JPH04113650A - Method for unloading in heat treatment process - Google Patents
Method for unloading in heat treatment processInfo
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- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 title claims description 29
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 15
- 239000000969 carrier Substances 0.000 abstract description 41
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 abstract description 6
- 238000005336 cracking Methods 0.000 abstract description 2
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 83
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 30
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 12
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 3
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000009434 installation Methods 0.000 description 2
- 239000010453 quartz Substances 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N silicon dioxide Inorganic materials O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000001590 oxidative effect Effects 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
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Abstract
Description
この発明は、熱処理工程におけるアンローディング方法
に関する。The present invention relates to an unloading method in a heat treatment process.
半導体装置の製造工程には、半導体ウェーハの表面を酸
化させたり、不純物を拡散させたりする熱処理工程があ
り、縦型または横型の熱処理炉が用いられる。
この熱処理工程に用いられる熱処理装置は、被処理体で
ある半導体ウェーハを複数枚収納可能な搬送具としての
キャリアを蓄積するキャリアストッカと、複数枚のウェ
ーハを積載して熱処理炉内にロード、アンロードするボ
ートを所定位置に設置するボートステーションと、スト
ッカとボートステーションとの間でキャリアの搬送を行
なうキャリア搬送装置と、キャリアとボートとの間でつ
工−ハの移し替えを行なうウェーハの移し替え装置と、
ボートを熱処理炉に搬入し、また、熱処理の終了したボ
ートを熱処理炉から引出すボート搬送装置とを備えてい
る。
そして、キャリアストッカには、未処理のウェハを複数
枚収納しているキャリアを順次搬入すると共に、処理の
終了したウェーハを収納しているキャリアをこのキャリ
アストッカから順次に取り出すようにする。
そして、熱処理工程において、ローディング時は、キャ
リアストッカからキャリア搬送装置によって未処理の半
導体ウェーハを収納する複数個のキャリアを引き出して
、所定の位置に持ち来す。
そして、キャリア内の半導体ウェーハを、ウェーハ移し
替え装置によってボートステーションに置かれた熱処理
用の空の例えば石英製ボートに移し替える。そして、複
数枚の半導体ウェーハが搭載された移し替え完了後の石
英製ボートをボートステーションからボート搬送装置に
よって熱処理炉に移動させ、熱処理炉内にボートを挿入
して、半導体ウェーハの熱処理を行なう。
また、アンローディング時は、熱処理が終了したボート
をボート搬送装置によって熱処理炉から引き出し、ボー
トステーションのボート載置台に載置し、熱処理の終了
した半導体ウエーノ\をホトがら空のキャリアに移し替
える。そして、処理終了したウェーハを収納するキャリ
アを、キャリア搬送装置によってキャリアストッカに搬
送する。The manufacturing process of semiconductor devices includes a heat treatment process for oxidizing the surface of a semiconductor wafer and diffusing impurities, and a vertical or horizontal heat treatment furnace is used. The heat treatment equipment used in this heat treatment process includes a carrier stocker that stores carriers that can store multiple semiconductor wafers, which are objects to be processed, and a carrier stocker that stores multiple wafers and loads and unloads them into a heat treatment furnace. A boat station that places a boat to be loaded in a predetermined position, a carrier transfer device that transfers carriers between the stocker and the boat station, and a wafer transfer device that transfers wafers between the carrier and the boat. a replacement device,
It is equipped with a boat transport device that carries the boat into the heat treatment furnace and pulls out the boat that has been heat treated from the heat treatment furnace. Then, carriers storing a plurality of unprocessed wafers are sequentially loaded into the carrier stocker, and carriers storing processed wafers are sequentially taken out from the carrier stocker. During loading in the heat treatment process, a carrier transport device pulls out a plurality of carriers containing unprocessed semiconductor wafers from the carrier stocker and brings them to a predetermined position. Then, the semiconductor wafer in the carrier is transferred by a wafer transfer device to an empty boat made of quartz, for example, for heat treatment placed at a boat station. Then, the quartz boat loaded with a plurality of semiconductor wafers after the transfer is completed is moved from the boat station to a heat treatment furnace by a boat transfer device, the boat is inserted into the heat treatment furnace, and the semiconductor wafers are heat treated. Also, during unloading, the boat that has been heat treated is pulled out of the heat treatment furnace by the boat transfer device, placed on the boat mounting table of the boat station, and the semiconductor wafer that has been heat treated is transferred to a hot empty carrier. Then, the carrier that stores the processed wafer is transported to the carrier stocker by the carrier transport device.
