JP7534198B2 - Diaphragm Vacuum Gauge - Google Patents
Diaphragm Vacuum Gauge Download PDFInfo
- Publication number
- JP7534198B2 JP7534198B2 JP2020196857A JP2020196857A JP7534198B2 JP 7534198 B2 JP7534198 B2 JP 7534198B2 JP 2020196857 A JP2020196857 A JP 2020196857A JP 2020196857 A JP2020196857 A JP 2020196857A JP 7534198 B2 JP7534198 B2 JP 7534198B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pressure
- measurement
- temperature
- chamber
- capacitance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 229
- 238000009530 blood pressure measurement Methods 0.000 claims description 211
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims description 68
- 238000012937 correction Methods 0.000 claims description 38
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 14
- 230000004044 response Effects 0.000 claims description 10
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 37
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 26
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 21
- 230000001360 synchronised effect Effects 0.000 description 19
- 238000000034 method Methods 0.000 description 10
- 230000008859 change Effects 0.000 description 9
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 9
- 230000008569 process Effects 0.000 description 9
- 230000010512 thermal transition Effects 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 6
- NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N novaluron Chemical compound C1=C(Cl)C(OC(F)(F)C(OC(F)(F)F)F)=CC=C1NC(=O)NC(=O)C1=C(F)C=CC=C1F NJPPVKZQTLUDBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 4
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 229910052594 sapphire Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010980 sapphire Substances 0.000 description 2
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 2
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 238000013459 approach Methods 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000013461 design Methods 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 1
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 1
- 238000012552 review Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Measuring Fluid Pressure (AREA)
Description
本発明は、隔膜真空計に関するものである。 The present invention relates to a diaphragm vacuum gauge.
半導体製造設備等において使用される真空計などの圧力センサは、要求される圧力範囲に応じて種々の計測原理を用いたタイプの製品が利用される。例えばその中の1つである静電容量式の隔膜真空計は、可動ダイアフラム(隔膜)が圧力を受け、そのたわみ量を静電容量値として検出するものである(特許文献1、特許文献2参照)。隔膜真空計は、流量計測値のガス種依存性が少ないことから、半導体の成膜工程やエッチング工程を始めとするプロセス装置ではよく使用されている。
Pressure sensors such as vacuum gauges used in semiconductor manufacturing facilities use a variety of types of products that use different measurement principles depending on the required pressure range. For example, one such type is the capacitance-type diaphragm vacuum gauge, in which a movable diaphragm is subjected to pressure and the amount of deflection is detected as a capacitance value (see
隔膜真空計は、通常、1.3Pa程度が最小の圧力レンジフルスケールであることが多い。1.3Pa程度になっている理由は、真空計の構造上、隔膜の厚さによって計測可能な圧力レンジが決まってしまうためである。すなわち、通常よりも低い圧力を計測するためには隔膜を薄くする必要がある。反対に高い圧力に対しては、隔膜が厚くなるように真空計を設計して仕様に対応している。 Diaphragm vacuum gauges usually have a minimum full-scale pressure range of around 1.3 Pa. The reason for the 1.3 Pa limit is that the measurable pressure range is determined by the thickness of the diaphragm due to the structure of the vacuum gauge. In other words, in order to measure pressures lower than normal, the diaphragm needs to be made thinner. Conversely, for higher pressures, the gauge is designed to accommodate the specifications by making the diaphragm thicker.
より高い圧力を計測するために隔膜真空計の隔膜を厚くする場合、圧力感度が不足する可能性がある。具体的には、ダイアフラムに印加される圧力pとダイアフラムの垂直方向の変位wとの関係が式(1)のように表されるため、隔膜真空計の圧力感度は、ダイアフラムの厚さhの3乗に反比例して低下することが分かる。 When the diaphragm of a diaphragm vacuum gauge is made thicker to measure higher pressures, the pressure sensitivity may be insufficient. Specifically, the relationship between the pressure p applied to the diaphragm and the vertical displacement w of the diaphragm is expressed as in equation (1), and it can be seen that the pressure sensitivity of a diaphragm vacuum gauge decreases inversely proportional to the cube of the diaphragm thickness h.
式(1)において、rはダイアフラムの中心から半径方向の距離、Eはダイアフラムのヤング率、vはダイアフラムのポアソン比、aはダイアフラムの半径である。
また、隔膜を厚くした場合、圧力印加時のダイアフラムの変位が微小となるため、ダイアフラムの微小な変位を検知するための高精度な計測回路が必要となる。このように隔膜真空計の現実的な圧力計測範囲には構造的な上限があるが、状況によっては圧力感度を確保したままでこの上限を上回る計測が必要になることがあり、改善が求められている。
In equation (1), r is the radial distance from the center of the diaphragm, E is the Young's modulus of the diaphragm, v is the Poisson's ratio of the diaphragm, and a is the radius of the diaphragm.
In addition, if the diaphragm is made thicker, the displacement of the diaphragm when pressure is applied becomes minute, so a highly accurate measurement circuit is required to detect the minute displacement of the diaphragm. Although there is a structural upper limit to the practical pressure measurement range of a diaphragm vacuum gauge, in some situations it may be necessary to measure beyond this upper limit while maintaining pressure sensitivity, and improvements are required.
本発明は、上記課題を解決するためになされたもので、圧力計測範囲の上限を拡張することができる隔膜真空計を提供することを目的とする。 The present invention has been made to solve the above problems, and aims to provide a diaphragm vacuum gauge that can expand the upper limit of the pressure measurement range.
本発明の隔膜真空計は、被計測チャンバと配管を介して連通するように設けられた圧力調整室と、前記圧力調整室と連通するように設けられた圧力計測室と、前記圧力計測室内の被計測媒体の圧力によるダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された受圧部と、前記圧力計測室を冷却するように構成された冷却器と、前記圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第1の温度センサと、前記静電容量を圧力計測値に変換するように構成された圧力計測部と、前記第1の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正するように構成された圧力補正部とを備え、前記圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して前記圧力計測値を補正することを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記圧力調整室と前記圧力計測室とは直列に配置され、前記圧力調整室を介して前記圧力計測室に被計測媒体が流入することを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記圧力調整室と前記圧力計測室とは並列に配置され、前記配管を介して前記圧力調整室と前記圧力計測室とに被計測媒体が流入することを特徴とするものである。
The diaphragm vacuum gauge of the present invention comprises a pressure adjustment chamber provided to communicate with a measurement chamber via a piping, a pressure measurement chamber provided to communicate with the pressure adjustment chamber, a pressure receiving section configured to change in capacitance in response to displacement of a diaphragm due to the pressure of a measurement medium in the pressure measurement chamber, a cooler configured to cool the pressure measurement chamber, a first temperature sensor configured to measure the temperature of the measurement medium in the pressure measurement chamber, a pressure measurement section configured to convert the capacitance into a pressure measurement value, and a pressure correction section configured to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the first temperature sensor and the temperature of the measurement medium in the measurement chamber, and is characterized in that the temperature difference between the temperature of the measurement medium in the pressure measurement chamber and the temperature of the measurement medium in the measurement chamber is converted into a pressure difference to correct the pressure measurement value.
In one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the pressure adjustment chamber and the pressure measurement chamber are arranged in series, and the medium to be measured flows into the pressure measurement chamber via the pressure adjustment chamber.
In one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the pressure adjustment chamber and the pressure measurement chamber are arranged in parallel, and the medium to be measured flows into the pressure adjustment chamber and the pressure measurement chamber via the piping.
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記圧力調整室と前記圧力計測室とは、絞りを介して連通し、前記絞りは、固定絞りまたは可変絞りであることを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記圧力調整室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第2の温度センサと、前記第2の温度センサによって計測された温度から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定するように構成された温度推定部とをさらに備えることを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記被計測チャンバに設けられた第2の温度センサから、前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を得ることを特徴とするものである。
In one embodiment of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the pressure adjustment chamber and the pressure measurement chamber communicate with each other via a throttle, and the throttle is a fixed throttle or a variable throttle.
In addition, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that it further includes a second temperature sensor configured to measure the temperature of the measurement medium in the pressure adjustment chamber, and a temperature estimation unit configured to estimate the temperature of the measurement medium in the measurement chamber from the temperature measured by the second temperature sensor.
In addition, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber is obtained from a second temperature sensor provided in the measurement chamber.
また、本発明の隔膜真空計は、被計測チャンバと配管を介して連通するように設けられた圧力計測室と、前記圧力計測室内の被計測媒体の圧力によるダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された受圧部と、前記圧力計測室を冷却するように構成された冷却器と、前記圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第1の温度センサと、前記静電容量を圧力計測値に変換するように構成された圧力計測部と、前記第1の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正するように構成された圧力補正部とを備え、前記圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して前記圧力計測値を補正することを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記配管内の熱流を計測するように構成された熱流センサと、前記熱流センサによって計測された熱流量から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定するように構成された温度推定部とをさらに備えることを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記被計測チャンバに設けられた第2の温度センサから、前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を得ることを特徴とするものである。
Furthermore, the diaphragm vacuum gauge of the present invention comprises a pressure measurement chamber provided to communicate with a measurement chamber via a pipe, a pressure receiving section configured to change in capacitance in response to displacement of a diaphragm due to the pressure of a measurement medium in the pressure measurement chamber, a cooler configured to cool the pressure measurement chamber, a first temperature sensor configured to measure the temperature of the measurement medium in the pressure measurement chamber, a pressure measurement section configured to convert the capacitance into a pressure measurement value, and a pressure correction section configured to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the first temperature sensor and the temperature of the measurement medium in the measurement chamber, and is characterized in that the temperature difference between the temperature of the measurement medium in the pressure measurement chamber and the temperature of the measurement medium in the measurement chamber is converted into a pressure difference to correct the pressure measurement value.
Moreover, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that it further comprises a heat flow sensor configured to measure a heat flow in the piping, and a temperature estimation unit configured to estimate a temperature of the measurement medium in the measurement chamber from the heat flow measured by the heat flow sensor.
In addition, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber is obtained from a second temperature sensor provided in the measurement chamber.
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差が所定値になるように前記冷却器を制御して除熱させるように構成された制御部をさらに備えることを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記受圧部は、台座に形成された第1の電極と、前記台座とギャップを隔てて配置された前記ダイアフラムと、前記ダイアフラムに前記第1の電極と対向するように形成された第2の電極と、前記第1の電極の外側の前記台座に形成された第3の電極と、前記第2の電極の外側の前記ダイアフラムに前記第3の電極と対向するように形成された第4の電極とから構成され、前記第1、第2の電極間の第1の静電容量を算出するように構成された容量算出部と、前記第1の静電容量から、前記第3、第4の電極間の第2の静電容量を減算した値を算出するように構成された容量差算出部と、前記容量算出部の算出結果と前記容量差算出部の算出結果とに基づいて、前記第2の静電容量により前記第1の静電容量を補正するように構成された容量補正部とをさらに備え、前記圧力計測部は、前記補正された第1の静電容量を前記圧力計測値に変換することを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記圧力補正部は、前記圧力計測値が規定の圧力計測範囲の上限を上回ったときのみ前記圧力計測値を補正することを特徴とするものである。
In addition, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that it further comprises a control unit configured to control the cooler to remove heat so that the temperature difference between the temperature of the measured medium in the pressure measurement chamber and the temperature of the measured medium in the measurement chamber becomes a predetermined value.
