JPH04287335A - Semiconductor device - Google Patents
Semiconductor deviceInfo
- Publication number
- JPH04287335A JPH04287335A JP3076745A JP7674591A JPH04287335A JP H04287335 A JPH04287335 A JP H04287335A JP 3076745 A JP3076745 A JP 3076745A JP 7674591 A JP7674591 A JP 7674591A JP H04287335 A JPH04287335 A JP H04287335A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- chip
- lead
- semiconductor device
- chips
- film
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims abstract description 49
- 239000012212 insulator Substances 0.000 claims description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 abstract description 3
- WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N lead(0) Chemical compound [Pb] WABPQHHGFIMREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 2
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 9
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 5
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 4
- 238000007789 sealing Methods 0.000 description 3
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 3
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 2
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 2
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 2
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 1
- 230000001151 other effect Effects 0.000 description 1
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48135—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/48137—Connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being arranged next to each other, e.g. on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
Landscapes
- Wire Bonding (AREA)
Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、フィルムキャリヤ上に
半導体素子たとえばICチップが搭載された半導体装置
に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor device in which a semiconductor element, such as an IC chip, is mounted on a film carrier.
【0002】0002
【従来の技術】TAB(Tape Automated
Bonding)技術はICチップの実装技術の一つ
であり、他の実装技術に比べて多ピン狭ピッチのリード
形成が可能であり、またフェースアップで高速自動ボン
ディングを行うことができる等の特徴がある。このため
、TAB技術は、近年、特に注目されている。[Prior art] TAB (Tape Automated
Bonding technology is one of the IC chip mounting technologies, and has features such as being able to form leads with a larger number of pins and a narrower pitch than other mounting technologies, and being able to perform high-speed automatic bonding with a face-up method. be. For this reason, TAB technology has attracted particular attention in recent years.
【0003】TABテープは、リードが形成されたフィ
ルム上に1個又は複数個のICチップを搭載したもので
ある。リードには、実装基板に接続するためにパッケー
ジ外部に引き出されるものと、ICチップの接続あるい
はICチップ間の接続を行うためにパッケージ内部で引
き回されるものとがある。これらのリードとICチップ
との接合には、通常、予めフィルムキャリアのリード先
端部にバンプを転写した後、バンプを介してリードとI
Cチップの電極とを加圧・加熱して接合する転写バンプ
方式が採用されている。そして、ICチップの電気的試
験等を行った後、信頼性を向上させるために樹脂封止す
る。[0003] TAB tape is a tape in which one or more IC chips are mounted on a film on which leads are formed. Some leads are drawn out of the package for connection to a mounting board, while others are routed inside the package to connect IC chips or between IC chips. To join these leads to an IC chip, normally, bumps are transferred to the lead tips of a film carrier in advance, and then the leads and IC are bonded via the bumps.
A transfer bump method is used in which the electrodes of the C chip are bonded by applying pressure and heat. After electrical tests and the like are performed on the IC chip, the IC chip is sealed with resin to improve reliability.
【0004】0004
【発明が解決しようとする課題】ところで、同一フィル
ムキャリヤ内に複数のICチップを搭載した場合、IC
チップ同士の接続を行う際に、回路設計の都合上1つの
リードを他のリードとクロスさせなければならないこと
がある。しかし、フィルム上に形成されたリードを用い
てこのようなクロス配線を行うことはできず、したがっ
てリードの接続をクロスさせる必要がある場合には、パ
ッケージの外で配線を行っていた。このため、同一フィ
ルムキャリヤ内に複数のICチップを搭載した従来の半
導体装置では、このクロス配線が、実装面積を縮小する
際の妨げとなっていた。[Problem to be Solved by the Invention] By the way, when a plurality of IC chips are mounted in the same film carrier,
When connecting chips to each other, it may be necessary to cross one lead with another lead due to circuit design. However, it is not possible to perform such cross wiring using leads formed on a film, and therefore, when it is necessary to cross the lead connections, the wiring is performed outside the package. For this reason, in conventional semiconductor devices in which a plurality of IC chips are mounted within the same film carrier, this cross wiring has been an obstacle to reducing the mounting area.
