JP7555746B2 - Toner manufacturing method - Google Patents
Toner manufacturing method Download PDFInfo
- Publication number
- JP7555746B2 JP7555746B2 JP2020124138A JP2020124138A JP7555746B2 JP 7555746 B2 JP7555746 B2 JP 7555746B2 JP 2020124138 A JP2020124138 A JP 2020124138A JP 2020124138 A JP2020124138 A JP 2020124138A JP 7555746 B2 JP7555746 B2 JP 7555746B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- acid
- particles
- toner
- core particles
- fine particles
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 64
- 239000007771 core particle Substances 0.000 claims description 163
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 128
- 239000010419 fine particle Substances 0.000 claims description 103
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 claims description 77
- 229920001558 organosilicon polymer Polymers 0.000 claims description 62
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 57
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 57
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 54
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 26
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 26
- 229920001225 polyester resin Polymers 0.000 claims description 22
- 239000004645 polyester resin Substances 0.000 claims description 22
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 20
- 238000000113 differential scanning calorimetry Methods 0.000 claims description 20
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 19
- 239000012736 aqueous medium Substances 0.000 claims description 16
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 claims description 15
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 14
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 14
- 238000005481 NMR spectroscopy Methods 0.000 claims description 13
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 13
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims description 13
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 claims description 12
- VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N strontium titanate Chemical compound [Sr+2].[O-][Ti]([O-])=O VEALVRVVWBQVSL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 claims description 10
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 claims description 10
- 238000004833 X-ray photoelectron spectroscopy Methods 0.000 claims description 8
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 8
- 239000011164 primary particle Substances 0.000 claims description 7
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 claims description 5
- 239000001993 wax Substances 0.000 description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 description 78
- -1 bulk bodies Substances 0.000 description 68
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 55
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 45
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 45
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 45
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 45
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 39
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 35
- 239000011859 microparticle Substances 0.000 description 35
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 31
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 27
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 27
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 24
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 23
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 23
- 230000008569 process Effects 0.000 description 23
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 22
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 22
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 21
- 239000000463 material Substances 0.000 description 21
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 20
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 20
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 19
- 150000003961 organosilicon compounds Chemical class 0.000 description 18
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 18
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 18
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 17
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 17
- 150000002148 esters Chemical group 0.000 description 17
- OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N Propanedioic acid Natural products OC(=O)CC(O)=O OFOBLEOULBTSOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 16
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 16
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 15
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 15
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 15
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 15
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 15
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 14
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 14
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 14
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 14
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 13
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 12
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 12
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 11
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 11
- 239000002270 dispersing agent Substances 0.000 description 11
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 11
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 11
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 11
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 11
- VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N Fumaric acid Chemical compound OC(=O)\C=C\C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 10
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 10
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 10
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 10
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 10
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 10
- VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N trans-butenedioic acid Natural products OC(=O)C=CC(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N trimellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C(C(O)=O)=C1 ARCGXLSVLAOJQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical class CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 9
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 9
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 9
- OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N titanium oxide Inorganic materials [Ti]=O OGIDPMRJRNCKJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 9
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 8
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 8
- 125000005907 alkyl ester group Chemical group 0.000 description 8
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 8
- 238000011161 development Methods 0.000 description 8
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 description 8
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 8
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 8
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 8
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 8
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 8
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 8
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 7
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 7
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 7
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 7
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 7
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 7
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 239000008151 electrolyte solution Substances 0.000 description 7
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N Methyl methacrylate Chemical compound COC(=O)C(C)=C VVQNEPGJFQJSBK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 6
- 150000008064 anhydrides Chemical class 0.000 description 6
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 6
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical class C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000571 coke Substances 0.000 description 6
- 229920006038 crystalline resin Polymers 0.000 description 6
- 238000005886 esterification reaction Methods 0.000 description 6
- 238000000691 measurement method Methods 0.000 description 6
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 6
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 6
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 6
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000047 product Substances 0.000 description 6
- 238000010298 pulverizing process Methods 0.000 description 6
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 6
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 6
- QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H tricalcium bis(phosphate) Chemical compound [Ca+2].[Ca+2].[Ca+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O QORWJWZARLRLPR-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 6
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 5
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 5
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000001506 calcium phosphate Substances 0.000 description 5
- 239000000470 constituent Substances 0.000 description 5
- OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCC1 OIWOHHBRDFKZNC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229940021013 electrolyte solution Drugs 0.000 description 5
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 5
- 239000001530 fumaric acid Substances 0.000 description 5
- 238000005227 gel permeation chromatography Methods 0.000 description 5
- VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N maleic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C(O)=O VZCYOOQTPOCHFL-UPHRSURJSA-N 0.000 description 5
- 239000011976 maleic acid Substances 0.000 description 5
- KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N phenolphthalein Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C1(C=2C=CC(O)=CC=2)C2=CC=CC=C2C(=O)O1 KJFMBFZCATUALV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920000098 polyolefin Polymers 0.000 description 5
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 5
- CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N sebacic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCC(O)=O CXMXRPHRNRROMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 5
- 229910000391 tricalcium phosphate Inorganic materials 0.000 description 5
- 229940078499 tricalcium phosphate Drugs 0.000 description 5
- 235000019731 tricalcium phosphate Nutrition 0.000 description 5
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 5
- ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-butanetriol Chemical compound OCCC(O)CO ARXKVVRQIIOZGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 2-(2-cyanopropan-2-yldiazenyl)-2-methylpropanenitrile Chemical compound N#CC(C)(C)N=NC(C)(C)C#N OZAIFHULBGXAKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N Fluorane Chemical compound F KRHYYFGTRYWZRS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 235000021355 Stearic acid Nutrition 0.000 description 4
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 4
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 4
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 4
- 229920006127 amorphous resin Polymers 0.000 description 4
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002585 base Substances 0.000 description 4
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 4
- 239000004203 carnauba wax Substances 0.000 description 4
- 235000013869 carnauba wax Nutrition 0.000 description 4
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 4
- 239000007810 chemical reaction solvent Substances 0.000 description 4
- HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N citraconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C\C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-IHWYPQMZSA-N 0.000 description 4
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 4
- NOPFSRXAKWQILS-UHFFFAOYSA-N docosan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO NOPFSRXAKWQILS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 4
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 4
- 230000032050 esterification Effects 0.000 description 4
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 4
- 238000010304 firing Methods 0.000 description 4
- YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N germanium dioxide Chemical compound O=[Ge]=O YBMRDBCBODYGJE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 4
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 4
- IRHTZOCLLONTOC-UHFFFAOYSA-N hexacosan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO IRHTZOCLLONTOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N hexadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O IPCSVZSSVZVIGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilazane Chemical compound C[Si](C)(C)N[Si](C)(C)C FFUAGWLWBBFQJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diol Chemical compound OCCCCCCO XXMIOPMDWAUFGU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N isophthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC(C(O)=O)=C1 QQVIHTHCMHWDBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000007246 mechanism Effects 0.000 description 4
- HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N methylfumaric acid Natural products OC(=O)C(C)=CC(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 4
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 4
- 239000012299 nitrogen atmosphere Substances 0.000 description 4
- BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N nonanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCC(O)=O BDJRBEYXGGNYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N octacosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UTOPWMOLSKOLTQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N octadecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCO GLDOVTGHNKAZLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O QIQXTHQIDYTFRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N octadecanoic acid Natural products CCCCCCCC(C)CCCCCCCCC(O)=O OQCDKBAXFALNLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000012643 polycondensation polymerization Methods 0.000 description 4
- 238000006068 polycondensation reaction Methods 0.000 description 4
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 4
- YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N propane-1,3-diol Chemical compound OCCCO YPFDHNVEDLHUCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N pyromellitic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=C(C(O)=O)C=C1C(O)=O CYIDZMCFTVVTJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000035484 reaction time Effects 0.000 description 4
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 4
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 4
- 150000003377 silicon compounds Chemical class 0.000 description 4
- 239000008117 stearic acid Substances 0.000 description 4
- 229920001909 styrene-acrylic polymer Polymers 0.000 description 4
- ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N thiocyanic acid Chemical compound SC#N ZMZDMBWJUHKJPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- REZQBEBOWJAQKS-UHFFFAOYSA-N triacontan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCO REZQBEBOWJAQKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000009849 vacuum degassing Methods 0.000 description 4
- 238000001644 13C nuclear magnetic resonance spectroscopy Methods 0.000 description 3
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QDCPNGVVOWVKJG-UHFFFAOYSA-N 2-dodec-1-enylbutanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC=CC(C(O)=O)CC(O)=O QDCPNGVVOWVKJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N Calcium cation Chemical compound [Ca+2] BHPQYMZQTOCNFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004220 aggregation Methods 0.000 description 3
- 230000002776 aggregation Effects 0.000 description 3
- 150000001334 alicyclic compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N benzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1 WPYMKLBDIGXBTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N butyl acrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C=C CQEYYJKEWSMYFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011575 calcium Substances 0.000 description 3
- 229910001424 calcium ion Inorganic materials 0.000 description 3
- 229940018557 citraconic acid Drugs 0.000 description 3
- KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N citric acid Chemical compound OC(=O)CC(O)(C(O)=O)CC(O)=O KRKNYBCHXYNGOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 3
- 238000005384 cross polarization magic-angle spinning Methods 0.000 description 3
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 3
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000007599 discharging Methods 0.000 description 3
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001595 flow curve Methods 0.000 description 3
- 230000004927 fusion Effects 0.000 description 3
- 239000001307 helium Substances 0.000 description 3
- 229910052734 helium Inorganic materials 0.000 description 3
- SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N helium atom Chemical compound [He] SWQJXJOGLNCZEY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000009775 high-speed stirring Methods 0.000 description 3
- 238000004898 kneading Methods 0.000 description 3
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 3
- CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N magnesium oxide Inorganic materials [Mg]=O CPLXHLVBOLITMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 description 3
- HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N mesaconic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C/C(O)=O HNEGQIOMVPPMNR-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 3
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 3
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 3
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 3
- 239000012188 paraffin wax Substances 0.000 description 3
- 239000008188 pellet Substances 0.000 description 3
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 239000011342 resin composition Substances 0.000 description 3
- 239000012488 sample solution Substances 0.000 description 3
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 3
- 125000005372 silanol group Chemical group 0.000 description 3
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 3
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003980 solgel method Methods 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 238000005809 transesterification reaction Methods 0.000 description 3
- ZSDSQXJSNMTJDA-UHFFFAOYSA-N trifluralin Chemical compound CCCN(CCC)C1=C([N+]([O-])=O)C=C(C(F)(F)F)C=C1[N+]([O-])=O ZSDSQXJSNMTJDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 3
- WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N (3-aminopropyl)triethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN WYTZZXDRDKSJID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N (E)-glutaconic acid Chemical compound OC(=O)C\C=C\C(O)=O XVOUMQNXTGKGMA-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 2
- KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 1-chloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1 KTZVZZJJVJQZHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-methoxybenzene Chemical compound COC1=CC=C(C=C)C=C1 UAJRSHJHFRVGMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 1-monostearoylglycerol Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO VBICKXHEKHSIBG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 1-naphthoic acid Chemical compound C1=CC=C2C(C(=O)O)=CC=CC2=C1 LNETULKMXZVUST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000005160 1H NMR spectroscopy Methods 0.000 description 2
- JTWBYEWVFCYRSF-UHFFFAOYSA-N 2-(6-methylheptyl)butanedioic acid Chemical compound CC(C)CCCCCC(C(O)=O)CC(O)=O JTWBYEWVFCYRSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 2-(diethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCN(CC)CCOC(=O)C(C)=C SJIXRGNQPBQWMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 2-(dimethylamino)ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CN(C)CCOC(=O)C(C)=C JKNCOURZONDCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO PTJWCLYPVFJWMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YLAXZGYLWOGCBF-UHFFFAOYSA-N 2-dodecylbutanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCC(C(O)=O)CC(O)=O YLAXZGYLWOGCBF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexan-1-ol Chemical compound CCCCC(CC)CO YIWUKEYIRIRTPP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XYHGSPUTABMVOC-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutane-1,2,4-triol Chemical compound OCC(O)(C)CCO XYHGSPUTABMVOC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SZJXEIBPJWMWQR-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,1,1-triol Chemical compound CC(C)C(O)(O)O SZJXEIBPJWMWQR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 3-azaniumyl-2-hydroxypropanoate Chemical compound NCC(O)C(O)=O BMYNFMYTOJXKLE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 4-aminobenzoic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 ALYNCZNDIQEVRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N Butylmethacrylate Chemical compound CCCCOC(=O)C(C)=C SOGAXMICEFXMKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N Butyric acid Chemical compound CCCC(O)=O FERIUCNNQQJTOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N Calcium Chemical compound [Ca] OYPRJOBELJOOCE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L Calcium carbonate Chemical compound [Ca+2].[O-]C([O-])=O VTYYLEPIZMXCLO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical compound O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 2
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 2
- DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N Glycine Chemical compound NCC(O)=O DHMQDGOQFOQNFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N L-aspartic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CC(O)=O CKLJMWTZIZZHCS-REOHCLBHSA-N 0.000 description 2
- WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N Lithium Chemical compound [Li] WHXSMMKQMYFTQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021314 Palmitic acid Nutrition 0.000 description 2
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N Pyruvic acid Chemical compound CC(=O)C(O)=O LCTONWCANYUPML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M Sodium chloride Chemical compound [Na+].[Cl-] FAPWRFPIFSIZLT-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910010415 TiO(OH) Inorganic materials 0.000 description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SQAMZFDWYRVIMG-UHFFFAOYSA-N [3,5-bis(hydroxymethyl)phenyl]methanol Chemical compound OCC1=CC(CO)=CC(CO)=C1 SQAMZFDWYRVIMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N acetic acid;zinc Chemical compound [Zn].CC(O)=O.CC(O)=O ZOIORXHNWRGPMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CGBYBGVMDAPUIH-UHFFFAOYSA-N acide dimethylmaleique Natural products OC(=O)C(C)=C(C)C(O)=O CGBYBGVMDAPUIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000012644 addition polymerization Methods 0.000 description 2
- 150000007933 aliphatic carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000003513 alkali Substances 0.000 description 2
- 229910052783 alkali metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003282 alkyl amino group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N anthranilic acid Chemical compound NC1=CC=CC=C1C(O)=O RWZYAGGXGHYGMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000003704 aspartic acid Nutrition 0.000 description 2
- TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L barium sulfate Chemical compound [Ba+2].[O-]S([O-])(=O)=O TZCXTZWJZNENPQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 125000002511 behenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N beta-carboxyaspartic acid Natural products OC(=O)C(N)C(C(O)=O)C(O)=O OQFSQFPPLPISGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 2
- YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N butan-1-olate;titanium(4+) Chemical compound [Ti+4].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-].CCCC[O-] YHWCPXVTRSHPNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LOGBRYZYTBQBTB-UHFFFAOYSA-N butane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CCC(C(O)=O)CC(O)=O LOGBRYZYTBQBTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 2
- 229910052791 calcium Inorganic materials 0.000 description 2
- AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L calcium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Ca+2] AXCZMVOFGPJBDE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000920 calcium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001861 calcium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L calcium sulfate Chemical compound [Ca+2].[O-]S([O-])(=O)=O OSGAYBCDTDRGGQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N caprylic alcohol Natural products CCCCCCCCO KBPLFHHGFOOTCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 description 2
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 2
- 238000004581 coalescence Methods 0.000 description 2
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 2
- 239000007859 condensation product Substances 0.000 description 2
- 238000011109 contamination Methods 0.000 description 2
- MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N cyanoacetic acid Chemical compound OC(=O)CC#N MLIREBYILWEBDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KRJIBMFDBVWHBJ-UHFFFAOYSA-N cycloheptyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCCC1 KRJIBMFDBVWHBJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLIHGIDKOZKVBS-UHFFFAOYSA-N cycloheptyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCCC1 VLIHGIDKOZKVBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N cyclohexyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCC1 KBLWLMPSVYBVDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VRFCNQCFVJBFMC-UHFFFAOYSA-N cyclooctyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCCCCC1 VRFCNQCFVJBFMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JXVKENWQKWGKOL-UHFFFAOYSA-N cyclooctyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCCCCC1 JXVKENWQKWGKOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N decan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCO MWKFXSUHUHTGQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N dibutyl(oxo)tin Chemical compound CCCC[Sn](=O)CCCC JGFBRKRYDCGYKD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N dimethylselenoniopropionate Natural products CCC(O)=O XBDQKXXYIPTUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N diphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(O)=O XPPKVPWEQAFLFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004090 dissolution Methods 0.000 description 2
- UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N docosanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(O)=O UKMSUNONTOPOIO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229960000735 docosanol Drugs 0.000 description 2
- TVIDDXQYHWJXFK-UHFFFAOYSA-N dodecanedioic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCCCCCC(O)=O TVIDDXQYHWJXFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N dodecanoic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(O)=O POULHZVOKOAJMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 2
- QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N fluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)CF QEWYKACRFQMRMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 229940119177 germanium dioxide Drugs 0.000 description 2
- ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N hexan-1-ol Chemical compound CCCCCCO ZSIAUFGUXNUGDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWCHPNKHMFKKIQ-UHFFFAOYSA-N hexane-1,2,5-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C(C)CCC(C(O)=O)CC(O)=O GWCHPNKHMFKKIQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 229910052738 indium Inorganic materials 0.000 description 2
- APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N indium atom Chemical compound [In] APFVFJFRJDLVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000002347 injection Methods 0.000 description 2
- 239000007924 injection Substances 0.000 description 2
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N isobutanol Chemical compound CC(C)CO ZXEKIIBDNHEJCQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- TWBYWOBDOCUKOW-UHFFFAOYSA-N isonicotinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=NC=C1 TWBYWOBDOCUKOW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 2
- 229910052744 lithium Inorganic materials 0.000 description 2
- GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N m-toluic acid Chemical compound CC1=CC=CC(C(O)=O)=C1 GPSDUZXPYCFOSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L magnesium dihydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[Mg+2] VTHJTEIRLNZDEV-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000000347 magnesium hydroxide Substances 0.000 description 2
- 229910001862 magnesium hydroxide Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000000395 magnesium oxide Substances 0.000 description 2
- HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L magnesium stearate Chemical compound [Mg+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O HQKMJHAJHXVSDF-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 238000007885 magnetic separation Methods 0.000 description 2
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 125000005397 methacrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 2
- VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N methane Chemical compound C VNWKTOKETHGBQD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004200 microcrystalline wax Substances 0.000 description 2
- 235000019808 microcrystalline wax Nutrition 0.000 description 2
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 2
- PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N n'-(3-trimethoxysilylpropyl)ethane-1,2-diamine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNCCN PHQOGHDTIVQXHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N n-(3-trimethoxysilylpropyl)aniline Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC1=CC=CC=C1 KBJFYLLAMSZSOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N n-Pentadecanoic acid Natural products CCCCCCCCCCCCCCC(O)=O WQEPLUUGTLDZJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N n-heptadecyl alcohol Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCO GOQYKNQRPGWPLP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WRYWBRATLBWSSG-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound C1=CC=CC2=C(C(O)=O)C(C(=O)O)=CC(C(O)=O)=C21 WRYWBRATLBWSSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LATKICLYWYUXCN-UHFFFAOYSA-N naphthalene-1,3,6-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC(C(O)=O)=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 LATKICLYWYUXCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N neopentyl glycol Chemical compound OCC(C)(C)CO SLCVBVWXLSEKPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006386 neutralization reaction Methods 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N octanoic acid Chemical compound CCCCCCCC(O)=O WWZKQHOCKIZLMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 2
- TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoalumanyloxy)alumane Chemical compound O=[Al]O[Al]=O TWNQGVIAIRXVLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N p-toluic acid Chemical compound CC1=CC=C(C(O)=O)C=C1 LPNBBFKOUUSUDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N pentane-1,2,5-triol Chemical compound OCCCC(O)CO WEAYWASEBDOLRG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012071 phase Substances 0.000 description 2
- LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N phenoxyacetic acid Chemical compound OC(=O)COC1=CC=CC=C1 LCPDWSOZIOUXRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N picolinic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=N1 SIOXPEMLGUPBBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N pimelic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCC(O)=O WLJVNTCWHIRURA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 239000002685 polymerization catalyst Substances 0.000 description 2
- 230000000379 polymerizing effect Effects 0.000 description 2
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 229920002635 polyurethane Polymers 0.000 description 2
- 239000004814 polyurethane Substances 0.000 description 2
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 description 2
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000011084 recovery Methods 0.000 description 2
- 239000013558 reference substance Substances 0.000 description 2
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 2
- RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M sodium octadecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O RYYKJJJTJZKILX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M sodium;3-(n-ethyl-3-methoxyanilino)-2-hydroxypropane-1-sulfonate;dihydrate Chemical compound O.O.[Na+].[O-]S(=O)(=O)CC(O)CN(CC)C1=CC=CC(OC)=C1 PNGLEYLFMHGIQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 2
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 2
- 125000004079 stearyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 2
- TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N suberic acid Chemical compound OC(=O)CCCCCCC(O)=O TYFQFVWCELRYAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003871 sulfonates Chemical class 0.000 description 2
- 230000001629 suppression Effects 0.000 description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 2
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 2
- 238000010558 suspension polymerization method Methods 0.000 description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000004448 titration Methods 0.000 description 2
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N trimellitic anhydride Chemical compound OC(=O)C1=CC=C2C(=O)OC(=O)C2=C1 SRPWOOOHEPICQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N triphosphoric acid Chemical compound OP(O)(=O)OP(O)(=O)OP(O)(O)=O UNXRWKVEANCORM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004670 unsaturated fatty acids Chemical class 0.000 description 2
- 235000021122 unsaturated fatty acids Nutrition 0.000 description 2
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 2
- 238000005303 weighing Methods 0.000 description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 2
- 239000004246 zinc acetate Substances 0.000 description 2
- RWOQXKXSEIMGTP-UHFFFAOYSA-N (1-acetyloxy-2-ethenylsilyloxyethyl) acetate Chemical compound C(=C)[SiH2]OCC(OC(C)=O)OC(C)=O RWOQXKXSEIMGTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTLAPEGYFQVVFE-UHFFFAOYSA-N (1-acetyloxy-2-methylsilyloxyethyl) acetate Chemical compound C[SiH2]OCC(OC(C)=O)OC(C)=O KTLAPEGYFQVVFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N (2r,3r,4s)-2-[(1r)-1,2-dihydroxyethyl]oxolane-3,4-diol Chemical compound OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O JNYAEWCLZODPBN-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- CFQZKFWQLAHGSL-FNTYJUCDSA-N (3e,5e,7e,9e,11e,13e,15e,17e)-18-[(3e,5e,7e,9e,11e,13e,15e,17e)-18-[(3e,5e,7e,9e,11e,13e,15e)-octadeca-3,5,7,9,11,13,15,17-octaenoyl]oxyoctadeca-3,5,7,9,11,13,15,17-octaenoyl]oxyoctadeca-3,5,7,9,11,13,15,17-octaenoic acid Chemical compound OC(=O)C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\OC(=O)C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\OC(=O)C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C\C=C CFQZKFWQLAHGSL-FNTYJUCDSA-N 0.000 description 1
- LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N (4-ethenylphenyl)-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=C(C=C)C=C1 LTQBNYCMVZQRSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUXYLFPMQMFGPL-UHFFFAOYSA-N (9Z,11E,13E)-9,11,13-Octadecatrienoic acid Natural products CCCCC=CC=CC=CCCCCCCCC(O)=O CUXYLFPMQMFGPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGBYBGVMDAPUIH-ONEGZZNKSA-N (e)-2,3-dimethylbut-2-enedioic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C(\C)C(O)=O CGBYBGVMDAPUIH-ONEGZZNKSA-N 0.000 description 1
- FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N (z)-1-[(z)-octadec-9-enoxy]octadec-9-ene Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCOCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC FFJCNSLCJOQHKM-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- SASYHUDIOGGZCN-ARJAWSKDSA-N (z)-2-ethylbut-2-enedioic acid Chemical compound CC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O SASYHUDIOGGZCN-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- GIWUIBJHKNLBGS-SREVYHEPSA-N (z)-2-pentylbut-2-enedioic acid Chemical compound CCCCC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O GIWUIBJHKNLBGS-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- CCKSYUMJLIMSQK-PLNGDYQASA-N (z)-2-propylbut-2-enedioic acid Chemical compound CCC\C(C(O)=O)=C\C(O)=O CCKSYUMJLIMSQK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- OXDXXMDEEFOVHR-CLFAGFIQSA-N (z)-n-[2-[[(z)-octadec-9-enoyl]amino]ethyl]octadec-9-enamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)NCCNC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC OXDXXMDEEFOVHR-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- QRIKMBDKRJXWBV-CLFAGFIQSA-N (z)-n-[6-[[(z)-octadec-9-enoyl]amino]hexyl]octadec-9-enamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(=O)NCCCCCCNC(=O)CCCCCCC\C=C/CCCCCCCC QRIKMBDKRJXWBV-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M .beta-Phenylacrylic acid Natural products [O-]C(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-VOTSOKGWSA-M 0.000 description 1
- BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 1,2-dichloro-4-ethenylbenzene Chemical compound ClC1=CC=C(C=C)C=C1Cl BJQFWAQRPATHTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMBUODUULYCPAK-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(docosanoyloxy)propan-2-yl docosanoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(OC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC)COC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC DMBUODUULYCPAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBMQNRKSAWNXBT-UHFFFAOYSA-N 1,4-diaminoanthracene-9,10-dione Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C(N)=CC=C2N FBMQNRKSAWNXBT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940084778 1,4-sorbitan Drugs 0.000 description 1
- ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 1,9-Nonanediol Chemical compound OCCCCCCCCCO ALVZNPYWJMLXKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 1-benzothiophene-2-carboxamide Chemical compound C1=CC=C2SC(C(=O)N)=CC2=C1 GYSCBCSGKXNZRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 1-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 QOVCUELHTLHMEN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DMADTXMQLFQQII-UHFFFAOYSA-N 1-decyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 DMADTXMQLFQQII-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 1-dodecyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 WJNKJKGZKFOLOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 1-dodecylpyridin-1-ium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+]1=CC=CC=C1 GKQHIYSTBXDYNQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2,4-dimethylbenzene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C(C)=C1 OEVVKKAVYQFQNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-2-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C=C NVZWEEGUWXZOKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-3-methylbenzene Chemical compound CC1=CC=CC(C=C)=C1 JZHGRUMIRATHIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=C(C=C)C=C1 WHFHDVDXYKOSKI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-hexylbenzene Chemical compound CCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LCNAQVGAHQVWIN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LUWBJDCKJAZYKZ-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-nonylbenzene Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 LUWBJDCKJAZYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 1-ethenyl-4-octylbenzene Chemical compound CCCCCCCCC1=CC=C(C=C)C=C1 HLRQDIVVLOCZPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIOYMLBYICWSGH-UHFFFAOYSA-N 1-n,3-n-dioctadecylbenzene-1,3-dicarboxamide Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCNC(=O)C1=CC=CC(C(=O)NCCCCCCCCCCCCCCCCCC)=C1 LIOYMLBYICWSGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 1-tert-butyl-4-ethenylbenzene Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 QEDJMOONZLUIMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FFQALBCXGPYQGT-UHFFFAOYSA-N 2,4-difluoro-5-(trifluoromethyl)aniline Chemical compound NC1=CC(C(F)(F)F)=C(F)C=C1F FFQALBCXGPYQGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URMOYRZATJTSJV-UHFFFAOYSA-N 2-(10-methylundec-1-enyl)butanedioic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCC=CC(C(O)=O)CC(O)=O URMOYRZATJTSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIDLDSRSPKIEQI-UHFFFAOYSA-N 2-(10-methylundecyl)butanedioic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCCCCC(C(O)=O)CC(O)=O LIDLDSRSPKIEQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDLCYFXQFNHNHY-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)heptan-2-ol Chemical compound CCCCCC(C)(O)C1=CC=C(C=C)C=C1 GDLCYFXQFNHNHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIECLXPVBFNBAE-UHFFFAOYSA-N 2-(4-ethenylphenyl)pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)(O)C1=CC=C(C=C)C=C1 JIECLXPVBFNBAE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 2-(n-methyl-4-nitroanilino)acetonitrile Chemical compound N#CCN(C)C1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1 DJOYTAUERRJRAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 2-Ethylhexyl acrylate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C=C GOXQRTZXKQZDDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRXMNWGCKISMOH-UHFFFAOYSA-N 2-bromobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1Br XRXMNWGCKISMOH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 2-chloroethyl prop-2-enoate Chemical compound ClCCOC(=O)C=C WHBAYNMEIXUTJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCUZVMHXDRSBKX-UHFFFAOYSA-N 2-decylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O HCUZVMHXDRSBKX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TYSZQTOGTAUOPU-UHFFFAOYSA-N 2-ethenylsilyloxyethoxymethyl acetate Chemical compound C(=C)[SiH2]OCCOCOC(C)=O TYSZQTOGTAUOPU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 2-ethylhexyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCC(CC)COC(=O)C(C)=C WDQMWEYDKDCEHT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRSMWHGLCNBZSO-UHFFFAOYSA-N 2-ethylidenebutanedioic acid Chemical compound CC=C(C(O)=O)CC(O)=O NRSMWHGLCNBZSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyethyl prop-2-enoate Chemical compound OCCOC(=O)C=C OMIGHNLMNHATMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxypropyl methacrylate Chemical compound CC(O)COC(=O)C(C)=C VHSHLMUCYSAUQU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C(C)=C RUMACXVDVNRZJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CC(C)COC(=O)C=C CFVWNXQPGQOHRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 2-nitrobenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1[N+]([O-])=O SLAMLWHELXOEJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FPOGSOBFOIGXPR-UHFFFAOYSA-N 2-octylbutanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)CC(O)=O FPOGSOBFOIGXPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QJGNSTCICFBACB-UHFFFAOYSA-N 2-octylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O QJGNSTCICFBACB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 2-phenylbenzoic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C1=CC=CC=C1 ILYSAKHOYBPSPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIKJBDYZDMEVEM-UHFFFAOYSA-N 2-silyloxyethoxymethyl propanoate Chemical compound CCC(=O)OCOCCO[SiH3] PIKJBDYZDMEVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 2-undecylpropanedioic acid Chemical compound CCCCCCCCCCCC(C(O)=O)C(O)=O WMRCTEPOPAZMMN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005133 29Si NMR spectroscopy Methods 0.000 description 1
