JPH04333556A - クロミヤの溶射方法 - Google Patents
クロミヤの溶射方法Info
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- JPH04333556A JPH04333556A JP3132070A JP13207091A JPH04333556A JP H04333556 A JPH04333556 A JP H04333556A JP 3132070 A JP3132070 A JP 3132070A JP 13207091 A JP13207091 A JP 13207091A JP H04333556 A JPH04333556 A JP H04333556A
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- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims abstract description 33
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 16
- 238000007751 thermal spraying Methods 0.000 title claims description 14
- 239000007789 gas Substances 0.000 claims abstract description 82
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 29
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 claims abstract description 28
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 28
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims abstract description 7
- 238000002844 melting Methods 0.000 claims abstract description 4
- 230000008018 melting Effects 0.000 claims abstract description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 42
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 24
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 22
- 238000005507 spraying Methods 0.000 claims description 20
- 238000007750 plasma spraying Methods 0.000 claims description 19
- 239000000843 powder Substances 0.000 claims description 5
- 239000011651 chromium Substances 0.000 abstract description 13
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 7
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 abstract description 7
- 239000000126 substance Substances 0.000 abstract description 2
- 239000010953 base metal Substances 0.000 abstract 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 11
- 238000002441 X-ray diffraction Methods 0.000 description 5
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 4
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 4
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 4
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 4
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 2
- 230000004913 activation Effects 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 2
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 2
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 2
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 2
- -1 oxygen or air Chemical compound 0.000 description 2
- 230000008569 process Effects 0.000 description 2
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 2
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 2