ところで、アンローディング時には、キャリア搬送装置
は、予めキャリアストッカから、空の複数個のキャリア
をボートステーションの近傍の所定位置まで搬送し、ボ
ートからウェーハをキャリアに移し替える。
ところが、この際に、キャリア搬送装置かウェーハの収
納されているキャリアを誤って搬送してきていると、ボ
ートから処理済みのウェーハをキャリアに移すと、キャ
リア内のウェーハと衝突してウェーハが破損したり、脱
落したりする。
また、キャリア搬送装置が誤り無く、すべて空のキャリ
アをキャリアストッカから引き出して来ていでも、ボー
トからウェーハの移し替えを終了したときに、キャリア
内に正しく収納されず、飛び出しているウェーハがある
と、キャリア搬送装置によりキャリアをキャリアストッ
カに搬入するときにその飛び出したウェーハが搬送杆路
のいずれかの部分にぶつかって、割れてしまう恐れがあ
る。
この発明は、以上の点に鑑み、ウェーハの破損や割れを
防ぐことができるようにしたアンローディング方法を提
供することを目的とする。By the way, at the time of unloading, the carrier transport device transports a plurality of empty carriers in advance from the carrier stocker to a predetermined position near the boat station, and transfers the wafers from the boat to the carriers. However, at this time, if the carrier transport device or the carrier containing the wafers is being transported incorrectly, when the processed wafers are transferred from the boat to the carrier, they may collide with the wafers inside the carrier and damage the wafers. or fall off. In addition, even if the carrier transport device pulls out all empty carriers from the carrier stocker without error, when the transfer of wafers from the boat is completed, if some wafers are not properly stored in the carriers and are sticking out. When the carrier is transported into the carrier stocker by the carrier transport device, there is a risk that the protruding wafer may hit any part of the transport rod path and break. In view of the above points, it is an object of the present invention to provide an unloading method that can prevent damage and cracking of wafers.
この発明は、熱処理の終了した被処理体を搭載するボー
トから、複数枚の被処理体が収納可能な搬送具に前記被
処理体を移し替え、移し替えの終了した搬送具を複数の
搬送具を収容するストッカに移動させるようにする熱処
理工程のアンローディング方法において、
前記搬送具内に前記被処理体が収納されているか否かを
検知するための第1のセンサと、前記搬送具に前記被処
理体が正しく収納されているか否かを検知するための第
2のセンサとを設け、
前記第1のセンサによって前記搬送具に被処理体が収納
されていないことを確認して、前記ボートから前記被処
理体を搬送具に移し替えを行ない、前記第2のセンサに
よって搬送具から被処理体の飛び出しがないことを確認
して、搬送具を前記ストッカに移動させるようにしたこ
とを特徴とする。This invention transfers the processed objects from a boat carrying the processed objects that have been heat-treated to a transport tool capable of storing a plurality of processed objects, and transfers the processed objects to a plurality of transport tools after the transfer has been completed. In the unloading method of a heat treatment process, the object is moved to a stocker that accommodates the object, comprising: a first sensor for detecting whether or not the object to be processed is stored in the carrier; and a second sensor for detecting whether or not the object to be processed is correctly stored, and the first sensor confirms that the object to be processed is not stored in the transport tool, and then the boat is moved. The object to be processed is then transferred to the transport tool, and the second sensor confirms that the object to be processed does not protrude from the transport tool, and then the transport tool is moved to the stocker. shall be.