【0005】また、同一フィルムキャリヤ内に複数のI
Cチップを実装した場合、従来の半導体装置では、1個
のICチップを搭載した場合に比べて、搭載したICチ
ップの数に応じて実装面積が大きくなるが、この場合で
も実装面積の縮小化を図ることが要請されている。[0005] Also, a plurality of I
In conventional semiconductor devices, when C chips are mounted, the mounting area becomes larger depending on the number of mounted IC chips compared to when one IC chip is mounted, but even in this case, the mounting area can be reduced. It is requested that these efforts be made.
【0006】本発明は上記事情に基づいてなされたもの
であり、1つのパッケージ内に収納されている複数個の
半導体素子の配線を極力同一パッケージ内で行うことが
でき、しかも省スペース化を図ることができる半導体装
置を提供することを目的とするものである。The present invention has been made based on the above-mentioned circumstances, and it is an object of the present invention to enable wiring of a plurality of semiconductor elements housed in one package to be performed within the same package as much as possible, and to save space. The purpose of this invention is to provide a semiconductor device that can perform the following steps.
【0007】[0007]
【課題を解決するための手段】上記の目的を達成するた
めの本発明に係る半導体装置は、リードが形成されたフ
ィルムに搭載された第1の半導体素子と、該第1の半導
体素子上に載置された1個又は複数個の第2の半導体素
子とを備え、該第2の半導体素子の配線を導電性のワイ
ヤを用いて行ったことを特徴とするものである。また、
前記ワイヤを絶縁体で被覆することが望ましい。[Means for Solving the Problems] A semiconductor device according to the present invention for achieving the above object includes a first semiconductor element mounted on a film on which leads are formed, and a first semiconductor element mounted on a film on which leads are formed. The device is characterized in that it comprises one or more mounted second semiconductor elements, and that the second semiconductor elements are wired using conductive wires. Also,
Preferably, the wire is coated with an insulator.
【0008】[0008]
【作用】本発明は前記の構成によって、第1の半導体素
子の上に1個又は複数個の第2の半導体素子を載置し、
第2の半導体素子の電極と、リード又は第1の半導体素
子の電極との接続を導電性のワイヤを用いて接続するこ
とにより、同一パッケージ内でクロス配線を行うことが
可能になり、したがってまた省スペース化を図ることが
できる。また、ワイヤを絶縁体で被覆することにより、
ワイヤとリード、及びワイヤ同士が接触しても、短絡す
ることはない。[Operation] According to the present invention, one or more second semiconductor elements are placed on the first semiconductor element with the above-described configuration,
By connecting the electrodes of the second semiconductor element and the leads or electrodes of the first semiconductor element using conductive wires, it is possible to perform cross wiring within the same package. Space saving can be achieved. In addition, by covering the wire with an insulator,
Even if wires and leads or wires come into contact with each other, there will be no short circuit.
【0009】[0009]
【実施例】以下に、本発明の第1実施例を図1乃至図3
を参照して説明する。図1は本発明の第1実施例である
半導体装置の概略平面図、図2はその半導体装置のA−
A矢視概略断面図、図3はその半導体装置のICチップ
を2組で一つのパッケージとして樹脂封止したときの様
子を示す概略断面図である。[Embodiment] A first embodiment of the present invention will be described below with reference to FIGS. 1 to 3.
Explain with reference to. FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention, and FIG. 2 is an A-A diagram of the semiconductor device.
FIG. 3 is a schematic cross-sectional view taken in the direction of arrow A. FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing a state in which two sets of IC chips of the semiconductor device are resin-sealed as one package.
【0010】図1及び図2に示す半導体装置は、2個の
ICチップ12a,12bと、フィルム14上にリード
16が形成されたフィルムキャリアと、絶縁体で被覆さ
れたボンディングワイヤ18とを有するものである。I
Cチップ12a,12bは略正方形状に形成され、それ
らの表面の端縁部には電極22が形成されている。IC
チップ12bはICチップ12aより小さく、ICチッ
プ12aの略中心部に固定材24により固定されている
。フィルム14には、デバイスホールと、アウターリー
ドホール(不図示)とが形成されている。デバイスホー
ルはICチップ12a,12bを載置する位置に設けた
開口部であり、アウターリードホールはアウターリード
を切断するために設けられた開口部である。フィルム1
4の材料には、耐熱性及び耐伸縮性が良好なポリイミド
を用いる。The semiconductor device shown in FIGS. 1 and 2 includes two IC chips 12a and 12b, a film carrier having leads 16 formed on a film 14, and a bonding wire 18 covered with an insulator. It is something. I
The C chips 12a and 12b are formed into a substantially square shape, and electrodes 22 are formed at the edge portions of their surfaces. IC
The chip 12b is smaller than the IC chip 12a, and is fixed to the approximate center of the IC chip 12a by a fixing member 24. A device hole and an outer lead hole (not shown) are formed in the film 14. The device hole is an opening provided at a position where the IC chips 12a, 12b are placed, and the outer lead hole is an opening provided for cutting the outer lead. film 1
For the material No. 4, polyimide having good heat resistance and stretch resistance is used.