- 239000008186 active pharmaceutical agent Substances 0.000 description 1
- 230000002411 adverse Effects 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 238000010292 electrical insulation Methods 0.000 description 1
- 239000002360 explosive Substances 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000007542 hardness measurement Methods 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 1
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 1
- 230000007774 longterm Effects 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229910052574 oxide ceramic Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011224 oxide ceramic Substances 0.000 description 1
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 1
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 1
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- 238000009834 vaporization Methods 0.000 description 1
- 230000008016 vaporization Effects 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Landscapes
- Coating By Spraying Or Casting (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】この発明は、高硬度で、耐摺動摩
耗及び耐薬品性に優れ、鏡面仕上げすると美しい黒色を
呈し、ロール、プランジヤ、メカニカルシールなどの表
面処理に使用されるクロミヤ（Ｃｒ２ ０３ ）の溶射
方法及び溶射皮膜に関するものである。
耗及び耐薬品性に優れ、鏡面仕上げすると美しい黒色を
呈し、ロール、プランジヤ、メカニカルシールなどの表
面処理に使用されるクロミヤ（Ｃｒ２ ０３ ）の溶射
方法及び溶射皮膜に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】クロミヤの溶射皮膜は、摺動部材として
使用される場合が多いので、その要求される特性は、（
１）摺動が滑らかに行われる為に、表面粗度が、Ｒａ０
．０３μｍ以下の鏡面仕上げができること。この為には
空隙のない緻密で粒子間結合力の高い溶射皮膜が得られ
ることが肝要である。（２）摺動による摩耗を極力少な
くするために、溶射によりクロミヤの組成が変化しない
こと、特にクロミヤの還元による金属クロムの析出は抑
制されなければならない。従来のプラズマ溶射では、図
５に示す如くプラズマトーチ２１の陽極２３に近い部分
に、材料供給ノズル２５を介して粉粒状のクロミヤ２６
を供給して高温微粒の溶融滴２７とし、これをプラズマ
トーチ２１の出口２８から噴出するプラズマフレーム２
４で搬送して加速し、その溶融滴２７をプラズマフレー
ム２４の先方に配置する母材２９に衝突させて、母材の
表面にクロミヤの溶射皮膜３０を形成している。
使用される場合が多いので、その要求される特性は、（
１）摺動が滑らかに行われる為に、表面粗度が、Ｒａ０
．０３μｍ以下の鏡面仕上げができること。この為には
空隙のない緻密で粒子間結合力の高い溶射皮膜が得られ
ることが肝要である。（２）摺動による摩耗を極力少な
くするために、溶射によりクロミヤの組成が変化しない
こと、特にクロミヤの還元による金属クロムの析出は抑
制されなければならない。従来のプラズマ溶射では、図
５に示す如くプラズマトーチ２１の陽極２３に近い部分
に、材料供給ノズル２５を介して粉粒状のクロミヤ２６
を供給して高温微粒の溶融滴２７とし、これをプラズマ
トーチ２１の出口２８から噴出するプラズマフレーム２
４で搬送して加速し、その溶融滴２７をプラズマフレー
ム２４の先方に配置する母材２９に衝突させて、母材の
表面にクロミヤの溶射皮膜３０を形成している。
【０００３】この際、上記プラズマフレーム２４がプラ
ズマトーチ２１の出口から母材に至る空間でその周囲の
空気３１を誘引してプラズマフレーム２４が拡大して図
示の形状になり、その中の溶融滴２７の熱履歴がその経
路によって広範囲に変化し、また、その溶融滴が母材２
９に衝突する際の速度が低下し、母材２９の表面に形成
される溶射皮膜３０の均一性を妨げると共に、その緻密
性が低下する。この問題点を改良する為に、図６に示す
如く、プラズマトーチ２１の陰極２２の先端３２から陽
極２３の陽極点３３に至るまでの長さを、第５図のもの
よりも長くすると共に、該陰極２２の周囲のプラズマガ
ス通路３４の外側にそれと同心的に環状ガス通路３５を
設け、その両ガス通路３４、３５の間の円環状壁に接線
方向の通路を形成し、プラズマガスの入口３８から入れ
たプラズマガス３９を陰極２２の周囲のプラズマガス通
路３４で旋回させながら出口２８に向かって流動し、こ
のガスをその間の陰極先端３２と陽極点３３間に生ずる
比較的長いアーク２０で充分加熱し、細長く延びるプラ
ズマフレーム２４を形成し、その中に含まれる溶融滴２
７のビームの集束と安定性を改善するプラズマ溶射装置
がある。
ズマトーチ２１の出口から母材に至る空間でその周囲の
