JPH04147149A - Durable image plate - Google Patents
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Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
Abstract
Description
【発明の詳細な説明】
〈発明の関連分野〉
本発明は、極めて耐久性が大きく、画質の劣化なしに永
久に画像を保存することができ、且つ肉眼で直接具ても
非常に美しいと感することができる耐久画像板に関する
。[Detailed Description of the Invention] <Related Field of the Invention> The present invention provides an extremely durable image that can be permanently stored without deterioration of image quality, and that is extremely beautiful even when viewed directly with the naked eye. The present invention relates to a durable image board that can be used.
〈発明の背景〉
一般に使われている銀塩写真媒体、印刷物、磁気記録媒
体、光記録媒体等は、その主要材料が有機材料であり、
耐熱性、耐腐食性及び機械的耐久性等が劣る。例えば、
白黒プリント、白黒フィルム、カラープリント、カラー
フィルム、磁気テープ、光カード、光ディスク等は、耐
炎性がない。<Background of the Invention> The main materials of commonly used silver salt photographic media, printed matter, magnetic recording media, optical recording media, etc. are organic materials.
Poor heat resistance, corrosion resistance, mechanical durability, etc. for example,
Black and white prints, black and white films, color prints, color films, magnetic tapes, optical cards, optical discs, etc. are not flame resistant.
また、強い薬品に侵されたり、ある種の溶剤に溶けたり
する。更に、機械的外力により破れたり、引きちぎれた
り、傷がついたり、しわができたり、伸びたりすること
もある。更に、白黒プリント、カラープリント、カラー
フィルム等は経時で変色したり、退色する可能性があっ
た。It is also attacked by strong chemicals and dissolved in certain solvents. Furthermore, it may be torn, torn, scratched, wrinkled, or stretched due to external mechanical forces. Furthermore, black and white prints, color prints, color films, etc. may change color or fade over time.
銀塩マイクロフィルムは100年の保存性が証明されて
いるが、デジタル記録はまだ保存性に疑問がある。また
数10年後、数100年後に現在使用されているデジタ
ル再生装置が存在するか疑問である。アナログ可視画像
であれば肉眼で直接みることができるし、簡単な光学的
拡大または縮小装置により容易に再生できるので、将来
再生装置が存在しないという恐れはない。Silver halide microfilm has been proven to have a shelf life of 100 years, but there are still questions about the shelf life of digital records. Furthermore, it is doubtful whether the digital playback devices currently in use will still exist several decades or even hundreds of years from now. Since analog visible images can be viewed directly with the naked eye and easily reproduced with simple optical magnification or reduction equipment, there is no fear that reproduction equipment will not exist in the future.
印刷の分野では、石版印刷、グラビア印刷、平版印刷等
が知られている。In the field of printing, lithograph printing, gravure printing, planographic printing, etc. are known.
石版印刷は歴史的な方法であり、石版に手で彫刻して凸
版をつくり、これにインクをつけて紙に転写するもので
ある。従って精密な画像は得られなかったし、また版も
脆くて弱いものであった。Lithograph printing is a historical method in which a letterpress is created by hand engraving a stone slab, which is then dipped in ink and transferred to paper. Therefore, precise images could not be obtained, and the plates were also brittle and weak.
更にその版上り画像は、低コントラストで且つ階調のな
いものであり、鑑賞の目的に使えるものではなかった。Furthermore, the printed image had low contrast and no gradation, and could not be used for viewing purposes.
グラビア印刷は、銅のシリンダにサイズは一定で画像濃
度に応じて深さが大きくなるドツトが形成された版を用
いる。版を直接肉眼で見ても、階調やコントラストが殆
どないので、鑑賞の目的に使えるものではなかった。Gravure printing uses a plate in which dots of a constant size are formed in a copper cylinder and the depth increases depending on the image density. Even when looking at the plate directly with the naked eye, there was almost no gradation or contrast, so it could not be used for purposes of appreciation.
平版印刷版のうち28版は、アルミニウム板の表面を陽
極酸化して新水性表面を形成し、その上に新油性の樹脂
画像を形成したものが一般的である。これは耐熱性、耐
腐食性ともに小さいものである。平版印刷版の中でも、
バイメタル版、トライメタル版と呼ばれる特殊なものか
あ。バイメタル版は、新油性の銅又はステンレス基板の
上に新水性のクロムの画像を形成したものである。トラ
イメタル版は、鉄基板の上に新油性の銅の層を設け、そ
の上に新水性のクロムの画像を形成したものであり、ど
ちらの版もかなり耐熱性は大きいが、銅が使われている
ため耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性のいずれも不十分
であった。Of the lithographic printing plates, 28 plates are generally those in which the surface of an aluminum plate is anodized to form a new water-based surface, and a new oil-based resin image is formed thereon. This has low heat resistance and low corrosion resistance. Among the planographic printing plates,
Is it something special called a bi-metal version or a tri-metal version? A bimetal plate is an image of fresh water-based chromium formed on a fresh oil-based copper or stainless steel substrate. Tri-metal plates have a layer of fresh oil-based copper on an iron substrate, and a new water-based chromium image is formed on top of that. Both plates have fairly high heat resistance, but copper is used. As a result, heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability were all inadequate.
印刷版の場合、特に耐熱性、耐腐食性は要求されないの
で、超耐熱金属が使われていない。上記バイメタル、ト
ライメタルの場合も、ステンレスは通常のもので耐熱性
はそれほど大きいものではない。また版は直接肉眼で見
るためのものではなく、インクをつけてそれを紙に転写
するためのものなので、板上の画像は階調やコン)・ラ
ストが非常に小さくてもよい。実際に石版印刷版、グラ
ビア印刷版、バイメタル及びトライメタル印刷版は、肉
眼で見ても印刷物のように美しいものではない。In the case of printing plates, there are no particular requirements for heat resistance or corrosion resistance, so super heat-resistant metals are not used. In the case of the above-mentioned bimetals and trimetals, stainless steel is also common and does not have very high heat resistance. Furthermore, the plate is not meant to be viewed directly with the naked eye, but rather is used to apply ink and transfer it to paper, so the image on the board may have very small gradation, contrast, and last. In fact, lithographic printing plates, gravure printing plates, bimetallic and trimetallic printing plates are not as beautiful as printed matter when viewed with the naked eye.
かりにこれらの印刷版を耐久性画像板として利用しよう
としても、空気中で高温に長時開−されると、画像部及
び非画像部の金属がともに酸化着色して、画像のコント
ラストが一層低下してしまい画像の美しさは殆ど消失し
てしまう。Even if these printing plates were to be used as durable image plates, if they were exposed to high temperatures in the air for long periods of time, the metal in both the image and non-image areas would oxidize and become colored, further reducing the contrast of the image. As a result, most of the beauty of the image is lost.
印刷版はそれ自体が鑑賞されるのではなく、版を用いて
印刷した印刷物が鑑賞されるのであ。従って版自体は美
しくなくてもよいし、耐熱性や耐腐食性も要求されない
のである。Printed plates are not viewed on their own, but rather on the printed matter that is printed using the plate. Therefore, the plate itself does not have to be beautiful, nor is it required to be heat resistant or corrosion resistant.
その他にステンレス板に図柄をエツチングしたものが、
壁面装飾とか、観光地の案内板として用いられることが
知られている。これらのもののうち、ステンレス板に単
純に図柄をエツチングしたものは、図柄と背景のコント
ラストが小さいので、良好な画像が得られない。これに
対して、ステンレス板の表面に着色皮膜を設けたのち、
図柄をエツチングしたものは高コントラストが得られる
が、空気中で長時間高温に曝されると、エツチングされ
た部分が次第に着色し、やはり画像のコントラストが低
下してしまう欠点があった。In addition, there are designs etched onto stainless steel plates.
It is known to be used as wall decoration and information boards for tourist spots. Among these, those in which a design is simply etched onto a stainless steel plate do not provide a good image because the contrast between the design and the background is small. In contrast, after providing a colored film on the surface of the stainless steel plate,
Etched designs can provide high contrast, but when exposed to high temperatures in the air for long periods of time, the etched areas gradually become colored, which also reduces the contrast of the image.
また従来の印刷版では、色分解された版は別々に用意さ
れ、−枚の板の上に一つのカラー画像が複数色に色分解
された複数個の画像として記録されるという思想はなか
った。特に小サイズに色分解して、手札サイズとかキャ
ビネサイズの板上に並べて記録するという思想はなかっ
た。In addition, in conventional printing plates, color-separated plates were prepared separately, and there was no idea that one color image could be recorded as multiple images separated into multiple colors on a single plate. . In particular, there was no idea to separate the colors into small sizes and record them on a hand-sized or cabinet-sized board.
従来、ステンレスの如き金属板に化学食刻法により文字
を食刻して、銘板を作製したり、簡単な図柄を食刻して
装飾品とする例は知られている。BACKGROUND OF THE INVENTION Conventionally, examples are known in which characters are etched onto a metal plate such as stainless steel using a chemical etching method to produce a name plate, and simple designs are etched into decorative items.
文字や簡単な図柄はこの方法で作られたものでも一応の
鑑賞の目的に耐えるが、写真を網点画像化してこの方法
で作製しても、十分なコントラストや階調が得られず、
また背景が写真のように白くなく、且つ濃い部分も写真
のように黒くないので、到底写真として鑑賞できるもの
でなかった。Letters and simple designs made using this method can be used for some purposes of appreciation, but even if you convert a photograph into a halftone image using this method, you will not be able to obtain sufficient contrast or gradation.
In addition, the background was not white like in the photo, and the dark areas were not black like in the photo, so it was impossible to appreciate it as a photo.
また従来の金属板に食刻された銘板や装飾品は、水の比
重よりはるかに大きいので、洪水等の水害に遭遇すると
、水底に沈んだり、土中に埋もれたりして行方不明にな
る恐れがあった。In addition, nameplates and ornaments engraved on conventional metal plates have a much higher specific gravity than water, so if they encounter water damage such as a flood, they may sink to the bottom of the water or be buried in the soil, causing them to go missing. was there.
〈発明の目的〉
本発明は、上記背景に鑑みてなされたもので、本発明の
第一の目的は耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性等が極め
て大きく、画質の劣化なしに永久的に画像を保存できる
耐久画像板を提供することである。<Object of the Invention> The present invention has been made in view of the above background, and the first object of the present invention is to have extremely high heat resistance, corrosion resistance, mechanical durability, etc., and to provide permanent image quality without deterioration of image quality. To provide a durable image board capable of storing images for a long time.
本発明の第二の目的は、水害で水をかぶっても水没しな
い耐久画像板を提供することである。A second object of the present invention is to provide a durable image plate that will not be submerged even if it is exposed to water due to water damage.
本発明の第三の目的は、火災の如き高熱、地震の如き機
械的衝撃、水害等に遭遇しても、少なくともどれか一つ
は無事に残る耐久画像板の組を提供することである。A third object of the present invention is to provide a set of durable image plates in which at least one of the plates will survive even if exposed to high heat such as a fire, mechanical shock such as an earthquake, water damage, etc.
本発明の第四の目的は、遠い将来でも再生装置が無くな
っている恐れのない耐久画像板を提供することである。A fourth object of the present invention is to provide a durable image plate that is unlikely to run out of playback equipment even in the distant future.
本発明の第五の目的は、それ自身が肉眼による鑑賞の目
的に耐える美しい画像を有する耐久画像板を提供するこ
とである。A fifth object of the present invention is to provide a durable picture plate having a beautiful image that by itself stands up to the purpose of visual viewing.
〈発明の開示〉
本発明耐久画像板の第一の態様では、耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性の大きな材料からなる基板の上に、耐熱
性、耐腐食性、機械的耐久性が大きく、前記基板とは異
なる画像形成物質でフォトリソグラフ法を用いて、階調
のある可視画像が網点画像化して記録されたものであっ
て、網点ドツト部と非ドツト部との光学的コントラスト
が、通常の印刷物程度に十分に大きいものであることを
特徴とする。<Disclosure of the Invention> In the first embodiment of the durable image plate of the present invention, a material having high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability is provided on a substrate made of a material having high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability. Generally speaking, a visible image with gradation is recorded as a halftone dot image using a photolithography method using an image forming material different from the substrate, and the optical difference between the halftone dot portion and the non-dot portion is recorded. It is characterized by a contrast that is sufficiently large as that of ordinary printed matter.