In one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the pressure receiving unit is composed of a first electrode formed on a base, the diaphragm disposed across a gap from the base, a second electrode formed on the diaphragm so as to face the first electrode, a third electrode formed on the base outside the first electrode, and a fourth electrode formed on the diaphragm outside the second electrode so as to face the third electrode, and further includes a capacitance calculation unit configured to calculate a first capacitance between the first and second electrodes, a capacitance difference calculation unit configured to calculate a value obtained by subtracting a second capacitance between the third and fourth electrodes from the first capacitance, and a capacitance correction unit configured to correct the first capacitance by the second capacitance based on a calculation result of the capacitance calculation unit and a calculation result of the capacitance difference calculation unit, and the pressure measurement unit converts the corrected first capacitance into the pressure measurement value.
In one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the pressure correction section corrects the pressure measurement value only when the pressure measurement value exceeds an upper limit of a specified pressure measurement range.
また、本発明の隔膜真空計は、被計測チャンバと配管を介して連通するように設けられた第1の圧力計測室と、前記被計測チャンバと前記配管を介して連通し、かつ前記第1の圧力計測室と連通するように設けられた第2の圧力計測室と、前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の圧力による第1のダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された第1の受圧部と、前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の圧力による第2のダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された第2の受圧部と、前記第1の圧力計測室を冷却するように構成された冷却器と、前記第2の圧力計測室を加熱するように構成された加熱器と、前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第1の温度センサと、前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第2の温度センサと、前記冷却器が動作し、前記加熱器が動作しない第1の計測モード時に前記第1の受圧部の静電容量を圧力計測値に変換し、前記加熱器が動作し、前記冷却器が動作しない第2の計測モード時に前記第2の受圧部の静電容量を圧力計測値に変換するように構成された圧力計測部と、前記第1の計測モード時に前記第1の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正し、前記第2の計測モード時に前記第2の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正するように構成された圧力補正部とを備え、前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の温度または前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して前記圧力計測値を補正することを特徴とするものである。 The diaphragm vacuum gauge of the present invention further comprises a first pressure measurement chamber provided to communicate with a measured chamber via a pipe, a second pressure measurement chamber provided to communicate with the measured chamber via the pipe and to communicate with the first pressure measurement chamber, a first pressure receiving section configured to change in capacitance in response to the displacement of a first diaphragm due to the pressure of a measured medium in the first pressure measurement chamber, a second pressure receiving section configured to change in capacitance in response to the displacement of a second diaphragm due to the pressure of a measured medium in the second pressure measurement chamber, a cooler configured to cool the first pressure measurement chamber, a heater configured to heat the second pressure measurement chamber, a first temperature sensor configured to measure the temperature of the measured medium in the first pressure measurement chamber, a second temperature sensor configured to measure the temperature of the measured medium in the second pressure measurement chamber, and the cooler. The pressure measuring unit is configured to convert the capacitance of the first pressure receiving unit into a pressure measurement value in a first measurement mode in which the heater is in operation and the cooler is not in operation, and to convert the capacitance of the second pressure receiving unit into a pressure measurement value in a second measurement mode in which the heater is in operation and the cooler is not in operation; and a pressure correction unit is configured to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the first temperature sensor and the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber in the first measurement mode, and to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the second temperature sensor and the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber in the second measurement mode, and is characterized in that the temperature difference between the temperature of the medium to be measured in the first pressure measurement chamber or the temperature of the medium to be measured in the second pressure measurement chamber and the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber is converted into a pressure difference to correct the pressure measurement value.
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記第1の圧力計測室と前記第2の圧力計測室とは、絞りを介して連通し、前記絞りは、固定絞りまたは可変絞りであることを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記第1の計測モード時に前記第2の温度センサによって計測された温度から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定し、前記第2の計測モード時に前記第1の温度センサによって計測された温度から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定するように構成された温度推定部をさらに備えることを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記被計測チャンバに設けられた第3の温度センサから、前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を得ることを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例は、前記第1の計測モード時に前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差が第1の所定値になるように前記冷却器を制御して除熱させ、前記第2の計測モード時に前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差が第2の所定値になるように前記加熱器を制御して発熱させるように構成された制御部をさらに備えることを特徴とするものである。
In one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the first pressure measuring chamber and the second pressure measuring chamber communicate with each other via a throttle, and the throttle is a fixed throttle or a variable throttle.
In addition, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that it further includes a temperature estimating unit configured to estimate a temperature of the measured medium in the measured chamber from the temperature measured by the second temperature sensor in the first measurement mode, and to estimate a temperature of the measured medium in the measured chamber from the temperature measured by the first temperature sensor in the second measurement mode.
Moreover, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that the temperature of the measurement medium in the measurement chamber is obtained from a third temperature sensor provided in the measurement chamber.
In addition, one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention is characterized in that it further comprises a control unit configured to control the cooler to remove heat so that the temperature difference between the temperature of the measured medium in the first pressure measurement chamber and the temperature of the measured medium in the measured chamber becomes a first predetermined value in the first measurement mode, and to control the heater to generate heat so that the temperature difference between the temperature of the measured medium in the second pressure measurement chamber and the temperature of the measured medium in the measured chamber becomes a second predetermined value in the second measurement mode.
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記第1の受圧部は、第1の台座に形成された第1の電極と、前記第1の台座とギャップを隔てて配置された前記第1のダイアフラムと、前記第1のダイアフラムに前記第1の電極と対向するように形成された第2の電極と、前記第1の電極の外側の前記第1の台座に形成された第3の電極と、前記第2の電極の外側の前記第1のダイアフラムに前記第3の電極と対向するように形成された第4の電極とから構成され、前記第2の受圧部は、第2の台座に形成された第5の電極と、前記第2の台座とギャップを隔てて配置された前記第2のダイアフラムと、前記第2のダイアフラムに前記第5の電極と対向するように形成された第6の電極と、前記第5の電極の外側の前記第2の台座に形成された第7の電極と、前記第6の電極の外側の前記第2のダイアフラムに前記第7の電極と対向するように形成された第8の電極とから構成され、前記第1の計測モード時に前記第1、第2の電極間の第1の静電容量を算出し、前記第2の計測モード時に前記第5、第6の電極間の第2の静電容量を算出するように構成された容量算出部と、前記第1の計測モード時に前記第1の静電容量から、前記第3、第4の電極間の第3の静電容量を減算した値を算出し、前記第2の計測モード時に前記第2の静電容量から、前記第7、第8の電極間の第4の静電容量を減算した値を算出するように構成された容量差算出部と、前記第1の計測モード時に前記容量算出部の算出結果と前記容量差算出部の算出結果とに基づいて、前記第3の静電容量により前記第1の静電容量を補正し、前記第2の計測モード時に前記容量算出部の算出結果と前記容量差算出部の算出結果とに基づいて、前記第4の静電容量により前記第2の静電容量を補正するように構成された容量補正部とをさらに備え、前記圧力計測部は、前記第1の計測モード時に前記補正された第1の静電容量を前記圧力計測値に変換し、前記第2の計測モード時に前記補正された第2の静電容量を前記圧力計測値に変換することを特徴とするものである。
また、本発明の隔膜真空計の1構成例において、前記圧力補正部は、前記第1の計測モード時に前記圧力計測値が規定の圧力計測範囲の上限を上回ったときのみ前記圧力計測値を補正し、前記第2の計測モード時に前記圧力計測値が規定の圧力計測範囲の下限を下回ったときのみ前記圧力計測値を補正することを特徴とするものである。
In one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the first pressure receiving portion is composed of a first electrode formed on a first pedestal, the first diaphragm disposed across a gap from the first pedestal, a second electrode formed on the first diaphragm so as to face the first electrode, a third electrode formed on the first pedestal outside the first electrode, and a fourth electrode formed on the first diaphragm outside the second electrode so as to face the third electrode, a fifth electrode formed on a second pedestal, the second diaphragm disposed across a gap from the second pedestal, a sixth electrode formed on the second diaphragm so as to face the fifth electrode, a seventh electrode formed on the second pedestal outside the fifth electrode, and an eighth electrode formed on the second diaphragm outside the sixth electrode so as to face the seventh electrode, and calculates a first capacitance between the first and second electrodes in the first measurement mode, The pressure measuring device further includes a capacitance calculation unit configured to calculate a second capacitance between the fifth and sixth electrodes in a second measurement mode, a capacitance difference calculation unit configured to calculate a value obtained by subtracting a third capacitance between the third and fourth electrodes from the first capacitance in the first measurement mode, and to calculate a value obtained by subtracting a fourth capacitance between the seventh and eighth electrodes from the second capacitance in the second measurement mode, and a capacitance correction unit configured to correct the first capacitance by the third capacitance based on a calculation result of the capacitance calculation unit and a calculation result of the capacitance difference calculation unit in the first measurement mode, and to correct the second capacitance by the fourth capacitance based on a calculation result of the capacitance calculation unit and a calculation result of the capacitance difference calculation unit in the second measurement mode, wherein the pressure measuring unit converts the corrected first capacitance into the pressure measurement value in the first measurement mode, and converts the corrected second capacitance into the pressure measurement value in the second measurement mode.
In one configuration example of the diaphragm vacuum gauge of the present invention, the pressure correction unit corrects the pressure measurement value only when the pressure measurement value exceeds an upper limit of a specified pressure measurement range in the first measurement mode, and corrects the pressure measurement value only when the pressure measurement value falls below a lower limit of a specified pressure measurement range in the second measurement mode.
本発明によれば、圧力計測室内の被計測媒体の温度と被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して圧力計測値を補正することにより、隔膜真空計の圧力計測範囲の上限を拡張する(上限を上げる)ことができる。 According to the present invention, the upper limit of the pressure measurement range of the diaphragm vacuum gauge can be expanded (the upper limit can be raised) by converting the temperature difference between the temperature of the medium to be measured in the pressure measurement chamber and the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber into a pressure difference and correcting the pressure measurement value.
また、本発明では、第1の計測モード時に第1の圧力計測室を冷却して、第1の圧力計測室内の被計測媒体の温度と被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して圧力計測値を補正し、また第2の計測モード時に第2の圧力計測室を加熱して、第2の圧力計測室内の被計測媒体の温度と被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して圧力計測値を補正することにより、第1の計測モードで圧力計測範囲の上限を拡張する(上限を上げる)ことができ、第2の計測モードで圧力計測範囲の下限を拡張する(下限を下げる)ことができる。 In addition, in the present invention, the first pressure measurement chamber is cooled in the first measurement mode, and the temperature difference between the temperature of the medium to be measured in the first pressure measurement chamber and the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber is converted into a pressure difference to correct the pressure measurement value, and the second pressure measurement chamber is heated in the second measurement mode, and the temperature difference between the temperature of the medium to be measured in the second pressure measurement chamber and the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber is converted into a pressure difference to correct the pressure measurement value, thereby making it possible to expand the upper limit of the pressure measurement range in the first measurement mode (raise the upper limit) and expand the lower limit of the pressure measurement range in the second measurement mode (lower the lower limit).