空気３１を誘引してプラズマフレーム２４が拡大して図
示の形状になり、その中の溶融滴２７の熱履歴がその経
路によって広範囲に変化し、また、その溶融滴が母材２
９に衝突する際の速度が低下し、母材２９の表面に形成
される溶射皮膜３０の均一性を妨げると共に、その緻密
性が低下する。この問題点を改良する為に、図６に示す
如く、プラズマトーチ２１の陰極２２の先端３２から陽
極２３の陽極点３３に至るまでの長さを、第５図のもの
よりも長くすると共に、該陰極２２の周囲のプラズマガ
ス通路３４の外側にそれと同心的に環状ガス通路３５を
設け、その両ガス通路３４、３５の間の円環状壁に接線
方向の通路を形成し、プラズマガスの入口３８から入れ
たプラズマガス３９を陰極２２の周囲のプラズマガス通
路３４で旋回させながら出口２８に向かって流動し、こ
のガスをその間の陰極先端３２と陽極点３３間に生ずる
比較的長いアーク２０で充分加熱し、細長く延びるプラ
ズマフレーム２４を形成し、その中に含まれる溶融滴２
７のビームの集束と安定性を改善するプラズマ溶射装置
がある。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うにしてプラズマフレーム２４の長さＬ６をＬ５よりも
充分長くすると、母材２９に溶射材料の溶融滴が衝突す
る際、それを搬送するプラズマフレームも亦母材に衝突
して、母材２９をプラズマフレームで加熱し、母材２９
の材質を損傷するおそれがある。又、図５、図６に示す
トーチの陽極２３にはアークの陽極点（アノードスポッ
ト）が存在し、その陽極点はプラズマガスと接している
のでプラズマガスとして酸素や空気などを用いると、陽
極点となっている所の部材が損耗を受け、長時間の運転
が不可能となる。これを防ぐ為に通常はプラズマガスと
して、アルゴン、ヘリューム、窒素などをプラズマガス
として使用している。ところが、このようなプラズマガ
スを使用するプラズマ溶射装置により溶射すると、クロ
ミヤが還元されて溶射皮膜中に多量の金属クロムが析出
し耐摺動摩耗性が著しく損なわれるという問題が存在し
ている。
うにしてプラズマフレーム２４の長さＬ６をＬ５よりも
充分長くすると、母材２９に溶射材料の溶融滴が衝突す
る際、それを搬送するプラズマフレームも亦母材に衝突
して、母材２９をプラズマフレームで加熱し、母材２９
の材質を損傷するおそれがある。又、図５、図６に示す
トーチの陽極２３にはアークの陽極点（アノードスポッ
ト）が存在し、その陽極点はプラズマガスと接している
のでプラズマガスとして酸素や空気などを用いると、陽
極点となっている所の部材が損耗を受け、長時間の運転
が不可能となる。これを防ぐ為に通常はプラズマガスと
して、アルゴン、ヘリューム、窒素などをプラズマガス
として使用している。ところが、このようなプラズマガ
スを使用するプラズマ溶射装置により溶射すると、クロ
ミヤが還元されて溶射皮膜中に多量の金属クロムが析出
し耐摺動摩耗性が著しく損なわれるという問題が存在し
ている。
【０００６】この発明は、従来のプラズマ溶射によるク
ロミヤ溶射皮膜が有する機能上の課題である緻密性を損
なう空隙の発生や耐摺動摩耗性を低くする金属クロムの
析出を防止できるクロミヤのプラズマ溶射方法と、その
溶射方法によって得られるクロミヤの溶射皮膜を提供す
ることを目的とする。
ロミヤ溶射皮膜が有する機能上の課題である緻密性を損
なう空隙の発生や耐摺動摩耗性を低くする金属クロムの
析出を防止できるクロミヤのプラズマ溶射方法と、その
溶射方法によって得られるクロミヤの溶射皮膜を提供す
ることを目的とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】この発明は、プラズマガ
スをアークにより加熱して得られるプラズマフレーム中
に、粉粒状のクロミヤを送給して溶融し、その溶融滴を
母材に吹き付け母材表面に溶射皮膜を形成するクロミヤ
のプラズマ溶射方法において、前記アークが主トーチと
副トーチ間に形成されると共に該主トーチ内の該アーク
の周りに酸素を含むプラズマガスの旋回流が形成される
ことを特徴とするクロミヤの溶射方法、であり、又は、
プラズマガスをアークにより加熱して得られるプラズマ
フレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給して溶融し、そ
の溶融滴を母材に吹き付け母材表面に溶射皮膜を形成す
るクロミヤのプラズマ溶射方法において、前記アークが
主トーチと副トーチ間に形成されると共に該主トーチ内
の該アークの周りに酸素を含むプラズマガスの旋回流が
形成され、また、前記プラズマフレームにおける母材の
直前でプラズマが分離されることを特徴とするクロミヤ
の溶射方法、であり、
スをアークにより加熱して得られるプラズマフレーム中
に、粉粒状のクロミヤを送給して溶融し、その溶融滴を
母材に吹き付け母材表面に溶射皮膜を形成するクロミヤ
のプラズマ溶射方法において、前記アークが主トーチと
副トーチ間に形成されると共に該主トーチ内の該アーク
の周りに酸素を含むプラズマガスの旋回流が形成される
ことを特徴とするクロミヤの溶射方法、であり、又は、
プラズマガスをアークにより加熱して得られるプラズマ
フレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給して溶融し、そ
の溶融滴を母材に吹き付け母材表面に溶射皮膜を形成す
るクロミヤのプラズマ溶射方法において、前記アークが
主トーチと副トーチ間に形成されると共に該主トーチ内
の該アークの周りに酸素を含むプラズマガスの旋回流が
形成され、また、前記プラズマフレームにおける母材の
直前でプラズマが分離されることを特徴とするクロミヤ
の溶射方法、であり、
【０００８】更に、主トーチと副トーチ間にアークを形
成し該主トーチ内の該アークの周りに、酸素を含むプラ
ズマガスの旋回流を形成し、該アークにより加熱して得
られるプラズマフレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給