好ましくは、網点ドツト部と非ドツト部との白色光に対
する光学濃度差が、反射画像の場合0.9以上、透過画
像の場合 1.4以上であるとこが望ましい。以下の態
様についても同様である。Preferably, the optical density difference between the halftone dot area and the non-dot area with respect to white light is 0.9 or more in the case of a reflection image and 1.4 or more in the case of a transmission image. The same applies to the following aspects.
本発明耐久画像板の第二の態様は、機械的耐久性の大き
い金属基板及び耐熱性の大きい耐久性セラミックス基板
の上に、階調のある同一可視画像が、耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性が大きく、前記基板とは異なる画像形成
物質でフォトリソグラフ法により網点画像として記録さ
れたものであって、網点ドツト部と非ドツト部との光学
的コントラストが充分に大きい耐久画像板の少なくとも
二種からなる。A second aspect of the durable image plate of the present invention is that the same visible image with gradation is formed on a metal substrate having high mechanical durability and a durable ceramic substrate having high heat resistance. A durable image that is recorded as a halftone dot image by photolithography using an image forming material different from that of the substrate, and has a sufficiently large optical contrast between halftone dot areas and non-dot areas. Consists of at least two types of boards.
本発明耐久画像板の第三の態様は、耐久性の大きい金属
又はセラミックスの独立気泡型発泡体基板又は/及び耐
久性の大きい金属又はセラミックスの中空体基板の上に
、階調のある可視画像が、耐熱性、耐腐食性、機械的耐
久性が大きく前記基板とは異なる画像形成物質で、フォ
トリソグラフ法により網点画像として記録されたもので
あって、網点ドツト部と非ドツト部との光学的コントラ
ストが充分に大きく、且つ全体の比重が1よりも小さい
ものである。A third aspect of the durable image plate of the present invention is to provide a visible image with gradation on a highly durable metal or ceramic closed cell foam substrate and/or a highly durable metal or ceramic hollow body substrate. is an image-forming material different from that of the substrate, which has great heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability, and is recorded as a halftone image by photolithography, and has a halftone dot area and a non-dot area. has a sufficiently large optical contrast and an overall specific gravity of less than 1.
ここで耐久性が大きいとは、上記二態様のようには、耐
熱性、耐腐食性、機械的耐久性は大きくないが、従来の
写真や印刷版とは比較にならぬほど耐久性が大きいこと
である。High durability here means that although the heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability are not as great as in the above two aspects, the durability is incomparably greater than that of conventional photographs and printing plates. That's true.
本発明耐久画像板の第四の態様は、上記第二の態様の耐
久画像板と、上記第三の態様の耐久画像板の少なくとも
三種からなる。A fourth aspect of the durable image plate of the present invention is comprised of at least three types, the durable image plate of the second aspect and the durable image plate of the third aspect.
本発明耐久画像板の階調のある可視画像はモノクロ画像
として表現される。The gradated visible image of the durable image plate of the present invention is expressed as a monochrome image.
もとの階調のある可視画像がカラー画像の場合は、網点
画像は複数色に色分解された複数個の色分解網点画像か
ら成る。色分解網点画像には、印刷の分野で使用されて
いる4色分解画像の場合のように、墨版用の分解画像が
含まれてもよい。When the original visible image with gradation is a color image, the halftone dot image is composed of a plurality of color-separated halftone dot images separated into a plurality of colors. Color separation halftone images may include separation images for black plates, as in the case of four color separation images used in the field of printing.
複数個の色分解網点画像は、−枚の基板の上に形成され
てもよいし、別々の基板の上に形成されてもよい。この
場合、色分解画像を直接見ても、美しいモノクロ画像で
あるがカラー画像ではない。The plurality of color separation halftone dot images may be formed on one substrate or on separate substrates. In this case, when looking at the color separated image directly, it is a beautiful monochrome image, but it is not a color image.
カラー画像に再現するには各分解画像をスクリーン上に
位置合わせして投影するか、プリントする必要がある。To reproduce a color image, each separated image must be aligned and projected onto a screen or printed.
後述する如くスキャナで読み取り、デイスプレィしたり
ハードコピーにしてもよい。As described later, it may be read with a scanner, displayed, or made into a hard copy.
またカラー写真感光材料に引き伸ばしプリントしてもよ
い。It may also be printed by enlarging it on a color photographic material.
本発明耐久画像板は、耐久性を向上するために、網点画
像の上に耐熱性、耐腐食性1機械的耐久性が大きく透明
な保護層が設けられてもよい。基板又は画像形成物質が
高温で酸化され、着色する性質を有する場合、保護層に
よる酸化着色防止効果は特に大きい。In order to improve the durability of the durable image plate of the present invention, a transparent protective layer having high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability may be provided on the halftone image. When the substrate or image forming material has the property of being oxidized and colored at high temperatures, the effect of preventing oxidation and coloring by the protective layer is particularly large.
本発明耐久画像板は、耐久性画像が耐久性基板の両面に
形成されてもよい。In the durable image board of the present invention, durable images may be formed on both sides of the durable substrate.
本発明に於ける耐久性基板は、必ずしも平板状である必
要はなく、画像面が平面であればよく、裏面は曲面その
他任意の形状でよい。また画像が形成される面も、方形
、ディスク状その他任意の形状でもよい。宝石のような
人工の多面体、水晶のような天然の多面体でもよい。The durable substrate in the present invention does not necessarily have to be flat, as long as the image surface is flat, and the back surface may be curved or any other shape. Further, the surface on which the image is formed may be rectangular, disc-shaped, or any other arbitrary shape. It may be an artificial polyhedron such as a gemstone or a natural polyhedron such as a crystal.
本発明に於ける耐久性基板は、透明でも不透明でもよい
。The durable substrate in the present invention may be transparent or opaque.
上記のような各種の態様を有する本発明の耐久性画像を
r DURAGRAPHJと命名する。The durable image of the present invention having various aspects as described above is named rDURAGRAPHJ.
本発明耐久画像板の作成方法は、公知のフォトリソグラ
フ工程を含む。The method for producing the durable image plate of the present invention includes a known photolithography process.
上記の作成方法において、フォトレジスト膜への露光に
は二つの方法がある。即ち、網点画像で変調されたエネ
ルギビームを直接照射する方法と、銀塩感光材料の如き
感光材料に照射後、感光材料を現像して形成されたフォ
トマスクにより露光する方法とである。In the above manufacturing method, there are two methods for exposing the photoresist film. That is, there are two methods: one is to directly irradiate an energy beam modulated with a halftone dot image, and the other is to irradiate a photosensitive material such as a silver salt photosensitive material and then expose it using a photomask formed by developing the photosensitive material.
網点画像作成法として、従来から印刷の分野でコンタク
トスクリーンを用いて網点画像化する網点技法(カメラ
製版とも呼ばれる)がある。またスキャナーにより網点
画像を形成してもよい。As a halftone image creation method, there has been a halftone technique (also called camera plate making) in which a contact screen is used to create a halftone image in the field of printing. Alternatively, a halftone image may be formed using a scanner.
デイザ法は本発明に包含されるが、解像度の点で従来か
らの網点(−個の網点の面積を変えることにより階調を
変える)の方が望ましい。Although the dither method is included in the present invention, the conventional halftone dot method (gradation is changed by changing the area of - halftone dots) is more desirable in terms of resolution.
濃度の階調数は、64階調以上、好ましくは128階調
以上、さらに好ましくは256階調以上であるとこが望
ましい。It is desirable that the number of density gradations is 64 or more gradations, preferably 128 or more gradations, and more preferably 256 or more gradations.
また、網点画像の画素密度は、写真画像として十分に鑑
賞に耐える程度であることが必要であり、観察手段によ
り異なる。直接肉眼で鑑賞する場合は、少なくとも約2
.5線/ mm (5dot/mm)以上、好ましくは
約5線/ [+1111 (10dot/mm)以上、
更に好ましくは8線/ +nm (16dot/mm)
以上が望ましい。Furthermore, the pixel density of the halftone dot image needs to be at a level sufficient to be viewed as a photographic image, and varies depending on the viewing means. When viewing directly with the naked eye, at least approximately 2
.. 5 lines/mm (5 dots/mm) or more, preferably about 5 lines/[+1111 (10 dots/mm) or more,
More preferably 8 lines/+nm (16dot/mm)
The above is desirable.
耐久性画像を拡大してプリントする場合は、更に高密度
にしておく必要がある。When enlarging and printing durable images, it is necessary to increase the density even further.
本発明に於いて、階調のある画像とは写真の如き自然画
、印刷画像、コンピュータグラフィックス画像、及びこ
れらと文字画像、文書等との組み合わせ等を意味する。In the present invention, images with gradations refer to natural images such as photographs, printed images, computer graphics images, and combinations of these with character images, documents, etc.
文字画像、文書、線画等は網点化しない方が望ましい。It is preferable not to halftone text images, documents, line drawings, etc.
本発明において、耐熱性とは単に高温の雰囲気に置かれ
ることのみでなく、炎に対しても耐久性がある、即ち耐
炎性をも含んでいる。In the present invention, heat resistance refers not only to being placed in a high-temperature atmosphere, but also includes resistance to flames, that is, flame resistance.
本発明に於いて、耐腐食性とは耐薬品性、耐溶剤性、耐
空気酸化性、耐湿性のごとく、薬品、溶剤、空気及び水
分等により変質、変色、溶解その他の劣化を受けにくい
性質を意味する。In the present invention, corrosion resistance refers to properties that are resistant to deterioration, discoloration, dissolution, and other deterioration due to chemicals, solvents, air, moisture, etc., such as chemical resistance, solvent resistance, air oxidation resistance, and moisture resistance. means.
本発明に於いて、機械的耐久性とは耐摩耗性、外力によ
り変形しにくい性質(例えば折り曲げにくい)、衝撃に
対して強い性質等を意味する。In the present invention, mechanical durability refers to abrasion resistance, properties that are not easily deformed by external forces (for example, not easy to bend), properties that are strong against impact, etc.
く具体的説明〉
以下に図面を参照して本発明の第一の態様の耐久画像板
及びその製作方法について詳細に説明する。尚、理解を
容易にするため、図面では凹部の深さ、不透明部の厚さ
、感光層の厚さ、フォトレジスト膜の厚さ、薄膜、保護
層の厚さ等は、誇張されて描かれている。DETAILED DESCRIPTION> The durable image plate of the first aspect of the present invention and its manufacturing method will be described in detail below with reference to the drawings. For ease of understanding, the depth of recesses, the thickness of opaque parts, the thickness of photosensitive layers, the thickness of photoresist films, thin films, the thickness of protective layers, etc. are exaggerated in the drawings. ing.
第1図は本発明耐久画像板(Durλgraph) 1
0の一具体例の上面図、第2図はそのA−A線断面図で
ある。Figure 1 shows the durable image plate (Durλgraph) of the present invention 1
FIG. 2 is a top view of one specific example of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along the line A--A.
第1図及び第2図に於いて、11.12.13はそれぞ
れ三個の階調のある可視カラー画像に対応する網点画像
である。網点画像11は三色分解画像である11−1.
11−2.113から成る。同様に画像12と13も三
色分解画像12−1.12−2.12−3.13−1.
13−2.13−3から成る。14は平板状の基板であ
る。In FIGS. 1 and 2, 11, 12, and 13 are halftone dot images corresponding to visible color images with three gradations, respectively. The halftone image 11 is a three-color separation image 11-1.
11-2.113. Similarly, images 12 and 13 are three-color separation images 12-1.12-2.12-3.13-1.
Consists of 13-2.13-3. 14 is a flat substrate.
第3図は、網点画像部たとえば11−1の部分拡大断面
図で、図中、30は網点画像領域で、凸部31(網点ド
ツト部、画像形成物質層)及び凹部32(非ドツト部、
基板表面)より成っている。33は非画像領域である。FIG. 3 is a partially enlarged cross-sectional view of a halftone dot image area, for example 11-1, in which numeral 30 is a halftone image area, with convex portions 31 (halftone dot portions, image forming material layer) and concave portions 32 (non-dot portions, image forming material layer). Dot part,
(substrate surface). 33 is a non-image area.
