JPH04268055A - リードフレーム用銅合金の製造方法 - Google Patents
リードフレーム用銅合金の製造方法Info
- Publication number
- JPH04268055A JPH04268055A JP5063591A JP5063591A JPH04268055A JP H04268055 A JPH04268055 A JP H04268055A JP 5063591 A JP5063591 A JP 5063591A JP 5063591 A JP5063591 A JP 5063591A JP H04268055 A JPH04268055 A JP H04268055A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- copper alloy
- treatment
- precipitation hardening
- subjected
- alloy
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 24
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 40
- 238000004881 precipitation hardening Methods 0.000 claims abstract description 20
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 18
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims abstract description 8
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims abstract description 7
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 claims abstract description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims description 5
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 4
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 abstract description 15
- 239000000956 alloy Substances 0.000 abstract description 15
- 238000005530 etching Methods 0.000 abstract description 8
- 238000007747 plating Methods 0.000 abstract description 8
- 229910018054 Ni-Cu Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 229910018481 Ni—Cu Inorganic materials 0.000 abstract description 7
- 238000000034 method Methods 0.000 description 12
- 238000005219 brazing Methods 0.000 description 2
- 238000011161 development Methods 0.000 description 2
- 230000018109 developmental process Effects 0.000 description 2
- 238000005098 hot rolling Methods 0.000 description 2
- 238000005554 pickling Methods 0.000 description 2
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018106 Ni—C Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 238000003483 aging Methods 0.000 description 1
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000017525 heat dissipation Effects 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Lead Frames For Integrated Circuits (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は電気伝導度が高く、平滑
性、エッチング性、メッキ性及びロウ付け性が優れてい
ることが要求される多ピンリードフレーム用の材料とし
て好適のリードフレーム用銅合金の製造方法に関する。
性、エッチング性、メッキ性及びロウ付け性が優れてい
