water, the thickness of each layer constituting the plate material is as follows. That is, the support is 50 to 40
0 μm, preferably 100 to 300 μm, and the photosensitive layer has a thickness of 0.0 μm.
05-10μm, preferably 0.5-5μm, silicone rubber layer 0.1-10μm, preferably 0.5-2μm
It is m.
【0096】本発明の光重合性組成物は低出力の可視光
レーザーに感応するものであるが、本発明に用いられる
レーザー光線としては、例えばHe−Ne、He−Cd
、アルゴン、クリプトン等の連続発振可能なものが挙げ
られ、出力エネルギー、レーザー管の寿命、発振効率等
を考慮すると、アルゴンレーザー(出力0.1〜5W)
が好ましい。The photopolymerizable composition of the present invention is sensitive to a low-power visible light laser, and examples of the laser beam used in the present invention include He-Ne, He-Cd, etc.
, argon, krypton, etc., which are capable of continuous oscillation. Considering output energy, laser tube life, oscillation efficiency, etc., argon laser (output 0.1 to 5 W) is recommended.
is preferred.
【0097】[0097]
【実施例】以下、実施例をあげて本発明を更に具体的に
説明する。[Examples] The present invention will be explained in more detail below with reference to Examples.
【0098】実施例1
砂目立てして陽極酸化処理したアルミ板上に、以下の感
光性組成物を塗布量が2g/m2になるようにホワラー
で塗布し記録材料を得た。Example 1 A recording material was obtained by applying the following photosensitive composition to a coating amount of 2 g/m 2 using a whirler on a grained and anodized aluminum plate.
【0099】
[感光性組成物]
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、メタクリル酸のモ
ル比40/57/3の共重合体
14重量部ペンタエリスリト
ールトリアクリレート
50重量部ピロロピロール化合物−1
5重量部メチルエチルケトン
400重量部トルエン
400重量
部この記録材料に対して、アルゴンイオンレーザーで出
力2.5W、ビーム径1.25mmで照射し、下記の現
像液で現像し、不溶部分の径が1.0mmになるのに要
する照射時間を測定した。レーザー照射エネルギーを計
算した結果を表1に示す。[Photosensitive composition] Copolymer of 2-hydroxyethyl methacrylate, N-(4-hydroxyphenyl) methacrylamide, and methacrylic acid in a molar ratio of 40/57/3
14 parts by weight Pentaerythritol triacrylate
50 parts by weight pyrrolopyrrole compound-1
5 parts by weight methyl ethyl ketone
400 parts by weight toluene
400 parts by weight This recording material is irradiated with an argon ion laser at an output of 2.5 W and a beam diameter of 1.25 mm, and developed with the developer shown below. The time was measured. Table 1 shows the results of calculating the laser irradiation energy.
【0100】
[現像液]
β−アニリノエタノール
0.5
重量部 プロピレングリコール
1.0重量部 p−tert−ブチル安息香酸
1.0重量部 水酸化カリウム
1.0重量部 ポリオキシ
エチレンラウリルエーテル
0.1重量部 亜硫酸カリウム
2.0重量部 メ
タ珪酸カリウム
3.0
重量部 水
91重量部[Developer] β-anilinoethanol
0.5
Part by weight Propylene glycol
1.0 parts by weight p-tert-butylbenzoic acid
1.0 parts by weight Potassium hydroxide
1.0 parts by weight polyoxyethylene lauryl ether
0.1 parts by weight Potassium sulfite
2.0 parts by weight Potassium metasilicate
3.0
Weight part Water
91 parts by weight
【0101】実施例
2
下記の光重合性組成物を用いた以外は、実施例1と同様
に記録材料を作製し、レーザー照射し現像を行った結果
を表1に示す。Example 2 A recording material was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following photopolymerizable composition was used, and the material was irradiated with a laser and developed. Table 1 shows the results.