凸部31及び凹部32を形成するには、フォトリソグラ
フ法が適用される。A photolithography method is applied to form the convex portions 31 and the concave portions 32.
以下に図を用いてフォトリソグラフ法により、凸部31
及び凹部32を形成する方法を説明する。The convex portion 31 is
and a method of forming the recess 32 will be explained.
第4図は基板14の上に、基板14とは別の材料の耐久
性の薄膜41を設け、その上に例えばポジ型のフォトレ
ジスト膜40が例えばスピンコード法により設けられた
状態の断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view of a state in which a durable thin film 41 made of a material different from the substrate 14 is provided on the substrate 14, and a positive photoresist film 40 is provided thereon by, for example, a spin cord method. It is.
第5図は、フォトマスクを作成するためにフォトマスク
用感光材料50(プラスチックフィルム、ガラス等の透
明基板52及びその上に設けられた感光層51からなる
)に、可視画像に対応する網点画像で変調されたエネル
ギビーム53を照射して、感光層5Iを網点画像状に露
光している状態を示している。エネルギビームの具体例
としては、レーザビーム、電子ビーム等が挙げられる。FIG. 5 shows halftone dots corresponding to visible images on a photosensitive material 50 (consisting of a transparent substrate 52 such as a plastic film or glass and a photosensitive layer 51 provided thereon) for a photomask to create a photomask. This shows a state in which the photosensitive layer 5I is exposed in the form of a halftone image by irradiating the image-modulated energy beam 53. Specific examples of energy beams include laser beams, electron beams, and the like.
感光材料の具体例としては、湿式現像方式あるいは熱現
像方式の銀塩高解像力フィルム、乾板等が有利に用いら
れる。エネルギビームによる露光後または露光と同時に
現像処理を行えば、フォトマスクが得られる。As specific examples of the photosensitive material, silver salt high-resolution films of wet development type or heat development type, dry plates, etc. are advantageously used. A photomask can be obtained by performing a development process after or simultaneously with exposure to an energy beam.
フォトマスクの作成方法として、上記のようにエネルギ
ビームでドツトごとに露光する方法の他に、つぎに述べ
る従来から印刷分野でコンタクトスクリーン法として知
られている方法でもよい。As a method for producing a photomask, in addition to the method of exposing each dot with an energy beam as described above, a method conventionally known in the printing field as a contact screen method, which will be described below, may be used.
例えば、リスフィルムの如き感光材料に密着して置かれ
たコンタクトスクリーンを通して、可視画像を露光し、
現像処理すると網点画像が得られる。For example, exposing a visible image through a contact screen placed in close contact with a photosensitive material such as lithographic film;
After development, a halftone image is obtained.
これをフォトマスクとしてもよいが、−層高解像度のフ
ォトマスクを得るには、この網点画像を、高精度の縮小
露光装置を用いて、高解像度の写真フィルムとか写真乾
板に露光、現像処理して、高解像度のフォトマスクが得
られる。This may be used as a photomask, but in order to obtain a high-resolution photomask, this halftone image is exposed to high-resolution photographic film or a photographic plate using a high-precision reduction exposure device, and then developed. As a result, a high-resolution photomask can be obtained.
第6図は、第4図の材料の上にフォトマスク60を重ね
、フォトマスク60を通して、フォトレジスト膜40に
紫外線61を均一に照射して、フォトレジスト膜に潜像
を形成している状態を示す。この際、フォトレジスト膜
40とフォトマスクのパターン保有層62とが接触する
ように配置するのが望ましい。FIG. 6 shows a state in which a photomask 60 is overlaid on the material shown in FIG. 4, and ultraviolet rays 61 are uniformly irradiated onto the photoresist film 40 through the photomask 60 to form a latent image on the photoresist film. shows. At this time, it is desirable that the photoresist film 40 and the pattern retaining layer 62 of the photomask be placed in contact with each other.
パターン保有層62中の黒部63は紫外線61を吸収す
る部分、透明部64は透過する部分である。The black portion 63 in the pattern holding layer 62 is a portion that absorbs ultraviolet rays 61, and the transparent portion 64 is a portion that transmits the ultraviolet rays.
次いでフォトレジスト膜40を現像すると、第7図の如
くフォトレジスト膜40の紫外線に露光された部分が溶
解除去され、その部分の薄膜表面が露出(70) t、
、未露光部(71)は残る。次いで、薄膜41をエツチ
ングできるエツチング液により化学エツチングするか、
或いはスパッタエッチ、イオンエッチ、プラズマエッチ
等のドライエツチング法により、薄膜41をエツチング
することにより凸部31が形成される。基板14及び薄
膜41が金属の場合は、電解エツチングを利用すること
もできる。Next, when the photoresist film 40 is developed, the portion of the photoresist film 40 exposed to ultraviolet rays is dissolved and removed as shown in FIG. 7, and the thin film surface of that portion is exposed (70) t.
, an unexposed area (71) remains. Next, the thin film 41 is chemically etched using an etching solution capable of etching it, or
Alternatively, the protrusions 31 are formed by etching the thin film 41 using a dry etching method such as sputter etching, ion etching, or plasma etching. If the substrate 14 and thin film 41 are metal, electrolytic etching can also be used.
最後に公知の方法により、残留レジストを除去すれば、
第3図の耐久画像板が得られる。Finally, if the remaining resist is removed by a known method,
A durable image plate as shown in FIG. 3 is obtained.
次にフォトマスクを用いないフォトリソグラフ法につい
て説明する。Next, a photolithography method that does not use a photomask will be explained.
第4図のフォトレジスト膜40に、フォトレジストが感
するエネルギビームを、階調のある可視画像から変換さ
れた網点画像で変調して直接露光することにより、フォ
トレジスト膜に網点画像の潜像を形成できる。ついで第
7図及びそれ以降の説明と同様に、フォトレジスト膜の
現像、薄膜のエツチング、残留レジストの除去のプロセ
スを実施して網点画像部が形成される。この方法では、
フォトレジスト膜40はエネルギビームに感する必要が
あり、レーザビーム、電子ビーム等が用いられる。レー
ザとしてはArレーザ、He−Cd レーザ等が用いら
れる。またレーザビームのパワーもフォトレジストを感
光できる大きさである数mW〜数10mW必要である。By directly exposing the photoresist film 40 in FIG. 4 to light by modulating the energy beam that the photoresist senses with a halftone image converted from a gradated visible image, a halftone image is formed on the photoresist film. A latent image can be formed. Then, in the same manner as described in FIG. 7 and subsequent parts, the processes of developing the photoresist film, etching the thin film, and removing the remaining resist are carried out to form a halftone image area. in this way,
The photoresist film 40 needs to be sensitive to energy beams, and laser beams, electron beams, etc. are used. As the laser, an Ar laser, a He-Cd laser, etc. are used. The power of the laser beam is also required to be several mW to several tens of mW, which is enough to expose the photoresist.
フォトレジスト、フォトマスク、エツチング等は、半導
体デバイスやプリント基板作製のためのフォトリソグラ
フ法に用いられている公知の材料や技術を利用すること
ができる。For the photoresist, photomask, etching, etc., known materials and techniques used in photolithography for manufacturing semiconductor devices and printed circuit boards can be used.
フォトレジストとしては、露光された部分が現像液(溶
剤)に溶解されやすくなるポジタイプのもの、露光され
た部分が現像液(溶剤)に溶解しにくくなるネガタイプ
のものが使える。As photoresists, there are two types of photoresists that can be used: positive type, in which exposed areas are easily dissolved in developer (solvent), and negative type, in which exposed areas are difficult to dissolve in developer (solvent).
具体的な商品としては、東京応化(株)より販売されて
いる0FPR−800(ポジ型レジスト)、0νR83
(ネガ型レジスト)、富士ハント株式会社より販売され
ているHPR−204(ポジ型)、SCシリーズ。Specific products include 0FPR-800 (positive resist) and 0νR83 sold by Tokyo Ohka Co., Ltd.
(negative resist), HPR-204 (positive resist) sold by Fuji Hunt Co., Ltd., and the SC series.
ICシリーズ、 HRシリーズ等(ネガ型)、長瀬産業
株式会社より販売されているNPR−820(ポジ型)
、NNR−732(ネガ型)、日立化成工業株式会社製
紫外線レジストRD−200ON (ネガ型) 、RG
−8040P (ポジ型)、電子線レジストRE−50
00P (ポジ型)、その他を用いることができる。IC series, HR series, etc. (negative type), NPR-820 (positive type) sold by Nagase Sangyo Co., Ltd.
, NNR-732 (negative type), Hitachi Chemical Co., Ltd. UV resist RD-200ON (negative type), RG
-8040P (positive type), electron beam resist RE-50
00P (positive type) and others can be used.
フォトマスク材料としては、エマルジョンタイプの感光
材料(例えば、イーストマンコダック社製コダックHR
Pプレート、アグファゲバルト社製ジエンチアプレート
等)、ハードマスク(例えばクロムマスクブランク、酸
化鉄マスクブランク等の上に、フォトレジスト膜を設け
、フォトレジスト膜に適当な方法でパターン露光を行う
。例えばレーザビームで走査露光してもよいし、パター
ンジェネレータを用いて露光してもよい。次いで、フォ
トレジスト膜の現像、マスク層のエツチング、残留レジ
ストの除去により、ハードマスクが得られる)、フィル
ムマスク(エマルジョンフィルム、ジアゾフィルム等)
が用いられる。As a photomask material, an emulsion type photosensitive material (for example, Kodak HR manufactured by Eastman Kodak Company) is used.
A photoresist film is provided on a hard mask (e.g., chrome mask blank, iron oxide mask blank, etc.), and pattern exposure is performed on the photoresist film by an appropriate method. For example, Scanning exposure may be performed with a laser beam or exposure may be performed using a pattern generator.Then, a hard mask is obtained by developing the photoresist film, etching the mask layer, and removing the remaining resist), film mask. (emulsion film, diazo film, etc.)
is used.
化学エツチング液としては、石英には弗酸系エツチング
液、ステンレスには塩化第二鉄系エツチング液、クロム
には硝酸セリウムアンモン系エツチング液、アルミナに
は燐酸系エツチング液が用いられる。その他公知のエツ
チング液が用いられる。As the chemical etching liquid, a hydrofluoric acid-based etching liquid is used for quartz, a ferric chloride-based etching liquid is used for stainless steel, a cerium ammonium nitrate-based etching liquid is used for chromium, and a phosphoric acid-based etching liquid is used for alumina. Other known etching solutions may be used.
化学エツチングでエツチング出来ない場合は、スパッタ
エツチング、イオンエツチング、プラズマエツチング等
の公知のドライエツチング法を適用できる。If chemical etching is not possible, known dry etching methods such as sputter etching, ion etching, and plasma etching can be applied.
基板及び薄膜が導体の場合は、電解エツチングが利用で
きる。電解エツチングは、エツチングされる基板を陽極
とし、エツチングしたくない部分をレジストで覆ってか
ら、電解液中で通電することにより達成される。If the substrate and thin film are conductors, electrolytic etching can be used. Electrolytic etching is accomplished by using the substrate to be etched as an anode, covering portions that are not desired to be etched with a resist, and then applying electricity in an electrolytic solution.
エツチングしにくい物質で画像を形成する場合は、上記
の通常のエツチング法の代わりに、いわゆるリフトオフ
法を用いることができる。When forming an image using a material that is difficult to etch, a so-called lift-off method can be used instead of the above-mentioned normal etching method.
