JPH04285793A - Dynamic ram - Google Patents
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- JPH04285793A JPH04285793A JP3049988A JP4998891A JPH04285793A JP H04285793 A JPH04285793 A JP H04285793A JP 3049988 A JP3049988 A JP 3049988A JP 4998891 A JP4998891 A JP 4998891A JP H04285793 A JPH04285793 A JP H04285793A
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、ダイナミックRAMに
関し、更に詳しくは、選択されたダイナミックメモリセ
ルの信号を各コラム毎のビット線にラッチするセンスア
ンプを備えたダイナミックRAM(ランダムアクセスメ
モリ)に関する。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a dynamic RAM, and more particularly to a dynamic RAM (random access memory) equipped with a sense amplifier that latches the signal of a selected dynamic memory cell onto a bit line of each column. .
【0002】ダイナミックRAMでは、アドレスの入力
から各メモリセルのデータの出力迄のアクセス時間をで
きるだけ短くして高速作動を可能とするための努力が払
われている。高速作動が可能なダイナミックRAMの一
つの形式として、ロウアドレスを固定し、コラムアドレ
スの入力のみで連続的にメモリセルのアクセスを可能と
するものがある。この形式のダイナミックRAMでは、
各コラム毎にセンスアンプを設け、選択されたメモリセ
ルの信号をこのセンスアンプでビット線にラッチした後
のコラムの選択がスタティック形式に行なわれる。In dynamic RAM, efforts are being made to shorten the access time from address input to data output of each memory cell as much as possible to enable high-speed operation. One type of dynamic RAM capable of high-speed operation is one in which row addresses are fixed and memory cells can be continuously accessed only by inputting column addresses. In this type of dynamic RAM,
A sense amplifier is provided for each column, and after a signal from a selected memory cell is latched onto a bit line by the sense amplifier, column selection is performed in a static manner.
【0003】0003
【従来の技術】図1及び2を参照して上記形式のダイナ
ミックRAMについて説明する。図1及び2は夫々、ダ
イナミックRAMの回路略図及びブロック図であり、い
ずれも本発明の実施例及び従来のダイナミックRAMの
構成を説明するための図である。2. Description of the Related Art The above type of dynamic RAM will be explained with reference to FIGS. 1 and 2. 1 and 2 are a schematic circuit diagram and a block diagram of a dynamic RAM, respectively, and both are diagrams for explaining the configuration of an embodiment of the present invention and a conventional dynamic RAM.
【0004】図2に示したように、メモリアレイ1は、
コラム及びロウ毎に配列される多数のメモリセルを備え
、ロウアドレスを入力されるロウデコーダ8によって選
択されるワード線WL1〜WLnによって一つのロウが
選択され、更に、コラムアドレスを入力されるコラムデ
コーダ9からの信号によって一つのコラムが選択される
。As shown in FIG. 2, the memory array 1 includes:
It is equipped with a large number of memory cells arranged in columns and rows, and one row is selected by word lines WL1 to WLn selected by a row decoder 8 to which a row address is input, and a column to which a column address is input. One column is selected by a signal from decoder 9.
【0005】読出し時においてロウアドレスが入力され
ると、各コラムにおいて当該ロウに配されるメモリセル
が、ワード線WL1〜WLnのHレベルへの移行によっ
て当該ビット線対の一方と導通し、このメモリセルのデ
ータがビット線対2、2′にラッチされる。次にコラム
アドレスが入力されると、選択されたコラムのビット線
対21、21′が、コラムゲートトランジスタ41の導
通を介してデータ線をなすバス線5、5′と導通し、こ
れによって選択されたメモリセルのデータは、ビット線
対21、21′及びバス線5、5′を介して伝達され、
メインアンプ7によって読み取られる。When a row address is input at the time of reading, the memory cells arranged in the row in each column are brought into conduction with one of the corresponding bit line pair by the transition of the word lines WL1 to WLn to the H level. Data in the memory cell is latched onto bit line pair 2, 2'. Next, when a column address is input, the bit line pair 21, 21' of the selected column is brought into conduction with the bus lines 5, 5' forming the data line through the conduction of the column gate transistor 41. The data of the memory cells that have been transmitted are transmitted via the bit line pair 21, 21' and the bus lines 5, 5'.
It is read by the main amplifier 7.