ることが要求される多ピンリードフレーム用の材料とし
て好適のリードフレーム用銅合金の製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】近時、電子機器の小型化の要請に伴い、
IC(半導体集積回路)の高密度化、寸法の小型化及び
薄型化が要求されるようになった。このため、ICのリ
ードフレームも、ピン数の増加、ピンの狭幅化及び薄肉
化が要求されている。例えば、ピン数は80ピンから1
60ピンへ、また300ピンへと増加している。ピン幅
は0.65mmから0.5mm、0.3mmへと狭幅化
している。そして、これらのピン数の増加及びピン幅の
狭幅化に伴い、エッチング及びプレス加工の便宜上、ピ
ンの薄肉化が促進されている。
IC(半導体集積回路)の高密度化、寸法の小型化及び
薄型化が要求されるようになった。このため、ICのリ
ードフレームも、ピン数の増加、ピンの狭幅化及び薄肉
化が要求されている。例えば、ピン数は80ピンから1
60ピンへ、また300ピンへと増加している。ピン幅
は0.65mmから0.5mm、0.3mmへと狭幅化
している。そして、これらのピン数の増加及びピン幅の
狭幅化に伴い、エッチング及びプレス加工の便宜上、ピ
ンの薄肉化が促進されている。
【0003】このように、ピンの数増加、狭幅化及び薄
肉化により、リードフレームとしては、放熱特性の改善
のために熱伝導率の向上が要求され、高速度化のために
電気伝導率(導電率)の向上が要求され、ピンの変形防
止のためにバネ強度(Kb値)の向上が要求されている
。
肉化により、リードフレームとしては、放熱特性の改善
のために熱伝導率の向上が要求され、高速度化のために
電気伝導率(導電率)の向上が要求され、ピンの変形防
止のためにバネ強度(Kb値)の向上が要求されている
。
【0004】而して、従来、リードフレーム用材料とし
ては、Niを42%(但し、%はwt%を示す。以下同
じ)含有し、残部がFeである42合金か、又はC70
250(CDA規格;Copper Develop
ment Association)が使用されてい
る。このC70250は、2.2〜4.2%のNi、0
.25〜1.2%のSi、0.05〜0.3%のMgを
含有し、残部がCuである銅合金である。
ては、Niを42%(但し、%はwt%を示す。以下同
じ)含有し、残部がFeである42合金か、又はC70
250(CDA規格;Copper Develop
ment Association)が使用されてい
る。このC70250は、2.2〜4.2%のNi、0
.25〜1.2%のSi、0.05〜0.3%のMgを
含有し、残部がCuである銅合金である。
【0005】また、これらのリードフレーム用材料は以
下のようにして製造されている。
下のようにして製造されている。
【0006】先ず、42合金はそのインゴットを熱間圧
延した後、焼鈍及び冷間圧延を繰り返して所定の厚さの
板を得、次いでこれを歪取り焼鈍し、又は焼鈍せずにリ
ードフレーム用の板材を製造している。
延した後、焼鈍及び冷間圧延を繰り返して所定の厚さの
板を得、次いでこれを歪取り焼鈍し、又は焼鈍せずにリ
ードフレーム用の板材を製造している。
【0007】C70250はそのインゴットを熱間圧延
した後、焼鈍及び冷間圧延を繰り返し、その後、歪取り
焼鈍し、又は焼鈍せずにてリードフレーム用材料を製造
している。
した後、焼鈍及び冷間圧延を繰り返し、その後、歪取り
焼鈍し、又は焼鈍せずにてリードフレーム用材料を製造
している。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、これら
の従来のリードフレーム用材料は、42合金が導電率が
低いという欠点を有する一方、C70250は強度が低
いという欠点を有する。このため、従来のリードフレー
ム用材料は、ピン数の増加、狭幅化及び薄肉化に応える
ことができる特性を具備していない。従って、前述の熱
伝導率、導電率及びバネ強度が向上したリードフレーム
用材料の開発が要望されている。
の従来のリードフレーム用材料は、42合金が導電率が
低いという欠点を有する一方、C70250は強度が低
いという欠点を有する。このため、従来のリードフレー
ム用材料は、ピン数の増加、狭幅化及び薄肉化に応える
ことができる特性を具備していない。従って、前述の熱
伝導率、導電率及びバネ強度が向上したリードフレーム
用材料の開発が要望されている。
【0009】なお、バネ材料として使用されているBe
−Ni−Cu系合金は、強度が高いのに加え、熱伝導率
及び導電率も優れている。このため、近時、リードフレ
ーム用材料に要求されている前述の要件を具備している
が、リードフレーム用材料として基本的に必要な平滑性
、エッチング性、メッキ性及びロウ付け性が極めて悪い
という欠点がある。
−Ni−Cu系合金は、強度が高いのに加え、熱伝導率
及び導電率も優れている。このため、近時、リードフレ
ーム用材料に要求されている前述の要件を具備している
が、リードフレーム用材料として基本的に必要な平滑性
、エッチング性、メッキ性及びロウ付け性が極めて悪い
という欠点がある。
【0010】このBe−Ni−Cu系合金はC1751
0の規格で表されるが、これは溶体化処理と冷間圧延と
