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JPH04242720A - Manufacture of liquid crystal display unit - Google Patents

Manufacture of liquid crystal display unit

Info

Publication number
JPH04242720A
JPH04242720A JP50291A JP50291A JPH04242720A JP H04242720 A JPH04242720 A JP H04242720A JP 50291 A JP50291 A JP 50291A JP 50291 A JP50291 A JP 50291A JP H04242720 A JPH04242720 A JP H04242720A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
substrates
liquid crystal
substrate
crystal display
curable resin
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP50291A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kojiro Tsubota
坪田 耕次郎
Yoji Yoshimura
洋二 吉村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Priority to JP50291A priority Critical patent/JPH04242720A/en
Publication of JPH04242720A publication Critical patent/JPH04242720A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To bond a pair of substrates having different thermal expansion coefficients to each other without generating warping. CONSTITUTION:UV-setting resin which is not necessary to be heated is applied on a glass substrate 10 by a predetermined seal pattern 12 and a binding pattern 13, and a counter substrate is layered on the glass substrate 10. By hardening part of the seal pattern 12 and the binding pattern 13 comprising the UV-setting resin with both pressing and irradiating with UV-ray for stopping them temporarily, and a UV ray is irradiated to unhardened part of the seal pattern 12 to harden the whole of the seal pattern 12. Both substrates are thus bound to each other.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、一対の透明基板を適当
な間隔をあけて貼り合わせてその間に液晶がが注入され
る液晶表示装置の製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal display device, in which a pair of transparent substrates are bonded together with an appropriate distance between them, and liquid crystal is injected between them.

【0002】0002

【従来の技術】液晶表示装置では、駆動回路が設けられ
た透明基板とカラーフィルターが設けられた透明基板と
を、適当な間隔をあけた状態でシール材により貼り合わ
せ、その間隙内に液晶が注入されることにより製造され
る。液晶層の駆動回路としては、非晶質Si薄膜トラン
ジスタ(以下、a−SiTFTと略称する)、あるいは
多結晶Si薄膜トランジスタ(以下、p−SiTFTと
略称する)が、単純マトリクス型あるいはアクティブマ
トリクス型の液晶表示装置に使用されている。このよう
なTFTを使用する駆動回路は、現在の量産技術では、
1枚の透明基板上に各液晶表示装置用の多数の駆動回路
ユニットが形成される。このようなTFT基板は、各駆
動回路ユニットに対応してそれぞれのカラーフィルター
が1枚の透明基板に形成された対向基板と、相互に位置
合わせして貼り合わせ、それぞれの基板における駆動回
路ユニットとカラーフィルターとの間に液晶が注入され
た後に、各液晶セル毎に分断される。
[Prior Art] In a liquid crystal display device, a transparent substrate provided with a drive circuit and a transparent substrate provided with a color filter are pasted together with a sealant with an appropriate gap between them, and a liquid crystal is placed in the gap. Manufactured by injection. As a driving circuit for the liquid crystal layer, an amorphous Si thin film transistor (hereinafter abbreviated as a-SiTFT) or a polycrystalline Si thin film transistor (hereinafter abbreviated as p-SiTFT) is used to drive a simple matrix type or active matrix type liquid crystal layer. Used in display devices. With current mass production technology, drive circuits using such TFTs are
A large number of drive circuit units for each liquid crystal display device are formed on one transparent substrate. Such a TFT substrate is bonded to a counter substrate in which each color filter is formed on a single transparent substrate corresponding to each drive circuit unit, and the drive circuit units on each substrate are aligned and bonded to each other. After liquid crystal is injected between the color filter and the liquid crystal, it is divided into individual liquid crystal cells.