して溶融し、その溶融滴を母材に吹き付けることにより
形成されることを特徴とするクロミヤの溶射皮膜、であ
り、又は、主トーチと副トーチ間にアークを形成し該主
トーチ内の該アークの周りに、酸素を含むプラズマガス
の旋回流を形成し、該アークにより加熱して得られるプ
ラズマフレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給して溶融
し、該プラズマフレームにおける母材の直前でプラズマ
とを分離した後、その溶融滴を母材に吹き付けることに
より形成されることを特徴とするクロミヤの溶射皮膜、
である。
成し該主トーチ内の該アークの周りに、酸素を含むプラ
ズマガスの旋回流を形成し、該アークにより加熱して得
られるプラズマフレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給
して溶融し、その溶融滴を母材に吹き付けることにより
形成されることを特徴とするクロミヤの溶射皮膜、であ
り、又は、主トーチと副トーチ間にアークを形成し該主
トーチ内の該アークの周りに、酸素を含むプラズマガス
の旋回流を形成し、該アークにより加熱して得られるプ
ラズマフレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給して溶融
し、該プラズマフレームにおける母材の直前でプラズマ
とを分離した後、その溶融滴を母材に吹き付けることに
より形成されることを特徴とするクロミヤの溶射皮膜、
である。
【０００９】
【作用】主トーチと副トーチ間に形成されるアークの周
りにプラズマガスの旋回流を形成するので、いわゆるピ
ンチ効果によりアークを集束し、プラズマフレームが層
流状態になくとも絞られて伸長し、高速のプラズマフレ
ームとなる。そのため、高温高速のクロミヤの溶融滴を
母材に衝突させ緻密なクロミヤの溶射皮膜が得られる。 プラズマフレームにおける母材の直前でプラズマを分離
すると、溶融滴だけが母材に衝突するので、更に良質の
クロミヤの溶射皮膜が得られる。又、プラズマガスが酸
素を含んでいるので、プラズマフレームが酸素雰囲気状
態となる。そのため、クロミヤの還元を防ぎ金属クロム
の析出が防止される。
りにプラズマガスの旋回流を形成するので、いわゆるピ
ンチ効果によりアークを集束し、プラズマフレームが層
流状態になくとも絞られて伸長し、高速のプラズマフレ
ームとなる。そのため、高温高速のクロミヤの溶融滴を
母材に衝突させ緻密なクロミヤの溶射皮膜が得られる。 プラズマフレームにおける母材の直前でプラズマを分離
すると、溶融滴だけが母材に衝突するので、更に良質の
クロミヤの溶射皮膜が得られる。又、プラズマガスが酸
素を含んでいるので、プラズマフレームが酸素雰囲気状
態となる。そのため、クロミヤの還元を防ぎ金属クロム
の析出が防止される。
【００１０】
【実施例】この発明の実施例を添付図面により説明する
。図１に示す複合トーチ型プラズマ溶射装置Ｐにおいて
、主陰極５３の軸上に同心、同径の主ガス送入口５５を
設けた絶縁物７７、放出口を有する主外套５４、主プラ
ズマガス送入口８２を設けた絶縁物７９、そして狭窄口
を有する主第二外套８１によって主トーチ５１が構成さ
れている。図２に示されるよう主ガス送入口５５或は主
プラズマガス送入口８２より保護ガス５６或は主プラズ
マガス８３が、まずガス環状室９８へ送入され、一個の
旋回流形成孔９９或は等分に配置された複数個の旋回流
形成孔９９を通って、絶縁物７７或は絶縁物７９の内壁
を旋回するように矢印１０１の如く送入される。
。図１に示す複合トーチ型プラズマ溶射装置Ｐにおいて
、主陰極５３の軸上に同心、同径の主ガス送入口５５を
設けた絶縁物７７、放出口を有する主外套５４、主プラ
ズマガス送入口８２を設けた絶縁物７９、そして狭窄口
を有する主第二外套８１によって主トーチ５１が構成さ
れている。図２に示されるよう主ガス送入口５５或は主
プラズマガス送入口８２より保護ガス５６或は主プラズ
マガス８３が、まずガス環状室９８へ送入され、一個の
旋回流形成孔９９或は等分に配置された複数個の旋回流
形成孔９９を通って、絶縁物７７或は絶縁物７９の内壁
を旋回するように矢印１０１の如く送入される。
【００１１】次に、主トーチ５１の中心軸と交叉するよ
うに配置された副トーチ起動電極５９は、同心をなすよ
うに順に絶縁物７８、放出口を有する副第一外套６０、
絶縁物８０、そして副第二外套８６によって取り付けら
れており、更に主トーチ５１の絶縁物７７或は絶縁物７
９と同様の旋回流ガス形成手段９７を有する絶縁物７８
に設けられた副ガス送入口６１から副ガス６２が送入さ
れ、絶縁物８０に設けられた副第二ガス送入口８７を通
って副第二ガス８８が送入されるようになっている。こ
こに、主電源５７はその負端子が主陰極５３に接続され
ており、正端子にはそれぞれスイッチ手段５８、８４を
介して、主外套５４及び主第二外套８１に接続されてお
り、これらが全体として主トーチ５１を構成している。 副電源６３はその正端子が主電源５７の正端子及び副ト
ーチ５２の副第１外套６０に接続されており、副電源６
３の負端子はスイッチ手段６４を介して副トーチ起動電
極５９に接続され、これらが全体として副トーチ５２を
形成している。この副トーチ５２は一対設けられている
。なお、上記主プラズマガスとして、酸素を含んだガス
、例えば酸素、又は空気が用いられる。
うに配置された副トーチ起動電極５９は、同心をなすよ
うに順に絶縁物７８、放出口を有する副第一外套６０、
絶縁物８０、そして副第二外套８６によって取り付けら
れており、更に主トーチ５１の絶縁物７７或は絶縁物７
９と同様の旋回流ガス形成手段９７を有する絶縁物７８
に設けられた副ガス送入口６１から副ガス６２が送入さ
れ、絶縁物８０に設けられた副第二ガス送入口８７を通
って副第二ガス８８が送入されるようになっている。こ
こに、主電源５７はその負端子が主陰極５３に接続され
ており、正端子にはそれぞれスイッチ手段５８、８４を
介して、主外套５４及び主第二外套８１に接続されてお