- TVZRAEYQIKYCPH-UHFFFAOYSA-N 3-(trimethylsilyl)propane-1-sulfonic acid Chemical compound C[Si](C)(C)CCCS(O)(=O)=O TVZRAEYQIKYCPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 3-[diethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C DOYKFSOCSXVQAN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propane-1-thiol Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCS IKYAJDOSWUATPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 3-[dimethoxy(methyl)silyl]propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C LZMNXXQIQIHFGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 3-methylfuran-2,5-dione Chemical compound CC1=CC(=O)OC1=O AYKYXWQEBUNJCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 3-methylideneoxolane-2,5-dione Chemical compound C=C1CC(=O)OC1=O OFNISBHGPNMTMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butylbenzene-1,2-diol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC=CC(O)=C1O JIGUICYYOYEXFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCS DCQBZYNUSLHVJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOC(=O)C(C)=C URDOJQUSEUXVRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropane-1-thiol Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCS UUEWCQRISZBELL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEZDTNCUMWPRTD-UHFFFAOYSA-N 346704-04-9 Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=C(N2CCNCC2)C=C1N1CCCCC1 IEZDTNCUMWPRTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 4-Methylstyrene Chemical compound CC1=CC=C(C=C)C=C1 JLBJTVDPSNHSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 4-phenyldiazenylaniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 QPQKUYVSJWQSDY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 5-phenylpenta-2,4-dienoic acid Chemical compound OC(=O)C=CC=CC1=CC=CC=C1 FEIQOMCWGDNMHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 6-chloro-2-n,2-n-diethylpyrimidine-2,4-diamine Chemical compound CCN(CC)C1=NC(N)=CC(Cl)=N1 XZIIFPSPUDAGJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 6-fluoro-3-methyl-2h-indazole Chemical compound FC1=CC=C2C(C)=NNC2=C1 JTHZUSWLNCPZLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N Adipamide Chemical compound NC(=O)CCCCC(N)=O GVNWZKBFMFUVNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005047 Allyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N Ammonium chloride Substances [NH4+].[Cl-] NLXLAEXVIDQMFP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000021357 Behenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000005711 Benzoic acid Substances 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N Brassidinsaeure Natural products CCCCCCCCC=CCCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHPJGQQYJUCOJT-UHFFFAOYSA-N CCC(=O)O[SiH](OC)OC Chemical compound CCC(=O)O[SiH](OC)OC GHPJGQQYJUCOJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KVGQFDSHCXICPE-UHFFFAOYSA-N COc1nc(ccc1Nc1ncc(Cl)c(Nc2ccccc2NS(C)(=O)=O)n1)N1CCN(C)CC1 Chemical compound COc1nc(ccc1Nc1ncc(Cl)c(Nc2ccccc2NS(C)(=O)=O)n1)N1CCN(C)CC1 KVGQFDSHCXICPE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L Calcium chloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Ca+2] UXVMQQNJUSDDNG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M Cetrimonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C LZZYPRNAOMGNLH-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N Cinnamic acid Chemical compound OC(=O)\C=C/C1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-SREVYHEPSA-N 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N Decanoic acid Natural products CCCCCCCCCC(O)=O GHVNFZFCNZKVNT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N Di-Et ester-Fumaric acid Natural products CCOC(=O)C=CC(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N Diethyl maleate Chemical compound CCOC(=O)\C=C/C(=O)OCC IEPRKVQEAMIZSS-WAYWQWQTSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical group C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- BRDWIEOJOWJCLU-LTGWCKQJSA-N GS-441524 Chemical compound C=1C=C2C(N)=NC=NN2C=1[C@]1(C#N)O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1O BRDWIEOJOWJCLU-LTGWCKQJSA-N 0.000 description 1
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N Glutamic acid Natural products OC(=O)C(N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004471 Glycine Substances 0.000 description 1
- WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N Hydroxyethyl methacrylate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCCO WOBHKFSMXKNTIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N L-glutamic acid Chemical compound OC(=O)[C@@H](N)CCC(O)=O WHUUTDBJXJRKMK-VKHMYHEASA-N 0.000 description 1
- GADGMZDHLQLZRI-VIFPVBQESA-N N-(4-aminobenzoyl)-L-glutamic acid Chemical compound NC1=CC=C(C(=O)N[C@@H](CCC(O)=O)C(O)=O)C=C1 GADGMZDHLQLZRI-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 1
- 229920002396 Polyurea Polymers 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 1
- DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M Sodium laurylsulphate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCCOS([O-])(=O)=O DBMJMQXJHONAFJ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N Sorbitan monostearate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](O)[C@H]1OC[C@H](O)[C@H]1O HVUMOYIDDBPOLL-XWVZOOPGSA-N 0.000 description 1
- 238000000944 Soxhlet extraction Methods 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010298 TiOSO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FXEDRSGUZBCDMO-PHEQNACWSA-N [(e)-3-phenylprop-2-enoyl] (e)-3-phenylprop-2-enoate Chemical compound C=1C=CC=CC=1/C=C/C(=O)OC(=O)\C=C\C1=CC=CC=C1 FXEDRSGUZBCDMO-PHEQNACWSA-N 0.000 description 1
- VJDDQSBNUHLBTD-GGWOSOGESA-N [(e)-but-2-enoyl] (e)-but-2-enoate Chemical compound C\C=C\C(=O)OC(=O)\C=C\C VJDDQSBNUHLBTD-GGWOSOGESA-N 0.000 description 1
- YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N [4-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1CCC(CO)CC1 YIMQCDZDWXUDCA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DAZMHUYQERVEEM-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(ethenylsilyloxy)methyl] acetate Chemical compound CC(=O)OC(OC(C)=O)O[SiH2]C=C DAZMHUYQERVEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPXQICMRVGMFJC-UHFFFAOYSA-N [acetyloxy(methylsilyloxy)methyl] acetate Chemical compound C[SiH2]OC(OC(C)=O)OC(C)=O RPXQICMRVGMFJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSDYFQXXPCPBQV-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(butyl)silyl] acetate Chemical compound CCCC[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O LSDYFQXXPCPBQV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C=C NOZAQBYNLKNDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(ethyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](CC)(OC(C)=O)OC(C)=O KXJLGCBCRCSXQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KNZPDNOSIRNYEG-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(hexyl)silyl] acetate Chemical compound CCCCCC[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O KNZPDNOSIRNYEG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(phenyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)C1=CC=CC=C1 VLFKGWCMFMCFRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRLWQTOZMISADO-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(prop-2-enyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](CC=C)(OC(C)=O)OC(C)=O XRLWQTOZMISADO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DKGZKEKMWBGTIB-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(propyl)silyl] acetate Chemical compound CCC[Si](OC(C)=O)(OC(C)=O)OC(C)=O DKGZKEKMWBGTIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CVOXYVWZTLGTSD-UHFFFAOYSA-N [ethenyl(diethoxy)silyl] acetate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OC(C)=O)C=C CVOXYVWZTLGTSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JWAKRFZLCDPKNK-UHFFFAOYSA-N [ethenyl(dimethoxy)silyl] acetate Chemical compound CO[Si](OC)(C=C)OC(C)=O JWAKRFZLCDPKNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N acetic acid;2,3,4,5,6-pentahydroxyhexanal;sodium Chemical compound [Na].CC(O)=O.OCC(O)C(O)C(O)C(O)C=O DPXJVFZANSGRMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XFSBVAOIAHNAPC-WSORPINJSA-N acetylbenzoylaconine Chemical compound O([C@H]1[C@]2(O)C[C@H]3C45[C@@H]6[C@@H]([C@@]([C@H]31)(OC(C)=O)[C@@H](O)[C@@H]2OC)[C@H](OC)C4[C@]([C@@H](C[C@H]5OC)O)(COC)CN6CC)C(=O)C1=CC=CC=C1 XFSBVAOIAHNAPC-WSORPINJSA-N 0.000 description 1
- 125000003668 acetyloxy group Chemical group [H]C([H])([H])C(=O)O[*] 0.000 description 1
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 1
- 125000005396 acrylic acid ester group Chemical group 0.000 description 1
- 230000009471 action Effects 0.000 description 1
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 description 1
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 description 1
- 150000001338 aliphatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- 150000001340 alkali metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000006177 alkyl benzyl group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 150000008051 alkyl sulfates Chemical class 0.000 description 1
- CUXYLFPMQMFGPL-SUTYWZMXSA-N all-trans-octadeca-9,11,13-trienoic acid Chemical compound CCCC\C=C\C=C\C=C\CCCCCCCC(O)=O CUXYLFPMQMFGPL-SUTYWZMXSA-N 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N alpha-ethylcaproic acid Natural products CCCCC(CC)C(O)=O OBETXYAYXDNJHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K aluminium hydroxide Chemical compound [OH-].[OH-].[OH-].[Al+3] WNROFYMDJYEPJX-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K aluminium phosphate Chemical compound O1[Al]2OP1(=O)O2 ILRRQNADMUWWFW-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 description 1
- 229960004050 aminobenzoic acid Drugs 0.000 description 1
- 235000019270 ammonium chloride Nutrition 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- 125000001204 arachidyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 229940116226 behenic acid Drugs 0.000 description 1
- 230000008901 benefit Effects 0.000 description 1
- 239000000440 bentonite Substances 0.000 description 1
- 229910000278 bentonite Inorganic materials 0.000 description 1
- SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N bentoquatam Chemical compound O.O=[Si]=O.O=[Al]O[Al]=O SVPXDRXYRYOSEX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000010233 benzoic acid Nutrition 0.000 description 1
- 230000001588 bifunctional effect Effects 0.000 description 1
- MAGJOSJRYKEYAZ-UHFFFAOYSA-N bis[4-(dimethylamino)phenyl]-[4-(methylamino)phenyl]methanol Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1C(O)(C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 MAGJOSJRYKEYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001400 block copolymer Polymers 0.000 description 1
- 230000000903 blocking effect Effects 0.000 description 1
- 150000001639 boron compounds Chemical class 0.000 description 1
- OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N butane-2,3-diol Chemical compound CC(O)C(C)O OWBTYPJTUOEWEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N butyl maleate Chemical compound CCCCOC(=O)\C=C/C(O)=O UTOVMEACOLCUCK-PLNGDYQASA-N 0.000 description 1
- FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N butyl(trichloro)silane Chemical compound CCCC[Si](Cl)(Cl)Cl FQEKAFQSVPLXON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N butyl(triethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OCC)(OCC)OCC XGZGKDQVCBHSGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VUSHUWOTQWIXAR-UHFFFAOYSA-N butyl(trihydroxy)silane Chemical compound CCCC[Si](O)(O)O VUSHUWOTQWIXAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N butyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCC[Si](OC)(OC)OC SXPLZNMUBFBFIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000019 calcium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012241 calcium silicate Nutrition 0.000 description 1
- 229910052918 calcium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L calcium stearate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O CJZGTCYPCWQAJB-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 235000013539 calcium stearate Nutrition 0.000 description 1
- 239000008116 calcium stearate Substances 0.000 description 1
- AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N calcium titanate Chemical compound [Ca+2].[O-][Ti]([O-])=O AOWKSNWVBZGMTJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N calcium;dioxido(oxo)silane Chemical compound [Ca+2].[O-][Si]([O-])=O OYACROKNLOSFPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HIAAVKYLDRCDFQ-UHFFFAOYSA-L calcium;dodecanoate Chemical compound [Ca+2].CCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCC([O-])=O HIAAVKYLDRCDFQ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 1
- VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N calixarene Chemical class COC(=O)COC1=C(CC=2C(=C(CC=3C(=C(C4)C=C(C=3)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C=2)C(C)(C)C)OCC(=O)OC)C=C(C(C)(C)C)C=C1CC1=C(OCC(=O)OC)C4=CC(C(C)(C)C)=C1 VTJUKNSKBAOEHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000010980 cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003901 ceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000008859 change Effects 0.000 description 1
- IWWWBRIIGAXLCJ-BGABXYSRSA-N chembl1185241 Chemical compound C1=2C=C(C)C(NCC)=CC=2OC2=C\C(=N/CC)C(C)=CC2=C1C1=CC=CC=C1C(=O)OCC IWWWBRIIGAXLCJ-BGABXYSRSA-N 0.000 description 1
- ALLOLPOYFRLCCX-UHFFFAOYSA-N chembl1986529 Chemical compound COC1=CC=CC=C1N=NC1=C(O)C=CC2=CC=CC=C12 ALLOLPOYFRLCCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 description 1
- 239000003153 chemical reaction reagent Substances 0.000 description 1
- DDIMCVAKGOOBJJ-UHFFFAOYSA-N chloro-(2-methoxyethoxy)-methylsilane Chemical compound C[SiH](Cl)OCCOC DDIMCVAKGOOBJJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PELBZXLLQLEQAU-UHFFFAOYSA-N chloro-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(Cl)OCC PELBZXLLQLEQAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)OC GYQKYMDXABOCBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GIWAHVRSZXMXCT-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-(2-methoxyethoxy)silane Chemical compound C(=C)[SiH](Cl)OCCOC GIWAHVRSZXMXCT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RPJAIHNHGUFRTI-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-diethoxysilane Chemical compound CCO[Si](Cl)(C=C)OCC RPJAIHNHGUFRTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RZWHWJKGBJKQIL-UHFFFAOYSA-N chloro-ethenyl-dimethoxysilane Chemical compound CO[Si](Cl)(OC)C=C RZWHWJKGBJKQIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 235000013985 cinnamic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229930016911 cinnamic acid Natural products 0.000 description 1
- FXEDRSGUZBCDMO-UHFFFAOYSA-N cinnamic acid anhydride Natural products C=1C=CC=CC=1C=CC(=O)OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 FXEDRSGUZBCDMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011362 coarse particle Substances 0.000 description 1
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 1
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000002485 combustion reaction Methods 0.000 description 1
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 1
- 238000007906 compression Methods 0.000 description 1
- 230000006835 compression Effects 0.000 description 1
- 238000010924 continuous production Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000000498 cooling water Substances 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N copper(II) phthalocyanine Chemical compound [Cu+2].C12=CC=CC=C2C(N=C2[N-]C(C3=CC=CC=C32)=N2)=NC1=NC([C]1C=CC=CC1=1)=NC=1N=C1[C]3C=CC=CC3=C2[N-]1 XCJYREBRNVKWGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N crotonic acid Chemical compound C\C=C\C(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- SKNDRXDKJVPLHD-UHFFFAOYSA-N cyclobutyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCC1 SKNDRXDKJVPLHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIGPDJRILYLWGC-UHFFFAOYSA-N cyclobutyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCC1 ZIGPDJRILYLWGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,1-dicarboxylate;hydron Chemical compound OC(=O)C1(C(O)=O)CCCCC1 QYQADNCHXSEGJT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTNDADANUZETTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2,4-tricarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC(C(O)=O)C(C(O)=O)C1 WTNDADANUZETTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N cyclohexanol Chemical compound OC1CCCCC1 HPXRVTGHNJAIIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAABIJFUKKEJQ-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CCCC1 WRAABIJFUKKEJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N cyclopentyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CCCC1 BTQLDZMOTPTCGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JVGAAIQCXGCLJH-UHFFFAOYSA-N cyclopropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1CC1 JVGAAIQCXGCLJH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JUZDVEMPFDZWNY-UHFFFAOYSA-N cyclopropyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1CC1 JUZDVEMPFDZWNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKAWAQNIMXHVNI-UHFFFAOYSA-N decanamide;ethene Chemical compound C=C.CCCCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCCCC(N)=O GKAWAQNIMXHVNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N decane-1,10-diol Chemical compound OCCCCCCCCCCO FOTKYAAJKYLFFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 1
- 230000008021 deposition Effects 0.000 description 1
- 239000003599 detergent Substances 0.000 description 1
- LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N di-tert-butyl peroxide Chemical compound CC(C)(C)OOC(C)(C)C LSXWFXONGKSEMY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- LEULKNCPHHIAHG-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-ethoxysilane Chemical compound CCO[Si](Cl)(Cl)C=C LEULKNCPHHIAHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKMJTUPZWXPWNY-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethenyl-methoxysilane Chemical compound CO[Si](Cl)(Cl)C=C NKMJTUPZWXPWNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AXTPGQHJFRSSQJ-UHFFFAOYSA-N dichloro-ethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(Cl)Cl AXTPGQHJFRSSQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N dichloro-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(Cl)Cl QXIVZVJNWUUBRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DNMBXNBDPPLUIT-UHFFFAOYSA-N diethoxy-hydroxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(O)OCC DNMBXNBDPPLUIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BLAXUAHEGAHXBI-UHFFFAOYSA-N diethoxymethoxy(ethenyl)silane Chemical compound C(=C)[SiH2]OC(OCC)OCC BLAXUAHEGAHXBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRIHIIJBRMOLFW-UHFFFAOYSA-N diethoxymethoxy(methyl)silane Chemical compound C[SiH2]OC(OCC)OCC FRIHIIJBRMOLFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDNNTHONRSQLMZ-UHFFFAOYSA-N diethoxysilyl propanoate Chemical compound CCC(=O)O[SiH](OCC)OCC WDNNTHONRSQLMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AWSFUCVGQBUMLQ-UHFFFAOYSA-N dihydroxy-methoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(O)O AWSFUCVGQBUMLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N dimethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](C)(OC)CCCOCC1CO1 WHGNXNCOTZPEEK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004205 dimethyl polysiloxane Substances 0.000 description 1
- YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N dimethyldiethoxysilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)OCC YYLGKUPAFFKGRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CGBYBGVMDAPUIH-ARJAWSKDSA-N dimethylmaleic acid Chemical compound OC(=O)C(/C)=C(/C)C(O)=O CGBYBGVMDAPUIH-ARJAWSKDSA-N 0.000 description 1
- 150000002009 diols Chemical class 0.000 description 1
- 229910001882 dioxygen Inorganic materials 0.000 description 1
- USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N diphenyl ether Chemical class C=1C=CC=CC=1OC1=CC=CC=C1 USIUVYZYUHIAEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSALIDVQXCHFEG-UHFFFAOYSA-L disodium;4,8-diamino-1,5-dihydroxy-9,10-dioxoanthracene-2,6-disulfonate Chemical compound [Na+].[Na+].O=C1C2=C(N)C=C(S([O-])(=O)=O)C(O)=C2C(=O)C2=C1C(O)=C(S([O-])(=O)=O)C=C2N WSALIDVQXCHFEG-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- SVTDYSXXLJYUTM-UHFFFAOYSA-N disperse red 9 Chemical compound O=C1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=CC=C2NC SVTDYSXXLJYUTM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002612 dispersion medium Substances 0.000 description 1
- CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N ditert-butyl cyclohexane-1,4-dicarboperoxoate Chemical compound CC(C)(C)OOC(=O)C1CCC(C(=O)OOC(C)(C)C)CC1 CIKJANOSDPPCAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VZXFEELLBDNLAL-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-amine;hydrobromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[NH3+] VZXFEELLBDNLAL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N dodecanamide Chemical compound CCCCCCCCCCCC(N)=O ILRSCQWREDREME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GFQOFGWPGYRLAO-UHFFFAOYSA-N dodecanamide;ethene Chemical compound C=C.CCCCCCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCCCCCC(N)=O GFQOFGWPGYRLAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N dodecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C GMSCBRSQMRDRCD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N dodecyl benzenesulfonate;sodium Chemical compound [Na].CCCCCCCCCCCCOS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GVGUFUZHNYFZLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M dodecyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C DDXLVDQZPFLQMZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M dodecyltrimethylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCCCCCCCCCC[N+](C)(C)C XJWSAJYUBXQQDR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 1
- 238000000921 elemental analysis Methods 0.000 description 1
- 239000003480 eluent Substances 0.000 description 1
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JDDPGRVMAVYUOZ-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trihydroxy)silane Chemical compound O[Si](O)(O)C=C JDDPGRVMAVYUOZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BCHKANGRSCHKBI-UHFFFAOYSA-N ethenyl-(ethoxymethoxy)-hydroxysilane Chemical compound C(=C)[SiH](O)OCOCC BCHKANGRSCHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LAZYBXUYSUIANF-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-hydroxysilane Chemical compound CCO[Si](O)(C=C)OCC LAZYBXUYSUIANF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GDMRTMCFHOYGOQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-dihydroxy-methoxysilane Chemical compound CO[Si](O)(O)C=C GDMRTMCFHOYGOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KMOCWACTHFKWEH-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-dihydroxysilane Chemical compound CCO[Si](O)(O)C=C KMOCWACTHFKWEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDIUZJMRSKZJOQ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-dimethoxysilane Chemical compound CCO[Si](OC)(OC)C=C UDIUZJMRSKZJOQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GOSYTHXFPSQIGJ-UHFFFAOYSA-N ethenyl-hydroxy-dimethoxysilane Chemical compound CO[Si](O)(OC)C=C GOSYTHXFPSQIGJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- GLVOOEOSXFWITC-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dihydroxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(O)O GLVOOEOSXFWITC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WPJVMPQSTHTWKF-UHFFFAOYSA-N ethoxy-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(OC)OC WPJVMPQSTHTWKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XWVFGFGWVMSESQ-UHFFFAOYSA-N ethoxymethoxy-hydroxy-methylsilane Chemical compound C[SiH](O)OCOCC XWVFGFGWVMSESQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)=C SUPCQIBBMFXVTL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N ethyl formate Chemical compound CCOC=O WBJINCZRORDGAQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- KEYRRLATNFZVGW-UHFFFAOYSA-N ethyl(trihydroxy)silane Chemical compound CC[Si](O)(O)O KEYRRLATNFZVGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N ethyl(trimethoxy)silane Chemical compound CC[Si](OC)(OC)OC SBRXLTRZCJVAPH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000000605 extraction Methods 0.000 description 1
- 238000001125 extrusion Methods 0.000 description 1
- 239000003925 fat Substances 0.000 description 1
- 210000003746 feather Anatomy 0.000 description 1
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 1
- 239000000945 filler Substances 0.000 description 1
- 239000000706 filtrate Substances 0.000 description 1
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 1
- 229960002598 fumaric acid Drugs 0.000 description 1
- 239000007849 furan resin Substances 0.000 description 1
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 1
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 1
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 1
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 1
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 1
- 239000004220 glutamic acid Substances 0.000 description 1
- 235000013922 glutamic acid Nutrition 0.000 description 1
- YQEMORVAKMFKLG-UHFFFAOYSA-N glycerine monostearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OC(CO)CO YQEMORVAKMFKLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960005150 glycerol Drugs 0.000 description 1
- SVUQHVRAGMNPLW-UHFFFAOYSA-N glycerol monostearate Natural products CCCCCCCCCCCCCCCCC(=O)OCC(O)CO SVUQHVRAGMNPLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005469 granulation Methods 0.000 description 1
- 230000003179 granulation Effects 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- WTIFIAZWCCBCGE-UUOKFMHZSA-N guanosine 2'-monophosphate Chemical compound C1=2NC(N)=NC(=O)C=2N=CN1[C@@H]1O[C@H](CO)[C@@H](O)[C@H]1OP(O)(O)=O WTIFIAZWCCBCGE-UUOKFMHZSA-N 0.000 description 1
- RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N heliogen blue Chemical compound [Cu].[N-]1C2=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=NC([N-]1)=C(C=CC=C3)C3=C1N=C([N-]1)C3=CC=CC=C3C1=N2 RBTKNAXYKSUFRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FEEPBTVZSYQUDP-UHFFFAOYSA-N heptatriacontanediamide Chemical compound NC(=O)CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O FEEPBTVZSYQUDP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisiloxane Chemical compound C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C UQEAIHBTYFGYIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RLMXGBGAZRVYIX-UHFFFAOYSA-N hexane-1,2,3,6-tetrol Chemical compound OCCCC(O)C(O)CO RLMXGBGAZRVYIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XRUCSASFGDRTJG-UHFFFAOYSA-N hexyl(trihydroxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](O)(O)O XRUCSASFGDRTJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N hexyl(trimethoxy)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OC)(OC)OC CZWLNMOIEMTDJY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001519 homopolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 1
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- KCYQMQGPYWZZNJ-UHFFFAOYSA-N hydron;2-oct-1-enylbutanedioate Chemical compound CCCCCCC=CC(C(O)=O)CC(O)=O KCYQMQGPYWZZNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXPLDADFOLJSKO-UHFFFAOYSA-N hydroxy-dimethoxy-methylsilane Chemical compound CO[Si](C)(O)OC HXPLDADFOLJSKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 1
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N iron(III) oxide Inorganic materials O=[Fe]O[Fe]=O JEIPFZHSYJVQDO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N iron;titanium;trihydrate Chemical compound O.O.O.[Ti].[Fe] YDZQQRWRVYGNER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N lauryl acrylate Chemical compound CCCCCCCCCCCCOC(=O)C=C PBOSTUDLECTMNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002463 lignoceryl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- SFIHQZFZMWZOJV-HZJYTTRNSA-N linoleamide Chemical compound CCCCC\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(N)=O SFIHQZFZMWZOJV-HZJYTTRNSA-N 0.000 description 1
- 239000007791 liquid phase Substances 0.000 description 1
- XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L lithium carbonate Chemical compound [Li+].[Li+].[O-]C([O-])=O XGZVUEUWXADBQD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910052808 lithium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L magnesium acetate Chemical compound [Mg+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UEGPKNKPLBYCNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000011654 magnesium acetate Substances 0.000 description 1
- 235000011285 magnesium acetate Nutrition 0.000 description 1
- 229940069446 magnesium acetate Drugs 0.000 description 1
- ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L magnesium carbonate Chemical compound [Mg+2].[O-]C([O-])=O ZLNQQNXFFQJAID-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000001095 magnesium carbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000021 magnesium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H magnesium phosphate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[Mg+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O GVALZJMUIHGIMD-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 239000004137 magnesium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000157 magnesium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960002261 magnesium phosphate Drugs 0.000 description 1
- 235000010994 magnesium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 235000019359 magnesium stearate Nutrition 0.000 description 1
- AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N magnesium;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[Mg+2] AXZKOIWUVFPNLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006249 magnetic particle Substances 0.000 description 1
- 150000002688 maleic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940071125 manganese acetate Drugs 0.000 description 1
- UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);diacetate Chemical compound [Mn+2].CC([O-])=O.CC([O-])=O UOGMEBQRZBEZQT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L manganese(2+);methyl n-[[2-(methoxycarbonylcarbamothioylamino)phenyl]carbamothioyl]carbamate;n-[2-(sulfidocarbothioylamino)ethyl]carbamodithioate Chemical compound [Mn+2].[S-]C(=S)NCCNC([S-])=S.COC(=O)NC(=S)NC1=CC=CC=C1NC(=S)NC(=O)OC WPBNNNQJVZRUHP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000008204 material by function Substances 0.000 description 1
- 239000002609 medium Substances 0.000 description 1
- 150000002736 metal compounds Chemical class 0.000 description 1
- 239000002923 metal particle Substances 0.000 description 1
- 239000000113 methacrylic resin Substances 0.000 description 1
- MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N methamphetamine Chemical compound CN[C@@H](C)CC1=CC=CC=C1 MYWUZJCMWCOHBA-VIFPVBQESA-N 0.000 description 1
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N methyl p-hydroxycinnamate Natural products OC(=O)C=CC1=CC=CC=C1 WBYWAXJHAXSJNI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N methylsilane Chemical class [SiH3]C UIUXUFNYAYAMOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJBHFQKJEBGFNL-UHFFFAOYSA-N methylsilanetriol Chemical compound C[Si](O)(O)O ZJBHFQKJEBGFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002763 monocarboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002819 montanyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 125000001802 myricyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QHXPXXRUXFPPAS-CLFAGFIQSA-N n,n'-bis[(z)-octadec-9-enyl]decanediamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCCNC(=O)CCCCCCCCC(=O)NCCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC QHXPXXRUXFPPAS-CLFAGFIQSA-N 0.000 description 1
- TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N n-Octanol Natural products CCCCCCCC TVMXDCGIABBOFY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002114 nanocomposite Substances 0.000 description 1
- 230000007935 neutral effect Effects 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- RGHXWDVNBYKJQH-UHFFFAOYSA-N nitroacetic acid Chemical compound OC(=O)C[N+]([O-])=O RGHXWDVNBYKJQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- 125000001196 nonadecyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- HNWJSFBLWQRXIR-UHFFFAOYSA-N octadecanamide;1,3-xylene Chemical compound CC1=CC=CC(C)=C1.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC(N)=O HNWJSFBLWQRXIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N octadecyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOC(=O)C(C)=C HMZGPNHSPWNGEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N octahydro-1h-4,7-methanoinden-5-yl methacrylate Chemical compound C12CCCC2C2CC(OC(=O)C(=C)C)C1C2 NWAHZAIDMVNENC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WDAISVDZHKFVQP-UHFFFAOYSA-N octane-1,2,7,8-tetracarboxylic acid Chemical compound OC(=O)CC(C(O)=O)CCCCC(C(O)=O)CC(O)=O WDAISVDZHKFVQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N octane-1,8-diol Chemical compound OCCCCCCCCO OEIJHBUUFURJLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N octyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C(C)=C NZIDBRBFGPQCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N octyl prop-2-enoate Chemical compound CCCCCCCCOC(=O)C=C ANISOHQJBAQUQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N octyltriethoxysilane Chemical compound CCCCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC MSRJTTSHWYDFIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 1
- 235000019198 oils Nutrition 0.000 description 1
- FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N oleamide Chemical compound CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC(N)=O FATBGEAMYMYZAF-KTKRTIGZSA-N 0.000 description 1
- 150000007524 organic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000005985 organic acids Nutrition 0.000 description 1
- 230000010355 oscillation Effects 0.000 description 1
- KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N oxaloacetic acid Chemical compound OC(=O)CC(=O)C(O)=O KHPXUQMNIQBQEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004209 oxidized polyethylene wax Substances 0.000 description 1
- 235000013873 oxidized polyethylene wax Nutrition 0.000 description 1
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KADRTWZQWGIUGO-UHFFFAOYSA-L oxotitanium(2+);sulfate Chemical compound [Ti+2]=O.[O-]S([O-])(=O)=O KADRTWZQWGIUGO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N p-Vinylbiphenyl Chemical compound C1=CC(C=C)=CC=C1C1=CC=CC=C1 HDBWAWNLGGMZRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000001935 peptisation Methods 0.000 description 1
- 230000010363 phase shift Effects 0.000 description 1
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 1
- QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N phenyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OC1=CC=CC=C1 QIWKUEJZZCOPFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N phenyl prop-2-enoate Chemical compound C=CC(=O)OC1=CC=CC=C1 WRAQQYDMVSCOTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 1
- PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N phenylsilane Chemical class [SiH3]C1=CC=CC=C1 PARWUHTVGZSQPD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005054 phenyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- 108091008695 photoreceptors Proteins 0.000 description 1
- IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N phthalocyanine Chemical group N1C(N=C2C3=CC=CC=C3C(N=C3C4=CC=CC=C4C(=N4)N3)=N2)=C(C=CC=C2)C2=C1N=C1C2=CC=CC=C2C4=N1 IEQIEDJGQAUEQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940081066 picolinic acid Drugs 0.000 description 1
- OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N picric acid Chemical compound OC1=C([N+]([O-])=O)C=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O OXNIZHLAWKMVMX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000435 poly(dimethylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920006122 polyamide resin Polymers 0.000 description 1
- 229920005646 polycarboxylate Polymers 0.000 description 1
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920013716 polyethylene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920000259 polyoxyethylene lauryl ether Polymers 0.000 description 1
- 229920005990 polystyrene resin Polymers 0.000 description 1
- 229920002689 polyvinyl acetate Polymers 0.000 description 1
- 239000011118 polyvinyl acetate Substances 0.000 description 1
- 235000019422 polyvinyl alcohol Nutrition 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- 229920002102 polyvinyl toluene Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000000634 powder X-ray diffraction Methods 0.000 description 1
- 235000019260 propionic acid Nutrition 0.000 description 1
- NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N propyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C(C)=C NHARPDSAXCBDDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N propyl prop-2-enoate Chemical compound CCCOC(=O)C=C PNXMTCDJUBJHQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 239000005053 propyltrichlorosilane Substances 0.000 description 1
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N protonated dimethyl amine Natural products CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940107700 pyruvic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003242 quaternary ammonium salts Chemical class 0.000 description 1
- IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N quinbolone Chemical compound O([C@H]1CC[C@H]2[C@H]3[C@@H]([C@]4(C=CC(=O)C=C4CC3)C)CC[C@@]21C)C1=CCCC1 IUVKMZGDUIUOCP-BTNSXGMBSA-N 0.000 description 1
- 229910052761 rare earth metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000012066 reaction slurry Substances 0.000 description 1
- 238000011160 research Methods 0.000 description 1
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003873 salicylate salts Chemical class 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 1
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 1
- 238000007873 sieving Methods 0.000 description 1
- SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N silanol Chemical compound [SiH3]O SCPYDCQAZCOKTP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 description 1
- 229920002050 silicone resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000019812 sodium carboxymethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 239000011780 sodium chloride Substances 0.000 description 1
- BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M sodium dodecanoate Chemical compound [Na+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O BTURAGWYSMTVOW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940080264 sodium dodecylbenzenesulfonate Drugs 0.000 description 1
- 229940082004 sodium laurate Drugs 0.000 description 1
- 235000019333 sodium laurylsulphate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 229940035044 sorbitan monolaurate Drugs 0.000 description 1
- 239000001587 sorbitan monostearate Substances 0.000 description 1
- 235000011076 sorbitan monostearate Nutrition 0.000 description 1
- 229940035048 sorbitan monostearate Drugs 0.000 description 1
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 description 1
- 239000012798 spherical particle Substances 0.000 description 1
- 238000005563 spheronization Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 1
- 239000010935 stainless steel Substances 0.000 description 1
- 229910001220 stainless steel Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 125000005480 straight-chain fatty acid group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005482 strain hardening Methods 0.000 description 1
- 229910001631 strontium chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L strontium dichloride Chemical compound [Cl-].[Cl-].[Sr+2] AHBGXTDRMVNFER-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229920003066 styrene-(meth)acrylic acid ester copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229920005792 styrene-acrylic resin Polymers 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000967 suction filtration Methods 0.000 description 1
- 150000008054 sulfonate salts Chemical class 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000004434 sulfur atom Chemical group 0.000 description 1
- 238000001308 synthesis method Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 238000009283 thermal hydrolysis Methods 0.000 description 1
- XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N tin dioxide Chemical compound O=[Sn]=O XOLBLPGZBRYERU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALRFTTOJSPMYSY-UHFFFAOYSA-N tin disulfide Chemical compound S=[Sn]=S ALRFTTOJSPMYSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001887 tin oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L tin(ii) 2-ethylhexanoate Chemical compound [Sn+2].CCCCC(CC)C([O-])=O.CCCCC(CC)C([O-])=O KSBAEPSJVUENNK-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910000349 titanium oxysulfate Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000003944 tolyl group Chemical group 0.000 description 1
- DPUOLQHDNGRHBS-MDZDMXLPSA-N trans-Brassidic acid Chemical compound CCCCCCCC\C=C\CCCCCCCCCCCC(O)=O DPUOLQHDNGRHBS-MDZDMXLPSA-N 0.000 description 1
- LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N trans-crotonic acid Natural products CC=CC(O)=O LDHQCZJRKDOVOX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000032258 transport Effects 0.000 description 1
- YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J triacetyloxystannyl acetate Chemical compound [Sn+4].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O YJGJRYWNNHUESM-UHFFFAOYSA-J 0.000 description 1
- GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C=C GQIUQDDJKHLHTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N trichloro(ethyl)silane Chemical compound CC[Si](Cl)(Cl)Cl ZOYFEXPFPVDYIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N trichloro(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](Cl)(Cl)Cl LFXJGGDONSCPOF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N trichloro(phenyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)C1=CC=CC=C1 ORVMIVQULIKXCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N trichloro(prop-2-enyl)silane Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)CC=C HKFSBKQQYCMCKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N trichloro(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](Cl)(Cl)Cl DOEHJNBEOVLHGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N trichloroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(Cl)(Cl)Cl YNJBWRMUSHSURL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(ethyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC)(OCC)OCC DENFJSAFJTVPJR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N triethoxy(hexyl)silane Chemical compound CCCCCC[Si](OCC)(OCC)OCC WUMSTCDLAYQDNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N triethoxy(phenyl)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C1=CC=CC=C1 JCVQKRGIASEUKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N triethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CCO[Si](CC=C)(OCC)OCC UMFJXASDGBJDEB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N triethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OCC)(OCC)OCC NBXZNTLFQLUFES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FCVNATXRSJMIDT-UHFFFAOYSA-N trihydroxy(phenyl)silane Chemical compound O[Si](O)(O)C1=CC=CC=C1 FCVNATXRSJMIDT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYAMDNCPNLFEFT-UHFFFAOYSA-N trihydroxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](O)(O)O VYAMDNCPNLFEFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(phenyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C1=CC=CC=C1 ZNOCGWVLWPVKAO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(prop-2-enyl)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CC=C LFRDHGNFBLIJIY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N trimethoxy(propyl)silane Chemical compound CCC[Si](OC)(OC)OC HQYALQRYBUJWDH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229950002929 trinitrophenol Drugs 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 150000003672 ureas Chemical class 0.000 description 1
- KJPJZBYFYBYKPK-UHFFFAOYSA-N vat yellow 1 Chemical compound C12=CC=CC=C2C(=O)C2=CC=C3N=C4C5=CC=CC=C5C(=O)C5=C4C4=C3C2=C1N=C4C=C5 KJPJZBYFYBYKPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 235000015112 vegetable and seed oil Nutrition 0.000 description 1
- 235000019871 vegetable fat Nutrition 0.000 description 1
- 239000008158 vegetable oil Substances 0.000 description 1
- 239000005050 vinyl trichlorosilane Substances 0.000 description 1
- UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N vinylsilane Chemical class [SiH3]C=C UKRDPEFKFJNXQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002351 wastewater Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
- 239000001060 yellow colorant Substances 0.000 description 1
- 239000011787 zinc oxide Substances 0.000 description 1
- LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H zinc phosphate Chemical compound [Zn+2].[Zn+2].[Zn+2].[O-]P([O-])([O-])=O.[O-]P([O-])([O-])=O LRXTYHSAJDENHV-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- 229910000165 zinc phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L zinc stearate Chemical compound [Zn+2].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O.CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O XOOUIPVCVHRTMJ-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 229910001928 zirconium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Developing Agents For Electrophotography (AREA)
Description
本発明は、電子写真方式、静電記録方式、静電印刷方式、トナージェット方式に用いられるトナー及びトナーの製造方法に関する。 The present invention relates to a toner used in electrophotography, electrostatic recording, electrostatic printing, and toner jet methods, and a method for producing the toner.