【0003】このような液晶表示装置の製造方法におい
て、例えば、p−SiTFTの多数の駆動回路ユニット
を1枚の透明基板上に形成する際には、プロセス温度が
最高約1000℃にまで達する。このために、駆動回路
が設けられる透明基板としては、通常のガラス基板を使
用することができず、耐熱性にすぐれた石英ガラス等が
透明基板として使用されている。これに対して、対向基
板としてカラーフィルターが設けられる透明基板は、高
温にさらされないために、通常のガラス基板が使用され
ている。TFT基板と対向基板とは、適当な間隔をあけ
て、各駆動回路ユニットおよび各カラーフィルターの周
縁部同士を、環状のシール材でシールして貼り合わされ
る。 そして、シール材で囲まれた領域内に液晶が注入される
。シール材としては、単純マトリクス型あるいはアクテ
ィブマトリクス型のいずれの場合でも、通常、スクリー
ン印刷性に優れた特性を有するエポキシ系接着剤に代表
される熱硬化型接着剤が使用されている。
In the manufacturing method of such a liquid crystal display device, for example, when forming a large number of p-SiTFT drive circuit units on one transparent substrate, the process temperature reaches a maximum of about 1000°C. For this reason, a normal glass substrate cannot be used as the transparent substrate on which the drive circuit is provided, and quartz glass or the like with excellent heat resistance is used as the transparent substrate. On the other hand, as a transparent substrate on which a color filter is provided as a counter substrate, a normal glass substrate is used because it is not exposed to high temperatures. The TFT substrate and the counter substrate are bonded to each other with an appropriate interval and the peripheral edges of each drive circuit unit and each color filter are sealed with an annular sealing material. Then, liquid crystal is injected into the area surrounded by the sealant. As the sealing material, whether it is a simple matrix type or an active matrix type, a thermosetting adhesive such as an epoxy adhesive having excellent screen printability is usually used.

【0004】駆動回路基板と対向基板とを貼り合わせる
場合には、5〜10μm程度のガラスファイバー製ある
いはプラスチック製のビーズが混入された状態の熱硬化
型接着剤を、例えば対向基板の各カラーフィルターの周
縁部に、スクリーン印刷法により塗布される。そして、
該対向基板の周縁部に、仮止め用の紫外線硬化型接着剤
が、ディスペンサーにより断続的な直線状に塗布される
。他方の駆動回路基板には、セルギャップを形成するた
めのガラスファイバー製あるいはプラスチック製ビーズ
からなるスペーサが均一に散布される。そして、両基板
同士が、高精度に位置合わせされた状態で重ね合わされ
て、両基板間の周縁部に位置する仮止めようの紫外線硬
化型接着剤に紫外線が照射される。これにより、紫外線
硬化型接着剤が硬化して、両基板同士が仮止めされる。 このような状態で、両基板同士が加熱されつつ加圧され
て、両基板の間の多数の環状の熱硬化型接着剤が硬化さ
れ、両基板同士が貼り合わせられる。この貼り合わせ工
程では、基板面積1cm2当たり約1kgfの加圧力が
加えられつつ、熱硬化型接着剤を硬化させるために、2
00℃の温度に加熱される。
When bonding the driving circuit board and the counter substrate, a thermosetting adhesive mixed with glass fiber or plastic beads of about 5 to 10 μm is applied to each color filter of the counter substrate, for example. The periphery of the film is applied by screen printing. and,
An ultraviolet curing adhesive for temporary fixing is applied intermittently and linearly to the peripheral edge of the opposing substrate using a dispenser. Spacers made of glass fiber or plastic beads for forming cell gaps are uniformly scattered on the other drive circuit board. Then, both substrates are superimposed on each other in a highly precisely aligned state, and ultraviolet rays are irradiated to the ultraviolet curing adhesive for temporary fixing located at the peripheral edge between the two substrates. As a result, the ultraviolet curable adhesive is cured, and both substrates are temporarily attached to each other. In this state, both substrates are heated and pressurized to cure a large number of annular thermosetting adhesives between the two substrates, and the two substrates are bonded together. In this bonding process, a pressing force of approximately 1 kgf is applied per 1 cm2 of substrate area, while applying pressure of 2 kgf to harden the thermosetting adhesive.
It is heated to a temperature of 00°C.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】前述のように、TFT
基板に使用される透明基板は、耐熱性に優れた石英基板
が使用されているのに対して、対向基板に使用される透
明基板は、耐熱性が要求されないために、通常のガラス
基板が使用されている。このため、石英基板の熱膨張係
数は、4〜5×10−7/℃と比較的小さくなっている
のに対して、ガラス基板の熱膨張係数が40〜50×1
0−7/℃と大きくなっている。このため、貼り合わせ
工程において、両基板を加圧した状態で加熱して熱硬化
型接着剤を硬化させた後に、両基板が常温に戻る際に、
両者の熱膨張係数の差により、貼り合わされた基板同士
が反った状態になるという問題がある。両基板の反りは
、両基板のサイズが大型化するほど顕著になり、1辺が
150mmの正方形状の基板では、200℃の加熱によ
って両基板のソリによる重ね合わせ誤差が135μmに
も達する。このため、後工程において基板を吸着により
保持することができなくなるおそれがある。
[Problem to be Solved by the Invention] As mentioned above, TFT
The transparent substrate used for the substrate is a quartz substrate with excellent heat resistance, while the transparent substrate used for the counter substrate is a regular glass substrate because heat resistance is not required. has been done. For this reason, the coefficient of thermal expansion of a quartz substrate is relatively small at 4 to 5 x 10-7/°C, whereas the coefficient of thermal expansion of a glass substrate is 40 to 50 x 1
It is as large as 0-7/℃. Therefore, in the bonding process, after both substrates are heated under pressure to harden the thermosetting adhesive, when both substrates return to room temperature,
There is a problem in that the bonded substrates become warped due to the difference in their thermal expansion coefficients. The warpage of both substrates becomes more pronounced as the size of both substrates increases, and in a square substrate with sides of 150 mm, the overlay error due to warpage of both substrates reaches 135 μm when heated at 200° C. Therefore, there is a possibility that the substrate cannot be held by suction in the subsequent process.