【0102】
[感光性組成物]
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、N−(4−ヒド
ロキシフェニル)メタクリルアミド、アクリロニトリル
、メタクリル酸メチルのモル比40/30/10/20
の共重合体 14重
量部トリメチロールプロパントリエトキシトリアクリレ
ート 40重量部2−エチルアントラキノ
ン
2重量部ピロロピロール化合物−
2
2重量部メチルエチルケトン
200重量部トルエン
200重量部
[Photosensitive composition] Molar ratio of 2-hydroxyethyl methacrylate, N-(4-hydroxyphenyl)methacrylamide, acrylonitrile, and methyl methacrylate 40/30/10/20
Copolymer of: 14 parts by weight Trimethylolpropanetriethoxytriacrylate 40 parts by weight 2-ethylanthraquinone
2 parts by weight pyrrolopyrrole compound
2
2 parts by weight methyl ethyl ketone
200 parts by weight toluene
200 parts by weight
【0103】実施例3
下記の光重合性組成物を用いた以外は、実施例1と同様
に記録材料を作製し、レーザー照射し、現像を行った結
果を表1に示す。Example 3 A recording material was prepared in the same manner as in Example 1, except that the following photopolymerizable composition was used, and the material was irradiated with a laser and developed. Table 1 shows the results.
【0104】
[感光性組成物]
スチレン/メタクリル酸のモル比が80/20の共重合
体 34重量部ペンタエリスリトール
トリアクリレート
100重量部ミヒラーズケトン
10重量部ピロロピロール化合物−3
10重量部メチルエチルケトン
1000重量部トルエン
1000重量部[Photosensitive composition] Copolymer with a styrene/methacrylic acid molar ratio of 80/20 34 parts by weight pentaerythritol triacrylate
100 parts by weight Michler's ketone
10 parts by weight pyrrolopyrrole compound-3
10 parts by weight methyl ethyl ketone
1000 parts by weight toluene
1000 parts by weight
【
0105】[
0105]
【表1】
実施例1〜3のいずれも実用上十分な記録感度を示した
。[Table 1] All of Examples 1 to 3 showed practically sufficient recording sensitivity.
【0106】実施例4
ピロロピロール化合物−1をキナクリドン系化合物−1
に変えた以外は実施例1と同様に記録材料を作製し、レ
ーザー照射し、現像を行なった。結果を表2に示す。Example 4 Pyrrolopyrrole compound-1 was converted into quinacridone compound-1
A recording material was produced in the same manner as in Example 1, except that the material was changed to , and was irradiated with a laser and developed. The results are shown in Table 2.
【0107】実施例5
ピロロピロール化合物−2をキナクリドン系化合物−2
に変えた以外は実施例2と同様に記録材料を作製し、レ
ーザー照射し、現像を行なった。結果を表2に示す。Example 5 Pyrrolopyrrole compound-2 was converted into quinacridone compound-2
A recording material was produced in the same manner as in Example 2, except that the material was changed to , and was irradiated with a laser and developed. The results are shown in Table 2.
【0108】実施例6
ピロロピロール化合物−3をキナクリドン系化合物−3
に変えた以外は実施例3と同様に記録材料を作製し、レ
ーザー照射し、現像を行なった。結果を表2に示す。Example 6 Pyrrolopyrrole compound-3 was converted to quinacridone compound-3
A recording material was produced in the same manner as in Example 3, except that the material was changed to , and was irradiated with a laser and developed. The results are shown in Table 2.
【0109】[0109]
【表2】
実施例4〜6のいずれも実用上十分な記録感度を示した
。[Table 2] All of Examples 4 to 6 showed practically sufficient recording sensitivity.
【0110】実施例7
ピロロピロール化合物−1をアゾ化合物−1に変えた以
外は実施例1と同様に記録材料を作製し、レーザー照射
し、現像を行なった。結果を表3に示す。Example 7 A recording material was prepared in the same manner as in Example 1 except that pyrrolopyrrole compound-1 was changed to azo compound-1, and the material was irradiated with a laser and developed. The results are shown in Table 3.