この発明においては、上記のように、第1のセンサによ
って前記搬送具に被処理体が収納されていないことを確
認した後、ボートから被処理体を搬送具に移し替える。
したがって、被処理体が1枚でも収納具に収納されてい
るときには、ボートから搬送具への移し替えは行われな
いので、ウェーハ同志がぶつかったり、脱落したりする
ことはない。
そして、第2のセンサによって搬送具から被処理体の飛
び出しがないことを確認した後、搬送具がストッカに移
動させられる。したがって、ストッカへのキャリアの搬
送時にウェーハかキャリアから飛び出していることは全
く無く、ウェーハが破損してしまうことはない。In this invention, as described above, after it is confirmed by the first sensor that no object to be processed is stored in the transport tool, the object to be processed is transferred from the boat to the transport tool. Therefore, when even one object to be processed is stored in the storage tool, the wafers are not transferred from the boat to the transport tool, so wafers will not collide with each other or fall off. Then, after it is confirmed by the second sensor that the object to be processed does not jump out from the transport tool, the transport tool is moved to the stocker. Therefore, when the carrier is transported to the stocker, the wafer does not jump out from the carrier at all, and the wafer is not damaged.
以下、この発明によるボート移載装置の一実施例を図を
参照しなから説明する。
先ず、この発明か適用される熱処理装置を第1図につい
て説明する。
キャリアストッカ1には、例えば25枚の半導体ウェー
ハWをそれぞれ収容する搬送具例えばウェーハキャリア
2が、レール4を挟んでイン側及びアウト側にそれぞれ
複数個収容可能である。そして、イン側には、未処理の
ウェーハを収納するキャリアが搬入され、また、アウト
側には、処理済みのウェーハを収納するキャリアがスト
ックされ、順次この処理済みウェーハを収納するキャリ
アは、このアウト側から外部に取り出される。
そして、レール4に案内されてキャリア搬送装置3が、
キャリアストッカ1と、耐熱性ウェーハボートが載置さ
れるボート載置台5の側方の所定位置との間をスライド
移動可能に取り付けられている。
また、レール4の側方には、ボートステーションのボー
ト載置台5が設けられている。ボート載置台5と、レー
ル4との間には、ウェーハ移し替え装置6が設けられて
いる。
キャリア搬送装置3のキャリア載置台31には、第2図
に示すように、例えば4個のキャリア2が載置可能であ
る。キャリア2内のウェーハWは、互いの主面が対向す
るように平行に立て掛けられて、キャリア2内に収納さ
れている。そして、キャリア2は、4個のキャリア2内
のウェーハがすべて平行に並ぶような状態でキャリア載
置台31上に載置されている。
そして、このキャリア載置台31には、4個のキャリア
2内にウェーハが収納されているか否かを検知するため
の第1のセンサ32と、収納されているウェーハWのキ
ャリア2からの飛び出しがあるか否かを検知するための
第2のセンサ33が設けられる。この例の場合、これら
第1及び第2のセンサ32,33は、発光素子例えば発
光ダイオードや半導体レーザなどと、受光素子からなる
光学センサ例えばホトトランジスタやCCDなどか用い
られる。この例では、これら第1及び第2のセンサ32
,3Bは、次のように取り付けられている。
すなわち、4個のキャリア2を挾んで、キャリア載置台
31の長手方向の一方の端部には、発光素子取付は部3
4が設けられており、この取付は部34の下部には第1
のセンサ32の発光素子32Aが、取付は部34の上部
には第2のセンサ33の発光素子33Aか、それぞれ取
り付けられている。また、キャリア載置台31の他方の
端部には、受光素子取付は部35が設けられ、この取付
は部35の下部には第1のセンサ32の受光素子32B
が、取付は部35の上部には第2のセンサの発光素子3
3Bが、それぞれ取り付けられている。そして、それぞ
れの受光素子32B、33Bが発光素子32A、33A
からの光を受光するように、発光素子と受光素子とが互
いに対向して設けられる。この対向関係は、互いの面が
平行でも斜文面に位置させても良い。
この例の場合、第3図に示すように、キャリア2は、ウ
ェーハWを収納したとき、ウェーハWの主面の上端部と
、下端部が外部に露呈するような形状である。これらセ
ンサ32A、32Bは、ワンタッチで着脱可能な取付は
構造にすると良い。
そして、第1のセンサ32の発光素子32Aから受光素
子32Bへの光の光軸位置は、第3図において、点41
て示すように、すべてのキャリア2にウェーハWが収納
されていないときは、発光素子32Aからの光が受光素
子32Bで受光可能であり、いずれかのキャリア2にウ
ェーハWが1枚でも収納されていると、そのウェーハW
によって発光素子32Aからの受光素子32Bへの光が
遮られる位置とされている。
また、第2のセンサ33の発光素子33Aから受光素子