近年、電子写真方式のフルカラー複写機が広く普及しており、省エネルギー対応・高生産性への要求が高まっている。また、近年ではオフセット印刷に迫る高画質化も求められるなど、それらを実現する高品質なトナーの技術開発が求められている。
省エネルギー化に対応するため、定着工程においてはトナーを低温でより素早く溶融させる技術が検討されている。トナーの低温定着性を向上させるために、トナーの結着樹脂のガラス転移点や軟化点を下げ、かつシャープメルト性を有する結着樹脂を用いる方法がある。近年、さらにシャープメルト性を有する樹脂として、結晶性ポリエステルを含有させたトナーが多く提案されている。
また、高生産性に対しては、電源ON直後、1つのジョブ中や、ジョブ間における各種制御の時間を短縮させるために様々なトナーの検討がなされている。例えば、高温高湿環境に放置されても帯電性の低下しないトナーや、高温においてもトナーが定着部材に巻き付かない定着可能温度の広いトナーを作製する検討が進められている。
高温でもトナーが定着部材に巻き付かないトナーとして、例えば特許文献1では、2種のポリエステル樹脂を含有し、トナー表面からトナー中心部に向かうトナーの深さ方向におけるワックスの偏在度合いが制御されていることを特徴とするトナーが提案されている。特許文献1のトナーは、トナー粒子表面近傍に存在するワックス量が多いために定着時に効果的にワックスが染み出し離型性を高め耐定着巻き付き性を良化させることができている。しかしながら、本発明者の検討では、印字比率の低い画像を長期出力すると画像の粒状感が増大し、高品位な画像を得られにくいことがあることがわかった。
画像の粒状感は、トナー粒子と転写部材との付着力が増大し、転写均一性が低減してしまうことが主な要因であることがわかってきており、それを低減させる技術が検討されている。例えば、部材との付着力を低減させる提案として、無機微粒子の外添剤でトナー粒子を高い被覆率で被覆し、微粒子のスペーサ効果で付着力を低減すること、コア粒子よりも付着力の低いシェルでコア粒子を被覆する検討が行われている。例えば特許文献2では、特定の構造を有する有機ケイ素重合体を含有する被覆層を有するトナー粒子を有するトナーが提案されている。
In recent years, full-color electrophotographic copiers have come into widespread use, and there is an increasing demand for energy-saving and high productivity. In addition, there is also a demand for high-quality images approaching those of offset printing, and there is a demand for the development of high-quality toner technology to achieve these demands.
In order to save energy, technology that melts toner quickly at low temperatures in the fixing process is being studied. In order to improve the low-temperature fixing ability of toner, there is a method of lowering the glass transition point or softening point of the binder resin of the toner and using a binder resin that has sharp melting properties. In recent years, many toners that contain crystalline polyester as a resin with even sharper melting properties have been proposed.
For high productivity, various toners are being studied to shorten the time for various controls immediately after power-on, during one job, and between jobs. For example, studies are being conducted to create toners whose charging properties do not decrease even when left in a high-temperature, high-humidity environment, and toners whose fixing temperature range is wide and which do not wrap around a fixing member even at high temperatures.
As a toner that does not wrap around a fixing member even at high temperatures, for example, Patent Document 1 proposes a toner that contains two types of polyester resins and is characterized in that the degree of uneven distribution of wax in the depth direction of the toner from the toner surface toward the toner center is controlled. The toner of Patent Document 1 has a large amount of wax present near the toner particle surface, so the wax effectively seeps out during fixing, improving the release property and improving the anti-wrapping property. However, the inventor's research has revealed that when an image with a low printing ratio is output for a long period of time, the graininess of the image increases, making it difficult to obtain a high-quality image.
It has been found that the main cause of graininess in images is the increase in the adhesion between toner particles and a transfer member, which reduces the uniformity of transfer, and techniques for reducing this have been studied. For example, as a proposal for reducing the adhesion to the member, studies have been conducted on covering toner particles with an external additive of inorganic fine particles at a high coverage rate, reducing the adhesion by the spacer effect of the fine particles, and covering core particles with a shell that has a lower adhesion than the core particles. For example,
本発明者らは、耐定着巻き付き性を有しつつ、転写部材との付着力が低減でき、粒状感の少ない高品位な画像を得られるトナーの検討を進めてきた。その結果、特許文献1に記載のようなトナー粒子表面近傍にワックスが多く存在するようなコア粒子と、有機ケイ素重合体との密着性が低いことがわかってきた。コア粒子から脱離した有機ケイ素重合体は電子写真の現像工程で感光体表面へと移行し、さらに一部はクリーニング工程においてクリーニングブレードをすり抜ける。これは低湿環境であるとその傾向がより顕著である。その結果、有機ケイ素重合体によるすり抜けの多い部位と少ない部位とで次の帯電工程において潜像電位の違いを引き起こすため、画像濃度の違いとなって現れてしまうことがある(以下、外添剤ゴーストとも称する)。
本発明の目的は、上記の課題を解決したトナーを提供することにある。具体的には、表面近傍にワックスの多いコア粒子に対しても密着性の高い有機ケイ素重合体を含む被覆層を有し、耐定着巻き付き性と帯電安定性、粒状感の少ない高品位な画像を長時間にわたって得られ、かつ外添剤ゴーストを抑制できるトナーを提供することにある。
The present inventors have been studying a toner that has anti-fixing wrapping properties, can reduce the adhesion force with a transfer member, and can obtain a high-quality image with little graininess. As a result, it has been found that the adhesion between the core particles, which have a lot of wax near the surface of the toner particles as described in Patent Document 1, and the organosilicon polymer is low. The organosilicon polymer detached from the core particles migrates to the photoreceptor surface in the electrophotographic development process, and further, a part of it slips through the cleaning blade in the cleaning process. This tendency is more pronounced in low-humidity environments. As a result, a difference in latent image potential occurs in the next charging process between a portion where the organosilicon polymer has a lot of slip-through and a portion where it has a little, which may appear as a difference in image density (hereinafter, also referred to as an external additive ghost).
The object of the present invention is to provide a toner which has solved the above problems, specifically, a coating layer containing an organosilicon polymer which has high adhesion even to core particles which have a large amount of wax near the surface, which has excellent anti-wrapping properties and charge stability, and which can provide high quality images with little graininess over a long period of time, and which can suppress external additive ghosts.
本発明は、結着樹脂とワックスを含有するコア粒子と、該コア粒子表面に無機酸化物微粒子と、該コア粒子を被覆している有機ケイ素重合体を含む被覆層とを有するトナー粒子を有するトナーの製造方法であって、
該コア粒子は、示差走査熱量測定(DSC)によるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQi(J/g)、該コア粒子のヘキサン処理後のDSCによるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQh(J/g)としたとき、以下の関係式を満たし、
0.7≦Qi-Qh≦20.0
該有機ケイ素重合体は、下記式(T3)で表される部分構造を有し、
前記トナー粒子のテトラヒドロフラン不溶分の29Si-NMRの測定において、有機ケイ素重合体の全ピーク面積に対する、下記式(T3)で表される部分構造のピーク面積の割合[ST3]が、ST3≧0.05の関係を満たし、
R-Si(O1/2)3 (T3)
(式(T3)中、Rは炭素数1以上6以下のアルキル基又はフェニル基を表す。)
該無機酸化物微粒子が該コア粒子表面に熱固着しており、
該結着樹脂とワックスを含有するコア粒子表面に該無機酸化物微粒子を付着させる工程、
および該無機酸化物微粒子の付着したコア粒子を水系媒体中で分散させる工程、
該無機酸化物微粒子の付着したコア粒子の表面に該有機ケイ素重合体を被覆する工程を含み、
該コア粒子表面に該無機酸化物微粒子を付着させる工程ののちに、該無機酸化物微粒子が付着した該コア粒子を熱風で処理する工程を有することを特徴とするトナーの製造方法である。
The present invention relates to a method for producing a toner having toner particles which have core particles containing a binder resin and a wax, and which have inorganic oxide fine particles on the surfaces of the core particles and a coating layer which contains an organosilicon polymer and which coats the core particles, the method comprising the steps of :
The core particles satisfy the following relationship, where the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by differential scanning calorimetry (DSC) is Qi (J/g) and the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by DSC after the core particles are treated with hexane is Qh (J/g):
0.7≦Qi−Qh≦20.0
The organosilicon polymer has a partial structure represented by the following formula (T3):
In a 29Si -NMR measurement of the tetrahydrofuran insoluble matter of the toner particles, the ratio [ST3] of the peak area of the partial structure represented by the following formula (T3) to the total peak area of the organosilicon polymer satisfies the relationship ST3≧0.05,
R-Si(O 1/2 ) 3 (T3)
(In formula (T3), R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.)
the inorganic oxide fine particles are thermally fixed to the surface of the core particles,
a step of adhering the inorganic oxide fine particles to the surface of the core particles containing the binder resin and the wax;
and dispersing the core particles having the inorganic oxide fine particles attached thereto in an aqueous medium.
a step of coating the surface of the core particles to which the inorganic oxide fine particles are attached with the organosilicon polymer,
The method for producing a toner is characterized by comprising, after the step of adhering the inorganic oxide fine particles to the surface of the core particles, a step of treating the core particles to which the inorganic oxide fine particles are adhered with hot air .
本発明のトナーは、表面近傍にワックスの多いコア粒子に対しても密着性の高い有機ケイ素重合体を含む被覆層を有し、耐定着巻き付き性と現像耐久性、粒状感の少ない高品位な画像を長時間にわたって得られ、かつ外添剤ゴーストを抑制できるトナーを提供することができる。 The toner of the present invention has a coating layer containing an organosilicon polymer that has high adhesion even to core particles that have a lot of wax near the surface, and can provide a toner that has excellent fixation wrap-around resistance, development durability, and can produce high-quality images with little graininess over a long period of time, while also suppressing external additive ghosts.
本発明において、数値範囲を表す「○○以上××以下」や「○○~××」の記載は、特に断りのない限り、端点である下限及び上限を含む数値範囲を意味する。 In the present invention, the expressions "xx or more and xx or less" and "xx to xx" that express a numerical range refer to a numerical range including the lower and upper limit endpoints, unless otherwise specified.
本発明において、「モノマーユニット」とは、ポリマー中のモノマー物質の反応した形態をいう。 In the present invention, "monomer unit" refers to the reacted form of a monomer substance in a polymer.
結晶性樹脂とは、示差走査熱量計(DSC)測定において明確な吸熱ピークを示す樹脂を指す。 A crystalline resin is a resin that shows a clear endothermic peak in differential scanning calorimetry (DSC) measurements.
本発明のトナーは、結着樹脂とワックスを含有するコア粒子と、、該コア粒子表面に無機酸化物微粒子と、該コア粒子を被覆している有機ケイ素重合体を含む被覆層を有するトナー粒子を有するトナーであって、
該コア粒子は、示差走査熱量測定(DSC)によるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQi(J/g)、該コア粒子のヘキサン処理後のDSCによるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQh(J/g)としたとき、以下の関係式を満たし、
0.7≦Qi-Qh≦20.0
該有機ケイ素重合体は、下記式(T3)で表される部分構造を有し、
前記トナー粒子のテトラヒドロフラン不溶分の29Si-NMRの測定において、有機ケイ素重合体の全ピーク面積に対する、下記式(T3)で表される部分構造のピーク面積の割合[ST3]が、ST3≧0.05の関係を満たし、
R-Si(O1/2)3 (T3)
(式(T3)中、Rは炭素数1以上6以下のアルキル基又はフェニル基を表す。)
該無機酸化物微粒子が該コア粒子表面に熱固着していることを特徴とするトナーである。
The toner of the present invention is a toner having core particles containing a binder resin and a wax, and having inorganic oxide fine particles on the surface of the core particles, and a coating layer containing an organosilicon polymer coating the core particles,
The core particles satisfy the following relationship, where the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by differential scanning calorimetry (DSC) is Qi (J/g) and the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by DSC after the core particles are treated with hexane is Qh (J/g):
0.7≦Qi−Qh≦20.0
The organosilicon polymer has a partial structure represented by the following formula (T3):
In a 29Si -NMR measurement of the tetrahydrofuran insoluble matter of the toner particles, the ratio [ST3] of the peak area of the partial structure represented by the following formula (T3) to the total peak area of the organosilicon polymer satisfies the relationship ST3≧0.05,
R-Si(O 1/2 ) 3 (T3)
(In formula (T3), R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.)
The toner is characterized in that the inorganic oxide fine particles are thermally fixed to the surface of the core particles.
本発明の効果が発現するメカニズムについて、本発明者らは以下のように考えている。コア粒子表面近傍にワックスが多く存在するコア粒子の表面は疎水性が高くなっている。一方、コア粒子を被覆する本発明の有機ケイ素重合体を有する被覆層は
R-Si(O1/2)3 (T3)
で示される部分構造を有している。この構造中のRは炭素数1以上6以下のアルキル基又はフェニル基であり比較的疎水性を示すものの、親水性のSi-OH基も多量に含有するために被覆層全体としては親水性を示す。そのため、コア粒子と被覆層は極性が大きく異なるために濡れ性が低く密着性が低くなると考えている。
The present inventors believe that the mechanism by which the effects of the present invention are realized is as follows: The surface of the core particles, which has a large amount of wax near the surface, is highly hydrophobic. On the other hand, the coating layer containing the organosilicon polymer of the present invention that coats the core particles has a structure of R-Si(O1 / 2) 3 (T3)
In this structure, R is an alkyl group or a phenyl group having 1 to 6 carbon atoms, and is relatively hydrophobic, but since it also contains a large amount of hydrophilic Si-OH groups, the coating layer as a whole is hydrophilic. Therefore, it is believed that the core particle and the coating layer have low wettability and low adhesion due to the large difference in polarity.
本発明のトナー粒子は、コア粒子表面に無機酸化物微粒子が熱固着していることを特徴としている。熱による無機酸化物微粒子の固着はコア粒子表面への無機酸化物微粒子の密着性を向上させ、耐久後においても無機酸化物微粒子の脱離も抑制することができる。また、無機酸化物微粒子は電気陰性度の大きい酸素原子を含んでいる。そのため、疎水性の部位がコア粒子表面近傍に多く存在する疎水性のワックスに固着した無機酸化物微粒子の酸素原子と、有機ケイ素重合体のシラノール部位の親水性を呈するヒドロキシ基とが水素結合のような相互作用により親和性示すため、有機ケイ素重合体とワックスが多く存在するコア粒子とを密着させる作用を示すものと考えられる。 The toner particles of the present invention are characterized in that inorganic oxide fine particles are thermally fixed to the surface of the core particles. Fixation of inorganic oxide fine particles by heat improves the adhesion of the inorganic oxide fine particles to the surface of the core particles, and can also suppress the detachment of the inorganic oxide fine particles even after endurance testing. In addition, the inorganic oxide fine particles contain oxygen atoms with high electronegativity. Therefore, the oxygen atoms of the inorganic oxide fine particles fixed to the hydrophobic wax, which has a hydrophobic site in abundance near the surface of the core particles, and the hydrophilic hydroxyl groups of the silanol sites of the organosilicon polymer exhibit affinity through an interaction such as hydrogen bonding, which is thought to be the effect of adhering the organosilicon polymer to the core particles in which a large amount of wax is present.
本発明のトナー粒子のコア粒子は、示差走査熱量測定(DSC)によるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQi(J/g)、該コア粒子のヘキサン処理後のDSCによるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQh(J/g)としたとき、以下の関係式を満たすことを特徴とする。
0.7≦Qi-Qh≦20.0
The core particle of the toner particle of the present invention is characterized in that, when the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by differential scanning calorimetry (DSC) is Qi (J/g), and the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by DSC after hexane treatment of the core particle is Qh (J/g), the core particle satisfies the following relational expression:
0.7≦Qi−Qh≦20.0
Qiはコア粒子全体に存在するワックスに由来する吸熱量を示している。一方、Qhはコア粒子をヘキサンで処理することにより、コア粒子表面近傍に存在するワックスをヘキサンに溶解させ除去したのちのコア粒子内部に存在するワックスに由来する吸熱量を示している。そのため、Qi-Qhはコア粒子表面近傍に存在するワックスに由来する吸熱量を示すパラメータであり、Qi-Qhの値が大きいほど、コア粒子表面近傍にワックスが多く存在することで、定着工程において素早くワックスが溶融し高い離型効果を発揮することができる。Qi-Qhが上記の範囲にあると、高い耐定着巻き付き性と耐久後の非画像粒状性とを両立することができる。Qi-Qhが20.0を超えると、耐久後の非画像粒状性が悪化する。好ましくは0.7以上10.0以下であり、より好ましくは1.0以上7.0以下であり、さらに好ましくは1.8以上5.0以下である。 Qi indicates the amount of heat absorption derived from the wax present throughout the core particle. On the other hand, Qh indicates the amount of heat absorption derived from the wax present inside the core particle after the wax present near the core particle surface is dissolved in hexane and removed by treating the core particle with hexane. Therefore, Qi-Qh is a parameter indicating the amount of heat absorption derived from the wax present near the core particle surface, and the larger the value of Qi-Qh, the more wax is present near the core particle surface, which means that the wax melts quickly in the fixing process and a high release effect can be achieved. When Qi-Qh is in the above range, both high anti-fixing wrap-around properties and non-image graininess after durability can be achieved. When Qi-Qh exceeds 20.0, non-image graininess after durability deteriorates. It is preferably 0.7 to 10.0, more preferably 1.0 to 7.0, and even more preferably 1.8 to 5.0.
また、本発明のトナー粒子の示差走査熱量測定(DSC)によるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQit、ヘキサン処理後のDSCによるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQht(J/g)としたとき、以下の関係式を満たすことを特徴とする。
0.8≦Qit-Qht≦21.0
The toner particles of the present invention are characterized in that, when the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by differential scanning calorimetry (DSC) is Qit, and the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by DSC after hexane treatment is Qht (J/g), the following relationship is satisfied.
0.8≦Qit-Qht≦21.0
Qit-Qhtが上記の範囲にあると、高い耐定着巻き付き性と耐久後の非画像粒状性とを両立することができる。 When Qit-Qht is in the above range, it is possible to achieve both high resistance to fixing wrap and low image graininess after durability testing.
また、本発明のトナー粒子のコア粒子は、(Qi-Qh)/Qiの値が0.05以上0.90以下の範囲にあることが好ましい。(Qi-Qh)/Qiは、コア粒子中に存在する表面近傍のワックスの割合を示すパラメータであり、この値が高いと、コア粒子内部よりも表面近傍にワックスが多く存在することを示している。(Qi-Qh)/Qiの値が前記範囲内であると、高い耐定着巻き付き性と耐久後の外添剤ゴースト抑制効果や非画像粒状性を高いレベルで両立することができる。 In addition, it is preferable that the core particles of the toner particles of the present invention have a (Qi-Qh)/Qi value in the range of 0.05 or more and 0.90 or less. (Qi-Qh)/Qi is a parameter that indicates the proportion of wax present near the surface in the core particle, and a high value indicates that there is more wax present near the surface than inside the core particle. When the (Qi-Qh)/Qi value is within the above range, it is possible to achieve both high anti-wrapping properties and high levels of external additive ghost suppression effect and non-image graininess after durability testing.
本発明のトナー粒子は、(Qit-Qht)/Qitの値が0.06以上0.95以下の範囲にあることが好ましく、より好ましい範囲は0.09以上0.85以下であり、さらに好ましくは0.15以上0.70以下である。さらに好ましくは0.21以上0.42以下である。 The toner particles of the present invention preferably have a value of (Qit-Qht)/Qit in the range of 0.06 to 0.95, more preferably 0.09 to 0.85, and even more preferably 0.15 to 0.70. Even more preferably 0.21 to 0.42.
Qiの好ましい範囲としては、Qi-Qhや(Qi-Qh)/Qiの範囲を前記範囲に制御しやすい観点で、3.0以上40.0以下が好ましい。より好ましくは3.0以上30.0以下であり、さらに好ましくは5.0以上15.0以下が好ましい。 The preferred range of Qi is 3.0 or more and 40.0 or less, from the viewpoint of making it easier to control the ranges of Qi-Qh and (Qi-Qh)/Qi within the above ranges. It is more preferably 3.0 or more and 30.0 or less, and even more preferably 5.0 or more and 15.0 or less.
Qiは、ワックスの種類、添加量などにより制御することができる。 Qi can be controlled by the type of wax, the amount added, etc.
Qi-Qhは、ワックスの種類、添加量に加え、コア粒子の製造方法により制御することが可能である。コア粒子の製造方法としては、溶解懸濁法・乳化凝集法・懸濁重合法などのように水中でトナー粒子を形成する場合、コア粒子表面には親水性の材料が集まりやすく、疎水性であるワックスはトナー粒子内部に偏在しやすい。そのため、溶融混練ののち、粉砕法によってコア粒子を形成することが好ましい。さらに、図1で示す装置(詳細は後述)を用い、熱風で処理したコア粒子を使用すると熱風処理によりワックスが表面に偏在し、Qi-Qhを前記範囲に制御することが容易であるため特に好ましい。Qi-Qhは、熱風の温度、熱風の流量、コア粒子の時間当たりの処理量などにより制御することが可能である。また、ワックス分散剤を用いると、熱風によるワックスの移動速度が変化するため、Qi-Qhの値を変化させることが可能である。 Qi-Qh can be controlled by the type and amount of wax, as well as the method of manufacturing the core particles. When forming toner particles in water using methods such as the dissolution suspension method, emulsion aggregation method, and suspension polymerization method, hydrophilic materials tend to gather on the surface of the core particles, and hydrophobic wax tends to be unevenly distributed inside the toner particles. For this reason, it is preferable to form the core particles by a pulverization method after melt kneading. Furthermore, using the device shown in Figure 1 (details will be described later) and using core particles treated with hot air, the wax is unevenly distributed on the surface by the hot air treatment, and it is particularly preferable because it is easy to control Qi-Qh within the above range. Qi-Qh can be controlled by the temperature of the hot air, the flow rate of the hot air, the amount of core particles processed per hour, etc. In addition, when a wax dispersant is used, the speed at which the wax moves due to the hot air changes, so the value of Qi-Qh can be changed.
本発明のトナー粒子は、コア粒子を被覆している有機ケイ素重合体を含む被覆層を有しており、前記有機ケイ素重合体は、下記式(T3)で表される部分構造を有し、
前記トナー粒子のテトラヒドロフラン(THF)不溶分の29Si-NMRの測定において、有機ケイ素重合体の全ピーク面積に対する、下記式(T3)で表される部分構造のピーク面積の割合[ST3]が、ST3≧0.05の関係を満たすことを特徴とする。
R-Si(O1/2)3 (T3)
(式(T3)中、Rは炭素数が1以上6以下のアルキル基又はフェニル基を表す。)
The toner particles of the present invention have a coating layer containing an organosilicon polymer coating a core particle, and the organosilicon polymer has a partial structure represented by the following formula (T3):
The toner particles are characterized in that, in a 29Si -NMR measurement of the tetrahydrofuran (THF) insoluble matter, the ratio [ST3] of the peak area of the partial structure represented by the following formula (T3) to the total peak area of the organosilicon polymer satisfies the relationship ST3≧0.05.
R-Si(O 1/2 ) 3 (T3)
(In formula (T3), R represents an alkyl group or a phenyl group having 1 to 6 carbon atoms.)
本発明のトナー粒子はTHF不溶分の29Si-NMRの測定において、有機ケイ素重合体の全ピーク面積に対する、上記式(T3)で表される部分構造(以下、T3構造とも称する。)のピーク面積の割合[ST3]が、ST3≧0.05の関係を満たすことで、トナー粒子の表面の表面自由エネルギーを低くすることができるため、転写部材との付着力を低減させることができ、画像の粒状感の小さい良好な画像を得ることができる。ST3が0.05未満であると、画像の粒状性が悪化する。より好ましいST3の範囲は、0.50以上0.80以下である。 In the toner particles of the present invention, when the THF-insoluble portion is measured by 29Si -NMR, the ratio [ST3] of the peak area of the partial structure represented by the above formula (T3) (hereinafter also referred to as the T3 structure) to the total peak area of the organosilicon polymer satisfies the relationship ST3≧0.05, so that the surface free energy of the toner particle surface can be lowered, the adhesive force to the transfer member can be reduced, and a good image with little graininess can be obtained. If ST3 is less than 0.05, the graininess of the image deteriorates. A more preferable range for ST3 is 0.50 or more and 0.80 or less.
なお、上記T単位構造の割合は、有機ケイ素重合体形成に用いる有機ケイ素化合物の種類及び量、並びに、有機ケイ素重合体の製造における反応温度、反応時間、反応溶媒及びpHによって制御することができる。 The proportion of the T unit structure can be controlled by the type and amount of organosilicon compound used to form the organosilicon polymer, as well as the reaction temperature, reaction time, reaction solvent, and pH in the production of the organosilicon polymer.
本発明のトナー粒子は、コア粒子表面に無機酸化物微粒子が熱固着していることを特徴とし、無機酸化物微粒子は、前述したように表面近傍にワックスが多く存在するコア粒子と、コア粒子を被覆する有機ケイ素重合体との密着性を向上させるために必須である。 The toner particles of the present invention are characterized in that inorganic oxide fine particles are thermally adhered to the surface of the core particles, and as described above, the inorganic oxide fine particles are essential for improving the adhesion between the core particles, which have a large amount of wax near the surface, and the organosilicon polymer that coats the core particles.
無機酸化物微粒子は、電気陰性度の大きい酸素原子を含んでおり、このような無機酸化物微粒子としては、以下のものが挙げられる。シリカ微粒子、酸化アルミニウム微粒子、酸化チタン微粒子、酸化マグネシウム微粒子、酸化錫微粒子、酸化亜鉛微粒子、酸化セリウム微粒子、酸化ジルコニウム微粒子、チタン酸マグネシウム微粒子、チタン酸ストロンチウム微粒子、チタン酸カルシウム微粒子、ジルコン酸ストロンチウム微粒子、ジルコン酸カルシウム微粒子、およびこれら組成の複合物。好ましい無機酸化物微粒子としては、シリカ微粒子または酸化チタン微粒子、チタン酸ストロンチウム微粒子であり、より好ましくはチタン酸ストロンチウム微粒子である。 Inorganic oxide microparticles contain oxygen atoms with high electronegativity, and examples of such inorganic oxide microparticles include the following: silica microparticles, aluminum oxide microparticles, titanium oxide microparticles, magnesium oxide microparticles, tin oxide microparticles, zinc oxide microparticles, cerium oxide microparticles, zirconium oxide microparticles, magnesium titanate microparticles, strontium titanate microparticles, calcium titanate microparticles, strontium zirconate microparticles, calcium zirconate microparticles, and composites of these compositions. Preferred inorganic oxide microparticles are silica microparticles, titanium oxide microparticles, and strontium titanate microparticles, and more preferably strontium titanate microparticles.
前記無機酸化物微粒子は、一次粒子の個数平均粒径(D1)が7nm以上300nm以下であると好ましい。より好ましくは7nm以上55nm以下であり、更に好ましくは30nm以上50nm以下である。D1が上記範囲内であると熱風処理により無機酸化物微粒子がコア粒子に完全に埋没せず、有機ケイ素重合体との密着性が向上し、ゴースト発生が抑制されるとともに帯電性も良化するために好ましい。 The inorganic oxide fine particles preferably have a number average particle size (D1) of primary particles of 7 nm or more and 300 nm or less. More preferably, it is 7 nm or more and 55 nm or less, and even more preferably, it is 30 nm or more and 50 nm or less. When D1 is within the above range, the inorganic oxide fine particles are not completely buried in the core particles by hot air treatment, and the adhesion with the organosilicon polymer is improved, the occurrence of ghosts is suppressed, and the charging property is improved, which is preferable.
前記無機酸化物微粒子は、該無機酸化物微粒子のコア粒子表面に対する被覆率が1%以上50%以下であることが好ましい。より好ましくは3%以上30%以下であり、更に好ましくは10%以上20%以下である。被覆率が上記範囲内にあることで、無機酸化物微粒子と有機ケイ素重合体との密着性が向上し、ゴースト発生を抑制するとともに分離性が良化する。被覆率は無機酸化物微粒子の添加量や粒径、外添条件、後述する熱処理条件等により制御することができる。 The inorganic oxide fine particles preferably have a coverage of 1% to 50% of the surface of the core particles. More preferably, it is 3% to 30%, and even more preferably, it is 10% to 20%. When the coverage is within the above range, the adhesion between the inorganic oxide fine particles and the organosilicon polymer is improved, the occurrence of ghosts is suppressed, and separation is improved. The coverage can be controlled by the amount and particle size of the inorganic oxide fine particles added, the external addition conditions, the heat treatment conditions described below, etc.
