JP7555774B2 - Blower and electronic component mounting device - Google Patents
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- 238000009423 ventilation Methods 0.000 claims description 87
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 16
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 7
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 7
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 6
- 230000003749 cleanliness Effects 0.000 description 5
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 3
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 3
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 2
- 239000000463 material Substances 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000009408 flooring Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 230000000149 penetrating effect Effects 0.000 description 1
- 238000006467 substitution reaction Methods 0.000 description 1
- 238000011144 upstream manufacturing Methods 0.000 description 1
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
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- F24F3/16—Air-conditioning systems in which conditioned primary air is supplied from one or more central stations to distributing units in the rooms or spaces where it may receive secondary treatment; Apparatus specially designed for such systems characterised by the treatment of the air otherwise than by heating and cooling by purification, e.g. by filtering; by sterilisation; by ozonisation
- F24F3/167—Clean rooms, i.e. enclosed spaces in which a uniform flow of filtered air is distributed
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F13/00—Details common to, or for air-conditioning, air-humidification, ventilation or use of air currents for screening
- F24F13/08—Air-flow control members, e.g. louvres, grilles, flaps or guide plates
- F24F13/082—Grilles, registers or guards
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F13/00—Details common to, or for air-conditioning, air-humidification, ventilation or use of air currents for screening
- F24F13/28—Arrangement or mounting of filters
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- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05K—PRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
- H05K13/00—Apparatus or processes specially adapted for manufacturing or adjusting assemblages of electric components
- H05K13/04—Mounting of components, e.g. of leadless components
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- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F24—HEATING; RANGES; VENTILATING
- F24F—AIR-CONDITIONING; AIR-HUMIDIFICATION; VENTILATION; USE OF AIR CURRENTS FOR SCREENING
- F24F13/00—Details common to, or for air-conditioning, air-humidification, ventilation or use of air currents for screening
- F24F13/20—Casings or covers
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Description
本発明は、送風器及び電子部品の実装装置に関する。 The present invention relates to a blower and an electronic component mounting device.
半導体チップなどの電子部品を基板に対して実装する実装機は、実装不良を防ぐために、高い清浄度の空間での実装が必要となる。このため、かかる実装機は、実装機を覆うカバーが設けられ、カバー内に、天井から下方に向かう気流であるダウンフローを発生させて、機構部分等から発生する塵埃などを排気することにより、電子部品への塵埃の付着を防止している。 Mounting machines that mount electronic components such as semiconductor chips onto boards must be carried out in a highly clean space to prevent mounting defects. For this reason, such mounting machines are provided with a cover that covers the mounting machine, and a downflow, an air current that flows downward from the ceiling, is generated inside the cover to exhaust dust and other particles generated from the mechanism, preventing dust from adhering to the electronic components.
このダウンフローを起こすための構成としては、ダウンフローを発生させたい空間の上に加圧室を設け、加圧室にファン、ブロワーなどによって吸気して加圧室の内部の気圧を高めて、加圧室の下部に設けられた流通抵抗付与部材を介して、下方に送風する構成となっている。また、給気する空気の清浄度を上げるため、加圧室内には、HEPAなどのファンフィルタユニットを介して給気することが一般的である。 The configuration for creating this downflow is such that a pressurized chamber is provided above the space in which the downflow is to be generated, and air is drawn into the pressurized chamber using a fan, blower, etc. to increase the air pressure inside the chamber, and then the air is blown downwards through a flow resistance imparting member provided at the bottom of the pressurized chamber. Also, in order to increase the cleanliness of the air being supplied, it is common to supply air into the pressurized chamber through a fan filter unit such as HEPA.
流通抵抗付与部材は、加圧室内の圧力分布を均一に近づけてダウンフローを生じさせるために、充分な流通抵抗を付与する。流通抵抗付与部材としては、網材の他、金属製の板に貫通孔を形成したパンチング板を使用することが一般的である。 The flow resistance imparting member provides sufficient flow resistance to make the pressure distribution in the pressurized chamber more uniform and generate a downflow. In addition to mesh materials, punched metal plates with through holes are commonly used as flow resistance imparting members.