【0006】アクティヴ負荷回路6は、Nチャネルトラ
ンジスタとして構成され、読出し時にHレベルとなる信
号φRによってオンとなり、高電位電源VCCとバス線
5、5′とを導通させる。アクティヴ負荷回路6をNチ
ャネルトランジスタとしたことにより、バス線5、5′
は、Hレベルの電位をNチャネルトランジスタのしきい
値(スレッシュホールド電圧)によって抑えられる。ま
たLレベルとなっている一方のビット線と導通している
バス線は、アクティブ負荷回路を構成するトランジスタ
Q8またはQ9と、Q6(Q7)及びQ3(Q5)との
直列オン抵抗の比で決まるレベルに制限される。その電
位振幅を小さく制限されるため、寄生容量の大きなバス
線5、5′がHレベルとLレベルとの間で双方向に移行
するとき、その移行が早められ信号読出し期間が短縮さ
れる。The active load circuit 6 is configured as an N-channel transistor, and is turned on by a signal φR that attains an H level during reading, thereby connecting the high potential power supply VCC and the bus lines 5, 5'. By using an N-channel transistor as the active load circuit 6, the bus lines 5, 5'
The H-level potential can be suppressed by the threshold voltage of the N-channel transistor. Also, the bus line that is electrically connected to one bit line that is at L level is determined by the ratio of the series on-resistance of transistor Q8 or Q9 that constitutes the active load circuit and Q6 (Q7) and Q3 (Q5). limited by level. Since the potential amplitude is limited to a small value, when the bus lines 5, 5', which have large parasitic capacitances, make a bidirectional transition between the H level and the L level, the transition is accelerated and the signal read period is shortened.
【0007】上記形式のダイナミックRAMにおいては
、一般に、低消費電力及び高集積化を考慮して、センス
アンプ31、コラムゲート41及びアクティヴ負荷回路
6を構成する各トランジスタにはMOSトランジスタが
採用される。この内センスアンプ31を構成するMOS
トランジスタQ2〜Q5については、できるだけ微小の
電圧を検出可能とするためそのチャネル長が長く形成さ
れ、一方、コラムゲート41及びアクティヴ負荷回路6
を構成する各MOSトランジスタQ6〜Q9については
、駆動能力をできるだけ高めるためそのチャネル長が短
く形成されている。In the dynamic RAM of the above type, MOS transistors are generally used for each transistor constituting the sense amplifier 31, column gate 41, and active load circuit 6 in consideration of low power consumption and high integration. . Of these, the MOS that constitutes the sense amplifier 31
The channel lengths of the transistors Q2 to Q5 are made long in order to detect as small a voltage as possible, while the column gate 41 and the active load circuit 6
Each of the MOS transistors Q6 to Q9 constituting the circuit is formed to have a short channel length in order to increase the driving ability as much as possible.
【0008】[0008]
【発明が解決しようとする課題】一般に半導体装置の製
造時において温度等のプロセス条件を常に一定に保つこ
とは困難であり、このプロセス条件の差異により、各回
路要素の特性にバラツキが生ずる。従って、上記形式の
ダイナミックRAMについても、プロセス条件の変動に
より、その回路要素の特性がバラツキを有するという問
題がある。Generally, it is difficult to keep process conditions such as temperature constant during the manufacture of semiconductor devices, and differences in process conditions cause variations in the characteristics of each circuit element. Therefore, the dynamic RAM of the above type also has a problem in that the characteristics of its circuit elements vary due to variations in process conditions.
【0009】例えばアクティヴ負荷回路6を構成するM
OSトランジスタQ8、Q9のチャネル長が短く形成さ
れる場合には、このダイナミックRAMではバス線5、
5′の振幅が小さくなってメインアンプ7での誤作動の
おそれが大きくなり、逆の場合には、バス線5、5′の
振幅が大きくなりバス線のレベル移行が遅くなって高速
作動が行なわれず、いずれもダイナミックRAMの基本
的な性能に影響を及ぼす。For example, M constituting the active load circuit 6
When the channel lengths of OS transistors Q8 and Q9 are formed short, in this dynamic RAM, bus lines 5,
5' amplitude becomes small, increasing the risk of malfunction in the main amplifier 7. In the opposite case, the amplitude of bus lines 5, 5' becomes large, and the level transition of the bus lines becomes slow, resulting in high-speed operation. Both affect the basic performance of dynamic RAM.