また、コア粒子表面に熱固着させる無機酸化物微粒子は前述の微粒子から2種類を選択して併用することが望ましい。前述した無機酸化物微粒子を2種選択して使用することにより、密着性の向上だけでなく定着分離性や帯電安定性を両立させることができる。 In addition, it is preferable to select and use two types of inorganic oxide fine particles from the above-mentioned fine particles in combination as the inorganic oxide fine particles to be thermally fixed to the core particle surface. By selecting and using two types of inorganic oxide fine particles from the above-mentioned fine particles, it is possible to achieve not only improved adhesion but also improved fixing separation properties and charging stability.
上記の無機酸化物微粒子はコア粒子表面の一部に埋め込まれる形で熱固着させることが好ましく、後述する熱処理装置によって熱固着できる。熱固着させる方法としては、無機酸化物微粒子をトナー粒子と低温で混合した後に熱風で表面処理する方法が無機酸化物微粒子を均一に固着できるので好ましい。なお、無機微粒子を熱固着させた場合は、前述のコア粒子表面に対する被覆率は熱固着後の被覆率を指すものとする。 The inorganic oxide fine particles are preferably thermally fixed in a form embedded in a part of the surface of the core particles, and can be thermally fixed by a heat treatment device described later. As a method for thermally fixing, a method in which the inorganic oxide fine particles are mixed with the toner particles at a low temperature and then the surface is treated with hot air is preferable because it allows the inorganic oxide fine particles to be fixed uniformly. Note that when the inorganic fine particles are thermally fixed, the coverage rate of the core particle surface described above refers to the coverage rate after thermal fixing.
無機酸化物微粒子がトナー粒子の表面に埋め込まれている状態は、日立超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM;S-4800、(株)日立ハイテクノロジーズ)を用いて80,000倍に拡大してトナー粒子の表面輪郭部を観察することによって確認できる。FEはField Emission(電界放射型)を意味する。 The state in which inorganic oxide particles are embedded in the surface of the toner particles can be confirmed by observing the surface contours of the toner particles at 80,000 times magnification using a Hitachi ultra-high resolution field emission scanning electron microscope (FE-SEM; S-4800, Hitachi High-Technologies Corporation). FE stands for Field Emission.
<有機ケイ素重合体>
本発明に用いられる有機ケイ素重合体の代表的な製造例としては、ゾルゲル法と呼ばれる製造方法が挙げられる。
<Organosilicon Polymer>
A representative example of the production method for the organosilicon polymer used in the present invention is the so-called sol-gel method.
ゾルゲル法は、金属アルコキシドM(OR)n(M:金属、O:酸素、R:炭化水素、n:金属の価数)を出発原料に用いて、溶媒中で加水分解及び縮合重合させ、ゾル状態を経て、ゲル化する方法であり、ガラス、セラミックス、有機-無機ハイブリット、ナノコンポジットの合成に用いられる。この製造方法を用いれば、表層、繊維、バルク体、微粒子といった種々の形状の機能性材料を液相から低温で作製することができる。 The sol-gel method uses metal alkoxide M(OR)n (M: metal, O: oxygen, R: hydrocarbon, n: metal valence) as the starting material, which undergoes hydrolysis and condensation polymerization in a solvent, passing through a sol state and then gelling. It is used to synthesize glass, ceramics, organic-inorganic hybrids, and nanocomposites. Using this manufacturing method, functional materials in various shapes, such as surfaces, fibers, bulk bodies, and fine particles, can be produced from the liquid phase at low temperatures.
トナー粒子に含まれる有機ケイ素重合体は、具体的には、アルコキシシランに代表されるケイ素化合物の加水分解及び縮重合によって生成されることが好ましい。 Specifically, the organosilicon polymer contained in the toner particles is preferably produced by hydrolysis and condensation polymerization of a silicon compound, typically an alkoxysilane.
また、有機ケイ素重合体を含有する表層がトナーの粒子の表面に均一に設けられていることが好ましい態様の1つである。有機ケイ素重合体を含む表層がトナーの粒子の表面に均一に設けられていることによって、転写部材との付着力を低減させることができ、画像の粒状感の小さい良好な画像となるトナーを得ることができる。 In addition, one of the preferred embodiments is that the surface layer containing the organosilicon polymer is uniformly provided on the surface of the toner particles. By providing the surface layer containing the organosilicon polymer uniformly on the surface of the toner particles, the adhesion to the transfer member can be reduced, and a toner can be obtained that produces good images with little graininess.
さらに、ゾルゲル法は、溶液から出発し、その溶液をゲル化することによって材料を形成しているため、様々な微細構造及び形状をつくることができる。 In addition, because the sol-gel process starts with a solution and forms the material by gelling the solution, it is possible to create a variety of microstructures and shapes.
上記微細構造及び形状は反応温度、反応時間、反応溶媒、pHや有機ケイ素化合物の種類及び添加量などによって調整することができる。 The above microstructure and shape can be adjusted by the reaction temperature, reaction time, reaction solvent, pH, the type and amount of organosilicon compound added, etc.
本発明に用いられる有機ケイ素重合体は、下記式(Z)で表される構造を有する有機ケイ素化合物を重合させて得られる有機ケイ素重合体であることが好ましい。 The organosilicon polymer used in the present invention is preferably an organosilicon polymer obtained by polymerizing an organosilicon compound having a structure represented by the following formula (Z):
R1は、炭素数1以上6以下の炭化水素基、又は、アリール基を表す。R1における炭化水素基は、アリール基以外の炭化水素基である。R1が炭化水素基又はアリール基であることで、得られる有機ケイ素重合体の疎水性を向上させることが可能となり、環境安定性に優れたトナーを得ることができる。R1の疎水性が大きい場合、様々な環境において帯電量変動が大きくなる傾向を示すことから、環境安定性を鑑みて、R1は炭素数1以上3以下であることが好ましい。炭素数1以上3以下の炭化水素基としては、メチル基、エチル基、プロピル基が好ましく例示でき、アリール基としては、フェニル基が好ましく例示できる。この場合、帯電性及びカブリ抑制が良好となる。より好ましくは、環境安定性と保存安定性の観点から、R1はメチル基である。 R 1 represents a hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms or an aryl group. The hydrocarbon group in R 1 is a hydrocarbon group other than an aryl group. When R 1 is a hydrocarbon group or an aryl group, it is possible to improve the hydrophobicity of the obtained organosilicon polymer, and a toner having excellent environmental stability can be obtained. When the hydrophobicity of R 1 is high, the charge amount tends to fluctuate greatly in various environments, so in consideration of environmental stability, R 1 preferably has 1 to 3 carbon atoms. As the hydrocarbon group having 1 to 3 carbon atoms, a methyl group, an ethyl group, and a propyl group can be preferably exemplified, and as the aryl group, a phenyl group can be preferably exemplified. In this case, the charging property and fogging suppression are good. More preferably, R 1 is a methyl group from the viewpoint of environmental stability and storage stability.
R2~R4は、それぞれ独立して、ハロゲン原子、ヒドロキシ基、アセトキシ基、又は、アルコキシ基であり(以下「反応基」ともいう。)、これらの反応基が加水分解、付加重合及び縮重合させて架橋構造を形成し、耐部材汚染及び現像耐久性に優れたトナーを得ることができる。加水分解性が室温で穏やかであり、トナー粒子の表面への析出性と被覆性の観点からメトキシ基やエトキシ基が好ましい。また、R2~R4の加水分解、付加重合及び縮合重合は反応温度、反応時間、反応溶媒及びpHによって制御することができる。 R 2 to R 4 are each independently a halogen atom, a hydroxy group, an acetoxy group, or an alkoxy group (hereinafter also referred to as "reactive group"). These reactive groups undergo hydrolysis, addition polymerization, and condensation polymerization to form a crosslinked structure, thereby obtaining a toner having excellent resistance to component contamination and development durability. The hydrolysis is mild at room temperature, and from the viewpoint of deposition and coating properties on the surface of the toner particles, a methoxy group or an ethoxy group is preferred. The hydrolysis, addition polymerization, and condensation polymerization of R 2 to R 4 can be controlled by the reaction temperature, reaction time, reaction solvent, and pH.
本発明に用いられる有機ケイ素重合体を得るには、上記に示す式(Z)中のR1を除く一分子中に3つの反応基(R2、R3及びR4)を有する有機ケイ素化合物(以下「三官能性シラン」ともいう。)を1種又は複数種を組み合わせて用いるとよい。 To obtain the organosilicon polymer used in this invention, it is advisable to use one or a combination of two or more organosilicon compounds having three reactive groups ( R2 , R3 , and R4 ) in one molecule excluding R1 in the formula (Z) shown above (hereinafter also referred to as "trifunctional silanes").
また、本発明において、有機ケイ素重合体の含有量は、トナー粒子中に0.5質量%以上50質量%以下であることが好ましく、0.75質量%以上40.0質量%以下であることがより好ましい。 In addition, in the present invention, the content of the organosilicon polymer in the toner particles is preferably 0.5% by mass or more and 50% by mass or less, and more preferably 0.75% by mass or more and 40.0% by mass or less.
上記式(Z)としては以下のものが挙げられる。 Examples of the above formula (Z) include the following:
メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルジエトキシメトキシシラン、メチルエトキシジメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、メチルメトキシジクロロシラン、メチルエトキシジクロロシラン、メチルジメトキシクロロシラン、メチルメトキシエトキシクロロシラン、メチルジエトキシクロロシラン、メチルトリアセトキシシラン、メチルジアセトキシメトキシシラン、メチルジアセトキシエトキシシラン、メチルアセトキシジメトキシシラン、メチルアセトキシメトキシエトキシシラン、メチルアセトキシジエトキシシラン、メチルトリヒドロキシシラン、メチルメトキシジヒドロキシシラン、メチルエトキシジヒドロキシシラン、メチルジメトキシヒドロキシシラン、メチルエトキシメトキシヒドロキシシラン、メチルジエトキシヒドロキシシラン、のような三官能性のメチルシラン。 Trifunctional methylsilanes such as methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyldiethoxymethoxysilane, methylethoxydimethoxysilane, methyltrichlorosilane, methylmethoxydichlorosilane, methylethoxydichlorosilane, methyldimethoxychlorosilane, methylmethoxyethoxychlorosilane, methyldiethoxychlorosilane, methyltriacetoxysilane, methyldiacetoxymethoxysilane, methyldiacetoxyethoxysilane, methylacetoxydimethoxysilane, methylacetoxymethoxyethoxysilane, methylacetoxydiethoxysilane, methyltrihydroxysilane, methylmethoxydihydroxysilane, methylethoxydihydroxysilane, methyldimethoxyhydroxysilane, methylethoxymethoxyhydroxysilane, methyldiethoxyhydroxysilane, etc.
エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリクロロシラン、エチルトリアセトキシシラン、エチルトリヒドロキシシラン、プロピルトリメトキシシラン、プロピルトリエトキシシラン、プロピルトリクロロシラン、プロピルトリアセトキシシラン、プロピルトリヒドロキシシラン、ブチルトリメトキシシラン、ブチルトリエトキシシラン、ブチルトリクロロシラン、ブチルトリアセトキシシラン、ブチルトリヒドロキシシラン、ヘキシルトリメトキシシラン、ヘキシルトリエトキシシラン、ヘキシルトリクロロシラン、ヘキシルトリアセトキシシラン、ヘキシルトリヒドロキシシラン、のような三官能性のシラン。 Trifunctional silanes such as ethyltrimethoxysilane, ethyltriethoxysilane, ethyltrichlorosilane, ethyltriacetoxysilane, ethyltrihydroxysilane, propyltrimethoxysilane, propyltriethoxysilane, propyltrichlorosilane, propyltriacetoxysilane, propyltrihydroxysilane, butyltrimethoxysilane, butyltriethoxysilane, butyltrichlorosilane, butyltriacetoxysilane, butyltrihydroxysilane, hexyltrimethoxysilane, hexyltriethoxysilane, hexyltrichlorosilane, hexyltriacetoxysilane, and hexyltrihydroxysilane.
フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリクロロシラン、フェニルトリアセトキシシラン、フェニルトリヒドロキシシランのような三官能性のフェニルシラン。 Trifunctional phenylsilanes such as phenyltrimethoxysilane, phenyltriethoxysilane, phenyltrichlorosilane, phenyltriacetoxysilane, and phenyltrihydroxysilane.
ビニルエトキシジメトキシシラン、ビニルトリクロロシラン、ビニルメトキシジクロロシラン、ビニルエトキシジクロロシラン、ビニルジメトキシクロロシラン、ビニルメトキシエトキシクロロシラン、ビニルジエトキシクロロシラン、ビニルトリアセトキシシラン、ビニルジアセトキシメトキシシラン、ビニルジアセトキシエトキシシラン、ビニルアセトキシジメトキシシラン、ビニルアセトキシメトキシエトキシシラン、ビニルアセトキシジエトキシシラン、ビニルトリヒドロキシシラン、ビニルメトキシジヒドロキシシラン、ビニルエトキシジヒドロキシシラン、ビニルジメトキシヒドロキシシラン、ビニルエトキシメトキシヒドロキシシラン、ビニルジエトキシヒドロキシシラン、のような三官能性のビニルシラン。 Trifunctional vinyl silanes such as vinyl ethoxydimethoxysilane, vinyl trichlorosilane, vinyl methoxydichlorosilane, vinyl ethoxydichlorosilane, vinyl dimethoxychlorosilane, vinyl methoxyethoxychlorosilane, vinyl diethoxychlorosilane, vinyl triacetoxysilane, vinyl diacetoxymethoxysilane, vinyl diacetoxyethoxysilane, vinyl acetoxydimethoxysilane, vinyl acetoxymethoxyethoxysilane, vinyl acetoxydiethoxysilane, vinyl trihydroxysilane, vinyl methoxydihydroxysilane, vinyl ethoxydihydroxysilane, vinyl dimethoxyhydroxysilane, vinyl ethoxymethoxyhydroxysilane, vinyl diethoxyhydroxysilane.
アリルトリメトキシシラン、アリルトリエトキシシラン、アリルトリクロロシラン、アリルトリアセトキシシラン、アリルトリヒドロキシシラン、のような三官能性のアリルシラン。 Trifunctional allylsilanes such as allyltrimethoxysilane, allyltriethoxysilane, allyltrichlorosilane, allyltriacetoxysilane, and allyltrihydroxysilane.
本発明に用いられる有機ケイ素重合体において、式(Z)で表される構造を有する有機ケイ素化合物の含有量は、有機ケイ素重合体中に50モル%以上であることが好ましく、より好ましくは60モル%以上である。式(Z)を満たす有機ケイ素化合物の含有量を50モル%以上とすることによって、さらにトナーの環境安定性を向上させることができる。 In the organosilicon polymer used in the present invention, the content of the organosilicon compound having the structure represented by formula (Z) in the organosilicon polymer is preferably 50 mol % or more, more preferably 60 mol % or more. By making the content of the organosilicon compound satisfying formula (Z) 50 mol % or more, the environmental stability of the toner can be further improved.
また、本発明において、本発明の効果を損なわない程度に、式(Z)で表される構造を有する有機ケイ素化合物とともに、一分子中に4つの反応基を有する有機ケイ素化合物(四官能性シラン)、一分子中に3つの反応基を有する有機ケイ素化合物(三官能性シラン)、一分子中に2つの反応基を有する有機ケイ素化合物(二官能性シラン)又は1つの反応基を有する有機ケイ素化合物(一官能性シラン)を併用して得られた有機ケイ素重合体を用いてもよい。併用してもよい有機ケイ素化合物としては以下のようなものが挙げられる。 In addition, in the present invention, an organosilicon polymer obtained by using an organosilicon compound having a structure represented by formula (Z) in combination with an organosilicon compound having four reactive groups in one molecule (tetrafunctional silane), an organosilicon compound having three reactive groups in one molecule (trifunctional silane), an organosilicon compound having two reactive groups in one molecule (bifunctional silane), or an organosilicon compound having one reactive group (monofunctional silane) may be used to the extent that the effect of the present invention is not impaired. Examples of organosilicon compounds that may be used in combination include the following:
ジメチルジエトキシシラン、テトラエトキシシラン、ヘキサメチルジシラザン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリエトキシシラン、p-スチリルトリメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルメチルジエトキシシラン、3-メタクリロキシプロピルトリエトキシシラン、3-アクリロキシプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリメトキシシラン、3-アミノプロピルトリエトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリメトキシシラン、3-(2-アミノエチル)アミノプロピルトリエトキシシラン、3-フェニルアミノプロピルトリメトキシシラン、3-アニリノプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルメチルジメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリメトキシシラン、3-メルカプトプロピルトリエトキシシラン、3-グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、3-グリシドキシプロピルメチルジエトキシシラン、ヘキサメチルジシロキサン、テトライソシアネートシラン、メチルトリイソシアネートシラン、ビニルトリイソシアネートシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルジエトキシメトキシシラン。 Dimethyldiethoxysilane, tetraethoxysilane, hexamethyldisilazane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, 3-glycidoxypropyltriethoxysilane, p-styryltrimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldimethoxysilane, 3-methacryloxypropylmethyldiethoxysilane, 3-methacryloxypropyltriethoxysilane, 3-acryloxypropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltrimethoxysilane, 3-aminopropyltriethoxysilane, 3-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, 3-(2-aminoethyl)aminopropyltrimethoxysilane, Aminopropyltriethoxysilane, 3-phenylaminopropyltrimethoxysilane, 3-anilinopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropylmethyldimethoxysilane, 3-mercaptopropyltrimethoxysilane, 3-mercaptopropyltriethoxysilane, 3-glycidoxypropyltrimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldimethoxysilane, 3-glycidoxypropylmethyldiethoxysilane, hexamethyldisiloxane, tetraisocyanatesilane, methyltriisocyanatesilane, vinyltriisocyanatesilane, vinyltrimethoxysilane, vinyltriethoxysilane, vinyldiethoxymethoxysilane.
本発明のトナーは、トナー粒子の表層(表面層、最表層)のX線光電子分光分析(ESCA:Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)を用いた測定において、トナー粒子の表層における、炭素原子の濃度dCと酸素原子の濃度dOとケイ素原子の濃度dSiと硫黄原子の濃度dSの合計(dC+dO+dSi+dS)に対するケイ素原子の濃度dSi(dSi/[dC+dO+dSi+dS])が、1.0原子%以上であることが好ましく、2.5原子%以上であることがより好ましく、さらに好ましくは5.0原子%以上であり、特に好ましくは15.0原子%以上である。 In the toner of the present invention, when the surface layer (surface layer, outermost layer) of the toner particles is measured using X-ray photoelectron spectroscopy (ESCA: Electron Spectroscopy for Chemical Analysis), the silicon atom concentration dSi (dSi/[dC+dO+dSi+dS]) relative to the sum (dC+dO+dSi+dS) of the carbon atom concentration dC, the oxygen atom concentration dO, the silicon atom concentration dSi, and the sulfur atom concentration dS in the surface layer of the toner particles is preferably 1.0 atomic % or more, more preferably 2.5 atomic % or more, even more preferably 5.0 atomic % or more, and particularly preferably 15.0 atomic % or more.
上記ESCAは、トナー粒子の表面からトナー粒子の中心(長軸の中点)に数nmの厚さで存在する表層の元素分析を行うものである。このトナー粒子の表層におけるケイ素原子の濃度(dSi/[dC+dO+dSi+dS])が1.0原子%以上であることで、表層の表面自由エネルギーを小さくすることができる。その結果、トナー粒子表面への汚染等を抑制し、帯電安定性をさらに向上させることができる。 The ESCA is an elemental analysis of the surface layer that is several nanometers thick and extends from the surface of the toner particle to the center of the toner particle (the midpoint of the long axis). By making the concentration of silicon atoms (dSi/[dC+dO+dSi+dS]) in the surface layer of the toner particle 1.0 atomic % or more, the surface free energy of the surface layer can be reduced. As a result, contamination of the toner particle surface can be suppressed, and charging stability can be further improved.
一方、前記トナー粒子の表層におけるケイ素原子の濃度(dSi/[dC+dO+dSi+dS])は、帯電性の観点より、33.3原子%以下であることが好ましく、より好ましくは28.6原子%以下である。 On the other hand, the concentration of silicon atoms in the surface layer of the toner particles (dSi/[dC+dO+dSi+dS]) is preferably 33.3 atomic % or less, more preferably 28.6 atomic % or less, from the viewpoint of chargeability.
前記トナー粒子の表層におけるケイ素原子の濃度は、上記式(T3)中のRfの構造、有機ケイ素重合体形成時におけるトナー粒子の製造方法、反応温度、反応時間、反応溶媒及びpHによって制御することができる。また、有機ケイ素重合体の含有量によっても制御することができる。なお、本発明においてトナー粒子の表層とはトナー粒子の表面からトナー粒子の中心(長軸の中点)に向かって0.0nm以上5.0nm以下の厚さで存在する層を意味する。 The concentration of silicon atoms in the surface layer of the toner particles can be controlled by the structure of Rf in formula (T3) above, the method of producing the toner particles when forming the organosilicon polymer, the reaction temperature, the reaction time, the reaction solvent, and the pH. It can also be controlled by the content of the organosilicon polymer. In the present invention, the surface layer of the toner particles means a layer that exists from the surface of the toner particles toward the center of the toner particles (the midpoint of the major axis) with a thickness of 0.0 nm to 5.0 nm.
<結着樹脂>
本発明におけるコア粒子は、結着樹脂として、下記の重合体などを用いることが可能である。ポリスチレン、ポリ-p-クロルスチレン、ポリビニルトルエンなどのスチレン及びその置換体の単重合体;スチレン-p-クロルスチレン共重合体、スチレン-ビニルトルエン共重合体、スチレン-ビニルナフタリン共重合体、スチレン-アクリル酸エステル共重合体、スチレン-メタクリル酸エステル共重合体などのスチレン系共重合体;ポリ塩化ビニル、フェノール樹脂、天然変性フェノール樹脂、天然樹脂変性マレイン酸樹脂、アクリル樹脂、メタクリル樹脂、ポリ酢酸ビニル、シリコーン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリアミド樹脂、フラン樹脂、エポキシ樹脂、キシレン樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリプロピレン樹脂などが挙げられる。その中でも、非晶性樹脂が好ましく、非晶性ポリエステル樹脂を主成分としていることが、低温定着性の観点からさらに好ましい。また、無機酸化物微粒子をコア粒子表面に固着させるためにはスチレンアクリル樹脂を結着樹脂とするトナーよりも、ポリエステル樹脂を結着樹脂とするトナーの方が該無機酸化物微粒子の固着が発生しやすいため好ましい。
<Binder resin>
The core particles in the present invention may use the following polymers as the binder resin. Homopolymers of styrene and its substitutes, such as polystyrene, poly-p-chlorostyrene, and polyvinyltoluene; styrene-based copolymers, such as styrene-p-chlorostyrene copolymer, styrene-vinyltoluene copolymer, styrene-vinylnaphthalene copolymer, styrene-acrylic acid ester copolymer, and styrene-methacrylic acid ester copolymer; polyvinyl chloride, phenolic resin, naturally modified phenolic resin, naturally resin modified maleic acid resin, acrylic resin, methacrylic resin, polyvinyl acetate, silicone resin, polyester resin, polyurethane, polyamide resin, furan resin, epoxy resin, xylene resin, polyethylene resin, and polypropylene resin. Among them, amorphous resins are preferred, and those containing amorphous polyester resin as the main component are more preferred from the viewpoint of low-temperature fixability. In addition, in order to fix inorganic oxide fine particles to the surface of the core particles, toners containing polyester resin as the binder resin are more preferred than toners containing styrene acrylic resin as the binder resin, because the fixation of the inorganic oxide fine particles is more likely to occur.
ポリエステル樹脂のポリエステルユニットに用いられるモノマーとしては、多価アルコール(2価もしくは3価以上のアルコール)と、多価カルボン酸(2価もしくは3価以上のカルボン酸)、その酸無水物又はその低級アルキルエステルとが用いられる。ここで、「歪み硬化性」を発現させるため、分岐ポリマーを作製するためには、非晶性樹脂の分子内において部分架橋することが有効であり、そのためには、3価以上の多官能化合物を使用することが好ましい。従って、ポリエステルユニットの原料モノマーとして、3価以上のカルボン酸、その酸無水物又はその低級アルキルエステル、及び/又は3価以上のアルコールを含むことが好ましい。 As the monomers used in the polyester unit of the polyester resin, polyhydric alcohols (divalent or trivalent or higher alcohols), polyvalent carboxylic acids (divalent or trivalent or higher carboxylic acids), their acid anhydrides or their lower alkyl esters are used. Here, in order to produce a branched polymer in order to express "strain hardening", it is effective to partially crosslink within the molecule of the amorphous resin, and for this purpose, it is preferable to use a polyfunctional compound having a valence of three or more. Therefore, it is preferable to include a trivalent or higher carboxylic acid, its acid anhydride or its lower alkyl ester, and/or a trivalent or higher alcohol as the raw material monomer for the polyester unit.
ポリエステル樹脂のポリエステルユニットに用いられる多価アルコールモノマーとしては、以下の多価アルコールモノマーを使用することができる。 The following polyhydric alcohol monomers can be used as the polyhydric alcohol monomers for the polyester unit of the polyester resin:
2価のアルコール成分としては、エチレングリコール、プロピレングリコール、1,3-ブタンジオール、1,4-ブタンジオール、2,3-ブタンジオール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,5-ペンタンジオール、1,6-ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、2-エチル-1,3-ヘキサンジオール、水素化ビスフェノールA、また式(A)で表わされるビスフェノール及びその誘導体; Dihydric alcohol components include ethylene glycol, propylene glycol, 1,3-butanediol, 1,4-butanediol, 2,3-butanediol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,5-pentanediol, 1,6-hexanediol, neopentyl glycol, 2-ethyl-1,3-hexanediol, hydrogenated bisphenol A, and bisphenol represented by formula (A) and its derivatives;
式(B)で示されるジオール類; Diols represented by formula (B);
3価以上のアルコール成分としては、例えば、ソルビトール、1,2,3,6-ヘキサンテトロール、1,4-ソルビタン、ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、1,2,4-ブタントリオール、1,2,5-ペンタントリオール、グリセロール、2-メチルプロパントリオール、2-メチル-1,2,4-ブタントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン、1,3,5-トリヒドロキシメチルベンゼンが挙げられる。これらのうち、好ましくはグリセロール、トリメチロールプロパン、ペンタエリスリトールが用いられる。これらの2価のアルコール及び3価以上のアルコールは、単独であるいは複数を併用して用いることができる。
ポリエステル樹脂のポリエステルユニットに用いられる多価カルボン酸モノマーとしては、以下の多価カルボン酸モノマーを使用することができる。
Examples of trihydric or higher alcohol components include sorbitol, 1,2,3,6-hexanetetrol, 1,4-sorbitan, pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, 1,2,4-butanetriol, 1,2,5-pentanetriol, glycerol, 2-methylpropanetriol, 2-methyl-1,2,4-butanetriol, trimethylolethane, trimethylolpropane, and 1,3,5-trihydroxymethylbenzene. Of these, glycerol, trimethylolpropane, and pentaerythritol are preferably used. These dihydric alcohols and trihydric or higher alcohols may be used alone or in combination.
As the polybasic carboxylic acid monomer used in the polyester unit of the polyester resin, the following polybasic carboxylic acid monomers can be used.
2価のカルボン酸成分としては、例えば、マレイン酸、フマル酸、シトラコン酸、イタコン酸、グルタコン酸、フタル酸、イソフタル酸、テレフタル酸、コハク酸、アジピン酸、セバチン酸、アゼライン酸、マロン酸、n-ドデセニルコハク酸、イソドデセニルコハク酸、n-ドデシルコハク酸、イソドデシルコハク酸、n-オクテニルコハク酸、n-オクチルコハク酸、イソオクテニルコハク酸、イソオクチルコハク酸、これらの酸の無水物及びこれらの低級アルキルエステルが挙げられる。これらのうち、マレイン酸、フマル酸、テレフタル酸、n-ドデセニルコハク酸が好ましく用いられる。 Examples of divalent carboxylic acid components include maleic acid, fumaric acid, citraconic acid, itaconic acid, glutaconic acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, succinic acid, adipic acid, sebacic acid, azelaic acid, malonic acid, n-dodecenylsuccinic acid, isododecenylsuccinic acid, n-dodecylsuccinic acid, isododecylsuccinic acid, n-octenylsuccinic acid, n-octylsuccinic acid, isooctylsuccinic acid, isooctylsuccinic acid, anhydrides of these acids, and lower alkyl esters of these acids. Of these, maleic acid, fumaric acid, terephthalic acid, and n-dodecenylsuccinic acid are preferably used.
3価以上のカルボン酸、その酸無水物又はその低級アルキルエステルとしては、例えば、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸、2,5,7-ナフタレントリカルボン酸、1,2,4-ナフタレントリカルボン酸、1,2,4-ブタントリカルボン酸、1,2,5-ヘキサントリカルボン酸、1,3-ジカルボキシル-2-メチル-2-メチレンカルボキシプロパン、1,2,4-シクロヘキサントリカルボン酸、テトラ(メチレンカルボキシル)メタン、1,2,7,8-オクタンテトラカルボン酸、ピロメリット酸、エンポール三量体酸、これらの酸無水物又はこれらの低級アルキルエステルが挙げられる。これらのうち、特に1,2,4-ベンゼントリカルボン酸、すなわちトリメリット酸又はその誘導体が安価で、反応制御が容易であるため、好ましく用いられる。これらの2価のカルボン酸等及び3価以上のカルボン酸は、単独であるいは複数を併用して用いることができる。 Examples of trivalent or higher carboxylic acids, their anhydrides, or their lower alkyl esters include 1,2,4-benzenetricarboxylic acid, 2,5,7-naphthalenetricarboxylic acid, 1,2,4-naphthalenetricarboxylic acid, 1,2,4-butanetricarboxylic acid, 1,2,5-hexanetricarboxylic acid, 1,3-dicarboxyl-2-methyl-2-methylenecarboxypropane, 1,2,4-cyclohexanetricarboxylic acid, tetra(methylenecarboxyl)methane, 1,2,7,8-octanetetracarboxylic acid, pyromellitic acid, empol trimer acid, and their anhydrides or lower alkyl esters. Among these, 1,2,4-benzenetricarboxylic acid, i.e., trimellitic acid or its derivatives, is particularly preferred because it is inexpensive and easy to control the reaction. These divalent carboxylic acids and trivalent or higher carboxylic acids can be used alone or in combination.
本発明のポリエステルユニットの製造方法については、特に制限されるものではなく、公知の方法を用いることができる。例えば、前述のアルコールモノマー及びカルボン酸モノマーを同時に仕込み、エステル化反応またはエステル交換反応、及び縮合反応を経て重合し、ポリエステル樹脂を製造する。また、重合温度は、特に制限されないが、180℃以上290℃以下の範囲が好ましい。ポリエステルユニットの重合に際しては、例えば、チタン系触媒、スズ系触媒、酢酸亜鉛、三酸化アンチモン、二酸化ゲルマニウム等の重合触媒を用いることができる。 The method for producing the polyester unit of the present invention is not particularly limited, and known methods can be used. For example, the above-mentioned alcohol monomer and carboxylic acid monomer are charged simultaneously, and polymerized through an esterification reaction or ester exchange reaction and a condensation reaction to produce a polyester resin. The polymerization temperature is not particularly limited, but is preferably in the range of 180°C to 290°C. For example, a polymerization catalyst such as a titanium-based catalyst, a tin-based catalyst, zinc acetate, antimony trioxide, or germanium dioxide can be used when polymerizing the polyester unit.
また、ポリエステル樹脂の酸価は5mgKOH/g以上30mgKOH/g以下であり、水酸基価は20mgKOH/g以上70mgKOH/g以下であることが、帯電安定性の観点から好ましい。 From the viewpoint of charging stability, it is also preferable that the acid value of the polyester resin is 5 mgKOH/g or more and 30 mgKOH/g or less, and the hydroxyl value is 20 mgKOH/g or more and 70 mgKOH/g or less.