近年、電子部品の実装においても、半導体製造の前工程レベルのクラス1(ISO3)の清浄度が得られるクリーン環境が要求されるようになり、塵埃の巻き上げに対しても非常に微細な制御が必要とされるようになってきた。例えば、半導体チップを多層に配置することにより集積度を高める3Dパッケージやハイブリッドボンディングでは、非常に狭いピッチの電極同士を接合する必要がある。このため、基板に対して電子部品を実装する際には、より高い精度、例えば、サブミクロンオーダーの精度が要求されるようになってきている。 In recent years, the mounting of electronic components has also come to require a clean environment with Class 1 (ISO 3) cleanliness, the same as the front-end process of semiconductor manufacturing, and extremely fine control has become necessary to prevent the stirring up of dust. For example, in 3D packaging and hybrid bonding, which increase the degree of integration by arranging semiconductor chips in multiple layers, it is necessary to bond electrodes with a very narrow pitch. For this reason, greater precision, for example, precision on the submicron order, is now required when mounting electronic components on a board.
さらに、実装時に、実装のための機構部分の動作による誤差や、動作により発生する塵埃が、接合不良を招く可能性がある。しかしながら、上記のようなファンフィルタユニットを使ってダウンフローを形成しても、必要とされるクリーン環境において、許容できない塵埃の巻き上がりが生じてしまうことがあった。 Furthermore, during mounting, errors caused by the operation of the mounting mechanism and dust generated by the operation can lead to poor bonding. However, even if a downflow is created using a fan filter unit as described above, unacceptable amounts of dust can still be stirred up in the required clean environment.
本発明は、上述のような課題を解決するために提案されたものであり、その目的は、塵埃の巻き上がりを抑えることが可能なダウンフローを形成できる送風器及び電子部品の実装装置を提供することにある。 The present invention has been proposed to solve the problems described above, and its purpose is to provide a blower and electronic component mounting device that can create a downflow that can prevent dust from being stirred up.
本発明の送風器は、チャンバの上部に設けられ、少なくとも一つのファンフィルタユニットと、前記ファインフィルタユニットからの気体が流入する加圧室と、前記加圧室の底面の少なくとも一部を構成し、前記加圧室からの気体が通過して、直接前記チャンバに対面する複数の通気孔を有する通気板と、を有し、少なくとも一部の前記通気孔の鉛直方向の長さとなる通気板の厚さが、前記通気孔の直径の5分の2から5分の4であり、
前記通気孔の配置密度を(通気孔の配置本数)/(通気孔の配置面積)とし、前記通気孔の開口率を、{π(通気孔の直径)2/4}×(通気孔の配置密度)とした場合に、前記加圧室からの気流が前記通気孔に当たる角度が80°、ダウンフロー流量が30m
3
/分において、前記通気板の少なくとも一部の厚さが、
である。
The blower of the present invention is provided above a chamber and comprises at least one fan filter unit, a pressurizing chamber into which gas from the fine filter unit flows, and a vent plate which constitutes at least a part of the bottom surface of the pressurizing chamber and has a plurality of vent holes through which the gas from the pressurizing chamber passes and which directly faces the chamber, the thickness of the vent plate, which is the vertical length of at least some of the vent holes, being between two-fifths and four-fifths of the diameter of the vent holes,
When the arrangement density of the vent holes is (the number of arranged vent holes)/(the arrangement area of the vent holes) and the opening ratio of the vent holes is {π (diameter of the vent hole)2/4}×(arrangement density of the vent holes), the thickness of at least a part of the vent plate is :
It is.
本発明の電子部品の実装装置は、前記送風器を、上部に備えたチャンバと、前記チャンバ内に設けられ、電子部品を実装する実装機と、を有する。 The electronic component mounting device of the present invention has a chamber with the air blower at its top, and a mounting machine that is provided within the chamber and mounts electronic components.
本発明は、塵埃の巻き上がりを抑えることが可能なダウンフローを形成できる送風器及び電子部品の実装装置を提供することにある。 The present invention aims to provide a blower and electronic component mounting device that can create a downflow that can prevent dust from being stirred up.
以下、本発明の実施形態を、図面を参照して説明する。
[第1の実施形態]
[構成]
図1に示すように、本実施形態の送風器1は、ファンフィルタユニット(FFU:Fan Filter Unit)10、加圧室20、通気板30を有する。送風器1は、クリーンルームとして構成されるチャンバ40の上部に設けられている。
Hereinafter, an embodiment of the present invention will be described with reference to the drawings.