【0006】本発明はこのような問題を解決するもので
あり、その目的は、熱膨張係数が異なる基板同士を反っ
た状態になることなく貼り合わせることができ、平面性
にすぐれた液晶表示装置ほ製造し得る液晶表示装置の製
造方法を提供することにある。
The present invention solves these problems, and its purpose is to provide a liquid crystal display device that can bond substrates with different coefficients of thermal expansion together without warping, and has excellent flatness. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal display device that can be manufactured easily.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明の液晶表示装置の
製造方法は、一対の基板を適当な間隔をあけて貼り合わ
せて、その間に液晶が注入される液晶表示装置の製造方
法であって、互いに熱膨張係数が異なる一対の基板のい
ずれか一方に、所定のパターンとなるように紫外線硬化
型樹脂を塗布する工程と、両基板を紫外線硬化型樹脂を
介して加圧状態で重ね合わせて、紫外線硬化型樹脂の一
部に紫外線を照射して硬化させることにより両基板を仮
止めする工程と、仮止めされた両基板の未硬化の紫外線
硬化樹脂を硬化させるように紫外線を照射する工程と、
を包含してなり、そのことにより上記目的が達成される
[Means for Solving the Problems] A method for manufacturing a liquid crystal display device according to the present invention is a method for manufacturing a liquid crystal display device in which a pair of substrates are bonded together with an appropriate interval, and liquid crystal is injected between them. , a step of applying ultraviolet curable resin to one of a pair of substrates having different thermal expansion coefficients in a predetermined pattern, and stacking both substrates under pressure via the ultraviolet curable resin. , a step of temporarily fixing both substrates by irradiating and curing a part of the ultraviolet curable resin, and a step of irradiating ultraviolet rays to cure the uncured ultraviolet curable resin of both temporarily attached substrates. and,
The above object is thereby achieved.