【0010】本発明は、上述の従来のダイナミックRA
Mの問題に鑑み、製造時におけるプロセス条件等の差異
にも拘らず、製造される個々のダイナミックRAM毎に
データ線の電位振幅が異なることなく、高速性及び信号
伝達の正確性についての障害が生じないで所定の性能が
維持されるダイナミックRAMを提供することを目的と
する。[0010] The present invention is directed to the conventional dynamic RA described above.
In view of the M problem, the potential amplitude of the data line does not differ for each dynamic RAM manufactured, despite differences in process conditions during manufacturing, and there is no problem with high speed and accuracy of signal transmission. It is an object of the present invention to provide a dynamic RAM that maintains a predetermined performance without causing any problems.
【0011】[0011]
【課題を達成するための手段】前記目的を達成するため
、本発明のダイナミックRAMは、多数のメモリセル(
11〜1n)と、該メモリセル(11〜1n)の各コラ
ム毎に配されるビット線(21、21′)と、該各ビッ
ト線(21、21′)に対応して配され、ロウアドレス
により選択された各一つの前記メモリセル(11〜1n
)の信号を該ビット線(21、21′)に夫々ラッチす
るセンスアンプ(31)と、前記各ビット線(21、2
1′)に対応して配され、コラムアドレスにより選択さ
れて夫々導通するコラムゲート(41)と、該各コラム
ゲート(41)の導通により前記各ビット線(21、2
1′)と導通可能に配されるデータ線(5、5′)と、
該データ線(5、5′)の電位振幅を所定範囲に制限す
るアクティヴ負荷回路(6)とを備え、前記センスアン
プ(31)、前記コラムゲート(41)及び前記アクテ
ィヴ負荷回路(6)が夫々電界効果トランジスタから構
成されるダイナミックRAMにおいて、前記各電界効果
トランジスタのチャネル長が、実質的に相互に等しく形
成されていることを特徴とするものである。Means for Accomplishing the Object In order to achieve the above object, the dynamic RAM of the present invention has a large number of memory cells (
11 to 1n), bit lines (21, 21') arranged for each column of memory cells (11 to 1n), and rows arranged corresponding to each bit line (21, 21'). Each one of the memory cells (11 to 1n) selected by the address
) to the respective bit lines (21, 21');
Column gates (41) are arranged corresponding to the bit lines (21, 2') and are selected by the column address and are made conductive.
data lines (5, 5') arranged to be electrically conductive with the data line (1');
an active load circuit (6) that limits the potential amplitude of the data lines (5, 5') to a predetermined range; The dynamic RAM is configured of field effect transistors, each of which is characterized in that the channel lengths of the field effect transistors are substantially equal to each other.
【0012】0012
【作用】センスアンプ、コラムゲート及びアクティヴ負
荷回路の各電界効果トランジスタのチャネル長が、実質
的に相互に等しく形成されるとした構成により、プロセ
ス条件の変動により、これらのトランジスタのチャネル
長にバラツキが発生しても、各トランジスタのオン抵抗
が一定の比率で変動することとなり、このためデータ線
の電位振幅が一定に保たれ、個々のダイナミックRAM
毎にデータ線の電位振幅が変動することはない。[Operation] The structure in which the channel lengths of the field effect transistors of the sense amplifier, column gate, and active load circuit are formed to be substantially equal to each other prevents variations in the channel lengths of these transistors due to fluctuations in process conditions. Even if a
The potential amplitude of the data line does not vary from time to time.
【0013】[0013]
【実施例】図1を参照して説明する。同図において、メ
モリアレイ1は、図示した一つのコラムに多数のメモリ
セル11〜1nを備え、更に、このコラムと同様の多数
のコラムを備えている。各メモリセル11〜1nは、論
理信号のレベル”H”又は”L”を蓄積電荷による電圧
信号として記憶するコンデンサC11〜C1nと、多数
のワード線WL1〜WLnのいずれか一つのHレベルに
よって導通し、コンデンサC11〜C1n上に記憶され
た電圧信号をどちらか一方のビット線21、21′に伝
達するNチャネルトランジスタQ11〜Q1nとから構
成される。[Embodiment] This will be explained with reference to FIG. In the figure, a memory array 1 includes a large number of memory cells 11 to 1n in one illustrated column, and further includes a large number of columns similar to this column. Each of the memory cells 11 to 1n is electrically connected to a capacitor C11 to C1n that stores the logic signal level "H" or "L" as a voltage signal based on accumulated charges, and the H level of any one of the many word lines WL1 to WLn. and N-channel transistors Q11-Q1n that transmit voltage signals stored on capacitors C11-C1n to either bit line 21, 21'.
