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JPH04221925A - Method and apparatus for producing substrate for liquid crystal display panel - Google Patents

Method and apparatus for producing substrate for liquid crystal display panel

Info

Publication number
JPH04221925A
JPH04221925A JP40557390A JP40557390A JPH04221925A JP H04221925 A JPH04221925 A JP H04221925A JP 40557390 A JP40557390 A JP 40557390A JP 40557390 A JP40557390 A JP 40557390A JP H04221925 A JPH04221925 A JP H04221925A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
rubbing
liquid crystal
cleaning
crystal display
brushing
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
JP40557390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Niwaji Majima
庭司 間島
Minoru Matsumoto
稔 松本
Hiroichi Tanaka
博一 田中
Hiroyuki Takahashi
宏之 高橋
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP40557390A priority Critical patent/JPH04221925A/en
Publication of JPH04221925A publication Critical patent/JPH04221925A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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  • Liquid Crystal (AREA)

Abstract

PURPOSE:To improve the effect of removing the dust and foreign matter sticking to a substrate for liquid crystal display panels at the time of a rubbing treatment and to improve the quality and yield of the liquid crystal display device by applying a film for orientation on the substrate to be used particularly for the liquid crystal display device, then subjecting the substrate to brush washing by using a detergent. CONSTITUTION:At least a driving electrode (2) and the coating film (3) for orientation are laminated and formed on the transparent substrate (1) and the surface of this coating film (3) for orientation is rubbed then washed in this method and apparatus for producing the substrate for liquid crystal display panels. The above-mentioned method and apparatus are so constituted that the above-mentioned washing is brush washing and that the brushing direction is parallel with the rubbing direction at the time of the above-mentioned rubbing and particularly opposite.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は液晶表示パネル用基板の
製造方法および製造装置に関する。詳しくは、液晶表示
装置に用いる基板に配向用膜を塗布しラビング処理を行
ったあと、洗浄液を用いてブラッシング洗浄を行うこと
により、ラビング処理時に付着するゴミや異物の除去効
果を向上して液晶表示装置の品質,歩留りを改善するた
めの液晶表示パネル用基板の製造方法および製造装置に
関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel. Specifically, after applying an alignment film to a substrate used in a liquid crystal display device and performing a rubbing process, brushing cleaning using a cleaning liquid improves the removal effect of dust and foreign matter that adheres during the rubbing process, and improves the effectiveness of the liquid crystal display. The present invention relates to a method and apparatus for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel to improve the quality and yield of display devices.

【0002】0002

【従来の技術】液晶表示装置は駆動電圧が低く、低価格
であることからパソコンやワープロなどOA機器分野へ
の導入が活発である。これらの用途に用いられる液晶表
示パネルは、文字表示や図形表示が求められるので、必
然的に大画面,多画素,高精細の方向へ向かっており、
表示欠陥のない高品質の液晶表示パネルを製造するため
製造方法及び製造装置が求められている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display devices have a low driving voltage and are inexpensive, so they are being actively introduced into the field of office automation equipment such as personal computers and word processors. Liquid crystal display panels used for these applications are required to display characters and graphics, so they are inevitably moving toward larger screens, more pixels, and higher definition.
There is a need for manufacturing methods and manufacturing equipment for manufacturing high-quality liquid crystal display panels that are free from display defects.

【0003】液晶表示パネルは2枚の透明基板の上に、
それぞれITO(In2O3 ーSnO2)からなるス
トライプ状の透明電極を形成した上に、配向用塗膜, 
たとえば、ポリイミド樹脂膜を塗布しラビング布でラビ
ングして配向処理を行ったあと、よく洗浄,乾燥し、両
基板を狭い隙間をあけて重ね、その間に液晶を注入封止
して構成されている。
[0003] A liquid crystal display panel is made of two transparent substrates.
On each striped transparent electrode made of ITO (In2O3 - SnO2), an alignment coating film,
For example, a polyimide resin film is applied, rubbed with a rubbing cloth for alignment, then thoroughly washed and dried, and the two substrates are placed one on top of the other with a narrow gap between them, and the liquid crystal is injected and sealed between them. .