を繰り返して所定の厚さの板材を得、この板材に析出硬
化処理を施して製造されている。このように、この材料
は析出硬化型の銅合金であるため、この析出硬化によっ
て表面に硬く、緻密な膜が発生する。この膜の存在によ
り、メッキ性、半田付け性及びエッチング性が悪化する
。そして、この硬く緻密な膜を取り除くために、酸洗及
びバフ研磨を施すと、表面の残留応力のバランスがくず
れ、バネ限界値が劣化すると共に、平坦性も劣化してし
まう。また、溶体化処理で高温から急冷するため、本来
、平坦性が優れている板材を得にくいという欠点がある
。なお、このBe−Ni−Cu系合金は時効硬化型の合
金であるため、従来のリードフレーム用銅合金を製造し
ている前述の方法では、析出硬化処理がないため、十分
な強度を具備することができないことはいうまでもない
。
0の規格で表されるが、これは溶体化処理と冷間圧延と
を繰り返して所定の厚さの板材を得、この板材に析出硬
化処理を施して製造されている。このように、この材料
は析出硬化型の銅合金であるため、この析出硬化によっ
て表面に硬く、緻密な膜が発生する。この膜の存在によ
り、メッキ性、半田付け性及びエッチング性が悪化する
。そして、この硬く緻密な膜を取り除くために、酸洗及
びバフ研磨を施すと、表面の残留応力のバランスがくず
れ、バネ限界値が劣化すると共に、平坦性も劣化してし
まう。また、溶体化処理で高温から急冷するため、本来
、平坦性が優れている板材を得にくいという欠点がある
。なお、このBe−Ni−Cu系合金は時効硬化型の合
金であるため、従来のリードフレーム用銅合金を製造し
ている前述の方法では、析出硬化処理がないため、十分
な強度を具備することができないことはいうまでもない
。
【0011】本発明はかかる問題点に鑑みてなされたも
のであって、熱伝導率及び導電率が優れているのに加え
、強度が従来のリードフレーム用材料に比して著しく向
上したリードフレーム用銅合金を製造することができる
リードフレーム用銅合金の製造方法を提供することを目
的とする。
のであって、熱伝導率及び導電率が優れているのに加え
、強度が従来のリードフレーム用材料に比して著しく向
上したリードフレーム用銅合金を製造することができる
リードフレーム用銅合金の製造方法を提供することを目
的とする。
【0012】
【課題を解決するための手段】本発明に係るリードフレ
ーム用銅合金の製造方法は、Be及びNiを含有し、残
部がCu及び不可避的不純物からなる銅合金を850〜
950℃に加熱した後10〜200℃/秒の冷却速度で
冷却する溶体化処理工程と、その後に冷間圧延する圧延
工程とを1又は複数回繰り返し、得られた圧延材を40
0〜550℃に2分〜2時間保持して析出硬化させ、こ
の析出硬化処理により生成した酸化膜を除去した後、平
坦化加工及び歪取り焼鈍をこの順に又は逆の順に実施す
ることを特徴とする。
ーム用銅合金の製造方法は、Be及びNiを含有し、残
部がCu及び不可避的不純物からなる銅合金を850〜
950℃に加熱した後10〜200℃/秒の冷却速度で
冷却する溶体化処理工程と、その後に冷間圧延する圧延
工程とを1又は複数回繰り返し、得られた圧延材を40
0〜550℃に2分〜2時間保持して析出硬化させ、こ
の析出硬化処理により生成した酸化膜を除去した後、平
坦化加工及び歪取り焼鈍をこの順に又は逆の順に実施す
ることを特徴とする。
【0013】
【作用】本発明においては、Be及びNiを主添加成分
とする析出硬化型銅合金に対し、析出硬化処理後に、酸
化膜除去工程と平坦化加工及び歪取り焼鈍工程とを実施
する。これにより、従来バネ材料として使用されていた
Be−Ni−Cu合金の持つ優れた特性(高強度、高導
電率及び高熱伝導性)を生かしつつ、平坦性、エッチン
グ性及びメッキ性等が著しく改善された銅合金を得るこ
とができる。この銅合金は多ピンのリードフレーム用材
料として極めて有効である。
とする析出硬化型銅合金に対し、析出硬化処理後に、酸
化膜除去工程と平坦化加工及び歪取り焼鈍工程とを実施
する。これにより、従来バネ材料として使用されていた
Be−Ni−Cu合金の持つ優れた特性(高強度、高導
電率及び高熱伝導性)を生かしつつ、平坦性、エッチン
グ性及びメッキ性等が著しく改善された銅合金を得るこ
とができる。この銅合金は多ピンのリードフレーム用材
料として極めて有効である。
【0014】
【実施例】次に、本発明の実施例について具体的に説明
する。
する。
【0015】先ず、Be及びNiを所定の組成で含有し
、残部がCu及び不可避的不純物である銅合金を溶製し
、その溶湯を鋳造してインゴットを得る。そして、この
インゴットを熱間で加工して得た素条を更に850〜9
50℃に加熱した後、10〜200℃/秒の冷却速度で
冷却して、溶体化処理を施す。この溶体化処理後に条材
を冷間圧延加工する。そして、この溶体化処理と圧延と
を1回又は複数回繰り返して、前記条材を所定の厚さの
板材にする。
、残部がCu及び不可避的不純物である銅合金を溶製し
、その溶湯を鋳造してインゴットを得る。そして、この
インゴットを熱間で加工して得た素条を更に850〜9
50℃に加熱した後、10〜200℃/秒の冷却速度で
冷却して、溶体化処理を施す。この溶体化処理後に条材
を冷間圧延加工する。そして、この溶体化処理と圧延と