上記の作製例では、画像物質(薄膜41)はフォトレジ
スト膜の中に含まれていないが、次に画像形成物質がフ
ォトレジスト膜の中に含まれている例を示す。フォトレ
ジストの中に、金属、金属酸化物、セラミックス等の微
粒子を分散し、これを塗布、乾燥したフォトレジスト膜
は、通常のフォトレジスト膜と同様に感光性であり、画
像露光後、現像処理によりフォトレジストのレリーフ画
像が形成される。次いでこのレリーフ画像を空気中で高
温(約500℃以上)に曝すと、フォトレジストは気化
してフォトレジスト膜の中に分散していた微粒子あるい
はその酸化物が、画像状に残り第3図の耐久画像板が得
られる。微粒子の種類を適当に選べは、極めて耐久性の
大きな画像が形成される。例えば、微粒子として0.O
1〜0.05μm程度の酸化鉄、酸化クロム、貴金属、
炭化珪素等が用いられる。これらの着色微粒子の他に、
シリカ、アルミナ等の無色微粒子を混入させてもよい。In the above manufacturing example, the image material (thin film 41) is not included in the photoresist film, but next, an example will be shown in which the image forming material is included in the photoresist film. Fine particles of metals, metal oxides, ceramics, etc. are dispersed in photoresist, and the photoresist film that is coated and dried is photosensitive like a normal photoresist film, and after image exposure, it can be developed. A relief image of the photoresist is formed. When this relief image is then exposed to high temperatures (approximately 500°C or higher) in the air, the photoresist evaporates and the fine particles or their oxides dispersed in the photoresist film remain in the form of an image as shown in Figure 3. A durable image board is obtained. If the type of fine particles is selected appropriately, an extremely durable image can be formed. For example, as fine particles, 0. O
Iron oxide, chromium oxide, noble metals of about 1 to 0.05 μm,
Silicon carbide or the like is used. In addition to these colored fine particles,
Colorless fine particles such as silica and alumina may be mixed.
このような製作法では、薄膜41を設ける工程が不要で
あり、また薄膜41のエツチング工程も不要になるので
、製造工程が簡単になる利点がある。This manufacturing method has the advantage of simplifying the manufacturing process, since the process of providing the thin film 41 and the etching process of the thin film 41 are also unnecessary.
第3図の例では、網点ドツト部が凸部又は凹部から成る
が、凹凸部が無く、全く平坦な面から成っていてもよい
。以下にこの例を説明する。In the example shown in FIG. 3, the halftone dot portions are made up of convex portions or concave portions, but they may be made of a completely flat surface without any uneven portions. This example will be explained below.
第8図は、網点画像部の暗部と明部とが全く同じ面上に
ある耐久画像板の具体例の断面図である。FIG. 8 is a cross-sectional view of a specific example of a durable image plate in which the dark and bright areas of the halftone image area are on exactly the same surface.
図中、例えば81は暗部、82は明部である。第8図の
耐久画像板を得る方法を以下に述べる。In the figure, for example, 81 is a dark area and 82 is a bright area. A method for obtaining the durable image plate of FIG. 8 will be described below.
第9図は第8図の耐久性画像板を得るための中間画像板
である。第9図の中間画像板を得るには、第4図の薄膜
41がないものを用意し、これに第5図〜第7図と同じ
方法を適用する。第7図の段階で、薄膜41のかわりに
基板14が露出する。ついで基板14をエツチングし、
残留レジストを除去すると第9図の中間画像板が得られ
る。91は凸部、92は凹部である。凹部92に基板1
4に対して光学的コントラストの大きな物質81が埋め
込まれる。FIG. 9 is an intermediate image plate for obtaining the durable image plate of FIG. To obtain the intermediate image plate shown in FIG. 9, one without the thin film 41 shown in FIG. 4 is prepared and the same method as shown in FIGS. 5 to 7 is applied thereto. At the stage shown in FIG. 7, the substrate 14 is exposed instead of the thin film 41. Then, the substrate 14 is etched,
After removing the residual resist, the intermediate image plate of FIG. 9 is obtained. 91 is a convex portion, and 92 is a concave portion. The substrate 1 is placed in the recess 92.
A substance 81 having a large optical contrast with respect to 4 is embedded.
凹部92を埋める具体的な方法としては、第9図の耐久
画像板の全面に耐久性物質がメツキとかスパッタ法、ゾ
ル−ゲル法等により付着され、次いで全面が研磨され凸
部91が丁度露出するところで、研磨が停止される。凹
部92を埋める他の方法としては、凸部91を適当なレ
ジストで覆っておいて、メツキ、真空蒸着、スパッタ、
ブルーゲル法等により、凹部92に基板14と別の物質
を、凹部の深さに等しい厚さに付着させ、次いでレジス
トを除去する方法等がある。A specific method for filling the recesses 92 is to apply a durable material to the entire surface of the durable image plate shown in FIG. At this point, polishing is stopped. Another method for filling the recesses 92 is to cover the protrusions 91 with a suitable resist and then apply plating, vacuum evaporation, sputtering,
There is a method in which a material other than the substrate 14 is deposited on the recess 92 to a thickness equal to the depth of the recess using a blue gel method or the like, and then the resist is removed.
本例の如く凹凸がない平坦な面を有する耐久画像板は、
表面に一層傷がつきにくい利点がある。A durable image plate with a flat surface without unevenness like this example,
This has the advantage that the surface is less prone to scratches.
凹部92を途中の深さまで埋めて、窪みが残るようにし
てもよい。The recess 92 may be filled to a halfway depth so that a depression remains.
本発明の耐久画像板は、その表面が透明な耐久性物質で
保護されていてもよい。透明の意味は、観察光に対して
透明であることであり、必ずしも無色透明である必要は
ない。The durable image plate of the present invention may have its surface protected with a transparent durable material. Transparent means being transparent to observation light, and does not necessarily have to be colorless and transparent.
第1O図は、第3図の構造の耐久画像板の表面に透明な
耐久性保護層100を設けた耐久画像板の具体例の断面
図である。第8図の構造の耐久画像板にも、同様に保護
層を設けることができる。耐久性透明保護層+00の材
料の具体例としては、シリカ、ベリリア、アルミナ、チ
タニア、ジルコニア等が挙げられる。保護層100は例
えば真空蒸着、スパッタリング、イオンブレーティング
、CVD法、ゾル−ゲル法等により設けることができる
。FIG. 1O is a sectional view of a specific example of a durable image plate having the structure shown in FIG. 3, with a transparent durable protective layer 100 provided on the surface thereof. A durable image plate having the structure shown in FIG. 8 can also be provided with a protective layer. Specific examples of materials for the durable transparent protective layer +00 include silica, beryllia, alumina, titania, zirconia, and the like. The protective layer 100 can be provided by, for example, vacuum evaporation, sputtering, ion blasting, CVD, sol-gel method, or the like.
透明保護層の厚さは数分の1〜数10μmの範囲が適当
であるが、この範囲外でもよい。The thickness of the transparent protective layer is suitably in the range of a fraction of a micrometer to several tens of micrometers, but may be outside this range.
透明な耐久性基板の具体例としては、シリカ、アルミナ
、ベリリア、ジルコニア、チタニア等がある。Specific examples of transparent durable substrates include silica, alumina, beryllia, zirconia, titania, and the like.
網点ドツト部31及び81等の画像形成物質としては、
耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性の大きな金属(含む半
金属)又はセラミックスがあり、非ドツト部に対して大
きな光学的コントラストを有することが必要である。美
しい写真としては、ドツト部と非ドツト部の光学濃度差
が、反射画像の場合は少なくとも0.9、透過画像の場
合は少なくとも 1.4は必要である。The image forming materials for the halftone dot portions 31 and 81 are as follows:
It is necessary to use metals (including metalloids) or ceramics with high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability, and to have a large optical contrast with respect to non-dot areas. For a beautiful photograph, the optical density difference between dot and non-dot areas must be at least 0.9 for a reflection image and at least 1.4 for a transmission image.
耐久性画像物質の厚さは数分の1〜数μmの範囲が適当
であるが、この範囲外でもよい。The thickness of the durable image material is suitably in the range of a fraction of a micrometer to several micrometers, but may be outside this range.
耐久性の画像物質の具体例としてはクロム、ニッケル、
チタン、コバルト、金、白金、ロジウム、イリジウム、
ルテニウム、タンタル、ニオブ、タングステン、モリブ
デン、耐熱合金等の金属:カ−ホン、シリコン等の半金
属; Rub、、Cr、03、SCs Tic % 5
isL 、WCs TaCs TaN 1T+N等のセ
ラミックス:その他(後述の基板14の具体例と同じよ
うに、基板との光学的コントラストが大きいもの)が挙
げられる。Examples of durable imaging materials include chromium, nickel,
titanium, cobalt, gold, platinum, rhodium, iridium,
Metals such as ruthenium, tantalum, niobium, tungsten, molybdenum, heat-resistant alloys; semi-metals such as carbon, silicon; Rub, Cr, 03, SCs Tic % 5
isL, WCs, TaCs, TaN, 1T+N, and other ceramics (those with a large optical contrast with the substrate, similar to the specific example of the substrate 14 described later).
基板14の具体例としては、耐熱性、耐腐食性及び機械
的耐久性の大きな金属、セラミックス(耐熱ガラスを含
む)、金属とセラミックスとのラミネート或いはサンド
イッチ構造等がある。Specific examples of the substrate 14 include metals with high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability, ceramics (including heat-resistant glass), laminates or sandwich structures of metals and ceramics, and the like.
金属の具体例としては、ニッケル、コノくルト、クロム
、チタン、白金等の単体金属、ニオブ基合金、モリブデ
ン基合金、タンタル基合金、タングステン基合金、クロ
ム基合金、ニッケル基合金、コバルト基合金、その他の
超耐熱合金、その他が挙げられる。Specific examples of metals include simple metals such as nickel, conorct, chromium, titanium, and platinum, niobium-based alloys, molybdenum-based alloys, tantalum-based alloys, tungsten-based alloys, chromium-based alloys, nickel-based alloys, and cobalt-based alloys. , other super heat-resistant alloys, and others.
セラミックスの具体例としては、アルミナ、ムライト、
ステアタイト、シリカ、ベリリア、ジルコニア、チタニ
ア、炭化クロム、炭化珪素、窒化アルミニウム、窒化珪
素、窒化チタン:珪酸ガラス(例えばコーニング社製バ
イコールガラス)、硼珪酸ガラス(例えばコーニング社
製パイレックスガラス)、結晶化ガラスその他が挙げら
れる。Specific examples of ceramics include alumina, mullite,
Steatite, silica, beryllia, zirconia, titania, chromium carbide, silicon carbide, aluminum nitride, silicon nitride, titanium nitride: silicate glass (e.g. Vycor glass manufactured by Corning), borosilicate glass (e.g. Pyrex glass manufactured by Corning), crystal Examples include chemical glass and others.
またセラミックスの表面を異種セラミックス又は金属で
被覆した構造のものも使用できる。Furthermore, a structure in which the surface of ceramic is coated with a different type of ceramic or metal can also be used.
これらの内、空気中での最高使用温度が約1000℃以
上、好ましくは約1200℃以上、更に好ましくは約1
500℃以上のものが本発明に適している。Among these, those with a maximum operating temperature in air of about 1000°C or higher, preferably about 1200°C or higher, more preferably about 1
Temperatures of 500°C or higher are suitable for the present invention.
基板14の厚さは、約0.2mm〜約100mmが適当
であるが、この範囲に限定されるものではない。The thickness of the substrate 14 is suitably between about 0.2 mm and about 100 mm, but is not limited to this range.
基板14と画像形成物質の好ましい組合せの例としては
、基板は反射画像用には白色又は金属光沢を有し、透過
画像用には透明であることが望ましく、画像形成物質は
黒色に近いものが望ましい。As an example of a preferred combination of the substrate 14 and the image forming material, the substrate preferably has a white color or metallic luster for reflective images, is transparent for transmitting images, and the image forming material is preferably close to black. desirable.
基板の特に望ましい具体例としては、クロム基、ニッケ
ル基、コバルト基、ニオブ基、モリブデン基、タンタル
基及びタングステン基等の超耐熱合金、アルミナ、ムラ
イト、ステアタイト、ジルコニア、シリカ、チタニア等
のセラミックス、耐熱ガラスが挙げられる。Particularly desirable examples of the substrate include super heat-resistant alloys such as chromium-based, nickel-based, cobalt-based, niobium-based, molybdenum-based, tantalum-based, and tungsten-based, and ceramics such as alumina, mullite, steatite, zirconia, silica, and titania. , heat-resistant glass.
画像形成物質の特に望ましい具体例としては、クロム、
コバルト、チタン、モリブデン、タングステン、シリコ
ン、金、白金、ロジウム、イリジウム、ルテニウム等の
金属、Ru5t、Cr、Os 、5iC1TiC、51
sNr及びWC等のセラミックスが挙げられる。Particularly desirable examples of imaging materials include chromium,
Metals such as cobalt, titanium, molybdenum, tungsten, silicon, gold, platinum, rhodium, iridium, ruthenium, Ru5t, Cr, Os, 5iC1TiC, 51
Examples include ceramics such as sNr and WC.