【0004】ラビングによる配向処理は液晶分子の配向
を安定化し表示性能を決定づけるものであり、ラビング
後の洗浄処理はラビング前後に基板上に付着する異物や
ゴミを除去して液晶表示パネルの品質と歩留りを向上す
るために極めて重要なプロセスである。
The alignment treatment by rubbing stabilizes the alignment of liquid crystal molecules and determines display performance, and the cleaning treatment after rubbing removes foreign matter and dust that adheres to the substrate before and after rubbing, improving the quality of the liquid crystal display panel. This is an extremely important process for improving yield.

【0005】図3は従来のラビング・洗浄を行う装置の
例を示す図で、同図(イ)はラビング装置,同図(ロ)
は洗浄装置を示す。たとえば、同図(イ)において、透
明基板1を収容したカセット10をローダ11にセット
し、ラビング処理機構12の基板搬送機構に一枚づゝ透
明基板1を送り込む。ラビング処理機構12でラビング
を終わった透明基板1はアンローダ16で別のカセット
10に透明基板1を収容してラビング処理工程を終了す
る。次に、同図(ロ)に示したごときバッチ式の洗浄装
置に前記カセット10をそのまゝ, あるいは、別個の
洗浄用バスケット50にラビング処理した透明基板1を
移しかえて搬送し、図示したごとく, たとえば、IP
A(イソプロピルアルコール) を満たした超音波洗浄
槽301 に浸漬して超音波をかけて洗浄し、必要によ
り中性洗剤水溶液を満たした超音波洗浄槽302 に浸
漬して超音波をかけて洗浄する。さらに、純水を満たし
た超音波洗浄槽303 に浸漬して超音波をかけて洗浄
し、最後に純水を満たした引上げ槽304 の中ですす
ぎ洗いを行ったのち、たとえば, 赤外線加熱などによ
る乾燥炉305 で乾燥してラビング処理後の洗浄・乾
燥工程を完了している。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a conventional rubbing/cleaning device.
indicates a cleaning device. For example, in FIG. 4A, a cassette 10 containing transparent substrates 1 is set on a loader 11, and the transparent substrates 1 are fed into the substrate transport mechanism of the rubbing processing mechanism 12 one by one. The transparent substrate 1 that has been rubbed by the rubbing mechanism 12 is stored in another cassette 10 by the unloader 16, and the rubbing process is completed. Next, the cassette 10 is transferred to a batch-type cleaning device as shown in FIG. For example, IP
It is immersed in an ultrasonic cleaning tank 301 filled with A (isopropyl alcohol) and cleaned with ultrasonic waves, and if necessary, immersed in an ultrasonic cleaning tank 302 filled with a neutral detergent aqueous solution and cleaned with ultrasonic waves. . Furthermore, it is immersed in an ultrasonic cleaning tank 303 filled with pure water and cleaned using ultrasonic waves.Finally, after being rinsed in a pulling tank 304 filled with pure water, it is heated by, for example, infrared rays. It is dried in a drying oven 305 to complete the cleaning and drying process after the rubbing process.

【0006】図2はラビングと異物の影響を説明する図
で、同図(イ)はラビング方向を示す斜視図,同図(ロ
)はラビング状況を説明する側面図である。通常、ラビ
ングローラ22と基板1とは液晶分子のツイスト角を与
える関係上ある角度,たとえば、30°程度傾けて配置
する場合が多く、これによりラビング方向200は同図
(イ)に模式的に図示したごとく基板1の端面と交差す
るように形成される。一方、ラビングローラ22には同
図(ロ)に示したようにラビング布220 巻き付けら
れている。ラビング布220 は, たとえば、厚さ0
.7 mm程度のナイロン製の基布で、基布面に直角に
太さ約30μmφ, 長さ約3mmのファイバ, いわ
ゆる、パイル(毛先)221が植設されたものである。
FIG. 2 is a diagram illustrating the effects of rubbing and foreign matter. FIG. 2(a) is a perspective view showing the rubbing direction, and FIG. 2(b) is a side view illustrating the rubbing situation. Normally, the rubbing roller 22 and the substrate 1 are often arranged at a certain angle, for example, about 30 degrees, in order to give the twist angle of the liquid crystal molecules, so that the rubbing direction 200 is schematically shown in FIG. As shown in the figure, it is formed to intersect with the end surface of the substrate 1. On the other hand, a rubbing cloth 220 is wrapped around the rubbing roller 22, as shown in FIG. For example, the rubbing cloth 220 has a thickness of 0
.. It is a base fabric made of nylon with a thickness of about 7 mm, and a so-called pile (tip) 221 of fibers with a thickness of about 30 μmφ and a length of about 3 mm is planted perpendicular to the base fabric surface.