【0011】リード16は、実装基板に接続するために
パッケージから引き出された引出用リード16a,16
bと、ICチップ12a,12b間を接続するための内
部接続用リード16cとからなる。引出用リード16a
はICチップ12aの電極22aと接合され、引出用リ
ード16bはICチップ12bの電極22bと接合され
るものである。引出用リード16aと内部接続用リード
16cの一端はデバイスホールに突き出るように形成さ
れ、他端にはパッド26a,26cが設けられている。
また、引出用リード16bには2ヵ所にパッド26b1
,26b2 が設けられている。引出用リード16aの
パッド26aと引出用リード16bのパッド26b2
は電気試験用のテストパッドであり、一方、引出用リー
ド16bのパッド26b1 と内部接続用リード16c
のパッド26cはボンディングワイヤ18との接続用で
ある。The leads 16 are lead leads 16a, 16 pulled out from the package to connect to the mounting board.
b, and an internal connection lead 16c for connecting between the IC chips 12a and 12b. Drawer lead 16a
is connected to the electrode 22a of the IC chip 12a, and the extraction lead 16b is connected to the electrode 22b of the IC chip 12b. One end of the extraction lead 16a and the internal connection lead 16c is formed to protrude into the device hole, and pads 26a and 26c are provided at the other end. In addition, pads 26b1 are provided at two locations on the lead 16b.
, 26b2 are provided. Pad 26a of extraction lead 16a and pad 26b2 of extraction lead 16b
is a test pad for electrical testing, while the pad 26b1 of the lead 16b and the internal connection lead 16c
The pad 26c is for connection with the bonding wire 18.
【0012】本実施例では、ICチップ12aの電極2
2aと引出用リード16aとを接合するのに、いわゆる
転写バンプ方式を用いている。すなわち、引出用リード
16aの先端部にバンプ(不図示)を転写した後、バン
プを介してリードとICチップ12aの電極22aとを
加圧・加熱して接合する。尚、図2に示すようにICチ
ップ12aは引出用リード16aの下面に接合されてい
る。In this embodiment, the electrode 2 of the IC chip 12a
A so-called transfer bump method is used to join the lead 2a and the lead 16a. That is, after a bump (not shown) is transferred to the tip of the extraction lead 16a, the lead and the electrode 22a of the IC chip 12a are bonded via the bump by applying pressure and heating. Incidentally, as shown in FIG. 2, the IC chip 12a is bonded to the lower surface of the extraction lead 16a.
【0013】一方、ICチップ12bは、ICチップ1
2aの上に載置されているので、ICチップ12bの電
極22bとフィルム上のリードとをバンプを介して直接
接続することはできない。ICチップ12bは、その各
電極22bと、引出用リード16bのパッド26b1
及び内部接続用リード16cのパッド26cとの間がボ
ンディングワイヤ18を用いて接続されている。このよ
うにICチップ12bの配線をボンディングワイヤ18
を用いて行うことにより、回路設計上クロス配線が生じ
ても、同一パッケージ内でICチップの配線を行うこと
ができる。On the other hand, the IC chip 12b is similar to the IC chip 1.
2a, it is not possible to directly connect the electrodes 22b of the IC chip 12b and the leads on the film via the bumps. The IC chip 12b has its respective electrodes 22b and pads 26b1 of the extraction leads 16b.
and the pad 26c of the internal connection lead 16c are connected using the bonding wire 18. In this way, the wiring of the IC chip 12b is connected to the bonding wire 18.