尚、以上の説明では、網点画像の非ドツト部は基板の表
面であるとしたが、基板と画像形成物質との間に他の物
質の薄層を設けてもよい。その目的は、基板と画像形成
物質との密着力の向上、網点ドツト部と非ドツト部との
光学的コントラストの向上等である。この場合、非ドツ
ト部は該薄層の表面である。In the above description, it has been assumed that the non-dot portion of the halftone image is the surface of the substrate, but a thin layer of another material may be provided between the substrate and the image forming material. The purpose of this is to improve the adhesion between the substrate and the image forming substance, and to improve the optical contrast between the halftone dot areas and the non-dot areas. In this case, the non-dotted portion is the surface of the thin layer.
以上に本発明の第一の態様について述べたが、以下に本
発明の第二の態様について述べる。The first aspect of the present invention has been described above, and the second aspect of the present invention will be described below.
第一の態様では、一つの基板が機械的にも、熱的にも、
更に化学的にも耐久性の大きいものについてであった。In the first embodiment, one substrate mechanically and thermally
Furthermore, it was about something that was chemically durable.
しかし、金属は機械的にも化学的にも大きな耐久性を有
するが、耐熱性はセラミックスよりかなり劣る。またセ
ラミックスは熱的にも化学的にも大きな耐久性を有する
が、機械的耐久性(特に靭性)は金属より劣る。そこで
同一画像を有する金属製の耐久画像板とセラミックス製
の耐久画像板の二種を所有していれば、一方が劣化して
も、他方が無事に残る可能性は非常に高くなるので、二
種を一つの画像とみなした時の耐久性は非常に大きくな
る。これが本発明の第二の態様である。However, although metals have great mechanical and chemical durability, their heat resistance is considerably lower than that of ceramics. Furthermore, although ceramics have great thermal and chemical durability, their mechanical durability (especially toughness) is inferior to metals. Therefore, if you own two types of durable image boards, one made of metal and the other made of ceramic, that have the same image, even if one deteriorates, there is a very high possibility that the other will remain intact, so you can use both. When a seed is considered as a single image, its durability becomes very large. This is the second aspect of the invention.
例えばセラミックス基板として、マグネシア、カルシア
等を用いれば、機械的及び化学的には比較的弱いが、耐
熱性は空気中で2000数百℃にもなる。またジルコニ
アも同様の耐熱性を有し、且つ化学的にも安定である。For example, if magnesia, calcia, or the like is used as a ceramic substrate, it is relatively weak mechanically and chemically, but has a heat resistance of 2,000 and several hundred degrees Celsius in air. Zirconia also has similar heat resistance and is chemically stable.
更に前述の基板14の具体例の中で、1500℃以上の
耐久性を有するセラミックスは多数ある。従ってこれら
のセラミックス基板を用いた耐久画像板と金属基板を用
いた耐久画像板との組を所有していれば、火災とか地震
災害でも無事に残る可能性は、一つの耐久画像板を所有
しているよりもはるかに大きい。Furthermore, among the specific examples of the substrate 14 described above, there are many ceramics that have durability of 1500° C. or higher. Therefore, if you own a pair of durable image boards that use these ceramic substrates and durable image boards that use metal substrates, you have a higher chance of surviving a fire or earthquake disaster than owning one durable image board. It's much bigger than it is.
同一画像に対して二種三枚以上の耐久画像板の組を有し
ていてもよい。例えば異種セラミックス基板の耐久画像
板を二枚、金属基板の耐久画像板を一枚という組合せで
もよい。There may be a set of three or more durable image plates of two types for the same image. For example, a combination of two durable image plates made of different types of ceramic substrates and one durable image plate made of metal substrates may be used.
これまで述べてきた耐久画像板は、比重が水よりはるか
に大きいので、洪水等の水害に遭遇すると水底に沈んだ
り、土中に埋もれたりして行方不明になる恐れがある。The durable image boards mentioned above have a much higher specific gravity than water, so if they encounter water damage such as a flood, they may sink to the bottom of the water or be buried in the soil, and may go missing.
本発明の第三の態様は、比重の小さい耐久性の大きな基
板の上に、耐久性の大きな画像を形成し、全体として比
重が1より小さい耐久画像板である。A third aspect of the present invention is a durable image plate in which a highly durable image is formed on a highly durable substrate with a low specific gravity, and whose specific gravity as a whole is less than 1.
耐久性の大きな画像は前述と同じように設けられる。ま
た耐久性の保護層も前述と同じように設けられる。A highly durable image is provided in the same manner as described above. A durable protective layer is also provided in the same manner as described above.
耐久性が大きく、比重が小さい基板としては、内部に微
小な気泡又は孔を有する耐久性が大きい金属又はセラミ
ックスの基板、耐久性の大きい金属又はセラミックスの
気密中空体等がある。微小な気泡又は孔が透水性の場合
は、基板表面が耐久性の大きい金属又はセラミックスの
薄層でシールされ内部は気密にされる。Examples of substrates with high durability and low specific gravity include highly durable metal or ceramic substrates having minute bubbles or holes inside, and highly durable metal or ceramic airtight hollow bodies. If the microbubbles or pores are water permeable, the surface of the substrate is sealed with a thin layer of highly durable metal or ceramic to make the inside airtight.
第三の態様の耐久画像板は、第−及び第二の態様の耐久
画像板に比して、機械的耐久性は劣るが従来の写真、印
刷版、印刷物等に比して比較にならぬ程耐久性が大きい
。機械的に大きな破壊力を受けなければ、永久に保存可
能である。The durable image plate of the third embodiment has inferior mechanical durability compared to the durable image plates of the second and second embodiments, but is incomparable compared to conventional photographs, printing plates, printed matter, etc. It has great durability. It can be preserved forever unless subjected to large mechanical destructive forces.
本発明の第四の態様は、火災、地震、洪水等のどの災害
に遭遇しても、どれかの耐久画像板が無事に残るように
、同一画像に対して耐熱性の大きな耐久画像板と機械的
耐久性の大きな耐久画像板と水に浮く耐久画像板の三種
の組からなる。四枚以上の耐久画像板の組からなっても
よい。A fourth aspect of the present invention is to combine durable image plates with high heat resistance for the same image so that any durable image plate will survive any disaster such as fire, earthquake, flood, etc. It consists of three types: a durable image board with great mechanical durability and a durable image board that floats on water. It may consist of a set of four or more durable image plates.
種類の違う耐久画像板(例えば耐熱性の大きいセラミッ
クス製の耐久画像板と、機械的に強い金属製の耐久画像
板)は、別々の場所に保管されてもよいし、同一の箱の
中に保管されてもよい。また金属製とセラミックス製の
2枚の耐久画像板を重ねて、四隅をビス止めして保管し
てもよい。画像面を内側にして対面するようにしておけ
ば、画像に傷がつきにくい利点がある。この場合、基板
の両面に画像を形成しておけば、表側にも画像が形成さ
れているので、画像が見えなくなるという問題がない。Different types of durable image boards (for example, durable image boards made of highly heat-resistant ceramics and durable image boards made of mechanically strong metal) may be stored in separate locations or in the same box. May be stored. Alternatively, two durable image plates, one made of metal and one made of ceramics, may be stacked on top of each other and the four corners secured with screws for storage. If the images are facing each other with the image side facing inside, there is an advantage that the images are less likely to be scratched. In this case, if images are formed on both sides of the substrate, there is no problem that the images become invisible because the images are also formed on the front side.
また金属製基板の両面に同一画像を形成し、−方の画像
面を耐久性金属板でカバーしたものと、セラミックス基
板の両面に上記と同一画像を形成し、一方の画像面をセ
ラミックス板でカバーしたものとをセットとしてもよい
。In addition, the same image is formed on both sides of a metal substrate, and the negative image side is covered with a durable metal plate, and the same image as above is formed on both sides of a ceramic substrate, and one image side is covered with a ceramic plate. It may also be used as a set with a covered item.
尚、本発明においてセラミックス基板は、前述の耐熱性
ガラス基板をも含むものである。Incidentally, in the present invention, the ceramic substrate also includes the above-mentioned heat-resistant glass substrate.
本発明の耐久画像板は肉眼で直接具ることができるが、
再生装置により再生するには、レーザビームの如きエネ
ルギビームでドツトごとに走査して反射光または透過光
の大きさを読み取っていく方法と、光学系を用いて一次
元的または二次元的に読み取る方法とがある。エネルギ
ビームを用いる場合は、−旦メモリに記録され、CRT
、 LCDモニタ等にデイスプレィされるか、プリンタ
に接続してハードコピーが作成される。光学的に読み出
す場合は、肉眼でみるか、スクリーンに投影するか、空
間像を覗き込むか、あるいは感光材料に結像させてハー
ドコピーが作成される。Although the durable image plate of the present invention can be directly applied with the naked eye,
To reproduce it with a reproduction device, there are two methods: scanning each dot with an energy beam such as a laser beam and reading the size of the reflected or transmitted light, and another method using an optical system to read it one-dimensionally or two-dimensionally. There is a method. When using an energy beam, the energy beam is stored in the memory and displayed on the CRT.
, displayed on an LCD monitor or the like, or connected to a printer to create a hard copy. When reading out optically, a hard copy is created by viewing with the naked eye, projecting onto a screen, looking into an aerial image, or focusing on a photosensitive material.
光学的にスクリーンにデイスプレィしたり、感光材料に
露光してハードコピーを作成する場合は、耐久画像板は
透過型でかつ網点画像を形成するドツトは不透明である
ことが望ましい。When optically displaying on a screen or exposing a photosensitive material to make a hard copy, it is desirable that the durable image plate be of a transmissive type and that the dots forming the halftone image be opaque.
本発明に於ける網点画像は、単色画像として記録するの
が有利である。その理由は、耐熱性、耐腐食性、機械的
耐久性等の全てが大きい材料だけで三原色を表現できる
ものが存在しないからである。天然色のカラーではない
が、複数の単色画像を組み合わせてマルチカラー画像と
してもよい。The halftone image according to the invention is advantageously recorded as a monochromatic image. The reason for this is that there is no material that can express the three primary colors using only materials that have high heat resistance, corrosion resistance, mechanical durability, etc. Although it is not a natural color, a multicolor image may be created by combining a plurality of monochrome images.
次に、耐久画像板の具体例およびその作成方法について
、実施例により述べる。Next, a specific example of a durable image board and a method for producing the same will be described based on an example.
〈実施例1〉
キャビネサイズの黒白ポートレート写真から、モノクロ
スキャナを用いて、4×5インチサイズ、スクリーン線
数 200線/インチの網点ネガフィルムを作製した。<Example 1> A halftone negative film having a size of 4×5 inches and a screen line count of 200 lines/inch was produced from a cabinet-sized black and white portrait photograph using a monochrome scanner.
得られた網点ネガフィルムをフォトマスクとして、以下
のフォトリソグラフ工程を実施した。Using the obtained halftone dot negative film as a photomask, the following photolithography process was carried out.
耐久画像板用基板として厚さ約2mI+]、サイズ4×
5インチの超耐熱合金(ハステロイC)の片面を鏡面光
沢仕上げをし、その上に20μmの厚さに硬質クロムメ
ツキしたものを用い、その上にフォトレジスト(東京応
化(株)製0FPR−800)の塗膜を乾燥厚的1,5
μmになるように設け、約85℃で30分間プリベーク
した後、上記フォトマスクをフォトレジスト膜の上に画
像面が接触するように密着し、フォトマスクを通して紫
外光を全面に照射した。次いでフォトレジスト用現像液
(東京応化(株)製、商品名NMD−3)によりフォト
レジスト膜の現像を行うと、紫外線が照射された部分の
フォトレジストが除去された。かくして得られたフォト
レジストパターンを約130℃の温風循環加熱機で20
分間ボストベークして、後続のエツチング処理に対する
耐久性を向上した後、エツチング液(和光純薬(株)製
クロムエツチング液H−Y)によりエツチング処理を行
った。フォトレジストが除去された部分のクロム層を約
0.5μmの深さになるまでエツチングした。エツチン
グされた部分は、わずかに光散乱性であり肉眼でも画像
を確認することは可能であったが、美しい写真とはほど
遠いものであった。Approximately 2 mI+ thick as a durable image board substrate, size 4×
One side of a 5-inch super heat-resistant alloy (Hastelloy C) was finished with a mirror gloss finish, and then hard chrome plating was applied to a thickness of 20 μm, and a photoresist (0FPR-800 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) was applied on top of that. Dry the coating to a thickness of 1,5
After prebaking at about 85° C. for 30 minutes, the photomask was placed on the photoresist film so that the image surface was in contact with the photoresist film, and the entire surface was irradiated with ultraviolet light through the photomask. Next, the photoresist film was developed using a photoresist developer (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd., trade name: NMD-3), and the photoresist in the portions irradiated with ultraviolet rays was removed. The photoresist pattern thus obtained was heated in a hot air circulation heating machine at approximately 130°C for 20 minutes.