【0007】すなわち、回転しているラビング布220
の下に図示してないステージに載置された基板1(その
上には,たとえばITO 膜からなるストライプ状の駆
動電極2と、たとえば転写印刷方式で塗布された厚さ5
0〜100 nmのポリイミド樹脂膜からなる配向用塗
膜3が予め形成されている) が搬入されると、配向用
塗膜3, たとえば、ポリイミド樹脂膜面をパイル22
1が摩擦することにより、ラビングローラ22と直角な
ラビング方向に歪み異方性が与えられて配向膜が形成さ
れ、液晶表示パネルに注入された配向膜界面の液晶分子
の配向を安定化せしめ所要のツイスト角を与えることが
できる。なお、ラビングローラ回転機構やステージ駆動
機構などは本発明に直接関係しないので図示説明を省略
した。
That is, the rotating rubbing cloth 220
A substrate 1 is placed below on a stage (not shown) (on which are striped drive electrodes 2 made of, for example, an ITO film, and a film with a thickness of 5 coated by, for example, a transfer printing method).
When the orientation coating film 3 (on which a polyimide resin film with a thickness of 0 to 100 nm has been formed in advance) is carried in, the surface of the orientation coating film 3, for example, a polyimide resin film, is piled into a pile 22.
1 is rubbed, strain anisotropy is imparted in the rubbing direction perpendicular to the rubbing roller 22 to form an alignment film, which stabilizes the alignment of liquid crystal molecules at the interface of the alignment film injected into the liquid crystal display panel. can give a twist angle of Note that the rubbing roller rotation mechanism, stage drive mechanism, and the like are not directly related to the present invention, so illustration and description thereof are omitted.

【0008】上記に説明したラビング処理を行ったあと
、前記図3(ロ)で説明した洗浄装置で洗浄・乾燥して
配向膜形成工程が完了されている。
After performing the rubbing process described above, the alignment film forming process is completed by cleaning and drying using the cleaning apparatus described in FIG. 3(b).

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】通常、配向用塗膜3の
表面を細かく観察すると、前記図2(ロ)に示したごと
き異物100,たとえば、樹脂や金属などの微粒子が付
着していることがあり、このような膜にラビング処理を
行うとラビングローラ22の進行方向の反対側にゴミ1
01 , たとえば、ラビング布220に植設されたパ
イル221の折れ屑その他が付着する場合が多い。
[Problem to be Solved by the Invention] Normally, when the surface of the alignment coating film 3 is closely observed, foreign matter 100 as shown in FIG. 2(b), for example, fine particles of resin or metal, are attached. Therefore, when rubbing is performed on such a film, dirt 1 is deposited on the opposite side of the direction of movement of the rubbing roller 22.
01. For example, broken pieces of the pile 221 planted on the rubbing cloth 220 and other debris often adhere to the rubbing cloth 220.

【0010】従来はラビングにより得られた配向性能の
低下を恐れて配向膜面を摩擦するような, いわゆる、
スクラブ洗浄は嫌われ、前記のごとく洗浄液の中で超音
波洗浄を行っているのが一般的であった。
Conventionally, the alignment film surface is rubbed for fear of deteriorating the alignment performance obtained by rubbing.
Scrub cleaning is disliked, and as mentioned above, ultrasonic cleaning is generally performed in a cleaning solution.

【0011】しかし、このような超音波洗浄では配向膜
面に食い込んだ異物100 は勿論のことゴミ101 
の除去効果が必ずしも充分でなく、また,配向膜に傷を
つくる原因ともなり、いずれも液晶表示装置の表示品質
の欠陥を招くという重大な問題があって、その解決が必
要であった。
However, in such ultrasonic cleaning, not only the foreign matter 100 that has bitten into the alignment film surface but also the dust 101 are removed.
The removal effect is not necessarily sufficient, and it also causes scratches on the alignment film, both of which cause defects in the display quality of liquid crystal display devices, which is a serious problem that needs to be solved.