【0014】センスアンプ31は、センスアンプ電源ラ
インPSA、NSAによって駆動される二組のCMOS
トランジスタ32、33を備え、各CMOSトランジス
タ32、33は、夫々の共通に接続されたゲートが、他
方のCMOSトランジスタ33、32のソース・ドレイ
ン路の直列接続ノードn2、n1に接続されると共に、
各一方のビット線21′、21に接続されている。セン
スアンプ電源ラインPSA及びNSAは、リセット期間
において夫々高電位及び低電位電源の各電位VCC及び
VSSの1/2の電位に保持され、読出し期間において
夫々ほぼ高電位VCC及び低電位VSSレベルに移行す
る。The sense amplifier 31 includes two sets of CMOS transistors driven by sense amplifier power lines PSA and NSA.
Each CMOS transistor 32, 33 has its commonly connected gate connected to the series connection node n2, n1 of the source-drain path of the other CMOS transistor 33, 32.
Each one of the bit lines 21' and 21 is connected to the other bit line 21'. The sense amplifier power supply lines PSA and NSA are held at half the potentials VCC and VSS of the high potential and low potential power supplies, respectively, during the reset period, and transition to approximately the high potential VCC and low potential VSS levels, respectively, during the read period. do.
【0015】ビット線対21、21′は、コラム選択信
号CLSmによって導通するコラムゲート41の一対の
NチャネルトランジスタQ6、Q7を介してバス線5、
5′と導通し、バス線5、5′は、各コラムゲートを介
して各ビット線対と導通可能であると共に、メインアン
プ7の入力に接続されている。アクティヴ負荷回路6は
、読出し期間においてHレベルとなるリード信号φRに
よって導通して高電位電源VCCとバス線5、5′とを
導通させる一対のNチャネルトランジスタQ8、Q9を
備える。The bit line pair 21, 21' is connected to the bus line 5, via a pair of N-channel transistors Q6, Q7 of a column gate 41, which is made conductive by a column selection signal CLSm.
The bus lines 5, 5' can be electrically connected to each bit line pair via each column gate, and are connected to the input of the main amplifier 7. Active load circuit 6 includes a pair of N-channel transistors Q8 and Q9 that are rendered conductive by read signal φR that attains an H level during a read period to conduct conduction between high potential power supply VCC and bus lines 5 and 5'.
【0016】上記のように構成したダイナミックRAM
において、データの読出しが行なわれる場合には、まず
ロウアドレスが入力され、ワード線WL1〜WLnのい
ずれかがHレベルになり、当該ワード線によって選択さ
れる各コラムのメモリセルのデータが、各ビット線対の
一方に伝達され、このデータは各ビット線対毎にセンス
アンプ7によってラッチされる。このラッチは、例えば
図示したコラムにおいてメモリセル11が選択されその
データが論理”H”であるとすると、センスアンプ31
の各CMOSトランジスタ32、33の内、Nチャネル
トランジスタQ5がオンとなってビット線21′をVS
Sレベルに、またPチャネルトランジスタQ2がオンと
なってビット線21をVCCレベルに、夫々維持するよ
うに行なわれる。Dynamic RAM configured as above
When reading data, a row address is first input, one of the word lines WL1 to WLn becomes H level, and the data in the memory cells of each column selected by the word line is read. The data is transmitted to one of the bit line pairs and latched by sense amplifier 7 for each bit line pair. For example, if the memory cell 11 is selected in the illustrated column and its data is logic "H", the sense amplifier 31
Of the CMOS transistors 32 and 33, the N-channel transistor Q5 is turned on and the bit line 21' is connected to VS.
The bit line 21 is maintained at the S level and the P channel transistor Q2 is turned on to maintain the bit line 21 at the VCC level.