[発明の原理]
発明者は、隔膜真空計の構造自体を改良せずに計測条件を変更できる要素として、計測対象の気体の温度があることに着眼した。そして、隔膜真空計に供給される気体を真空計近傍あるいは真空計内部で規定された温度に冷却することで、計測可能(上限以内の)範囲へと圧力を下降させて計測し、冷却による温度差に基づいて圧力値を換算すれば、圧力計測範囲の上限を等価的に拡張できることに想到した。換算については、物理的な原理に基づいて行なってもよいし、温度差に起因する圧力差の関係を予め実験的に求めることで行なってもよい。
[Principle of the Invention]
The inventors noticed that the temperature of the gas to be measured is an element that can change the measurement conditions without improving the structure of the diaphragm vacuum gauge itself. They then came up with the idea that by cooling the gas supplied to the diaphragm vacuum gauge to a specified temperature near or inside the gauge, the pressure can be reduced to a measurable range (within the upper limit) and measured, and the pressure value can be converted based on the temperature difference caused by cooling, so that the upper limit of the pressure measurement range can be equivalently expanded. The conversion may be based on physical principles, or may be performed by experimentally determining in advance the relationship between the pressure difference caused by the temperature difference.
[第1の実施例]
以下、本発明の実施例について図面を参照して説明する。本実施例では、隔膜真空計が配管を介して被計測チャンバに接続されているシステムを想定する。隔膜真空計は、異物堆積を防止するために自己加熱しており、被計測チャンバとは温度が異なるので、両空間に熱遷移による圧力差が生じることが知られている。
[First embodiment]
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings. In this embodiment, a system is assumed in which a diaphragm vacuum gauge is connected to a chamber to be measured via piping. It is known that the diaphragm vacuum gauge is self-heated to prevent the accumulation of foreign matter, and since the temperature of the diaphragm vacuum gauge is different from that of the chamber to be measured, a pressure difference occurs between the two spaces due to thermal transition.
この圧力と温度の関係は、図1のように2つのチャンバ200,201が直径dの配管202で接続されている状態を想定する場合、中間流(式(2))および分子流(式(3))のそれぞれで近似式が提案されている。 Assuming that two chambers 200, 201 are connected by a pipe 202 of diameter d as shown in Figure 1, approximate equations have been proposed for the relationship between pressure and temperature for both intermediate flow (equation (2)) and molecular flow (equation (3)).
式(2)、式(3)において、P1,P2はそれぞれチャンバ200,201内のガスの圧力、T1,T2はチャンバ200,201内のガスの温度、a,b,cはガス種と温度による係数である。
式(2)、式(3)の関係から、被計測チャンバと隔膜真空計の受圧部との圧力差が図2のようになると報告されている(文献「吉川康秀他,“サファイア高温隔膜真空計の開発”,azbil Technical Review,アズビル株式会社,2011年1月」)。
In equations (2) and (3), P 1 and P 2 are the gas pressures in the chambers 200 and 201, T 1 and T 2 are the gas temperatures in the chambers 200 and 201, and a, b, and c are coefficients depending on the gas type and temperature.
It has been reported that, based on the relationship between equations (2) and (3), the pressure difference between the chamber to be measured and the pressure-receiving part of the diaphragm vacuum gauge is as shown in FIG. 2 (see the literature "Yasushi Yoshikawa et al., "Development of a Sapphire High-Temperature Diaphragm Vacuum Gauge", azbil Technical Review, Azbil Corporation, January 2011").
図2の例では、ガス種をN2、被計測チャンバ内のガスの温度T1を25℃、被計測チャンバと隔膜真空計とを接続する配管の直径dを12.7mmとしている。図2の横軸は被計測チャンバ内のガスの圧力P1、縦軸は被計測チャンバと隔膜真空計の受圧部との圧力差である。図2の203は隔膜真空計の受圧部の自己加熱温度が125℃の場合の特性を示し、204は自己加熱温度が200℃の場合の特性を示している。 In the example of Fig. 2, the gas type is N2 , the gas temperature T1 in the measured chamber is 25°C, and the diameter d of the pipe connecting the measured chamber and the diaphragm vacuum gauge is 12.7 mm. The horizontal axis of Fig. 2 is the gas pressure P1 in the measured chamber, and the vertical axis is the pressure difference between the measured chamber and the pressure receiving part of the diaphragm vacuum gauge. 203 in Fig. 2 shows the characteristics when the self-heating temperature of the pressure receiving part of the diaphragm vacuum gauge is 125°C, and 204 shows the characteristics when the self-heating temperature is 200°C.
図3は、これらの近似関係を基にして、計測対象(被計測チャンバ)のガスの圧力P1と隔膜真空計の圧力計測値P2との関係を解析した結果を示す図である。ここでは、被計測チャンバ内のガスの温度T1と隔膜真空計の受圧部の冷却温度T2(T1>T2)との温度差を100℃としている。図3において、300は圧力P1とP2との関係を示し、301は被計測チャンバと隔膜真空計との間に熱遷移がない場合の圧力P1とP2との関係を示している。図3におけるA1は粘性流の領域、A2は中間流の領域、A3は分子流の領域と呼ばれる。 Figure 3 shows the results of an analysis of the relationship between the pressure P1 of the gas in the measurement target (measured chamber) and the pressure measurement value P2 of the diaphragm vacuum gauge based on these approximate relationships. Here, the temperature difference between the temperature T1 of the gas in the measured chamber and the cooling temperature T2 ( T1 > T2 ) of the pressure receiving part of the diaphragm vacuum gauge is set to 100°C. In Figure 3, 300 shows the relationship between the pressures P1 and P2 , and 301 shows the relationship between the pressures P1 and P2 when there is no thermal transition between the measured chamber and the diaphragm vacuum gauge. In Figure 3, A1 is called the viscous flow region, A2 is called the intermediate flow region, and A3 is called the molecular flow region.
図3によれば、半導体の成膜やエッチングプロセスなどにおいて頻繁に利用される圧力レンジとなる中間流と分子流の領域において、圧力P1とP2が異なり、熱遷移による圧力差が発生していることが分かる。圧力差は、圧力計測値P2の20%前後にも達する。
具体的には図4に示すように、熱遷移がある場合(被計測チャンバと隔膜真空計との温度差が大きい場合)には、被計測チャンバのガスの圧力P1は、隔膜真空計の圧力計測値P2よりも実際には高い圧力となる。
3, it can be seen that the pressures P1 and P2 are different in the intermediate flow and molecular flow regions, which are pressure ranges frequently used in semiconductor film formation and etching processes, and a pressure difference occurs due to thermal transition. The pressure difference reaches about 20% of the pressure measurement value P2 .
Specifically, as shown in FIG. 4, when there is a thermal transition (when the temperature difference between the measured chamber and the diaphragm vacuum gauge is large), the gas pressure P1 in the measured chamber is actually higher than the pressure measurement value P2 of the diaphragm vacuum gauge.
したがって、隔膜真空計の圧力計測値P2は、被計測チャンバの実際の圧力P1に近くなるように補正されるのが通常である。すなわち、熱遷移という現象を誤差要因としてとらえるため、補正演算することで隔膜真空計の圧力計測値P2を補正し変更する。具体的には、図3に示すように隔膜真空計の圧力計測値P2=0.004Torrという値を0.01Torrに補正する。 Therefore, the pressure measurement value P2 of the diaphragm vacuum gauge is usually corrected so that it approaches the actual pressure P1 of the chamber being measured. That is, in order to consider the phenomenon of thermal transition as an error factor, the pressure measurement value P2 of the diaphragm vacuum gauge is corrected and changed by a correction calculation. Specifically, as shown in Figure 3, the pressure measurement value P2 of the diaphragm vacuum gauge, which is 0.004 Torr, is corrected to 0.01 Torr.
本実施例では、図3に示した関係を積極的に利用することで、隔膜真空計の物理的な計測限界を超えることなく、より高い圧力範囲まで計測精度を維持したまま計測が可能となる。本実施例では、被計測チャンバ側の計測温度データあるいは計測温度データを予測できる隔膜真空計側の計測温度データをパラメータとして利用する。この温度パラメータと実際の圧力値との相関テーブルを隔膜真空計校正時に作成しておき、この相関テーブルに基づいて隔膜真空計の出力を決定する。 In this embodiment, by actively utilizing the relationship shown in Figure 3, it is possible to perform measurements up to a higher pressure range while maintaining measurement accuracy without exceeding the physical measurement limit of the diaphragm vacuum gauge. In this embodiment, the measured temperature data on the measured chamber side or the measured temperature data on the diaphragm vacuum gauge side that can predict the measured temperature data is used as a parameter. A correlation table between this temperature parameter and the actual pressure value is created when the diaphragm vacuum gauge is calibrated, and the output of the diaphragm vacuum gauge is determined based on this correlation table.
隔膜真空計側を冷却して低温にし、被計測チャンバと隔膜真空計との温度差を100℃にすれば、従来と同じ圧力感度(従来と同じダイアフラムの厚さ)を維持した状態で、従来は計測が困難であった133kPaの圧力レンジにおいても、およそ36%ほど圧力レンジを拡大できる。具体的な計測値としては、207kPaのチャンバ圧力まで計測可能となる。 By cooling the diaphragm gauge to a low temperature and setting the temperature difference between the chamber being measured and the diaphragm gauge to 100°C, the pressure range can be expanded by approximately 36% even to the 133 kPa pressure range, which was previously difficult to measure, while maintaining the same pressure sensitivity (same diaphragm thickness as before). In concrete terms, it becomes possible to measure chamber pressures up to 207 kPa.
本実施例では、被計測チャンバの温度を正確に把握する必要があるが、半導体製造装置などでは被計測チャンバは通常、温度管理されているため、被計測チャンバで計測された温度を用いればよい。もしくは、被計測チャンバの温度を予測できる温度センサあるいは熱流束センサを隔膜真空計側に設置し、その演算値(例えば積算値)を利用してもよい。なお、温度を正確に把握できない場合に備え、出荷時に最低限の校正を行う場合もある。 In this embodiment, the temperature of the chamber to be measured must be accurately known, but in semiconductor manufacturing equipment and the like, the chamber to be measured is usually temperature controlled, so the temperature measured in the chamber to be measured can be used. Alternatively, a temperature sensor or heat flux sensor that can predict the temperature of the chamber to be measured can be installed on the diaphragm vacuum gauge side, and the calculated value (e.g., integrated value) can be used. Note that in cases where the temperature cannot be accurately known, a minimum calibration may be performed at the time of shipment.