[First embodiment]
[composition]
1, the
ファンフィルタユニット(以下、FFUとする)10は、図示しないが、ファンの下流にULPAフィルタが設置され、ULPAフィルタを介して清浄化された空気を加圧室20に給気する。加圧室20は、FFU10からの気体が流入し、気圧が高められる空間である。加圧室20は、垂直方向の辺の長さが、水平方向の辺の長さがよりも短い直方体形状である。
Although not shown, the fan filter unit (hereafter referred to as FFU) 10 has a ULPA filter installed downstream of the fan, and supplies air purified through the ULPA filter to the pressurized
通気板30は、加圧室20の底面を構成する。通気板30は、図2に示すように、加圧室20からの気体が通過する複数の通気孔31を有している。通気孔31は、鉛直方向を軸とする円柱形状の貫通孔である。本実施形態では、通気孔31は、通気板30の面に、等間隔に設けられている。通気板30は、例えば、金属製又は樹脂製の板を打ち抜くことにより、通気孔31を形成したパンチング板とすることができる。
The
通気板30の厚さt、つまり鉛直方向の長さは、3mm~7mmとすることが好ましい。但し、撓みを低減するために、5mm~6mmとすることがより好ましい。なお、通気板30の厚さtと通気孔31の直径Dとの関係については、後述する。
The thickness t of the
チャンバ40は、内部に電子部品の実装機50を収容した直方体形状の容器である。チャンバ40の上部に、送風器1が設けられることにより、加圧室20の通気板30は、チャンバ40の天井を構成する。チャンバ40の底部には、排気口41が設けられている。このため、チャンバ40内の気体は、塵埃とともにチャンバ40の底部の排気口41から排出される。なお、実装機50は、工場等の床面Fに設置された架台60上に設置されている。
The
[通気板の厚さと通気孔の直径]
通気板30の厚さtは、通気孔31の直径の5分の2から5分の4である。また、通気孔31の配置密度を、(通気孔の配置本数)/(通気孔の配置面積)とし、通気孔31の1つ(1本)当たりの軸に直交する断面積を、{π(通気孔の直径)2/4}とし(πは円周率)、通気孔31の開口率を、{π(通気孔の直径)2/4}×(通気孔の配置密度)とした場合に、通気板30の少なくとも一部の厚さtが、
である。通気孔31の配置面積は、通気孔31が形成された領域を囲う面積であり、通気板30の全体に均等に通気孔31が設けられている場合、配置面積は、通気板30の全体の面積と同等である。
[Thickness of vent plate and diameter of vent hole]
The thickness t of the
The arrangement area of the
発明者は、従来から用いられていたパンチング板の貫通孔を介して流れる気流は、加圧室の気流の方向の影響を受けることを見出した。すなわち、パンチング板の上の加圧室の気流は、必ずしも鉛直方向下向きにはならない。例えば、設置する設備の都合上、ダクトを介して横方向、つまり鉛直方向に交差する方向から送風せざるを得ない場合もある。このように、横方向の流れ成分を含んでいると、貫通孔を通過する気流も、横方向の流れの影響を受けて、鉛直方向に対する傾斜が大きなダウンフローになる。 The inventor discovered that the airflow that flows through the through-holes of the conventionally used punched plate is affected by the direction of the airflow in the pressurized chamber. In other words, the airflow in the pressurized chamber above the punched plate does not necessarily flow vertically downward. For example, due to the convenience of the equipment to be installed, there are cases where air must be blown horizontally through a duct, that is, in a direction that intersects with the vertical direction. In this way, if the airflow contains a horizontal flow component, it will also be affected by the horizontal flow and will become a downflow with a large inclination to the vertical direction.
これに対処するため、ファンフィルタユニットをパンチング板の中央の直上に配置したとしても、パンチング板の中央から離れるほど、気流の方向が横方向となるので、上記と同様の現象が生じる。また、パンチング板の全体に向かって、鉛直方向の給気がなされるように、ファンフィルタユニットを多数配置することも考えられる。しかし、パンチング板の上にこのようなスペースを確保できる設備は限られており、多数のファンフィルタユニットを用意することはコスト面でも問題がある。また、パンチング板での圧力損失を大きくしてパンチング板の全体に向かって鉛直方向の給気がなされるようにすると、十分なダウンフローの流量を得られず、塵埃の排出を十分に行うことができない。 To address this issue, even if a fan filter unit is placed directly above the center of the punching plate, the airflow direction becomes more horizontal the further away from the center of the punching plate, resulting in the same phenomenon as above. It is also possible to place a large number of fan filter units so that air is supplied vertically toward the entire punching plate. However, there is a limit to the amount of equipment that can secure such space above the punching plate, and preparing a large number of fan filter units is problematic in terms of cost. Also, if the pressure loss in the punching plate is increased to supply air vertically toward the entire punching plate, a sufficient downflow rate cannot be obtained, and dust cannot be sufficiently discharged.