33Bへの光の光軸位置は、第3図において、点42で
示すように、キャリア2にウェ−ハWが正しく収納され
ているときは、発光素子33Aからの光が受光素子33
Bで受光可能であり、キャリア2に収納されたウェーハ
Wが正しい位置から飛び出していると、そのウェーハW
によって発光素子33Aからの受光素子33Bへの光が
遮られる位置とされている。
このような検出が周囲光か雑音となる場合、光源側の光
を予め定められた周波数でパルス変調、周波数変調する
などして、光電変換後の電気回路において周波数選択(
フィルタ回路)することにより、雑音対策が可能である
。
また、この例の場合、ローディング動作及びアンローデ
ィング動作はソフトウェア制御されるもので、第4図に
示すように、その制御のためのマイクロコンピュータを
備える制御装置50が設けられている。そして、第1及
び第2のセンサ32及び33のセンサ出力が、この制御
装置50に供給され、この制御装置50によりウェーハ
移し替え装置6及びキャリア搬送装置3、さらにはボー
ト搬送装置8が駆動制御される。
次に、この装置におけるローディング動作及びアンロー
ディング動作について、以下に説明する。
ローディング時には、図示しないロボットかイン側のキ
ャリア2を、例えば4個、キャリア搬送装置3の搬送台
31に載せる。そして、キャリア2からの飛び出しのウ
ェーハWか無いことを第2のセンサ33の検知出力によ
り確認した後、制御装置50は、キャリア搬送装置3を
駆動して、ホード載置台5の側方の所定位置までこれら
のキャリア2を搬送する。
一方、ボート載置台5上には、空のボート7が位置決め
されて載置されている。そして、ウェーハ移し替え機構
6により、このボート載置台5上の空のボート7に、キ
ャリア2からウェーハWか移し替えられる。
ウェーハの移し替えが終了すると、ボート7か図示しな
いボート搬送装置によって熱処理炉内に搬入され、熱処
理がなされる。
熱処理炉を複数個備える多段炉の構成の場合には、制御
装置50はキャリア搬送装置3を駆動し、移し替えが終
了して空になった4個のキャリア2をキャリアストッカ
1に戻す。このとき、4個のキャリア2が空になったこ
とは、第1のセンサ32の検知出力から検出することが
できる。そして、別の未処理ウェーハが収納されている
キャリア2を前記と同様にして載置し、これらをボート
載置台5の側方に搬送し、ウェーハWをボート7に移し
替え、ボート搬送装置によって別の熱処理炉に搬入する
。
そして、いずれかの熱処理炉において、熱処理が終了す
ると、アンローディングがなされる。
このアンローディング時は、熱処理が終了したボート7
が熱処理炉から引き出され、ボート搬送装置により、ボ
ート7がボート載置台5上に載置され、位置決めされる
。一方、キャリア搬送装置3により、空のキャリア2が
キャリアストッカ1からボート載置台5の側方まて搬送
されてきている。
そして、この状態で、制御装置5oはキャリア搬送装置
3の第1のセンサ32の出力をチエツクし、4個のキャ
リアは全て空か否か判別する。そして、受光素子32B
が発光素子32Aがらの光を受光しており、この受光素
子32Bの出力から、4個のキャリアにウェーハが1枚
も収納されていないことを確認すると、制御装置50は
、ウェーハ移し替え装置6を駆動し、ウェーハ移し替え
装置6により、ボート7から処理済みのウェーハをキャ
リア2に移し替える。
こうして、キャリア2内にウェーハWか収納されていな
いことを確認して、ウェーハの移し替えを行なうように
したので、ウェーハの衝突により破損したり、脱落して
ウェーハを割ってしまうことは全く無い。
移し替えが終了すると、制御装置5oは、第2のセンサ
33のセンサ出力をチエツクし、すべてのウェーハがキ
ャリア内に正しく収納され、飛び出しウェーハが無いか
否か判別する。そして、受光素子33Bが発光素子33
Aからの光を受光しており、キャリア2から飛び出して
いるウェーハが無いことを確認すると、制御装置5oは
キャリア搬送装置3を駆動する。すると、キャリア搬送
装置3はキャリアストッカ1に移動する。そして、その
後、処理済みウェーハを収容したキャリアを、図示しな
いロボットかキャリア搬送装置3からキャリアストッカ
1のアウト側に移す。
こうして、キャリア2からウェーハWが飛び出していな
いことを確認して、キャリアをキャリアストッカ1に搬
送するようにしたので、搬送経路において、飛び出しウ
ェーハがぶつかって破損してしまうようなことはまった
く無い。
以上の例は、複数個のキャリアを水平な台上に並べて載
置する場合の例であるが、キャリアストッカから取り出
したキャリアを、図示しないキャリア搬送装置によって
、第5図に示すように、つ工−ハWの主面が水平になる
ような状態で、縦方向に複数個のキャリア61を積み重
ねて搭載するキャリアステーション62に搬送して、こ
のキャリアステーション62のキャリア61から、ボー
ト載置台63上に縦型に立てられているボート64に、
ウェーハ移し替え装置65によって、例えば1枚づつウ
ェーハWを移し替えをるようにする場合にも、勿論適用
可能である。
この例の場合には、ウェーハWの有無検出用の第1のセ
ンサは、図示しないか、キャリアステーション62の各
キャリア載置台62Cのそれぞれに設けることができる
。また、ウェーハWの飛び出し検出用の第2のセンサは
、キャリアステーション62において、例えば、縦方向
に積み重ねて配置された複数個のキャリア61の上方に
、発光素子37Aを設け、一番下側に受光素子3’7B
を設けて、複数のキャリアに共通にウェーハの飛び出し
を検知するようにすることができる。
なお、第2図の例では、それぞれ1組の光学センサ32
,33により、複数のキャリアのすべてが空か否か、及
び飛び出しのウェーハがあるか否かを検知できるように
したが、各キャリアごとに第1及び第2のセンサ32,
33と同様の役割をするセンサを設けるようにしても良