また、結着樹脂は、低分子量の樹脂と高分子量の樹脂を混ぜ合わせて使用しても良い。高分子量の樹脂と低分子量の樹脂の含有比率は質量基準で40/60以上85/15以下であることが、低温定着性と耐ホットオフセット性の観点から好ましい。 The binder resin may be a mixture of low molecular weight resin and high molecular weight resin. From the viewpoint of low temperature fixability and hot offset resistance, it is preferable that the content ratio of high molecular weight resin to low molecular weight resin is 40/60 or more and 85/15 or less by mass.
また、コア粒子に結晶性を有する樹脂を含有すると、低温定着性がさらに向上するため好ましい。 It is also preferable to include a crystalline resin in the core particles, as this further improves low-temperature fixability.
結晶性を有する樹脂の例としては、結晶性ポリエステル、結晶性ビニル樹脂、結晶性ポリウレタン、結晶性ポリウレアが挙げられる。好ましくは結晶性ポリエステル、結晶性ビニル樹脂が用いられる。 Examples of resins having crystallinity include crystalline polyester, crystalline vinyl resin, crystalline polyurethane, and crystalline polyurea. Crystalline polyester and crystalline vinyl resin are preferably used.
前記結晶性ポリエステルは、脂肪族ジオールと、脂肪族ジカルボン酸とを主成分として含む単量体組成物を重縮合反応させることにより得られる。脂肪族ジオールおよび脂肪族ジカルボン酸は、炭素数が6以上12以下であることが好ましい。 The crystalline polyester is obtained by polycondensation of a monomer composition containing an aliphatic diol and an aliphatic dicarboxylic acid as main components. The aliphatic diol and the aliphatic dicarboxylic acid preferably have 6 to 12 carbon atoms.
脂肪族ジオールとしては、特に限定されないが、鎖状(より好ましくは直鎖状)の脂肪族ジオールであることが好ましく、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、1,2-プロピレングリコール、1,3-プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、1,4-ブタンジオール、1,4-ブタジエングリコール、トリメチレングリコール、テトラメチレングリコール、ペンタメチレングリコール、ヘキサメチレングリコール、オクタメチレングリコール、ノナメチレングリコール、デカメチレングリコールネオペンチルグリコールが挙げられる。これらの中でも、特にエチレングリコール、ジエチレングリコール、1,4-ブタンジオール、及び1,6-ヘキサンジオールの如き直鎖脂肪族、α,ω-ジオールが好ましく例示される。上記アルコール成分のうち、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上が、炭素数6以上12以下の脂肪族ジオールから選ばれるアルコールであることが好ましい。 The aliphatic diol is not particularly limited, but is preferably a chain (more preferably a straight-chain) aliphatic diol, such as ethylene glycol, diethylene glycol, triethylene glycol, 1,2-propylene glycol, 1,3-propylene glycol, dipropylene glycol, 1,4-butanediol, 1,4-butadiene glycol, trimethylene glycol, tetramethylene glycol, pentamethylene glycol, hexamethylene glycol, octamethylene glycol, nonamethylene glycol, decamethylene glycol, neopentyl glycol. Among these, particularly preferred examples are straight-chain aliphatic α,ω-diols such as ethylene glycol, diethylene glycol, 1,4-butanediol, and 1,6-hexanediol. Of the above alcohol components, it is preferable that 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, is an alcohol selected from aliphatic diols having 6 to 12 carbon atoms.
また、上記脂肪族ジオール以外の多価アルコール単量体を用いることもできる。該多価アルコール単量体のうち2価アルコール単量体としては、ポリオキシエチレン化ビスフェノールA、ポリオキシプロピレン化ビスフェノールA等の芳香族アルコール;1,4-シクロヘキサンジメタノール等が挙げられる。また、該多価アルコール単量体のうち3価以上の多価アルコール単量体としては、1,3,5-トリヒドロキシメチルベンゼン等の芳香族アルコール;ペンタエリスリトール、ジペンタエリスリトール、トリペンタエリスリトール、1,2,4-ブタントリオール、1,2,5-ペンタントリオール、グリセリン、2-メチルプロパントリオール、2-メチル-1,2,4-ブタントリオール、トリメチロールエタン、トリメチロールプロパン等の脂肪族アルコール等が挙げられる。 In addition, polyhydric alcohol monomers other than the above aliphatic diols can also be used. Among the polyhydric alcohol monomers, examples of dihydric alcohol monomers include aromatic alcohols such as polyoxyethylenated bisphenol A and polyoxypropylenated bisphenol A; and 1,4-cyclohexanedimethanol. Among the polyhydric alcohol monomers, examples of trihydric or higher polyhydric alcohol monomers include aromatic alcohols such as 1,3,5-trihydroxymethylbenzene; and aliphatic alcohols such as pentaerythritol, dipentaerythritol, tripentaerythritol, 1,2,4-butanetriol, 1,2,5-pentanetriol, glycerin, 2-methylpropanetriol, 2-methyl-1,2,4-butanetriol, trimethylolethane, and trimethylolpropane.
さらに、結晶性ポリエステルの特性を損なわない程度に1価のアルコ-ルを用いてもよい。該1価のアルコールとしては、例えばn-ブタノール、イソブタノール、sec-ブタノール、n-ヘキサノール、n-オクタノール、ラウリルアルコール、2-エチルヘキサノール、デカノール、シクロヘキサノール、ベンジルアルコール、ドデシルアルコール等の1官能性アルコールなどが挙げられる。 Furthermore, monohydric alcohols may be used to the extent that they do not impair the properties of the crystalline polyester. Examples of such monohydric alcohols include monofunctional alcohols such as n-butanol, isobutanol, sec-butanol, n-hexanol, n-octanol, lauryl alcohol, 2-ethylhexanol, decanol, cyclohexanol, benzyl alcohol, and dodecyl alcohol.
一方、脂肪族ジカルボン酸としては、特に限定されないが、鎖状(より好ましくは直鎖状)の脂肪族ジカルボン酸であることが好ましい。具体例としてはシュウ酸、マロン酸、コハク酸、グルタル酸、アジピン酸、ピメリン酸、スペリン酸、グルタコン酸、アゼライン酸、セバシン酸、ノナンジカルボン酸、デカンジカルボン酸、ウンデカンジカルボン酸、ドデカンジカルボン酸、マレイン酸、フマル酸、メサコン酸、シトラコン酸、イタコン酸が挙げられ、これらの酸無水物または低級アルキルエステルを加水分解したものなども含まれる。 On the other hand, the aliphatic dicarboxylic acid is not particularly limited, but is preferably a chain (more preferably a straight-chain) aliphatic dicarboxylic acid. Specific examples include oxalic acid, malonic acid, succinic acid, glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, glutaconic acid, azelaic acid, sebacic acid, nonanedicarboxylic acid, decanedicarboxylic acid, undecanedicarboxylic acid, dodecanedicarboxylic acid, maleic acid, fumaric acid, mesaconic acid, citraconic acid, and itaconic acid, as well as the hydrolysis of the acid anhydrides or lower alkyl esters of these acids.
上記カルボン酸成分のうち、好ましくは50質量%以上、より好ましくは70質量%以上が、炭素数6以上12以下の脂肪族ジカルボン酸から選ばれるカルボン酸であることが好ましい。 Of the above carboxylic acid components, preferably 50% by mass or more, more preferably 70% by mass or more, is a carboxylic acid selected from aliphatic dicarboxylic acids having 6 to 12 carbon atoms.
また、脂肪族ジカルボン酸以外の多価カルボン酸を用いることもできる。その他の多価カルボン酸単量体のうち、2価のカルボン酸としては、イソフタル酸、テレフタル酸等の芳香族カルボン酸;n-ドデシルコハク酸、n-ドデセニルコハク酸の脂肪族カルボン酸;シクロヘキサンジカルボン酸などの脂環式カルボン酸が挙げられ、これらの酸無水物または低級アルキルエステルなども含まれる。また、その他のカルボン酸単量体のうち、3価以上の多価カルボン酸としては、1,2,4-ベンゼントリカルボン酸(トリメリット酸)、2,5,7-ナフタレントリカルボン酸、1,2,4-ナフタレントリカルボン酸、ピロメリット酸等の芳香族カルボン酸、1,2,4-ブタントリカルボン酸、1,2,5-ヘキサントリカルボン酸、1,3-ジカルボキシル-2-メチル-2-メチレンカルボキシプロパン、等の脂肪族カルボン酸が挙げられ、これらの酸無水物または低級アルキルエステル等の誘導体等も含まれる。 In addition, polycarboxylic acids other than aliphatic dicarboxylic acids can also be used. Among the other polycarboxylic acid monomers, examples of divalent carboxylic acids include aromatic carboxylic acids such as isophthalic acid and terephthalic acid; aliphatic carboxylic acids such as n-dodecyl succinic acid and n-dodecenyl succinic acid; and alicyclic carboxylic acids such as cyclohexane dicarboxylic acid, and also include their acid anhydrides or lower alkyl esters. Among the other carboxylic acid monomers, examples of trivalent or higher polycarboxylic acids include aromatic carboxylic acids such as 1,2,4-benzene tricarboxylic acid (trimellitic acid), 2,5,7-naphthalene tricarboxylic acid, 1,2,4-naphthalene tricarboxylic acid, and pyromellitic acid; and aliphatic carboxylic acids such as 1,2,4-butane tricarboxylic acid, 1,2,5-hexane tricarboxylic acid, and 1,3-dicarboxyl-2-methyl-2-methylene carboxypropane, and also include their acid anhydrides or lower alkyl esters.
さらに、結晶性ポリエステルの特性を損なわない程度に1価のカルボン酸を含有していてもよい。1価のカルボン酸としては、例えば安息香酸、ナフタレンカルボン酸、サリチル酸、4-メチル安息香酸、3-メチル安息香酸、フェノキシ酢酸、ビフェニルカルボン酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸、オクタン酸、デカン酸、ドデカン酸、ステアリン酸などのモノカルボン酸が挙げられる。 Furthermore, the crystalline polyester may contain a monovalent carboxylic acid to the extent that the properties of the crystalline polyester are not impaired. Examples of monovalent carboxylic acids include monocarboxylic acids such as benzoic acid, naphthalene carboxylic acid, salicylic acid, 4-methylbenzoic acid, 3-methylbenzoic acid, phenoxyacetic acid, biphenyl carboxylic acid, acetic acid, propionic acid, butyric acid, octanoic acid, decanoic acid, dodecanoic acid, and stearic acid.
本発明における結晶性ポリエステルは、通常のポリエステル合成法に従って製造することができる。例えば、前記したカルボン酸単量体とアルコ-ル単量体とをエステル化反応、またはエステル交換反応せしめた後、減圧下または窒素ガスを導入して常法に従って重縮合反応させることで所望の結晶性ポリエステルを得ることができる。 The crystalline polyester of the present invention can be produced according to a conventional polyester synthesis method. For example, the carboxylic acid monomer and the alcohol monomer are subjected to an esterification reaction or an ester exchange reaction, and then the desired crystalline polyester can be obtained by carrying out a polycondensation reaction according to a conventional method under reduced pressure or by introducing nitrogen gas.
上記エステル化またはエステル交換反応は、必要に応じて硫酸、チタンブトキサイド、ジブチルスズオキサイド、酢酸マンガン、酢酸マグネシウムなどの通常のエステル化触媒またはエステル交換触媒を用いて行うことができる。 The above esterification or transesterification reaction can be carried out, if necessary, using a conventional esterification catalyst or transesterification catalyst such as sulfuric acid, titanium butoxide, dibutyltin oxide, manganese acetate, or magnesium acetate.
また、上記重縮合反応は、通常の重合触媒、例えばチタンブトキサイド、ジブチルスズオキサイド、酢酸スズ、酢酸亜鉛、二硫化スズ、三酸化アンチモン、二酸化ゲルマニウムなど公知の触媒を使用して行うことができる。重合温度、触媒量は特に限定されるものではなく、適宜に決めればよい。 The polycondensation reaction can be carried out using a conventional polymerization catalyst, such as titanium butoxide, dibutyltin oxide, tin acetate, zinc acetate, tin disulfide, antimony trioxide, germanium dioxide, or other known catalyst. The polymerization temperature and the amount of catalyst are not particularly limited and may be determined appropriately.
エステル化もしくはエステル交換反応または重縮合反応において、得られる結晶性ポリエステルの強度を上げるために全単量体を一括仕込みしたりしてもよい。また低分子量成分を少なくするために2価の単量体を先ず反応させた後、3価以上の単量体を添加して反応させたりする等の方法を用いてもよい。 In the esterification or transesterification reaction or polycondensation reaction, all the monomers may be charged at once to increase the strength of the resulting crystalline polyester. In addition, in order to reduce the amount of low molecular weight components, a method may be used in which a divalent monomer is reacted first, and then a trivalent or higher monomer is added and reacted.
結晶性ビニル樹脂としては例えば、炭素数18以上36以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルである重合性単量体に由来するユニットを有する重合体を含有する樹脂が挙げられる。 Examples of crystalline vinyl resins include resins containing polymers having units derived from polymerizable monomers that are (meth)acrylic acid esters having an alkyl group having 18 to 36 carbon atoms.
炭素数18以上36以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルとしては、例えば、炭素数18以上36以下の直鎖のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル[(メタ)アクリル酸ステアリル、(メタ)アクリル酸ノナデシル、(メタ)アクリル酸エイコシル、(メタ)アクリル酸ヘンエイコサニル、(メタ)アクリル酸ベヘニル、(メタ)アクリル酸リグノセリル、(メタ)アクリル酸セリル、(メタ)アクリル酸オクタコサ、(メタ)アクリル酸ミリシル、(メタ)アクリル酸ドドリアコンタ等]及び炭素数18以上36以下の分岐のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステル[(メタ)アクリル酸2-デシルテトラデシル等]が挙げられる。 Examples of (meth)acrylic acid esters having an alkyl group having 18 to 36 carbon atoms include (meth)acrylic acid esters having a linear alkyl group having 18 to 36 carbon atoms [stearyl (meth)acrylate, nonadecyl (meth)acrylate, eicosyl (meth)acrylate, heneicosanyl (meth)acrylate, behenyl (meth)acrylate, lignoceryl (meth)acrylate, ceryl (meth)acrylate, octacosyl (meth)acrylate, myricyl (meth)acrylate, dodriaconta (meth)acrylate, etc.] and (meth)acrylic acid esters having a branched alkyl group having 18 to 36 carbon atoms [2-decyltetradecyl (meth)acrylate, etc.].
これらの内、トナーの保存安定性の観点から好ましくは炭素数18以上36以下の直鎖のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルであり、より好ましいのは炭素数18以上30以下の直鎖のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルであり、更に好ましいのは直鎖の(メタ)アクリル酸ステアリル及び(メタ)アクリル酸ベヘニルである。 Among these, from the viewpoint of storage stability of the toner, preferred are (meth)acrylic acid esters having a linear alkyl group with 18 to 36 carbon atoms, more preferred are (meth)acrylic acid esters having a linear alkyl group with 18 to 30 carbon atoms, and even more preferred are linear stearyl (meth)acrylate and behenyl (meth)acrylate.
また、該重合体中の炭素数18以上36以下のアルキル基を有する(メタ)アクリル酸エステルである重合性単量体に由来するユニットの割合が、該重合体中の全ユニットの総モル数に対して10.0モル%以上60.0モル%以下であることが好ましい。 In addition, it is preferable that the ratio of units derived from a polymerizable monomer that is a (meth)acrylic acid ester having an alkyl group having 18 to 36 carbon atoms in the polymer is 10.0 mol % or more and 60.0 mol % or less relative to the total number of moles of all units in the polymer.
これら結晶性を有する樹脂は、結着樹脂100質量部に対して、0.5質量部以上15質量部以下含有することが好ましい。 These crystalline resins are preferably contained in an amount of 0.5 parts by weight or more and 15 parts by weight or less per 100 parts by weight of the binder resin.
水分吸着を抑制する観点から、結晶性を有する樹脂の酸価は2mgKOH/g以上20mgKOH/g以下であることが好ましい。 From the viewpoint of suppressing moisture adsorption, it is preferable that the acid value of the crystalline resin is 2 mgKOH/g or more and 20 mgKOH/g or less.
また、後述するワックスのコア粒子中での存在状態を制御し、本発明のQi-Qhの範囲にワックスの存在状態を制御する目的で、コア粒子中にワックス分散剤を含有することが好ましい。 In addition, it is preferable to contain a wax dispersant in the core particles in order to control the state of the wax present in the core particles, as described below, and to control the state of the wax present within the range of Qi-Qh of the present invention.
ワックス分散剤としては、ポリオレフィンにスチレンアクリル系ポリマーがグラフト変性された重合体を用いることが好ましい。 As a wax dispersant, it is preferable to use a polymer in which a styrene-acrylic polymer is graft-modified to a polyolefin.
該ポリオレフィンは、特に限定されることはないが、低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレン、アルキレン共重合体、マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、及びフィッシャートロプシュワックスのような炭化水素系ワックスなどが挙げられる。 The polyolefin is not particularly limited, but examples thereof include low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, alkylene copolymers, microcrystalline wax, paraffin wax, and hydrocarbon wax such as Fischer-Tropsch wax.
該ポリオレフィンは、示差走査熱量計(DSC)を用いて測定される最大吸熱ピークのピーク温度が70℃以上100℃以下であることが好ましい。また、ワックス分散性の観点から、ワックスと該ポリオレフィンの示差走査熱量計(DSC)を用いて測定される最大吸熱ピークのピーク温度の差が0℃以上20℃以下であることが好ましい。 The polyolefin preferably has a peak temperature of 70°C or more and 100°C or less of the maximum endothermic peak measured using a differential scanning calorimeter (DSC). From the viewpoint of wax dispersibility, it is also preferable that the difference in peak temperature of the maximum endothermic peak measured using a differential scanning calorimeter (DSC) between the wax and the polyolefin is 0°C or more and 20°C or less.
上記スチレンアクリル系ポリマーのモノマーユニットを構成するモノマーとしては、スチレン、o-メチルスチレン、m-メチルスチレン、p-メチルスチレン、p-メトキシスチレン、p-フェニルスチレン、p-クロルスチレン、3,4-ジクロルスチレン、p-エチルスチレン、2,4-ジメチルスチレン、p-n-ブチルスチレン、p-tert-ブチルスチレン、p-n-ヘキシルスチレン、p-n-オクチルスチレン、p-n-ノニルスチレン、p-n-デシルスチレン、p-n-ドデシルスチレンなどのスチレン及びその誘導体などのスチレン系モノマー;メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチルなどのアミノ基含有α-メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類;アクリロニトリル、メタアクリロニトリル、アクリルアミドなどのアクリル酸もしくはメタクリル酸誘導体などのN原子を含むビニル系モノマー;マレイン酸、シトラコン酸、イタコン酸、アルケニルコハク酸、フマル酸、メサコン酸などの不飽和二塩基酸;マレイン酸無水物、シトラコン酸無水物、イタコン酸無水物、アルケニルコハク酸無水物などの不飽和二塩基酸無水物;マレイン酸メチルハーフエステル、マレイン酸エチルハーフエステル、マレイン酸ブチルハーフエステル、シトラコン酸メチルハーフエステル、シトラコン酸エチルハーフエステル、シトラコン酸ブチルハーフエステル、イタコン酸メチルハーフエステル、アルケニルコハク酸メチルハーフエステル、フマル酸メチルハーフエステル、メサコン酸メチルハーフエステルなどの不飽和二塩基酸のハーフエステル;ジメチルマレイン酸、ジメチルフマル酸などの不飽和二塩基酸エステル;アクリル酸、メタクリル酸、クロトン酸、ケイヒ酸などのα,β-不飽和酸;クロトン酸無水物、ケイヒ酸無水物などのα,β-不飽和酸無水物、前記α,β-不飽和酸と低級脂肪酸との無水物;アルケニルマロン酸、アルケニルグルタル酸、アルケニルアジピン酸、これらの酸無水物、及びこれらのモノエステルなどのカルボキシル基を含むビニル系モノマー;2-ヒドロキシエチルアクリレート、2-ヒドロキシエチルメタクリレート、2-ヒドロキシプロピルメタクリレート等のアクリル酸又はメタクリル酸エステル類;4-(1-ヒドロキシ-1-メチルブチル)スチレン、4-(1-ヒドロキシ-1-メチルヘキシル)スチレンなどの水酸基を含むビニル系モノマー;アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸-n-ブチル、アクリル酸イソブチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸-n-オクチル、アクリル酸ドデシル、アクリル酸-2-エチルヘキシル、アクリル酸ステアリル、アクリル酸-2-クロルエチル、アクリル酸フェニルなどのアクリル酸エステル;メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸-n-ブチル、メタクリル酸イソブチル、メタクリル酸-n-オクチル、メタクリル酸ドデシル、メタクリル酸-2-エチルヘキシル、メタクリル酸ステアリル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ジメチルアミノエチル、メタクリル酸ジエチルアミノエチルなどのα-メチレン脂肪族モノカルボン酸エステル類などのメタクリル酸エステルが挙げられる。 Examples of monomers constituting the monomer units of the styrene-acrylic polymer include styrene monomers such as styrene, o-methylstyrene, m-methylstyrene, p-methylstyrene, p-methoxystyrene, p-phenylstyrene, p-chlorostyrene, 3,4-dichlorostyrene, p-ethylstyrene, 2,4-dimethylstyrene, p-n-butylstyrene, p-tert-butylstyrene, p-n-hexylstyrene, p-n-octylstyrene, p-n-nonylstyrene, p-n-decylstyrene, and p-n-dodecylstyrene, as well as derivatives thereof; amino group-containing α-methylene aliphatic monocarboxylic acid esters such as dimethylaminoethyl methacrylate and diethylaminoethyl methacrylate; acrylonitrile, meth ... vinyl monomers containing an N atom, such as acrylic acid or methacrylic acid derivatives, such as tolyl and acrylamide; unsaturated dibasic acids, such as maleic acid, citraconic acid, itaconic acid, alkenylsuccinic acid, fumaric acid, and mesaconic acid; unsaturated dibasic acid anhydrides, such as maleic anhydride, citraconic anhydride, itaconic anhydride, and alkenylsuccinic anhydride; half esters of unsaturated dibasic acids, such as methyl maleate half ester, ethyl maleate half ester, butyl maleate half ester, methyl citraconic acid half ester, ethyl citraconic acid half ester, butyl citraconic acid half ester, methyl itaconic acid half ester, methyl alkenylsuccinic acid half ester, methyl fumaric acid half ester, and methyl mesaconic acid half ester; unsaturated dibasic acid esters such as dimethyl maleic acid and dimethyl fumaric acid; α,β-unsaturated acids such as acrylic acid, methacrylic acid, crotonic acid and cinnamic acid; α,β-unsaturated acid anhydrides such as crotonic acid anhydride and cinnamic acid anhydride, anhydrides of the above α,β-unsaturated acids and lower fatty acids; vinyl monomers containing a carboxyl group such as alkenyl malonic acid, alkenyl glutaric acid, alkenyl adipic acid, anhydrides thereof, and monoesters thereof; acrylic acid or methacrylic acid esters such as 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, and 2-hydroxypropyl methacrylate; vinyl monomers containing a hydroxyl group such as 4-(1-hydroxy-1-methylbutyl)styrene and 4-(1-hydroxy-1-methylhexyl)styrene. ; acrylic acid esters such as methyl acrylate, ethyl acrylate, n-butyl acrylate, isobutyl acrylate, propyl acrylate, n-octyl acrylate, dodecyl acrylate, 2-ethylhexyl acrylate, stearyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, and phenyl acrylate; methacrylic acid esters such as α-methylene aliphatic monocarboxylic acid esters such as methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl methacrylate, n-octyl methacrylate, dodecyl methacrylate, 2-ethylhexyl methacrylate, stearyl methacrylate, phenyl methacrylate, dimethylaminoethyl methacrylate, and diethylaminoethyl methacrylate.
また、飽和脂環式化合物由来の構造部位を有するビニル系モノマーを含有してもよい。 It may also contain a vinyl monomer having a structural portion derived from a saturated alicyclic compound.
飽和脂環式化合物由来の構造部位を有するビニル系モノマーを含有すると、帯電安藝正がより向上するため好ましい。飽和脂環式化合物由来の構造部位を有するビニル系モノマーとしては、シクロプロピルアクリレート、シクロブチルアクリレート、シクロペンチルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘプチルアクリレート、シクロオクチルアクリレート、シクロプロピルメタクリレート、シクロブチルメタクリレート、シクロペンチルメタクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘプチルメタクリレート、シクロオクチルメタクリレート、ジヒドロシクロペンタジエチルアクリレート、ジシクロペンタニルアクリレート、ジシクロペンタニルメタクリレートなどのモノマー及びこれらの併用が挙げられる。 It is preferable to contain a vinyl monomer having a structural portion derived from a saturated alicyclic compound, since this further improves the charging stability. Examples of vinyl monomers having a structural portion derived from a saturated alicyclic compound include monomers such as cyclopropyl acrylate, cyclobutyl acrylate, cyclopentyl acrylate, cyclohexyl acrylate, cycloheptyl acrylate, cyclooctyl acrylate, cyclopropyl methacrylate, cyclobutyl methacrylate, cyclopentyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, cycloheptyl methacrylate, cyclooctyl methacrylate, dihydrocyclopentadiethyl acrylate, dicyclopentanyl acrylate, and dicyclopentanyl methacrylate, and combinations thereof.
これらの中でも、疎水性の観点から、シクロヘキシルアクリレート、シクロヘプチルアクリレート、シクロオクチルアクリレート、シクロヘキシルメタクリレート、シクロヘプチルメタクリレート、シクロオクチルメタクリレートが好ましい。 Among these, from the viewpoint of hydrophobicity, cyclohexyl acrylate, cycloheptyl acrylate, cyclooctyl acrylate, cyclohexyl methacrylate, cycloheptyl methacrylate, and cyclooctyl methacrylate are preferred.
なお、本発明において、ポリオレフィンにスチレンアクリル系ポリマーをグラフト変性する方法は、特に限定されず、従来公知の方法を用いることができる。 In the present invention, the method for graft-modifying a styrene-acrylic polymer onto a polyolefin is not particularly limited, and any conventionally known method can be used.
本発明において、重合体のTHF可溶分のゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)による分子量分布において、重量平均分子量(Mw)が5000以上70000以下であることが好ましく、10000以上50000以下であることがより好ましい。重合体の重量平均分子量(Mw)が上記範囲である場合、トナー粒子中におけるワックスの分散性が向上すると同時に耐ブロッキング性、耐ホットオフセット性が向上する。 In the present invention, the weight average molecular weight (Mw) of the THF-soluble portion of the polymer is preferably 5,000 or more and 70,000 or less, and more preferably 10,000 or more and 50,000 or less, as determined by gel permeation chromatography (GPC). When the weight average molecular weight (Mw) of the polymer is within the above range, the dispersibility of the wax in the toner particles is improved, and at the same time, the blocking resistance and hot offset resistance are improved.
また、該重合体は、該結着樹脂100質量部に対して1.0質量部以上10.0質量部以下含有されることが好ましい。 The polymer is preferably contained in an amount of 1.0 part by mass or more and 10.0 parts by mass or less per 100 parts by mass of the binder resin.
<ワックス>
本発明のコア粒子に用いられるワックスとしては、例えば以下のものが挙げられる。低分子量ポリエチレン、低分子量ポリプロピレン、アルキレン共重合体、マイクロクリスタリンワックス、パラフィンワックス、フィッシャートロプシュワックスの如き炭化水素系ワックス;酸化ポリエチレンワックスの如き炭化水素系ワックスの酸化物又はそれらのブロック共重合物;カルナバワックスの如き脂肪酸エステルを主成分とするワックス類;脱酸カルナバワックスの如き脂肪酸エステル類を一部又は全部を脱酸化したもの。さらに、以下のものが挙げられる。パルミチン酸、ステアリン酸、モンタン酸の如き飽和直鎖脂肪酸類;ブラシジン酸、エレオステアリン酸、バリナリン酸の如き不飽和脂肪酸類;ステアリルアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコールの如き飽和アルコール類;ソルビトールの如き多価アルコール類;パルミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、モンタン酸の如き脂肪酸類と、ステアリルアルコール、アラルキルアルコール、ベヘニルアルコール、カルナウビルアルコール、セリルアルコール、メリシルアルコールの如きアルコール類とのエステル類;リノール酸アミド、オレイン酸アミド、ラウリン酸アミドの如き脂肪酸アミド類;メチレンビスステアリン酸アミド、エチレンビスカプリン酸アミド、エチレンビスラウリン酸アミド、ヘキサメチレンビスステアリン酸アミドの如き飽和脂肪酸ビスアミド類;エチレンビスオレイン酸アミド、ヘキサメチレンビスオレイン酸アミド、N,N’ジオレイルアジピン酸アミド、N,N’ジオレイルセバシン酸アミドの如き不飽和脂肪酸アミド類;m-キシレンビスステアリン酸アミド、N,N’ジステアリルイソフタル酸アミドの如き芳香族系ビスアミド類;ステアリン酸カルシウム、ラウリン酸カルシウム、ステアリン酸亜鉛、ステアリン酸マグネシウムの如き脂肪族金属塩(一般に金属石けんといわれているもの);脂肪族炭化水素系ワックスにスチレンやアクリル酸の如きビニル系モノマーを用いてグラフト化させたワックス類;ベヘニン酸モノグリセリドの如き脂肪酸と多価アルコールの部分エステル化物;植物性油脂の水素添加によって得られるヒドロキシル基を有するメチルエステル化合物。
<Wax>
Examples of waxes that can be used in the core particles of the present invention include the following: hydrocarbon waxes such as low molecular weight polyethylene, low molecular weight polypropylene, alkylene copolymers, microcrystalline wax, paraffin wax, and Fischer-Tropsch wax; oxides of hydrocarbon waxes such as oxidized polyethylene wax or block copolymers thereof; waxes containing fatty acid esters as the main component such as carnauba wax; and partially or completely deoxidized fatty acid esters such as deoxidized carnauba wax. Further examples include the following. Saturated straight-chain fatty acids such as palmitic acid, stearic acid, and montanic acid; unsaturated fatty acids such as brassidic acid, eleostearic acid, and valinaric acid; saturated alcohols such as stearyl alcohol, aralkyl alcohol, behenyl alcohol, carnaubyl alcohol, ceryl alcohol, and melissyl alcohol; polyhydric alcohols such as sorbitol; esters of fatty acids such as palmitic acid, stearic acid, behenic acid, and montanic acid and alcohols such as stearyl alcohol, aralkyl alcohol, behenyl alcohol, carnaubyl alcohol, ceryl alcohol, and melissyl alcohol; fatty acid amides such as linoleic acid amide, oleic acid amide, and lauric acid amide; methylene bisstearic acid amide, ethylene biscapric acid amide, ethylene bislauric acid amide, hexamethylene saturated fatty acid bisamides such as bisstearamide; unsaturated fatty acid amides such as ethylene bisoleamide, hexamethylene bisoleamide, N,N'-dioleyl adipamide, and N,N'-dioleyl sebacamide; aromatic bisamides such as m-xylene bisstearamide and N,N'-distearyl isophthalamide; aliphatic metal salts (commonly known as metal soaps) such as calcium stearate, calcium laurate, zinc stearate, and magnesium stearate; waxes obtained by grafting aliphatic hydrocarbon waxes with vinyl monomers such as styrene and acrylic acid; partial esters of fatty acids and polyhydric alcohols such as behenic acid monoglyceride; and methyl ester compounds having a hydroxyl group obtained by hydrogenating vegetable oils and fats.
これらのワックスの中でも、低温定着性、定着分離性を向上させるという観点で、パラフィンワックス、フィッシャートロプシュワックスの如き炭化水素系ワックス、もしくはカルナバワックスの如き脂肪酸エステル系ワックスが好ましい。本発明において、コア粒子の結着樹脂としてポリエステル樹脂を使用する際、耐定着分離性がさらに向上する点で、炭化水素系ワックスがより好ましい。 Among these waxes, from the viewpoint of improving low-temperature fixability and fixation separation property, preferred are hydrocarbon waxes such as paraffin wax and Fischer-Tropsch wax, and fatty acid ester waxes such as carnauba wax. In the present invention, when a polyester resin is used as the binder resin for the core particles, hydrocarbon waxes are more preferred in that they further improve fixation separation resistance.
本発明では、ワックスは、結着樹脂100質量部あたり2質量部以上20質量部以下で使用されることが好ましい。 In the present invention, it is preferable to use wax in an amount of 2 parts by weight or more and 20 parts by weight or less per 100 parts by weight of the binder resin.
また、示差走査熱量測定(DSC)装置で測定される昇温時の吸熱曲線において、ワックスの最大吸熱ピークのピーク温度としては45℃以上140℃以下であることが好ましい。さらに好ましくは70℃以上110℃以下であり、さらに好ましくは85℃以上110℃以下である。ワックスの最大吸熱ピークのピーク温度が上記範囲内であるとトナーの保存性と耐ホットオフセット性を両立しやすいため好ましい。 In addition, in the endothermic curve during temperature rise measured by a differential scanning calorimetry (DSC) device, the peak temperature of the maximum endothermic peak of the wax is preferably 45°C or higher and 140°C or lower. More preferably, it is 70°C or higher and 110°C or lower, and even more preferably, it is 85°C or higher and 110°C or lower. If the peak temperature of the maximum endothermic peak of the wax is within the above range, it is preferable because it is easy to achieve both the storage stability and hot offset resistance of the toner.
<着色剤>
トナーには着色剤を用いてもよい。着色剤としては、以下のものが挙げられる。
<Coloring Agent>
The toner may contain a colorant. Examples of the colorant include the following.
黒色着色剤としては、カーボンブラック;イエロー着色剤とマゼンタ着色剤及びシアン着色剤とを用いて黒色に調色したものが挙げられる。着色剤には、顔料を単独で使用してもかまわないが、染料と顔料とを併用してその鮮明度を向上させた方がフルカラー画像の画質の点からより好ましい。 Black colorants include carbon black, and those toned to black using a yellow colorant, a magenta colorant, and a cyan colorant. As a colorant, a pigment may be used alone, but it is more preferable to use a dye and a pigment in combination to improve the clarity in terms of the image quality of a full-color image.
マゼンタトナー用顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントレッド1、2、3、4、5、6、7、8、9、10、11、12、13、14、15、16、17、18、19、21、22、23、30、31、32、37、38、39、40、41、48:2、48:3,48:4、49、50、51、52、53、54、55、57:1、58、60、63、64、68、81:1、83、87、88、89、90、112、114、122、123、146、147、150、163、184、202、206、207、209、238、269、282;C.I.ピグメントバイオレット19;C.I.バットレッド1、2、10、13、15、23、29、35。
Pigments for magenta toner include the following: C.I. C.I.
マゼンタトナー用染料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ソルベントレッド1、3、8、23、24、25、27、30、49、81、82、83、84、100、109、121;C.I.ディスパースレッド9;C.I.ソルベントバイオレット8、13、14、21、27;C.I.ディスパーバイオレット1のような油溶染料、C.I.ベーシックレッド1、2、9、12、13、14、15、17、18、22、23、24、27、29、32、34、35、36、37、38、39、40;C.I.ベーシックバイオレット1、3、7、10、14、15、21、25、26、27、28のような塩基性染料。
Dyes for magenta toner include the following: C.I.
シアントナー用顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントブルー2、3、15:2、15:3、15:4、16、17;C.I.バットブルー6;C.I.アシッドブルー45、フタロシアニン骨格にフタルイミドメチル基を1~5個置換した銅フタロシアニン顔料。
Pigments for cyan toner include the following: C.I.
シアントナー用染料としては、C.I.ソルベントブルー70がある。 An example of a dye for cyan toner is C.I. Solvent Blue 70.
イエロートナー用顔料としては、以下のものが挙げられる。C.I.ピグメントイエロー1、2、3、4、5、6、7、10、11、12、13、14、15、16、17、23、62、65、73、74、83、93、94、95、97、109、110、111、120、127、128、129、147、151、154、155、168、174、175、176、180、181、185;C.I.バットイエロー1、3、20。
イエロートナー用染料としては、C.I.ソルベントイエロー162がある。
Yellow toner pigments include: C.I.
Yellow toner dyes include C.I. Solvent Yellow 162.
着色剤の含有量は、結着樹脂100質量部に対して0.1質量部以上30質量部以下であることが好ましい。 The colorant content is preferably 0.1 parts by weight or more and 30 parts by weight or less per 100 parts by weight of the binder resin.
<荷電制御剤>
トナーには、必要に応じて荷電制御剤を含有させることもできる。トナーに含有される荷電制御剤としては、公知のものが利用できるが、特に、無色でトナーの帯電スピードが速く且つ一定の帯電量を安定して保持できる芳香族カルボン酸の金属化合物が好ましい。
<Charge Control Agent>
The toner may contain a charge control agent as necessary. Any known charge control agent may be used as the charge control agent contained in the toner, but a metal compound of an aromatic carboxylic acid is particularly preferred, as it is colorless, has a high charging speed, and can stably maintain a constant charge amount.
ネガ系荷電制御剤としては、サリチル酸金属化合物、ナフトエ酸金属化合物、ジカルボン酸金属化合物、スルホン酸又はカルボン酸を側鎖に持つ高分子型化合物、スルホン酸塩又はスルホン酸エステル化物を側鎖に持つ高分子型化合物、カルボン酸塩又はカルボン酸エステル化物を側鎖に持つ高分子型化合物、ホウ素化合物、尿素化合物、ケイ素化合物、カリックスアレーンが挙げられる。荷電制御剤はトナー粒子に対して内添してもよいし外添してもよい。 Negative charge control agents include metal salicylate compounds, metal naphthoate compounds, metal dicarboxylate compounds, polymeric compounds having sulfonic acid or carboxylic acid on the side chain, polymeric compounds having sulfonate salts or sulfonate esters on the side chain, polymeric compounds having carboxylate salts or carboxylate esters on the side chain, boron compounds, urea compounds, silicon compounds, and calixarenes. Charge control agents may be added internally or externally to the toner particles.
荷電制御剤の添加量は、結着樹脂100質量部に対し0.2質量部以上10質量部以下が好ましい。 The amount of charge control agent added is preferably 0.2 parts by weight or more and 10 parts by weight or less per 100 parts by weight of binder resin.
<無機微粒子>
本発明のトナー粒子には、コア粒子表面に固着している本発明の無機酸化物微粒子とは別に、必要に応じて無機微粒子を含有させることもできる。無機微粒子は、トナー粒子に内添してもよく外添剤としてトナー粒子と混合してもよい。外添剤としては、シリカ、酸化チタン、酸化アルミニウムなどの無機微粒子(無機微粉体)が好ましい。無機微粒子は、シラン化合物、シリコーンオイル又はそれらの混合物などの疎水化剤で疎水化されていることが好ましい。
<Inorganic fine particles>
The toner particles of the present invention may contain inorganic fine particles as necessary, in addition to the inorganic oxide fine particles of the present invention fixed to the surface of the core particles. The inorganic fine particles may be added internally to the toner particles or may be mixed with the toner particles as an external additive. As the external additive, inorganic fine particles (inorganic fine powder) such as silica, titanium oxide, aluminum oxide, etc. are preferable. The inorganic fine particles are preferably hydrophobized with a hydrophobizing agent such as a silane compound, silicone oil, or a mixture thereof.
流動性向上のための外添剤としては、比表面積が50m2/g以上400m2/g以下の無機微粒子が好ましく、耐久性安定化のためには、比表面積が10m2/g以上50m2/g以下の無機微粒子であることが好ましい。トナーの流動性向上や耐久性安定化を両立させるためには、比表面積が上記範囲内の無機微粒子を併用してもよい。 As an external additive for improving fluidity, inorganic fine particles having a specific surface area of 50 m2 /g or more and 400 m2 /g or less are preferable, and for stabilizing durability, inorganic fine particles having a specific surface area of 10 m2 /g or more and 50 m2 /g or less are preferable. In order to simultaneously improve the fluidity and stabilize the durability of the toner, inorganic fine particles having a specific surface area within the above range may be used in combination.
外添剤としては、トナー粒子100質量部に対して0.1質量部以上10.0質量部以下使用されることが好ましい。トナー粒子と外添剤との混合は、ヘンシェルミキサーなどの公知の混合機を用いることができる。 It is preferable that the external additive is used in an amount of 0.1 parts by weight to 10.0 parts by weight per 100 parts by weight of toner particles. A known mixer such as a Henschel mixer can be used to mix the toner particles and the external additive.
<現像剤>
トナーは、一成分系現像剤としても使用できるが、ドット再現性をより向上させるために、磁性キャリアと混合して、二成分系現像剤として用いることが、長期にわたり安定した画像が得られるという点で好ましい。すなわち、トナー及び磁性キャリアを含有する二成分系現像剤であって、該トナーが本発明のトナーであることが好ましい。
<Developer>
The toner can be used as a one-component developer, but in order to further improve dot reproducibility, it is preferable to mix the toner with a magnetic carrier and use it as a two-component developer, since this allows stable images to be obtained over a long period of time. That is, it is preferable that the toner is the toner of the present invention, which is a two-component developer containing a toner and a magnetic carrier.
磁性キャリアとしては、例えば、表面を酸化した鉄粉、あるいは、未酸化の鉄粉や、鉄、リチウム、カルシウム、マグネシウム、ニッケル、銅、亜鉛、コバルト、マンガン、クロム、希土類のような金属粒子、それらの合金粒子、酸化物粒子、フェライト等の磁性体や、磁性体と、この磁性体を分散した状態で保持するバインダー樹脂とを含有する磁性体分散樹脂キャリア(いわゆる樹脂キャリア)等、一般に公知のものを使用できる。 As magnetic carriers, for example, iron powder with an oxidized surface, unoxidized iron powder, metal particles such as iron, lithium, calcium, magnesium, nickel, copper, zinc, cobalt, manganese, chromium, and rare earth elements, alloy particles thereof, oxide particles, magnetic materials such as ferrite, magnetic material-dispersed resin carriers (so-called resin carriers) containing magnetic materials and a binder resin that holds the magnetic materials in a dispersed state, and other commonly known magnetic carriers can be used.
トナーを磁性キャリアと混合して二成分系現像剤として使用する場合、その際のキャリア混合比率は、二成分系現像剤中のトナー濃度として、好ましくは2質量%以上15質量%以下、より好ましくは4質量%以上13質量%以下にすると通常良好な結果が得られる。 When the toner is mixed with a magnetic carrier to be used as a two-component developer, good results are usually obtained when the carrier mixing ratio is, in terms of toner concentration in the two-component developer, preferably 2% by weight to 15% by weight, more preferably 4% by weight to 13% by weight.
[トナー粒子の製造方法]
<コア粒子の製造>
本発明のトナー粒子のコア粒子を製造する方法としては、ワックスをコア粒子表面近傍に存在させやすい点で粉砕法が好ましい。乳化凝集法や溶解懸濁法、懸濁重合法等の水中でコア粒子を作製する製造方法を用いた場合、疎水性の高いワックスはコア粒子内部に偏在し、本発明のQi-Qhの範囲にワックスの存在状態を制御することは困難である。
[Method of manufacturing toner particles]
<Production of Core Particles>
As a method for producing the core particles of the toner particles of the present invention, a pulverization method is preferred because it is easy to make the wax exist near the surface of the core particles. When a production method for producing the core particles in water, such as an emulsion aggregation method, a dissolution suspension method, or a suspension polymerization method, is used, the highly hydrophobic wax is unevenly distributed inside the core particles, and it is difficult to control the state of the wax within the range of Qi-Qh of the present invention.
以下、粉砕法でのトナー製造手順の一例について説明する。 Below, we explain an example of the toner manufacturing procedure using the pulverization method.
原料混合工程では、コア粒子を構成する材料として、例えば、結着樹脂、ワックス、着色剤、及び必要に応じて荷電制御剤等の他の成分を所定量秤量して配合し、混合する。混合装置の一例としては、ダブルコン・ミキサー、V型ミキサー、ドラム型ミキサー、スーパーミキサー、ヘンシェルミキサー、ナウタミキサ、メカノハイブリッド(日本コークス工業株式会社製)などが挙げられる。 In the raw material mixing process, materials constituting the core particles, such as binder resin, wax, colorant, and other components such as charge control agents as necessary, are weighed out in predetermined amounts, blended, and mixed. Examples of mixing devices include a double-con mixer, V-type mixer, drum-type mixer, super mixer, Henschel mixer, Nauta mixer, and Mechano Hybrid (manufactured by Nippon Coke and Engineering Co., Ltd.).
次に、混合した材料を溶融混練して、結着樹脂中にワックス等を分散させる。その溶融混練工程では、加圧ニーダー、バンバリィミキサーなどのバッチ式練り機や、連続式の練り機を用いることができ、連続生産できる優位性から、1軸又は2軸押出機が主流となっている。例えば、KTK型2軸押出機(神戸製鋼所社製)、TEM型2軸押出機(東芝機械社製)、PCM混練機(池貝鉄工社製)、2軸押出機(ケイ・シー・ケイ社製)、コ・ニーダー(ブス社製)、ニーデックス(日本コークス工業株式会社製)などが挙げられる。さらに、溶融混練することによって得られる樹脂組成物は、2本ロール等で圧延され、冷却工程で水などによって冷却してもよい。 Next, the mixed materials are melt-kneaded to disperse the wax in the binder resin. In the melt-kneading process, a batch kneader such as a pressure kneader or a Banbury mixer, or a continuous kneader can be used, and single-screw or twin-screw extruders are the mainstream due to their advantage of continuous production. Examples include a KTK twin-screw extruder (manufactured by Kobe Steel, Ltd.), a TEM twin-screw extruder (manufactured by Toshiba Machine Co., Ltd.), a PCM kneader (manufactured by Ikegai Iron Works Co., Ltd.), a twin-screw extruder (manufactured by KCK Corporation), a Co-Kneader (manufactured by Buss Co., Ltd.), and a Kneadex (manufactured by Nippon Coke and Engineering Co., Ltd.). Furthermore, the resin composition obtained by melt-kneading may be rolled with a twin roll or the like and cooled with water in a cooling process.
ついで、樹脂組成物の冷却物は、粉砕工程で所望の粒径にまで粉砕される。粉砕工程では、例えば、クラッシャー、ハンマーミル、フェザーミルなどの粉砕機で粗粉砕した後、さらに、例えば、クリプトロンシステム(川崎重工業社製)、スーパーローター(日清エンジニアリング社製)、ターボ・ミル(ターボ工業製)やエアージェット方式による微粉砕機で微粉砕する。 The cooled resin composition is then pulverized to the desired particle size in a pulverization process. In the pulverization process, the resin composition is coarsely pulverized using a pulverizer such as a crusher, hammer mill, or feather mill, and then further pulverized using a pulverizer such as a Cryptron System (manufactured by Kawasaki Heavy Industries, Ltd.), a Super Rotor (manufactured by Nisshin Engineering Co., Ltd.), a Turbo Mill (manufactured by Turbo Kogyo Co., Ltd.), or an air jet type pulverizer.
その後、必要に応じて慣性分級方式のエルボージェット(日鉄鉱業社製)、遠心力分級方式のターボプレックス(ホソカワミクロン社製)、TSPセパレータ(ホソカワミクロン社製)、ファカルティ(ホソカワミクロン社製)などの分級機や篩分機を用いて分級し、分級品(コア粒子)を得る。中でも、ファカルティ(ホソカワミクロン社製)は、分級と同時にコア粒子の球形化処理を行うことができ、転写効率の向上という点で好ましい。 Then, as necessary, the particles are classified using a classifier or sieve such as Elbow Jet (manufactured by Nittetsu Mining Co., Ltd.) which uses an inertial classification method, Turboplex (manufactured by Hosokawa Micron Corporation) which uses a centrifugal classification method, TSP Separator (manufactured by Hosokawa Micron Corporation), or Faculty (manufactured by Hosokawa Micron Corporation) to obtain classified products (core particles). Among these, Faculty (manufactured by Hosokawa Micron Corporation) is preferred in terms of improving transfer efficiency, as it can simultaneously perform a spheroidizing process on the core particles during classification.
<無機酸化物微粒子の付着・熱固着工程>
本発明の無機酸化物微粒子をコア粒子の表面に熱固着させる方法について説明する。
<Inorganic oxide fine particle adhesion and thermal fixation process>
A method for thermally fixing the inorganic oxide fine particles of the present invention to the surfaces of the core particles will be described below.
熱風を用いてトナーの表面へ無機酸化物微粒子を固着する方法では、まずコア粒子表面への無機酸化物微粒子の外添処理を行い、コア粒子に無機酸化物微粒子を付着させる。外添処理する方法としては、トナー粒子と無機酸化物微粒子を所定量配合し、ダブルコン・ミキサー、V型ミキサー、ドラム型ミキサー、スーパーミキサー、ヘンシェルミキサー、ナウタミキサ、メカノハイブリッド(日本コークス工業株式会社製)、ノビルタ(ホソカワミクロン株式会社製)等の混合装置を用いて、撹拌・混合する方法が挙げられる。 In the method of fixing inorganic oxide particles to the surface of the toner using hot air, inorganic oxide particles are first added to the surface of the core particles, and the inorganic oxide particles are then attached to the core particles. Examples of the method of adding inorganic oxide particles include a method in which a predetermined amount of toner particles and inorganic oxide particles are mixed together, and then stirred and mixed using a mixing device such as a double con mixer, V-type mixer, drum mixer, super mixer, Henschel mixer, Nauta mixer, Mechano Hybrid (manufactured by Nippon Coke and Engineering Co., Ltd.), or Nobilta (manufactured by Hosokawa Micron Corporation).
続いて、無機酸化物微粒子が付着したコア粒子を熱処理工程で図1のような熱処理装置を用いて熱処理を行う。この熱処理により表面近傍のワックスがさらに増加し、本発明のQi-Qh、(Qi-Qh)/Qiの範囲にワックスの存在状態を制御することが大変容易となる。その結果、耐定着巻き付き性が向上する。 Then, the core particles to which the inorganic oxide microparticles are attached are heat-treated in a heat treatment process using a heat treatment device as shown in Figure 1. This heat treatment further increases the amount of wax near the surface, making it very easy to control the presence of the wax within the range of Qi-Qh and (Qi-Qh)/Qi of the present invention. As a result, the anti-wrapping property during fixing is improved.
原料定量供給手段1により定量供給された混合物(無機酸化物微粒子が付着したコア粒子)は、圧縮気体調整手段2により調整された圧縮気体によって、原料供給手段の鉛直線上に設置された導入管3に導かれる。導入管を通過した混合物は、原料供給手段の中央部に設けられた円錐状の突起状部材4により均一に分散され、放射状に広がる8方向の供給管5に導かれ熱処理が行われる処理室6に導かれる。
The mixture (core particles with inorganic oxide fine particles attached) supplied by the raw material supply means 1 is introduced into the
図1において、原料定量供給手段1により定量供給された混合物は、圧縮気体調整手段2により調整された圧縮気体によって、処理室6の中心軸上に設置された導入管3に導かれる。導入管を通過した混合物は、原料供給手段の中央部に設けられた円錐状の突起状部材4により均一に分散され、放射状に広がる8方向の供給管5に導かれ、粉体粒子供給口14から、熱処理が行われる処理室6に導かれる。
In FIG. 1, the mixture supplied by the raw material supply means 1 is introduced into the
このとき、処理室6に供給された混合物は、処理室6内に設けられた混合物の流れを規制するための規制手段9によって、その流れが規制される。このため処理室6に供給された混合物は、処理室6内を旋回しながら熱処理された後、冷却される。
At this time, the flow of the mixture supplied to the
供給された混合物を熱処理するための熱風は、熱風供給手段7の熱風入口部7から供給され、熱風を旋回させるための旋回部材13により、処理室6内に熱風を螺旋状に旋回させて導入される。その構成としては、熱風を旋回させるための旋回部材13が、複数のブレードを有しており、その枚数や角度により、熱風の旋回を制御することができる。このとき、略円錐状の分配部材12により、旋回される熱風の偏りを少なくすることができる。
Hot air for heat-treating the supplied mixture is supplied from the
処理室6内に供給される熱風は、熱風供給手段7の熱風出口部11における温度が100℃以上300℃以下であることが好ましい。熱風供給手段7の熱風出口部11における温度が上記の範囲内であれば、混合物を加熱しすぎることによるコア粒子の融着や合一を防止しつつ、ワックスをコア粒子の表面近傍へ移動させることが可能となり、耐定着巻き付き性性が向上する。さらに好ましくは、ワックスの最大吸熱ピークのピーク温度より20℃以上高い温度であることが好ましい。
It is preferable that the temperature of the hot air supplied into the
さらに、無機酸化物微粒子が熱固着された熱処理コア粒子は冷風供給手段8(8-1、8-2、8-3)から供給される冷風によって冷却される。冷風供給手段8から供給される冷風の温度は-20℃以上30℃以下であることが好ましい。冷風の温度が上記の範囲内であれば、熱処理コア粒子を効率的に冷却することができ、混合物の均一な球形化処理を阻害することなく、熱処理コア粒子の融着や合一を防止することができる。冷風の絶対水分量は、0.5g/m3以上15.0g/m3以下であることが好ましい。 Furthermore, the heat-treated core particles to which the inorganic oxide fine particles are thermally fixed are cooled by cold air supplied from cold air supply means 8 (8-1, 8-2, 8-3). The temperature of the cold air supplied from the cold air supply means 8 is preferably -20°C or higher and 30°C or lower. If the temperature of the cold air is within the above range, the heat-treated core particles can be efficiently cooled, and fusion or coalescence of the heat-treated core particles can be prevented without impeding the uniform spheronization treatment of the mixture. The absolute moisture content of the cold air is preferably 0.5 g/m3 or higher and 15.0 g/m3 or lower.
次に、冷却された熱処理コア粒子は、処理室6の下端にある回収手段10によって回収される。なお、回収手段10の先にはブロワー(不図示)が設けられ、それにより吸引搬送される構成となっている。
Next, the cooled heat-treated core particles are collected by the collection means 10 at the bottom end of the
また、粉体粒子供給口14は、供給された混合物の旋回方向と熱風の旋回方向が同方向になるように設けられており、回収手段10は、旋回された粉体粒子の旋回方向を維持するように、処理室6の外周部に設けられている。さらに、冷風供給手段8から供給される冷風は、装置外周部から処理室6内周面に、水平かつ接線方向から供給されるよう構成されている。粉体粒子供給口14から供給されるトナーの旋回方向、冷風供給手段8から供給された冷風の旋回方向、熱風供給手段7から供給された熱風の旋回方向がすべて同方向である。そのため、処理室6内で乱流が起こらず、装置内の旋回流が強化され、コア粒子に強力な遠心力がかかり、コア粒子の分散性がさらに向上するため、合一粒子の少ない、形状の揃ったコア粒子を得ることができる。
The powder
<有機ケイ素重合体の被覆工程>
次に、得られたコア粒子を本発明の有機ケイ素重合体により被覆し本発明のトナー粒子を得る。
<Organosilicon Polymer Coating Step>
The resulting core particles are then coated with the organosilicon polymer of the present invention to obtain the toner particles of the present invention.
有機ケイ素重合体をコア粒子の表層に含有させる具体的態様について説明するが、本発明はこれらに限定されるわけではない。 Specific examples of how the organosilicon polymer is incorporated into the surface layer of the core particles will be described below, but the present invention is not limited to these examples.
まず、得られたコア粒子を水系媒体中で分散させる。コア粒子の水系媒体中での分散安定剤として以下のものを使用することができる。 First, the obtained core particles are dispersed in an aqueous medium. The following can be used as dispersion stabilizers for the core particles in the aqueous medium.
無機分散安定剤として、リン酸三カルシウム、リン酸マグネシウム、リン酸亜鉛、リン酸アルミニウム、炭酸カルシウム、炭酸マグネシウム、水酸化カルシウム、水酸化マグネシウム、水酸化アルミニウム、メタ珪酸カルシウム、硫酸カルシウム、硫酸バリウム、ベントナイト、シリカ、アルミナが挙げられる。 Inorganic dispersion stabilizers include tricalcium phosphate, magnesium phosphate, zinc phosphate, aluminum phosphate, calcium carbonate, magnesium carbonate, calcium hydroxide, magnesium hydroxide, aluminum hydroxide, calcium metasilicate, calcium sulfate, barium sulfate, bentonite, silica, and alumina.
また、有機系分散安定剤としては、ポリビニルアルコール、ゼラチン、メチルセルロース、メチルヒドロキシプロピルセルロース、エチルセルロース、カルボキシメチルセルロースのナトリウム塩、デンプンが挙げられる。 Organic dispersion stabilizers include polyvinyl alcohol, gelatin, methyl cellulose, methylhydroxypropyl cellulose, ethyl cellulose, sodium salt of carboxymethyl cellulose, and starch.
さらに公知のノニオン系、アニオン系、カチオン系界面活性剤を使用することもできる。 In addition, known nonionic, anionic, and cationic surfactants can also be used.
ノニオン性界面活性剤の具体例としては、ポリオキシエチレンラウリルエーテル、ポリオキシエチレンオレイルエーテル等のポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアルキレンアルキルエーテル等のポリオキシアルキレン誘導体、ソルビタンモノラウレート、ソルビタンモノステアレート等のソルビタン脂肪酸エステル、グリセロールモノステアレート等のグリセリン脂肪酸エステル、ポリエチレングリコールモノラウレート等のポリオキシエチレン脂肪酸エステル等が挙げられる。 Specific examples of nonionic surfactants include polyoxyethylene alkyl ethers such as polyoxyethylene lauryl ether and polyoxyethylene oleyl ether, polyoxyalkylene derivatives such as polyoxyethylene alkylene alkyl ethers, sorbitan fatty acid esters such as sorbitan monolaurate and sorbitan monostearate, glycerin fatty acid esters such as glycerol monostearate, and polyoxyethylene fatty acid esters such as polyethylene glycol monolaurate.
アニオン性界面活性剤の具体例としては、ラウリル硫酸ナトリウム等のアルキル硫酸エステル、ポリオキシエチレンラウリルエーテル硫酸ナトリウム等のポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩や、ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム、アルキルナフタレンスルホン酸ナトリウム等のスルホン酸塩や、ステアリン酸ナトリウム、ラウリン酸ナトリウム等の高級脂肪酸塩等が挙げられる。 Specific examples of anionic surfactants include alkyl sulfates such as sodium lauryl sulfate, polyoxyethylene alkyl ether sulfate salts such as sodium polyoxyethylene lauryl ether sulfate, sulfonates such as sodium dodecylbenzenesulfonate and sodium alkylnaphthalenesulfonate, and higher fatty acid salts such as sodium stearate and sodium laurate.
カチオン性界面活性剤の具体例としては、ドデシルアンモニウムブロマイド、ドデシルトリメチルアンモニウムブロマイド、ドデシルピリジニウムクロライド、ドデシルピリジニウムブロマイド、ヘキサデシルトリメチルアンオニウムブロマイド、ラウリルトリメチルアンモニウムクロライド、アルキルベンジルジメチルアンモニウムクロライド等の第四級アンモニウム塩等が挙げられる。 Specific examples of cationic surfactants include quaternary ammonium salts such as dodecyl ammonium bromide, dodecyl trimethyl ammonium bromide, dodecyl pyridinium chloride, dodecyl pyridinium bromide, hexadecyl trimethyl ammonium bromide, lauryl trimethyl ammonium chloride, and alkyl benzyl dimethyl ammonium chloride.
これらの分散安定剤の中でもノニオン系であると分散がより容易なので好ましい。 Among these dispersion stabilizers, nonionic ones are preferred because they are easier to disperse.
有機ケイ素重合体形成後に分散安定剤を除去しやすいという観点で、無機分散安定剤を用いることが好ましく、さらに難水溶性無機分散安定剤を用いることがさらに好ましい。 From the viewpoint of ease of removal of the dispersion stabilizer after formation of the organosilicon polymer, it is preferable to use an inorganic dispersion stabilizer, and it is even more preferable to use a poorly water-soluble inorganic dispersion stabilizer.
本発明において、難水溶性無機分散安定剤を用い、水系媒体にコア粒子を分散させる場合に、これらの分散安定剤の添加量はコア粒子100.0質量部に対して、0.2質量部以上2.0質量部以下であることが好ましい。また、コア粒子100質量部に対して300質量部以上3,000質量部以下の水を用いてコア粒子分散媒体を調製することが好ましい。 In the present invention, when a poorly water-soluble inorganic dispersion stabilizer is used to disperse core particles in an aqueous medium, the amount of the dispersion stabilizer added is preferably 0.2 parts by mass or more and 2.0 parts by mass or less per 100.0 parts by mass of core particles. In addition, it is preferable to prepare the core particle dispersion medium using water in an amount of 300 parts by mass or more and 3,000 parts by mass or less per 100 parts by mass of core particles.
本発明において、上記のような難水溶性無機分散剤が分散された水系媒体を調製する場合には、市販の分散安定剤をそのまま用いてもよい。また、細かい均一な粒度を有する分散安定剤を得るためには、水のような液媒体中で、高速撹拌下、難水溶性無機分散剤を生成させてもよい。具体的には、リン酸三カルシウムを分散安定剤として使用する場合、高速撹拌下でリン酸ナトリウム水溶液と塩化カルシウム水溶液を混合してリン酸三カルシウムの微粒子を形成することで、好ましい分散安定剤を得ることができる。さらには、リン酸三カルシウムの分散安定剤を用いることが、有機ケイ素重合体の被覆層の形状安定性・製造安定性の観点から好ましい。この理由は、リン酸三カルシウムの結晶構造に由来する。リン酸三カルシウムは、カルシウムイオンを中心に、リン酸イオンが周辺に配列する六方晶の結晶構造を組む。そのため、コア粒子表面には、カルシウムイオンが水系媒体に配向しやすくなり、水系媒体中の有機ケイ素化合物の加水分解した部分であるシラノール基と電気的吸引力が高まり、有機ケイ素重合体の被覆層を形成しやすくなる。 In the present invention, when preparing an aqueous medium in which the above-mentioned poorly water-soluble inorganic dispersant is dispersed, a commercially available dispersion stabilizer may be used as is. In addition, in order to obtain a dispersion stabilizer having a fine and uniform particle size, the poorly water-soluble inorganic dispersant may be produced in a liquid medium such as water under high-speed stirring. Specifically, when tricalcium phosphate is used as the dispersion stabilizer, a preferred dispersion stabilizer can be obtained by mixing an aqueous sodium phosphate solution and an aqueous calcium chloride solution under high-speed stirring to form fine particles of tricalcium phosphate. Furthermore, the use of a tricalcium phosphate dispersion stabilizer is preferable from the viewpoint of the shape stability and manufacturing stability of the coating layer of the organosilicon polymer. The reason for this is due to the crystal structure of tricalcium phosphate. Tricalcium phosphate forms a hexagonal crystal structure in which calcium ions are arranged around calcium ions. Therefore, calcium ions are more likely to be oriented in the aqueous medium on the surface of the core particles, and the electrical attraction with the silanol groups, which are the hydrolyzed parts of the organosilicon compound in the aqueous medium, is increased, making it easier to form a coating layer of the organosilicon polymer.
縮合工程のpHは、任意の条件で行うことができるが、有機ケイ素化合物の縮合は、水系媒体のpHに影響する。そのため、水系媒体のpHを制御することで、本発明の効果をより高めることが可能である。 The pH of the condensation process can be set under any conditions, but the condensation of the organosilicon compound affects the pH of the aqueous medium. Therefore, the effects of the present invention can be further enhanced by controlling the pH of the aqueous medium.
酸性条件下では、アルコキシ基の加水分解はプロトンを触媒として求電子的に進むため、分子内のアルコキシ基の加水分解は逐次的に進行する。よって、シラノール基が有機ケイ素化合物の縮合体中に残りやすく、疎水化が進みにくい。また、3次元的な縮合反応が起こりにくく、分子量も上がりにくい。一方、塩基性条件下では、アルコキシ基の加水分解は水酸化物イオンを触媒として求核的に進むため、分子内のアルコキシ基の加水分解は一斉に進行する。よって、シラノール基が有機ケイ素化合物の縮合体中に残りにくく、疎水化が進みやすい。また、3次元的な縮合反応が起こりやすく、分子量が上がりやすい。その結果、水系媒体中で大きな有機ケイ素重合体粒子を形成することができる。 Under acidic conditions, the hydrolysis of alkoxy groups proceeds electrophilically with protons as a catalyst, so the hydrolysis of alkoxy groups in the molecule proceeds sequentially. Therefore, silanol groups tend to remain in the condensation product of the organosilicon compound, and hydrophobization does not proceed easily. In addition, three-dimensional condensation reactions do not occur easily, and the molecular weight does not increase easily. On the other hand, under basic conditions, the hydrolysis of alkoxy groups proceeds nucleophilically with hydroxide ions as a catalyst, so the hydrolysis of alkoxy groups in the molecule proceeds simultaneously. Therefore, silanol groups tend to remain in the condensation product of the organosilicon compound, and hydrophobization proceeds easily. In addition, three-dimensional condensation reactions tend to occur easily, and the molecular weight increases easily. As a result, large organosilicon polymer particles can be formed in an aqueous medium.
そして、有機ケイ素重合体の疎水性が高くなると、水系媒体中での安定性が低くなり、コア粒子に移行しやすくなる。その結果、得られたトナー粒子の表面は凹凸が形成できるため、塩基性条件下で縮合工程を行うことが好ましい。また、塩基性条件下で縮合工程を行う場合、有機ケイ素重合体の分子量が高くなりやすいため、水系媒体に溶解する有機ケイ素化合物の量を低減することが可能となる。よって、排水中の有機ケイ素化合物を減らすことが可能となり、排水処理負荷低減の観点からも好ましい。 As the hydrophobicity of the organosilicon polymer increases, its stability in the aqueous medium decreases and it becomes easier to migrate to the core particles. As a result, the surface of the obtained toner particles can become uneven, so it is preferable to carry out the condensation process under basic conditions. In addition, when the condensation process is carried out under basic conditions, the molecular weight of the organosilicon polymer tends to increase, making it possible to reduce the amount of organosilicon compound dissolved in the aqueous medium. This makes it possible to reduce the amount of organosilicon compound in the wastewater, which is also preferable from the viewpoint of reducing the load on the wastewater treatment process.
具体的には、縮合工程における水系媒体のpHは7.5以上12.0以下が好ましく、8.0以上11.0以下がより好ましい。縮合工程のpHは公知の酸又は塩基で制御することができる。 Specifically, the pH of the aqueous medium in the condensation step is preferably 7.5 to 12.0, more preferably 8.0 to 11.0. The pH of the condensation step can be controlled with a known acid or base.
pHを調整する酸としては、塩酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、過マンガン酸、チオシアン酸、ホスホン酸、リン酸、二リン酸、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸、トリポリリン酸等の無機酸や、アスパラギン酸、、塩酸、硫酸、硝酸、ホウ酸、フッ化水素酸、臭化水素酸、過マンガン酸、チオシアン酸、ホスホン酸、リン酸、二リン酸、ヘキサフルオロリン酸、テトラフルオロホウ酸、トリポリリン酸等の無機酸や、アスパラギン酸、o-アミノ安息香酸、p-アミノ安息香酸、イソニコチン酸、オキサロ酢酸、クエン酸、2-グリセリン酸、グルタミン酸、シアノ酢酸、シュウ酸、トリクロロ酢酸、o-ニトロ安息香酸、ニトロ酢酸、ピクリン酸、ピコリン酸、ピルビン酸、フマル酸、フロオロ酢酸、ブロモ酢酸、o-ブロモ安息香酸、マレイン酸、マロン酸等の有機酸が挙げられる。これらの酸は特段の制限なく用いることができる。また、これらの酸は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。 Examples of the acid for adjusting the pH include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, boric acid, hydrofluoric acid, hydrobromic acid, permanganic acid, thiocyanic acid, phosphonic acid, phosphoric acid, diphosphoric acid, hexafluorophosphoric acid, tetrafluoroboric acid, and tripolyphosphoric acid; inorganic acids such as aspartic acid, hydrochloric acid, sulfuric acid, nitric acid, boric acid, hydrofluoric acid, hydrobromic acid, permanganic acid, thiocyanic acid, phosphonic acid, phosphoric acid, diphosphoric acid, hexafluorophosphoric acid, tetrafluoroboric acid, and tripolyphosphoric acid; and organic acids such as aspartic acid, o-aminobenzoic acid, p-aminobenzoic acid, isonicotinic acid, oxaloacetic acid, citric acid, 2-glyceric acid, glutamic acid, cyanoacetic acid, oxalic acid, trichloroacetic acid, o-nitrobenzoic acid, nitroacetic acid, picric acid, picolinic acid, pyruvic acid, fumaric acid, fluoroacetic acid, bromoacetic acid, o-bromobenzoic acid, maleic acid, and malonic acid. These acids can be used without any particular limitations. Furthermore, these acids may be used alone or in combination of two or more.
pHを調整する塩基としては、リチウム、ナトリウム、カリウム等のアルカリ金属やその水溶液、アルカリ金属塩やその水溶液、カルシウム、マグネシウム等のアルカリ土類金属やその水溶液、アルカリ土類金属塩、アンモニア、尿素を含むアミン類などが挙げられる。より具体的には、例えば、水酸化リチウム水溶液、水酸化ナトリウム水溶液、水酸化カリウム水溶液、水酸化カルシウム水溶液、水酸化マグネシウム水溶液、炭酸リチウム水溶液、炭酸ナトリウム水溶液、炭酸カリウム水溶液、アンモニア水溶液、尿素等が挙げられる。これらの塩基は特段の制限なく用いることができる。また、これらの塩基は、1種を単独で用いてもよいし、2種以上を組み合わせてもよい。 Examples of bases for adjusting the pH include alkali metals such as lithium, sodium, and potassium, and their aqueous solutions, alkali metal salts and their aqueous solutions, alkaline earth metals such as calcium and magnesium, and their aqueous solutions, alkaline earth metal salts, ammonia, and amines including urea. More specifically, examples include an aqueous solution of lithium hydroxide, an aqueous solution of sodium hydroxide, an aqueous solution of potassium hydroxide, an aqueous solution of calcium hydroxide, an aqueous solution of magnesium hydroxide, an aqueous solution of lithium carbonate, an aqueous solution of sodium carbonate, an aqueous solution of potassium carbonate, an aqueous solution of ammonia, and urea. These bases can be used without any particular restrictions. Furthermore, these bases may be used alone or in combination of two or more.
さらに、必要に応じて、トナー粒子の表面に無機微粒子などの外添剤が外添処理される。外添処理する方法としては、トナー粒子と公知の各種外添剤を所定量配合し、ダブルコン・ミキサー、V型ミキサー、ドラム型ミキサー、スーパーミキサー、ヘンシェルミキサー、ナウタミキサ、メカノハイブリッド(日本コークス工業株式会社製)、ノビルタ(ホソカワミクロン株式会社製)等の混合装置を用いて、撹拌・混合する方法が挙げられる。 If necessary, the surface of the toner particles may be treated with external additives such as inorganic fine particles. Methods for external treatment include blending the toner particles with a predetermined amount of various known external additives, and stirring and mixing them using a mixing device such as a double con mixer, V-type mixer, drum mixer, super mixer, Henschel mixer, Nauta mixer, Mechano Hybrid (manufactured by Nippon Coke & Engineering Co., Ltd.), or Nobilta (manufactured by Hosokawa Micron Corporation).
トナー及び原材料の各種物性の測定法について以下に説明する。 The methods for measuring various physical properties of toner and raw materials are explained below.
<コア粒子中のQi、Qhの測定方法>
コア粒子中のQi、Qhは、DSC Q1000(TA Instruments社製)を使用して以下の条件にて測定を行う。
昇温速度:10℃/min
測定開始温度:20℃
測定終了温度:180℃
装置検出部の温度補正はインジウムと亜鉛の融点を用い、熱量の補正についてはインジウムの融解熱を用いる。
<Method for measuring Qi and Qh in core particles>
Qi and Qh in the core particles are measured under the following conditions using a DSC Q1000 (manufactured by TA Instruments).
Heating rate: 10° C./min
Measurement start temperature: 20℃
Measurement end temperature: 180°C
The melting points of indium and zinc are used to correct the temperature of the detector, and the heat of fusion of indium is used to correct the amount of heat.
具体的には、試料約5mgを精秤し、アルミニウム製のパンの中に入れ、示差走査熱量測定を行う。リファレンスとしてはアルミニウム製の空パンを用いる。
測定により得られたワックスに由来する吸熱ピークの積分値(J/g)から吸熱量Qiを求めることができる。
Specifically, about 5 mg of a sample is precisely weighed and placed in an aluminum pan, and differential scanning calorimetry is performed, using an empty aluminum pan as a reference.
The endothermic heat amount Qi can be calculated from the integral value (J/g) of the endothermic peak derived from the wax obtained by the measurement.
ワックスに由来する吸熱ピークが他の原材料(たとえば結晶性樹脂)の吸熱ピークと重なっていない場合には、得られた吸熱ピークの吸熱量をそのままワックスに由来する最大吸熱ピークの吸熱量として扱う。ワックスの吸熱ピークが他の原材料(たとえば結晶性樹脂)吸熱ピークと重なっている場合は、得られた吸熱ピークの吸熱量から他の原材料に由来する吸熱量を差し引く必要がある。 If the endothermic peak derived from the wax does not overlap with the endothermic peak of other raw materials (e.g. crystalline resin), the endothermic amount of the obtained endothermic peak is treated as the endothermic amount of the maximum endothermic peak derived from the wax. If the endothermic peak of the wax overlaps with the endothermic peak of other raw materials (e.g. crystalline resin), it is necessary to subtract the endothermic amount of the other raw materials from the endothermic amount of the obtained endothermic peak.
他の原材料に由来する吸熱量は、以下のようにして求めることができる。コア粒子をヘキサン溶媒でソックスレー抽出することでコア粒子中のワックスをヘキサンに溶解させる。ヘキサンを抽出した残りのトナー粒子について同様にDSC測定を行い吸熱ピークの吸熱量を測定することで求めることができる。 The amount of heat absorbed from other raw materials can be determined as follows. The core particles are subjected to Soxhlet extraction with hexane solvent to dissolve the wax in the core particles in hexane. The remaining toner particles after hexane extraction are subjected to similar DSC measurement to measure the amount of heat absorbed at the endothermic peak.
Qhはコア粒子をヘキサン処理したのちにDSC測定することで求める。コア粒子100mgを秤量し、ヘキサン30mLを添加する。5秒間振とうさせたのちに吸引ろ過し、フィルター上のヘキサン処理粒子を減圧下で2時間乾燥させたのちに回収し、同様にDSC測定を行う。このようにして得られたワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQh(J/g)とする。 Qh is determined by treating the core particles with hexane and then performing DSC measurement. 100 mg of core particles are weighed out and 30 mL of hexane is added. After shaking for 5 seconds, the mixture is filtered by suction, and the hexane-treated particles on the filter are dried under reduced pressure for 2 hours and then collected, and similarly subjected to DSC measurement. The endothermic amount of the endothermic peak derived from the wax obtained in this manner is designated as Qh (J/g).
本発明のコア粒子のように熱風処理を行い表面近傍にワックスが多く存在するコア粒子の場合、表面の疎水性が高くヘキサン添加時にコア粒子がヘキサン中に分散しやすい。一方、水系媒体中で重合または凝集させて形成されたコア粒子や、粉砕法であっても熱風処理がないか不十分なコア粒子はヘキサンへの濡れ性が極めて低いためヘキサン中でコア粒子が分散せず凝集してしまうことがある。その場合、凝集してしまったコア粒子を吸引ろ過により回収したのちにDSC測定によりQhを求める。 In the case of core particles in which hot air treatment has been performed and a large amount of wax exists near the surface, like the core particles of the present invention, the surface is highly hydrophobic and the core particles are easily dispersed in hexane when hexane is added. On the other hand, core particles formed by polymerization or aggregation in an aqueous medium, or core particles formed by a pulverization method that have not been subjected to hot air treatment or that have not been subjected to sufficient hot air treatment, have extremely low wettability with hexane and may not disperse in hexane and may end up agglomerating. In such cases, the aggregated core particles are recovered by suction filtration and then Qh is determined by DSC measurement.
このようにして求めたQiとQhからQi-Qh、(Qi-Qh)/Qiを算出する。
なお、トナー粒子に対しても、上記と同様の方法によってQi-Qh、(Qi-Qh)/Qiを求めることができる。
From the Qi and Qh thus determined, Qi-Qh and (Qi-Qh)/Qi are calculated.
For toner particles, Qi-Qh and (Qi-Qh)/Qi can be obtained in the same manner as above.
<式(T3)で表される部分構造の確認方法>
トナー粒子に含有される有機ケイ素重合体における、式(T3)で表される部分構造の確認には以下の方法を用いる。
<Method of confirming the partial structure represented by formula (T3)>
The partial structure represented by formula (T3) in the organosilicon polymer contained in the toner particles is confirmed by the following method.
式(T3)のRで表されるアルキル基、フェニル基、アルキルアミノ基の有無は、13C-NMRにより確認した。また、式(T3)の詳細な構造は1H-NMR、13C-NMR及び29Si-NMRにより確認した。使用した装置及び測定条件を以下に示す。 The presence or absence of an alkyl group, a phenyl group, or an alkylamino group represented by R in formula (T3) was confirmed by 13 C-NMR. The detailed structure of formula (T3) was confirmed by 1 H-NMR, 13 C-NMR, and 29 Si-NMR. The apparatus and measurement conditions used are shown below.
(測定条件)
装置:BRUKER製 AVANCE III 500
プローブ:4mm MAS BB/1H
測定温度:室温
試料回転数:6kHz
試料:測定試料(NMR測定用のトナー粒子のTHF不溶分)150mgを直径4mm
のサンプルチューブに入れた。
(Measurement conditions)
Equipment: AVANCE III 500 made by BRUKER
Probe: 4mm MAS BB/1H
Measurement temperature: room temperature Sample rotation speed: 6 kHz
Sample: 150 mg of a measurement sample (THF insoluble portion of toner particles for NMR measurement) was placed on a 4 mm
was placed in a sample tube.
当該方法にて、式(T3)のRで表されるアルキル基、フェニル基、アルキルアミノ基の有無を確認した。シグナルが確認できたら、式(T3)の構造は“あり”とした。 Using this method, the presence or absence of an alkyl group, phenyl group, or alkylamino group represented by R in formula (T3) was confirmed. If a signal was confirmed, the structure of formula (T3) was deemed to be "present."
(13C-NMR(固体)の測定条件)
測定核周波数:125.77MHz
基準物質:Glycine(外部標準:176.03ppm)
観測幅:37.88kHz
測定法:CP/MAS
コンタクト時間:1.75ms
繰り返し時間:4s
積算回数:2048回
LB値:50Hz
( 13C -NMR (solid) measurement conditions)
Measured nuclear frequency: 125.77MHz
Reference substance: Glycine (external standard: 176.03ppm)
Observation width: 37.88kHz
Measurement method: CP/MAS
Contact time: 1.75 ms
Repeat time: 4s
Number of times of integration: 2048 times LB value: 50 Hz
(29Si-NMR(固体)の測定方法)
(測定条件)
装置:BRUKER製 AVANCE III 500
プローブ:4mm MAS BB/1H
測定温度:室温
試料回転数:6kHz
試料:測定試料(NMR測定用のトナー粒子のTHF不溶分)150mgを直径4mm
のサンプルチューブに入れる。
測定核周波数:99.36MHz
基準物質:DSS(外部標準:1.534ppm)
観測幅:29.76kHz
測定法:DD/MAS、CP/MAS
29Si 90° パルス幅:4.00μs@-1dB
コンタクト時間:1.75ms~10ms
繰り返し時間:30s(DD/MAS)、10s(CP/MAS)
積算回数:2048回
LB値:50Hz
(Method of measuring 29Si -NMR (solid))
(Measurement conditions)
Equipment: AVANCE III 500 made by BRUKER
Probe: 4mm MAS BB/1H
Measurement temperature: room temperature Sample rotation speed: 6 kHz
Sample: 150 mg of a measurement sample (THF insoluble portion of toner particles for NMR measurement) was placed on a 4 mm
Place in a sample tube.
Measurement nuclear frequency: 99.36MHz
Reference substance: DSS (external standard: 1.534ppm)
Observation width: 29.76kHz
Measurement method: DD/MAS, CP/MAS
29Si 90° Pulse width: 4.00μs @ -1dB
Contact time: 1.75ms to 10ms
Repeat time: 30s (DD/MAS), 10s (CP/MAS)
Number of times of integration: 2048 times LB value: 50 Hz
<トナー粒子に含有される有機ケイ素重合体における、式(T3)で表される部分構造(T3構造)及びケイ素に結合するO1/2の数が2.0である構造(SX2構造)の割合の算出方法>
<T3構造、X1構造、X2構造、X3構造、X4構造の確認及び定量方法>
T3、X1、X2、X3及びX4の部分構造は、1H-NMR、13C-NMR及び29Si-NMRにより確認できる。
<Method of calculating the proportion of the partial structure represented by formula (T3) (T3 structure) and the structure in which the number of O 1/2 bonded to silicon is 2.0 (SX2 structure) in the organosilicon polymer contained in the toner particles>
<Methods for confirming and quantifying T3 structure, X1 structure, X2 structure, X3 structure, and X4 structure>
The partial structures of T3, X1, X2, X3 and X4 can be confirmed by 1 H-NMR, 13 C-NMR and 29 Si-NMR.
トナー粒子のTHF不溶分の29Si-NMR測定後に、トナー粒子における置換基及び結合基の異なる複数のシラン成分をカーブフィティングにて、下記一般式(X4)で示されるケイ素に結合するO1/2の数が4.0であるX4構造、下記一般式(X3)で示されるケイ素に結合するO1/2の数が3.0であるX3構造、下記式(X2)で示されるケイ素に結合するO1/2の数が2.0であるX2構造、下記式(X1)で示されるケイ素に結合するO1/2の数が1.0であるX1構造、式(T3)で表わされるT単位構造にピーク分離して、各ピークの面積比から各成分のモル%を算出する。 After measuring the THF-insoluble portion of the toner particles by 29Si -NMR, a plurality of silane components having different substituents and bonding groups in the toner particles are subjected to curve fitting to separate peaks into an X4 structure represented by the following general formula (X4) in which the number of O 1/2 bonded to silicon is 4.0, an X3 structure represented by the following general formula (X3) in which the number of O 1/2 bonded to silicon is 3.0, an X2 structure represented by the following formula (X2) in which the number of O 1/2 bonded to silicon is 2.0, an X1 structure represented by the following formula (X1) in which the number of O 1/2 bonded to silicon is 1.0, and a T unit structure represented by formula (T3), and the mol % of each component is calculated from the area ratio of each peak.
カーブフィティングは日本電子(株)製のJNM-EX400用ソフトのEXcalibur for Windows(商品名) version 4.2(EX series)を用いる。メニューアイコンから「1D Pro」をクリックして測定データを読み込む。次に、メニューバーの「Command」から「Curve fitting function」を選択し、カーブフィティングを行う。その一例を図2に示す。合成ピーク(b)と測定結果(d)の差分である合成ピーク差分(a)のピークが最も小さくなるようにピーク分割を行う。 Curve fitting is performed using EXcalibur for Windows (product name) version 4.2 (EX series), software for the JNM-EX400 manufactured by JEOL Ltd. Click on "1D Pro" from the menu icon to load the measurement data. Next, select "Curve fitting function" from "Command" on the menu bar to perform curve fitting. An example is shown in Figure 2. Peak division is performed so that the peak of the composite peak difference (a), which is the difference between the composite peak (b) and the measurement result (d), is the smallest.
X1構造の面積、X2構造の面積、X3構造の面積、X4構造の面積を求めて以下の式によりSX1、SX2、SX3、SX4を求める。 Calculate the area of the X1 structure, the area of the X2 structure, the area of the X3 structure, and the area of the X4 structure, and use the following formula to calculate SX1, SX2, SX3, and SX4.
本発明では化学シフト値でシランモノマーを特定して、トナー粒子の29Si-NMRの測定において全ピーク面積からモノマー成分を取り除いたX1構造の面積とX2構造の面積とX3構造の面積とX4構造の面積の合計を有機ケイ素重合体の全ピーク面積とした。
SX1+SX2+SX3+SX4=1.00
SX1={X1構造の面積/(X1構造の面積+X2構造の面積+X3構造の面積+X4構造の面積)}
SX2={X2構造の面積/(X1構造の面積+X2構造の面積+X3構造の面積+X4構造の面積)}
SX3={X3構造の面積/(X1構造の面積+X2構造の面積+X3構造の面積+X4構造の面積)}
SX4={X4構造の面積/(X1構造の面積+X2構造の面積+X3構造の面積+X4構造の面積)}
ST3={T3構造の面積/(X1構造の面積+X2構造の面積+X3構造の面積+X4構造の面積)}
In the present invention, the silane monomer is identified by its chemical shift value, and the total peak area of the organosilicon polymer is determined as the sum of the areas of the X1 structure, the X2 structure, the X3 structure and the X4 structure, obtained by removing the monomer components from the total peak area in the 29Si-NMR measurement of the toner particles.
SX1+SX2+SX3+SX4=1.00
SX1={area of X1 structure/(area of X1 structure+area of X2 structure+area of X3 structure+area of X4 structure)}
SX2={area of X2 structure/(area of X1 structure+area of X2 structure+area of X3 structure+area of X4 structure)}
SX3={area of X3 structure/(area of X1 structure+area of X2 structure+area of X3 structure+area of X4 structure)}
SX4 = {area of X4 structure / (area of X1 structure + area of X2 structure + area of X3 structure + area of X4 structure)}
ST3 = {area of T3 structure/(area of X1 structure+area of X2 structure+area of X3 structure+area of X4 structure)}
X1構造、X2構造、X3構造及びX4構造におけるケイ素の化学シフト値を以下に示す。
X1構造の一例(Ri=Rj=-OC2H5、Rk=-CH3):-47ppm
X2構造の一例(Rg=-OC2H5、Rh=-CH3):-56ppm
X3構造の一例(Rf=-CH3):-65ppm
The chemical shift values of silicon in the X1, X2, X3 and X4 structures are shown below.
An example of X1 structure (Ri=Rj=-OC 2 H 5 , Rk=-CH 3 ): -47 ppm
An example of X2 structure (Rg=-OC 2 H 5 , Rh=-CH 3 ): -56 ppm
An example of X3 structure (Rf=-CH 3 ): -65 ppm
また、X4構造がある場合のケイ素の化学シフト値を以下に示す。
X4構造:-108ppm
Furthermore, the chemical shift values of silicon in the case where the X4 structure is present are shown below.
X4 structure: -108ppm
<トナー粒子に含有される有機ケイ素重合体の分離方法>
トナー粒子から有機ケイ素重合体のTHF不溶分を得るためには、まず、強酸でトナー粒子を溶出させ、有機ケイ素重合体を残存・乾固させたのちに、THFを添加し、THF不溶分を得る。
<Method for separating organosilicon polymer contained in toner particles>
To obtain the THF-insoluble organosilicon polymer from the toner particles, the toner particles are first eluted with a strong acid, and the remaining organosilicon polymer is dried and solidified, after which THF is added to obtain the THF-insoluble fraction.
<トナー粒子表面に存在するケイ素元素の濃度の測定方法>
本発明におけるトナー粒子表面に存在する炭素元素濃度dC、酸素元素濃度dO、ケイ素元素濃度dSiの合計濃度(dC+dO+dSi)に対するケイ素元素の濃度(atomic%は、ESCA(X線光電子分光分析)により表面組成分析を行い算出した。
<Method for measuring concentration of silicon element present on toner particle surface>
In the present invention, the silicon element concentration (atomic %) relative to the total concentration (dC+dO+dSi) of the carbon element concentration dC, the oxygen element concentration dO, and the silicon element concentration dSi present on the toner particle surface was calculated by performing a surface composition analysis by ESCA (X-ray photoelectron spectroscopy analysis).
本発明では、ESCAの装置および測定条件は、下記の通りである。
使用装置:ULVAC-PHI社製 Quantum2000
X線光電子分光装置測定条件: X線源 Al Kα
X線:100μm 25W 15kV
ラスター:300μm×200μm
PassEnergy:58.70eV StepSize:0.125eV
中和電子銃:20μA、1V Arイオン銃:7mA、10V
Sweep数:Si 15回、C 10回、O 5回
In the present invention, the ESCA apparatus and measurement conditions are as follows.
Equipment used: ULVAC-PHI Quantum 2000
X-ray photoelectron spectrometer measurement conditions: X-ray source Al Kα
X-ray: 100μm 25W 15kV
Raster: 300μm x 200μm
PassEnergy: 58.70eV StepSize: 0.125eV
Neutralization electron gun: 20 μA, 1 V Ar ion gun: 7 mA, 10 V
Sweep number: Si 15 times,
本発明では、測定された各元素のピーク強度から、PHI社提供の相対感度因子を用いて表面原子濃度(原子%)を算出した。 In the present invention, the surface atomic concentration (atomic %) was calculated from the measured peak intensity of each element using the relative sensitivity factor provided by PHI.
<無機微粉子の一次粒子の個数平均径の測定方法>
無機微粒子の一次粒子の個数平均径の測定は、日立超高分解能電界放出形走査型電子顕微鏡(FE-SEM)S-4800((株)日立ハイテクノロジーズ)を用いて行う。
<Method for measuring number average diameter of primary particles of inorganic fine powder>
The number average diameter of the primary particles of the inorganic fine particles is measured using a Hitachi ultra-high resolution field emission scanning electron microscope (FE-SEM) S-4800 (Hitachi High-Technologies Corporation).
測定は、無機微粒子を混合した後のトナーについて行う。 Measurements are performed on the toner after inorganic fine particles have been mixed in.
撮影倍率は5万倍とし、撮影された写真をさらに2倍に引き伸ばした後、得られたFE-SEM写真像から、無機微粒子の最大径(長軸径)aと最小径(短軸径)bを測定して、(a+b)/2を当該粒子の粒径とする。ランダムに選択した100個の無機微粒子について粒径を計測し算術平均を求め、無機微粉末の一次粒子の個数平均径とする。 The photograph is taken at a magnification of 50,000 times, and the photograph is then enlarged by a factor of two. From the resulting FE-SEM photograph, the maximum diameter (long axis diameter) a and the minimum diameter (short axis diameter) b of the inorganic microparticles are measured, and (a + b) / 2 is taken as the particle diameter of the particle. The particle diameters of 100 randomly selected inorganic microparticles are measured and the arithmetic average is calculated, which is taken as the number-average diameter of the primary particles of the inorganic micropowder.
<無機酸化物微粒子の被覆率の測定方法>
無機酸化物微粒子の被覆率は、日立超高分解能電界放出形走査電子顕微鏡(FE-SEM;S-4800、(株)日立ハイテクノロジーズ)にて撮影されたトナー粒子の表面画像を、画像解析ソフト(Image-Pro Plus ver.5.0、(株)日本ローパー)により解析して算出する。
<Method of measuring coverage of inorganic oxide fine particles>
The coverage rate of the inorganic oxide fine particles is calculated by analyzing a surface image of the toner particles taken with a Hitachi ultra-high resolution field emission scanning electron microscope (FE-SEM; S-4800, Hitachi High-Technologies Corporation) using image analysis software (Image-Pro Plus ver. 5.0, Nippon Roper Co., Ltd.).
トナーのコア粒子表面に存在する無機酸化物微粒子を上記SEM装置にて観察する。 The inorganic oxide particles present on the surface of the toner core particles are observed using the SEM device.
観察する際はなるべくコア粒子表面が平坦であるような箇所を選ぶことにする。 When making observations, it is best to choose a location where the surface of the core particle is as flat as possible.
コア粒子表面において無機酸化物微粒子のみを抽出した画像について二値化を行い、コア粒子表面の面積に対する無機酸化物微粒子の占める面積の割合として算出する。同様の操作を10個のコア粒子に対して行い、それらの相加平均値を求める。 The image in which only the inorganic oxide microparticles are extracted from the core particle surface is binarized, and the ratio of the area occupied by the inorganic oxide microparticles to the area of the core particle surface is calculated. The same operation is performed for 10 core particles, and the arithmetic mean value is calculated.
<樹脂のTHF可溶分の分子量測定>
樹脂のTHF可溶分の重量平均分子量(Mw)は、ゲルパーミエーションクロマトグラフィー(GPC)により、以下のようにして測定する。
<Measurement of molecular weight of THF-soluble portion of resin>
The weight average molecular weight (Mw) of the THF-soluble portion of the resin is measured by gel permeation chromatography (GPC) as follows.
まず、室温で24時間かけて、試料をテトラヒドロフラン(THF)に溶解する。そして、得られた溶液を、ポア径が0.2μmの耐溶剤性メンブランフィルター「マイショリディスク」(東ソー社製)で濾過してサンプル溶液を得る。なお、サンプル溶液は、THFに可溶な成分の濃度が約0.8質量%となるように調整する。このサンプル溶液を用いて、以下の条件で測定する。
装置:HLC8120 GPC(検出器:RI)(東ソー社製)
カラム:Shodex KF-801、802、803、804、805、806、807の7連(昭和電工社製)
溶離液:テトラヒドロフラン(THF)
流速:1.0ml/min
オーブン温度:40.0℃
試料注入量:0.10ml
First, a sample is dissolved in tetrahydrofuran (THF) at room temperature for 24 hours. The resulting solution is then filtered through a solvent-resistant membrane filter "Myshoridisc" (manufactured by Tosoh Corporation) with a pore size of 0.2 μm to obtain a sample solution. The sample solution is adjusted so that the concentration of components soluble in THF is about 0.8 mass%. This sample solution is used to perform measurements under the following conditions.
Apparatus: HLC8120 GPC (detector: RI) (manufactured by Tosoh Corporation)
Column: 7 columns of Shodex KF-801, 802, 803, 804, 805, 806, and 807 (manufactured by Showa Denko K.K.)
Eluent: tetrahydrofuran (THF)
Flow rate: 1.0ml/min
Oven temperature: 40.0°C
Sample injection volume: 0.10 ml
試料の分子量の算出にあたっては、標準ポリスチレン樹脂(例えば、商品名「TSKスタンダード ポリスチレン F-850、F-450、F-288、F-128、F-80、F-40、F-20、F-10、F-4、F-2、F-1、A-5000、A-2500、A-1000、A-500」、東ソー社製)を用いて作成した分子量校正曲線を使用する。 When calculating the molecular weight of the sample, a molecular weight calibration curve is used that is created using standard polystyrene resins (e.g., trade names "TSK Standard Polystyrene F-850, F-450, F-288, F-128, F-80, F-40, F-20, F-10, F-4, F-2, F-1, A-5000, A-2500, A-1000, A-500" manufactured by Tosoh Corporation).
<結着樹脂の軟化点Tmの測定方法>
結着樹脂の軟化点の測定は、定荷重押し出し方式の細管式レオメータ「流動特性評価装置 フローテスターCFT-500D」(島津製作所社製)を用い、装置付属のマニュアルに従って行う。本装置では、測定試料の上部からピストンによって一定荷重を加えつつ、シリンダに充填した測定試料を昇温させて溶融し、シリンダ底部のダイから溶融された測定試料を押し出し、この際のピストン降下量と温度との関係を示す流動曲線を得ることができる。
<Method of measuring softening point Tm of binder resin>
The softening point of the binder resin is measured using a constant load extrusion type capillary rheometer "Flow characteristic evaluation device Flow Tester CFT-500D" (manufactured by Shimadzu Corporation) in accordance with the manual that comes with the device. With this device, a constant load is applied from above the measurement sample by a piston, while the measurement sample filled in a cylinder is heated and melted, and the molten measurement sample is extruded from a die at the bottom of the cylinder, and a flow curve showing the relationship between the piston descent amount and temperature at this time can be obtained.
また、「流動特性評価装置 フローテスターCFT-500D」に付属のマニュアルに記載の「1/2法における溶融温度」を軟化点とする。なお、1/2法における溶融温度とは、次のようにして算出されたものである。まず、流出が終了した時点におけるピストンの降下量Smaxと、流出が開始した時点におけるピストンの降下量Sminとの差の1/2を求める(これをXとする。X=(Smax-Smin)/2)。そして、流動曲線においてピストンの降下量がXとなるときの流動曲線の温度が、1/2法における溶融温度である。 The softening point is the "melting temperature in the 1/2 method" described in the manual that comes with the "Flow characteristic evaluation device Flow Tester CFT-500D." The melting temperature in the 1/2 method is calculated as follows. First, find 1/2 of the difference between the amount of piston descent Smax at the time the outflow ends and the amount of piston descent Smin at the time the outflow starts (this is called X. X = (Smax - Smin) / 2). Then, the temperature of the flow curve when the amount of piston descent on the flow curve is X is the melting temperature in the 1/2 method.
測定試料は、約1.0gの樹脂を、25℃の環境下で、錠剤成型圧縮機(例えば、NT-100H、エヌピーエーシステム社製)を用いて約10MPaで、約60秒間圧縮成型し、直径約8mmの円柱状としたものを用いる。 The measurement sample is made by compressing approximately 1.0 g of resin at approximately 10 MPa for approximately 60 seconds using a tablet compression machine (e.g., NT-100H, manufactured by NPA Systems) in an environment of 25°C, and forming it into a cylindrical shape with a diameter of approximately 8 mm.