【0008】[0008]

【作用】本発明の液晶表示装置の製造方法では、液晶を
シールすべき部分および仮止めすべき所定位置に、紫外
線硬化型樹脂が塗布されて、熱膨張係数が異なる基板同
士が貼り合わせられる。そして、紫外線硬化型樹脂の一
部に紫外線が照射されて両者が仮止めされる。従って、
このときは、両基板の位置調整が再度される。そして、
未硬化の紫外線硬化型樹脂を硬化させるために、紫外線
が照射されて、両基板は貼り合わせられる。
[Operation] In the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, an ultraviolet curable resin is applied to a portion where the liquid crystal is to be sealed and a predetermined position where the liquid crystal is to be temporarily fixed, and substrates having different coefficients of thermal expansion are bonded together. Then, a portion of the ultraviolet curable resin is irradiated with ultraviolet light to temporarily bond the two together. Therefore,
At this time, the positions of both substrates are adjusted again. and,
In order to cure the uncured ultraviolet curable resin, ultraviolet rays are irradiated and the two substrates are bonded together.

【0009】[0009]

【実施例】本発明の実施例について以下に説明する。[Examples] Examples of the present invention will be described below.

【0010】本発明の液晶表示装置の製造方法では、1
枚の透明基板に、例えば、p−SiTFTを有する多数
の駆動回路ユニットが形成されたTFT基板と、各駆動
回路ユニットに対応した多数のカラーフィルタが1枚の
透明基板上に設けられた対向基板とが貼り合わせられる
工程を包含する。両基板は、駆動回路ユニットと、カラ
ーフィルターとが相互に対向された状態で、駆動回路ユ
ニットを取り囲む環状のシール材により、適当な間隔を
あけた状態で貼り付けられて、各シール材にて取り囲ま
れた領域内に液晶が注入される。そして、液晶が注入さ
れた後に、各駆動回路ユニットおよびカラーフィルター
毎に分断されて、それぞれが液晶表示装置とされる。
In the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention, 1
For example, a TFT substrate in which a large number of drive circuit units including p-Si TFTs are formed on a single transparent substrate, and a counter substrate in which a large number of color filters corresponding to each drive circuit unit are provided on a single transparent substrate. It includes a step in which the two are bonded together. Both substrates are pasted with the drive circuit unit and color filter facing each other with an appropriate distance between them using an annular sealant surrounding the drive circuit unit. Liquid crystal is injected into the enclosed area. Then, after the liquid crystal is injected, it is divided into each drive circuit unit and color filter, each forming a liquid crystal display device.

【0011】多数の駆動回路ユニットが設けられるTF
T基板の透明基板としては、石英ガラス製の石英基板が
使用される。これに対して、対向基板の透明基板として
は、例えば、日本電気硝子株式会社製商品名「ネオセラ
ム」、HOYA株式会社製商品名「NA35」、コーニ
ング株式会社製商品名「1724」のような低熱膨張係
数のガラス基板が使用される。
TF in which a large number of drive circuit units are provided
A quartz substrate made of quartz glass is used as the transparent substrate of the T substrate. On the other hand, as a transparent substrate for the counter substrate, for example, low-temperature transparent substrates such as "Neoceram" manufactured by Nippon Electric Glass Co., Ltd., "NA35" manufactured by HOYA Corporation, and "1724" manufactured by Corning Corporation are used. A glass substrate with a coefficient of expansion is used.

【0012】それぞれの基板サイズは、石英基板が直径
6インチのウェハー仕様であり、ガラス基板が150m
m角あるいは直径6インチのウェハー仕様である。
[0012] The size of each substrate is that the quartz substrate is a wafer with a diameter of 6 inches, and the glass substrate is a wafer with a diameter of 150 m.
The wafer specifications are m square or 6 inches in diameter.