い。ただし、第2図の例のように1組の光学センサ32
,33により検知できるようにした方が、センサの設置
スペースやコストの点で優れている。
また、第1及び第2のセンサとしては、光学センサに限
らず、容量センサやその他種々のセンサを使用すること
ができる。例えば重量センサを用いた場合、被処理体か
特に8インチウェーハのように大きくなると、精度良く
、被処理体の有無の検知を実行することができる。
さらに、被処理体としては半導体ウェーハに限らず、L
CD基板等種々の物が適用可能であることは言うまでも
ない。Hereinafter, one embodiment of the boat transfer device according to the present invention will be described with reference to the drawings. First, a heat treatment apparatus to which the present invention is applied will be explained with reference to FIG. The carrier stocker 1 can accommodate a plurality of carriers such as wafer carriers 2, each of which accommodates, for example, 25 semiconductor wafers W, on the inside and the outside with the rail 4 in between. Then, carriers for storing unprocessed wafers are loaded onto the inside side, and carriers for storing processed wafers are stocked on the outside side. It is taken out from the outside side. Then, the carrier conveyance device 3 is guided by the rails 4,
It is attached so as to be slidably movable between the carrier stocker 1 and a predetermined position on the side of a boat mounting table 5 on which a heat-resistant wafer boat is mounted. Further, on the side of the rail 4, a boat platform 5 of a boat station is provided. A wafer transfer device 6 is provided between the boat platform 5 and the rail 4. For example, four carriers 2 can be placed on the carrier mounting table 31 of the carrier transport device 3, as shown in FIG. The wafers W in the carrier 2 are stored in the carrier 2 in a parallel manner with their main surfaces facing each other. The carriers 2 are placed on the carrier mounting table 31 in such a manner that all the wafers in the four carriers 2 are lined up in parallel. The carrier mounting table 31 includes a first sensor 32 for detecting whether or not a wafer is stored in the four carriers 2, and a first sensor 32 for detecting whether or not a wafer is stored in the four carriers 2, and a first sensor 32 for detecting whether or not a wafer is stored in the four carriers 2. A second sensor 33 is provided to detect whether or not there is. In this example, the first and second sensors 32 and 33 are optical sensors including a light emitting element such as a light emitting diode or a semiconductor laser, and a light receiving element such as a phototransistor or CCD. In this example, these first and second sensors 32
, 3B are attached as follows. That is, at one end of the carrier mounting table 31 in the longitudinal direction, with four carriers 2 in between, there is a section 3 for mounting the light emitting element.