発明者は、従来、気流に関して考慮されていなかった通気板30の厚さt、さらに厚さtと直径Dの比、通気孔31の開口率について着目した。そして、簡単な構造のパンチング板のような通気板30の厚さtを現実の使用に耐え得るものとしつつ、鉛直に近いダウンフローを生じさせることができる値を検討した。
The inventors focused on the thickness t of the
その結果を、図3~図6に示す。図3~図6は、通気板30の厚さtを横軸、通気孔31の直径Dを縦軸として、通気孔31の開口率を変えて、通気板30を通気して気流がダウンフローとなったダウンフロー領域に発生する横風の平均風速を、ハッチングの濃淡でプロットしたグラフである。風速m/sの正の値は、通気板30の上の横方向と同じ方向であること、負の値は、その逆の横方向であることを示す。風速は、3次元有限要素法で計算した。「ダウンフロー領域に発生する横風の平均風速」とは、通気板30から厚さt又は通気孔31のピッチのいずれか大きい方の長さの4倍離れた下流の断面での風速の平均値である。また、いずれの図も水平面積1m2あたりのダウンフロー流量は、30m3/分とした。
The results are shown in Figs. 3 to 6. Figs. 3 to 6 are graphs plotting the average wind speed of the crosswind generated in the downflow region where the airflow becomes a downflow by changing the opening ratio of the air holes 31, with the thickness t of the
図3は開口率10%、図4は開口率20%、図5は開口率50%、図6は開口率70%である。各図において、(A)、(B)は、鉛直方向に対して、加圧室20内の気流が通気孔31に当たる角度が異なる。(A)は80°、(B)は60°である。つまり、通気孔31に対して流入する気流の角度が(A)の方がより水平に近く浅いということになる。許容される横風は、風速の絶対値が0.1m/s以下、つまり横方向の風速が-0.1と+0.1m/sの間の領域である。図中、点線と双方向矢印で示した「OK」の範囲が、横風のおおよその許容される条件領域である。このため、このような条件領域を満たす性能の通気板30を選択することが好ましい。なお、ハッチングの濃淡の境界のギザギザは、数値計算の誤差によるものである。
3 shows an aperture ratio of 10%, FIG. 4 shows an aperture ratio of 20%, FIG. 5 shows an aperture ratio of 50%, and FIG. 6 shows an aperture ratio of 70%. In each figure, (A) and (B) show different angles at which the airflow in the
図3~図6に示すように、気流の鉛直方向に対する傾斜が大きいと、つまり、通気板30の面に対する気流の角度が小さいと、許容される条件領域は狭くなる。
As shown in Figures 3 to 6, if the airflow is tilted more sharply relative to the vertical direction, i.e., if the angle of the airflow relative to the surface of the
加圧室20を大きく、高さを確保すれば、加圧室20から通気孔31に流入する気流を鉛直に近づけることはできる。但し、加圧室20のスペースは限定されるため、高さ方向に拡大することには限界がある。このため、少なくとも流入する角度が80°程度以上で対策することを考えた。
If the
そこで、図3~図6の(A)のグラフに着目する。これらのグラフでは、許容される条件領域は、点線で示す原点を通る直線の内側の範囲である。このため、ダウンフロー領域に発生する横風を許容できる範囲に抑えるため、厚さtと直径Dの比(t/D)を、許容される条件領域を満たす特異な値にする必要がある。 Therefore, we focus on the graphs in Figures 3 to 6 (A). In these graphs, the region of allowable conditions is the range inside the straight line passing through the origin, shown by the dotted line. Therefore, in order to keep the crosswinds occurring in the downflow region within an allowable range, it is necessary to set the ratio of thickness t to diameter D (t/D) to a unique value that satisfies the region of allowable conditions.