【0017】コラムアドレスが入力されると、選択され
た一つのコラムゲートが導通し、当該ビット線対とバス
線5、5′とが導通する。一方、別にリード信号φRの
Hレベルを受けてアクティヴ負荷回路6が導通するので
、高電位電源VCC、アクティヴ負荷回路の各トランジ
スタQ8、Q9、バス線5、5′、コラムゲート41の
各トランジスタQ6、Q7、各ビット線21、21′、
センスアンプ31の各CMOSトランジスタ32、33
のうち導通しているPチャネルトランジスタ又はNチャ
ネルトランジスタ、及びセンスアンプ電源ラインPSA
又はNSAに至る回路が形成される。これによって、選
択されたメモリセルのデータが”H”である先の例の場
合には、一方のバス線5がHレベルに、他方のバス線5
′がLレベルになり、メインアンプ7においてデータ”
H”が検出される。When a column address is input, one selected column gate becomes conductive, and the corresponding bit line pair and bus lines 5, 5' become conductive. On the other hand, since the active load circuit 6 becomes conductive in response to the H level of the read signal φR, the high potential power supply VCC, the transistors Q8 and Q9 of the active load circuit, the bus lines 5 and 5', and the transistors Q6 of the column gate 41 , Q7, each bit line 21, 21',
Each CMOS transistor 32 and 33 of the sense amplifier 31
Among them, the conductive P-channel transistor or N-channel transistor, and the sense amplifier power supply line PSA
Alternatively, a circuit leading to the NSA is formed. As a result, in the case of the previous example in which the data of the selected memory cell is "H", one bus line 5 goes to H level and the other bus line 5 goes to H level.
' goes to L level, and the main amplifier 7 outputs the data.
H” is detected.
【0018】前記例において、バス線5は、VCCレベ
ルに維持されている一方のビット線21とNチャネルト
ランジスタQ8を介してVCC電源とに夫々導通してい
る。
バス線5は、コラムゲ−トトランジスタQ6、Q7がN
チャネルトランジスタであり、一般的にコラム選択信号
CLSmはVccレベルまでしか上がらないこと、並び
に駆動能力が大きくバス線の電位を上昇させ得るアクテ
ィヴ負荷回路のNチャネルトランジスタQ8がスレッシ
ュホールド電圧Vthによりその導通を制限されること
により、結局その電位は読出し期間中VCC−Vthに
維持される。In the above example, bus line 5 is electrically connected to one bit line 21, which is maintained at the VCC level, and to the VCC power supply via N-channel transistor Q8. The bus line 5 has column gate transistors Q6 and Q7 connected to N
The N-channel transistor Q8, which is a channel transistor and is an active load circuit that has a large drive capability and can raise the potential of the bus line, is turned on by the threshold voltage Vth. As a result, the potential is ultimately maintained at VCC-Vth during the read period.
【0019】他方のバス線5′は、一方ではアクティヴ
負荷回路6のトランジスタQ9を介して高電位電源VC
Cに導通し、他方ではコラムゲート41のトランジスタ
Q7、他方のビット線21′、センスアンプ31のCM
OSトランジスタ33の導通しているNチャネルトラン
ジスタQ5を経由してセンスアンプ電源ラインNSAに
導通している。このためバス線5′は、アクティヴ負荷
回路6のNチャネルトランジスタQ9と、コラムゲート
41のNチャネルトランジスタQ7及びセンスアンプ3
1のNチャネルトランジスタQ5とによって分圧される
ので、前記一方のバス線5の電位よりも電圧値αだけ電
位が低くなる。このαは、前述のバス線の電位振幅の値
であり、センスアンプ7の検出感度及び電位レベルの移
行スピードの観点から、その値が個々の半導体で変動し
ないことが要請されるものである。The other bus line 5' is connected to a high potential power supply VC via a transistor Q9 of an active load circuit 6.
On the other hand, the transistor Q7 of the column gate 41, the bit line 21' on the other hand, and the CM of the sense amplifier 31
It is electrically connected to the sense amplifier power supply line NSA via the N-channel transistor Q5 of the OS transistor 33, which is electrically conductive. Therefore, the bus line 5' is connected to the N-channel transistor Q9 of the active load circuit 6, the N-channel transistor Q7 of the column gate 41, and the sense amplifier 3.
Since the voltage is divided by one N-channel transistor Q5, the potential is lower than the potential of the one bus line 5 by the voltage value α. This α is the value of the aforementioned potential amplitude of the bus line, and from the viewpoint of the detection sensitivity of the sense amplifier 7 and the transition speed of the potential level, it is required that the value does not vary among individual semiconductors.