4 is provided at the bottom of the section 34.
The light emitting element 32A of the second sensor 32 is mounted on the upper part of the mounting section 34, and the light emitting element 33A of the second sensor 33 is mounted on the upper part of the mounting section 34, respectively. Further, a light receiving element mounting section 35 is provided at the other end of the carrier mounting table 31, and a light receiving element 32B of the first sensor 32 is mounted at the lower part of this mounting section 35.
However, the light emitting element 3 of the second sensor is attached to the upper part of the part 35.
3B are attached to each. Then, the respective light receiving elements 32B and 33B are connected to the light emitting elements 32A and 33A.
A light emitting element and a light receiving element are provided facing each other so as to receive light from the light emitting element and the light receiving element. In this facing relationship, the surfaces may be parallel to each other or may be located on oblique surfaces. In this example, as shown in FIG. 3, the carrier 2 is shaped so that when the wafer W is stored, the upper end and lower end of the main surface of the wafer W are exposed to the outside. It is preferable that these sensors 32A and 32B have a structure that allows them to be attached and detached with one touch. The optical axis position of the light from the light emitting element 32A to the light receiving element 32B of the first sensor 32 is at point 41 in FIG.
As shown in FIG. 2, when no wafer W is stored in any of the carriers 2, the light from the light emitting element 32A can be received by the light receiving element 32B, and even one wafer W is stored in any carrier 2. When the wafer W
This is a position where light from the light emitting element 32A to the light receiving element 32B is blocked. Further, the optical axis position of the light from the light emitting element 33A to the light receiving element 33B of the second sensor 33 is as shown by a point 42 in FIG. 3 when the wafer W is correctly stored in the carrier 2. In this case, the light from the light emitting element 33A is transmitted to the light receiving element 33.
If the wafer W stored in the carrier 2 protrudes from the correct position, the wafer W can receive light at B.
This is the position where light from the light emitting element 33A to the light receiving element 33B is blocked. If such detection results in ambient light or noise, frequency selection (
Noise countermeasures can be taken by using a filter circuit). Further, in this example, the loading operation and the unloading operation are controlled by software, and as shown in FIG. 4, a control device 50 including a microcomputer for the control is provided. The sensor outputs of the first and second sensors 32 and 33 are supplied to this control device 50, and this control device 50 controls the drive of the wafer transfer device 6, the carrier transfer device 3, and further the boat transfer device 8. be done. Next, the loading operation and unloading operation in this device will be explained below. At the time of loading, a robot (not shown) places, for example, four inner carriers 2 on the carrier 31 of the carrier carrier 3. After confirming that there is no wafer W flying out from the carrier 2 based on the detection output of the second sensor 33, the control device 50 drives the carrier transfer device 3 to move the wafer W to a predetermined position on the side of the hoard mounting table 5. These carriers 2 are transported to the location. On the other hand, an empty boat 7 is positioned and placed on the boat mounting table 5. Then, the wafer transfer mechanism 6 transfers the wafer W from the carrier 2 to the empty boat 7 on the boat mounting table 5. When the transfer of the wafer is completed, the wafer is carried into a heat treatment furnace by the boat 7 or a boat transfer device (not shown), and heat treatment is performed. In the case of a multistage furnace configuration including a plurality of heat treatment furnaces, the control device 50 drives the carrier transport device 3 to return the four empty carriers 2 to the carrier stocker 1 after the transfer. At this time, it can be detected from the detection output of the first sensor 32 that the four carriers 2 are empty. Then, the carrier 2 containing another unprocessed wafer is placed in the same manner as described above, these are transported to the side of the boat mounting table 5, the wafer W is transferred to the boat 7, and the wafer W is transferred to the boat 7 by the boat transport device. Transfer to another heat treatment furnace. Then, when the heat treatment is completed in any of the heat treatment furnaces, unloading is performed. During this unloading, the boat 7 that has undergone heat treatment is