最適なt/Dの値は、図3(A)~図6(A)のいずれにおいても、5分の3(0.6)前後となっている。例えば、図6では、通気板30の厚さtが3mmの時、通気孔31の直径が7mmの時が横風の許容できる条件の1つとなる。すなわち、t/D=3/7=0.43となる。また、図3では、通気板30の厚さtが3mmの時、通気孔31の直径が4mmの時が横風の許容できる条件の1つとなる。すなわち、t/D=3/4=0.75となる。
The optimal value of t/D is around 3/5 (0.6) in all of Figures 3(A) to 6(A). For example, in Figure 6, when the thickness t of the
また、例えば、図3と図6では開口率が相違するので、横風の許容できる条件が開口率によって異なっていることがわかる。ここで、この関係は、以下の近似式1で表すことができる。
3 and 6, the opening ratio is different, and therefore it can be seen that the conditions under which cross winds can be tolerated differ depending on the opening ratio. This relationship can be expressed by the following
t/Dの最適値と開口率αの関係を、図7に示す。気流の入射角度は80°、ダウンフロー流量は30m3/分、プロットした点とその範囲は、図3~6より、横方向の許容風速を±0.1m/s以下とした許容条件で決定した。この決定した点から近似式1を得た。点線は、式1の近似値である。
The relationship between the optimum value of t/D and the aperture ratio α is shown in Figure 7. The airflow incidence angle is 80°, the downflow flow rate is 30 m3 /min, and the plotted points and their range were determined from Figures 3 to 6 under the allowable conditions of the allowable lateral wind speed being ±0.1 m/s or less.
ここで、通気板30を異なる厚さtとした場合のダウンフロー領域における風向の変化を、図8に模式的に示す。厚さtは、(a)は2mm、(b)は3mm、(c)は4mm、(d)は6mm、(e)は10mm、(f)は20mm、(g)は50mmである。また、通気孔31の直径D5mm、通気孔31の配置ピッチ10mm(孔開口率19.635%)であり、水平面積1m2あたりのダウンフロー流量は、30m3/分である。加圧室20内の気流が通気孔31に当たる角度(入射角度)は80°である。図8の中央に示したグラフは、図4(A)と同様である。
FIG. 8 shows a schematic diagram of the change in wind direction in the downflow area when the
図8(b)に示すように、最適なt/Dの範囲にある厚さtの場合には、加圧室20内の気流が通気孔31に当たる角度が水平に近くても鉛直方向のダウンフローを生じさせることができる。この場合のチャンバ40内の気流の方向は、例えば、後述の図11の白抜きの矢印で示すことができる。一方、図8(a)に示すように、最適なt/Dの範囲よりも厚さtが薄い場合には、加圧室20内の横風が、そのままの方向でダウンフロー領域に伝わる。この場合のチャンバ40内の気流の方向は、例えば、後述の図9の白抜きの矢印で示すことができる。一方、図8(c)~(f)に示すように、最適なt/Dの範囲よりも厚さtが厚いとき、気流が通気孔31の側面にぶつかって反射するため、加圧室20内の気流と逆方向の気流が発生してしまう。この場合のチャンバ40内の気流の方向は、例えば、後述の図10の白抜きの矢印で示すことができる。このような通気孔31の側面にぶつかって生じる逆方向の気流を抑えるためには、図8(g)に示すように、非常に厚い通気板30とする必要がある。つまり、非常に厚く重量のあるパンチング板を用意する必要があり、このような条件は現実的ではない。仮に、通気孔だけのノズルのようなものとしても、非常に多くのノズルを配置することは困難である。
8(b), when the thickness t is within the optimal t/D range, a vertical downflow can be generated even if the angle at which the airflow in the pressurizing
[効果]
本実施形態は、FFU10と、FFU10からの気体が流入する加圧室20と、加圧室20の底面の少なくとも一部を構成し、加圧室20からの気体が通過する複数の通気孔31を有する通気板30と、を有し、通気板30の厚さtが、通気孔31の直径Dの5分の2から5分の4である。
[effect]
This embodiment has an
また、通気孔31の配置密度を(通気孔の配置本数)/(通気孔の配置面積)とし、通気孔31の開口率を、{π(通気孔の直径)2/4}×(通気孔の配置密度)とした場合に、通気板30の厚さtが、
である。
In addition, when the arrangement density of the ventilation holes 31 is (the number of ventilation holes)/(the arrangement area of the ventilation holes) and the opening ratio of the ventilation holes 31 is {π(diameter of the ventilation hole) 2 /4}×(arrangement density of the ventilation holes), the thickness t of the
It is.