を1回又は複数回繰り返して、前記条材を所定の厚さの
板材にする。
【0016】その後、この冷間圧延後の板材に対し、4
00〜550℃に2分〜2時間保持して、析出硬化処理
を施す。 この析出硬化処理により、Be−Ni−Cu合金はその
強度及び硬度が上昇する。しかし、この析出硬化処理は
不活性ガス中で行われるが、この圧延板材はその表面に
薄い酸化膜(例えば、数10nμ)が形成され、またバ
ッチ処理の場合には巻きぐせが生じる。
00〜550℃に2分〜2時間保持して、析出硬化処理
を施す。 この析出硬化処理により、Be−Ni−Cu合金はその
強度及び硬度が上昇する。しかし、この析出硬化処理は
不活性ガス中で行われるが、この圧延板材はその表面に
薄い酸化膜(例えば、数10nμ)が形成され、またバ
ッチ処理の場合には巻きぐせが生じる。
【0017】そこで、析出硬化処理後に、この酸化膜を
除去する。具体的には、析出硬化処理後の板材に対し、
酸洗、バフ研磨及び電解研磨等の手段を施してその表面
の酸化膜を除去する。なお、この酸化膜の除去は上記手
段に限らず、種々の方法を適用することができる。
除去する。具体的には、析出硬化処理後の板材に対し、
酸洗、バフ研磨及び電解研磨等の手段を施してその表面
の酸化膜を除去する。なお、この酸化膜の除去は上記手
段に限らず、種々の方法を適用することができる。
【0018】次に、この析出硬化後の銅合金板材に対し
、平坦化加工を施す。具体的には、図1に示すようなテ
ンションレベラーにより、銅合金板材の表面を平坦化す
る。このテンションレベラーにおいては、銅合金板材1
は送り出しリール2に巻回されており、この送り出しリ
ール2から送り出された板材1は上流側張力ロール4a
,4b,4c、レベラーロール5,6及び下流側張力ロ
ール7a,7b,7cを経て巻き取りリール3に巻き取
られるようになっている。
、平坦化加工を施す。具体的には、図1に示すようなテ
ンションレベラーにより、銅合金板材の表面を平坦化す
る。このテンションレベラーにおいては、銅合金板材1
は送り出しリール2に巻回されており、この送り出しリ
ール2から送り出された板材1は上流側張力ロール4a
,4b,4c、レベラーロール5,6及び下流側張力ロ
ール7a,7b,7cを経て巻き取りリール3に巻き取
られるようになっている。
【0019】このように構成されたテンションレベラー
においては、送り出しリール2から巻き解かれて送り出
された板材1は前後の張力ロール4,7により強く引っ
張られた状態で、中央のレベラーロール5,6によって
幅方向及び長手方向の形状を矯正され、平坦化される。 なお、この平坦化加工において、通常、板材1の板厚は
変化しない。また、平坦化加工は前述のテンションレベ
ラーに限らず、張力ロール4a,4b,4c,7a,7
b,7cを具備しないローラーレベラー等、種々の装置
を使用することができる。
においては、送り出しリール2から巻き解かれて送り出
された板材1は前後の張力ロール4,7により強く引っ
張られた状態で、中央のレベラーロール5,6によって
幅方向及び長手方向の形状を矯正され、平坦化される。 なお、この平坦化加工において、通常、板材1の板厚は
変化しない。また、平坦化加工は前述のテンションレベ
ラーに限らず、張力ロール4a,4b,4c,7a,7
b,7cを具備しないローラーレベラー等、種々の装置
を使用することができる。
【0020】板材の内部歪に対しては、歪取り焼鈍処理
を施す。この歪取り焼鈍処理は、通常、板材を300〜
600℃に加熱して行う。これにより、内部歪が除去さ
れて板材のバネ限界値が向上する。そうすると、板材の
曲げ強度が高くなるため、IC製造工程途中の運搬時及
びセパレータのテーピング時にインナーリードの外力に
よる変形が起きにくくなる。
を施す。この歪取り焼鈍処理は、通常、板材を300〜
600℃に加熱して行う。これにより、内部歪が除去さ
れて板材のバネ限界値が向上する。そうすると、板材の
曲げ強度が高くなるため、IC製造工程途中の運搬時及
びセパレータのテーピング時にインナーリードの外力に
よる変形が起きにくくなる。
【0021】ところで、平坦化加工と歪取り焼鈍処理と
は、その工程順序は任意である。但し、平坦度に対する
要求がよりきびしい場合には、歪取り焼鈍処理した後に
、平坦化加工する。一方、高いバネ限界値が要求される
場合には、平坦化加工した後に、歪取り焼鈍処理する。
は、その工程順序は任意である。但し、平坦度に対する
要求がよりきびしい場合には、歪取り焼鈍処理した後に
、平坦化加工する。一方、高いバネ限界値が要求される
場合には、平坦化加工した後に、歪取り焼鈍処理する。
【0022】このようにして、本実施例においては、酸
化膜を除去した後、平坦化加工及び内部歪取り焼鈍処理
を行うので、メッキ性及び半田付け性が向上し、エッチ
ング性が優れたリードフレーム用銅合金を得ることがで
きる。即ち、本実施例は、42合金及びC70250と
いう従来のリードフレーム用合金の替わりに、高強度で
あると共に、熱伝導率及び導電率が高いBe−Ni−C
u合金を使用してその特性を有効に利用し、このBe−
Ni−Cu合金の欠点である平坦度、エッチング性及び
メッキ性については、この合金を析出硬化させた後に、
その表面の酸化膜を除去し、更に平坦化加工及び歪み取