【0013】図1に示すように、対向基板用のガラス基
板10は、例えば、6インチのウェハー仕様であり、そ
の中央部に4個のカラーフィルター11,…が正方形状
に並設されており、それらの周囲にそれぞれ2個ずつの
カラーフィルター11が列を形成するように設けられて
いる。 従って、該ガラス基板10には、合計12個のカラーフ
ィルター11,…が設けられている。各カラーフィルタ
ー11の周縁部には、紫外線硬化樹脂製のシール材によ
り、各カラーフィルター11を取り囲む長方形状の環状
シールパターン12,…が、それぞれスクリーン印刷法
により塗布されている。各シールパターン12は、両基
板を貼り合わせた後に液晶を注入できるように、開口部
が形成されている。また、ガラス基板10の周縁部には
、全てのシールパターン12を取り囲む正方形状となる
ように、断続的な直線によって紫外線硬化樹脂製の接着
パターン13が、同様に、スクリーン印刷法により塗布
されている。
As shown in FIG. 1, the glass substrate 10 for the counter substrate has, for example, a 6-inch wafer specification, and four color filters 11, . . . are arranged in parallel in a square shape in the center thereof. , two color filters 11 are provided around them so as to form a row. Therefore, a total of 12 color filters 11, . . . are provided on the glass substrate 10. A rectangular annular seal pattern 12 surrounding each color filter 11 is applied to the peripheral edge of each color filter 11 using a sealing material made of ultraviolet curable resin by screen printing. Each seal pattern 12 has an opening so that liquid crystal can be injected after the two substrates are bonded together. Further, on the peripheral edge of the glass substrate 10, an adhesive pattern 13 made of ultraviolet curable resin is similarly applied by screen printing using intermittent straight lines so as to form a square shape surrounding all the seal patterns 12. There is.

【0014】各シールパターン12および各接着パター
ン13は、例えば、日本ロックタイト株式会社製商品名
「LIDー1331」のような紫外線硬化樹脂製であり
、貼り合わせる基板の間に所定のセルギャップを形成す
るために必要な6.0μmの直径を有するガラスファイ
バー製のビーズが混入されている。この紫外線硬化型樹
脂製のシールパターン12および接着パターン13は、
例えば、300メッシュのスクリーン版を使用したスク
リーン印刷法により、ガラス基板10上に塗布される。 各シールパターン12および接着パターン13は、例え
ば、幅0.5mm、膜厚20〜30μmとされる。該ガ
ラス基板10には、さらに、所定の位置に重ね合わせマ
ーカー(図示せず)がフォトプロセスにより形成されて
いる。
Each seal pattern 12 and each adhesive pattern 13 are made of, for example, an ultraviolet curing resin such as "LID-1331" manufactured by Nippon Loctite Co., Ltd., and form a predetermined cell gap between the substrates to be bonded. Glass fiber beads with a diameter of 6.0 μm are mixed in to achieve this. The seal pattern 12 and adhesive pattern 13 made of ultraviolet curable resin are
For example, it is applied onto the glass substrate 10 by a screen printing method using a 300 mesh screen plate. Each seal pattern 12 and adhesive pattern 13 has a width of 0.5 mm and a film thickness of 20 to 30 μm, for example. An overlay marker (not shown) is further formed at a predetermined position on the glass substrate 10 by a photo process.

【0015】他方、各カラーフィルター11と同数の駆
動回路ユニットが石英基板上に設けられたTFT基板に
は、5.0μmの直径を有するプラスチックビーズが、
乾式もしくは湿式にて、全面にほぼ均一に散布されて、
コモン転移用に、カーボン等の導電性を有する樹脂、あ
るいはメタルが塗布された状態とされている。そして、
ガラス基板10と同様に、所定の位置に重ね合わせマー
カーがフォトプロセスにより形成されている。
On the other hand, on the TFT substrate on which the same number of drive circuit units as each color filter 11 are provided, plastic beads having a diameter of 5.0 μm are placed.
Sprayed almost uniformly over the entire surface using dry or wet methods,
For common transfer, a conductive resin such as carbon or metal is coated. and,
Similar to the glass substrate 10, overlay markers are formed at predetermined positions by a photo process.