以下、本実施例の隔膜真空計についてより詳細に説明する。図5は本実施例に係る隔膜真空計の構成を示すブロック図である。隔膜真空計は、被計測チャンバ12と配管2を介して連通するように設けられた圧力調整室1と、圧力調整室1と絞り4を介して連通するように設けられた圧力計測室3と、圧力計測室3内の被計測媒体(例えばプロセスガス)の圧力によるダイアフラム(隔膜)の変位に応じて静電容量が変化する受圧部5と、圧力計測室3を冷却する冷却器6と、圧力調整室1内の被計測媒体の温度T3を計測する温度センサ7と、圧力計測室3内の被計測媒体の温度T2を計測する温度センサ8と、受圧部5の静電容量を圧力計測値に変換する回路部10とを備えている。
The diaphragm vacuum gauge of this embodiment will be described in more detail below. Fig. 5 is a block diagram showing the configuration of the diaphragm vacuum gauge according to this embodiment. The diaphragm vacuum gauge includes a
図6は隔膜真空計の受圧部5の要部の構成を示す断面図である。受圧部5の台座50の中央部には凹部が形成されている。この凹部が形成された台座50の面には、被計測媒体の圧力Pに応じて変形可能に構成されたダイアフラム51が接合されている。台座50の凹部は、ダイアフラム51と共に基準真空室52を形成する。
Figure 6 is a cross-sectional view showing the configuration of the main parts of the pressure-receiving
台座50の基準真空室52側の面には固定電極53が形成され、ダイアフラム51の基準真空室52側の面には固定電極53と対向するように可動電極54が形成されている。こうして、固定電極53と可動電極54とがギャップを隔てて対向するように配置されている。ダイアフラム51が圧力計測室3内の被計測媒体の圧力Pを受けて撓むと、可動電極54と固定電極53との間の間隔が変化し、可動電極54と固定電極53との間の静電容量が変化する。この静電容量の変化からダイアフラム51が受けた被計測媒体の圧力Pを検出することができる。
A fixed
また、固定電極53の外側の台座50の基準真空室52側の面には、固定電極55が形成されている。可動電極54の外側のダイアフラム51の基準真空室52側の面には、固定電極55と対向するように可動電極56が形成されている。固定電極55と可動電極56とはダイアフラム51の縁部に形成されている。ダイアフラム51が被計測媒体の圧力Pを受けて撓んだとしても、ダイアフラム51の縁部は殆ど変形しないため、可動電極56と固定電極55との間の静電容量は変化し難い。この静電容量は、センサ内外の温度変化および基準真空室52内の湿度変化等に基づく測定誤差を除去するために設けられたものである。ダイアフラム51と台座50とは、例えばサファイアなどの絶縁体から構成されている。
A fixed
配管2より導入される被計測媒体は、圧力調整室1内に流入し、絞り4を通って圧力計測室3内に流入する。
絞り4を設けることで、配管の直径dを変えることが可能となる。複数の直径dに紐づいたデータ(温度、圧力)を取得することで、主に中間流領域の多くのパラメータを把握することができる。すなわち、絞り4を入れることで計測精度を向上させることができる。絞り4は、孔径が固定されている固定絞りでもよいし、外部から孔径の変更が可能な可変絞りでもよい。可変絞りの場合には、絞りの程度を調整することができる。
The medium to be measured introduced through the pipe 2 flows into the
Providing the
図7は隔膜真空計の回路部10の構成を示すブロック図である。回路部10は、可動電極54と固定電極53との間の静電容量に比例する振幅の信号、および可動電極54と固定電極53との間の静電容量から可動電極56と固定電極55との間の静電容量を減算した値に比例する振幅の信号を出力する信号検出部100と、信号検出部100と温度センサ7,8の出力をデジタル信号に変換するAD変換部101と、演算処理部102と、演算処理部102のプログラムを記憶するメモリ103と、回路部10の各部に電源電圧を供給する電源104と、インターフェース部105とを備えている。
Figure 7 is a block diagram showing the configuration of the
図8は信号検出部100の構成を示すブロック図である。信号検出部100は、信号発生器1000と、容量CfとオペアンプA1とからなる増幅器1001,1002と、減算器1003と、差動入力型のローパスフィルタ1004,1005と、増幅器1001とローパスフィルタ1004との間に設けられたスイッチ1006と、減算器1003とローパスフィルタ1005との間に設けられたスイッチ1007とから構成される。図8では、可動電極54と固定電極53との間の静電容量をCxで表し、可動電極56と固定電極55との間の静電容量(参照容量)をCrで表している。
Figure 8 is a block diagram showing the configuration of the
信号発生器1000は、圧力計測時に正弦波状のセンサ駆動信号Esin(2πft)を受圧部5の第1の電極(例えば固定電極53)と第3の電極(例えば固定電極55)とスイッチ1006,1007とに印加する。Eは振幅、fは周波数、tは時間である。
During pressure measurement, the
増幅器1001は、受圧部5の第2の電極(例えば可動電極54)から出力される電流を電圧に変換して増幅し、静電容量Cxに比例した振幅の信号を出力する。増幅器1002は、受圧部5の第4の電極(例えば可動電極56)から出力される電流を電圧に変換して増幅し、静電容量Crに比例した振幅の信号を出力する。
減算器1003は、増幅器1001の出力信号から増幅器1002の出力信号を減算する。
The
The
スイッチ1006とローパスフィルタ1004とは、同期検波部1008を構成している。ローパスフィルタ1004は、センサ駆動信号Esin(2πft)を通過させるようにカットオフ周波数が設定されている。同期検波部1008は、増幅器1001の出力から、センサ駆動信号Esin(2πft)に同期した信号を復調する。
The
具体的には、スイッチ1006は、信号発生器1000から出力されるセンサ駆動信号Esin(2πft)が正のとき、増幅器1001の出力端子とローパスフィルタ1004の非反転入力端子とを接続する。また、スイッチ1006は、センサ駆動信号Esin(2πft)が負のとき、増幅器1001の出力端子とローパスフィルタ1004の反転入力端子とを接続する。これにより、増幅器1001の出力から、センサ駆動信号Esin(2πft)に同期した信号を復調することができる。
Specifically, when the sensor drive signal Esin (2πft) output from the
一方、スイッチ1007とローパスフィルタ1005とは、同期検波部1009を構成している。ローパスフィルタ1005は、センサ駆動信号Esin(2πft)を通過させるようにカットオフ周波数が設定されている。同期検波部1009は、減算器1003の出力から、センサ駆動信号Esin(2πft)に同期した信号を復調する。
On the other hand, the
具体的には、スイッチ1007は、信号発生器1000から出力されるセンサ駆動信号Esin(2πft)が正のとき、減算器1003の出力端子とローパスフィルタ1005の非反転入力端子とを接続する。また、スイッチ1007は、センサ駆動信号Esin(2πft)が負のとき、減算器1003の出力端子とローパスフィルタ1005の反転入力端子とを接続する。これにより、減算器1003の出力から、センサ駆動信号Esin(2πft)に同期した信号を復調することができる。
Specifically, when the sensor drive signal Esin (2πft) output from the
AD変換部101は、信号検出部100の出力(同期検波部1008の出力と同期検波部1009の出力)と、温度センサ7,8の出力とをデジタル信号に変換する。
図7に示すように、演算処理部102は、温度推定部1020と、制御部1021と、容量算出部1022と、容量差算出部1023と、容量補正部1024と、圧力計測部1025と、圧力補正部1026とを備えている。
The
As shown in FIG. 7, the
図9は演算処理部102の動作を説明するフローチャートである。温度推定部1020は、温度センサ7によって計測された温度T3から被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定する(図9ステップS100)。圧力調整室1内の被計測媒体の温度T3と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との関係は、事前の試験によって確認されている。温度推定部1020は、予め設定された式により温度T3から温度T1を算出してもよいし、予め設定されたテーブルから温度T3に対応する温度T1の値を取得するようにしてもよい。
9 is a flow chart for explaining the operation of the
制御部1021は、温度推定部1020によって推定された温度T1と温度センサ8によって計測された温度T2との差T2-T1が所定値(例えば-100℃)になるように冷却器6に電力を供給して除熱させる(図9ステップS101)。こうして、圧力計測室3内の被計測媒体の温度T2と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との温度差T2-T1が所定値になるように圧力計測室3が冷却される。温度差T2-T1を決定する所定値は、-200℃~0℃の範囲で任意に設定することが可能である。冷却器6としては、例えばヒートポンプやペルチェ素子がある。
The
容量算出部1022は、同期検波部1008の出力信号の振幅から静電容量Cxの値を算出する(図9ステップS102)。
容量差算出部1023は、同期検波部1009の出力信号の振幅から容量差(Cx-Cr)の値を算出する(図9ステップS103)。
The
The capacitance
容量補正部1024は、容量算出部1022の算出結果と容量差算出部1023の算出結果とに基づいて、参照容量Crにより静電容量Cxを補正した値(Cx-Cr)/Cxを算出する(図9ステップS104)。
圧力計測部1025は、容量補正部1024によって算出された静電容量(Cx-Cr)/Cxを圧力計測値P2に変換する(図9ステップS105)。
The
The
圧力補正部1026は、温度センサ8によって計測された、圧力計測室3内の被計測媒体の温度T2と、温度推定部1020によって推定された、被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1とに基づいて、圧力計測値P2を補正した値を得る(図9ステップS106)。
The
具体的には、温度T2,T1と圧力計測値P2と被計測チャンバ12内の被計測媒体の実際の圧力値P1とを対応付けた相関テーブルが隔膜真空計の校正時に作成され、圧力補正部1026に設定されている。圧力補正部1026は、相関テーブルから温度T2,T1と圧力計測値P2とに対応する圧力値P1の値を取得する。こうして、圧力計測値P2を、被計測チャンバ12の実際の圧力値P1に近くなるように補正することができる。
Specifically, a correlation table that associates temperatures T2 , T1 , pressure measurement value P2 , and actual pressure value P1 of the measurement medium in the
そして、圧力補正部1026は、算出した圧力値P1をインターフェース部105を介して例えば上位装置に出力する(図9ステップS107)。
演算処理部102は、例えばユーザの指示によって圧力計測動作が終了するまで(図9ステップS108においてYES)、ステップS100~S107の処理を計測周期毎に行う。
Then, the
The
こうして、本実施例では、隔膜真空計の圧力計測範囲の上限を拡張することができる。 In this way, this embodiment makes it possible to expand the upper limit of the pressure measurement range of the diaphragm vacuum gauge.