After boost baking for a minute to improve durability against subsequent etching, etching was performed using an etching solution (chromium etching solution H-Y manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.). The chromium layer in the area where the photoresist was removed was etched to a depth of about 0.5 μm. The etched areas were slightly light-scattering and the image could be seen with the naked eye, but it was far from a beautiful photograph.
ついでスパッタリングにより、全面に炭化珪素を約0.
5μmの厚さに設けた。ついでフォトレジスト除去液(
東京応化(株)製、剥離液−105)でフォトレジスト
を除去した後、イソプロピルアルコールで洗浄し、水洗
、乾燥したところ、クロムの金属光沢のある背景に真黒
の美しい画像が得られた。Next, by sputtering, approximately 0.0 mm of silicon carbide is applied to the entire surface.
The thickness was 5 μm. Then photoresist removal solution (
After removing the photoresist with Stripper Liquid-105 (manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.), washing with isopropyl alcohol, rinsing with water, and drying, a beautiful jet black image was obtained on a background with a metallic luster of chrome.
かくして得られた耐久画像板は大気中1200℃に数時
間曝されると、背景が薄い茶色に着色したが充分に美し
かった。When the thus obtained durable image plate was exposed to 1200° C. in the atmosphere for several hours, the background was colored pale brown, but it was sufficiently beautiful.
上記の耐久画像板を大気中で加熱する前に、その表面に
シリカの透明保護層を約5μmの厚さに設けたち−のは
、上記条件で長時間加熱しても殆ど着色しなかった。When the above-mentioned durable picture plate was coated with a transparent protective layer of silica to a thickness of about 5 μm on its surface before being heated in the air, almost no coloring occurred even when heated under the above-mentioned conditions for a long time.
同一画像を有する上記の耐久画像板を2枚作製し、一方
の画像面と他方の裏面とが対面するように重ね、四隅を
ビス止めした。このような構造にしておくと、なにかの
原因で表面に露出している画像に傷がついても、内側に
無傷の画像が保存されているという利点がある。Two of the above-mentioned durable image plates having the same image were produced, stacked one on top of the other so that the image surface of one faced the back of the other, and the four corners were secured with screws. This structure has the advantage that even if the image exposed on the surface is damaged for some reason, an intact image is preserved on the inside.
基板の両面に同一画像を形成し、一方の面を耐久性板で
カバーしても、同様の効果が得られた。A similar effect was obtained by forming the same image on both sides of the substrate and covering one side with a durable plate.
上記の如き保護技術は他の例にも適用できる。The protection techniques described above can also be applied to other examples.
〈実施例2〉
耐久画像板用基板として厚さ約3ωm、サイズ4×5イ
ンチの鏡面光沢を有する透明シリカ(人工水晶)を用い
、その上にスパッタリングによりクロムを約0.3μm
の厚さに設けた。この鏡面光沢を有するクロム表面に、
実施例1と同じにフォトレジストの塗膜を設け、プリベ
ーク、フォトマスク(実施例1と同じ画像のポジ分解フ
ィルム)を通して密着画像露光、フォトレジストの現像
、ボストベーク、クロムのエツチング(実施例1のエツ
チング液使用)、フォトレジストの除去等の一連の処理
を実施して、耐久画像板が得られた。ついで画像面側に
全面に、透明シリカの保護層をスパッタリングにより、
約lOμmの厚さに設けた。<Example 2> Transparent silica (artificial quartz crystal) having a specular luster and having a thickness of approximately 3 Ωm and a size of 4 × 5 inches was used as a substrate for a durable image plate, and chromium was applied on it by sputtering to a thickness of approximately 0.3 μm.
The thickness was set at . On this mirror-like chrome surface,
A photoresist coating film was prepared in the same manner as in Example 1, followed by pre-bake, contact image exposure through a photomask (positive separation film with the same image as in Example 1), photoresist development, post-bake, and chrome etching (as in Example 1). A durable image plate was obtained by performing a series of treatments such as using an etching solution) and removing the photoresist. Next, a protective layer of transparent silica is applied by sputtering on the entire surface of the image side.
The thickness was approximately 10 μm.
かくして得られた耐久画像板も極めて耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性が大きく、大気中1200℃に長時間曝
されても画像は無事に保存されていた。The thus obtained durable image plate also had extremely high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability, and the image was safely preserved even when exposed to 1200° C. in the atmosphere for a long time.
〈実施例3〉
基板として厚さ約5 mm、サイズ8×10インチの光
散乱性表面を有する高純度白色アルミナ基板を用いた。Example 3 A high purity white alumina substrate having a light scattering surface and having a thickness of about 5 mm and a size of 8×10 inches was used as the substrate.
この基板の上にスパッタリングにより銅を約1μmの厚
さに設けた。次いでその上に実施例1と同じに、フォト
レジストの塗膜を設け、プリベーク、フォトマスク(実
施例1と同じ原画から200線/インチの線数で、サイ
ズが8X10インチの網点ネガフィルム)を通して密着
露光、フォトレジストの現像、ポストベークを行った。Copper was deposited on this substrate by sputtering to a thickness of about 1 μm. Next, a photoresist coating film was applied thereon in the same manner as in Example 1, prebaked, and a photomask (a halftone negative film of size 8 x 10 inches with a line count of 200 lines/inch from the same original as in Example 1). Contact exposure, photoresist development, and post-bake were performed through the wafer.
次に塩化第二鉄と塩酸との混合水溶液により銅をエツチ
ングした。次いで残っているフォトレジストを剥離液(
東京応化(株)製剥離液=104)で除去して、銅のパ
ターンを形成した。つぎに該パターン面に全面に炭化珪
素を約06μmの厚さに、スパッタリングにより形成し
た。Next, the copper was etched with a mixed aqueous solution of ferric chloride and hydrochloric acid. Then remove the remaining photoresist with a stripping solution (
It was removed with a stripping solution (104 manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd.) to form a copper pattern. Next, silicon carbide was formed on the entire surface of the pattern to a thickness of about 06 μm by sputtering.
つぎに該基板を塩化第二鉄と水酸化ナトリウムの混合水
溶液に浸漬し、超音波エネルギを加えたところ、銅は溶
解しその上の部分の炭化珪素が脱落し、炭化珪素のパタ
ーンが得られた。Next, the substrate was immersed in a mixed aqueous solution of ferric chloride and sodium hydroxide, and ultrasonic energy was applied. The copper was dissolved and the silicon carbide above fell off, resulting in a silicon carbide pattern. Ta.
かくして得られた耐久画像板は、1600℃の雰囲気に
も耐える極めて耐久性の大きな反射型耐久画像板であっ
た。The thus obtained durable image plate was a reflective type durable image plate that was extremely durable and could withstand an atmosphere of 1600°C.
保護層として透明アルミナをスパッタリングにより約1
μmの厚さに設けたものは、−層機械的耐久性が向上し
た。Approximately 1 layer of transparent alumina is sputtered as a protective layer.
The mechanical durability of the -layer was improved when the layer was formed with a thickness of .mu.m.
〈実施例4〉 本例はカラーの耐久側a板を得る例である。<Example 4> This example is an example of obtaining a collar durable side a plate.
サイズが4×5インチのカラースライドを原稿とし、カ
ラースキャナを用いてマゼンタ、シアン、イエロー、墨
の網点分解ポジフィルム(スクリーン線数200線/イ
ンチ、画面サイズは約100X 75mm)に分解した
。この分解ポジフィルムを原稿として、イーストマンコ
ダック社製の高解像力乾板コダックHRPプレートに密
着露光し、分解ネガプレートを得た。ついでこの分解ネ
ガプレートを原稿として、縮小露光装置により4インチ
サイズのHRPプレートに、5分の1(面積で25分の
■)に縮小露光し、現像定着して分解ポジプレートを得
た。この分解ポジプレートを用いて、下記の如くフォト
リソグラフ工程を実施した。A color slide with a size of 4 x 5 inches was used as an original, and it was separated into magenta, cyan, yellow, and black dot separation positive film (screen line count: 200 lines/inch, screen size: approximately 100 x 75 mm) using a color scanner. . Using this resolved positive film as a manuscript, it was closely exposed to a high-resolution dry plate, Kodak HRP plate manufactured by Eastman Kodak Company, to obtain a resolved negative plate. Next, using this resolved negative plate as an original, it was exposed on a 4-inch HRP plate by a reduction exposure device to one-fifth (25th in area), and developed and fixed to obtain a resolved positive plate. Using this decomposed positive plate, a photolithography process was performed as described below.
基板として厚さ約2 mm、サイズ約70X 60mm
の鏡面光沢を有する透明アルミナを用いた。この基板の
上にスパッタリングにより酸化クロムを約0.3μmの
厚さに設けた。次いで酸化クロム膜の上に実施例1と同
じに、フォトレジストの塗膜を設置九プリベークを実施
した。ついで上記分解ポジプレートの一枚を原稿として
、上記フォトレジスト膜に紫外線を用いて密着露光した
。同様にして他の3枚の分解ポジプレートを、四つの画
像がフォトレジスト膜上で、10mmの間隔で2行2列
に並ぶように順次露光した。ついで、フォトレジストの
現像、ボストベークを行った。次に実施例1のクロムの
エツチング液により、酸化クロムをエツチングした。次
いで残っているフォトレジストを除去して、透過型の耐
久画像板が得られたが、更に耐熱性と機械的耐久性を向
上するため、この耐久画像板の画像面側に、スパッタリ
ングにより透明アルミナの保護層を約1μmの厚さに設
けた。このようにして得られた耐久画像板は、大気中1
800℃の雰囲気にも耐える極めて耐久性の大きなもの
であった。The thickness of the board is approximately 2 mm, and the size is approximately 70 x 60 mm.
Transparent alumina with a mirror-like luster was used. Chromium oxide was provided on this substrate by sputtering to a thickness of about 0.3 μm. Next, a photoresist coating was placed on the chromium oxide film and prebaked in the same manner as in Example 1. Next, using one sheet of the decomposed positive plate as a document, the photoresist film was closely exposed to ultraviolet light. Similarly, three other separated positive plates were sequentially exposed so that four images were arranged in two rows and two columns with an interval of 10 mm on the photoresist film. Next, the photoresist was developed and a post bake was performed. Next, the chromium oxide was etched using the chromium etching solution of Example 1. Next, the remaining photoresist was removed to obtain a transmission-type durable image plate, but in order to further improve heat resistance and mechanical durability, transparent alumina was sputtered on the image side of this durable image plate. A protective layer of about 1 μm thick was provided. The durable image plate obtained in this way is
It was extremely durable and could withstand an atmosphere of 800°C.
基板として単結晶アルミナを用いた場合は、空気中で1
900℃の温度にも耐えた。When single crystal alumina is used as the substrate, 1
It withstood temperatures of 900°C.
本実施例はカラー画像を耐久画像板化したものである。In this embodiment, a color image is made into a durable image plate.
かかる耐久画像板をカラー画像に再生するには、三つの
画像をそれぞれ対応する原色光(赤、緑、青)で照明し
、それぞれの画像を同一スクリーン上に重ねて投影する
か、それぞれの画像を同−光学軸に集めたものを覗き込
むようにしてもよい。また三つの画像をスキャナで読み
取り、その画像信号を銀塩カラープリンタ、サーマルプ
リンタ、インクジェットプリンタ等に入力してハードコ
ピーを作成してもよい。また網点分解フィルムを再現し
、これからカラープルーフ作製法によりハードコピーを
作製してもよい。To reproduce such a durable image plate into a color image, one can either illuminate the three images with their corresponding primary color lights (red, green, and blue) and project each image one on top of the other on the same screen, or It is also possible to look into something that is gathered on the same optical axis. Alternatively, a hard copy may be created by reading the three images with a scanner and inputting the image signals to a silver salt color printer, a thermal printer, an inkjet printer, or the like. Alternatively, a halftone separation film may be reproduced and a hard copy may be produced from it using a color proof production method.