By using this method, even if cross wiring occurs due to circuit design, IC chips can be wired within the same package.
【0014】図3に示す半導体装置は、図1及び図2に
示すICチップ12a,12bを同一パッケージ内に2
組配置して樹脂28により封止したものである。このよ
うに樹脂封止することにより、製造された半導体装置の
電気的特性を損なうことなく、高い信頼性を保つことが
できる。尚、ICチップを樹脂封止する際に使用するト
ランスファーモールド金型は、従来のものと同じものを
用いることができる。従来の金型はキャビティの奥行き
を十分大きく取っているので、本実施例の半導体装置の
ようにICチップを2段に重ねてワイヤボンディングし
たものを金型で挟持しても余裕を持って樹脂封止するこ
とができる。The semiconductor device shown in FIG. 3 includes two IC chips 12a and 12b shown in FIGS. 1 and 2 in the same package.
They are arranged in pairs and sealed with resin 28. By resin sealing in this manner, high reliability can be maintained without impairing the electrical characteristics of the manufactured semiconductor device. Note that the same transfer mold as the conventional one can be used for resin-sealing the IC chip. Conventional molds have sufficiently deep cavities, so even if two layers of IC chips are stacked and wire-bonded, as in the semiconductor device of this example, they are held together by the mold, the resin can be removed with enough room. Can be sealed.
【0015】本実施例の半導体装置では、同一パッケー
ジ内に搭載された複数のICチップの接続をリードだけ
でなくボンディングワイヤを用いて接続することにより
、同一パッケージ内でのクロス配線が可能となる。さら
に、上記のように2個のICチップを重ねてフィルムキ
ャリアに搭載したことにより、パッケージサイズを小さ
くすることが可能なので、基板に実装するときに実装面
積を縮小することができる。また、ボンディングワイヤ
を絶縁体で被覆したことにより、リードとボンディング
ワイヤ、及びボンディングワイヤ同士が接触しても、短
絡することはない。In the semiconductor device of this embodiment, cross wiring within the same package is possible by connecting multiple IC chips mounted within the same package using not only leads but also bonding wires. . Furthermore, by stacking two IC chips and mounting them on a film carrier as described above, the package size can be reduced, so the mounting area can be reduced when mounting on a board. Moreover, since the bonding wire is coated with an insulator, even if the lead and the bonding wire come into contact with each other, or even if the bonding wires come into contact with each other, a short circuit will not occur.
【0016】次に、本発明の第2実施例を図4及び図5
を参照して説明する。図4は本発明の第2実施例である
半導体装置の概略平面図、図5はその半導体装置のB−
B矢視概略断面図である。第2実施例において上記第1
実施例と同一の機能を有するものには同一の符号を付す
ことにより、その詳細な説明を省略する。Next, a second embodiment of the present invention is shown in FIGS. 4 and 5.
Explain with reference to. FIG. 4 is a schematic plan view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention, and FIG. 5 is a B-
It is a schematic sectional view taken in the direction of arrow B. In the second embodiment, the first
Components having the same functions as those in the embodiment are given the same reference numerals, and detailed explanation thereof will be omitted.
【0017】図4及び図5に示す半導体装置では、フィ
ルム14にデバイスホールを形成していない。その代わ
りにICチップ12aの電極に対応する部分に、ICチ
ップ12aの電極22aと引出用リード16aとを接合
するためにリード接合用ホール32を形成している。引
出用リード16bはリード接合用ホール32の上部を通
過してICチップ間に介在するフィルム14aまで引き
伸ばされている。ICチップ12bはICチップ12a
上部のフィルム14aに固定材24により固定され、ま
たICチップ12bの電極22bと、引出用リード16
b及び内部接続用リード16cとの間は第1実施例と同
様にボンディングワイヤ18を用いて接続されている。In the semiconductor device shown in FIGS. 4 and 5, no device hole is formed in the film 14. Instead, a lead joining hole 32 is formed in a portion corresponding to the electrode of the IC chip 12a in order to join the electrode 22a of the IC chip 12a and the extraction lead 16a. The lead 16b passes through the upper part of the lead bonding hole 32 and is extended to the film 14a interposed between the IC chips. IC chip 12b is IC chip 12a
It is fixed to the upper film 14a by a fixing member 24, and the electrode 22b of the IC chip 12b and the extraction lead 16 are fixed to the upper film 14a.
b and the internal connection lead 16c are connected using a bonding wire 18 as in the first embodiment.