[第2の実施例]
次に、本発明の第2の実施例について説明する。図10は本発明の第2の実施例に係る隔膜真空計の構成を示すブロック図である。本実施例の隔膜真空計は、圧力調整室1aと、圧力計測室3aと、受圧部5と、冷却器6と、温度センサ7,8と、回路部10とを備えている。
[Second embodiment]
Next, a second embodiment of the present invention will be described. Fig. 10 is a block diagram showing the configuration of a diaphragm vacuum gauge according to the second embodiment of the present invention. The diaphragm vacuum gauge of this embodiment includes a
第1の実施例では、圧力調整室1と圧力計測室3とが直列に配置され、圧力調整室1内に流入した被計測媒体は、絞り4を通って圧力計測室3内に流入するようになっていた。
これに対して、本実施例では、圧力調整室1aと圧力計測室3aとが並列に配置されている。圧力調整室1aおよび圧力計測室3aと、配管2aとの間にはバッフル9が設けられている。被計測チャンバ12から配管2aを介して導入される被計測媒体は、バッフル9の面に当たり、バッフル9の周囲の隙間を通して、圧力調整室1aと圧力計測室3aとに同じ量が導入される。また、圧力調整室1aと圧力計測室3aとは、絞り4aを介して連通している。
In the first embodiment, the
In contrast to this, in this embodiment, the
受圧部5と冷却器6と回路部10の構成は、第1の実施例と同様である。第1の実施例と圧力調整室1aの構造が異なるため、圧力調整室1a内の被計測媒体の温度T3と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との関係は、本実施例用に校正されていることは言うまでもない。この関係を用いて、回路部10の温度推定部1020は、温度センサ7によって計測された温度T3から被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定することができる。同様に、回路部10の圧力補正部1026が用いる相関テーブルも本実施例用に校正されていることは言うまでもない。
The configurations of the
こうして、本実施例では、第1の実施例と同様の効果を得ることができる。なお、第1、第2の実施例では、温度推定部1020によって被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定しているが、被計測チャンバに温度センサが設けられている場合には、この温度センサから温度T1の値を取得するようにしてもよい。
In this way, this embodiment can obtain the same effect as that of the first embodiment. In the first and second embodiments, the temperature T1 of the measurement target medium in the
[第3の実施例]
次に、本発明の第3の実施例について説明する。図11は本発明の第3の実施例に係る隔膜真空計の構成を示すブロック図である。本実施例の隔膜真空計は、被計測チャンバ12と配管2bを介して連通するように設けられた圧力計測室3bと、受圧部5と、冷却器6と、温度センサ8と、回路部10bと、配管2b内の熱流を計測する熱流センサ11とを備えている。
[Third Example]
Next, a third embodiment of the present invention will be described. Fig. 11 is a block diagram showing the configuration of a diaphragm vacuum gauge according to the third embodiment of the present invention. The diaphragm vacuum gauge of this embodiment includes a
第1、第2の実施例では、圧力調整室1,1aが設けられていたが、本実施例では、被計測媒体は、被計測チャンバ12から配管2bを介して直接、圧力計測室3bに導入されるようになっている。この場合、被計測チャンバ12が圧力調整室となり、配管2bが絞りの役割を果たす。
In the first and second embodiments,
受圧部5と冷却器6は、第1の実施例と同様である。図12は本実施例の回路部10bの構成を示すブロック図である。回路部10bは、信号検出部100と、AD変換部101と、演算処理部102bと、メモリ103bと、電源104と、インターフェース部105とを備えている。
信号検出部100とAD変換部101については第1の実施例で説明したとおりである。
The
The
図12に示すように、演算処理部102bは、温度推定部1020bと、制御部1021と、容量算出部1022と、容量差算出部1023と、容量補正部1024と、圧力計測部1025と、圧力補正部1026bとを備えている。
As shown in FIG. 12, the
図13は演算処理部102bの動作を説明するフローチャートである。温度推定部1020bは、熱流センサ11によって計測された熱流量から被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定する(図13ステップS200)。配管2b内の熱流と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との関係は、事前の試験によって確認されている。温度推定部1020bは、予め設定された式により熱流量から温度T1を算出してもよいし、予め設定されたテーブルから熱流量に対応する温度T1の値を取得するようにしてもよい。
Fig. 13 is a flow chart for explaining the operation of the
熱流センサ11によって計測された熱流量を面積換算した熱流束をq(W/m2)とし、対流熱伝達による伝熱を想定すると、熱流束qと温度センサ8によって計測された温度T2と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との関係は次式のようになる。
q=k(T1-T2) ・・・(4)
If the heat flux obtained by converting the heat flow rate measured by the
q=k(T 1 - T 2 )...(4)
式(4)におけるkは熱伝達率である。式(4)により、熱流束qと温度T2とから温度T1を算出することができる。 In formula (4), k is the heat transfer coefficient. Using formula (4), the temperature T1 can be calculated from the heat flux q and the temperature T2 .
制御部1021と容量算出部1022と容量差算出部1023と容量補正部1024と圧力計測部1025の動作(図13ステップS201~S205)は、第1の実施例と同じである。
The operations of the
第1の実施例と同様に、圧力補正部1026bは、温度センサ8によって計測された、圧力計測室3内の被計測媒体の温度T2と、温度推定部1020bによって推定された、被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1とに基づいて、圧力計測値P2を補正した値を得る(図13ステップS206)。具体的には、圧力補正部1026bは、予め設定された相関テーブルから温度T2,T1と圧力計測値P2とに対応する圧力値P1の値を取得する。相関テーブルは、本実施例用に校正されていることは言うまでもない。
As in the first embodiment, the
そして、圧力補正部1026bは、算出した圧力値P1をインターフェース部105を介して例えば上位装置に出力する(図13ステップS207)。
演算処理部102bは、例えばユーザの指示によって圧力計測動作が終了するまで(図13ステップS208においてYES)、ステップS200~S207の処理を計測周期毎に行う。
Then, the
The
こうして、本実施例では、第1の実施例と同様の効果を得ることができる。なお、本実施例では、温度推定部1020bによって被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定しているが、被計測チャンバ12に温度センサが設けられている場合には、この温度センサから温度T1の値を取得するようにしてもよい。
In this way, the present embodiment can obtain the same effects as those of the first embodiment. In this embodiment, the
第1~第3の実施例では、圧力補正部1026,1026bによって圧力計測値P2を常時補正しているが、これに限るものではない。すなわち、圧力補正部1026,1026bは、通常は圧力計測値P2を補正せずにそのまま圧力値P1として出力し、圧力計測値P2が規定の圧力計測範囲の上限を上回ったときのみステップS106,S206の処理により圧力計測値P2を補正するようにしてもよい。
In the first to third embodiments, the pressure measurement value P2 is constantly corrected by the
[第4の実施例]
次に、本発明の第4の実施例について説明する。図14は本発明の第4の実施例に係る隔膜真空計の構成を示すブロック図である。本実施例の隔膜真空計は、被計測チャンバ12と配管2cを介して連通するように設けられた圧力計測室3c,3dと、圧力計測室3c内の被計測媒体の圧力によるダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化する受圧部5と、圧力計測室3cを冷却する冷却器6と、圧力計測室3c内の被計測媒体の温度を計測する温度センサ8と、回路部10cと、圧力計測室3d内の被計測媒体の圧力によるダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化する受圧部13と、圧力計測室3d内の被計測媒体の温度を計測する温度センサ14と、圧力計測室3dを加熱する加熱器15(ヒータ)とを備えている。
[Fourth embodiment]
Next, a fourth embodiment of the present invention will be described. Fig. 14 is a block diagram showing the configuration of a diaphragm vacuum gauge according to the fourth embodiment of the present invention. The diaphragm vacuum gauge of this embodiment includes
本実施例では、2つの圧力計測室3c,3dが並列に配置されている。圧力計測室3c,3dと配管2cとの間にはバッフル9が設けられている。被計測チャンバ12から配管2cを介して導入される被計測媒体は、バッフル9の面に当たり、バッフル9の周囲の隙間を通して、圧力計測室3c,3dに同じ量が導入される。また、圧力計測室3cと圧力計測室3dとは、絞り4cを介して連通している。第1、第2の実施例と同様に、絞り4cは、固定絞りでもよいし、可変絞りでもよい。
受圧部5と冷却器6の構成は、第1の実施例と同様である。
In this embodiment, two
The configurations of the
図15は隔膜真空計の受圧部13の要部の構成を示す断面図である。受圧部13の台座130の中央部には凹部が形成されている。この凹部が形成された台座130の面には、被計測媒体の圧力Pに応じて変形可能に構成されたダイアフラム131が接合されている。台座130の凹部は、ダイアフラム131と共に基準真空室132を形成する。
Figure 15 is a cross-sectional view showing the configuration of the main parts of the pressure-receiving
台座130の基準真空室132側の面には固定電極133が形成され、ダイアフラム131の基準真空室132側の面には固定電極133と対向するように可動電極134が形成されている。こうして、固定電極133と可動電極134とがギャップを隔てて対向するように配置されている。ダイアフラム131が圧力計測室3d内の被計測媒体の圧力Pを受けて撓むと、可動電極134と固定電極133との間の間隔が変化し、可動電極134と固定電極133との間の静電容量が変化する。この静電容量の変化からダイアフラム131が受けた被計測媒体の圧力Pを検出することができる。
A fixed
また、固定電極133の外側の台座130の基準真空室132側の面には、固定電極135が形成されている。可動電極134の外側のダイアフラム131の基準真空室132側の面には、固定電極135と対向するように可動電極136が形成されている。このように受圧部13は、受圧部5と同様の構造を有するものである。
A fixed
図16は隔膜真空計の回路部10cの構成を示すブロック図である。回路部10cは、信号検出部100と、可動電極134と固定電極133との間の静電容量に比例する振幅の信号、および可動電極134と固定電極133との間の静電容量から可動電極136と固定電極135との間の静電容量を減算した値に比例する振幅の信号を出力する信号検出部106と、信号検出部100,106と温度センサ8,14の出力をデジタル信号に変換するAD変換部101cと、演算処理部102cと、演算処理部102cのプログラムを記憶するメモリ103cと、電源104と、インターフェース部105とを備えている。
Figure 16 is a block diagram showing the configuration of the
信号検出部106の構成は、信号検出部100と同様であるので、図8の符号を用いて説明する。信号検出部106の信号発生器1000は、圧力計測時にセンサ駆動信号Esin(2πft)を受圧部13の第1の電極(例えば固定電極133)と第3の電極(例えば固定電極135)とスイッチ1006,1007とに印加する。
The configuration of the
信号検出部106の増幅器1001は、受圧部13の第2の電極(例えば可動電極134)から出力される電流を電圧に変換して増幅し、可動電極134と固定電極133との間の静電容量Cxに比例した振幅の信号を出力する。信号検出部106の増幅器1002は、受圧部13の第4の電極(例えば可動電極136)から出力される電流を電圧に変換して増幅し、可動電極136と固定電極135との間の静電容量(参照容量)Crに比例した振幅の信号を出力する。
The
信号検出部106の同期検波部1008は、増幅器1001の出力から、センサ駆動信号Esin(2πft)に同期した信号を復調する。信号検出部106の同期検波部1009は、減算器1003の出力から、センサ駆動信号Esin(2πft)に同期した信号を復調する。
The
AD変換部101cは、信号検出部100,信号検出部106の出力と温度センサ8,14の出力とをデジタル信号に変換する。
図16に示すように、演算処理部102cは、温度推定部1020cと、制御部1021cと、容量算出部1022cと、容量差算出部1023cと、容量補正部1024cと、圧力計測部1025cと、圧力補正部1026cとを備えている。
The
As shown in FIG. 16, the
本実施例の隔膜真空計は、第1の実施例と同様の高い圧力範囲を対象とする第1の計測モードと、第1の計測モードよりも低い圧力範囲を対象とする第2の計測モードの2つのモードを備えている。第1の計測モードにするか、第2の計測モードにするかは、ユーザが任意に選択して演算処理部102cに指示することができる。
The diaphragm vacuum gauge of this embodiment has two modes: a first measurement mode for a high pressure range similar to that of the first embodiment, and a second measurement mode for a lower pressure range than the first measurement mode. The user can select either the first measurement mode or the second measurement mode at will and instruct the
第1の計測モードでは、圧力計測室3dが第2の実施例の圧力調整室1aの役割を果たす。また、第1の計測モードでは、制御部1021cは、加熱器15を動作させず、冷却器6のみ動作させる。第1の計測モードにおける処理の流れは第1の実施例と同じなので、図9の符号を用いて演算処理部102cの動作を説明する。
In the first measurement mode, the
第1の計測モードにおいて、温度推定部1020cは、温度センサ14によって計測された温度T3から被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定する(図9ステップS100)。第1の計測モードにおける圧力計測室3d内の被計測媒体の温度T3と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との関係は、事前の試験によって確認されている。温度推定部1020cは、予め設定された第1の計測モード用の式により温度T3から温度T1を算出してもよいし、予め設定された第1の計測モード用のテーブルから温度T3に対応する温度T1の値を取得するようにしてもよい。
In the first measurement mode, the
第1の計測モードにおいて、制御部1021cは、温度推定部1020cによって推定された温度T1と温度センサ8によって計測された温度T2との差T2-T1が第1の所定値になるように冷却器6に電力を供給して除熱させる(図9ステップS101)。第1の所定値は、-200℃~0℃の範囲で任意に設定することが可能である。
In the first measurement mode, the
第1の計測モードにおいて、容量算出部1022cは、信号検出部100の同期検波部1008の出力信号の振幅から静電容量Cxの値を算出する(図9ステップS102)。
第1の計測モードにおいて、容量差算出部1023cは、信号検出部100の同期検波部1009の出力信号の振幅から容量差(Cx-Cr)の値を算出する(図9ステップS103)。
In the first measurement mode, the
In the first measurement mode, the capacitance
第1の実施例と同様に、容量補正部1024cは、参照容量Crにより静電容量Cxを補正した値(Cx-Cr)/Cxを算出する(図9ステップS104)。
第1の実施例と同様に、圧力計測部1025cは、静電容量(Cx-Cr)/Cxを圧力計測値P2に変換する(図9ステップS105)。
As in the first embodiment, the
As in the first embodiment, the
第1の計測モードにおいて、圧力補正部1026cは、温度センサ8によって計測された、圧力計測室3c内の被計測媒体の温度T2と、温度推定部1020cによって推定された、被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1とに基づいて、圧力計測値P2を補正した値を得る(図9ステップS106)。第1の計測モードにおける温度T2,T1と圧力計測値P2と被計測チャンバ12内の被計測媒体の実際の圧力値P1とを対応付けた第1の相関テーブルが隔膜真空計の校正時に作成され、圧力補正部1026cに設定されている。圧力補正部1026cは、第1の相関テーブルから温度T2,T1と圧力計測値P2とに対応する圧力値P1の値を取得する。
In the first measurement mode, the
そして、圧力補正部1026cは、算出した圧力値P1をインターフェース部105を介して例えば上位装置に出力する(図9ステップS107)。
こうして、第1の計測モードの動作により、第1の実施例と同じ効果を得ることができる。
Then, the
Thus, the operation in the first measurement mode can provide the same effects as those in the first embodiment.
