JPH04195744A - 光ディスク記録膜作製用塗布装置及びその塗布方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、ビデオディスク、ディジタルオーディーオデ
ィスク、静止画、文書ファイルなどの光デイヌクを作製
するための記録膜作製用塗布装置に関するものである。

従来の技術 一般に光ディスクは、その情報密度が極めて大きいこと
やＳ／Ｎ比が大きくノイズが少ないことから情報媒体と
して有望視され、ビデオディスクとして商品化され、デ
ィジタル信号記録再生を行う光ディスクとしても近年研
究開発が行なわれている。

以下、図面を参照しながら上述した従来の記録膜作製装
置の一例について説明する。第６図は、従来の記録膜作
製用塗布装置であり、第６図は塗布時の基板の回転数と
経過時間の関係を示す図である。第５図において、１は
記録膜作製のだめの液供給ノズル＆と液を保持するため
の保存タンクｂと保存タンクから液を吸い上げ吐出する
ための供給ポンプＣから成る吐出部、２は記録膜を塗布
する光ディスク基板、３は光ディスク基板を載せるため
のターンテーブルｄとターンテーブルを回転するための
モータｅから成る回転部である。また第６図においてＴ
１は光ディスク基板上に液を吐出する時間、Ｔ２は記録
膜形成の為の高速回転の時間である。ガラスや樹脂等で
できた光デイヌク基板の上に記録膜を作製するには、ま
ず第５図に示すように光ディスク基板２をターンテーブ
ルｄに載せ、モータｅで第６図に示すように数１゜ｒｐ
ｍの低速で回転する。次にレジストや有機色素等の記録
膜作製用の溶液をポンプＣにより保存タンクｂから吸い
上げ、供給ノズ／Ｉ／ａより光ディスク基板２上に吐出
する。そして一定の時間Ｔ１だけ吐出した後ポンプＣの
停止により液の吐出を止め、同時にモータｅの回転を数
百から数千ｒｐｍに上げＴ２の時間だけ高速回転するこ
とにより光ディスク基板２上に均一な記録膜を作製する
ものである。

発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成では、液の吐出は時間管
理即ちタイマー等により予め設定した時間のみで制御す
るため、ポンプの圧力や光ディスクの回転のばらつきに
より吐出液量や液の内外周への広が９範囲が常に変化す
る。従って、液の吐出後の高速回転による記録膜の形成
において、膜厚や光デイヌク基板の内周への膜の形成範
囲が常に変化してしまう。

本発明は上記問題点に鑑み、さらに均一の厚みで塗布範
囲が一定の光ディスク記録膜を塗布出来る塗布装置を提
供するものである。

課題を解決するための手段 上記課題を解決するために本発明の記録膜作製用塗布装
置は、吐出された溶液の広がりを検出するための液検呂
部とこの検出部で検出した信号によυ液の吐出並びに光
ディスクの回転を制御する制御部を設けたものである。

作　　用 本発明は上記した構成によ＃）液の吐出時間を吐出され
た液の広がり範囲で制御するため、常に一定の液の吐出
が行なわれ記録膜を均一な厚みで、かつ一定の範囲に塗
布することが出来る。

実施例 以下、本発明の一実施例の光テ゛イスク記録膜作製用塗
布装置について図面を参照しながら説明する。第１図お
よび第２図は本発明の第１の実施例における光ディスク
記録膜作製用塗布装置の断面図である。また、第３図は
検出部で検出される信号レベルを示した表、第４図は塗
布時の基板の回転数と経過時間の関係を示す表である。

第１図ならびに第２図において１１は記録膜作製のため
の液供給ノズｙｆと液を保存するための保存タンクｑと
保存タンクから液を吸い上げ吐出するための供給ポンプ
ｈから成る吐出部、１２は記録膜を塗布する光ディスク
基板、１３は光ディスクを載せるためのターンテーブル
ｉとターンテーブルを回転するためのモータｊから成る
回転部、１４は液の広がりを検出するためのレーザ（Ｈ
ｅ　−Ｎ　ｅレーザ等）ｋと光デイヌク基板から反射し
てきた光を受けるだめの受光素子１から成る検出部、１
６は検出した信号により光ディスク基板の回転ならびに
液の吐出を制御するための制御部である。また、第３図
及び第４図においてＴ２は光ディスク基板上に溶液が吐
出される時間、Ｔ３は記録膜形成のだめの高速回転の時
間である。

以下、図面を用いてその動作を説明する。まず、光ディ
スク基板１２の内周或は外周部の上部に第２図に示すよ
うなレーザｋを設は光ディスク基板１２にレーザ光を照
射し反射光を受光素子１でモニターする。この状態で光
ディスクを数１Ｏｒｐｍれた液が光ディスク基板の回転
により基板上で内外周に広がシレーザ光の照射位置まで
達すると、液によりレーザ光が乱反射するため受光素子
１で検出されるレーザ光の受光量は第３図に示すように
それまでの光量を１００％とすると７ｏ％以下に減少す
る。この光の受光量の変化を制御部１６で検出し、検出
と同時に制御部１５で液供給ポンプｈを停止し回転用モ
ータｊを第４図に示すように低速回転から高速回転に上
げＴ３の時間高速回転を行なうことによりディヌク基板
１２上に均一な記録膜を作製出来るようにしたものであ
る。

発明の効果 以上のように本発明は、液の吐出時間を吐出されだ液の
広がりの範囲で検出することにより制御するため、ポン
プの圧力の変化や光ディスク基板の回転のばらつきによ
り液の吐出速度や広が９速度が変化しても、常に一定の
吐呂が行なわれ記録膜を均一な厚みでかつ一定の範囲に
塗布することが出来る。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の実施例における光ディスク記録膜作製
用塗布装置の構成図、第２図は吐出液の広がシを検出す
るための検出部の構成図、第３図は検出されたレーザ光
量を示す図、第４図はターンテーブルの回転数を示す図
、第５図は従来の記録膜作成用塗布装置の構成図、第６
図は塗布時の基板の回転数と経過時間の関係を示す図で
ある。 １１・・・・・・吐呂部、１２・・・・・・光ディスク
基板、１３・・・・・・回転部、１４・・・・・・検出
部、１６・・・・・・制御部。 代理人の氏名　弁理士　小鍜治　　明　ほか２名１１−
−一吐出邦　　　　ｆ　・・・態紛ノズル１４−−一検
出部　　　　ｉ　　−−−クーンテーフ）し第３図 暦問

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. （１）光ディスクの基板を載せ回転するための回転部と
   、記録膜作製用の溶液を吐出するための吐出部と、吐出
   された溶液を検出する検出部と、検出された信号により
   回転及び液の吐出を制御する制御部とを備えたことを特
   徴とする光ディスク記録膜作製用塗布装置。（２）光デ
   ィスク基板内周或は外周に設けた検出部により、光ディ
   スク基板上に吐出する記録膜作製用溶液を制御すること
   を特徴とする請求項１の光ディスク記録膜の作製方法。