り、これらが全体として主トーチ５１を構成している。 副電源６３はその正端子が主電源５７の正端子及び副ト
ーチ５２の副第１外套６０に接続されており、副電源６
３の負端子はスイッチ手段６４を介して副トーチ起動電
極５９に接続され、これらが全体として副トーチ５２を
形成している。この副トーチ５２は一対設けられている
。なお、上記主プラズマガスとして、酸素を含んだガス
、例えば酸素、又は空気が用いられる。
【００１２】図１に示した各トーチの起動は次に示すよ
うな順序で行われる。即ち、スイッチ５８を閉じて主電
源５７により、主陰極５３と主外套５４の放出口の間に
主起動アーク６５をまず形成させ、これによって保護ガ
ス５６が加熱されて、主外套５４の先端から導電性のプ
ラズマが放出される。この時、スイッチ手段８４を閉じ
、次いでスイッチ手段５８を開くと、主起動アーク６５
が消去されると同時に主陰極５３の先端から放出される
アークは、主第二外套起動アーク８５を形成し、これに
よって、保護ガス５６と主プラズマガス８３が加熱され
て、導電性のプラズマ１００が主トーチ５１の外部に放
出される。次にスイッチ手段６４を閉じて、副電源６３
によって副第１外套６０と副トーチ起動電極５９との間
に副起動アーク６６を形成させると、副ガス６２がこの
アークによって加熱され、狭窄口を通って導電性のプラ
ズマ６８が副トーチ５２の外部に放出される。これらの
プロセスが終了すると、主トーチ５１と副トーチ５２と
は、その中心軸が交叉するように設置されているので、
それぞれから放出される導電性のプラズマ１００、６８
が導電路を形成し、この段階において、スイッチ８４及
び６４を開くと、主電源５７によって主陰極５３の先端
から副外套６０の狭窄口外面に向かって定常ヘアピンア
ーク６７が形成され、この時主トーチ５１に送入される
ガスの量と、副トーチ５２に送入されるガスの量を各々
調整することによって、図１に示された如く、主トーチ
５１の中心軸とほぼ同心をなすプラズマフレーム７３が
形成される。この時、トーチ５１、５２のアーク柱周り
に強い旋回流を形成するようにガスが供給されているの
で、アーク柱をトーチの軸心位置に維持するとともに同
心に旋回環状ガスシースを形成させ、正及び副トーチ５
１、５２の正及び副外套５４、６０と正及び副第二外套
８１、８６の狭窄口の内壁に及ぼす熱負荷は均一に軽減
され、アーク電流を増すことができる。その結果いわゆ
るピンチ効果が促され、よりアークが集束され高出力で
高温高速の溶射が可能となる。
うな順序で行われる。即ち、スイッチ５８を閉じて主電
源５７により、主陰極５３と主外套５４の放出口の間に
主起動アーク６５をまず形成させ、これによって保護ガ
ス５６が加熱されて、主外套５４の先端から導電性のプ
ラズマが放出される。この時、スイッチ手段８４を閉じ
、次いでスイッチ手段５８を開くと、主起動アーク６５
が消去されると同時に主陰極５３の先端から放出される
アークは、主第二外套起動アーク８５を形成し、これに
よって、保護ガス５６と主プラズマガス８３が加熱され
て、導電性のプラズマ１００が主トーチ５１の外部に放
出される。次にスイッチ手段６４を閉じて、副電源６３
によって副第１外套６０と副トーチ起動電極５９との間
に副起動アーク６６を形成させると、副ガス６２がこの
アークによって加熱され、狭窄口を通って導電性のプラ
ズマ６８が副トーチ５２の外部に放出される。これらの
プロセスが終了すると、主トーチ５１と副トーチ５２と
は、その中心軸が交叉するように設置されているので、
それぞれから放出される導電性のプラズマ１００、６８
が導電路を形成し、この段階において、スイッチ８４及
び６４を開くと、主電源５７によって主陰極５３の先端
から副外套６０の狭窄口外面に向かって定常ヘアピンア
ーク６７が形成され、この時主トーチ５１に送入される
ガスの量と、副トーチ５２に送入されるガスの量を各々
調整することによって、図１に示された如く、主トーチ
５１の中心軸とほぼ同心をなすプラズマフレーム７３が
形成される。この時、トーチ５１、５２のアーク柱周り
に強い旋回流を形成するようにガスが供給されているの
で、アーク柱をトーチの軸心位置に維持するとともに同
心に旋回環状ガスシースを形成させ、正及び副トーチ５
１、５２の正及び副外套５４、６０と正及び副第二外套
８１、８６の狭窄口の内壁に及ぼす熱負荷は均一に軽減
され、アーク電流を増すことができる。その結果いわゆ
るピンチ効果が促され、よりアークが集束され高出力で
高温高速の溶射が可能となる。
【００１３】図１の材料送入管６９よりプラズマフレー
ム７３に向かって送入された粉粒状のクロミヤ７０は、
プラズマフレーム７３によって直ちに高温に加熱されて
溶融して溶融滴７１となり、プラズマフレーム７３に同
伴されながら、あまり広がらないで母材７５に向かって
進行する。この溶融滴７１を含むプラズマフレーム７３
は、母材７５の直前に設けられたプラズマ分解手段７２
によって、プラズマのみが分離される。
ム７３に向かって送入された粉粒状のクロミヤ７０は、
プラズマフレーム７３によって直ちに高温に加熱されて
溶融して溶融滴７１となり、プラズマフレーム７３に同
伴されながら、あまり広がらないで母材７５に向かって
進行する。この溶融滴７１を含むプラズマフレーム７３
は、母材７５の直前に設けられたプラズマ分解手段７２
によって、プラズマのみが分離される。
【００１４】このプラズマ分離手段として、例えば、母
材の直前におけるプラズマフレーム７３に向けて水と空
気とを供給するアトマイザの二流体ノズル９０が用いら
れる。このアトマイザ９０による水の噴霧を行うと、プ
ラズマフレーム７３は切断されて円錐状に形成される。 この円錐状のプラズマフレーム７３は溶融滴７１の冷却
を最小限にするトンネル状のジャケットとして作用し、
母材７５と溶射皮膜７４に対する余分な熱負荷をアトマ
イザによって噴霧された水の気化熱で除去し、その熱負
荷による悪影響を防止できる。又、この際の水の爆発的
な膨張に伴って、そのガスがプラズマガスに沿って急速
に噴射され、溶融滴７１を加速し、その結果緻密な溶射