次に、第2の計測モードでは、圧力計測室3cが圧力調整室の役割を果たす。また、第2の計測モードでは、制御部1021cは、冷却器6を動作させず、加熱器15のみ動作させる。
Next, in the second measurement mode, the
図17は第2の計測モードにおける演算処理部102cの動作を説明するフローチャートである。第2の計測モードにおいて、温度推定部1020cは、温度センサ8によって計測された温度T3から被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定する(図17ステップS300)。第2の計測モードにおける圧力計測室3c内の被計測媒体の温度T3と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との関係は、事前の試験によって確認されている。温度推定部1020cは、予め設定された第2の計測モード用の式により温度T3から温度T1を算出してもよいし、予め設定された第2の計測モード用のテーブルから温度T3に対応する温度T1の値を取得するようにしてもよい。
17 is a flow chart for explaining the operation of the
第2の計測モードにおいて、制御部1021cは、温度推定部1020cによって推定された温度T1と温度センサ14によって計測された温度T2との差T2-T1が第2の所定値になるように加熱器15に電力を供給して発熱させる(図17ステップS301)。こうして、圧力計測室3d内の被計測媒体の温度T2と被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1との温度差T2-T1が第2の所定値になるように圧力計測室3dが加熱される。温度差T2-T1を決定する第2の所定値は、0℃~500℃の範囲で任意に設定することが可能である。
In the second measurement mode, the
第2の計測モードにおいて、容量算出部1022cは、信号検出部106の同期検波部1008の出力信号の振幅から静電容量Cxの値を算出する(図17ステップS302)。第2の計測モードにおいて、容量差算出部1023cは、信号検出部106の同期検波部1009の出力信号の振幅から容量差(Cx-Cr)の値を算出する(図17ステップS303)。
In the second measurement mode, the
第1の実施例と同様に、容量補正部1024cは、参照容量Crにより静電容量Cxを補正した値(Cx-Cr)/Cxを算出する(図17ステップS304)。
第1の実施例と同様に、圧力計測部1025cは、静電容量(Cx-Cr)/Cxを圧力計測値P2に変換する(図17ステップS305)。
As in the first embodiment, the
As in the first embodiment, the
第2の計測モードにおいて、圧力補正部1026cは、温度センサ14によって計測された、圧力計測室3d内の被計測媒体の温度T2と、温度推定部1020cによって推定された、被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1とに基づいて、圧力計測値P2を補正した値を得る(図17ステップS306)。第2の計測モードにおける温度T2,T1と圧力計測値P2と被計測チャンバ12内の被計測媒体の実際の圧力値P1とを対応付けた第2の相関テーブルが隔膜真空計の校正時に作成され、圧力補正部1026cに設定されている。圧力補正部1026cは、第2の相関テーブルから温度T2,T1と圧力計測値P2とに対応する圧力値P1の値を取得する。
In the second measurement mode, the
そして、圧力補正部1026cは、算出した圧力値P1をインターフェース部105を介して例えば上位装置に出力する(図17ステップS307)。
演算処理部102cは、例えばユーザの指示によって圧力計測動作が終了するまで(図17ステップS308においてYES)、ステップS300~S307の処理を計測周期毎に行う。
Then, the
The
上記のとおり、第2の計測モードは低い圧力範囲を対象とするものである。隔膜真空計は、通常、1.3Pa程度が最小の圧力レンジフルスケールであることが多い。1.3Pa程度になっている理由は、真空計の構造上、隔膜の厚さによって計測可能な圧力レンジが決まってしまうためである。すなわち、通常よりも低い圧力を計測するためには隔膜を薄くする必要がある。 As mentioned above, the second measurement mode is intended for the low pressure range. Diaphragm vacuum gauges usually have a minimum full-scale pressure range of around 1.3 Pa. The reason for the 1.3 Pa range is that the measurable pressure range is determined by the thickness of the diaphragm due to the structure of the vacuum gauge. In other words, in order to measure pressures lower than normal, the diaphragm needs to be made thinner.
より低い圧力を計測するために隔膜真空計の隔膜を薄くする場合、外乱の影響をより受け易くなるため、設計上あるいは使用上での制限が多くなる。具体的には、センサのマウント(パッケージ)による残留応力の影響がより顕著化したり、真空計の使用時に温度や振動といった外乱の影響を受け計測精度が悪化したりする可能性が高くなる。このように隔膜真空計の現実的な圧力計測範囲には構造的な下限があるが、状況によっては下限を下回る計測が必要になることがある。 When the diaphragm of a diaphragm vacuum gauge is made thinner to measure lower pressures, it becomes more susceptible to the effects of disturbances, resulting in more restrictions on design and use. Specifically, the effects of residual stress from the sensor mount (package) become more pronounced, and there is a higher possibility that the measurement accuracy will deteriorate due to disturbances such as temperature and vibration when the vacuum gauge is in use. In this way, there is a structural lower limit to the practical pressure measurement range of a diaphragm vacuum gauge, but in some situations it may be necessary to measure below the lower limit.
そこで、第2の計測モードでは、隔膜真空計の圧力計測室3dに供給される被計測媒体を加熱することで、計測可能(下限以内の)範囲へと圧力を上昇させて計測し、加熱による温度差に基づいて圧力計測値P2を補正する。
こうして、本実施例では、第1の計測モードで圧力計測範囲の上限を拡張する(上限を上げる)ことができ、第2の計測モードで圧力計測範囲の下限を拡張する(下限を下げる)ことができる。
Therefore, in the second measurement mode, the measurement medium supplied to the
Thus, in this embodiment, the upper limit of the pressure measurement range can be extended (the upper limit can be raised) in the first measurement mode, and the lower limit of the pressure measurement range can be extended (the lower limit can be lowered) in the second measurement mode.
なお、本実施例では、温度推定部1020cによって被計測チャンバ12内の被計測媒体の温度T1を推定しているが、被計測チャンバ12に温度センサが設けられている場合には、この温度センサから温度T1の値を取得するようにしてもよい。
In this embodiment, the temperature T1 of the measurement medium in the
また、本実施例では、圧力補正部1026cによって圧力計測値P2を常時補正しているが、これに限るものではない。すなわち、圧力補正部1026cは、第1の計測モード、第2の計測モードのいずれにおいても通常は圧力計測値P2を補正せずにそのまま圧力値P1として出力し、第1の計測モードにおいて圧力計測値P2が規定の圧力計測範囲の上限を上回ったときのみステップS106の処理により圧力計測値P2を補正し、第2の計測モードにおいて圧力計測値P2が規定の圧力計測範囲の下限を下回ったときのみステップS306の処理により圧力計測値P2を補正するようにしてもよい。
In this embodiment, the pressure measurement value P2 is constantly corrected by the
本実施例は、被計測チャンバ12の温度がリアルタイムに把握できない場合を想定している。真空計出荷時の校正を行うことで、被計測チャンバ12と2つの圧力計測室3c,3dの間の熱遷移が補正される。2つの圧力計測室3c,3d間の熱遷移現象を用いて、上下両方の計測限界を超えることができる。すなわち、圧力計測範囲の上限を上げ、下限を下げることができる。
This embodiment assumes a case where the temperature of the measured
また、第1~第4の実施例では、参照容量Crにより静電容量Cxを補正した値(Cx-Cr)/Cxを算出しているが、これに限るものではなく、静電容量Cxを圧力計測値P2に変換するようにしてもよい。 In the first to fourth embodiments, the capacitance Cx is corrected by the reference capacitance Cr to calculate the value (Cx-Cr)/Cx. However, this is not limiting, and the capacitance Cx may be converted into the pressure measurement value P2 .
第1~第4の実施例で説明した演算処理部102,102b,102cは、CPU(Central Processing Unit)、記憶装置及びインターフェースを備えたコンピュータと、これらのハードウェア資源を制御するプログラムによって実現することができる。このコンピュータの構成例を図18に示す。
The
コンピュータは、CPU400と、記憶装置401と、インターフェース装置(I/F)402とを備えている。I/F402には、冷却器6、加熱器15、AD変換部101等が接続される。このようなコンピュータにおいて、本発明の方法を実現させるためのプログラムは記憶装置401に格納される。CPU400は、記憶装置401に格納されたプログラムに従って第1~第4の実施例で説明した処理を実行する。
The computer includes a
本発明は、圧力計測技術に適用することができる。 This invention can be applied to pressure measurement technology.