〈実施例5〉
基板として厚さ3 mm、サイズが4×5インチの両面
が鏡面光沢を有する透明アルミナを用い、その上にクロ
ムを約0.2μmの厚さに設けたものを用いた。フォト
マスクとしては4×5インチのHRPプレートに、29
X 2Dmmの黒白網点画像を9駒形成したものを用い
た。フォトマスクの作製は実施例2と同様にして、まず
画面サイズ116x 80rnmの網点ポジフィルム(
200線/インチ)を作り、ついで4×5インチサイズ
のHRPプレートに密着プリントし、さらに同サイズの
HRPプレートに4分の1に縮小撮影した。この工程を
9種の画像について実施し、1枚のHRPプレートに9
駒の網点画像を3行3列に、隣接画像との間隔が5mm
になるように設けた。このフォトマスクを用いて実施例
2と同じフォトリソグラフ工程を実施した。<Example 5> A transparent alumina substrate having a thickness of 3 mm and a size of 4×5 inches with specular gloss on both sides was used, and chromium was provided thereon to a thickness of about 0.2 μm. As a photomask, 29
Nine frames of black and white halftone dot images of x2Dmm were used. The photomask was prepared in the same manner as in Example 2, and first a halftone positive film with a screen size of 116 x 80 nm (
200 lines/inch), then closely printed on a 4 x 5 inch HRP plate, and further reduced to 1/4 on an HRP plate of the same size. This process was performed for 9 types of images, and 9 images were applied to one HRP plate.
The halftone images of the pieces are arranged in 3 rows and 3 columns, with an interval of 5 mm between adjacent images.
It was set up so that The same photolithography process as in Example 2 was performed using this photomask.
すなわち、クロム膜の上に設けられたフォトレジスト膜
への画像露光、フォトレジストの現像、クロムのエツチ
ング、フォトレジストの除去を実施し、9駒のモノクロ
画像からなる耐久画像板を形成した。保護層として透明
シリカを約2μmの厚さにスパッタリングにより設けた
。That is, image exposure of the photoresist film provided on the chrome film, development of the photoresist, etching of the chrome, and removal of the photoresist were carried out to form a durable image plate consisting of 9 frames of monochrome images. Transparent silica was provided as a protective layer to a thickness of about 2 μm by sputtering.
画像としては、−人の人間の幼年期、少年期、青年期、
壮年期、老年期の代表的な写真を採用した。青年期の写
真は、成人の時の記念写真、結婚の記念写真及び出産の
時の記念写真の三枚、壮年期の写真は、子供の入学の時
の記念写真、子供の結婚の時の記念写真及び自分の引退
の時の写真の三枚であり、残りは各−枚ずつである。Images include - human childhood, boyhood, adolescence,
We used representative photographs of people in their prime and old age. There are three photos taken during adolescence: a commemorative photo when you become an adult, a commemorative photo when you get married, and a commemorative photo when you give birth. Photos taken when you are in your prime include a commemorative photo when your child entered school and a commemorative photo when your child got married. There are three photos, one from when I retired, and one from each of the others.
使用した写真がカラーの場合は、上記のような耐久画像
板を色分解の数(3〜4)だけ用意してもよいし、−枚
の中に色分解したモノクロ画像を記録した耐久画像板を
作製してもよい。If the photos used are in color, you may prepare as many durable image plates as the number of color separations (3 to 4) as shown above, or - durable image plates with color-separated monochrome images recorded on each sheet. may be made.
〈実施例6〉
アルミナの粉末でハート型のペレット(画像面は平面、
裏面は曲面)を成型し、画像形成面は鏡面研磨した。次
に実施例2と同様にして、透明シリカの保護層付クロム
の網点顔写真(175線/インチ)を形成した。名前も
同時に食刻した。画面サイズが+2X8mm程度になる
ように、縮小されたフォトマスクを使用した。このよう
なペレットを二つ、二枚重のように合わせ、合わせ目を
白金でシールし、さらに鎖かけ用のリングを設けてロケ
ット(ペンダント)を作製した。このようなものを所持
していれば、焼死したり、遭難して白骨体で発見されて
も、身元が容易に判明できる。<Example 6> Heart-shaped pellets made of alumina powder (image surface is flat,
The back surface was molded with a curved surface, and the image forming surface was mirror polished. Next, in the same manner as in Example 2, a halftone dot face photograph (175 lines/inch) of chromium with a protective layer of transparent silica was formed. The name was also etched at the same time. A reduced photomask was used so that the screen size was approximately +2 x 8 mm. A locket (pendant) was created by combining two such pellets together, sealing the seam with platinum, and adding a ring for a chain. If you have something like this in your possession, you can easily identify your identity even if you are burnt to death or your skeletal remains are found in a shipwreck.
〈実施例7〉
実施例1、実施例2及び実施例3の耐久画像板を各−枚
、合計三枚を一組とした。但し、各耐久画像板は同一サ
イズ(4×5インチ)で同一画像を有していて、耐久画
像板の厚さはそれぞれ2mm、3mm及び3mmであっ
た。<Example 7> A set of three durable image plates each of Examples 1, 2, and 3 was prepared. However, each durable image board was the same size (4 x 5 inches) and had the same image, and the thickness of the durable image boards were 2 mm, 3 mm, and 3 mm, respectively.
各耐久画像板の画像面は2mm厚の透明石英板でカバー
された(四隅をビス止め)。かかる三点セットの耐久画
像板は耐久性が一層向上する。The image surface of each durable image plate was covered with a 2 mm thick transparent quartz plate (screwed at the four corners). The durability of such a three-piece set of durable image plates is further improved.
〈実施例8〉
同一画像を有する実施例1の金属製耐久画像板を2枚製
作した。一方の耐久画像板の四隅にはバカ穴を形成し、
他方の耐久画像板の四隅にはネジ穴を形成した。ついで
一方の画像面が他方の裏面と対面するように重ね、四隅
をビス止めした。<Example 8> Two durable metal image plates of Example 1 having the same image were manufactured. On the other hand, holes are formed in the four corners of the durable image board.
Screw holes were formed in the four corners of the other durable image board. Next, they were stacked so that the image side of one faced the back side of the other, and the four corners were secured with screws.
この二枚重ねの耐久画像板は、表に露出している画像に
何らかの原因で傷がついても、内側の画像は無傷で残っ
ているので安全である。This two-ply durable image board is safe because even if the image exposed on the front is damaged for some reason, the image on the inside remains intact.
同一画像を有する実施例7のアルミナ基板製耐久画像板
を2枚製作した。上記と同様にしてこの2枚の耐久画像
板を重ねて四隅をビス止めした。Two durable image plates made of alumina substrate of Example 7 having the same image were manufactured. In the same manner as above, these two durable image plates were stacked and the four corners were secured with screws.
この2枚重ねの耐久画像板も、一方の画像に何らかの原
因で傷がついても、他方の画像が無事に残っている。Even if one image is damaged for some reason in this two-ply durable image board, the other image will remain intact.
〈実施例9〉
基板として厚さ約25mm、サイズ4×5インチの独立
気泡型発泡セラミックス(セントラル硝子(株)製、商
品名セラフオーム)を用い、この上に実施例3のセラミ
ックス製耐久画像板(但し、サイズは4×5インチ、基
板の厚さを約1 mmに薄くしたもの)を、セメントを
用いて接合した。<Example 9> A closed-cell foamed ceramic (manufactured by Central Glass Co., Ltd., trade name: CERAPHOME) with a thickness of about 25 mm and a size of 4 x 5 inches was used as a substrate, and the ceramic durable image plate of Example 3 was placed on top of this. (However, the size was 4 x 5 inches, and the thickness of the substrate was reduced to about 1 mm) were bonded using cement.
かくして得られた耐久画像板は耐熱性、機械的耐久性は
実施例1〜5のものより劣るが、水に浮くので洪水にあ
っても水没しない特徴がある。Although the durable image plates thus obtained are inferior in heat resistance and mechanical durability to those of Examples 1 to 5, they float on water and therefore do not submerge even in floods.
〈実施例10>
実施例8の二種の耐久画像板の他に、実施例9の耐久画
像板を加えて、三つの耐久画像板のセットを作製した。<Example 10> In addition to the two types of durable image plates of Example 8, the durable image plate of Example 9 was added to produce a set of three durable image plates.
かくして得られた三点セットは、どのような災害に遭遇
しても、どれかが残る確率が非常に大きい。With the three-piece set obtained in this way, there is a very high probability that one of them will remain no matter what kind of disaster you encounter.
〈実施例11>
実施例1Oの三つの耐久画像板の他に、以下に述べる比
重が1より小さい耐久画像板を加えて、四つの耐久画像
板の組を作製した。<Example 11> In addition to the three durable image plates of Example 1O, the following durable image plates having a specific gravity of less than 1 were added to prepare four sets of durable image plates.
厚さ約1 mm、サイズ4×5インチの鏡面研磨された
チタン板を基板とし、これを上面として他の面は厚さ
0.5mmのチタン板を溶接した中空箱(上面が4×5
インチ、高さが+omm)を形成した。箱内には厚さ
0.5mmのチタン板を両対角線に沿って溶接して補強
した。隙間がないように周囲を溶接して中を気密にした
。従って箱の中には水が入らないようになっている。The substrate is a mirror-polished titanium plate with a thickness of approximately 1 mm and a size of 4 x 5 inches, with this as the top surface and the other surfaces as
A hollow box with a 0.5 mm titanium plate welded to it (the top surface is 4 x 5
inch, height +omm). The thickness inside the box
0.5 mm titanium plates were welded along both diagonals for reinforcement. The inside was made airtight by welding around it so there were no gaps. Therefore, water does not get into the box.
この中空箱の上面には、実施例Iのセラミックス基板を
用いた耐久画像板の作製と同様にして、リフトオフ法に
よりチタン面の上に炭化珪素の耐久性画像が形成された
。On the upper surface of this hollow box, a durable image of silicon carbide was formed on the titanium surface by the lift-off method in the same manner as in the production of the durable image plate using the ceramic substrate of Example I.
かくして得られた耐久画像板は耐熱性も機械的耐久性も
比較的大きく、水に浮くものであった。The durable image plate thus obtained had relatively high heat resistance and mechanical durability, and floated on water.
〈実施例+2>
セラミックス基板製耐久画像板の二酸化珪素基板に替え
て、マグネシア基板を用いた以外は実施例7と同じであ
った。この組合せだと、大気中で2200℃の高温でも
無事に残るものが存在した。<Example +2> This was the same as Example 7 except that a magnesia substrate was used instead of the silicon dioxide substrate of the durable image plate made of a ceramic substrate. With this combination, there was something that could survive in the atmosphere at temperatures as high as 2,200 degrees Celsius.
〈実施例13>
基板として厚さ約2 mm1サイズ4×5インチの光散
乱性表面を有する高純度白色アルミナ基板を用いた。こ
の基板の上に下記フォトレジストの塗膜を乾燥膜厚的1
umに設け、フォトマスク(実施例1と同じ網点ネガフ
ィルム)を通して密着露光後、下記現像液で約1分間現
像し、下記リンス液でリンスして乾燥した。次いで空気
中で約600℃で30分ベータした後、約1000℃で
20分間ベータした。<Example 13> A high-purity white alumina substrate having a light scattering surface and having a thickness of about 2 mm and a size of 4×5 inches was used as the substrate. On this substrate, apply a coating film of the following photoresist to a dry film thickness of 1
After contact exposure through a photomask (the same dot negative film as in Example 1), the film was developed with the following developer for about 1 minute, rinsed with the following rinsing solution, and dried. Then, the mixture was betatized in air at about 600° C. for 30 minutes, and then at about 1000° C. for 20 minutes.
得られた耐久画像板は1500℃に耐えた。The resulting durable image plate withstood 1500°C.