is pulled out from the heat treatment furnace, and the boat 7 is placed and positioned on the boat mounting table 5 by the boat transfer device. On the other hand, the empty carrier 2 is being transported from the carrier stocker 1 to the side of the boat mounting table 5 by the carrier transport device 3 . In this state, the control device 5o checks the output of the first sensor 32 of the carrier transport device 3, and determines whether all four carriers are empty or not. And the light receiving element 32B
is receiving light from the light emitting element 32A, and when it is confirmed from the output of the light receiving element 32B that no wafer is stored in the four carriers, the control device 50 sends the wafer transfer device 6 to the wafer transfer device 6. The processed wafers are transferred from the boat 7 to the carrier 2 by the wafer transfer device 6. In this way, the wafer is transferred after confirming that there is no wafer W stored in the carrier 2, so there is no chance of the wafer being damaged due to collision or falling and breaking the wafer. . When the transfer is completed, the control device 5o checks the sensor output of the second sensor 33, and determines whether all the wafers are properly stored in the carrier and there are no protruding wafers. Then, the light receiving element 33B is the light emitting element 33
After receiving the light from A and confirming that there are no wafers protruding from the carrier 2, the control device 5o drives the carrier transport device 3. Then, the carrier transport device 3 moves to the carrier stocker 1. Thereafter, the carrier containing the processed wafer is transferred to the outside of the carrier stocker 1 from a robot (not shown) or carrier transfer device 3. In this way, the carrier is transported to the carrier stocker 1 after confirming that the wafer W has not jumped out from the carrier 2, so there is no possibility that the wafer W that has flown out will collide with and be damaged on the transport route. The above example is an example in which a plurality of carriers are placed side by side on a horizontal table, but the carriers taken out from the carrier stocker are transported by a carrier transport device (not shown) as shown in FIG. With the main surface of the boat W being horizontal, it is transported to a carrier station 62 where a plurality of carriers 61 are stacked and mounted vertically, and from the carrier 61 of this carrier station 62, the boat mounting table 63 is loaded. On the boat 64 standing vertically on top,
Of course, the present invention can also be applied to a case where the wafer transfer device 65 transfers wafers W one by one, for example. In this example, the first sensor for detecting the presence or absence of the wafer W may not be shown or may be provided on each carrier mounting table 62C of the carrier station 62. Further, the second sensor for detecting the protrusion of the wafer W includes a light emitting element 37A provided above a plurality of carriers 61 stacked vertically in the carrier station 62, and a light emitting element 37A provided at the bottom side. Light receiving element 3'7B
A wafer protrusion can be detected in common to a plurality of carriers by providing a wafer protrusion. In the example shown in FIG. 2, one set of optical sensors 32
, 33, it is possible to detect whether all of the plurality of carriers are empty and whether or not there is a protruding wafer, but the first and second sensors 32,
A sensor having the same role as 33 may be provided. However, as in the example shown in FIG.
, 33 is better in terms of sensor installation space and cost. Further, as the first and second sensors, not only optical sensors but also capacitive sensors and other various sensors can be used. For example, when a weight sensor is used, if the object to be processed is large, such as an 8-inch wafer, the presence or absence of the object to be processed can be detected with high accuracy. Furthermore, the object to be processed is not limited to semiconductor wafers;
Needless to say, various materials such as a CD substrate are applicable.
以上説明したように、この発明によれば、熱処理工程の
アンローディング時に、第1のセンサによりキャリアが
空であることを確認してから、ボートから被処理体を移
し替えるようにしたので、被処理体同志が衝突してしま
うようなことがない。
また、移し替え終了後に、キャリアから飛び出している
被処理体が無いことを第2のセンサにより確認した後、
キャリアをストッカに移送するようにしたので、被処理
体がキャリアの移送中にどこかにぶつかって割れてしま
うことを防止することができる。As explained above, according to the present invention, when unloading in the heat treatment process, the first sensor confirms that the carrier is empty, and then the object to be processed is transferred from the boat. There is no possibility that processing bodies collide with each other. In addition, after the transfer is completed, after confirming with the second sensor that there are no objects to be processed sticking out of the carrier,
Since the carrier is transferred to the stocker, it is possible to prevent the object to be processed from colliding with somewhere during the transfer of the carrier and being broken.