【0012】0012

【課題を解決するための手段】上記の課題は、透明基板
1上に少なくとも駆動電極2と配向用塗膜3を積層形成
し、該配向用塗膜3表面をラビングしたあと洗浄を行う
液晶表示パネル用基板の製造方法において、前記洗浄が
ブラッシング洗浄であって, かつ、ブラッシング方向
が前記ラビング時のラビング方向と平行であるようにし
た液晶表示パネル用基板の製造方法によって解決するこ
とができる。とくに、前記洗浄のブラッシング方向とラ
ビングのラビング方向とが逆向きであるようにして効果
的に解決することができる。具体的には、前記配向用塗
膜3をラビングするラビング処理機構12のあとにブラ
ッシング洗浄機構13を直結して設け、前記ラビング処
理機構12のラビングローラ22と前記ブラッシング洗
浄機構13のブラッシングローラ23とを平行に配置し
て構成する液晶表示パネル用基板の製造装置により解決
することができる。
[Means for Solving the Problems] The above-mentioned problem is solved by a liquid crystal display in which at least a drive electrode 2 and an alignment coating film 3 are laminated on a transparent substrate 1, and the surface of the alignment coating film 3 is rubbed and then cleaned. This problem can be solved by a method for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel in which the cleaning is brushing cleaning, and the brushing direction is parallel to the rubbing direction during the rubbing. In particular, the problem can be effectively solved by making the brushing direction for cleaning and the rubbing direction for rubbing opposite to each other. Specifically, a brushing cleaning mechanism 13 is provided directly after the rubbing treatment mechanism 12 that rubs the orientation coating film 3, and the rubbing roller 22 of the rubbing treatment mechanism 12 and the brushing roller 23 of the brushing cleaning mechanism 13 are provided. This problem can be solved by an apparatus for manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel, which is configured by arranging these in parallel.

【0013】[0013]

【作用】本発明によれば、超音波洗浄では除去しにくい
配向膜面に食い込んだ異物100 や強く固着したゴミ
101 もブラッシングすることにより容易に除去する
ことができる。しかも、ブラシのパイルをやゝ弱めにし
, かつ、ブラッシング方向をラビング時のラビング方
向200 と同じ方向にしてあって、ラビング処理によ
り得られた配向性能を低下させることがないので、洗浄
効果が高く, しかも、表示品質と歩留りが向上する。
According to the present invention, foreign matter 100 that has dug into the alignment film surface and strongly adhered dust 101, which are difficult to remove by ultrasonic cleaning, can be easily removed by brushing. Moreover, the pile of the brush is slightly weakened and the brushing direction is the same as the rubbing direction 200 during rubbing, so the orientation performance obtained by the rubbing process is not degraded, so the cleaning effect is high. , Moreover, display quality and yield are improved.

【0014】[0014]

【実施例】図1は本発明の実施例を示す図で、同図(イ
)はラビング・洗浄・乾燥を連続して行うための装置構
成を示し、同図(ロ)はラビング処理機構の要部、同図
(ハ)はブラッシング洗浄機構の要部、同図(ハ)はブ
ラッシング洗浄の状況を示す概念図である。
[Embodiment] Fig. 1 shows an embodiment of the present invention. Fig. 1 (a) shows the configuration of an apparatus for sequentially performing rubbing, washing, and drying, and Fig. 1 (b) shows the rubbing processing mechanism. The main part of the same figure (c) is the main part of the brushing cleaning mechanism, and the same figure (c) is a conceptual diagram showing the state of brushing cleaning.

【0015】図中、13はブラッシング洗浄機構、14
はシャワー洗浄機、15は乾燥機、17は基板搬送機構
、23はブラッシングローラ、33は洗浄液噴射管、2
30 はブラッシング布に植設されたパイルである。
In the figure, 13 is a brushing cleaning mechanism, 14
1 is a shower cleaning machine, 15 is a dryer, 17 is a substrate transport mechanism, 23 is a brushing roller, 33 is a cleaning liquid injection pipe, 2
30 is a pile planted in the brushing cloth.