1,1a…圧力調整室、2,2a,2c…配管、3,3a~3d…圧力計測室、4,4a,4c…絞り、5,13…受圧部、6…冷却器、7,8,14…温度センサ、10,10b,10c…回路部、11…熱流センサ、12…被計測チャンバ、15…加熱器、100,106…信号検出部、101,101c…AD変換部、102,102b,102c…演算処理部、103,103b,103c…メモリ、104…電源、105…インターフェース部、1020,1020b,1020c…温度推定部、1021,1021c…制御部、1022,1022c…容量算出部、1023,1023c…容量差算出部、1024,1024c…容量補正部、1025,1025c…圧力計測部、1026,1026b,1026c…圧力補正部。 1, 1a... pressure adjustment chamber, 2, 2a, 2c... pipes, 3, 3a to 3d... pressure measurement chamber, 4, 4a, 4c... throttle, 5, 13... pressure receiving section, 6... cooler, 7, 8, 14... temperature sensor, 10, 10b, 10c... circuit section, 11... heat flow sensor, 12... measured chamber, 15... heater, 100, 106... signal detection section, 101, 101c... AD conversion section, 102, 102b, 102c... calculation processing section, 10 3, 103b, 103c...memory, 104...power supply, 105...interface unit, 1020, 1020b, 1020c...temperature estimation unit, 1021, 1021c...control unit, 1022, 1022c...capacity calculation unit, 1023, 1023c...capacity difference calculation unit, 1024, 1024c...capacity correction unit, 1025, 1025c...pressure measurement unit, 1026, 1026b, 1026c...pressure correction unit.
Claims (19)
前記圧力調整室と連通するように設けられた圧力計測室と、
前記圧力計測室内の被計測媒体の圧力によるダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された受圧部と、
前記圧力計測室を冷却するように構成された冷却器と、
前記圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第1の温度センサと、
前記静電容量を圧力計測値に変換するように構成された圧力計測部と、
前記第1の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正するように構成された圧力補正部とを備え、
前記圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して前記圧力計測値を補正することを特徴とする隔膜真空計。 a pressure adjustment chamber provided to communicate with the measurement chamber via a pipe;
a pressure measuring chamber provided in communication with the pressure adjusting chamber;
a pressure receiving section configured such that a capacitance changes in response to a displacement of a diaphragm caused by a pressure of a medium to be measured in the pressure measuring chamber;
a cooler configured to cool the pressure measurement chamber;
a first temperature sensor configured to measure a temperature of a medium to be measured in the pressure measurement chamber;
a pressure measuring unit configured to convert the capacitance into a pressure measurement;
a pressure correction unit configured to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the first temperature sensor and the temperature of the measurement target medium in the measurement target chamber,
A diaphragm vacuum gauge comprising: a pressure measuring chamber and a chamber for measuring a temperature difference between the temperature of the medium to be measured in the pressure measuring chamber and a pressure difference is converted into the temperature difference to correct the pressure measurement value.
前記圧力調整室と前記圧力計測室とは直列に配置され、前記圧力調整室を介して前記圧力計測室に被計測媒体が流入することを特徴とする隔膜真空計。 2. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
1. A diaphragm vacuum gauge comprising: said pressure adjustment chamber and said pressure measurement chamber arranged in series; and a medium to be measured flows into said pressure measurement chamber via said pressure adjustment chamber.
前記圧力調整室と前記圧力計測室とは並列に配置され、前記配管を介して前記圧力調整室と前記圧力計測室とに被計測媒体が流入することを特徴とする隔膜真空計。 2. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
a pressure adjusting chamber and a pressure measuring chamber arranged in parallel, and a medium to be measured flows into the pressure adjusting chamber and the pressure measuring chamber via the piping;
前記圧力調整室と前記圧力計測室とは、絞りを介して連通し、
前記絞りは、固定絞りまたは可変絞りであることを特徴とする隔膜真空計。 4. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
the pressure adjustment chamber and the pressure measurement chamber communicate with each other via a throttle;
The diaphragm vacuum gauge is characterized in that the orifice is a fixed orifice or a variable orifice.
前記圧力調整室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第2の温度センサと、
前記第2の温度センサによって計測された温度から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定するように構成された温度推定部とをさらに備えることを特徴とする隔膜真空計。 5. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
a second temperature sensor configured to measure the temperature of the medium in the pressure adjustment chamber;
and a temperature estimating unit configured to estimate a temperature of the measurement medium in the measurement chamber from the temperature measured by the second temperature sensor.
前記被計測チャンバに設けられた第2の温度センサから、前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を得ることを特徴とする隔膜真空計。 5. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
A diaphragm vacuum gauge comprising: a second temperature sensor provided in the measurement chamber, the second temperature sensor detecting a temperature of a medium to be measured in the measurement chamber;
前記圧力計測室内の被計測媒体の圧力によるダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された受圧部と、
前記圧力計測室を冷却するように構成された冷却器と、
前記圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第1の温度センサと、
前記静電容量を圧力計測値に変換するように構成された圧力計測部と、
前記第1の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正するように構成された圧力補正部とを備え、
前記圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して前記圧力計測値を補正することを特徴とする隔膜真空計。 a pressure measurement chamber provided in communication with the measurement chamber via a pipe;
a pressure receiving section configured such that a capacitance changes in response to a displacement of a diaphragm caused by a pressure of a medium to be measured in the pressure measuring chamber;
a cooler configured to cool the pressure measurement chamber;
a first temperature sensor configured to measure a temperature of a medium to be measured in the pressure measurement chamber;
a pressure measuring unit configured to convert the capacitance into a pressure measurement;
a pressure correction unit configured to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the first temperature sensor and the temperature of the measurement target medium in the measurement target chamber,
A diaphragm vacuum gauge comprising: a pressure measuring chamber and a chamber for measuring a temperature difference between the temperature of the medium to be measured in the pressure measuring chamber and a pressure difference is converted into the temperature difference to correct the pressure measurement value.
前記配管内の熱流を計測するように構成された熱流センサと、
前記熱流センサによって計測された熱流量から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定するように構成された温度推定部とをさらに備えることを特徴とする隔膜真空計。 8. The diaphragm vacuum gauge according to claim 7,
a heat flow sensor configured to measure heat flow in the pipe;
and a temperature estimating unit configured to estimate a temperature of a measurement target medium in the measurement target chamber from a heat flow rate measured by the heat flow sensor.
前記被計測チャンバに設けられた第2の温度センサから、前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を得ることを特徴とする隔膜真空計。 8. The diaphragm vacuum gauge according to claim 7,
A diaphragm vacuum gauge comprising: a second temperature sensor provided in the measurement chamber, the second temperature sensor detecting a temperature of a medium to be measured in the measurement chamber;
前記圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差が所定値になるように前記冷却器を制御して除熱させるように構成された制御部をさらに備えることを特徴とする隔膜真空計。 10. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
a control unit configured to control the cooler to remove heat so that a temperature difference between a temperature of the medium to be measured in the pressure measurement chamber and a temperature of the medium to be measured in the measurement chamber becomes a predetermined value.
前記受圧部は、
台座に形成された第1の電極と、
前記台座とギャップを隔てて配置された前記ダイアフラムと、
前記ダイアフラムに前記第1の電極と対向するように形成された第2の電極と、
前記第1の電極の外側の前記台座に形成された第3の電極と、
前記第2の電極の外側の前記ダイアフラムに前記第3の電極と対向するように形成された第4の電極とから構成され、
前記第1、第2の電極間の第1の静電容量を算出するように構成された容量算出部と、
前記第1の静電容量から、前記第3、第4の電極間の第2の静電容量を減算した値を算出するように構成された容量差算出部と、
前記容量算出部の算出結果と前記容量差算出部の算出結果とに基づいて、前記第2の静電容量により前記第1の静電容量を補正するように構成された容量補正部とをさらに備え、
前記圧力計測部は、前記補正された第1の静電容量を前記圧力計測値に変換することを特徴とする隔膜真空計。 11. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
The pressure receiving portion is
A first electrode formed on the base;
the diaphragm disposed across a gap from the base;
a second electrode formed on the diaphragm so as to face the first electrode;
a third electrode formed on the base outside the first electrode;
a fourth electrode formed on the diaphragm outside the second electrode so as to face the third electrode;
a capacitance calculation unit configured to calculate a first capacitance between the first and second electrodes;
a capacitance difference calculation unit configured to calculate a value obtained by subtracting a second capacitance between the third and fourth electrodes from the first capacitance;
a capacitance correction unit configured to correct the first capacitance by the second capacitance based on a calculation result of the capacitance calculation unit and a calculation result of the capacitance difference calculation unit,
The diaphragm vacuum gauge according to claim 1, wherein the pressure measuring unit converts the corrected first capacitance into the pressure measurement value.
前記圧力補正部は、前記圧力計測値が規定の圧力計測範囲の上限を上回ったときのみ前記圧力計測値を補正することを特徴とする隔膜真空計。 12. The diaphragm vacuum gauge according to claim 1,
The diaphragm vacuum gauge according to claim 1, wherein the pressure correction unit corrects the pressure measurement value only when the pressure measurement value exceeds an upper limit of a specified pressure measurement range.
前記被計測チャンバと前記配管を介して連通し、かつ前記第1の圧力計測室と連通するように設けられた第2の圧力計測室と、
前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の圧力による第1のダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された第1の受圧部と、
前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の圧力による第2のダイアフラムの変位に応じて静電容量が変化するように構成された第2の受圧部と、
前記第1の圧力計測室を冷却するように構成された冷却器と、
前記第2の圧力計測室を加熱するように構成された加熱器と、
前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第1の温度センサと、
前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の温度を計測するように構成された第2の温度センサと、
前記冷却器が動作し、前記加熱器が動作しない第1の計測モード時に前記第1の受圧部の静電容量を圧力計測値に変換し、前記加熱器が動作し、前記冷却器が動作しない第2の計測モード時に前記第2の受圧部の静電容量を圧力計測値に変換するように構成された圧力計測部と、
前記第1の計測モード時に前記第1の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正し、前記第2の計測モード時に前記第2の温度センサによって計測された温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度とに基づいて前記圧力計測値を補正するように構成された圧力補正部とを備え、
前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の温度または前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差を圧力差に換算して前記圧力計測値を補正することを特徴とする隔膜真空計。 a first pressure measurement chamber provided in communication with the measurement chamber via a pipe;
a second pressure measurement chamber communicating with the measurement chamber via the piping and communicating with the first pressure measurement chamber;
a first pressure receiving section configured such that a capacitance thereof changes in response to a displacement of a first diaphragm caused by a pressure of a medium to be measured in the first pressure measuring chamber;
a second pressure receiving section configured such that a capacitance thereof changes in response to a displacement of a second diaphragm caused by a pressure of a medium to be measured in the second pressure measuring chamber;
a cooler configured to cool the first pressure measurement chamber;
a heater configured to heat the second pressure measuring chamber;
a first temperature sensor configured to measure a temperature of a measurement target medium in the first pressure measurement chamber;
a second temperature sensor configured to measure the temperature of a medium to be measured in the second pressure measurement chamber;
a pressure measuring unit configured to convert a capacitance of the first pressure receiving unit into a pressure measurement value in a first measurement mode in which the cooler is operating and the heater is not operating, and to convert a capacitance of the second pressure receiving unit into a pressure measurement value in a second measurement mode in which the heater is operating and the cooler is not operating;
a pressure correction unit configured to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the first temperature sensor and the temperature of the measurement medium in the measurement chamber in the first measurement mode, and to correct the pressure measurement value based on the temperature measured by the second temperature sensor and the temperature of the measurement medium in the measurement chamber in the second measurement mode,
A diaphragm vacuum gauge characterized in that a temperature difference between the temperature of the medium to be measured in the first pressure measuring chamber or the temperature of the medium to be measured in the second pressure measuring chamber and the temperature of the medium to be measured in the measurement chamber is converted into a pressure difference to correct the pressure measurement value.