膜を形成する。
材の直前におけるプラズマフレーム７３に向けて水と空
気とを供給するアトマイザの二流体ノズル９０が用いら
れる。このアトマイザ９０による水の噴霧を行うと、プ
ラズマフレーム７３は切断されて円錐状に形成される。 この円錐状のプラズマフレーム７３は溶融滴７１の冷却
を最小限にするトンネル状のジャケットとして作用し、
母材７５と溶射皮膜７４に対する余分な熱負荷をアトマ
イザによって噴霧された水の気化熱で除去し、その熱負
荷による悪影響を防止できる。又、この際の水の爆発的
な膨張に伴って、そのガスがプラズマガスに沿って急速
に噴射され、溶融滴７１を加速し、その結果緻密な溶射
膜を形成する。
【００１５】このようにして、プラズマから分離された
溶融滴７１は、その直後に母材７５に衝突し、溶射皮膜
７４を形成する。この時、アーク柱周りに強い旋回流を
形成するようにガスを供給する手段を設けることにより
、アーク柱をトーチの軸心位置に維持するとともに同心
に旋回環状ガスシースが形成され、従来の層流プラズマ
フレームを形成するプラズマ溶射装置ではなし得なかっ
た乱流域で、プラズマフレーム７３が高密度に絞られ、
伸長した安定な状態で溶射ができ、クロミヤはよく溶融
し、高速度で母材７５に吹き付けられるので、高品質な
クロミヤの溶射皮膜７４が高効率で得られる。又、前記
主プラズマガスとして酸素を含んだガス、例えば、酸素
又は空気が用いられるので、プラズマフレームは酸素雰
囲気状態となる。そのため、クロミヤの還元が防止され
るので、溶射皮膜中に金属クロムが析出するのを防止で
きる。
溶融滴７１は、その直後に母材７５に衝突し、溶射皮膜
７４を形成する。この時、アーク柱周りに強い旋回流を
形成するようにガスを供給する手段を設けることにより
、アーク柱をトーチの軸心位置に維持するとともに同心
に旋回環状ガスシースが形成され、従来の層流プラズマ
フレームを形成するプラズマ溶射装置ではなし得なかっ
た乱流域で、プラズマフレーム７３が高密度に絞られ、
伸長した安定な状態で溶射ができ、クロミヤはよく溶融
し、高速度で母材７５に吹き付けられるので、高品質な
クロミヤの溶射皮膜７４が高効率で得られる。又、前記
主プラズマガスとして酸素を含んだガス、例えば、酸素
又は空気が用いられるので、プラズマフレームは酸素雰
囲気状態となる。そのため、クロミヤの還元が防止され
るので、溶射皮膜中に金属クロムが析出するのを防止で
きる。
【００１６】この発明の実施例は上記に限定されるもの
ではなく、例えば、プラズマガスとして上述の空気、又
は酸素の他にこれらの混合ガスや少量の不活性ガス、例
えば、アルゴン、ヘリウム、窒素を添加したガスでもよ
い。又、本実施例では、プラズマ溶射装置として複合ト
ーチ型プラズマ溶射装置を用いたが、これに限定される
ものではなくプラズマガスとして酸素を含んだガスを使
用できるプラズマ溶射装置であれば、他のプラズマ溶射
装置を用いてもよいことは勿論である。又、本発明は、
クロミヤの溶射皮膜のみならず他の酸化物のセラミック
ス、即ち、還元性雰囲気を極端にきらい、酸化性雰囲気
において独特の高性能を発揮させることができる物質皮
膜、例えば、フェライト、アルミナ、チタニア、ジルコ
ニア等の溶射皮膜にも用いることができる。また、粉粒
状のクロミアをプラズマフレーム中に送給するときには
、ガスが用いられるが、このガスの代わりに液体、例え
ば、水を用いてもよい。
ではなく、例えば、プラズマガスとして上述の空気、又
は酸素の他にこれらの混合ガスや少量の不活性ガス、例
えば、アルゴン、ヘリウム、窒素を添加したガスでもよ
い。又、本実施例では、プラズマ溶射装置として複合ト
ーチ型プラズマ溶射装置を用いたが、これに限定される
ものではなくプラズマガスとして酸素を含んだガスを使
用できるプラズマ溶射装置であれば、他のプラズマ溶射
装置を用いてもよいことは勿論である。又、本発明は、
クロミヤの溶射皮膜のみならず他の酸化物のセラミック
ス、即ち、還元性雰囲気を極端にきらい、酸化性雰囲気
において独特の高性能を発揮させることができる物質皮
膜、例えば、フェライト、アルミナ、チタニア、ジルコ
ニア等の溶射皮膜にも用いることができる。また、粉粒
状のクロミアをプラズマフレーム中に送給するときには
、ガスが用いられるが、このガスの代わりに液体、例え
ば、水を用いてもよい。
【００１７】次に、本発明の実験例について説明する。
（Ａ）サンプル作製条件
クロミヤ（Ｃｒ２ Ｏ３ ）の皮膜の作製条件を
【表１
】 に示す。プラズマ溶射装置として前記実施例の複合トー
チ型プラズマ溶射装置を用いた。また、プラズマガスと
して、ケースＡでは空気（ＡＩＲ）を用い、ケースＢで
は酸素（Ｏ２ ）を用いた。平板サンプルでＸ線回折、
摩耗減量等の測定を行った。 （Ｂ）Ｘ線回折測定結果 Ｃｒ２ Ｏ３ 材料粉（図３Ｃ）と、プラズマガスに酸
素を用いた溶射皮膜（図３Ｂ）のＸ線回折測定結果を図
３に示す。この図において、○（白丸印）はＣｒ２Ｏ３
、●（黒丸印）はＣｒ、縦軸はＩｎｔｅｎｓｉｔｙ（
強度）、横軸は２θ（ｄｅｇ．）をそれぞれ示す。一般
にプラズマ溶射でＣｒ２ Ｏ３ 皮膜を作製すると一部
が還元されて金属Ｃｒが析出し、表面仕上げ後の外観を
損ねたり、電気絶縁性が失われる等の問題が発生すると
されている。しかし、プラズマガスとして酸素を用いた
皮膜（図３Ｂ）では、その結晶構造は材料粉と殆ど変わ
っていない。又、Ｃｒ２ Ｏ３ 溶射皮膜の断面を顕微
鏡で観察すると、析出したＣｒが金属光沢のある帯状の
層として観察されることがあるが、プラズマガスに酸素
を用いた場合（図３Ｂ）、金属Ｃｒの析出は、殆ど観察
されなかった。一方、プラズマガスに空気（Ａｉｒ）を
用い皮膜（図３Ａ）では金属Ｃｒのピークが酸素を用い
た場合よりやや大きくなった。これは実用上は問題にな
らない程度であるが、プラズマガス中の酸素分圧か低い
ためと考えられ、プラズマガスとして酸素が使用出来る
ことは、還元されやすい酸化物の溶射にはかなり有効で
あると思われる。
】 に示す。プラズマ溶射装置として前記実施例の複合トー