【0111】実施例8
ピロロピロール化合物−2をアゾ化合物−2に変えた以
外は実施例2と同様に記録材料を作製し、レーザー照射
し、現像を行なった。結果を表3に示す。Example 8 A recording material was prepared in the same manner as in Example 2 except that pyrrolopyrrole compound-2 was changed to azo compound-2, and the material was irradiated with a laser and developed. The results are shown in Table 3.
【0112】実施例9
ピロロピロール化合物−3をアゾ化合物−3に変えた以
外は実施例3と同様に記録材料を作製し、レーザー照射
し、現像を行なった。結果を表3に示す。Example 9 A recording material was prepared in the same manner as in Example 3, except that pyrrolopyrrole compound-3 was replaced with azo compound-3, and the material was irradiated with a laser and developed. The results are shown in Table 3.
【0113】[0113]
【表3】
実施例7〜9のいずれも実用上十分な記録感度を示した
。[Table 3] All of Examples 7 to 9 showed practically sufficient recording sensitivity.
【0114】[0114]
【発明の効果】以上詳細に説明したように、本発明によ
り高感度で、低出力の可視光レーザーに感応し、製版印
刷版に使用可能な光重合性組成物を提供することができ
る。EFFECTS OF THE INVENTION As described above in detail, the present invention makes it possible to provide a photopolymerizable composition that is highly sensitive, sensitive to low-power visible light laser, and usable for plate making printing plates.
Claims (5)
バインダー樹脂及び下記一般式[1]で表わされるピロ
ロピロール化合物を含有することを特徴とする光重合性
組成物。 【化1】 (式中、A及びBは同一または異なるアルキル基、アル
アルキル基、シクロアルキル基、または炭素環もしくは
複素環式の芳香族基を表わし、R1及びR2はそれぞれ
水素原子または水溶性を付与しない置換基を表わし、E
は硫黄原子または酸素原子を表わす。)1. At least an ethylenically unsaturated compound,
A photopolymerizable composition comprising a binder resin and a pyrrolopyrrole compound represented by the following general formula [1]. [Formula 1] (wherein A and B represent the same or different alkyl group, aralkyl group, cycloalkyl group, or carbocyclic or heterocyclic aromatic group, and R1 and R2 are each a hydrogen atom or a water-soluble Represents a substituent that does not have E
represents a sulfur atom or an oxygen atom. )
、A及びBがそれぞれ同一又は異なる下記一般式[2]
で表わされる基であることを特徴とする請求項1記載の
光重合性組成物。 【化2】 (式中、X,Y及びZは各々独立に水素原子、ハロゲン
原子、トリフルオロメチル基、シアノ基、炭素原子数1
ないし12のアルキル基、炭素原子数1ないし12のア
ルコキシ基、炭素原子数1ないし12のアルキルメルカ
プト基、炭素原子数2ないし6のアルコキシカルボニル
基、炭素原子数2ないし6のジアルキルアミノ基、また
は各々未置換またはハロゲン原子、炭素原子数1ないし
6のアルキル基もしくは炭素原子数1ないし6のアルコ
キシ基により置換されたフェノキシ基、フェニルメルカ
プト基もしくはフェノキシカルボニル基を表わし、置換
基X,Y及びZのうち少なくとも1個は水素原子を表わ
す。)[Claim 2] In the general formula [1] according to claim 1, A and B are each the same or different, and the following general formula [2]
The photopolymerizable composition according to claim 1, which is a group represented by: [Formula 2] (wherein, X, Y and Z each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a trifluoromethyl group, a cyano group, or a carbon atom number of 1
an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylmercapto group having 1 to 12 carbon atoms, an alkoxycarbonyl group having 2 to 6 carbon atoms, a dialkylamino group having 2 to 6 carbon atoms, or Each represents a phenoxy group, a phenylmercapto group, or a phenoxycarbonyl group which is unsubstituted or substituted with a halogen atom, a C1-C6 alkyl group, or a C1-C6 alkoxy group, and the substituents X, Y and Z At least one of them represents a hydrogen atom. )
、A及びBがそれぞれ同一又は異なる下記一般式[3]
で表わされる基であることを特徴とする請求項1記載の
光重合性組成物。 【化3】 (式中、X1及びY1のうちの1方は水素原子、塩素原
子、臭素原子、メチル基、シアノ基、N,N−ジメチル
アミノ基、N,N−ジエチルアミノ基、炭素原子数1な
いし12のアルコキシ基、炭素原子数1ないし12のア
ルキルメルカプト基または炭素原子数2ないし4のアル
コキシカルボニル基を表わし、X1及びY1のもう一方
の置換基は水素原子を表わす。)[Claim 3] In the general formula [1] according to claim 1, A and B are each the same or different, the following general formula [3]