【0016】なお、前記の諸図面で説明したものと同等
の部分については同一符号を付し、かつ、同等部分につ
いての説明は省略する。たとえば、厚さ1.1 mm,
 大きさ350×400 mm程度のガラス製の透明基
板1にITO(In2O3 ーSnO2)からなるスト
ライプ状の駆動電極2を形成した上に、配向用塗膜3と
して, たとえば、ポリイミド樹脂膜を厚さ50〜10
0 nmに塗布する。
[0016] The same parts as those explained in the above drawings are given the same reference numerals, and the explanation of the same parts will be omitted. For example, thickness 1.1 mm,
A striped drive electrode 2 made of ITO (In2O3-SnO2) is formed on a glass transparent substrate 1 with a size of about 350 x 400 mm, and then a polyimide resin film, for example, is applied to a thickness as an alignment coating 3. 50-10
Coat to 0 nm.

【0017】同図(イ)において、上記処理ずみの透明
基板1を収容したカセット10をローダ11にセットし
、ラビング処理機構12の基板搬送機構17に一枚づゝ
基板を送り込む。ラビング処理機構12でラビングを終
わった基板はそのまゝ直結しているブラッシング洗浄機
構13に搬送されてブラッシング洗浄を行い、さらに,
ブラッシング洗浄機構13に直結されたシャワー洗浄機
14で,たとえば、純水によるシャワー洗浄を行ったあ
と、引き続いて, たとえば, エアナイフや赤外線加
熱などによる乾燥機15で乾燥しアンローダ16で別の
カセット10に処理基板1を収容して本発明装置による
ラビング処理・洗浄・乾燥の一連の工程を終了する。
In FIG. 3A, a cassette 10 containing the processed transparent substrates 1 is set on a loader 11, and the substrates are fed into the substrate transport mechanism 17 of the rubbing mechanism 12 one by one. The substrate that has been rubbed in the rubbing processing mechanism 12 is directly transferred to the directly connected brushing cleaning mechanism 13 where it is brushed and cleaned.
After performing shower cleaning using, for example, pure water in a shower washer 14 directly connected to the brushing cleaning mechanism 13, the cassettes are subsequently dried in a dryer 15 using an air knife or infrared heating, and then transferred to another cassette 10 by an unloader 16. The processing substrate 1 is housed in the chamber, and a series of steps of rubbing, cleaning, and drying by the apparatus of the present invention is completed.

【0018】なお、同図(ロ)に示したラビング処理は
従来例で説明したもの(図中、2参照)に準じて行えば
よい。同図(ハ)に本発明によるブラッシング洗浄機構
13の要部を示してあり、たとえば,直径100 mm
φのブラッシングローラ23にはブラッシング布が巻き
付けられている。ブラッシング布は, たとえば、厚さ
0.7 mm程度のナイロン製の基布で、基布面に直角
に太さ約20μmφ, 長さ約2mmのファイバ, い
わゆる、パイル(毛先)が植設されたもので、たとえば
,ラビング布のパイルよりもやゝ弱めのものを使用する
のがよい。そして、同図(ロ),(ハ)に概念的に示し
たようにラビングローラ22とブラッシングローラ23
とは平行になるように配置する。これによりラビング方
向とブラッシング方向が一致するようにすることができ
る。
It should be noted that the rubbing process shown in FIG. 3(B) may be performed in accordance with that described in the conventional example (see 2 in the figure). The main part of the brushing cleaning mechanism 13 according to the present invention is shown in FIG.
A brushing cloth is wrapped around the brushing roller 23 having a diameter of φ. The brushing cloth is, for example, a nylon base fabric with a thickness of about 0.7 mm, and fibers, so-called piles, about 20 μmφ in thickness and 2 mm in length are planted perpendicular to the surface of the base fabric. For example, it is best to use something with a slightly weaker pile than the pile of a rubbing cloth. As conceptually shown in Figures (B) and (C), a rubbing roller 22 and a brushing roller 23 are installed.
Place it parallel to. This allows the rubbing direction and the brushing direction to match.