チ型プラズマ溶射装置を用いた。また、プラズマガスと
して、ケースＡでは空気（ＡＩＲ）を用い、ケースＢで
は酸素（Ｏ２ ）を用いた。平板サンプルでＸ線回折、
摩耗減量等の測定を行った。 （Ｂ）Ｘ線回折測定結果 Ｃｒ２ Ｏ３ 材料粉（図３Ｃ）と、プラズマガスに酸
素を用いた溶射皮膜（図３Ｂ）のＸ線回折測定結果を図
３に示す。この図において、○（白丸印）はＣｒ２Ｏ３
、●（黒丸印）はＣｒ、縦軸はＩｎｔｅｎｓｉｔｙ（
強度）、横軸は２θ（ｄｅｇ．）をそれぞれ示す。一般
にプラズマ溶射でＣｒ２ Ｏ３ 皮膜を作製すると一部
が還元されて金属Ｃｒが析出し、表面仕上げ後の外観を
損ねたり、電気絶縁性が失われる等の問題が発生すると
されている。しかし、プラズマガスとして酸素を用いた
皮膜（図３Ｂ）では、その結晶構造は材料粉と殆ど変わ
っていない。又、Ｃｒ２ Ｏ３ 溶射皮膜の断面を顕微
鏡で観察すると、析出したＣｒが金属光沢のある帯状の
層として観察されることがあるが、プラズマガスに酸素
を用いた場合（図３Ｂ）、金属Ｃｒの析出は、殆ど観察
されなかった。一方、プラズマガスに空気（Ａｉｒ）を
用い皮膜（図３Ａ）では金属Ｃｒのピークが酸素を用い
た場合よりやや大きくなった。これは実用上は問題にな
らない程度であるが、プラズマガス中の酸素分圧か低い
ためと考えられ、プラズマガスとして酸素が使用出来る
ことは、還元されやすい酸化物の溶射にはかなり有効で
あると思われる。
【００１８】（Ｃ）摩耗減量（耐摩耗性）測定結果Ｃｒ
２ Ｏ３ 皮膜の摩耗試験結果を図４に示す。この図に
おいて、縦軸は摩耗減量（ｍｇ）、横軸は往復摩擦回数
（ＤＳ）、○（白丸印）は酸素の主プラズマガス、●（
黒丸印）は空気（Ａｉｒ）の主プラズマガス、をそれぞ
れ示す。いずれの水準もトーチ出力は同程度（９５Ｋｗ
、９９Ｋｗ）でありながら、摩耗減量に差が出たのは、
上述のＸ線回折結果からも推察されるように、主プラズ
マガスの違いによるものと考えられる。 （Ｄ）ピッカース硬度試験結果 出力９９Ｋｗ（Ｏ２ ）のサンプルについて断面．硬度
測定を行った結果、ばらつき範囲１４０８〜１６６６、
平均値Ｈｖ＝１５３７となり、ばらつき幅も比較的小さ
く、大気圧プラズマ溶射で得られる値としては最高水準
に近い値となった。 （Ｅ）表面仕上げ性 高い耐摩耗性を確保するために、Ｃｒ２ Ｏ３ 皮膜に
は表面粗度０．５μｍＲｍａｘ以下の鏡面仕上げ性能が
要求されている。こうした高品質の皮膜を得る方法とし
ては今のところ減圧プラズマ溶射が最適と言われている
が、密閉された減圧容器内での加工となるため生産性が
悪く、又、大型の部材には適用できない等の問題点があ
る。そのため、比較的容易なプロセスである大気圧プラ
ズマ溶射で表面仕上げ性の優れたＣｒ２ Ｏ３ 皮膜が
得られれば、その意義は大きい。今回の試験で高い耐摩
耗性を示した出力９９Ｋｗのサンプルを研磨仕上げした
ところＲｍａｘ＝０．４μｍに達し、複合トーチ型プラ
ズマ溶射装置による皮膜の品質が減圧溶射皮膜と同程度
の高さを持つことが示された。
２ Ｏ３ 皮膜の摩耗試験結果を図４に示す。この図に
おいて、縦軸は摩耗減量（ｍｇ）、横軸は往復摩擦回数
（ＤＳ）、○（白丸印）は酸素の主プラズマガス、●（
黒丸印）は空気（Ａｉｒ）の主プラズマガス、をそれぞ
れ示す。いずれの水準もトーチ出力は同程度（９５Ｋｗ
、９９Ｋｗ）でありながら、摩耗減量に差が出たのは、
上述のＸ線回折結果からも推察されるように、主プラズ
マガスの違いによるものと考えられる。 （Ｄ）ピッカース硬度試験結果 出力９９Ｋｗ（Ｏ２ ）のサンプルについて断面．硬度
測定を行った結果、ばらつき範囲１４０８〜１６６６、
平均値Ｈｖ＝１５３７となり、ばらつき幅も比較的小さ
く、大気圧プラズマ溶射で得られる値としては最高水準
に近い値となった。 （Ｅ）表面仕上げ性 高い耐摩耗性を確保するために、Ｃｒ２ Ｏ３ 皮膜に
は表面粗度０．５μｍＲｍａｘ以下の鏡面仕上げ性能が
要求されている。こうした高品質の皮膜を得る方法とし
ては今のところ減圧プラズマ溶射が最適と言われている
が、密閉された減圧容器内での加工となるため生産性が
悪く、又、大型の部材には適用できない等の問題点があ
る。そのため、比較的容易なプロセスである大気圧プラ
ズマ溶射で表面仕上げ性の優れたＣｒ２ Ｏ３ 皮膜が
得られれば、その意義は大きい。今回の試験で高い耐摩
耗性を示した出力９９Ｋｗのサンプルを研磨仕上げした
ところＲｍａｘ＝０．４μｍに達し、複合トーチ型プラ
ズマ溶射装置による皮膜の品質が減圧溶射皮膜と同程度
の高さを持つことが示された。
【００１９】
【発明の効果】この発明は以上の様に構成したので、ア
ークはプラズマガスの旋回流により集束し、プラズマフ
レームが層流状態になくても絞られて伸長し、高速のプ
ラズマフレームとなる。そのため、高温高速のクロミヤ
の溶融滴を母材に衝突させることができるので緻密なク
ロミヤの溶射皮膜が得られる。又、主トーチと副トーチ
間にアークを形成するので、従来例の単トーチと異なり
酸素を含むプラズマガスを用いても連続運転が可能であ
る。そのため、酸素を含むプラズマガスを用いて溶射で
きるので、プラズマフレームが酸化雰囲気状態となる。 従って、クロミヤの還元が防止され金属クロムの析出が
防止されるので、良質のクロミヤの溶射皮膜を得ること
ができる。更に、プラズマフレーム中のプラズマを分離
してクロミヤの溶融滴のみを母材に衝突させると、更に
良質のクロミヤの溶射皮膜を得ることができる。
ークはプラズマガスの旋回流により集束し、プラズマフ
レームが層流状態になくても絞られて伸長し、高速のプ
ラズマフレームとなる。そのため、高温高速のクロミヤ
の溶融滴を母材に衝突させることができるので緻密なク
ロミヤの溶射皮膜が得られる。又、主トーチと副トーチ
間にアークを形成するので、従来例の単トーチと異なり
酸素を含むプラズマガスを用いても連続運転が可能であ
る。そのため、酸素を含むプラズマガスを用いて溶射で
きるので、プラズマフレームが酸化雰囲気状態となる。 従って、クロミヤの還元が防止され金属クロムの析出が
防止されるので、良質のクロミヤの溶射皮膜を得ること
ができる。更に、プラズマフレーム中のプラズマを分離
してクロミヤの溶融滴のみを母材に衝突させると、更に
良質のクロミヤの溶射皮膜を得ることができる。
【図１】本発明の実施例を示す縦断面図である。
【図２】図１のＩＩ−ＩＩ 線断面図である。
【図３】溶射皮膜のＸ線回折結果を示す図である。
【図４】溶射皮膜の摩耗試験結果を示す図である。
【図５】従来例を示す縦断面図である。
【図６】他の従来例を示す縦断面図である。
５１ 主トーチ
５２ 副トーチ
５６ 保護ガス
６２ａ 副ガス
６２ｂ 副ガス
６８ プラズマ
７０ クロミヤ
７１ 溶融滴
７２ プラズマ分離手段
７４ 溶射皮膜
７５ 母材
８３ 主プラズマガス
８８ａ 副第２ガス
８８ｂ 副第２ガス
９７ａ 旋回流ガス形成手段
９７ｂ 旋回流ガス形成手段
９９ 旋回流形成孔
Claims (5)
- 【請求項１】プラズマガスをアークにより加熱して得ら
れるプラズマフレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給し
て溶融し、その溶融滴を母材に吹き付け母材表面に溶射
皮膜を形成するクロミヤのプラズマ溶射方法において、
前記アークが主トーチと副トーチ間に形成されると共に
該主トーチ内の該アークの周りに酸素を含むプラズマガ
スの旋回流が形成されることを特徴とするクロミヤの溶
射方法。 - 【請求項２】プラズマガスをアークにより加熱して得ら
れるプラズマフレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給し
て溶融し、その溶融滴を母材に吹き付け母材表面に溶射
皮膜を形成するクロミヤのプラズマ溶射方法において、
前記アークが主トーチと副トーチ間に形成されると共に
該主トーチ内の該アークの周りに酸素を含むプラズマガ
スの旋回流が形成され、また、前記プラズマフレームに
おける母材の直前でプラズマが分離されることを特徴と
するクロミヤの溶射方法 - 【請求項３】プラズマが、プラズマフレームに向かうア
トマイザからの噴霧により分離されることを特徴とする
請求項２記載のクロミヤの溶射方法 - 【請求項４】主トーチと副トーチ間にアークを形成し該
主トーチ内の該アークの周りに、酸素を含むプラズマガ
スの旋回流を形成し、該アークにより加熱して得られる
プラズマフレーム中に、粉粒状のクロミヤを送給して溶
融し、その溶融滴を母材に吹き付けることにより形成さ
れることを特徴とするクロミヤの溶射皮膜 - 【請求項５】
主トーチと副トーチ間にアークを形成し該主トーチ内の
該アークの周りに、酸素を含むプラズマガスの旋回流を
形成し、該アークにより加熱して得られるプラズマフレ
ーム中に、粉粒状のクロミヤを送給して溶融し、該プラ
ズマフレームにおける母材の直前でプラズマを分離した
後、その溶融滴を母材に吹き付けることにより形成され
ることを特徴とするクロミヤの溶射皮膜
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3132070A JPH0819513B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | クロミヤの溶射方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3132070A JPH0819513B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | クロミヤの溶射方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04333556A true JPH04333556A (ja) | 1992-11-20 |
| JPH0819513B2 JPH0819513B2 (ja) | 1996-02-28 |
Family
ID=15072814
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3132070A Expired - Lifetime JPH0819513B2 (ja) | 1991-05-08 | 1991-05-08 | クロミヤの溶射方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0819513B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7390583B2 (en) | 2003-01-06 | 2008-06-24 | Nhk Spring Co., Ltd. | Sprayed coating and production method for the same |
| JP2010043341A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Nihon Ceratec Co Ltd | 複合トーチ型プラズマ発生装置 |
-
1991
- 1991-05-08 JP JP3132070A patent/JPH0819513B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7390583B2 (en) | 2003-01-06 | 2008-06-24 | Nhk Spring Co., Ltd. | Sprayed coating and production method for the same |
| JP2010043341A (ja) * | 2008-08-18 | 2010-02-25 | Nihon Ceratec Co Ltd | 複合トーチ型プラズマ発生装置 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0819513B2 (ja) | 1996-02-28 |
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