【0016】このようなTFT基板および前述の対向基
板は、貼り合わせ装置の上側および下側それぞれの定盤
に真空吸着されて、両基板同士が貼り合わされる。いず
れかの定盤には各シールパターン12および接着パター
ン13の一部に紫外線を照射するための貫通孔が複数箇
所に設けられており、各貫通孔内に、例えば直径3〜5
mm程度の光ファイバーが挿入されている。貼り合わせ
装置の上側および下側の各定盤にそれぞれ真空吸着され
た各基板は、位置調整されて、相互に所定の重ね合わせ
状態とされる。この位置調整は、両基板に形成された重
ね合わせマーカーを、貼り合わせ装置に設けられた光学
系やCCDカメラを使用して撮影し、その像を画像処理
コンピュータで画像処理した後にテレビモニターに映し
出して、両基板をX軸、Y軸および回転軸方向にずらせ
、±2〜3μm以内の所定の貼り合わせ精度範囲となる
ように実施される。
[0016] Such a TFT substrate and the above-mentioned counter substrate are vacuum-adsorbed to upper and lower surface plates of a bonding device, and the two substrates are bonded together. A plurality of through holes are provided in one of the surface plates for irradiating ultraviolet rays to a part of each seal pattern 12 and adhesive pattern 13.
An optical fiber of about mm is inserted. The respective substrates vacuum-adsorbed to the upper and lower surface plates of the bonding device are adjusted in position and placed in a predetermined overlapping state. This position adjustment involves photographing the overlay markers formed on both substrates using an optical system or CCD camera installed in the bonding device, processing the image using an image processing computer, and then displaying the image on a television monitor. Then, both substrates are shifted in the X-axis, Y-axis, and rotational axis directions so that the bonding accuracy is within a predetermined range of ±2 to 3 μm.

【0017】このようにして位置調整された両基板は、
各定盤を相互に接近させることによって重ね合わせられ
る。
Both substrates whose positions have been adjusted in this way are
They are superimposed by bringing each surface plate close to each other.

【0018】両基板が重ね合わせられた後に、例えば、
貼り合わせ装置の上側の定盤が加圧されて、両基板同士
を加圧状態とする。このときの加圧力は、約1kgf/
cm2とされ、両基板間のセルギャップがシールパター
ン12に混入されているガラスファイバーの直径に相当
するまで加圧される。この加圧工程においては、シール
パターン12の粘性および膜厚の影響により、加圧時に
重ね合わせられた両基板に数μmのずれが発生するおそ
れがあるが、両基板を一旦加圧した後に、再びX軸、Y
軸、回転軸方向に両基板を位置調整することによって、
±2〜3μm内の所定の重ね合わせ精度とされる。
[0018] After the two substrates are overlaid, for example,
The upper surface plate of the bonding device is pressurized to press both substrates together. The pressing force at this time is approximately 1 kgf/
cm2, and pressure is applied until the cell gap between both substrates corresponds to the diameter of the glass fiber mixed in the seal pattern 12. In this pressurizing process, due to the viscosity and film thickness of the seal pattern 12, there is a risk that a shift of several micrometers will occur between the two overlapping substrates during pressurization. X axis again, Y
By adjusting the position of both boards in the direction of the axis and rotation axis,
The predetermined overlay accuracy is within ±2 to 3 μm.