前記第1の圧力計測室と前記第2の圧力計測室とは、絞りを介して連通し、
前記絞りは、固定絞りまたは可変絞りであることを特徴とする隔膜真空計。 14. The diaphragm vacuum gauge of claim 13,
the first pressure measuring chamber and the second pressure measuring chamber communicate with each other via a throttle;
The diaphragm vacuum gauge is characterized in that the orifice is a fixed orifice or a variable orifice.
前記第1の計測モード時に前記第2の温度センサによって計測された温度から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定し、前記第2の計測モード時に前記第1の温度センサによって計測された温度から前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を推定するように構成された温度推定部をさらに備えることを特徴とする隔膜真空計。 15. The diaphragm vacuum gauge according to claim 13 or 14,
a temperature estimating unit configured to estimate a temperature of the measured medium in the measured chamber from the temperature measured by the second temperature sensor in the first measurement mode, and to estimate a temperature of the measured medium in the measured chamber from the temperature measured by the first temperature sensor in the second measurement mode.
前記被計測チャンバに設けられた第3の温度センサから、前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度を得ることを特徴とする隔膜真空計。 15. The diaphragm vacuum gauge according to claim 13 or 14,
a third temperature sensor provided in the measurement chamber, the third temperature sensor detecting a temperature of a medium to be measured in the measurement chamber;
前記第1の計測モード時に前記第1の圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差が第1の所定値になるように前記冷却器を制御して除熱させ、前記第2の計測モード時に前記第2の圧力計測室内の被計測媒体の温度と前記被計測チャンバ内の被計測媒体の温度との温度差が第2の所定値になるように前記加熱器を制御して発熱させるように構成された制御部をさらに備えることを特徴とする隔膜真空計。 17. A diaphragm vacuum gauge according to any one of claims 13 to 16,
a control unit configured to control the cooler to remove heat so that a temperature difference between a temperature of the measured medium in the first pressure measurement chamber and a temperature of the measured medium in the measured chamber becomes a first predetermined value in the first measurement mode, and to control the heater to generate heat so that a temperature difference between a temperature of the measured medium in the second pressure measurement chamber and a temperature of the measured medium in the measured chamber becomes a second predetermined value in the second measurement mode.
前記第1の受圧部は、
第1の台座に形成された第1の電極と、
前記第1の台座とギャップを隔てて配置された前記第1のダイアフラムと、
前記第1のダイアフラムに前記第1の電極と対向するように形成された第2の電極と、
前記第1の電極の外側の前記第1の台座に形成された第3の電極と、
前記第2の電極の外側の前記第1のダイアフラムに前記第3の電極と対向するように形成された第4の電極とから構成され、
前記第2の受圧部は、
第2の台座に形成された第5の電極と、
前記第2の台座とギャップを隔てて配置された前記第2のダイアフラムと、
前記第2のダイアフラムに前記第5の電極と対向するように形成された第6の電極と、
前記第5の電極の外側の前記第2の台座に形成された第7の電極と、
前記第6の電極の外側の前記第2のダイアフラムに前記第7の電極と対向するように形成された第8の電極とから構成され、
前記第1の計測モード時に前記第1、第2の電極間の第1の静電容量を算出し、前記第2の計測モード時に前記第5、第6の電極間の第2の静電容量を算出するように構成された容量算出部と、
前記第1の計測モード時に前記第1の静電容量から、前記第3、第4の電極間の第3の静電容量を減算した値を算出し、前記第2の計測モード時に前記第2の静電容量から、前記第7、第8の電極間の第4の静電容量を減算した値を算出するように構成された容量差算出部と、
前記第1の計測モード時に前記容量算出部の算出結果と前記容量差算出部の算出結果とに基づいて、前記第3の静電容量により前記第1の静電容量を補正し、前記第2の計測モード時に前記容量算出部の算出結果と前記容量差算出部の算出結果とに基づいて、前記第4の静電容量により前記第2の静電容量を補正するように構成された容量補正部とをさらに備え、
前記圧力計測部は、前記第1の計測モード時に前記補正された第1の静電容量を前記圧力計測値に変換し、前記第2の計測モード時に前記補正された第2の静電容量を前記圧力計測値に変換することを特徴とする隔膜真空計。 18. A diaphragm vacuum gauge according to any one of claims 13 to 17,
The first pressure receiving portion includes:
a first electrode formed on the first base;
the first diaphragm disposed across a gap from the first base;
a second electrode formed on the first diaphragm so as to face the first electrode;
a third electrode formed on the first seat outside the first electrode;
a fourth electrode formed on the first diaphragm outside the second electrode so as to face the third electrode;
The second pressure receiving portion includes:
a fifth electrode formed on the second base;
the second diaphragm disposed across a gap from the second base;
a sixth electrode formed on the second diaphragm so as to face the fifth electrode;
a seventh electrode formed on the second seat outside the fifth electrode;
an eighth electrode formed on the second diaphragm outside the sixth electrode so as to face the seventh electrode;
a capacitance calculation unit configured to calculate a first capacitance between the first and second electrodes in the first measurement mode and to calculate a second capacitance between the fifth and sixth electrodes in the second measurement mode;
a capacitance difference calculation unit configured to calculate a value obtained by subtracting a third capacitance between the third and fourth electrodes from the first capacitance in the first measurement mode, and to calculate a value obtained by subtracting a fourth capacitance between the seventh and eighth electrodes from the second capacitance in the second measurement mode;
a capacitance correction unit configured to correct the first capacitance by the third capacitance based on a calculation result of the capacitance calculation unit and a calculation result of the capacitance difference calculation unit in the first measurement mode, and to correct the second capacitance by the fourth capacitance based on a calculation result of the capacitance calculation unit and a calculation result of the capacitance difference calculation unit in the second measurement mode,
the pressure measurement unit converts the corrected first capacitance into the pressure measurement value in the first measurement mode, and converts the corrected second capacitance into the pressure measurement value in the second measurement mode.
前記圧力補正部は、前記第1の計測モード時に前記圧力計測値が規定の圧力計測範囲の上限を上回ったときのみ前記圧力計測値を補正し、前記第2の計測モード時に前記圧力計測値が規定の圧力計測範囲の下限を下回ったときのみ前記圧力計測値を補正することを特徴とする隔膜真空計。 19. A diaphragm vacuum gauge according to any one of claims 13 to 18,
the pressure correction unit corrects the pressure measurement value only when the pressure measurement value exceeds an upper limit of a prescribed pressure measurement range in the first measurement mode, and corrects the pressure measurement value only when the pressure measurement value falls below a lower limit of a prescribed pressure measurement range in the second measurement mode.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020196857A JP7534198B2 (en) | 2020-11-27 | 2020-11-27 | Diaphragm Vacuum Gauge |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020196857A JP7534198B2 (en) | 2020-11-27 | 2020-11-27 | Diaphragm Vacuum Gauge |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022085261A JP2022085261A (en) | 2022-06-08 |
JP7534198B2 true JP7534198B2 (en) | 2024-08-14 |
Family
ID=81892676
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020196857A Active JP7534198B2 (en) | 2020-11-27 | 2020-11-27 | Diaphragm Vacuum Gauge |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7534198B2 (en) |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002328045A (en) | 2001-05-02 | 2002-11-15 | Dia Shinku Kk | Measuring device |
JP2009210482A (en) | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Ulvac Japan Ltd | Vacuum treatment device |
JP2009244149A (en) | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Yamatake Corp | Pressure sensor |
JP2010534323A (en) | 2007-07-23 | 2010-11-04 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Method for calibrating and operating a measurement cell structure |
US20180180503A1 (en) | 2015-06-26 | 2018-06-28 | Microgauge Ag | MEMS Depostion Trap for Vacuum Transducer Protection |
JP2018146530A (en) | 2017-03-09 | 2018-09-20 | アズビル株式会社 | Pressure sensor |
JP2018205259A (en) | 2017-06-09 | 2018-12-27 | アズビル株式会社 | Capacitance pressure sensor |
-
2020
- 2020-11-27 JP JP2020196857A patent/JP7534198B2/en active Active
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002328045A (en) | 2001-05-02 | 2002-11-15 | Dia Shinku Kk | Measuring device |
JP2010534323A (en) | 2007-07-23 | 2010-11-04 | インフィコン ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | Method for calibrating and operating a measurement cell structure |
JP2009210482A (en) | 2008-03-05 | 2009-09-17 | Ulvac Japan Ltd | Vacuum treatment device |
JP2009244149A (en) | 2008-03-31 | 2009-10-22 | Yamatake Corp | Pressure sensor |
US20180180503A1 (en) | 2015-06-26 | 2018-06-28 | Microgauge Ag | MEMS Depostion Trap for Vacuum Transducer Protection |
JP2018146530A (en) | 2017-03-09 | 2018-09-20 | アズビル株式会社 | Pressure sensor |
JP2018205259A (en) | 2017-06-09 | 2018-12-27 | アズビル株式会社 | Capacitance pressure sensor |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022085261A (en) | 2022-06-08 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7841239B2 (en) | Electrostatic capacitance diaphragm vacuum gauge and vacuum processing apparatus | |
US10451510B2 (en) | Pressure change measurement device, altitude measurement device, and pressure change measurement method | |
JP2935679B2 (en) | Differential pressure sensor evaluation unit | |
US7363182B2 (en) | System and method for mass flow detection device calibration | |
KR20090034343A (en) | Capacitance type pressure sensor | |
US20190293507A1 (en) | Method for detecting and compensating for a rapid temperature change in a pressure measuring cell | |
CA2640412A1 (en) | Pressure sensor fault detection | |
Santagata et al. | An analytical model and verification for MEMS Pirani gauges | |
KR20190089729A (en) | Method and apparatus for detecting abnormality of capacitance type pressure sensor | |
CN102288357B (en) | Dual physical quantity sensor | |
JP7534198B2 (en) | Diaphragm Vacuum Gauge | |
KR102008093B1 (en) | Pressure sensor | |
US6591683B1 (en) | Pressure sensor | |
JP2022085260A (en) | Diaphragm vacuum gauge | |
JP2013050400A (en) | Dual physical quantity sensor | |
US20160084723A1 (en) | Pressure Sensor | |
JP7436218B2 (en) | pressure sensor | |
JP6985071B2 (en) | Anomaly detection method and anomaly detection device | |
JP7498022B2 (en) | Pressure Sensors | |
JP2021018062A (en) | State determination device and state determination system | |
EP4345436A1 (en) | Notification sensor arrangement for a differential pressure sensor and a method for outputting a sensed warning signal | |
WO2020105617A1 (en) | Pressure sensor | |
US11402289B2 (en) | Means for implementing a method for detecting and compensating for a rapid temperature change in a pressure measuring cell | |
JP2022176610A (en) | Diaphragm gauge | |
KR20020087121A (en) | Pressure sensor |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230927 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240626 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240709 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240801 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7534198 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |