JP7515299B2 - Glass cloth, prepreg, and printed wiring boards - Google Patents
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- 239000011521 glass Substances 0.000 title claims description 194
- 239000004744 fabric Substances 0.000 title claims description 109
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 50
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 50
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 claims description 22
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 claims description 17
- 238000009941 weaving Methods 0.000 claims description 10
- 238000000465 moulding Methods 0.000 claims description 7
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 4
- 238000000034 method Methods 0.000 description 29
- 229920001955 polyphenylene ether Polymers 0.000 description 22
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 20
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 17
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 14
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 14
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 13
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 13
- 101100353036 Neurospora crassa (strain ATCC 24698 / 74-OR23-1A / CBS 708.71 / DSM 1257 / FGSC 987) pme-1 gene Proteins 0.000 description 11
- 101150047750 PPE1 gene Proteins 0.000 description 11
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 11
- 229920013636 polyphenyl ether polymer Polymers 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 230000008569 process Effects 0.000 description 10
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 9
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 239000011889 copper foil Substances 0.000 description 8
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 8
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 8
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 8
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 8
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 7
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 7
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 6
- -1 imidazole compound Chemical class 0.000 description 6
- 239000011229 interlayer Substances 0.000 description 6
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 6
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 6
- 230000002087 whitening effect Effects 0.000 description 6
- 239000012212 insulator Substances 0.000 description 5
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 5
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 5
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 4
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 4
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 4
- 239000003999 initiator Substances 0.000 description 4
- 125000005641 methacryl group Chemical group 0.000 description 4
- 238000005476 soldering Methods 0.000 description 4
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 4
- 230000007480 spreading Effects 0.000 description 4
- 229920001187 thermosetting polymer Polymers 0.000 description 4
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 4
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 description 3
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 3
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000002966 varnish Substances 0.000 description 3
- BZQKBFHEWDPQHD-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,5-pentabromo-6-[2-(2,3,4,5,6-pentabromophenyl)ethyl]benzene Chemical compound BrC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1CCC1=C(Br)C(Br)=C(Br)C(Br)=C1Br BZQKBFHEWDPQHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- 125000000022 2-aminoethyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])N([H])[H] 0.000 description 2
- CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 2h-1,2-benzoxazine Chemical compound C1=CC=C2C=CNOC2=C1 CMLFRMDBDNHMRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N acrylic acid group Chemical group C(C=C)(=O)O NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 2
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 2
- XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M cyanate group Chemical group [O-]C#N XLJMAIOERFSOGZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 2
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 2
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M methacrylate group Chemical group C(C(=C)C)(=O)[O-] CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 125000005395 methacrylic acid group Chemical group 0.000 description 2
- DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N methacrylic anhydride Chemical compound CC(=C)C(=O)OC(=O)C(C)=C DCUFMVPCXCSVNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylpyridin-2-amine Chemical compound CN(C)C1=CC=CC=N1 PSHKMPUSSFXUIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012856 packing Methods 0.000 description 2
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 2
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 2
- 229920001721 polyimide Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 2
- 229910000679 solder Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- 150000003512 tertiary amines Chemical group 0.000 description 2
- NLBJAOHLJABDAU-UHFFFAOYSA-N (3-methylbenzoyl) 3-methylbenzenecarboperoxoate Chemical compound CC1=CC=CC(C(=O)OOC(=O)C=2C=C(C)C=CC=2)=C1 NLBJAOHLJABDAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CTPYJEXTTINDEM-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(1-tert-butylperoxypropan-2-yl)benzene Chemical compound CC(C)(C)OOCC(C)C1=CC=CC=C1C(C)COOC(C)(C)C CTPYJEXTTINDEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(prop-2-enyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound C=CCN1C(=O)N(CC=C)C(=O)N(CC=C)C1=O KOMNUTZXSVSERR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QZYOLNVEVYIPHV-UHFFFAOYSA-N 1-methyl-3-(3-methylphenyl)peroxybenzene Chemical compound CC1=CC=CC(OOC=2C=C(C)C=CC=2)=C1 QZYOLNVEVYIPHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 2,2,4,4,6,6-hexaphenoxy-1,3,5-triaza-2$l^{5},4$l^{5},6$l^{5}-triphosphacyclohexa-1,3,5-triene Chemical compound N=1P(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP(OC=2C=CC=CC=2)(OC=2C=CC=CC=2)=NP=1(OC=1C=CC=CC=1)OC1=CC=CC=C1 RNFJDJUURJAICM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 4-[4,4-bis(5-tert-butyl-4-hydroxy-2-methylphenyl)butan-2-yl]-2-tert-butyl-5-methylphenol Chemical compound C=1C(C(C)(C)C)=C(O)C=C(C)C=1C(C)CC(C=1C(=CC(O)=C(C=1)C(C)(C)C)C)C1=CC(C(C)(C)C)=C(O)C=C1C PRWJPWSKLXYEPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004342 Benzoyl peroxide Substances 0.000 description 1
- OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N Benzoylperoxide Chemical compound C=1C=CC=CC=1C(=O)OOC(=O)C1=CC=CC=C1 OMPJBNCRMGITSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004696 Poly ether ether ketone Substances 0.000 description 1
- 239000004962 Polyamide-imide Substances 0.000 description 1
- 239000004695 Polyether sulfone Substances 0.000 description 1
- 239000004642 Polyimide Substances 0.000 description 1
- 239000004734 Polyphenylene sulfide Substances 0.000 description 1
- 239000004285 Potassium sulphite Substances 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004018 acid anhydride group Chemical group 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M acrylate group Chemical group C(C=C)(=O)[O-] NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001336 alkenes Chemical class 0.000 description 1
- 239000004760 aramid Substances 0.000 description 1
- 229920003235 aromatic polyamide Polymers 0.000 description 1
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 1
- 235000019400 benzoyl peroxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002419 bulk glass Substances 0.000 description 1
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 1
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 1
- 239000003431 cross linking reagent Substances 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000011161 development Methods 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 1
- 239000003063 flame retardant Substances 0.000 description 1
- 239000011888 foil Substances 0.000 description 1
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011874 heated mixture Substances 0.000 description 1
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 1
- IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N isocyanate group Chemical group [N-]=C=O IQPQWNKOIGAROB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005439 maleimidyl group Chemical group C1(C=CC(N1*)=O)=O 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 1
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N olefin Natural products CCCCCCCC=C JRZJOMJEPLMPRA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001451 organic peroxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 238000006303 photolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 1
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 1
- 229920002492 poly(sulfone) Polymers 0.000 description 1
- 229920002312 polyamide-imide Polymers 0.000 description 1
- 229920001230 polyarylate Polymers 0.000 description 1
- 229920006393 polyether sulfone Polymers 0.000 description 1
- 229920002530 polyetherether ketone Polymers 0.000 description 1
- 239000009719 polyimide resin Substances 0.000 description 1
- 229920000069 polyphenylene sulfide Polymers 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000003825 pressing Methods 0.000 description 1
- 150000003141 primary amines Chemical group 0.000 description 1
- 238000011403 purification operation Methods 0.000 description 1
- HGTDVVTWYKXXMI-UHFFFAOYSA-N pyrrole-2,5-dione;triazine Chemical compound C1=CN=NN=C1.O=C1NC(=O)C=C1 HGTDVVTWYKXXMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010526 radical polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 1
- 125000003011 styrenyl group Chemical class [H]\C(*)=C(/[H])C1=C([H])C([H])=C([H])C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 230000003746 surface roughness Effects 0.000 description 1
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 description 1
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 1
- 230000008961 swelling Effects 0.000 description 1
- 238000005979 thermal decomposition reaction Methods 0.000 description 1
- 238000012719 thermal polymerization Methods 0.000 description 1
- 229920006259 thermoplastic polyimide Polymers 0.000 description 1
- 230000000007 visual effect Effects 0.000 description 1
Landscapes
- Reinforced Plastic Materials (AREA)
- Woven Fabrics (AREA)
Description
本発明は、ガラスクロス、プリプレグ、及びプリント配線板に関する。 The present invention relates to glass cloth, prepregs, and printed wiring boards.
多くのプリント配線板では、ガラスクロスとマトリックス樹脂組成物とから構成される絶縁体層に、銅箔により伝送線路が形成されている。
プリント配線板に用いられるガラスクロスは、ガラス糸を経方向及び緯方向に平織することにより形成されているため、ガラスクロスと樹脂組成物とから構成される絶縁体層では、糸が交わる部位でガラスの存在比率が高くなり、糸の重なりが無い部分、或いは糸が無い部分で樹脂の存在比率が高くなる。
通常、ガラスクロスのガラスの誘電率と樹脂組成物の誘電率との間には差異があるため、ガラスの存在比率が高い部分を通過する伝送線路中の信号伝播速度と、樹脂組成物の存在比率が高い部分を通過する伝送線路中の信号伝播速度との間に差が生じることが知られている。このため、複数の信号を同期させる必要がある電子回路では、信号の到達時間にずれが生じたときに、信号処理に不都合が生じる可能性がある。
In many printed wiring boards, a transmission line is formed of copper foil on an insulating layer made of a glass cloth and a matrix resin composition.
Glass cloth used in printed wiring boards is formed by plain weaving glass yarns in the warp and weft directions. Therefore, in an insulator layer composed of glass cloth and a resin composition, the proportion of glass is high at the sites where the yarns cross, and the proportion of resin is high in areas where the yarns do not overlap or where there are no yarns.
Normally, since there is a difference between the dielectric constant of the glass of the glass cloth and the dielectric constant of the resin composition, it is known that a difference occurs between the signal propagation speed in a transmission line passing through a portion where the glass is abundant and the signal propagation speed in a transmission line passing through a portion where the resin composition is abundant. Therefore, in an electronic circuit that needs to synchronize multiple signals, when a difference occurs in the arrival time of the signals, there is a possibility that inconvenience will occur in signal processing.
近年の情報通信社会の発達とともに、データ通信及び/又は信号処理が大容量で高速に行われるようになり、電子回路基板上で伝送される信号の高速化が進んでいる。信号の速度が10Gbpsを超え、28Gbps及び56Gbps等のギガ領域での高速化が進んでおり、信号の高速化が進むほど、上記の信号伝播速度差の影響が大きくなり、信号伝播速度差を低減する要求が高まっている。 With the recent development of the information and communications society, data communication and/or signal processing has become large-volume and high-speed, and the speed of signals transmitted on electronic circuit boards is increasing. Signal speeds have exceeded 10 Gbps and are now reaching speeds in the gigabit range, such as 28 Gbps and 56 Gbps. The higher the signal speeds, the greater the effect of the signal propagation speed difference described above, and there is an increasing demand to reduce the signal propagation speed difference.
以下の特許文献1~3には、ガラスクロスと伝送線路との位置関係によって生じる伝播速度の変化を低減させる技術が提案されている。特許文献1には、線路幅をガラスクロスの糸の間隔の75%~95%にする技術が開示されている。特許文献2には、ガラス糸の間隔と信号線路の間隔とを一致させる技術が開示されている。特許文献3には、ガラス糸の間隔と配線幅の距離とを50%にする技術が開示されている。 The following Patent Documents 1 to 3 propose techniques for reducing the change in propagation speed caused by the relative positions of the glass cloth and the transmission line. Patent Document 1 discloses a technique for making the line width 75% to 95% of the spacing between the glass cloth threads. Patent Document 2 discloses a technique for matching the spacing between the glass threads and the spacing between the signal lines. Patent Document 3 discloses a technique for making the distance between the glass threads and the wiring width 50%.
また、以下の特許文献4~8には、面方向でのガラス分布均一性を高めたガラスクロスが提案されている。また、特許文献8等に記載されるように、ガラスの存在比率が高い部位と樹脂の存在比率が高い部位との誘電率の差を小さくするために、ガラスクロスの誘電率を小さくして、樹脂の誘電率との差を低減する試みも多く提案されている。例えば、特許文献8に開示されているガラスクロスは、従来から一般に使用されているEガラスクロスに対して、ガラス組成中にB2O3を多く配合し、同時にSiO2等の他の成分の配合量を調整することで、低誘電率を実現している。 In addition, the following Patent Documents 4 to 8 propose glass cloths with improved uniformity of glass distribution in the surface direction. As described in Patent Document 8 and the like, in order to reduce the difference in dielectric constant between a region with a high glass content and a region with a high resin content, many attempts have been proposed to reduce the dielectric constant of the glass cloth and reduce the difference with the dielectric constant of the resin. For example, the glass cloth disclosed in Patent Document 8 achieves a low dielectric constant by blending a large amount of B 2 O 3 in the glass composition and simultaneously adjusting the blending amount of other components such as SiO 2 , compared to the E-glass cloth that has been generally used in the past.
特許文献1~3に開示された電子回路基板は、伝送線路と、ガラスクロスの糸及び該糸の間隔(ガラスがない部分)との配置を最適化して、伝送線路が通過する樹脂とガラスの存在比を同等にすることができる。しかしながら、市場で入手可能なガラスクロスは、経糸及び緯糸の糸幅のバラつきや、緯糸の目曲がりが存在するため、伝送線路が通過する樹脂とガラスの存在比を同等にするのは実質的に困難である。 The electronic circuit boards disclosed in Patent Documents 1 to 3 optimize the arrangement of the transmission lines, the glass cloth threads, and the spacing between the threads (areas without glass) to equalize the ratio of resin and glass through which the transmission lines pass. However, commercially available glass cloth has variations in the width of the warp and weft threads, and the weft threads are bent, making it substantially difficult to equalize the ratio of resin and glass through which the transmission lines pass.
特許文献4~8に開示されたガラスクロスは、緯糸占有率が高く、ガラスクロスの面方向での分布均一性が高い。
特許文献4の実施例には、経糸と緯糸にC1200(実施例1)、C900(実施例2)、D900(実施例3)、D450(実施例4)のガラス糸を用いて製織し、次いで扁平化加工、開繊加工、表面処理が施されたガラスクロスが開示されており、これらガラスクロスの緯糸占有度はそれぞれ97.2%、97.7%、98.3%、100.2%である。
The glass cloths disclosed in Patent Documents 4 to 8 have a high weft occupancy rate and high distribution uniformity in the plane direction of the glass cloth.
In the examples of Patent Document 4, glass cloths are disclosed which are woven using glass yarns of C1200 (Example 1), C900 (Example 2), D900 (Example 3) and D450 (Example 4) as warp and weft yarns, and then subjected to flattening processing, fiber-opening processing and surface treatment. The weft occupancy rates of these glass cloths are 97.2%, 97.7%, 98.3% and 100.2%, respectively.
特許文献5の実施例には、経糸と緯糸にG75(実施例1、2)、E225(実施例3、4)のガラス糸を用いて製織し、次いで扁平化加、表面処理、開繊加工が施されたガラスクロスが開示されており、これらガラスクロスの緯糸占有度はそれぞれ88.0%、100.1%、76.8%、100.8である。 The examples in Patent Document 5 disclose glass cloths that are woven using G75 (Examples 1 and 2) and E225 (Examples 3 and 4) glass yarns for the warp and weft, and then flattened, surface-treated, and opened; the weft occupancy rates of these glass cloths are 88.0%, 100.1%, 76.8%, and 100.8, respectively.
特許文献6の実施例には、経糸と緯糸にD450(実施例1~4)のガラス糸を用いて製織し、次いでコロイダルシリカに含侵させ、バイブロウォッシャーによる開繊加工、表面処理が施されたガラスクロスが開示されており、これらガラスクロスの緯糸占有度は95.4%~98.6%である。 The examples of Patent Document 6 disclose glass cloths that are woven using D450 (Examples 1 to 4) glass yarns for the warp and weft, then impregnated with colloidal silica, opened with a vibro washer, and surface-treated. The weft occupancy rate of these glass cloths is 95.4% to 98.6%.
特許文献7の実施例には、経糸と緯糸にC1200(実施例1)、D450(実施例2、3)、DE300(実施例4)のガラス糸を用いて製織し、次いで表面処理、開繊加工が施されたガラスクロスが開示されており、これらガラスクロスの緯糸占有度はそれぞれ89.0%、94.6%、92.9%、87.8%である。 The examples in Patent Document 7 disclose glass cloths that are woven using glass yarns of C1200 (Example 1), D450 (Examples 2 and 3), and DE300 (Example 4) for the warp and weft, and then subjected to a surface treatment and fiber opening process. The weft occupancy rates of these glass cloths are 89.0%, 94.6%, 92.9%, and 87.8%, respectively.
特許文献8の実施例には、経糸と緯糸にD450(実施例1)、E255(実施例2)、G75(実施例3)、のガラス糸を用いて製織し、次いでガラスクロスに水分を含有させてシリンダー乾燥機で乾燥されたガラスクロスが開示されており、これらガラスクロスの緯糸占有度はそれぞれ68.6%、90.2%、79.5%である。 The examples of Patent Document 8 disclose glass cloths that are woven using D450 (Example 1), E255 (Example 2), and G75 (Example 3) glass yarns for the warp and weft, and then the glass cloths are made to contain moisture and dried in a cylinder dryer. The weft occupancy rates of these glass cloths are 68.6%, 90.2%, and 79.5%, respectively.
しかしながら、市場で入手可能なガラスクロスは、1)経糸と緯糸に撚り溜まりがあり、撚り溜まりでは糸が著しく細くなるため、局所的にガラスが存在しない部位が存在する、2)緯糸には目曲がりや目開きが存在するため、局所的にガラスが存在しない部位が存在する、3)経糸と緯糸が必ずしも均等に配列されていないため、隣あうガラス糸とガラス糸の間隔が大きく空いた部位が存在する、などの理由から、特許文献4~8に開示されたガラスクロスであっても、面方向のガラス分布が均一なガラスクロスを得るのは困難であり、更なる改善が求められている。 However, commercially available glass cloths have the following problems: 1) warp and weft yarns have twist pools, which cause the yarns to become significantly thinner at the twist pools, resulting in localized areas where no glass is present; 2) weft yarns have bends and openings, resulting in localized areas where no glass is present; and 3) warp and weft yarns are not necessarily evenly arranged, resulting in areas where there are large gaps between adjacent glass yarns. For these reasons, even with the glass cloths disclosed in Patent Documents 4 to 8, it is difficult to obtain a glass cloth with uniform glass distribution in the surface direction, and further improvements are required.
このような従来技術のガラスクロスにおける問題に鑑み、本発明が解決しようとする課題は、面方向のガラス分布均一性を向上したガラスクロス、該ガラスクロスを用いた複数の伝送線路の信号伝播速度差が軽減されたプリプレグ、並びに該プリプレグを有するプリント配線板を提供することである。 In view of these problems with glass cloth of the prior art, the problem that the present invention aims to solve is to provide a glass cloth with improved uniformity of glass distribution in the surface direction, a prepreg using said glass cloth in which the difference in signal propagation speed between multiple transmission lines is reduced, and a printed wiring board having said prepreg.
本発明者らは、前記課題を解決すべく鋭意検討し実験を重ねた結果、弾性係数が小さく所定範囲内にある風合いの柔らかいガラスクロスを用い、緯糸同士の重なりを指標する緯糸占有率を特定範囲に制御することで、クリンプ構造に大きな歪を生じることを回避することで、信号の高速化に有用な低誘電樹脂や低粗度銅箔との層間接着性を損なうことなしに、面方向のガラス分布均一性に優れるガラスクロスを得ることが可能となることを予想外に見出し、本発明を完成するに至ったものである。 As a result of intensive research and repeated experiments to solve the above problems, the inventors unexpectedly discovered that by using a glass cloth with a small elastic modulus within a specified range and a soft texture, and by controlling the weft occupancy rate, which indicates the overlap of the weft threads, within a specific range to avoid large distortion in the crimp structure, it is possible to obtain a glass cloth with excellent uniformity of glass distribution in the surface direction without impairing the interlayer adhesion with low dielectric resins and low roughness copper foils, which are useful for increasing the signal speed, and thus completed the present invention.
すなわち、本発明は以下のとおりのものである。
[1]弾性係数が50GPa以上70GPa以下のガラス糸で構成された、厚さ50μm以上100μm以下のガラスクロスであって、下式(1):
Y=F/(25000/G)×100 ・・・式(1)
{式中、Fは、緯糸幅(μm)であり、そしてGは、緯糸の織密度(本/25mm)である。}で求められる、MD方向における緯糸の存在する部分の割合を示す緯糸占有率Y(%)が、101.5%以上106.0%以下である、ガラスクロス。
[2]前記ガラスクロスの緯糸幅と経糸幅の比(緯糸幅/経糸幅比)が1.15以上1.32以下である、前記[1]に記載のガラスクロス。
[3]前記ガラス糸の弾性係数が、50GPa以上63GPa以下である、前記[1]又は[2]に記載のガラスクロス。
[4]前記ガラスクロスは、不飽和二重結合を有するシランカップリング剤で表面処理されたものである、前記[1]~[3]のいずれかに記載のガラスクロス。
[5]前記ガラスクロスは、10GHzの周波数において5.0以下の誘電率を有する、前記[1]~[4]のいずれかに記載のガラスクロス。
[6]前記[1]~[5]のいずれかに記載のガラスクロスとマトリックス樹脂との複合体であるプリプレグ。
[7]前記[6]に記載のプリプレグを成形してなるプリント配線板。
That is, the present invention is as follows.
[1] A glass cloth having a thickness of 50 μm to 100 μm and composed of glass yarns having an elastic modulus of 50 GPa to 70 GPa, the thickness being determined by the following formula (1):
Y=F/(25000/G)×100 Formula (1)
{wherein F is the weft width (μm), and G is the weaving density of the weft (pieces/25 mm).}, and the weft occupancy Y (%), which indicates the ratio of the area in which the weft is present in the MD direction, is 101.5% or more and 106.0% or less.
[2] The glass cloth according to the above [1], wherein the ratio of the weft width to the warp width of the glass cloth (weft width/warp width ratio) is 1.15 or more and 1.32 or less.
[3] The glass cloth according to [1] or [2], wherein the elastic modulus of the glass yarn is 50 GPa or more and 63 GPa or less.
[4] The glass cloth according to any one of [1] to [3], wherein the glass cloth is surface-treated with a silane coupling agent having an unsaturated double bond.
[5] The glass cloth according to any one of [1] to [4], wherein the glass cloth has a dielectric constant of 5.0 or less at a frequency of 10 GHz.
[6] A prepreg which is a composite of the glass cloth according to any one of [1] to [5] above and a matrix resin.
[7] A printed wiring board obtained by molding the prepreg according to [6] above.
本発明に係るガラスクロスは、面方向のガラス分布均一性に優れるため、これを用いて、耐熱性に優れ、かつ、複数の伝送線路の信号伝播速度差が軽減された絶縁体層となるプリプレグ、並びに該クリプレグを成形してなるプリント配線板を提供することができる。 The glass cloth according to the present invention has excellent uniformity of glass distribution in the surface direction, and can be used to provide a prepreg that has excellent heat resistance and serves as an insulating layer that reduces the difference in signal propagation speed between multiple transmission lines, as well as a printed wiring board made by molding the prepreg.
以下、本発明の実施の形態(以下、「本実施形態」という。)について詳細に説明するが、本発明はこれに限定されるものではなく、その要旨を逸脱しない範囲で様々な変形が可能である。 The following describes in detail an embodiment of the present invention (hereinafter referred to as the "present embodiment"); however, the present invention is not limited to this embodiment, and various modifications are possible without departing from the gist of the present invention.
本発明の1の実施形態は、弾性係数が50GPa以上70GPa以下のガラス糸で構成された、厚さ50μm以上100μm以下のガラスクロスであって、下式(1):
Y=F/(25000/G)×100 ・・・式(1)
{式中、Fは、緯糸幅(μm)であり、そしてGは、緯糸の織密度(本/25mm)である。}で求められる、MD方向における緯糸の存在する部分の割合を示す緯糸占有率係数Y(%)が、101.5%以上106.0%以下である、ガラスクロスである。
One embodiment of the present invention is a glass cloth having a thickness of 50 μm or more and 100 μm or less and made of glass yarns having an elastic modulus of 50 GPa or more and 70 GPa or less, the glass cloth satisfying the following formula (1):
Y=F/(25000/G)×100 Formula (1)
{wherein F is the weft width (μm) and G is the weaving density of the weft (pieces/25 mm).}, and the weft occupancy coefficient Y (%), which indicates the ratio of the area in the MD where the weft is present, is 101.5% or more and 106.0% or less.
本実施形態のガラスクロスは、風合いが柔らかいガラス糸を用い、かつ、緯糸が100%を超える占有率で充填されているため、表面平滑性に優れ、プリプレグとした場合に低誘電樹脂の含侵性及び接着性を高く保持しつつ、ガラスの面内分布均一性に優れるものとなり、その結果、耐熱性に優れ、複数の伝送線路の信号伝播速度差が軽減された絶縁体層となる。 The glass cloth of this embodiment uses glass yarns with a soft texture, and the weft yarns are filled at an occupancy rate of more than 100%, so it has excellent surface smoothness, and when made into a prepreg, it has excellent in-plane distribution uniformity of glass while maintaining high impregnation and adhesion of low dielectric resin. As a result, it becomes an insulator layer with excellent heat resistance and reduced differences in signal propagation speed between multiple transmission lines.
[弾性係数]
本実施形態のガラスクロスを構成するガラス糸の弾性係数は50GPa以上であり、好ましくは51Gpa以上であり、より好ましくは52GPa以上である。弾性係数が50GPa以上であれば、ガラス糸の剛性が向上し、製造工程において、ガラスクロスの破断や毛羽立ちが生じ難くなる傾向にある。
他方、ガラス糸の弾性係数は70GPa以下であり、好ましくは65GPa以下であり、より好ましくは63GPa以下である。弾性係数が70GPa以下であれば、ガラス糸が適度な柔軟性を有するため、以下に説明する緯糸占有率が101.5以上となり緯糸同士の重なりが生じても、クリンプ構造に大きな歪みを生じることなく、経糸及び緯糸ともに均一なうねり構造を維持できるため、表面平滑性の良好な構造となる。その結果、ガラスクロスと樹脂とで構成されるプリプレグ及び基板において、樹脂層の厚さを均一に構成することができるため、積層板におけるガラスクロス/樹脂の層間接着性や、樹脂/銅箔との接着性を、均一に高くすることができるため、高い耐熱性が得られる。
[Elastic modulus]
The elastic modulus of the glass yarn constituting the glass cloth of the present embodiment is 50 GPa or more, preferably 51 GPa or more, and more preferably 52 GPa or more. If the elastic modulus is 50 GPa or more, the rigidity of the glass yarn is improved, and the glass cloth tends to be less likely to break or fluff during the manufacturing process.
On the other hand, the elastic modulus of the glass yarn is 70 GPa or less, preferably 65 GPa or less, more preferably 63 GPa or less. If the elastic modulus is 70 GPa or less, the glass yarn has a moderate flexibility, so that even if the weft occupancy rate described below becomes 101.5 or more and the weft yarns overlap each other, the crimp structure does not suffer from significant distortion, and both the warp and weft yarns can maintain a uniform wavy structure, resulting in a structure with good surface smoothness. As a result, in the prepreg and substrate composed of glass cloth and resin, the thickness of the resin layer can be uniformly configured, so that the interlayer adhesion between the glass cloth/resin in the laminate and the adhesion between the resin and the copper foil can be uniformly increased, resulting in high heat resistance.
[厚さ]
本実施形態のガラスクロスの厚さは、50μm以上100μm以下、好ましくは60μm以上98μm以下、より好ましくは65μm以上96μm以下である。ガラスクロスの厚さが100μm以下であれば、プリント配線板の高密度化、高多層化が可能となる。上記厚さはプリント配線板の薄型化や高密度化の観点から薄い方が好ましいが、一般的に多く使用されている、IPCの登録リストに掲載されているような構成(経糸と緯糸の糸番手、織密度)を維持しつつ、以下に説明する緯糸占有率を達成する観点から、厚さの下限は50μmである。
[thickness]
The thickness of the glass cloth in this embodiment is 50 μm or more and 100 μm or less, preferably 60 μm or more and 98 μm or less, more preferably 65 μm or more and 96 μm or less. If the thickness of the glass cloth is 100 μm or less, it is possible to increase the density and multi-layer of the printed wiring board. The above thickness is preferably thin from the viewpoint of making the printed wiring board thin and high-density, but the lower limit of the thickness is 50 μm from the viewpoint of achieving the weft occupancy rate described below while maintaining the commonly used configuration (warp and weft yarn counts, weaving density) listed in the IPC registration list.
[緯糸占有率]
本実施形態のガラスクロスの緯糸占有率は、101.5%以上、好ましくは101.8%以上、より好ましくは102.2%以上、さらに好ましくは102.5%以上である。他方、緯糸占有率は、106.0%以下、好ましくは105.7%以下、より好ましくは105.4%以下、さらに好ましくは105.0%以下である。
本明細書中、緯糸占有率Y(%)とは、ガラスクロスのMD方向(製織における機械方向、経糸方向)における緯糸の存在する部分の割合を示す値である。具体的には、JIS R3420に準拠して測定した緯糸の織密度(本/25mm)と、100mm×100mmの大きさのガラスクロスサンプルを表面から顕微鏡で観察し、全ての緯糸の幅を求め、その合計を緯糸の本数で除算した平均値として求めた緯糸の糸幅(μm)(緯糸の糸幅がサンプル内で変動する場合は、最も幅が大きい箇所の幅)とを用いて、下式(1):
Y=F/(25000/G)×100 ・・・式(1)
で求められる値である。
[Weft Yarn Occupancy Rate]
The weft occupancy rate of the glass cloth of the present embodiment is 101.5% or more, preferably 101.8% or more, more preferably 102.2% or more, and even more preferably 102.5% or more. On the other hand, the weft occupancy rate is 106.0% or less, preferably 105.7% or less, more preferably 105.4% or less, and even more preferably 105.0% or less.
In this specification, the weft occupation ratio Y (%) is a value indicating the ratio of the portion where the weft exists in the MD direction (machine direction, warp direction in weaving) of the glass cloth. Specifically, the weft occupation ratio Y (%) is calculated by the following formula (1): using the weaving density (lines/25 mm) of the weft measured in accordance with JIS R3420 and the weft width (μm) obtained by observing a glass cloth sample having a size of 100 mm×100 mm from the surface with a microscope, determining the width of all the wefts, and dividing the sum by the number of wefts to obtain the average value. In the case where the weft width varies within the sample, the width at the widest point is used.
Y=F/(25000/G)×100 Formula (1)
This is the value calculated using the formula:
緯糸占有率が100%を超える状態とは、ガラスクロスのMD方向断面において隣り合う緯糸同士が重なりある状態を意味する。本願発明者らは、従来技術においては、緯糸幅を広げて、緯糸占有率を高めようとすると、経糸方向のクリンプ(うねり)構造が窮屈になり、歪を生じ、表面形状が不均一となり、ガラスクロスの面内均一性(面法方向のガラス分布の均一性)や表面平滑性が低下するという問題があることを発見し、これを解決すべく、緯糸占有率を所定範囲内とすることで、クリンプ構造の歪を抑制し、もって、ガラスクロスの面内均一性や表面平滑性を高めることができることを見出したものである。
緯糸占有率が101.5%以上であれば、ガラスクロスの面内均一性に優れるため、ガラスクロスと樹脂とから構成される絶縁体層において、ガラスと樹脂の存在比率がより均一となり、該絶縁体層上に形成された複数の伝送線路の信号伝播速度が同等となる傾向にあるため、信号の到達時間にずれが小さく、安定な信号処理が可能となる。
The state where the weft occupation ratio exceeds 100% means a state where adjacent wefts overlap each other in the MD cross section of the glass cloth. The inventors of the present application have discovered that, in the conventional technology, when an attempt is made to increase the weft occupation ratio by widening the weft width, the crimp (waviness) structure in the warp direction becomes cramped, distortion occurs, the surface shape becomes non-uniform, and the in-plane uniformity (uniformity of glass distribution in the plane normal direction) and surface smoothness of the glass cloth decrease. In order to solve this problem, the inventors have found that by setting the weft occupation ratio within a predetermined range, it is possible to suppress the distortion of the crimp structure and thereby to increase the in-plane uniformity and surface smoothness of the glass cloth.
If the weft occupancy rate is 101.5% or more, the glass cloth has excellent in-plane uniformity, so that the ratio of glass to resin in the insulator layer composed of glass cloth and resin becomes more uniform, and the signal propagation speeds of multiple transmission lines formed on the insulator layer tend to be equal, resulting in small deviations in signal arrival times and enabling stable signal processing.
本実施形態のガラスクロスは、弾性係数が70GPa以下の風合いが柔らかくしなやかなガラス糸で構成されることにより、緯糸占有率が101.5%以上であっても、緯糸と経糸のクリンプ構造に歪が生じることなく、均一な織物構造とすることができる。それゆえ、樹脂や銅箔との複合体を形成した際、ガラスクロスと樹脂の界面が幾何学構造的に面内で均一となり、また、樹脂の層厚さも面内で均一となるため、ガラスクロス/樹脂の層間接着性や、樹脂/銅箔との接着性を、均一に高くすることができるため、高い耐熱性が得られる。
他方、緯糸と経糸のクリンプ構造に歪が生じることなく、均一な織物構造とする観点から、緯糸占有率の上限は106.0%以下である。
The glass cloth of this embodiment is composed of glass yarns having a soft and pliable texture with an elastic modulus of 70 GPa or less, and therefore even if the weft occupancy rate is 101.5% or more, no distortion occurs in the crimp structure of the weft and warp yarns, and a uniform woven structure can be obtained. Therefore, when a composite body is formed with resin or copper foil, the interface between the glass cloth and the resin becomes geometrically uniform in-plane, and the layer thickness of the resin also becomes uniform in-plane, so that the interlayer adhesion between the glass cloth/resin and the adhesion between the resin and the copper foil can be uniformly increased, thereby obtaining high heat resistance.
On the other hand, from the viewpoint of forming a uniform woven structure without causing distortion in the crimp structure of the weft and warp yarns, the upper limit of the weft occupancy rate is 106.0% or less.
緯糸占有率は、整経、製織工程における経糸織密度および緯糸織密度の設計、後述する開繊工程における経糸と緯糸の糸幅の拡幅具合により、適切に調整することができる。開繊工程においては、経糸に張力をかけてガラスクロスを搬送させながらガラスフィラメントを平面方向に拡散させる力を作用させるため、経糸に作用する張力の強弱によって拡幅具合を調整することもできる。また、経糸に作用する張力は、幅方向(緯糸方向)で均一に作用する方が経糸と緯糸それぞれの拡幅具合が均一になるため、ガラスクロスの面内均一性がガラスクロスの幅方向を通して均一にすることができるため好ましい。 The weft occupancy rate can be appropriately adjusted by designing the warp and weft weave densities in the warping and weaving processes, and by the degree of warp and weft width expansion in the spreading process described below. In the spreading process, tension is applied to the warp threads to spread the glass filaments in the planar direction while transporting the glass cloth, so the degree of width expansion can also be adjusted by adjusting the strength of the tension acting on the warp threads. In addition, it is preferable for the tension acting on the warp threads to be uniform in the width direction (weft direction), as this will result in uniform width expansion of the warp and weft threads, and therefore the in-plane uniformity of the glass cloth can be made uniform throughout the width direction of the glass cloth.
本実施形態のガラスクロスは、緯糸幅と経糸幅の比が、(緯糸幅/経糸幅比)が1.32以下であることが好ましい。緯糸幅/経糸幅比のより好ましい範囲は1.31以下であり、さらに好ましい範囲は1.30以下である。
他方、緯糸幅/経糸幅(緯糸幅/経糸幅比)は1.01以上であることが好ましく、より好ましくは1.05以上であり、さらに好ましくは1.1以上であり、特に好ましくは1.15以上である。
緯糸幅/経糸幅比が当該範囲であれば、弾性係数が70GPa以下の風合いが柔らかくしなやかなガラス糸を用いて緯糸占有率が101.5%以上となるような織物構造とした際、緯糸のクリンプ振幅がより小さく抑えられ、経糸と緯糸のクリンプ構造の歪もより小さく抑えられる傾向にあるため、ガラスの面内均一性や表面平滑性のより優れたガラスクロスが得られやすいために好ましい。その結果、ガラスクロスの面内均一性を高く保持した状態で、表面平滑性の優れたガラスクロスとなるため、ガラス面内均一性とガラスクロス/樹脂の層間接着性、樹脂/銅箔の層間接着性、耐熱性を両立しやすくなる。
In the glass cloth of the present embodiment, the ratio of the weft width to the warp width (weft width/warp width ratio) is preferably 1.32 or less, more preferably 1.31 or less, and even more preferably 1.30 or less.
On the other hand, the weft width/warp width (weft width/warp width ratio) is preferably 1.01 or more, more preferably 1.05 or more, even more preferably 1.1 or more, and particularly preferably 1.15 or more.
If the weft width/warp width ratio is within this range, when a woven structure is formed with a weft occupancy rate of 101.5% or more using glass yarns with a soft and pliable texture and an elastic modulus of 70 GPa or less, the crimp amplitude of the weft yarn tends to be kept smaller, and the distortion of the crimp structure of the warp yarns and the weft yarns also tends to be kept smaller, which is preferable because it is easy to obtain a glass cloth with excellent in-plane glass uniformity and surface smoothness. As a result, the glass cloth has excellent surface smoothness while maintaining a high in-plane uniformity of the glass cloth, so that it is easy to achieve both the in-plane glass uniformity and the interlayer adhesion between the glass cloth and the resin, the interlayer adhesion between the resin and the copper foil, and heat resistance.
[シランカップリング剤]
本実施形態のガラスクロスは、好ましくは、不飽和二重結合を有するシランカップリング剤で表面処理されている。
信号の高速化を達成するために、電子回路基板の絶縁体層に用いられるマトリックス樹脂にも低誘電率化、低誘電正接化が求められるため、従来から電子回路基板に多用されているエポキシ樹脂に代わり、ビニル基、アクリレート基、メタクリレート基、アリル基等のラジカル重合性の官能基を有するポリフェニレンエーテル樹脂等の低誘電樹脂がマトリックス樹脂として有用である。
ガラスクロスが不飽和二重結合を有するシランカップリング剤で表面処理されていることにより、低誘電樹脂との層間接着性が良好となり、絶縁信頼性、耐熱性、機械的耐久性が向上する。
[Silane coupling agent]
The glass cloth of the present embodiment is preferably surface-treated with a silane coupling agent having an unsaturated double bond.
In order to achieve high-speed signals, the matrix resin used in the insulating layer of an electronic circuit board is also required to have a low dielectric constant and a low dielectric loss tangent. Therefore, low-dielectric resins such as polyphenylene ether resins having radically polymerizable functional groups such as vinyl groups, acrylate groups, methacrylate groups, and allyl groups are useful as matrix resins instead of the epoxy resins that have been widely used in electronic circuit boards.
The glass cloth is surface-treated with a silane coupling agent having an unsaturated double bond, which improves the interlayer adhesion with the low dielectric resin, and improves the insulation reliability, heat resistance, and mechanical durability.
不飽和二重結合を有するシランカップリング剤は、特に限定されないが、例えば、下記の式(2)で示されるシランカップリング剤が好ましい。
X(R)3-nSiYn ・・・(2)
式(2)中、Xは、マトリックス樹脂との接着が強くなる観点から、少なくとも一つの不飽和二重結合基を有する有機官能基が含まれる。不飽和二重結合基としては、ビニル基、アリル基が好適に挙げられる。
Yは、各々独立して、アルコキシ基であり、nは1以上3以下の整数であり、Rは、各々独立して、メチル基、エチル基、及びフェニル基からなる群より選ばれる基である。
Xの有機官能基には、アミノ基が含まれていてもよい。アミノ基としては、第一級アミンの基(-NH2)、第二級アミンの基(-NH-)、第三級アミンの基(-N<)であってもよく、これら第一級~第三級のアミンの基のいずれも包含する。
上記のアルコキシ基Yとしては、何れの形態も使用できるが、ガラスクロスへの安定処理化のためには、炭素数5以下のアルコキシ基が好ましい。
The silane coupling agent having an unsaturated double bond is not particularly limited, but for example, a silane coupling agent represented by the following formula (2) is preferable.
X(R) SiY ... (2)
In formula (2), X contains an organic functional group having at least one unsaturated double bond group, from the viewpoint of strengthening adhesion to the matrix resin. Suitable examples of the unsaturated double bond group include a vinyl group and an allyl group.
Each Y is independently an alkoxy group, n is an integer of 1 to 3, and each R is independently a group selected from the group consisting of a methyl group, an ethyl group, and a phenyl group.
The organic functional group of X may include an amino group. The amino group may be a primary amine group ( -NH2 ), a secondary amine group (-NH-), or a tertiary amine group (-N<), and includes all of these primary to tertiary amine groups.
The alkoxy group Y may be in any form, but for the purpose of stabilizing the treatment of glass cloth, an alkoxy group having 5 or less carbon atoms is preferred.
シランカップリング剤としては、特に限定されないが、例えば、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン及びその塩酸塩、N-β-(N-ビニルベンジルアミノエチル)-γ-アミノプロピルメチルジメトキシシラン及びその塩酸塩、N-β-(N-ジ(ビニルベンジル)アミノエチル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン及びその塩酸塩、N-β-(N-ジ(ビニルベンジル)アミノエチル)-N-γ-(N-ビニルベンジル)-γ-アミノプロピルトリメトキシシラン及びその塩酸塩、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン等が挙げられる。これらは一種単独で用いてもよく、二種以上を組み合わせて用いてもよい。 Examples of silane coupling agents include, but are not limited to, N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane and its hydrochloride, N-β-(N-vinylbenzylaminoethyl)-γ-aminopropylmethyldimethoxysilane and its hydrochloride, N-β-(N-di(vinylbenzyl)aminoethyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane and its hydrochloride, N-β-(N-di(vinylbenzyl)aminoethyl)-N-γ-(N-vinylbenzyl)-γ-aminopropyltrimethoxysilane and its hydrochloride, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropyltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, and the like. These may be used alone or in combination of two or more.
[比誘電率]
本実施形態のガラスクロスは、好ましくは、10GHzの周波数において5.0以下の比誘電率を有する。10GHzの周波数において5.0以下の比誘電率であることにより、ガラスクロスと樹脂とから構成される絶縁体層において、ガラスの存在比率が高い部位と樹脂の存在比率が高い部位での誘電特性差が小さく抑えられ、伝播速度の変化が低減されるため好ましい。
[Dielectric constant]
The glass cloth of the present embodiment preferably has a relative dielectric constant of 5.0 or less at a frequency of 10 GHz. A relative dielectric constant of 5.0 or less at a frequency of 10 GHz is preferable because the difference in dielectric properties between a region having a high glass content and a region having a high resin content in an insulator layer made of glass cloth and resin is kept small, thereby reducing a change in the propagation speed.
<ガラスクロスの製造方法>
本実施形態のガラスクロスの製造方法は、特に限定されないが、ガラス糸を経糸と緯糸に用い、常法により製織し、その後、ガラスクロスの生機をシランカップリング剤による処理する等の後加工を施す方法が挙げられる。ガラスクロスの織り構造としては、特に限定されないが、例えば、平織り、ななこ織り、朱子織り、綾織り等の織り構造が挙げられる。さらに異種のガラス糸を用いた混織構造でもよい。この中でも、平織り構造が好ましい。
<Method of manufacturing glass cloth>
The manufacturing method of the glass cloth of the present embodiment is not particularly limited, but may be a method in which glass yarns are used as warp and weft yarns, woven by a conventional method, and then post-processed by treating the green glass cloth with a silane coupling agent. The weaving structure of the glass cloth is not particularly limited, but may be, for example, a plain weave, a sash weave, a satin weave, or a twill weave. Furthermore, a mixed weave structure using different types of glass yarns may be used. Among these, a plain weave structure is preferred.
本実施形態のガラスクロスの製造方法は、特に限定されないが、例えば、シランカップリング剤の濃度が0.1~3.0wt%である処理液をガラスクロスに塗布してガラスフィラメントの表面をほぼ完全にシランカップリング剤で覆う被覆工程と、加熱乾燥によりシランカップリング剤をガラスフィラメントの表面に固着させる固着工程と、ガラスクロスのガラス糸を開繊する開繊工程と、を有する方法が好適に挙げられる。
シランカップリング剤を溶解又は分散させる溶媒としては、水、又は有機溶媒のいずれも使用できるが、安全性、地球環境保護の観点から、水を主溶媒とすることが好ましい。水を主溶媒とした処理液を得る方法としては、シランカップリング剤を直接水に投入する方法、シランカップリング剤を水溶性有機溶媒に溶解させて有機溶媒溶液とした後に該有機溶媒溶液を水に投入する方法、のいずれかの方法が好ましい。シランカップリング剤の処理液中での水分散性、安定性を向上させるために、界面活性剤を併用することも可能である。
The method for producing the glass cloth of the present embodiment is not particularly limited, but a suitable example is a method having a coating process in which a treatment liquid having a silane coupling agent concentration of 0.1 to 3.0 wt % is applied to the glass cloth to almost completely cover the surfaces of the glass filaments with the silane coupling agent, a fixing process in which the silane coupling agent is fixed to the surfaces of the glass filaments by heating and drying, and a fiber-opening process in which the glass threads of the glass cloth are opened.
As the solvent for dissolving or dispersing silane coupling agent, water or organic solvent can be used, but from the viewpoint of safety and global environmental protection, it is preferable to use water as the main solvent.As the method for obtaining the treatment liquid with water as the main solvent, it is preferable to directly put silane coupling agent into water, or to dissolve silane coupling agent in a water-soluble organic solvent to make an organic solvent solution, and then put the organic solvent solution into water.In order to improve the water dispersibility and stability of silane coupling agent in the treatment liquid, it is also possible to use surfactant in combination.
シランカップリング剤の処理液をガラスクロスに塗布する方法としては、(ア)シランカップリング剤の処理液をバスに溜め、ガラスクロスを浸漬、通過させる方法(以下、「浸漬法」という。)、(イ)ロールコーター、ダイコーター、又はグラビアコーター等でシランカップリング剤の処理液をガラスクロスに直接塗布する方法等が挙げられる。上記(ア)の浸漬法にて塗布する場合は、ガラスクロスの処理液への浸漬時間を0.5秒以上1分以下にすることが好ましい。
また、ガラスクロスに処理液を塗布した後、溶媒を加熱乾燥させる方法としては、熱風、電磁波等公知の方法が挙げられる。
Methods for applying the treatment solution of the silane coupling agent to the glass cloth include (a) a method in which the treatment solution of the silane coupling agent is stored in a bath and the glass cloth is immersed and passed through the solution (hereinafter referred to as the "immersion method"), and (b) a method in which the treatment solution of the silane coupling agent is directly applied to the glass cloth using a roll coater, a die coater, a gravure coater, etc. When applying the treatment solution by the immersion method (a) above, it is preferable to set the immersion time of the glass cloth in the treatment solution to 0.5 seconds or more and 1 minute or less.
As a method for heating and drying the solvent after applying the treatment liquid to the glass cloth, known methods such as hot air and electromagnetic waves can be used.
加熱乾燥温度は、シランカップリング剤とガラスとの反応が十分に行われるように、好ましくは90℃以上であり、より好ましくは100℃以上である。また、加熱乾燥温度は、シランカップリング剤が有する有機官能基の劣化を防ぐために、好ましくは300℃以下であり、より好ましくは200℃以下である。 The heating and drying temperature is preferably 90°C or higher, more preferably 100°C or higher, so that the reaction between the silane coupling agent and the glass is sufficiently carried out. In addition, the heating and drying temperature is preferably 300°C or lower, more preferably 200°C or lower, to prevent deterioration of the organic functional groups of the silane coupling agent.
開繊工程の開繊方法としては、特に限定されないが、例えば、ガラスクロスを、スプレー水(高圧水開繊)、バイブロウォッシャー、超音波水、マングル等で開繊加工する方法が挙げられる。バスケットホールの総面積を一定の範囲に保つためには、スプレー水により開繊工程を行うことが好ましい。
スプレー水で開繊する場合、水圧は適宜設定すればよく、ガラスクロスに存在するバスケットホールの総面積を調整するために、水圧は一定にすることが好ましい。ここで、水圧を一定にするとは、開繊を実施するために設定したスプレーの水圧と、実際の水圧の最大値、最小値との差を小さくすることを指す。開繊工程前後においても、加熱乾燥させる工程を有していてもよい。
The method for opening the fibers in the opening step is not particularly limited, but examples thereof include a method for opening the glass cloth with spray water (high pressure water opening), a vibro washer, ultrasonic water, a mangle, etc. In order to keep the total area of the basket holes within a certain range, it is preferable to carry out the opening step with spray water.
When the fibers are spread using spray water, the water pressure may be appropriately set, and it is preferable to keep the water pressure constant in order to adjust the total area of the basket holes present in the glass cloth. Keeping the water pressure constant here means reducing the difference between the spray water pressure set for spreading and the maximum and minimum values of the actual water pressure. A heat drying step may also be included before or after the spreading step.
本発明の他の実施形態は、前記したガラスクロスとマトリックス樹脂との複合体であるプリプレグである。
マトリックス樹脂は、該ガラスクロスに含侵している。
プリプレグは、常法に従って製造することができる。例えば、ガラスクロスに、マトリックス樹脂を有機溶剤で希釈したワニスを含浸させた後、乾燥炉にて有機溶剤を揮発させ、樹脂含浸プリプレグを作製することができる。
Another embodiment of the present invention is a prepreg which is a composite of the above-mentioned glass cloth and a matrix resin.
The glass cloth is impregnated with the matrix resin.
The prepreg can be produced by a conventional method, for example, by impregnating a glass cloth with a varnish prepared by diluting a matrix resin with an organic solvent, and then volatilizing the organic solvent in a drying furnace to produce a resin-impregnated prepreg.
マトリックス樹脂としては、熱硬化性樹脂、熱可塑性樹脂のいずれも使用可能である。
熱硬化性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、a)エポキシ基を有する化合物と、エポキシ基と反応する、アミノ基、フェノール基、酸無水物基、ヒドラジド基、イソシアネート基、シアネート基、及び水酸基等の少なくとも1つを有する化合物と、を、無触媒で、又は、イミダゾール化合物、3級アミン化合物、尿素化合物、燐化合物等の反応触媒能を持つ触媒を添加して、反応させて硬化させるエポキシ樹脂;b)ビニル基、アリル基、メタクリル基、及びアクリル基の少なくとも1つを有する化合物を、熱分解型触媒、又は光分解型触媒を反応開始剤として使用して、硬化させるラジカル重合型硬化樹脂;c)シアネート基を有する化合物と、マレイミド基を有する化合物と、を反応させて硬化させるマレイミドトリアジン樹脂;d)マレイミド化合物と、アミン化合物と、を反応させて硬化させる熱硬化性ポリイミド樹脂;e)ベンゾオキサジン環を有する化合物を加熱重合により架橋硬化させるベンゾオキサジン樹脂等が挙げられる。
As the matrix resin, either a thermosetting resin or a thermoplastic resin can be used.
The thermosetting resin is not particularly limited, but examples thereof include: a) an epoxy resin in which a compound having an epoxy group is reacted with a compound having at least one of an amino group, a phenol group, an acid anhydride group, a hydrazide group, an isocyanate group, a cyanate group, and a hydroxyl group that reacts with the epoxy group, without a catalyst or by adding a catalyst having a reaction catalytic ability, such as an imidazole compound, a tertiary amine compound, a urea compound, or a phosphorus compound, to be cured; b) a radical polymerization type curing resin in which a compound having at least one of a vinyl group, an allyl group, a methacryl group, and an acrylic group is cured using a thermal decomposition type catalyst or a photodecomposition type catalyst as a reaction initiator; c) a maleimide triazine resin in which a compound having a cyanate group is reacted with a compound having a maleimide group to be cured; d) a thermosetting polyimide resin in which a maleimide compound is reacted with an amine compound to be cured; and e) a benzoxazine resin in which a compound having a benzoxazine ring is crosslinked and cured by thermal polymerization.
また、熱可塑性樹脂としては、特に限定されないが、例えば、ポリフェニレンエーテル、変性ポリフェニレンエーテル、ポリフェニレンサルファイド、ポリスルホン、ポリエーテルスルフォン、ポリアリレート、芳香族ポリアミド、ポリエーテルエーテルケトン、熱可塑性ポリイミド、不溶性ポリイミド、ポリアミドイミド、フッ素樹脂等が挙げられる。
また、熱硬化性樹脂と、熱可塑性樹脂を併用してもよい。
The thermoplastic resin is not particularly limited, but examples thereof include polyphenylene ether, modified polyphenylene ether, polyphenylene sulfide, polysulfone, polyether sulfone, polyarylate, aromatic polyamide, polyether ether ketone, thermoplastic polyimide, insoluble polyimide, polyamide imide, and fluororesin.
Moreover, a thermosetting resin and a thermoplastic resin may be used in combination.
本実施形態の一つであるガラスクロスとマトリックス樹脂とから構成されるプリプレグにおけるマトリックス樹脂は、好ましくは、ポリフェニレンエーテル樹脂である。さらに好ましくは、ビニル基、アリル基、メタクリル基、及びアクリル基等の炭素-炭素二重結合を含む官能基が主鎖末端に1分子当たり1.5~5個存在するポリフェニレンエーテル樹脂である。また、好ましくは、数平均分子量500~8,000のポリフェニレンエーテルである。
マトリックス樹脂がポリフェニレンエーテル樹脂であると、誘電特性に優れるために好ましい。
また、マトリックス樹脂が、上記の官能基及び数平均分子量を有することにより、プリプレグ作製工程、プレス成型工程において、樹脂組成物がガラスクロスの内部まで浸透しやすく、ガラスクロスとの接着点が多く確保されるために、誘電特性が優れると推測されるが、本実施形態のようにガラスの面内均一性が高く、通気度が小さために、ガラスクロスの上下に形成される樹脂マトリックス層同士の直接の接着点数が下がる系においても、ガラスクロスと樹脂組成物の界面の強い接着性が発現することにより、耐熱性や絶縁信頼性が向上する。
The matrix resin in the prepreg composed of glass cloth and a matrix resin, which is one of the present embodiments, is preferably a polyphenylene ether resin. More preferably, it is a polyphenylene ether resin having 1.5 to 5 functional groups containing a carbon-carbon double bond, such as vinyl groups, allyl groups, methacrylic groups, and acrylic groups, at the main chain terminal per molecule. Also, it is preferably a polyphenylene ether having a number average molecular weight of 500 to 8,000.
The matrix resin is preferably a polyphenylene ether resin, since it has excellent dielectric properties.
Furthermore, since the matrix resin has the above-mentioned functional groups and number average molecular weight, it is presumed that the resin composition easily penetrates into the interior of the glass cloth in the prepreg production process and press molding process, and many bonding points with the glass cloth are secured, resulting in excellent dielectric properties. However, even in a system such as this embodiment in which the in-plane uniformity of the glass is high and the air permeability is low, resulting in a reduced number of direct bonding points between the resin matrix layers formed above and below the glass cloth, strong adhesion is expressed at the interface between the glass cloth and the resin composition, thereby improving heat resistance and insulation reliability.
本発明のさらに他の実施形態は、前記したプリプレグを用いて製造されるプリント配線板、すなわち、本実施形態のプリプレグを成形してなるプリント配線板である。本実施形態のプリプレグを用いてプリント配線板を製造することにより、高品質で、複数の伝送線路の信号伝播速度差が軽減されたプリント配線板を提供することができる。 Yet another embodiment of the present invention is a printed wiring board manufactured using the prepreg described above, i.e., a printed wiring board formed by molding the prepreg of this embodiment. By manufacturing a printed wiring board using the prepreg of this embodiment, it is possible to provide a high-quality printed wiring board in which the difference in signal propagation speed between multiple transmission lines is reduced.
以下、本発明を実施例及び比較例を用いて具体的に説明する。本発明は、以下の実施例によって何ら限定されるものではない。
まず、実施例等で用いた各種物性、特性の評価方法を説明する。
The present invention will be specifically described below using examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.
First, the methods for evaluating various physical properties and characteristics used in the examples will be described.
(1)ガラス糸の弾性係数(GPa)
ガラスクロスを構成するガラス糸の弾性係数は、ガラス糸を溶融、冷却して得られるガラスバルクを試験片に用い、パルスエコーオーバーラップ法により測定した。
(1) Elastic modulus of glass yarn (GPa)
The elastic modulus of the glass yarns constituting the glass cloth was measured by the pulse echo overlap method using a glass bulk obtained by melting and cooling the glass yarns as a test piece.
(2)ガラスクロスの厚さ(μm)
ガラスクロスの厚さは、JIS規格のR3420(7.10クロス及びマットの厚さ)に準拠して測定した。A法を用い、耳端より150mm内側を5等分した5か所の厚さをマイクロメーターで測定し、測定値の算術平均として求めた。
(2) Thickness of glass cloth (μm)
The thickness of the glass cloth was measured in accordance with JIS R3420 (7.10 cloth and mat thickness). Using Method A, the thickness was measured with a micrometer at five equal points 150 mm inside from the edge, and the arithmetic average of the measured values was calculated.
(3)ガラスクロスを構成する経糸と緯糸の織密度(本/25mm)
織密度をJIS規格のR3420(7.9織り密度)に準拠して測定した。耳端より150mm内側の3か所について、50mmの間隔にある糸本数を測定した。測定毎に25mm当たりの糸本数を算出し、3回の平均値を求めた。
(3) Weave density of warp and weft threads constituting the glass cloth (threads/25 mm)
The weave density was measured in accordance with JIS standard R3420 (7.9 weave density). The number of threads at 50 mm intervals was measured at three locations 150 mm inside from the edge of the fabric. The number of threads per 25 mm was calculated for each measurement, and the average value of the three measurements was calculated.
(4)ガラスクロスを構成する経糸と緯糸の糸幅(μm)、緯糸幅/経糸幅比
ガラスクロスを構成する経糸と緯糸の糸幅は、100mm×100mmの大きさのガラスクロスサンプルを表面から顕微鏡で観察し、全ての経糸と緯糸の幅を求め、その合計を経糸と緯糸のそれぞれの本数で除算した平均値として求めた。このとき、緯糸又は経糸の糸幅がサンプル内で変動する場合は、最も幅が大きい箇所の幅をその緯糸又は経糸の糸幅とした。これらを用いて、緯糸幅/経糸幅比を求めた。
(4) Width (μm) of warp and weft yarns constituting the glass cloth, and weft width/warp width ratio The width of the warp and weft yarns constituting the glass cloth was determined by observing a glass cloth sample measuring 100 mm×100 mm from the surface with a microscope, determining the width of all warp and weft yarns, and dividing the sum by the number of warp and weft yarns, to obtain the average value. In this case, when the width of the weft or warp yarn varies within the sample, the width of the widest part was regarded as the width of the weft or warp yarn. Using these, the weft width/warp width ratio was calculated.
(5)緯糸占有率Y(%)
前記にようにして緯糸の織密度(本/25mm)と緯糸の糸幅(μm)を用いて、下式(1):
Y=F/(25000/G)×100 ・・・式(1)
で求めた。
(5) Weft Yarn Occupancy Rate Y (%)
Using the weaving density (counts/25 mm) and the width (μm) of the weft yarn as described above, the following formula (1):
Y=F/(25000/G)×100 Formula (1)
was calculated.
(6)ガラス糸の比誘電率
ガラス糸を溶融して、長さ約50mm、幅約1.5mmのバルク状のガラス試験片を作製し、空洞共振器にて測定した。該試験片を、105℃±2℃のオーブンに入れ2時間乾燥させた後、23±2℃、相対湿度50±5%の恒温室に96時間静置後、10GHzの比誘電率を測定した。
尚、測定装置には、ネットワークアナライザー(N5230A、AgilentTechnologies社製)、及び関東電子応用開発社製の空洞共振器(Cavity Resornator CPシリーズ)を用い、23±2℃、相対湿度50±5%の環境下で測定した。
(6) Dielectric constant of glass yarn A bulk glass test piece with a length of about 50 mm and a width of about 1.5 mm was prepared by melting the glass yarn, and the dielectric constant was measured using a cavity resonator. The test piece was placed in an oven at 105°C ± 2°C and dried for 2 hours, and then left to stand in a thermostatic chamber at 23 ± 2°C and a relative humidity of 50 ± 5% for 96 hours, after which the dielectric constant at 10 GHz was measured.
The measurement was performed using a network analyzer (N5230A, manufactured by Agilent Technologies) and a cavity resonator (Cavity Resonator CP series) manufactured by Kanto Electronics Application Development Co., Ltd. under an environment of 23±2° C. and a relative humidity of 50±5%.
(7)ガラスクロスの通気度の均一性評価
ガラスクロスの通気度を、幅方向に均等間隔に12点測定し、以下の基準にて5段階で評価した。尚、通気度の測定は、通気度測定器(TEXTEST AG社製、FX3300LabAir Mark4)を用いて行った。
5:通気度の平均値、最大値ともに3.0以下
4:通気度の平均値が3以下、最大値が3.0を超え3.3以下
3:通気度の平均値が3以下、最大値が3.3を超え3.6以下
2:通気度の平均値が3以下、最大値が3.6を超え5.0以下
1:通気度の平均値が3より大きい
(7) Evaluation of Uniformity of Air Permeability of Glass Cloth The air permeability of the glass cloth was measured at 12 equally spaced points in the width direction and evaluated on a 5-point scale according to the following criteria: The air permeability was measured using an air permeability meter (FX3300LabAir Mark4, manufactured by TEXTEST AG).
5: Both the average and maximum air permeability are 3.0 or less. 4: The average air permeability is 3 or less, and the maximum value is greater than 3.0 and less than 3.3. 3: The average air permeability is 3 or less, and the maximum value is greater than 3.3 and less than 3.6. 2: The average air permeability is 3 or less, and the maximum value is greater than 3.6 and less than 5.0. 1: The average air permeability is greater than 3.
(8)ガラスクロスの耐熱性評価
実施例及び比較例で得られたガラスクロスA~Oに、以下の表1に記載のポリフェニレンエーテル含有樹脂組成物のワニスを含侵させた後、所定のスリットに通すことにより余分なワニスを掻き落とし、105℃の乾燥オーブンにて所定時間乾燥させ、溶剤を除去することにより、プリプレグを得た。
得られたプリプレグを4枚重ね、更にその両側に、厚さ12μm、表面粗さRz2.0μmの銅箔(FV-WS箔、古河電工製)を重ね、温度200℃、圧力40kg/cm2の条件で60分間の真空プレスを行うことによって銅張積層板を作製した。
片側だけの銅箔をエッチングにより除去し、耐熱性試験を実施した。耐熱性試験は、試験片を50mm角に切り出し、次いで、105℃のオーブンに入れ2時間乾燥させた後、プレッシャークッカーテスト(PCT)を実施した(条件1:3気圧、72時間、条件2:3気圧、4時間、条件3:2気圧、4時間)。その後、260℃又は288℃のはんだ浴に20秒ディップする試験を30回繰り返す耐熱性試験を実施した。尚、ディップの間隔は20秒間とした。
目視による観察により、下記評価基準に基づき耐熱性を評価した。
5:はんだ試験288℃(PCT3気圧、72時間)の条件で、膨れ、剥離、及び白化のいずれも確認されなかった積層板
4:はんだ試験288℃(PCT3気圧、4時間)の条件で、膨れ、剥離、及び白化のいずれも確認されなかった積層板
3:はんだ試験288℃(PCT2気圧、4時間)の条件で、膨れ、剥離、及び白化のいずれも確認されなかった積層板
2:はんだ試験260℃(PCT2気圧、4時間)の条件で、膨れ、剥離、及び白化のいずれも確認されなかった積層板(288℃の条件では、膨れ、剥離、及び白化の何れかが発生した)
1:はんだ試験260℃(PCT2気圧、4時間)の条件で、膨れ、剥離、及び白化の何れかが発生した積層板
(8) Evaluation of Heat Resistance of Glass Cloth The glass cloths A to O obtained in the Examples and Comparative Examples were impregnated with the varnish of the polyphenylene ether-containing resin composition shown in Table 1 below, and then passed through a predetermined slit to scrape off excess varnish. The glass cloths were then dried for a predetermined time in a drying oven at 105° C. to remove the solvent, thereby obtaining prepregs.
Four sheets of the obtained prepreg were stacked, and copper foil (FV-WS foil, manufactured by Furukawa Electric Co., Ltd.) with a thickness of 12 μm and a surface roughness Rz of 2.0 μm was stacked on both sides of the stack. A copper-clad laminate was produced by vacuum pressing for 60 minutes under conditions of a temperature of 200° C. and a pressure of 40 kg/ cm2 .
The copper foil on only one side was removed by etching, and a heat resistance test was performed. The heat resistance test was performed by cutting test pieces into 50 mm squares, placing them in an oven at 105°C and drying them for 2 hours, and then performing a pressure cooker test (PCT) (condition 1: 3 atm, 72 hours, condition 2: 3 atm, 4 hours, condition 3: 2 atm, 4 hours). Then, a heat resistance test was performed in which the test pieces were dipped in a solder bath at 260°C or 288°C for 20 seconds, and this was repeated 30 times. The dip interval was 20 seconds.
The heat resistance was evaluated by visual observation according to the following evaluation criteria.
5: Laminate in which no blistering, peeling, or whitening was observed under soldering test conditions of 288°C (PCT 3 atmospheres, 72 hours) 4: Laminate in which no blistering, peeling, or whitening was observed under soldering test conditions of 288°C (PCT 3 atmospheres, 4 hours) 3: Laminate in which no blistering, peeling, or whitening was observed under soldering test conditions of 288°C (PCT 2 atmospheres, 4 hours) 2: Laminate in which no blistering, peeling, or whitening was observed under soldering test conditions of 260°C (PCT 2 atmospheres, 4 hours) (blistering, peeling, or whitening occurred under the 288°C condition)
1: A laminate that exhibited swelling, peeling, or whitening under the conditions of a solder test at 260°C (PCT 2 atmospheres, 4 hours).
<マトリックス樹脂(ポリフェニレンエーテル含有樹脂組成物、表1参照)に使用される材料>
PPE
・下記製造例1で得られた変性ポリフェニレンエーテル1(変性PPE1、Mn:1600)
・末端メタクリル基変性PPE「製品名SA9000」(Sabicイノベーティブプラスチックス社製、Mn:2756)
・ポリフェニレンエーテル「製品名S201A」(旭化成株式会社製、Mn:22,000)
熱可塑性樹脂
・水添スチレン系熱可塑性樹脂「製品名タフテックH1051」(旭化成社製)
・水添スチレン系熱可塑性樹脂「製品名タフテックN504」(旭化成社製)
その他成分
・架橋剤:TAIC(日本化成社製)
・有機過酸化物:ジ(2-t-ブチルペルオキシイソプロピル)ベンゼン「製品名パーブチルP」(日油社製)
・難燃剤:デカブロモジフェニルエタン「製品名SAYTEX8010」(アルベマール社製)
・添加剤:球状シリカ(龍森社製)
<Materials used in matrix resin (polyphenylene ether-containing resin composition, see Table 1)>
PPE
Modified polyphenylene ether 1 (modified PPE1, Mn: 1600) obtained in Production Example 1 below
- Terminal methacrylic group modified PPE "Product name SA9000" (Sabic Innovative Plastics, Mn: 2756)
Polyphenylene ether "Product name S201A" (manufactured by Asahi Kasei Corporation, Mn: 22,000)
Thermoplastic resin: Hydrogenated styrene-based thermoplastic resin "Product name: Tuftec H1051" (manufactured by Asahi Kasei Corporation)
- Hydrogenated styrene-based thermoplastic resin "Product name: Tuftec N504" (manufactured by Asahi Kasei Corporation)
Other components: Crosslinking agent: TAIC (manufactured by Nippon Kasei Co., Ltd.)
Organic peroxide: di(2-t-butylperoxyisopropyl)benzene "Product name: Perbutyl P" (manufactured by NOF Corporation)
Flame retardant: Decabromodiphenylethane "Product name SAYTEX 8010" (manufactured by Albemarle Corporation)
Additive: Spherical silica (Tatsumori Co., Ltd.)
(製造例1)
PPE1(PPE1)の合成
500mlの3つ口フラスコに、3方コックを付け、更にジムロートと等圧滴下ロートを設置した。フラスコ内を窒素に置換した後、原料PPE S202A100g、トルエン200g、多官能フェノールとして1,1,3-トリス(2-メチル-4-ヒドロキシ-5-tert-ブチルフェニル)ブタン12.8gを加えた。フラスコに温度計を設置し、マグネチックスターラーにて撹拌しながら、オイルバスにてフラスコを90℃に加熱し、原料PPEを溶解させた。開始剤として、ベンゾイルペルオキシド、ベンゾイルm-メチルベンゾイルペルオキシド、m-トルイルペルオキシドの混合物の40%メタキシレン溶液(日油製:ナイパーBMT)の37.5gをトルエン87.5gに希釈し、等圧滴下ロートに仕込んだ。フラスコ内の温度を80℃まで降温させた後、開始剤溶液を、フラスコ内へ滴下開始し、反応を開始した。開始剤を2時間かけて滴下し、滴下後、再び90℃に昇温し,4時間撹拌を継続した。反応後、ポリマー溶液をメタノール中に滴下し、再沈させた後、溶液と濾別し、ポリマーを回収した。その後、これを真空下100℃で3時間乾燥させた。1H-NMRにより、低分子フェノールがポリマー中に取り込まれ、水酸基のピークが消失していることを確認した。この1H-NMR測定結果から、得られたポリマーは、下記式:
で表される構造を有するPPE(以下、PPE1という)であると確認できた。GPC測定の結果、得られたPPE1のポリスチレン換算での分子量はMn=1,500であった。また、PPE1の20%メチルエチルケトン溶媒中での溶液粘度は125cPoiseであった。
(Production Example 1)
Synthesis of PPE1 (PPE1) A 500 ml three-neck flask was fitted with a three-way cock, and further fitted with a Dimroth valve and a pressure equalizing dropping funnel. After replacing the atmosphere in the flask with nitrogen, 100 g of raw material PPE S202A, 200 g of toluene, and 12.8 g of 1,1,3-tris(2-methyl-4-hydroxy-5-tert-butylphenyl)butane as a polyfunctional phenol were added. A thermometer was placed in the flask, and the flask was heated to 90° C. in an oil bath while stirring with a magnetic stirrer to dissolve the raw material PPE. As an initiator, 37.5 g of a 40% meta-xylene solution of a mixture of benzoyl peroxide, benzoyl m-methylbenzoyl peroxide, and m-toluyl peroxide (manufactured by NOF Corp.: Niper BMT) was diluted with 87.5 g of toluene and charged into a pressure equalizing dropping funnel. After the temperature inside the flask was lowered to 80°C, the initiator solution was started to be dropped into the flask to start the reaction. The initiator was dropped over 2 hours, and after the dropwise addition, the temperature was raised again to 90°C and stirring was continued for 4 hours. After the reaction, the polymer solution was dropped into methanol and reprecipitated, and then the solution was separated by filtration to recover the polymer. This was then dried at 100°C under vacuum for 3 hours. It was confirmed by 1H -NMR that the low molecular weight phenol had been incorporated into the polymer and the peak of the hydroxyl group had disappeared. From the 1H -NMR measurement results, the obtained polymer had the following formula:
As a result of GPC measurement, the molecular weight of the obtained PPE1 in terms of polystyrene was Mn=1,500. The solution viscosity of PPE1 in a 20% methyl ethyl ketone solvent was 125 cPoise.
(変性PPE1の合成)
トルエン80g、及び上記で合成したPPE1を26g混合して約85℃に加熱した。加熱された混合物へジメチルアミノピリジン0.55gを添加した。固体が全て溶解したと思われる時点で、溶解物へ無水メタクリル酸4.9gを徐々に添加した。得られた溶液を連続混合しながら85℃に3時間維持した。次いで、溶液を室温に冷却して、メタクリレート変性PPEのトルエン溶液を得た。
溶液の一部を採取し、乾燥後1H-NMR測定を実施した。PPEの水酸基由来のピークが消失していたことから、反応が進行しているものと判断し、精製操作に移った。上記メタクリレート変性PPEのトルエン溶液120gを、1Lビーカー中マグネチックスターラーで激しく撹拌したメタノール360g中に30分掛けて滴下した。得られた沈殿物を、メンブランフィルターで減圧濾過した後に乾燥し、38gのポリマーを得た。乾燥させたポリマーの1H-NMR測定結果を図1に示す。4.5ppm付近のPPEの水酸基由来のピークが消失したこと、及び、5.75ppm付近にメタクリル基のオレフィン由来のピークの発現を確認した。また、GC測定により、ジメチルアミノピリジン、無水メタクリル酸、メタクリル酸由来のピークがほぼ消失していることから、NMRのメタクリル基由来のピークは、PPE末端に結合しているメタクリル基のものと判断した。この結果から、得られたポリマーは、下記式:
また、GPC測定の結果、得られた変性PPE1のポリスチレン換算での分子量はMn=1,600であった。また、変性PPE1の平均末端官能基数は、上記数式(2)に従って、2.0以上であることが算出された。更に、変性PPE1の20%メチルエチルケトン溶媒中での溶液粘度は131cPoiseであった。
(Synthesis of modified PPE1)
80 g of toluene and 26 g of PPE1 synthesized above were mixed and heated to approximately 85° C. 0.55 g of dimethylaminopyridine was added to the heated mixture. Once all solids appeared to have dissolved, 4.9 g of methacrylic anhydride was slowly added to the melt. The resulting solution was maintained at 85° C. for 3 hours with continuous mixing. The solution was then cooled to room temperature to provide a toluene solution of methacrylate modified PPE.
A part of the solution was collected, dried, and then 1 H-NMR measurement was carried out. Since the peaks derived from the hydroxyl groups of the PPE had disappeared, it was judged that the reaction was proceeding, and the purification operation was started. 120 g of the above toluene solution of methacrylate-modified PPE was dropped over 30 minutes into 360 g of methanol in a 1 L beaker that was vigorously stirred with a magnetic stirrer. The resulting precipitate was filtered under reduced pressure with a membrane filter and then dried to obtain 38 g of polymer. The result of 1 H-NMR measurement of the dried polymer is shown in FIG. 1. It was confirmed that the peak derived from the hydroxyl groups of PPE at around 4.5 ppm had disappeared, and that a peak derived from the olefin of the methacryl group had appeared at around 5.75 ppm. In addition, since the peaks derived from dimethylaminopyridine, methacrylic anhydride, and methacrylic acid had almost disappeared by GC measurement, it was judged that the peak derived from the methacryl group in NMR was that of the methacryl group bonded to the PPE terminal. From this result, the obtained polymer was a compound represented by the following formula:
As a result of GPC measurement, the molecular weight of the modified PPE1 obtained was Mn=1,600 in terms of polystyrene. The average number of terminal functional groups of the modified PPE1 was calculated to be 2.0 or more according to the above formula (2). Furthermore, the solution viscosity of the modified PPE1 in a 20% methyl ethyl ketone solvent was 131 cPoise.
〔実施例1~7、比較例1~3〕
経糸、緯糸ともに、平均フィラメント直径6.0μm、フィラメント数200本からなる低誘電ガラス糸(LガラスLCDE340、弾性係数61GPa、比誘電率4.8)を使用し、エアジェットルームを用い、経糸打ち込み密度59.0本/25mm、緯糸の打ち込み密度61.5本/25mmのガラスクロス(生機)を製織した。
該生機に400℃で24時間加熱処理し脱糊した後、表面処理剤としてシランカップリング剤である、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン;KBM502(信越シリコーン社製))を用いた処理液にガラスクロスを浸漬し、絞液後、120℃で1分乾燥し、さらに高圧水スプレーによる拡幅加工、開繊加工を実施し、以下の表1に示すガラスクロスA~Iを得た。
尚、上記の拡幅加工、開繊加工時に、MDに作用させる張力、スプレー圧を調整し、経糸幅と緯糸幅を調整した。
[Examples 1 to 7, Comparative Examples 1 to 3]
For both the warp and weft, low dielectric glass yarns (L glass LCDE340, elastic modulus 61 GPa, relative dielectric constant 4.8) having an average filament diameter of 6.0 μm and 200 filaments were used, and a glass cloth (grey) was woven using an air jet loom with a warp pick density of 59.0 yarns/25 mm and a weft pick density of 61.5 yarns/25 mm.
The grey fabric was heat-treated at 400°C for 24 hours to remove the size, and then the glass cloth was immersed in a treatment solution using a silane coupling agent, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane; KBM502 (manufactured by Shin-Etsu Silicones), as a surface treatment agent. After squeezing out the liquid, the glass cloth was dried at 120°C for 1 minute, and then subjected to a width-widening process and a fiber-opening process using a high-pressure water spray, to obtain glass cloths A to I shown in Table 1 below.
During the above-mentioned widening and opening processes, the tension and spray pressure acting in the MD were adjusted to adjust the warp width and weft width.
〔比較例4~6〕
経糸、緯糸ともに、平均フィラメント直径6.0μm、フィラメント数200本からなる汎用のガラス糸(EガラスECDE300、弾性係数74GPa、比誘電率6.8)を使用した以外は実施例1と同様の操作より、ガラスクロスJ~Lを得た。
[Comparative Examples 4 to 6]
Glass cloths J to L were obtained in the same manner as in Example 1, except that a general-purpose glass yarn (E glass ECDE300, elastic modulus 74 GPa, relative dielectric constant 6.8) having an average filament diameter of 6.0 μm and 200 filaments was used for both the warp and weft.
〔実施例8、比較例7〕
経糸、緯糸ともに、平均フィラメント直径7.0μm、フィラメント数200本からなる低誘電タイプのガラス糸(LガラスLCE255、弾性係数61GPa、比誘電率4.8)を使用し、経糸打ち込み密度60.0本/25mm、緯糸打ち込み密度57.0本/25mmとした以外は実施例1と同様の操作より、ガラスクロスM、Nを得た。
[Example 8, Comparative Example 7]
For both the warp and weft yarns, low dielectric type glass yarns (L glass LCE255, elastic modulus 61 GPa, relative dielectric constant 4.8) consisting of 200 filaments with an average filament diameter of 7.0 μm were used, and the warp yarn packing density was 60.0 yarns/25 mm and the weft yarn packing density was 57.0 yarns/25 mm. Except for this, glass cloths M and N were obtained in the same manner as in Example 1.
〔比較例8〕
経糸、緯糸ともに、平均フィラメント直径7.0μm、フィラメント数200本からなる汎用のガラス糸(EガラスECE225、弾性係数74GPa、比誘電率6.8)を使用した以外は実施例8と同様の操作より、ガラスクロスOを得た。
Comparative Example 8
A glass cloth O was obtained in the same manner as in Example 8, except that a general-purpose glass yarn (E glass ECE225, elastic modulus 74 GPa, relative dielectric constant 6.8) having an average filament diameter of 7.0 μm and 200 filaments was used for both the warp and weft.
実施例1~8、比較例1~8で得られたガラスクロスA~Oの各種物性、特性、並びにこれにマトリックス樹脂を複合したプリプレグを成形してなる銅貼積層板の耐熱性等を以下の表1に示す。 The various physical properties and characteristics of the glass cloths A to O obtained in Examples 1 to 8 and Comparative Examples 1 to 8, as well as the heat resistance of the copper-clad laminates formed by molding prepregs in which the glass cloths are compounded with a matrix resin, are shown in Table 1 below.
実施例1~8に開示した通り、本実施形態のガラスクロスは通気度の均一性、耐熱性に優れたものであった。
比較例1、2、4、7では、緯糸占有率が小さいため、バスケットホールの大きい部位が存在し、通気度が大きく、通気度の均一性が良くなかった。
比較例3では、緯糸占有率が大きいため通気度の均一性は高いが、大きな緯糸占有率に起因して緯糸と経糸のクリンプ構造の歪が大きくなり、耐熱性に劣っていた。
比較例5、6、8では、緯糸占有率が大きく、一定の通気度の均一性は得られるが、弾性係数の大きいEガラスを用いているため、緯糸と経糸のクリンプ構造の歪が大きくなり、耐熱性に劣っていた。
As disclosed in Examples 1 to 8, the glass cloth of the present embodiment had excellent uniformity in air permeability and heat resistance.
In Comparative Examples 1, 2, 4, and 7, the weft occupancy rate was small, so there were areas with large basket holes, and the air permeability was high and the uniformity of the air permeability was poor.
In Comparative Example 3, the weft occupancy rate was large, so the breathability was highly uniform. However, the large weft occupancy rate caused significant distortion in the crimp structure of the weft and warp yarns, resulting in poor heat resistance.
In Comparative Examples 5, 6, and 8, the weft occupancy rate was high, and a certain degree of uniformity in air permeability was obtained, but because E-glass with a high elastic modulus was used, the distortion of the crimp structure of the weft and warp yarns was large, and the heat resistance was poor.
本発明に係るガラスクロスは、面方向のガラス分布均一性に優れるため、これを用いて、耐熱性に優れ、かつ、複数の伝送線路の信号伝播速度差が軽減された絶縁体層となるプリプレグ、並びに該クリプレグを成形してなるプリント配線板を提供することができる。 The glass cloth according to the present invention has excellent uniformity of glass distribution in the surface direction, and can be used to provide a prepreg that has excellent heat resistance and serves as an insulating layer that reduces the difference in signal propagation speed between multiple transmission lines, as well as a printed wiring board made by molding the prepreg.
Claims (6)
Y=F/(25000/G)×100 ・・・式(1)
{式中、Fは、緯糸幅(μm)であり、そしてGは、緯糸の織密度(本/25mm)である。}で求められる、MD方向における緯糸の存在する部分の割合を示す緯糸占有率Y(%)が、101.5%以上106.0%以下であり、かつ、該ガラスクロスの緯糸幅と経糸幅の比(緯糸幅/経糸幅比)が1.15以上1.32以下である、ガラスクロス。 A glass cloth having a thickness of 50 μm or more and 100 μm or less and made of glass yarns having an elastic modulus of 50 GPa or more and 70 GPa or less, the thickness of which satisfies the following formula (1):
Y=F/(25000/G)×100 Formula (1)
{wherein F is the weft width (μm), and G is the weaving density of the weft (lines/25 mm)}, and indicates the ratio of the area in which the weft is present in the MD direction , and is 101.5% or more and 106.0% or less, and the ratio of the weft width to the warp width (weft width/warp width ratio) of the glass cloth is 1.15 or more and 1.32 or less .
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Publications (2)
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Country | Link |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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