The photopolymerizable composition according to claim 1, which is a group represented by: [Formula 3] (wherein, one of X1 and Y1 is a hydrogen atom, a chlorine atom, a bromine atom, a methyl group, a cyano group, an N,N-dimethylamino group, an N,N-diethylamino group, and the number of carbon atoms represents an alkoxy group having 1 to 12 carbon atoms, an alkylmercapto group having 1 to 12 carbon atoms, or an alkoxycarbonyl group having 2 to 4 carbon atoms, and the other substituent of X1 and Y1 represents a hydrogen atom.)
バインダー樹脂及び下記一般式[4]で表わされるキナ
クリドン系化合物を含有することを特徴とする光重合性
組成物。 【化4】 (式中、R1は水素原子またはアルキル基を表わし、R
2はアルキル基またはパーハロゲン化アルキル基を表わ
す。)4. At least an ethylenically unsaturated compound,
A photopolymerizable composition comprising a binder resin and a quinacridone compound represented by the following general formula [4]. embedded image (wherein, R1 represents a hydrogen atom or an alkyl group, and R
2 represents an alkyl group or a perhalogenated alkyl group. )
、バインダー樹脂及び下記一般式[5]又は[6]で表
わされるアゾ化合物を含有することを特徴とする光重合
性組成物。 【化5】 (式中、R1はアルキル基を表わし、R2及びR3はそ
れぞれ水素原子、ハロゲン原子、アルキル基、アルコキ
シ基、シアノ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、アシ
ルオキシ基、アルキルメルカプト基、又はアルコキシカ
ルボニル基を表わす。)5. A photopolymerizable composition containing at least an ethylenically unsaturated compound, a binder resin, and an azo compound represented by the following general formula [5] or [6]. (In the formula, R1 represents an alkyl group, and R2 and R3 are each a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group, an alkoxy group, a cyano group, a carboxyl group, a hydroxy group, an acyloxy group, an alkylmercapto group, or an alkoxy (Represents a carbonyl group.)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13347991A JPH04333850A (en) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | Photopolymerizable composition |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13347991A JPH04333850A (en) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | Photopolymerizable composition |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04333850A true JPH04333850A (en) | 1992-11-20 |
Family
ID=15105742
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13347991A Pending JPH04333850A (en) | 1991-05-09 | 1991-05-09 | Photopolymerizable composition |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04333850A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0654711A1 (en) * | 1993-11-22 | 1995-05-24 | Ciba-Geigy Ag | Compositions for making structured color images and application thereof |
US8211613B2 (en) | 2002-03-29 | 2012-07-03 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoradical polymerization initiator, radical generator, photosensitive compound and photosensitive resin composition containing these materials and product or its accessory portions using the composition |
-
1991
- 1991-05-09 JP JP13347991A patent/JPH04333850A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0654711A1 (en) * | 1993-11-22 | 1995-05-24 | Ciba-Geigy Ag | Compositions for making structured color images and application thereof |
US8211613B2 (en) | 2002-03-29 | 2012-07-03 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Photoradical polymerization initiator, radical generator, photosensitive compound and photosensitive resin composition containing these materials and product or its accessory portions using the composition |
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