【0018】第2実施例の半導体装置では、2つのIC
チップ間にフィルムが介在しているので、各ICチップ
の発する熱が互いに他に及ぼすのを防止することができ
る。また、ICチップ間に介在するフィルムまで引出用
リード16bを引き伸ばしているので、ICチップの電
極と引出用リードとの接続に用いられるボンディングワ
イヤ、たとえば高価な金線が短くてすむ。その他の効果
は上記第1実施例と同様である。In the semiconductor device of the second embodiment, two ICs
Since the film is interposed between the chips, it is possible to prevent the heat generated by each IC chip from being applied to each other. Further, since the lead 16b is extended to the film interposed between the IC chips, the bonding wire used to connect the electrode of the IC chip and the lead, such as an expensive gold wire, can be short. Other effects are similar to those of the first embodiment.
【0019】尚、上記の各実施例では、ICチップの上
に一個のICチップを配置した場合について説明したが
、本発明はこれに限定されるものではなく、ICチップ
の上に2個又は3個以上のICチップを配置してもよい
。In each of the above embodiments, the case where one IC chip is placed on the IC chip has been explained, but the present invention is not limited to this, and two or more IC chips are placed on the IC chip. Three or more IC chips may be arranged.
【0020】たとえば、図6に示す半導体装置は、IC
チップ12aの上に固定材24により2つのICチップ
12a1 ,12a2 を並べて固定している。そして
、ICチップ12a1 ,12a2 の接続はボンディ
ングワイヤ18を用いて行う。また、図7に示す半導体
装置は、ICチップ12aの上に固定材26によりIC
チップ12bを重ねて固定し、さらに、このICチップ
12bの上にICチップ12cを重ねている。ICチッ
プ12b,12cの接続はボンディングワイヤ18を用
いて行う。For example, the semiconductor device shown in FIG.
Two IC chips 12a1 and 12a2 are fixed side by side on the chip 12a by a fixing member 24. The IC chips 12a1 and 12a2 are connected using bonding wires 18. Further, in the semiconductor device shown in FIG. 7, an IC is mounted on the IC chip 12a by a fixing member 26.
The chips 12b are stacked and fixed, and further, the IC chip 12c is stacked on top of the IC chip 12b. The IC chips 12b and 12c are connected using bonding wires 18.
【0021】また、上記の各実施例では、2個のICチ
ップ間を接続する際に、一方のICチップの電極と内部
接続用リードとをボンディングワイヤで接続する場合に
ついて説明したが、本発明はこれに限定されるものでは
なく、内部接続用リードを形成せず、2個のICチップ
間の電極を直接ボンディングワイヤで接続してもよい。Furthermore, in each of the above embodiments, when connecting two IC chips, the electrode of one IC chip and the internal connection lead are connected with a bonding wire, but the present invention However, the present invention is not limited to this, and the electrodes between two IC chips may be directly connected with bonding wires without forming internal connection leads.
【0022】[0022]
【発明の効果】以上説明したように本発明によれば、第
1の半導体素子の上に1個又は複数個の第2の半導体素
子を載置し、第2の半導体素子の接続を導電性のワイヤ
を用いて行うことにより、同一パッケージ内でクロス配
線を行うことが可能になり、且つ複数の半導体素子をフ
ィルムキャリヤ上に立体的に配置することによりパッケ
ージサイズを小さくすることができ、したがって基板に
実装するときの実装面積を縮小することができる半導体
装置を提供することができる。As explained above, according to the present invention, one or more second semiconductor elements are placed on a first semiconductor element, and the connection of the second semiconductor elements is made conductive. By using wires of A semiconductor device that can reduce the mounting area when mounted on a substrate can be provided.
【図1】本発明の第1実施例である半導体装置の概略平
面図である。FIG. 1 is a schematic plan view of a semiconductor device according to a first embodiment of the present invention.
【図2】その半導体装置のA−A矢視概略断面図である
。FIG. 2 is a schematic cross-sectional view taken along the line A-A of the semiconductor device.