【0019】次に、貼り合わせ装置による加圧状態を維
持しつつ、上記各シールパターン12および接着パター
ン13の一部に紫外線が照射され、各シールパターン1
2および接着パターン13の一部が硬化されて両基板が
仮止めされる。この仮止め工程は、両基板間に所定のセ
ルギャップを保持するために行われており、各シールパ
ターン12および接着パターン13の一部に紫外線を照
射し得るように形成された定盤の貫通孔内の光ファィバ
ーから、例えば、松下電工株式会社製の商品名「NUX
ー7324」のような紫外線照射装置により、約30〜
60秒にわたって紫外線が照射される。各貫通孔は、各
シールパターン12毎に1箇所ずつの合計12箇所およ
び基板周縁部の正方形状の各接着パターン13における
各辺それぞれの4箇所ずつ合計16箇所、合わせて28
箇所とされる。また、各シールパターン12毎に2箇所
、接着パターン13の1辺毎に2箇所ずつ形成するよう
にしてもよい。
Next, while maintaining the pressurized state by the bonding device, a portion of each of the seal patterns 12 and adhesive patterns 13 is irradiated with ultraviolet rays, and each of the seal patterns 1
2 and a part of the adhesive pattern 13 are cured, and both substrates are temporarily attached. This temporary fixing step is performed to maintain a predetermined cell gap between both substrates, and a surface plate formed to irradiate a portion of each seal pattern 12 and adhesive pattern 13 with ultraviolet rays penetrates through the surface plate. From the optical fiber inside the hole, for example, the product name "NUX" manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.
-7324", approximately 30~
Ultraviolet light is irradiated for 60 seconds. There are 28 through holes in total, 12 in total, 1 in each seal pattern 12, and 4 in each side of each square adhesive pattern 13 on the periphery of the substrate.
It is said to be a place. Alternatively, two locations may be formed for each seal pattern 12, and two locations may be formed for each side of the adhesive pattern 13.

【0020】この仮止め工程の後に、両基板が接着され
る。この接着工程では、まず貼り合わせ装置による両基
板の吸着が解除され、仮止めされた両基板を貼り合わせ
装置から取りはずされる。そして、仮止めされた両基板
の両面に上記各シールパターン12部分だけが露出する
メタルマスクを重ね合わせて、紫外線を両基板の全面に
照射する。この紫外線照射により、上記仮止め工程にお
いて未硬化の各シールパターン12の部分が硬化され、
両基板が接着される。この接着工程で接着された両基板
間には、上記仮止め工程で保持されたセルギャップが、
全面にわたって保持され、例えば、セルギャップは全面
にわたって、5.0μm±10%の高精度であった。し
かも、仮止め工程および接着工程を含む全工程では、両
基板を加熱することなく、紫外線の照射により各シール
パターン12を硬化させて両基板を接着しているために
、石英基板とガラス基板のように熱膨張係数が異なる基
板同士も、反りが発生することなく貼り合わせることが
できる。
After this temporary fixing step, both substrates are bonded together. In this bonding step, first, the adsorption of both substrates by the bonding device is released, and both temporarily bonded substrates are removed from the bonding device. Then, metal masks exposing only the portions of the seal patterns 12 are superimposed on both surfaces of the temporarily bonded substrates, and the entire surface of both substrates is irradiated with ultraviolet rays. By this ultraviolet irradiation, the portions of each seal pattern 12 that were not cured in the temporary fixing step are cured,
Both substrates are glued together. Between the two substrates bonded in this bonding process, the cell gap maintained in the temporary fixing process is
For example, the cell gap was maintained over the entire surface with a high accuracy of 5.0 μm±10%. Moreover, in all processes including the temporary fixing process and the bonding process, each seal pattern 12 is cured by ultraviolet irradiation and the two substrates are bonded together without heating both substrates. Thus, substrates with different coefficients of thermal expansion can be bonded together without warping.

【0021】次に本発明の第2実施例による液晶表示装
置の製造方法を説明する。この第2実施例では、上記仮
止め工程までは第1実施例と同様であり、接着工程だけ
が異なるので、その接着工程のみを説明する。
Next, a method for manufacturing a liquid crystal display device according to a second embodiment of the present invention will be described. In this second embodiment, the steps up to the temporary fixing step are the same as those in the first embodiment, and only the bonding step is different, so only the bonding step will be described.