【0019】一方、ブラッシングローラ23に沿って多
数の洗浄液噴射口を設けた洗浄液噴射管33を配設し、
洗浄液, たとえば、IPA,中性洗剤水溶液, 純水
などを矢印で示した如く噴射して図示してない基板をブ
ラッシング洗浄する。なお、洗浄液は上記のものに限ら
ず他のものを用いてもよい。また、洗浄液の供給もその
他の方法, たとえば、洗浄液を満たした洗浄槽の中に
ブラッシングローラ23を浸漬するような方法であって
もよいことは言うまでもない。さらに、ブラッシング洗
浄は一段とは限らず必要により多段にして洗浄効果を高
めるようにしてもよいことは勿論である。
On the other hand, a cleaning liquid injection pipe 33 having a large number of cleaning liquid injection ports is arranged along the brushing roller 23.
A cleaning liquid, such as IPA, a neutral detergent aqueous solution, or pure water, is sprayed as indicated by the arrow to brush and clean the substrate (not shown). Note that the cleaning liquid is not limited to those mentioned above, and other cleaning liquids may be used. It goes without saying that the cleaning liquid may also be supplied by other methods, such as by immersing the brushing roller 23 in a cleaning tank filled with the cleaning liquid. Furthermore, it goes without saying that the brushing cleaning is not limited to one stage, but may be performed in multiple stages as necessary to enhance the cleaning effect.

【0020】同図(ハ)にはブラッシング洗浄の状況と
効果を概念的に示してある。すなわち、図示してない前
段のラビング処理機構12から直結したブラッシング洗
浄機構13の回転しているブラッシングローラ23に巻
き付けられたブラッシング布の下に、図示してないステ
ージに載置された基板1(その上には,たとえばITO
 膜からなるストライプ状の駆動電極2とラビング処理
されたポリイミド樹脂膜からなる配向膜が形成されてい
る) が搬入されると、配向膜面をパイル230が軽く
摩擦する。同時に図示してない洗浄液が噴射されて配向
膜面を洗い流す。この時ブラッシングローラ23の傾き
はラビング時のラビングローラの傾きと同一, すなわ
ち、両ローラは平行にし、さらに,好ましくはブラッシ
ングローラ23の回転方向をラビングローラのそれと逆
向きにしておくのがよい。これにより、図示したごとく
配向膜面の異物100 に引っ掛かっていたゴミ101
 はブラッシングローラのパイル230 で極めて容易
に除去されると言う利点がある( ゴミ101 はゴミ
101’となって洗浄液で洗い流される)。
FIG. 3(C) conceptually shows the situation and effects of brushing cleaning. That is, under the brushing cloth wrapped around the rotating brushing roller 23 of the brushing cleaning mechanism 13 directly connected to the upstream rubbing mechanism 12 (not shown), the substrate 1 ( On top of that, for example, ITO
When a striped drive electrode 2 made of a film and an alignment film made of a rubbed polyimide resin film are carried in, the pile 230 lightly rubs the surface of the alignment film. At the same time, a cleaning liquid (not shown) is sprayed to wash away the alignment film surface. At this time, the inclination of the brushing roller 23 is the same as the inclination of the rubbing roller during rubbing, that is, both rollers are parallel to each other, and preferably, the direction of rotation of the brushing roller 23 is opposite to that of the rubbing roller. As a result, as shown in the figure, the dust 101 caught on the foreign matter 100 on the alignment film surface is removed.
has the advantage that it is very easily removed by the pile 230 of the brushing roller (the dirt 101 becomes dirt 101' and is washed away with the cleaning liquid).

【0021】ブラッシング洗浄を行ったあとは前記のご
とくシャワー洗浄, 乾燥を行えば本発明方法による一
連の処理工程が完了し、これを用いて液晶表示パネルを
構成することにより高い表示品質と歩留りが得られる。
After brushing and cleaning, shower cleaning and drying as described above completes a series of processing steps according to the method of the present invention, and by using this to construct a liquid crystal display panel, high display quality and yield can be achieved. can get.

【0022】なお、上記の実施例はいずれも例を示した
もので、本発明の趣旨に添うものである限り、各部に使
用する素材や細部のプロセス条件あるいはそれらの組み
合わせなど適宜他のものを選択使用してよいことは勿論
である。
It should be noted that the above-mentioned embodiments are merely examples, and other materials may be used as appropriate, such as materials used for each part, detailed process conditions, or combinations thereof, as long as they comply with the spirit of the present invention. Of course, you may use them selectively.