このような構成により、加圧室20の気流の方向にかかわらず、つまり横風や非対称な気流にかかわらず、通気板30の通気孔31を通過させることにより、十分な流速の横風の少ないダウンフロー気流を送風することができる。このため、ダウンフロー領域での気流の渦や淀みが抑制され、塵埃の巻き上がりが減少し、清浄度を向上させることができる。また、パンチング板のような簡単な構造で実現できる。
With this configuration, regardless of the direction of the airflow in the
[変形例]
なお、FFU10は、加圧室20の上部に配置できるとは限らない。つまり、図9~図11に示すように、高さ方向の制約のために、ダクトを介して横方向からFFU10により給気する場合もある。この場合、ダクト部分が加圧室20となる。
[Modification]
It should be noted that the
このような場合には、給気は横方向の成分がほとんどとなり、例えば、図9に示すように、本実施形態で示した最適値の厚みより薄い通気板30(t/Dは0.3)を用いた場合には、チャンバ40内に、加圧室20の気流と同じ方向の傾きで、ダウンフローが発生してしまう。そして、その影響で内側(加圧室20の気流上流方向)に強い巻き上がりの気流(渦気流)が発生している。また、図10に示すように、実施形態で示した最適値の厚みよりも厚い通気板30(t/Dは1.5)を用いた場合には、チャンバ40内に、加圧室20の気流を逆方向の傾きで、ダウンフローが発生してしまう。その影響で、外側(加圧室20の気流下流方向)に強い巻き上がりの気流(渦気流)が発生している。一方、本実施形態の通気板30(t/Dは0.6)を用いた場合には、図11に示すように、チャンバ40内に、鉛直に近いダウンフローを発生させることができる。そのため、ダウンフローの脇に生じる巻き上がりの気流は弱いものとなっている。
In such a case, the air supply will mostly have a horizontal component. For example, as shown in FIG. 9, when a vent plate 30 (t/D is 0.3) thinner than the optimal thickness shown in this embodiment is used, a downflow will occur in the
また、図12に示すように、FFU10を加圧室20の中央に設けたとしても、FFU10の直下の領域Raについては、鉛直に近いダウンフローを発生させることができるが、周辺の領域Rbについては、中央から離れるほど、気流が大きく傾斜する。このため、通気板30のうち、FFU10の直下については、本実施形態を適用せず、周辺の領域Rbにのみ、本実施形態を適用してもよい。
As shown in FIG. 12, even if the
[第2の実施形態]
第2の実施形態として、図13を参照して、上記の送風器1を適用した実装装置2を説明する。本実施形態は、図13(A)に示すように、実装機50及び架台60に、通気板30から下方に向かう方向に連続した排気経路51a、60aが設けられている。また、架台60とチャンバ40の内壁との間に、通気板30から下方に向かう方向に連続した排気経路40aが設けられている。排気経路51aは、実装機50の本体の底部に形成された上下方向に貫通した孔である。この孔は、少なくとも塵埃の発生源となるモータ、摺動部等の機構部分の近傍であることが好ましい。
Second Embodiment
As a second embodiment, a mounting
実装機50は、例えば、基板に半導体チップを実装する。半導体チップの実装は、半導体チップの回路面を上方に向けたフェイスアップボンディングとすることができる。また、回路面を基板に向けたフェイスダウンボンディングとすることもできる。この場合、いわゆるフリップチップボンディングを行う。
The mounting
排気経路60aは、架台60の上面に設けられ、排気経路51aと連続した貫通孔と、架台60の内部に設けられた空隙と、架台60の底部に設けられた貫通孔を有する。架台60の内部の空隙は、配線を残す程度で、制御装置等、気流を阻害するものが極力外部へ排除されている。
The
以上のような本実施形態では、送風器1からの鉛直に近いダウンフローが、排気経路51a、40a、60aを介して、床面Fの排気口41から排気される。これにより、塵埃の巻き上がり等を抑制して、清浄度の高い実装が可能となる。
In this embodiment, the nearly vertical downflow from the
上記のように、実装装置においても、半導体製造の前工程レベルのクラス1(ISO3)の清浄度が得られるクリーン環境が要求されるようになっている。 As mentioned above, mounting equipment is now also required to have a clean environment that can provide Class 1 (ISO 3) cleanliness, the same level as the front-end of semiconductor manufacturing.