第1図は、この発明による熱処理装置の一例の概要を示
す図、第2図はキャリア搬送装置の一例の側面図、第3
図はキャリアへのウェーハ収納状況及び第1及び第2の
センサの設置位置説明のための図、第4図は熱処理装置
の駆動制御部の一例のブロック図、第5図はこの発明の
対象となる他の例を示す図である。
1;キャリアストッカ
2:キャリア
3;キャリア搬送装置
5;ボート載置台
6;ウェーハ移し替え装置
7;ボート
31:キャリア載置台
32;第1のセンサ
33;第2のセンサ
32A、33A、発光素子
32B、33B、受光素子
34;発光素子取付は部
35;受光素子取付は部
W ;
半導体ウェーハFIG. 1 is a diagram showing an outline of an example of a heat treatment apparatus according to the present invention, FIG. 2 is a side view of an example of a carrier conveying apparatus, and FIG.
The figure is a diagram for explaining the state of wafer storage in the carrier and the installation positions of the first and second sensors, Figure 4 is a block diagram of an example of the drive control section of the heat treatment equipment, and Figure 5 is the object of the present invention. It is a figure which shows another example. 1; carrier stocker 2: carrier 3; carrier transport device 5; boat mounting table 6; wafer transfer device 7; boat 31: carrier mounting table 32; first sensor 33; second sensor 32A, 33A, light emitting element 32B , 33B, light receiving element 34; light emitting element mounted in section 35; light receiving element mounted in section W; semiconductor wafer
Claims (1)
枚の被処理体が収納可能な搬送具に前記被処理体を移し
替え、移し替えの終了した搬送具を複数の搬送具を収容
するストッカに移動させるようにする熱処理工程のアン
ローディング方法において、 前記搬送具内に前記被処理体が収納されているか否かを
検知するための第1のセンサと、 前記搬送具に前記被処理体が正しく収納されているか否
かを検知するための第2のセンサとを設け、 前記第1のセンサによって前記搬送具に被処理体が収納
されていないことを確認して、前記ボートから前記被処
理体を搬送具に移し替えを行ない、前記第2のセンサに
よって搬送具から被処理体の飛び出しがないことを確認
して、搬送具を前記ストッカに移動させるようにしたこ
とを特徴とする熱処理工程におけるアンローディング方
法。[Scope of Claims] The object to be processed is transferred from the boat carrying the object to be processed which has been heat-treated to a transport tool that can store a plurality of objects to be processed, and the object to be processed is transferred to a transport tool which has completed the transfer. In an unloading method for a heat treatment process in which a transport tool is moved to a stocker that accommodates the transport tool, the transport tool includes: a first sensor for detecting whether or not the object to be processed is stored in the transport tool; and a second sensor for detecting whether or not the object to be processed is correctly stored in the carrier, and confirming that the object to be processed is not stored in the transport tool by the first sensor, The object to be processed is transferred from the boat to the transport tool, the second sensor confirms that the object to be processed does not jump out of the transport tool, and the transport tool is moved to the stocker. An unloading method in a heat treatment process characterized by:
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP23281390A JP2931922B2 (en) | 1990-09-03 | 1990-09-03 | Unloading method and heat treatment apparatus in heat treatment process |
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---|---|---|---|
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04113650A true JPH04113650A (en) | 1992-04-15 |
JP2931922B2 JP2931922B2 (en) | 1999-08-09 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2931922B2 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100361427B1 (en) * | 2000-06-22 | 2002-11-18 | 메카텍스 (주) | Carrier for transfer of a module IC |
JP2009514235A (en) * | 2005-10-27 | 2009-04-02 | アシスト テクノロジーズ インコーポレイテッド | Horizontal alignment stocker |
JP2013021166A (en) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Murata Mach Ltd | Conveyance vehicle |
-
1990
- 1990-09-03 JP JP23281390A patent/JP2931922B2/en not_active Expired - Fee Related
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR100361427B1 (en) * | 2000-06-22 | 2002-11-18 | 메카텍스 (주) | Carrier for transfer of a module IC |
JP2009514235A (en) * | 2005-10-27 | 2009-04-02 | アシスト テクノロジーズ インコーポレイテッド | Horizontal alignment stocker |
JP2013021166A (en) * | 2011-07-12 | 2013-01-31 | Murata Mach Ltd | Conveyance vehicle |
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---|---|
JP2931922B2 (en) | 1999-08-09 |
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