【0022】この接着工程では、仮止め工程用の貼り合
わせ装置とは別の接着工程用の貼り合わせ装置が使用さ
れる。この接着工程用の貼り合わせ装置は、相互に接離
可能な上下一対の定盤を有しており、その定盤の少なく
とも一方または両方が、厚さ30〜40mm程度の石英
ガラスのような紫外線透過性の良好な材質で形成されて
いる。 そして、接着工程では、この貼り合わせ装置の上側およ
び下側の各定盤間に、仮止めされた両基板と、各シール
パターン12が露出するメタルマスクとを重ね合わせて
加圧する。このときの加圧力は、0.5〜1kgf/c
m2程度の比較的低い圧力とされ、上記のように仮止め
された両基板の重ね合わせ位置がずれることはない。次
いで、両基板を加圧状態に保持したままで、石英ガラス
製の定盤を通して紫外線を照射し、上記各シールパター
ン12の未硬化部分を硬化させることにより両基板同士
を接着する。
[0022] In this bonding step, a bonding device for the bonding step that is different from the bonding device for the temporary fixing step is used. This bonding device for the bonding process has a pair of upper and lower surface plates that can be moved toward and away from each other, and at least one or both of the surface plates are made of ultraviolet rays such as quartz glass with a thickness of about 30 to 40 mm. Made of a material with good transparency. In the bonding step, the temporarily bonded substrates and the metal mask exposing each seal pattern 12 are overlapped and pressed between the upper and lower surface plates of this bonding device. The pressing force at this time is 0.5 to 1 kgf/c
The pressure is relatively low, on the order of m2, and the overlapping positions of the two temporarily fixed substrates as described above will not shift. Next, while holding both substrates in a pressurized state, ultraviolet rays are irradiated through a quartz glass surface plate to harden the uncured portions of each seal pattern 12, thereby bonding both substrates together.

【0023】以上のような第2実施例の接着工程におい
ても、両基板に反りが発生することが防止される。
Also in the bonding process of the second embodiment as described above, warping of both substrates is prevented.

【0024】[0024]

【発明の効果】本発明の液晶表示装置の製造方法では、
このように、熱膨張係数の異なる基板同士が、紫外線硬
化型樹脂により接着されるために、各基板は加熱されず
、両基板の熱膨張係数の差によって反りが発生するおそ
れがない。従って、平面度が良好な液晶表示装置が製造
される。
[Effects of the Invention] In the method for manufacturing a liquid crystal display device of the present invention,
In this way, since the substrates having different coefficients of thermal expansion are bonded together using the ultraviolet curable resin, each substrate is not heated, and there is no possibility of warpage occurring due to the difference in the coefficients of thermal expansion between the two substrates. Therefore, a liquid crystal display device with good flatness is manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の液晶表示装置の製造方法に使用される
対向基板の平面図である。
FIG. 1 is a plan view of a counter substrate used in the method of manufacturing a liquid crystal display device of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10  ガラス基板 11  カラーフィルタ 12  シールパターン 13  接着パターン 10 Glass substrate 11 Color filter 12 Seal pattern 13 Adhesive pattern

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  一対の基板を適当な間隔をあけて貼り
合わせて、その間に液晶が注入される液晶表示装置の製
造方法であって、互いに熱膨張係数が異なる一対の基板
のいずれか一方に、所定のパターンとなるように紫外線
硬化型樹脂を塗布する工程と、両基板を紫外線硬化型樹
脂を介して加圧状態で重ね合わせて、紫外線硬化型樹脂
の一部に紫外線を照射して硬化させることにより両基板
を仮止めする工程と、仮止めされた両基板の未硬化の紫
外線硬化樹脂を硬化させるように紫外線を照射する工程
と、を包含する液晶表示装置の製造方法。
Claim 1: A method for manufacturing a liquid crystal display device, in which a pair of substrates are bonded together with an appropriate distance between them, and liquid crystal is injected between the two substrates, the method comprising: bonding a pair of substrates together with a suitable interval, and injecting liquid crystal between the substrates, the method comprising: , the process of applying ultraviolet curable resin in a predetermined pattern, overlapping both substrates under pressure via the ultraviolet curable resin, and curing by irradiating part of the ultraviolet curable resin with ultraviolet rays. A method for manufacturing a liquid crystal display device, comprising the steps of: temporarily fixing both substrates by holding the substrates together; and irradiating ultraviolet rays to cure uncured ultraviolet curable resin on the temporarily attached substrates.
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