り焼鈍を加えることによって向上させた。これにより、
リードフレーム用材料として平坦度等の基本的な特性も
満足すると共に、その強度が従来のリードフレームより
も著しく向上したリードフレーム用銅合金を得ることが
できる。
化膜を除去した後、平坦化加工及び内部歪取り焼鈍処理
を行うので、メッキ性及び半田付け性が向上し、エッチ
ング性が優れたリードフレーム用銅合金を得ることがで
きる。即ち、本実施例は、42合金及びC70250と
いう従来のリードフレーム用合金の替わりに、高強度で
あると共に、熱伝導率及び導電率が高いBe−Ni−C
u合金を使用してその特性を有効に利用し、このBe−
Ni−Cu合金の欠点である平坦度、エッチング性及び
メッキ性については、この合金を析出硬化させた後に、
その表面の酸化膜を除去し、更に平坦化加工及び歪み取
り焼鈍を加えることによって向上させた。これにより、
リードフレーム用材料として平坦度等の基本的な特性も
満足すると共に、その強度が従来のリードフレームより
も著しく向上したリードフレーム用銅合金を得ることが
できる。
【0023】
【発明の効果】本発明によれば、析出硬化させた後、酸
化膜を除去し、次いで平坦化加工及び内部歪み取り焼鈍
処理を施すから、リードフレーム用材料として必須の平
坦度、エッチング性及びメッキ性等が優れていると共に
、強度、導電率及び熱伝導度が優れていて、多ピンのリ
ードフレーム用材料として好適のリードフレーム用銅合
金を製造することができる。
化膜を除去し、次いで平坦化加工及び内部歪み取り焼鈍
処理を施すから、リードフレーム用材料として必須の平
坦度、エッチング性及びメッキ性等が優れていると共に
、強度、導電率及び熱伝導度が優れていて、多ピンのリ
ードフレーム用材料として好適のリードフレーム用銅合
金を製造することができる。
【図1】本発明の実施例にて使用するテンションローラ
を示す模式図である。
を示す模式図である。
1;板材
2,3;リール
4a,4b,4c,7a,7b,7c;矯正ロール5,
6;レベラーロール
6;レベラーロール
Claims (1)
- 【請求項1】 Be及びNiを含有し、残部がCu及
び不可避的不純物からなる銅合金を850〜950℃に
加熱した後10〜200℃/秒の冷却速度で冷却する溶
体化処理工程と、その後に冷間圧延する圧延工程とを1
又は複数回繰り返し、得られた圧延材を400〜550
℃に2分〜2時間保持して析出硬化させ、この析出硬化
処理により生成した酸化膜を除去した後、平坦化加工及
び歪取り焼鈍をこの順に又は逆の順に実施することを特
徴とするリードフレーム用銅合金の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5063591A JPH04268055A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | リードフレーム用銅合金の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5063591A JPH04268055A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | リードフレーム用銅合金の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04268055A true JPH04268055A (ja) | 1992-09-24 |
Family
ID=12864422
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5063591A Pending JPH04268055A (ja) | 1991-02-22 | 1991-02-22 | リードフレーム用銅合金の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04268055A (ja) |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5824167A (en) * | 1994-01-06 | 1998-10-20 | Ngk Insulators, Ltd. | Beryllium-copper alloy excellent in strength, workability and heat resistance and method for producing the same |
EP1574327A3 (de) * | 2004-03-13 | 2006-01-11 | Wieland-Werke AG | Verfahren zur Herstellung eines Verbundhalbzeugs aus einer Kupferlegierung und Verwendung des Halbzeugs |
JP2006104420A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Nippon Oil Corp | 冷間圧延油組成物及び冷間圧延方法 |