【0020】Lレベルにあるバス線5′の電位VDB及
びαの値は、前記分圧の条件から、
VDB=VCC−Vth−α=VCC(RQ7
+RQ5)/(RQ9+RQ7+RQ5) (1)と
なる。但し、RQ9、RQ7及びRQ5は夫々トランジ
スタQ9、Q7及びQ5のオン抵抗であり、VthはN
チャネルトランジスタQ9のスレッシュホールド電圧で
ある。The values of the potentials VDB and α of the bus line 5' at the L level are as follows from the above voltage division condition: VDB=VCC-Vth-α=VCC(RQ7
+RQ5)/(RQ9+RQ7+RQ5) (1). However, RQ9, RQ7 and RQ5 are on-resistances of transistors Q9, Q7 and Q5, respectively, and Vth is N
This is the threshold voltage of channel transistor Q9.
【0021】一般にMOSトランジスタのオン抵抗は、
そのチャネル長に比例することが知られており、前記各
MOSトランジスタQ9、Q7及びQ5のオン抵抗RQ
9、RQ7及びRQ5は、夫々そのトランジスタの各チ
ャネル長LQ9、LQ7及びLQ5によって、RQ9=
C9*LQ9、RQ7=C7*LQ7、RQ5=C5*
LQ5と表わすことができる。但し、C9、C7及びC
5は、夫々のMOSトランジスタのチャネル幅等によっ
て定まり、チャネル長に依存しない定数である。Generally, the on-resistance of a MOS transistor is
It is known that the on-resistance RQ of each of the MOS transistors Q9, Q7, and Q5 is proportional to the channel length.
RQ9=
C9*LQ9, RQ7=C7*LQ7, RQ5=C5*
It can be expressed as LQ5. However, C9, C7 and C
5 is a constant that is determined by the channel width of each MOS transistor and does not depend on the channel length.
【0022】本発明では、各MOSトランジスタQ9、
Q7及びQ5のチャネル長は相互に等しく形成されてお
り、LQ9=LQ7=LQ5とされている。従って前記
(1)式の右辺は、VCC(C7+C5)/(C9+C
7+C5)となり、これからαは、
α=VCC−Vth−VCC(C7+C5)/
(C9+C7+C5) (2)と定まる。In the present invention, each MOS transistor Q9,
The channel lengths of Q7 and Q5 are formed to be equal to each other, and LQ9=LQ7=LQ5. Therefore, the right side of equation (1) above is VCC(C7+C5)/(C9+C
7+C5), and from now on, α is α=VCC-Vth-VCC(C7+C5)/
(C9+C7+C5) (2) is determined.
【0023】これらチャネル長は、ダイナミックRAM
の製造時においてプロセス条件の変動のためにその値が
変動しても、同じプロセス条件で製造される各MOSト
ランジスタ相互では同じように変動することが知られて
おり、従って、上記式で定まる電位振幅αは、プロセス
条件の差異により変動することはない。[0023] These channel lengths are
It is known that even if its value varies due to variations in process conditions during manufacturing, it varies in the same way for each MOS transistor manufactured under the same process conditions. Therefore, the potential determined by the above formula The amplitude α does not vary due to differences in process conditions.
【0024】上記実施例のダイナミックRAMにおいて
は、センスアンプ31、コラムゲート41及びアクティ
ヴ負荷回路6の各MOSトランジスタのチャネル長は、
他の回路要素、例えば書込み回路等に配される各MOS
トランジスタのチャネル長よりも長く形成されている。
チャネル長が長い場合には、プロセス条件の変動による
チャネル長のバラツキの影響を受け難いため、特に前記
電位振幅の一定維持が確保される。In the dynamic RAM of the above embodiment, the channel length of each MOS transistor of the sense amplifier 31, column gate 41, and active load circuit 6 is as follows.
Each MOS arranged in other circuit elements, such as a write circuit, etc.
It is formed longer than the channel length of the transistor. When the channel length is long, it is difficult to be affected by variations in channel length due to variations in process conditions, so it is particularly possible to maintain the potential amplitude constant.
【0025】[0025]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によると、
プロセス条件等の差異により個々のダイナミックRAM
毎にMOSトランジスタのチャネル長が変動しても、ダ
イナミックRAMを構成し、バス線の電位振幅の値を定
める各MOSトランジスタのチャネル長が相互に等しく
形成されるので、バス線の電位振幅が個々に変動するお
それがなく高速作動と信号伝達の正確性の双方が維持で
きるダイナミックRAMを提供でき、ダイナミックRA
Mの作動の安定に寄与すること大である。[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention,
Depending on differences in process conditions, individual dynamic RAM
Even if the channel lengths of the MOS transistors vary from time to time, the channel lengths of the MOS transistors that constitute the dynamic RAM and determine the value of the potential amplitude of the bus line are formed to be equal to each other, so the potential amplitude of the bus line can be changed individually. We can provide a dynamic RAM that maintains both high-speed operation and signal transmission accuracy without the risk of fluctuations.