従来、実装装置においては、実装装置としてのクリーン度を上げるために、上部にHEPA等のFFUを設け、FFUからのダウンフローは、実装機のカバーの背面に設けた排気ファンから排気する構造が一般的であった。しかし、局所的な速い気流を発生させ、塵埃を巻き上げる渦気流を発生させてしまうことがあった。このため、クラス1到達は困難であった。渦気流の例は、図9~図11のチャンバ40内における側壁付近の気流である。
Conventionally, in order to increase the cleanliness of mounting equipment, a typical structure has been to install a HEPA or other FFU on the top, and exhaust the downflow from the FFU from an exhaust fan installed on the back of the mounting equipment cover. However, this can sometimes generate localized fast air currents, creating vortex air currents that stir up dust. This makes it difficult to achieve
本装置では、ULPAであるFFU10から通気板30の通気孔31を介して、鉛直に近いダウンフローを流し、排気ファンを使わずに、実装機50及び架台60に設けた排気経路51a、60a、架台60とチャンバ40の内壁との間に設けた排気経路40aによって、ダウンフローが床面F側の排気まで導かれる。このため、渦気流の発生による塵埃の巻き上がりが防止され、クラス1を実現できる。
In this device, a nearly vertical downflow flows from the
なお、図13(B)に示すように、FFU10は、チャンバ40内の全体が直下になるような領域には配置されていない。このような場合であっても、上記の実施形態で示した通気板30を適用することにより、横方向の気流を、鉛直に近いダウンフローとすることができる。また、上記のように、FFU10の直下以外の領域にのみ、上記の通気板30の厚さt、直径Dを適用してもよい。
As shown in FIG. 13B, the
さらに、通気板30のうち、ダウンフローを鉛直方向に対して所望の方向に傾斜させたい領域がある場合には、その部分については、本実施形態を適用せず、一部にのみ本実施形態を適用してもよい。すなわち、上記のように、通気板30の厚さtと通気孔31の直径Dと、さらに開口率αから、通気板30を通過した気流の方向を決定することができる。このため、例えば、チャンバ40内の側壁にごく近い位置では、側壁に向かう方向の気流として、側壁に気流を沿わせるように、通気板30の厚さt、通気孔31の直径D及び開口率αを設定することもできる。こうすることで、チャンバ40内の側壁沿いの巻き上げる気流を、より効果的に抑制でき、塵埃の排出もスムーズにすることができる。
Furthermore, if there is an area of the
また、実装装置2のチャンバ40内に設置される実装機50、架台60等の構成部の形状によっては、その直上からの真直ぐなダウンフローではなく、構成部を避けるように気流を生じさせたほうが、塵埃の巻き上げなどを抑制できる場合がある。このような場合、所望する気流となるように、通気板30の厚さt、通気孔31の直径D及び開口率αを設定することもできる。
In addition, depending on the shape of the components such as the mounting
なお、通気板30は、その材質は問われない。金属でも樹脂、セラミックでもよく、必要な剛性と重量とすることができればよい。
The material of the
さらに、上記の実施形態では、通気孔31の断面形状を円形としている。これにより、製造が容易となる。しかし、楕円形や多角形など、どのような形状でもよく、通気出来る開口の実効直径が、上記の実施形態で示した範囲であればよい。この場合、開口率を求めるための通気孔31の1つ(1本)当たりの軸に直交する断面積は、楕円形、多角形など、それぞれの形状の面積となる。
Furthermore, in the above embodiment, the cross-sectional shape of the
[他の実施形態]
以上、本発明の実施形態及び各部の変形例を説明したが、この実施形態や各部の変形例は、一例として提示したものであり、発明の範囲を限定することは意図していない。上述したこれら新規な実施形態は、その他の様々な形態で実施されることが可能であり、発明の要旨を逸脱しない範囲で、種々の省略、置き換え、変更を行うことができる。これら実施形態やその変形は、発明の範囲や要旨に含まれるとともに、特許請求の範囲に記載された発明に含まれる。
[Other embodiments]
Although the embodiment of the present invention and the modified examples of each part have been described above, these embodiments and the modified examples of each part are presented as examples and are not intended to limit the scope of the invention. These novel embodiments described above can be implemented in various other forms, and various omissions, substitutions, and modifications can be made without departing from the gist of the invention. These embodiments and their modifications are included in the scope and gist of the invention, and are included in the invention described in the claims.