フォトレジスト二東京応化(株)製、商品名OMR−8
3にSiC粉末(平均粒径的
0.03μm)を、乾燥膜のフォ
トレジストとSiC粉体の重量
比が約1対85になるように超
音波分散した
現像液:東京応化(株)製、商品名OUR現像液リンす
液二東京応化(株)製、商品名0!、lRIJンス液
〈発明の効果〉
本発明による耐久画像板(Duragraph)lよ極
めて耐久性が大きく、熱、光、薬品、湿気、機械的衝撃
等に対して従来とは比較にならぬ程安定なものであり、
真の耐久画像板といえるものである。Photoresist Ni Tokyo Ohka Co., Ltd., product name OMR-8
3, a developer in which SiC powder (average particle size: 0.03 μm) was dispersed ultrasonically so that the weight ratio of the dry film photoresist to the SiC powder was about 1:85: manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd. Product Name: OUR Developer Rinser 2 Manufactured by Tokyo Ohka Co., Ltd., Product Name: 0! , lRIJ liquid <Effects of the invention> The durable image plate (Duragraph) according to the present invention has extremely high durability and is incomparably more stable against heat, light, chemicals, moisture, mechanical shock, etc. It is a thing,
It can be said to be a truly durable image board.
自分がこの世に存在した証拠として、永久1こ後世に残
せるのである。You can leave it behind forever as proof that you existed in this world.
通常の環境下であれば、数千年、数万年の後世に残りつ
るものである。天変地異に際しても、無事に残る可能性
が極めて大である。Under normal circumstances, it will survive for thousands or tens of thousands of years. Even in the event of a natural disaster, there is an extremely high chance that it will survive.
身分証明カード、ペンダント等として常時携帯していれ
ば、災難にあった時の身元判明iこ最適である。If you carry it with you at all times as an identification card, pendant, etc., it will be the best way to identify yourself in the event of a disaster.
また特殊な再生装置または読み出し装置がなくても、画
像を肉眼または簡単な光学装置により再生または読み出
しできる。しかも肉眼で見ても美しいモノクロ画像とし
て鑑賞できる。Furthermore, the image can be reproduced or read out with the naked eye or with a simple optical device, without the need for special reproduction or reading equipment. Moreover, it can be viewed as a beautiful monochrome image even with the naked eye.
更にカラー画像を複数色に色分解して一枚の耐久性基板
の上に形成して耐久画像板として保存しておけば、保存
にも便利であり、一部が紛失する恐れもなく、いつでも
カラー画像を再現でき、またカラープリントも再現でき
るので、その効果は極めて大きい。Furthermore, if a color image is separated into multiple colors, formed on a single durable substrate, and stored as a durable image board, it is convenient for storage and there is no risk of parts being lost. The effect is extremely large because it can reproduce color images and color prints.
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明による耐久画像板の具体例の上面図、第
2図は上記具体例のA−A線断面図、第3図は網点画像
部litの拡大断面図、第4図から第7図までは本発明
耐久画像板の製法の具体例を示すもので、第4図は表面
にフォトレジスト膜が設けられた基板の断面図、第5図
はフォトマスク感光材料にエネルギビームが照射されて
いる様子を示す側面図、第6図はフォトレジスト膜にフ
ォトマスクが密着露光されている様子を示す側面図、第
7図はフォトレジストの現像後の基板の断面図である。
第8図は耐久画像板の他の具体例の断面図、第9図は第
8図の耐久性画像板を得るための中間体の断面図、第1
0図は保護膜を有する本発明耐久画像板の具体例の断面
図である。図中、lO・・・・・・耐久画像板 14
・−・・・・基板11、12.13・・・・・・網点画
像11−1.112.11−3・・・・・・11の色分
解網点画像12−1112−2.12−3・・・・・・
12の色分解網点画像13−1.13−2.13−3・
・・・・・13の色分解網点画像30−・・−・−画像
領域 33・・・・・・非画像領域31、32.8
1.82・・・・・・網点の拡大断面40・・・・・・
フォトレジスト膜
41・・・・・・薄膜(画像物質)
50・・・・・・フォトマスク感光材料60・−・・−
・フォトマスク 61・・・・・・紫外線62・・
・・・・マスク画像層 71・・・・・・残留レジ
スト92・・・・・・基板に設けられた凹部100・−
・・・・保護膜
第8図
手□ M′、:iE″F、(、!If♀2月28□差出
平成 3年 月 日[Brief Description of the Drawings] Fig. 1 is a top view of a specific example of the durable image plate according to the present invention, Fig. 2 is a sectional view taken along line A-A of the above-mentioned specific example, and Fig. 3 is an enlarged view of the halftone image area lit. 4 to 7 show specific examples of the manufacturing method of the durable image plate of the present invention. FIG. 4 is a sectional view of a substrate provided with a photoresist film on the surface, and FIG. A side view showing how the mask photosensitive material is irradiated with the energy beam, Figure 6 is a side view showing how the photomask is exposed in close contact with the photoresist film, and Figure 7 is the substrate after the photoresist has been developed. FIG. FIG. 8 is a sectional view of another specific example of the durable image plate, FIG. 9 is a sectional view of an intermediate for obtaining the durable image plate of FIG.
FIG. 0 is a sectional view of a specific example of the durable image plate of the present invention having a protective film. In the figure, lO... Durable image board 14
... Color separation halftone image 12-1112-2.12 of substrate 11, 12.13... Halftone image 11-1.112.11-3...11 -3・・・・・・
12 color separation halftone images 13-1.13-2.13-3・
...13 color separation halftone image 30--Image area 33...Non-image area 31, 32.8
1.82... Enlarged cross section of halftone dot 40...
Photoresist film 41...Thin film (image material) 50...Photomask photosensitive material 60...-
・Photomask 61...Ultraviolet light 62...
...Mask image layer 71...Residual resist 92...Recessed portion 100 provided in the substrate -
...Protective film Figure 8 Hand □ M',:iE''F, (,!If♀February 28□Sent date: Month, Day, 1991
Claims (8)
ら成る基板の上に、耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性が
大きく前記基板とは異なる画像形成物質で、フォトリソ
グラフ法を用いて、階調のある可視画像が網点画像化し
て記録されたものであって、網点ドット部と非ドット部
(基板表面)との光学的コントラストが通常の印刷物程
度に大きいことを特徴とする耐久画像板。(1) Photolithographic method using an image-forming substance that has high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability and is different from the substrate on a substrate made of a material that has high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability. It is confirmed that a visible image with gradation is recorded as a halftone image using a gradation system, and that the optical contrast between the halftone dot area and the non-dot area (substrate surface) is as large as that of a normal printed matter. Features a durable image board.
中から選ばれたものであり、画像形成物質が下記グルー
プBの中から選ばれたものであることを特徴とする耐久
画像板。 グループA:クロム基、ニッケル基、コバルト基、ニオ
ブ基、モリブデン基、タンタル基及びタングステン基の
超耐熱合金;アルミナ、ムライト、ステアタイト、ジル
コニア、シリカ、チタニア;珪酸ガラス、硼珪酸ガラス
及び結晶化ガラスグループB:クロム、コバルト、チタ
ン、モリブデン、タングステン、シリコン、金、白金、
ロジウム、イリジウム、ルテニウム;RuO_2、Cr
_2O_3、Si_3N_4、SiC、TiC、WC(2) A durable image plate according to claim (1), characterized in that the substrate is selected from Group A below, and the image forming material is selected from Group B below. Group A: Chromium-based, nickel-based, cobalt-based, niobium-based, molybdenum-based, tantalum-based and tungsten-based superalloys; alumina, mullite, steatite, zirconia, silica, titania; silicate glass, borosilicate glass and crystallization Glass group B: chromium, cobalt, titanium, molybdenum, tungsten, silicon, gold, platinum,
Rhodium, iridium, ruthenium; RuO_2, Cr
_2O_3, Si_3N_4, SiC, TiC, WC
い耐久性セラミックス基板の上に、階調のある同一可視
画像が、耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性が大きく前記
基板とは異なる画像形成物質で、フォトリソグラフ法に
より網点画像として記録されたものであって、網点ドッ
ト部と非ドット部(基板表面)との光学的コントラスト
が通常の印刷物程度に大きいことを特徴とする耐久画像
板。(3) The same visible image with gradation is produced on a metal substrate with high mechanical durability and a durable ceramic substrate with high heat resistance, which is different from the substrates with high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability. A different image-forming substance recorded as a halftone image by photolithography, and characterized by the optical contrast between halftone dots and non-dots (substrate surface) being as large as that of ordinary printed matter. Durable image board.
はセラミックスの基板又は/及び耐久性の大きい金属又
はセラミックスの中空体基板の上に、階調のある可視画
像が、耐熱性、耐腐食性、機械的耐久性が大きく、前記
基板とは異なる画像形成物質で、フォトリソグラフ法に
より網点画像として記録されたものであって、網点ドッ
ト部と非ドット部(基板表面)との光学的コントラスト
が通常の印刷物程度に大きく、且つ全体の比重が1未満
であることを特徴とする耐久画像板。(4) A visible image with gradation is formed on a durable metal or ceramic substrate with minute bubbles or pores inside and/or a highly durable hollow metal or ceramic substrate. It is an image-forming substance that is highly corrosive and mechanically durable and is different from the substrate, and is recorded as a halftone image by photolithography, and the difference between halftone dots and non-dots (substrate surface) is A durable image plate characterized by having optical contrast as high as that of ordinary printed matter and having an overall specific gravity of less than 1.
二種の耐久画像板、及び請求項(4)の少なくとも一種
の耐久画像板からなる少なくとも三種からなる同一可視
画像を有する耐久画像板。(5) A durable image plate having the same visible image and comprising at least three types of durable image plates comprising at least two types of durable image plates according to claim (3) having the same visible image and at least one type of durable image plate according to claim (4).
)において、階調のある可視画像はカラー画像であり、
網点画像は複数色に色分解された複数個の色分解網点画
像から成ることを特徴とする耐久画像板。(6) Claims (1), (2), (3), (4) and (5)
), the visible image with gradation is a color image,
A durable image board characterized in that the halftone dot image consists of a plurality of color-separated halftone dot images separated into a plurality of colors.
及び(6)において、網点画像の上に耐熱性、耐腐食性
、機械的耐久性が大きく、且つ透明な保護層が設けられ
たことを特徴とする耐久画像板。(7) Claims (1), (2), (3), (4), (5)
and (6), a durable image plate characterized in that a transparent protective layer having high heat resistance, corrosion resistance, and mechanical durability is provided on the halftone image.
、(6)及び(7)において、網点ドット部と非ドット
部との白色光に対する光学濃度差が、反射画像の場合0
.9以上、透過画像の場合1.4以上であることを特徴
とする耐久画像板。(8) Claims (1), (2), (3), (4), (5)
, (6) and (7), the optical density difference for white light between the halftone dot area and the non-dot area is 0 in the case of a reflective image.
.. A durable image board characterized by having a rating of 9 or more, and 1.4 or more in the case of a transparent image.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27135890A JPH04147149A (en) | 1990-10-10 | 1990-10-10 | Durable image plate |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP27135890A JPH04147149A (en) | 1990-10-10 | 1990-10-10 | Durable image plate |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04147149A true JPH04147149A (en) | 1992-05-20 |
Family
ID=17498960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP27135890A Pending JPH04147149A (en) | 1990-10-10 | 1990-10-10 | Durable image plate |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04147149A (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08308699A (en) * | 1995-05-15 | 1996-11-26 | Yoichi Namariyama | Manufacture of high weatherproof and high quality half tone mirror photograph |
JP2009279650A (en) * | 2008-03-28 | 2009-12-03 | Commissariat A L'energie Atomique | Method of storing image and corresponding storage medium |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS4892023A (en) * | 1972-03-08 | 1973-11-29 | ||
JPS5965840A (en) * | 1982-10-07 | 1984-04-14 | Sanyo Kokusaku Pulp Co Ltd | Formation of colored image and photosensitive material for forming colored image |
JPS60447A (en) * | 1983-06-16 | 1985-01-05 | Ariga Shiyashinkan:Kk | Dry developing method of photosensitive material |
-
1990
- 1990-10-10 JP JP27135890A patent/JPH04147149A/en active Pending
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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