This greatly contributes to the stability of M's operation.
【図1】本発明の一実施例及び従来のダイナミックRA
Mの回路略図である。FIG. 1: One embodiment of the present invention and conventional dynamic RA
It is a circuit diagram of M.
【図2】図1のダイナミックRAMのブロック図である
。FIG. 2 is a block diagram of the dynamic RAM of FIG. 1;
1 メモリアレイ11
〜1n メモリセル2、21、21′
ビット線1 Memory array 11
~1n Memory cells 2, 21, 21'
bit line
Claims (2)
モリセル(11〜1n)の各コラム毎に配されるビット
線(21、21′)と、該各ビット線(21、21′)
に対応して配され、ロウアドレスにより選択された各一
つの前記メモリセル(11〜1n)の信号を該ビット線
(21、21′)に夫々ラッチするセンスアンプ(31
)と、前記各ビット線(21、21′)に対応して配さ
れ、コラムアドレスにより選択されて夫々導通するコラ
ムゲート(41)と、該各コラムゲート(41)の導通
により前記各ビット線(21、21′)と導通可能に配
されるデータ線(5、5′)と、該データ線(5、5′
)の電位振幅を所定範囲に制限するアクティヴ負荷回路
(6)とを備え、前記センスアンプ(31)、前記コラ
ムゲート(41)及び前記アクティヴ負荷回路(6)が
夫々電界効果トランジスタから構成されるダイナミック
RAMにおいて、前記各電界効果トランジスタのチャネ
ル長が、実質的に相互に等しく形成されていることを特
徴とするダイナミックRAM。1. A large number of memory cells (11 to 1n), bit lines (21, 21') arranged for each column of the memory cells (11 to 1n), and each bit line (21, 21'). ′)
A sense amplifier (31) is arranged corresponding to the bit line (21, 21') and latches the signal of each one of the memory cells (11 to 1n) selected by the row address to the bit line (21, 21').
), a column gate (41) arranged corresponding to each of the bit lines (21, 21') and turned on when selected by a column address; (21, 21') and a data line (5, 5') arranged to be electrically conductive with the data line (5, 5').
), the sense amplifier (31), the column gate (41), and the active load circuit (6) each include a field effect transistor. A dynamic RAM characterized in that the channel lengths of the respective field effect transistors are formed to be substantially equal to each other.
ート(41)及び前記アクティヴ負荷回路(6)を夫々
構成する前記各電界効果トランジスタのチャネル長が、
該センスアンプ(31)、該コラムゲート(41)及び
該アクティヴ負荷回路(6)以外の回路要素を構成する
電界効果トランジスタのチャネル長よりも長く形成され
ていることを特徴とする請求項1記載のダイナミックR
AM。2. The channel length of each of the field effect transistors constituting the sense amplifier (31), the column gate (41), and the active load circuit (6), respectively, is
2. The channel length of the field effect transistor according to claim 1, wherein the channel length is longer than the channel length of a field effect transistor constituting circuit elements other than the sense amplifier (31), the column gate (41), and the active load circuit (6). Dynamic R
A.M.
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---|---|---|---|
JP3049988A JP3049102B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Dynamic RAM |
Applications Claiming Priority (1)
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JP3049988A JP3049102B2 (en) | 1991-03-15 | 1991-03-15 | Dynamic RAM |
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Publication Number | Publication Date |
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JPH04285793A true JPH04285793A (en) | 1992-10-09 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5666319A (en) * | 1993-09-16 | 1997-09-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sense amplifier |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63113894A (en) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Nec Corp | Delaying circuit |
-
1991
- 1991-03-15 JP JP3049988A patent/JP3049102B2/en not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63113894A (en) * | 1986-10-30 | 1988-05-18 | Nec Corp | Delaying circuit |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US5666319A (en) * | 1993-09-16 | 1997-09-09 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Sense amplifier |
US5929492A (en) * | 1993-09-16 | 1999-07-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Contact structure of column gate and data line |
Also Published As
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JP3049102B2 (en) | 2000-06-05 |
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