US7174626B2 (en) * | 1999-06-30 | 2007-02-13 | Intersil Americas, Inc. | Method of manufacturing a plated electronic termination |
-
1991
- 1991-02-22 JP JP5063591A patent/JPH04268055A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5824167A (en) * | 1994-01-06 | 1998-10-20 | Ngk Insulators, Ltd. | Beryllium-copper alloy excellent in strength, workability and heat resistance and method for producing the same |
US7174626B2 (en) * | 1999-06-30 | 2007-02-13 | Intersil Americas, Inc. | Method of manufacturing a plated electronic termination |
EP1574327A3 (de) * | 2004-03-13 | 2006-01-11 | Wieland-Werke AG | Verfahren zur Herstellung eines Verbundhalbzeugs aus einer Kupferlegierung und Verwendung des Halbzeugs |
JP2006104420A (ja) * | 2004-10-08 | 2006-04-20 | Nippon Oil Corp | 冷間圧延油組成物及び冷間圧延方法 |
JP4578925B2 (ja) * | 2004-10-08 | 2010-11-10 | Jx日鉱日石エネルギー株式会社 | 冷間圧延油組成物及び冷間圧延方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4857395B1 (ja) | Cu−Ni−Si系合金及びその製造方法 | |
US20100000637A1 (en) | Cu-ni-si system alloy | |
JP5117604B1 (ja) | Cu−Ni−Si系合金及びその製造方法 | |
JP6533402B2 (ja) | Cu−Ni−Si系銅合金板材およびその製造方法並びにリードフレーム | |
TWI422692B (zh) | Cu-Co-Si based copper alloy for electronic materials and method for producing the same | |
TWI452152B (zh) | Electronic-based copper alloy strip material Cu-Co-Si and manufacturing method thereof | |
JP2009144248A (ja) | 電子機器用析出型銅合金材料及びその製造方法 | |
TWI516617B (zh) | Cu-Si-Co based copper alloy for electronic materials and its manufacturing method | |
TWI429768B (zh) | Cu-Co-Si based copper alloy for electronic materials and method for producing the same | |
WO2015099097A1 (ja) | 銅合金板材、コネクタ、及び銅合金板材の製造方法 | |
JP2010007174A (ja) | 電子材料用Cu−Ni−Si系合金板又は条 | |
JP2011038126A (ja) | 電子材料用Cu−Ni−Si系合金板又は条 | |
WO2012026488A1 (ja) | 電子材料用Cu-Co-Si系合金 | |
JP5135914B2 (ja) | 電気・電子部品用高強度銅合金の製造方法 | |
TWI628407B (zh) | Copper alloy plate and coil for heat dissipation parts | |
JP4642119B2 (ja) | 銅合金及びその製造方法 | |
JPH04268055A (ja) | リードフレーム用銅合金の製造方法 | |
WO2013069376A1 (ja) | Cu-Co-Si系合金及びその製造方法 | |
JP6533401B2 (ja) | Cu−Ni−Si系銅合金板材およびその製造方法並びにリードフレーム | |
JP2003286527A (ja) | 低収縮率の銅又は銅合金とその製造方法 | |
JP2011246740A (ja) | 電子材料用Cu−Co−Si系合金板又は条 | |
WO2018061530A1 (ja) | Fe-Ni系合金薄板の製造方法及びFe-Ni系合金薄板 | |
WO2018174079A1 (ja) | プレス加工後の寸法精度を改善した銅合金条 | |
JP4550148B1 (ja) | 銅合金及びその製造方法 | |
TWI412611B (zh) | 電氣、電子零件用銅合金材料及其製造方法 |