1 送風器
2 実装装置
10 ファンフィルタユニット(FFU)
20 加圧室
30 通気板
40 チャンバ
60 架台
51a、60a、40a 排気経路
D 直径
F 床面
t 厚さ
1
20
Claims (7)
少なくとも一つのファンフィルタユニットと、
前記ファンフィルタユニットからの気体が流入する加圧室と、
前記加圧室の底面の少なくとも一部を構成し、前記加圧室からの気体が通過して、直接前記チャンバに対面する複数の通気孔を有する通気板と、
を有し、
少なくとも一部の前記通気孔の鉛直方向の長さとなる通気板の厚さが、前記通気孔の直径の5分の2から5分の4であり、
前記通気孔の配置密度を(通気孔の配置本数)/(通気孔の配置面積)とし、前記通気孔の開口率を、{π(通気孔の直径)2/4}×(通気孔の配置密度)とした場合に、前記加圧室からの気流が前記通気孔に当たる角度が80°、ダウンフロー流量が30m 3 /分において、前記通気板の少なくとも一部の厚さが、
であることを特徴とする送風器。 Provided at the top of the chamber,
At least one fan filter unit;
a pressurizing chamber into which gas from the fan filter unit flows;
a ventilation plate that constitutes at least a part of the bottom surface of the pressurizing chamber and has a plurality of ventilation holes through which gas from the pressurizing chamber passes and directly faces the chamber;
having
The thickness of the ventilation plate, which corresponds to the vertical length of at least some of the ventilation holes, is between two-fifths and four-fifths of the diameter of the ventilation hole;
When the arrangement density of the vent holes is (the number of arranged vent holes)/(the arrangement area of the vent holes) and the opening ratio of the vent holes is {π (diameter of the vent hole)2/4}×(arrangement density of the vent holes), the thickness of at least a part of the vent plate is :
A blower characterized by:
前記開口率が異なる各領域において、前記通気板の厚さが、
であることを特徴とする請求項1記載の送風器。 The ventilation plate has an area with a different opening ratio,
In each region having a different opening rate, the thickness of the ventilation plate is
2. The blower according to claim 1 ,
であることを特徴とする請求項1記載の送風器。 In an area other than the area directly below the fan filter unit, the thickness of the ventilation plate is
2. The blower according to claim 1 ,
前記チャンバ内に設けられ、電子部品を実装する実装機と、
を有することを特徴とする電子部品の実装装置。 A chamber having an upper portion including the blower according to any one of claims 1 to 4 ;
a mounting machine provided in the chamber for mounting electronic components;
An electronic component mounting device comprising:
前記架台及び前記実装機には、前記通気板から下方に向かう方向に連続した排気経路が設けられていることを特徴とする請求項5記載の電子部品の実装装置。 the mounting machine is supported by a stand provided in the chamber,
6. The electronic component mounting apparatus according to claim 5 , wherein the base and the mounting machine are provided with an exhaust path that is continuous from the ventilation plate downward.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020164025A JP7555774B2 (en) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | Blower and electronic component mounting device |
KR1020210126142A KR102659557B1 (en) | 2020-09-29 | 2021-09-24 | Blower and electronic component bonding apparatus |
CN202111136968.3A CN114322124A (en) | 2020-09-29 | 2021-09-27 | Blower and electronic component mounting device |
TW110135792A TWI810662B (en) | 2020-09-29 | 2021-09-27 | Mounting device for air blower and electronic parts |
CN202410541498.6A CN118368863A (en) | 2020-09-29 | 2021-09-27 | Blower and electronic component mounting device |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020164025A JP7555774B2 (en) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | Blower and electronic component mounting device |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022056167A JP2022056167A (en) | 2022-04-08 |
JP7555774B2 true JP7555774B2 (en) | 2024-09-25 |
Family
ID=80999037
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020164025A Active JP7555774B2 (en) | 2020-09-29 | 2020-09-29 | Blower and electronic component mounting device |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7555774B2 (en) |
KR (1) | KR102659557B1 (en) |
CN (2) | CN114322124A (en) |
TW (1) | TWI810662B (en) |
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- 2021-09-27 CN CN202111136968.3A patent/CN114322124A/en active Pending
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KR20220043878A (en) | 2022-04-05 |
JP2022056167A (en) | 2022-04-08 |
KR102659557B1 (en) | 2024-04-23 |
TW202212742A (en) | 2022-04-01 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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