【0023】[0023]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば超
音波洗浄では除去しにくい配向膜面に食い込んだ異物1
00 や強く固着したゴミ101 もブラッシングする
ことにより容易に除去することができる。しかも、ブラ
シのパイルをやゝ弱めにし, かつ、ブラッシング方向
をラビング時のラビング方向200 と平行にしてあっ
て、ラビング処理による配向性能を低下させることがな
いので、洗浄効果が高く液晶表示装置の表示品質と歩留
りの向上に寄与するところが極めて大きい。
Effects of the Invention As explained above, according to the present invention, foreign particles 1 that have bitten into the alignment film surface, which are difficult to remove by ultrasonic cleaning, can be removed.
00 and strongly adhered dust 101 can be easily removed by brushing. In addition, the pile of the brush is made slightly weaker and the brushing direction is parallel to the rubbing direction 200 during rubbing, so that the alignment performance due to the rubbing process is not deteriorated, so the cleaning effect is high and it is suitable for liquid crystal display devices. This greatly contributes to improving display quality and yield.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の実施例を示す図である。FIG. 1 is a diagram showing an embodiment of the present invention.

【図2】ラビングと異物の影響を説明する図である。FIG. 2 is a diagram illustrating the effects of rubbing and foreign matter.

【図3】従来のラビング・洗浄を行う装置の例を示す図
である。
FIG. 3 is a diagram showing an example of a conventional rubbing/cleaning device.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1は透明基板、 2は駆動電極、 3は配向用塗膜、 10はカセット、 11はローダ、 12はラビング処理機構、 13はブラッシング洗浄機構、 14はシャワー洗浄機、 15は乾燥機、 16はアンローダ、 17は基板搬送機構、 22はラビングローラ、 23はブラッシングローラ、 33は洗浄液噴射管、 100は異物、 101はゴミ、 230はパイル、 1 is a transparent substrate, 2 is a drive electrode; 3 is an orientation coating film; 10 is a cassette, 11 is loader, 12 is a rubbing processing mechanism; 13 is a brushing cleaning mechanism; 14 is a shower cleaning machine, 15 is a dryer, 16 is an unloader, 17 is a substrate transport mechanism; 22 is a rubbing roller, 23 is a brushing roller, 33 is a cleaning liquid injection pipe; 100 is a foreign object, 101 is garbage, 230 is pile,

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  透明基板(1)上に少なくとも駆動電
極(2) と配向用塗膜(3) を積層形成し、該配向
用塗膜(3) 表面をラビングしたあと洗浄を行う液晶
表示パネル用基板の製造方法において、前記洗浄がブラ
ッシング洗浄であって, かつ、ブラッシング方向が前
記ラビング時のラビング方向と平行であることを特徴と
した液晶表示パネル用基板の製造方法。
Claim 1: A liquid crystal display panel in which at least a driving electrode (2) and an alignment coating film (3) are laminated on a transparent substrate (1), and the surface of the alignment coating film (3) is rubbed and then cleaned. A method of manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel, characterized in that the cleaning is brushing cleaning, and the brushing direction is parallel to the rubbing direction during the rubbing.
【請求項2】  前記洗浄のブラッシング方向とラビン
グのラビング方向とが逆向きであることを特徴とした請
求項1記載の液晶表示パネル用基板の製造方法。
2. The method of manufacturing a substrate for a liquid crystal display panel according to claim 1, wherein the brushing direction of the cleaning and the rubbing direction of the rubbing are opposite to each other.
【請求項3】  前記配向用塗膜(3) をラビングす
るラビング処理機構(12)のあとにブラッシング洗浄
機構(13)を直結して設け、前記ラビング処理機構(
12)のラビングローラ(22)と前記ブラッシング洗
浄機構(13)のブラッシングローラ(23)とを平行
に配置することを特徴とした液晶表示パネル用基板の製
造装置。
3. A brushing cleaning mechanism (13) is provided directly after the rubbing mechanism (12) for rubbing the orientation coating film (3), and the rubbing mechanism (13)
12) and the brushing roller (23) of the brushing cleaning mechanism (13) are arranged in parallel.
JP40557390A 1990-12-25 1990-12-25 Method and apparatus for producing substrate for liquid crystal display panel Withdrawn JPH04221925A (en)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6893688B2 (en) 2000-09-06 2005-05-17 Seiko Epson Corporation Method and apparatus for fabricating electro-optical device and method and apparatus for fabricating liquid crystal panel
KR100760931B1 (en) * 2000-12-28 2007-09-21 엘지.필립스 엘시디 주식회사 Method for fabricating liquid crystal display panel
CN110596958A (en) * 2018-06-13 2019-12-20 夏普株式会社 Method for manufacturing liquid crystal substrate and apparatus for processing liquid crystal substrate

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