【図3】その半導体装置のICチップを2組で一つのパ
ッケージとして樹脂封止したときの様子を示す概略断面
図である。FIG. 3 is a schematic cross-sectional view showing how two sets of IC chips of the semiconductor device are resin-sealed as one package.
【図4】本発明の第2実施例である半導体装置の概略平
面図である。FIG. 4 is a schematic plan view of a semiconductor device according to a second embodiment of the present invention.
【図5】その半導体装置のB−B矢視概略断面図である
。FIG. 5 is a schematic cross-sectional view taken along the line BB of the semiconductor device.
【図6】本発明の第1変形例である半導体装置の概略平
面図である。FIG. 6 is a schematic plan view of a semiconductor device according to a first modification of the present invention.
【図7】本発明の第2変形例である半導体装置の概略断
面図である。FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a semiconductor device according to a second modification of the present invention.
12a,12b ICチップ 14 フィルム 16 リード 16a,16b 引出用リード 16c 内部接続用リード 18 ボンディングワイヤ 22 電極 24 固定材 26 パッド 28 封止樹脂 32 リード接続用ホール 12a, 12b IC chip 14 Film 16 Lead 16a, 16b Drawer lead 16c Internal connection lead 18 Bonding wire 22 Electrode 24 Fixed material 26 Pad 28 Sealing resin 32 Lead connection hole
Claims (2)
れた第1の半導体素子と、該第1の半導体素子上に載置
された1個又は複数個の第2の半導体素子とを備え、該
第2の半導体素子の配線を導電性のワイヤを用いて行っ
たことを特徴とする半導体装置。1. A semiconductor device comprising: a first semiconductor element mounted on a film on which leads are formed; and one or more second semiconductor elements mounted on the first semiconductor element; A semiconductor device characterized in that the second semiconductor element is wired using a conductive wire.
1記載の半導体装置。2. The semiconductor device according to claim 1, wherein the wire is coated with an insulator.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3076745A JPH04287335A (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Semiconductor device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3076745A JPH04287335A (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Semiconductor device |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04287335A true JPH04287335A (en) | 1992-10-12 |
Family
ID=13614142
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3076745A Withdrawn JPH04287335A (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Semiconductor device |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04287335A (en) |
-
1991
- 1991-03-15 JP JP3076745A patent/JPH04287335A/en not_active Withdrawn
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2582013B2 (en) | Resin-sealed semiconductor device and method of manufacturing the same | |
US6414381B1 (en) | Interposer for separating stacked semiconductor chips mounted on a multi-layer printed circuit board | |
US5373188A (en) | Packaged semiconductor device including multiple semiconductor chips and cross-over lead | |
US5770888A (en) | Integrated chip package with reduced dimensions and leads exposed from the top and bottom of the package | |
US5917242A (en) | Combination of semiconductor interconnect | |
US6765228B2 (en) | Bonding pad with separate bonding and probing areas | |
KR930010086B1 (en) | Semiconductor integrated circuit device | |
US5942795A (en) | Leaded substrate carrier for integrated circuit device and leaded substrate carrier device assembly | |
JP5227501B2 (en) | Stack die package and method of manufacturing the same | |
KR100926002B1 (en) | Semiconductor package device and method of formation and testing | |
KR950704838A (en) | TAB TESTING OF AREA ARRAY INTERCONNECTED CHIPS | |
JPH0595015A (en) | Semiconductor device | |
US5569956A (en) | Interposer connecting leadframe and integrated circuit | |
JPS6347259B2 (en) | ||
US6791166B1 (en) | Stackable lead frame package using exposed internal lead traces | |
JPH04273451A (en) | Semiconductor device | |
JP2001156251A (en) | Semiconductor device | |
US5559305A (en) | Semiconductor package having adjacently arranged semiconductor chips | |
JP2674536B2 (en) | Chip carrier semiconductor device and manufacturing method thereof | |
JPH04144142A (en) | Semiconductor device | |
JPH0637233A (en) | Semiconductor integrated circuit device and its manufacturing method | |
JPH0322544A (en) | Semiconductor device | |
TWI582905B (en) | Chip package structure and manufacturing method thereof | |
KR970001891B1 (en) | Semiconductor device and method for manufacturing the same | |
JPH04287335A (en) | Semiconductor device |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A300 | Application deemed to be withdrawn because no request for examination was validly filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 19980514 |