CFT-500Dの測定条件は、以下の通りである。
試験モード:昇温法
開始温度:50℃
到達温度:200℃
測定間隔:1.0℃
昇温速度:4.0℃/min
ピストン断面積:1.000cm2
試験荷重(ピストン荷重):10.0kgf(0.9807MPa)
予熱時間:300秒
ダイの穴の直径:1.0mm
ダイの長さ:1.0mm
The measurement conditions for CFT-500D are as follows.
Test mode: Heating method Starting temperature: 50°C
Reached temperature: 200°C
Measurement interval: 1.0°C
Heating rate: 4.0° C./min
Piston cross-sectional area: 1.000 cm2
Test load (piston load): 10.0 kgf (0.9807 MPa)
Preheat time: 300 seconds Die hole diameter: 1.0 mm
Die length: 1.0 mm
<酸価の測定方法>
酸価は試料1gに含まれる酸を中和するために必要な水酸化カリウムのmg数である。本発明におけるポリエステル樹脂の酸価はJIS K 0070-1992に準じて測定されるが、具体的には、以下の手順に従って測定する。
<Method of measuring acid value>
The acid value is the number of milligrams of potassium hydroxide required to neutralize the acid contained in 1 g of a sample. The acid value of the polyester resin in the present invention is measured in accordance with JIS K 0070-1992, and specifically, is measured according to the following procedure.
(1)試薬の準備
フェノールフタレイン1.0gをエチルアルコール(95体積%)90mLに溶かし、イオン交換水を加えて100mLとし、フェノールフタレイン溶液を得る。
(1) Preparation of Reagents 1.0 g of phenolphthalein was dissolved in 90 mL of ethyl alcohol (95% by volume), and ion-exchanged water was added to make up to 100 mL to obtain a phenolphthalein solution.
特級水酸化カリウム7gを5mLの水に溶かし、エチルアルコール(95体積%)を加えて1Lとする。炭酸ガス等に触れないように、耐アルカリ性の容器に入れて3日間放置後、ろ過して、水酸化カリウム溶液を得る。得られた水酸化カリウム溶液は、耐アルカリ性の容器に保管する。前記水酸化カリウム溶液のファクターは、0.1モル/L塩酸25mLを三角フラスコに取り、前記フェノールフタレイン溶液を数滴加え、前記水酸化カリウム溶液で滴定し、中和に要した前記水酸化カリウム溶液の量から求める。前記0.1モル/L塩酸は、JIS K 8001-1998に準じて作成されたものを用いる。 Dissolve 7 g of special grade potassium hydroxide in 5 mL of water, and add ethyl alcohol (95% by volume) to make 1 L. Place in an alkali-resistant container to avoid contact with carbon dioxide, etc., leave for 3 days, then filter to obtain potassium hydroxide solution. Store the resulting potassium hydroxide solution in an alkali-resistant container. The factor of the potassium hydroxide solution is determined by placing 25 mL of 0.1 mol/L hydrochloric acid in an Erlenmeyer flask, adding several drops of the phenolphthalein solution, and titrating with the potassium hydroxide solution, from the amount of potassium hydroxide solution required for neutralization. The 0.1 mol/L hydrochloric acid used is prepared in accordance with JIS K 8001-1998.
(2)操作
(A)本試験
粉砕したポリエステル樹脂の試料2.0gを200mLの三角フラスコに精秤し、トルエン/エタノール(2:1)の混合溶液100mLを加え、5時間かけて溶解する。次いで、指示薬として前記フェノールフタレイン溶液を数滴加え、前記水酸化カリウム溶液を用いて滴定する。なお、滴定の終点は、指示薬の薄い紅色が約30秒間続いたときとする。
(B)空試験
試料を用いない(すなわちトルエン/エタノール(2:1)の混合溶液のみとする)以外は、上記操作と同様の滴定を行う。
(2) Procedure (A) Main Test 2.0 g of the crushed polyester resin sample is accurately weighed into a 200 mL Erlenmeyer flask, and 100 mL of a mixed solution of toluene/ethanol (2:1) is added and dissolved over 5 hours. Then, several drops of the phenolphthalein solution are added as an indicator, and titration is performed using the potassium hydroxide solution. The end point of the titration is when the light red color of the indicator continues for about 30 seconds.
(B) Blank Test: A blank test is carried out in the same manner as above, except that no sample is used (i.e., only a mixed solution of toluene/ethanol (2:1) is used).
(3)得られた結果を下記式に代入して、酸価を算出する。
A=[(C-B)×f×5.61]/S
ここで、A:酸価(mgKOH/g)、B:空試験の水酸化カリウム溶液の添加量(mL)、C:本試験の水酸化カリウム溶液の添加量(mL)、f:水酸化カリウム溶液のファクター、S:試料の質量(g)である。
(3) The obtained result is substituted into the following formula to calculate the acid value.
A=[(CB)×f×5.61]/S
Here, A is the acid value (mg KOH/g), B is the amount of potassium hydroxide solution added for the blank test (mL), C is the amount of potassium hydroxide solution added for the main test (mL), f is the factor of the potassium hydroxide solution, and S is the mass of the sample (g).
<無機酸化物粒子及び外添剤(無機微粒子)のBET比表面積の測定>
無機微粒子のBET比表面積の測定は、JIS Z8830(2001年)に準じて行う。具体的な測定方法は、以下の通りである。
<Measurement of BET specific surface area of inorganic oxide particles and external additives (inorganic fine particles)>
The BET specific surface area of the inorganic fine particles is measured in accordance with JIS Z8830 (2001). The specific measurement method is as follows.
測定装置としては、定容法によるガス吸着法を測定方式として採用している「自動比表面積・細孔分布測定装置 TriStar3000(島津製作所社製)」を用いる。測定条件の設定および測定データの解析は、本装置に付属の専用ソフト「TriStar3000 Version4.00」を用いて行う。本装置には真空ポンプ、窒素ガス配管、ヘリウムガス配管が接続される。窒素ガスを吸着ガスとして用い、BET多点法により算出した値を本発明における無機微粒子のBET比表面積とする。 The measurement device used is the "Automatic Specific Surface Area/Porosity Distribution Measurement Device TriStar 3000 (manufactured by Shimadzu Corporation)" which employs the gas adsorption method by the constant volume method as the measurement method. The measurement conditions are set and the measurement data is analyzed using the dedicated software "TriStar 3000 Version 4.00" that comes with this device. A vacuum pump, nitrogen gas piping, and helium gas piping are connected to this device. The value calculated by the BET multipoint method using nitrogen gas as the adsorption gas is regarded as the BET specific surface area of the inorganic microparticles in this invention.
なお、BET比表面積は以下のようにして算出する。 The BET specific surface area is calculated as follows:
まず、無機微粒子に窒素ガスを吸着させ、その時の試料セル内の平衡圧力P(Pa)と外添剤の窒素吸着量Va(モル/g)を測定する。そして、試料セル内の平衡圧力P(Pa)を窒素の飽和蒸気圧Po(Pa)で除した値である相対圧Prを横軸とし、窒素吸着量Va(モル/g)を縦軸とした吸着等温線を得る。次いで、外添剤の表面に単分子層を形成するのに必要な吸着量である単分子層吸着量Vm(モル/g)を、下記のBET式を適用して求める。
Pr/Va(1-Pr)=1/(Vm×C)+(C-1)×Pr/(Vm×C)
First, nitrogen gas is adsorbed onto the inorganic fine particles, and the equilibrium pressure P (Pa) in the sample cell and the nitrogen adsorption amount Va (mol/g) of the external additive are measured. Then, an adsorption isotherm is obtained with the relative pressure Pr, which is the value obtained by dividing the equilibrium pressure P (Pa) in the sample cell by the saturated vapor pressure Po (Pa) of nitrogen, on the horizontal axis and the nitrogen adsorption amount Va (mol/g) on the vertical axis. Next, the monolayer adsorption amount Vm (mol/g), which is the adsorption amount required to form a monolayer on the surface of the external additive, is calculated by applying the following BET formula.
Pr/Va(1-Pr)=1/(Vm×C)+(C-1)×Pr/(Vm×C)
ここで、CはBETパラメーターであり、測定サンプル種、吸着ガス種、吸着温度により変動する変数である。 Here, C is a BET parameter, which is a variable that varies depending on the type of measurement sample, the type of adsorbed gas, and the adsorption temperature.
BET式は、X軸をPr、Y軸をPr/Va(1-Pr)とすると、傾きが(C-1)/(Vm×C)、切片が1/(Vm×C)の直線と解釈できる。この直線をBETプロットという。
直線の傾き=(C-1)/(Vm×C)
直線の切片=1/(Vm×C)
The BET equation can be interpreted as a straight line with a slope of (C-1)/(Vm×C) and an intercept of 1/(Vm×C) when the X-axis is Pr and the Y-axis is Pr/Va(1-Pr). This straight line is called a BET plot.
Slope of the line = (C-1) / (Vm x C)
Line intercept = 1/(Vm x C)
Prの実測値とPr/Va(1-Pr)の実測値をグラフ上にプロットして最小二乗法により直線を引くと、その直線の傾きの値と切片の値が算出できる。これらの値を上記の数式に代入して、得られた連立方程式を解くと、VmとCが算出できる。 If you plot the measured values of Pr and Pr/Va(1-Pr) on a graph and draw a line using the least squares method, you can calculate the slope and intercept of the line. By substituting these values into the above formula and solving the resulting simultaneous equations, you can calculate Vm and C.
さらに、ここで算出したVmと窒素分子の分子占有断面積(0.162nm2)から、下記の式に基づいて、無機微粒子のBET比表面積S(m2/g)を算出する。
S=Vm×N×0.162×10-18
Furthermore, the BET specific surface area S (m 2 /g) of the inorganic fine particles is calculated from the calculated Vm and the molecular occupancy cross-sectional area of the nitrogen molecule (0.162 nm 2 ) according to the following formula:
S=Vm×N×0.162× 10-18
ここで、Nはアボガドロ数(モル-1)である。 where N is Avogadro's number (mol -1 ).
本装置を用いた測定は、装置に付属の「TriStar3000 取扱説明書V4.0」に従うが、具体的には、以下の手順で測定する。 Measurements using this device should be performed in accordance with the "TriStar 3000 Instruction Manual V4.0" that comes with the device, but specifically, the measurements should be performed in the following order:
充分に洗浄、乾燥した専用のガラス製試料セル(ステム直径3/8インチ、容積約5ml)の風袋の質量を精秤する。そして、ロートを使ってこの試料セルの中に約0.1gの外添剤を入れる。
Accurately weigh the mass of a tared sample cell (stem
無機微粒子を入れた該試料セルを真空ポンプと窒素ガス配管を接続した「前処理装置バキュプレップ061(島津製作所社製)」にセットし、23℃にて真空脱気を約10時間継続する。尚なお、真空脱気の際には、無機微粒子が真空ポンプに吸引されないよう、バルブを調整しながら徐々に脱気する。試料セル内の圧力は脱気とともに徐々に下がり、最終的には約0.4Pa(約3ミリトール)となる。真空脱気終了後、試料セル内に窒素ガスを徐々に注入して試料セル内を大気圧に戻し、試料セルを前処理装置から取り外す。そして、この試料セルの質量を精秤し、風袋の質量との差から外添剤の正確な質量を算出する。尚なお、この際に、試料セル内の外添剤が大気中の水分等で汚染されないように、秤量中はゴム栓で試料セルに蓋をしておく。 The sample cell containing the inorganic fine particles is placed in a pretreatment device VacuPrep 061 (Shimadzu Corporation) connected to a vacuum pump and nitrogen gas piping, and vacuum degassing is continued for about 10 hours at 23°C. During vacuum degassing, the valve is adjusted to gradually degas the inorganic fine particles so that they are not sucked into the vacuum pump. The pressure in the sample cell gradually decreases with degassing, and finally reaches about 0.4 Pa (about 3 mTorr). After vacuum degassing is completed, nitrogen gas is gradually injected into the sample cell to return the sample cell to atmospheric pressure, and the sample cell is removed from the pretreatment device. The mass of this sample cell is then precisely weighed, and the exact mass of the external additive is calculated from the difference with the tare mass. During this time, the sample cell is covered with a rubber stopper during weighing to prevent the external additive in the sample cell from being contaminated by moisture in the air.
次に、無機微粒子が入った該試料セルのステム部に専用の「等温ジャケット」を取り付ける。そして、この試料セル内に専用のフィラーロッドを挿入し、本装置の分析ポートに試料セルをセットする。なお、等温ジャケットとは、毛細管現象により液体窒素を一定レベルまで吸い上げることが可能な、内面が多孔性材料、外面が不浸透性材料で構成された筒状の部材である。 Next, a special "isothermal jacket" is attached to the stem of the sample cell containing the inorganic fine particles. A special filler rod is then inserted into the sample cell, and the sample cell is set in the analysis port of the device. The isothermal jacket is a cylindrical component with a porous inner surface and an impermeable outer surface that is capable of drawing up liquid nitrogen to a certain level by capillary action.
続いて、接続器具を含む試料セルのフリースペースの測定を行う。フリースペースは、23℃においてヘリウムガスを用いて試料セルの容積を測定し、続いて液体窒素で試料セルを冷却した後の試料セルの容積を、同様にヘリウムガスを用いて測定して、これらの容積の差から換算して算出する。また、窒素の飽和蒸気圧Po(Pa)は、本装置に内蔵されたPoチューブを使用して、別途に自動で測定される。 Next, the free space of the sample cell including the connecting device is measured. The free space is calculated by measuring the volume of the sample cell at 23°C using helium gas, then measuring the volume of the sample cell after cooling it with liquid nitrogen, also using helium gas, and converting the difference between these volumes. The saturated vapor pressure Po (Pa) of nitrogen is also measured automatically separately using a Po tube built into the device.
次に、試料セル内の真空脱気を行った後、真空脱気を継続しながら試料セルを液体窒素で冷却する。その後、窒素ガスを試料セル内に段階的に導入して無機微粒子に窒素分子を吸着させる。この際、平衡圧力P(Pa)を随時計測することにより前記吸着等温線が得られるので、この吸着等温線をBETプロットに変換する。なお、データを収集する相対圧Prのポイントは、0.05、0.10、0.15、0.20、0.25、0.30の合計6ポイントに設定する。得られた測定データに対して最小二乗法により直線を引き、その直線の傾きと切片からVmを算出する。さらに、このVmの値を用いて、上述したように無機微粒子のBET比表面積を算出する。 Next, the sample cell is evacuated and then cooled with liquid nitrogen while continuing the vacuum evacuation. Nitrogen gas is then gradually introduced into the sample cell to adsorb nitrogen molecules to the inorganic fine particles. At this time, the adsorption isotherm is obtained by measuring the equilibrium pressure P (Pa) at any time, and this adsorption isotherm is converted into a BET plot. The relative pressure Pr points for collecting data are set to 0.05, 0.10, 0.15, 0.20, 0.25, and 0.30, for a total of six points. A straight line is drawn using the least squares method for the obtained measurement data, and Vm is calculated from the slope and intercept of the straight line. Furthermore, this Vm value is used to calculate the BET specific surface area of the inorganic fine particles as described above.
<トナー粒子の重量平均粒径(D4)の測定>
トナー粒子の重量平均粒径(D4)は、100μmのアパーチャーチューブを備えた細孔電気抵抗法による精密粒度分布測定装置「コールター・カウンター Multisizer 3」(登録商標、ベックマン・コールター社製)と、測定条件設定及び測定データ解析をするための付属の専用ソフト「ベックマン・コールター Multisizer 3 Version3.51」(ベックマン・コールター社製)を用いて、実効測定チャンネル数2万5千チャンネルで測定し、測定データの解析を行い、算出する。
<Measurement of weight average particle size (D4) of toner particles>
The weight average particle size (D4) of the toner particles is measured using a precision particle size distribution measuring device by a pore electrical resistance method equipped with a 100 μm aperture tube, “
測定に使用する電解水溶液は、特級塩化ナトリウムを脱イオン水に溶解して濃度が約1質量%となるようにしたもの、例えば、「ISOTON II」(ベックマン・コールター社製)が使用できる。 The aqueous electrolyte solution used for the measurements is prepared by dissolving special grade sodium chloride in deionized water to a concentration of approximately 1% by mass, for example "ISOTON II" (manufactured by Beckman Coulter).
なお、測定、解析を行う前に、以下のように前記専用ソフトの設定を行う。 Before performing measurements and analysis, configure the dedicated software as follows:
前記専用ソフトの「標準測定方法(SOM)を変更画面」において、コントロールモードの総カウント数を50000粒子に設定し、測定回数を1回、Kd値は「標準粒子10.0μm」(ベックマン・コールター社製)を用いて得られた値を設定する。閾値/ノイズレベルの測定ボタンを押すことで、閾値とノイズレベルを自動設定する。また、カレントを1600μAに、ゲインを2に、電解液をISOTON IIに設定し、測定後のアパーチャーチューブのフラッシュにチェックを入れる。 In the "Change Standard Measurement Method (SOM) screen" of the dedicated software, set the total count number in control mode to 50,000 particles, the number of measurements to 1, and the Kd value to the value obtained using "Standard Particle 10.0 μm" (manufactured by Beckman Coulter). Press the threshold/noise level measurement button to automatically set the threshold and noise level. Also, set the current to 1600 μA, the gain to 2, the electrolyte to ISOTON II, and check the aperture tube flush after measurement.
専用ソフトの「パルスから粒径への変換設定画面」において、ビン間隔を対数粒径に、粒径ビンを256粒径ビンに、粒径範囲を2μm以上60μm以下に設定する。 In the dedicated software's "Pulse to particle size conversion setting screen," set the bin interval to logarithmic particle size, the particle size bin to 256 particle size bins, and the particle size range to 2 μm to 60 μm.
具体的な測定法は以下の(1)~(7)の通りである。
(1)Multisizer 3専用のガラス製250ml丸底ビーカーに前記電解水溶液約200mlを入れ、サンプルスタンドにセットし、スターラーロッドの撹拌を反時計回りで24回転/秒にて行う。そして、専用ソフトの「アパーチャーチューブのフラッシュ」機能により、アパーチャーチューブ内の汚れと気泡を除去する。
(2)ガラス製の100ml平底ビーカーに前記電解水溶液約30mlを入れ、この中に分散剤として「コンタミノンN」(非イオン界面活性剤、陰イオン界面活性剤、有機ビルダーからなるpH7の精密測定器洗浄用中性洗剤の10質量%水溶液、和光純薬工業社製)を脱イオン水で3質量倍に希釈した希釈液を約0.3ml加える。
(3)発振周波数50kHzの発振器2個を、位相を180度ずらした状態で内蔵し、電気的出力120Wの超音波分散器「Ultrasonic Dispersion System Tetora150」(日科機バイオス社製)の水槽内に所定量の脱イオン水を入れ、この水槽中に前記コンタミノンNを約2ml添加する。
(4)前記(2)のビーカーを前記超音波分散器のビーカー固定穴にセットし、超音波分散器を作動させる。そして、ビーカー内の電解水溶液の液面の共振状態が最大となるようにビーカーの高さ位置を調整する。
(5)前記(4)のビーカー内の電解水溶液に超音波を照射した状態で、トナー約10mgを少量ずつ前記電解水溶液に添加し、分散させる。そして、さらに60秒間超音波分散処理を継続する。なお、超音波分散にあたっては、水槽の水温が10℃以上40℃以下となる様に適宜調節する。
(6)サンプルスタンド内に設置した前記(1)の丸底ビーカー内に、ピペットを用いてトナーを分散した前記(5)の電解水溶液を滴下し、測定濃度が約5%となるように調整する。そして、測定粒子数が50000個になるまで測定を行う。
(7)測定データを装置付属の前記専用ソフトにて解析を行い、重量平均粒径(D4)を算出する。なお、専用ソフトでグラフ/体積%と設定したときの、分析/体積統計値(算術平均)画面の「平均径」が重量平均粒径(D4)である。
Specific measurement methods are as follows (1) to (7).
(1) Pour about 200 ml of the electrolyte solution into a 250 ml round-bottom glass beaker for use with the
(2) Approximately 30 ml of the aqueous electrolyte solution is placed in a 100 ml flat-bottom glass beaker, and approximately 0.3 ml of a solution prepared by diluting "Contaminon N" (a 10% by weight aqueous solution of a neutral detergent for cleaning precision measuring instruments, consisting of a nonionic surfactant, an anionic surfactant, and an organic builder, having a pH of 7, manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) three times by weight with deionized water is added as a dispersant.
(3) A predetermined amount of deionized water is placed in the water tank of an ultrasonic disperser "Ultrasonic Dispersion System Tetora 150" (manufactured by Nikkaki Bios Co., Ltd.) having two built-in oscillators with an oscillation frequency of 50 kHz and a phase shift of 180 degrees and an electrical output of 120 W, and about 2 ml of the Contaminon N is added to this water tank.
(4) The beaker of (2) is set in the beaker fixing hole of the ultrasonic disperser, and the ultrasonic disperser is operated. Then, the height position of the beaker is adjusted so that the resonance state of the liquid surface of the electrolytic solution in the beaker is maximized.
(5) In a state where the electrolyte solution in the beaker in (4) is irradiated with ultrasonic waves, about 10 mg of toner is added little by little to the electrolyte solution and dispersed. Then, ultrasonic dispersion treatment is continued for another 60 seconds. During ultrasonic dispersion, the water temperature in the water tank is appropriately adjusted so as to be 10°C or higher and 40°C or lower.
(6) In the round-bottom beaker (1) placed in the sample stand, the electrolytic solution (5) in which the toner is dispersed is dropped using a pipette to adjust the measurement concentration to about 5%. Then, measurements are continued until the number of particles measured reaches 50,000.
(7) The measurement data is analyzed using the dedicated software that comes with the device, and the weight-average particle size (D4) is calculated. Note that when the dedicated software is set to Graph/Volume %, the "Average diameter" on the Analysis/Volume Statistics (Arithmetic Mean) screen is the weight-average particle size (D4).
本発明を以下に示す実施例により具体的に説明する。しかし、これらは本発明をなんら限定するものではない。以下の処方の「部」は特に断りがない場合、全て質量基準である。 The present invention will be specifically explained by the following examples. However, these are not intended to limit the present invention in any way. Unless otherwise specified, all "parts" in the following formulations are by weight.
<チタン酸ストロンチウム微粒子の製造例1>
硫酸法で得られたメタチタン酸を脱鉄漂白処理した後、水酸化ナトリウム水溶液を加えpH9.0とし、脱硫処理を行い、その後、塩酸によりpH5.8まで中和し、ろ過水洗を行った。洗浄済みケーキに水を加えTiO2として1.5モル/Lのスラリーとした後、塩酸を加えpH1.5とし解膠処理を行った。
<Production Example 1 of Strontium Titanate Microparticles>
Metatitanic acid obtained by the sulfuric acid method was deironized and bleached, then an aqueous sodium hydroxide solution was added to adjust the pH to 9.0, desulfurized, neutralized to pH 5.8 with hydrochloric acid, filtered, and washed with water. Water was added to the washed cake to make a slurry of 1.5 mol/L in terms of TiO2 , and hydrochloric acid was added to adjust the pH to 1.5, followed by peptization.
脱硫・解膠を行ったメタチタン酸をTiO2として採取し、3Lの反応容器に投入した。該解膠メタチタン酸スラリーに、塩化ストロンチウム水溶液を、SrO/TiO2モル比で1.15となるよう添加した後、TiO2濃度0.8モル/Lに調整した。次に、撹拌混合しながら90℃に加温した後、窒素ガスのマイクロバブリングを600ml/minで行いながら10モル/L水酸化ナトリウム水溶液444mLを45分間かけて添加し、その後、窒素ガスのマイクロバブリングを400ml/minで行いながら95℃で1時間撹拌を行った。 The desulfurized and peptized metatitanic acid was collected as TiO2 and put into a 3L reaction vessel. A strontium chloride aqueous solution was added to the peptized metatitanic acid slurry so that the SrO/TiO2 molar ratio was 1.15, and then the TiO2 concentration was adjusted to 0.8 mol/L. Next, the mixture was heated to 90°C while stirring and mixing, and 444 mL of a 10 mol/L aqueous sodium hydroxide solution was added over 45 minutes while microbubbling nitrogen gas at 600 ml/min, and then stirring was performed at 95°C for 1 hour while microbubbling nitrogen gas at 400 ml/min.
その後、当該反応スラリーを反応容器のジャケットに10℃の冷却水を流しながら撹拌して15℃まで急冷し、pH2.0となるまで塩酸を加え1時間撹拌を続けた。得られた沈殿をデカンテーション洗浄した後、固形分に対して5.0質量%のステアリン酸ナトリウムを、水に溶解させた水溶液として添加して2時間撹拌保持を続けた後、塩酸を加えてpH6.5に調整し、1時間撹拌保持を続け、チタン酸ストロンチウムの表面にステアリン酸を析出させた。 The reaction slurry was then stirred while 10°C cooling water was run through the jacket of the reaction vessel to rapidly cool it to 15°C, hydrochloric acid was added until the pH reached 2.0, and stirring was continued for 1 hour. The resulting precipitate was washed by decantation, and then 5.0% by mass of sodium stearate based on the solid content was dissolved in water as an aqueous solution and added, and stirring was continued for 2 hours. After that, hydrochloric acid was added to adjust the pH to 6.5, and stirring was continued for 1 hour to precipitate stearic acid on the surface of strontium titanate.
次いで、ろ過・洗浄を行い得られたケーキを120℃大気中で10時間したのち、凝集体がなくなるまでジェットミルによる解砕処理を行ない、チタン酸ストロンチウム微粒子(無機微粒子1)を得た。無機微粒子1は粉末X線回折の測定で、チタン酸ストロンチウムの回折ピークを示した。 Then, after filtering and washing, the resulting cake was left in the air at 120°C for 10 hours, and then crushed in a jet mill until no agglomerates remained, yielding strontium titanate microparticles (inorganic microparticles 1). In powder X-ray diffraction measurement, inorganic microparticles 1 showed the diffraction peak of strontium titanate.
<チタン酸ストロンチウム微粒子の製造例2~6>
チタン酸ストロンチウム微粒子の製造例1において10モル/L水酸化ナトリウム水溶液の滴下時間を変更したこと以外は同様にして製造を行い、チタン酸ストロンチウム微粒子(無機微粒子2~6)を得た。物性を表1に示す。
<Production Examples 2 to 6 of Strontium Titanate Microparticles>
Strontium titanate microparticles (
<シリカ微粒子の製造例>
燃焼炉として、内炎と外炎が形成できる二重管構造の炭化水素-酸素混合型バーナーを用いた。バーナー中心部にスラリー噴射用の二流体ノズルが接地され、原料の珪素化合物を導入した。二流体ノズルの周囲から炭化水素-酸素の可燃性ガスを噴射させ、還元雰囲気である内炎及び外炎を形成させた。
<Production Example of Silica Microparticles>
A double-tube hydrocarbon-oxygen mixed burner capable of forming an inner flame and an outer flame was used as the combustion furnace. A two-fluid nozzle for injecting slurry was installed in the center of the burner, and the silicon compound raw material was introduced. Combustible hydrocarbon-oxygen gas was injected from the periphery of the two-fluid nozzle, forming an inner flame and an outer flame that were reducing atmospheres.
可燃性ガスと酸素の量及び流量の制御により、雰囲気と温度、火炎の長さ等を調整した。火炎中において珪素化合物からシリカ微粒子が形成され、さらに所望の粒径になるまで融着させた。その後、冷却後、バグフィルター等により捕集することによってシリカ微粒子を得た。得られたシリカ微粒子100部に、ヘキサメチルジシラザン4部で表面処理を行い、シリカ微粒子(無機微粒子7~10)を得た。物性を表1に示す。
The atmosphere, temperature, flame length, etc. were adjusted by controlling the amount and flow rate of the combustible gas and oxygen. Silica fine particles were formed from the silicon compound in the flame, and were then fused until the desired particle size was reached. After cooling, the particles were collected using a bag filter or the like to obtain silica fine particles. 100 parts of the obtained silica fine particles were surface-treated with 4 parts of hexamethyldisilazane to obtain silica fine particles (inorganic
<酸化チタン微粒子の製造例>
硫酸チタニル水溶液を熱加水分解して得た含水酸化チタンスラリーをアンモニア水によりpH7に中和し、濾過、水洗して得たケーキを、ケーキの酸化チタンを塩酸で解膠し、アナターゼ型チタニアゾルを得た。このゾルの平均一次粒子径は7nmであった。
<Production Example of Titanium Oxide Fine Particles>
The titanium oxide hydrous slurry obtained by thermal hydrolysis of an aqueous solution of titanyl sulfate was neutralized to
また、出発原料としてTiO2相当分を50質量%含有しているイルメナイト鉱石を使用し、この原料を150℃で2時間乾燥させた後、硫酸を添加して溶解させることによって、TiOSO4水溶液を得た。これを濃縮し、TiO2相当分100部に対し、上記アナターゼ型チタニアゾル4.0部をシードとして添加した後、120℃で加水分解を行ない、不純物を含有しているTiO(OH)2のスラリーを得た。 In addition, ilmenite ore containing 50% by mass of TiO2 equivalent was used as a starting material, and this raw material was dried at 150°C for 2 hours, and then sulfuric acid was added to dissolve it, to obtain an aqueous solution of TiOSO4 . This was concentrated, and 4.0 parts of the anatase type titania sol was added as a seed to 100 parts of TiO2 equivalent, and hydrolysis was performed at 120°C to obtain a slurry of TiO(OH) 2 containing impurities.
このスラリーをpH5~6で繰り返し水洗浄を行い、硫酸、FeSO4、不純物を十分に除去した。そして、高純度のメタチタン酸〔TiO(OH)2〕のスラリーを得た。
This slurry was repeatedly washed with water at
該メタチタン酸を270℃で6時間加熱処理した後、十分に解砕処理を行い、BET比表面積50m2/g、個数平均粒径50nmのアナターゼ型結晶の酸化チタン微粒子を得た。 The metatitanic acid was heat-treated at 270° C. for 6 hours and then thoroughly crushed to obtain fine particles of titanium oxide having an anatase crystal structure and a BET specific surface area of 50 m 2 /g and a number-average particle size of 50 nm.
次に、上記のアナターゼ型酸化チタン微粒子に対して5.0質量%のn-オクチルトリエトキシシランを、水に溶解させた水溶液として添加して2時間撹拌保持を続けた後、塩酸を加えてpH6.5に調整し、1時間撹拌保持を続けた。 Next, 5.0% by mass of n-octyltriethoxysilane was dissolved in water and added to the anatase-type titanium oxide fine particles, and the mixture was stirred for 2 hours. Then, hydrochloric acid was added to adjust the pH to 6.5, and the mixture was stirred for 1 hour.
次いで、ろ過・洗浄を行い得られたケーキを120℃大気中で10時間乾燥してチタン微粒子の凝集体がなくなるまでジェットミルによる解砕処理を行ない、酸化チタン微粒子(無機微粒子11)を得た。物性を表1に示す。 Then, after filtration and washing, the resulting cake was dried in air at 120°C for 10 hours and then crushed using a jet mill until no agglomerates of titanium fine particles remained, yielding titanium oxide fine particles (inorganic fine particles 11). The physical properties are shown in Table 1.
<結着樹脂の製造例>
(ポリエステル樹脂の製造例1)
・ポリオキシプロピレン(2.2)-2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン:
59.0部(0.15モル;多価アルコール総モル数に対して80.0mol%)
・ポリオキシエチレン(2.2)-2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン:
13.6部(0.04モル;多価アルコール総モル数に対して20.0mol%)
・テレフタル酸:20.8部(0.13モル;多価カルボン酸総モル数に対して80.0mol%)
・無水トリメリット酸:6.6部(0.03モル;多価カルボン酸総モル数に対して20.0mol%)
冷却管、撹拌機、窒素導入管、及び、熱電対のついた反応槽に、上記材料を投入した。そして、モノマー総量100部に対して、触媒として2-エチルヘキサン酸錫(エステル化触媒)を1.5部添加した。次にフラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に昇温し、200℃の温度で撹拌しつつ、3時間反応させた。
<Production Example of Binder Resin>
(Production Example 1 of Polyester Resin)
Polyoxypropylene (2.2)-2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane:
59.0 parts (0.15 moles; 80.0 mol% based on the total number of moles of polyhydric alcohol)
Polyoxyethylene (2.2)-2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane:
13.6 parts (0.04 moles; 20.0 mol% based on the total number of moles of polyhydric alcohol)
Terephthalic acid: 20.8 parts (0.13 moles; 80.0 mol% based on the total number of moles of polycarboxylic acids)
Trimellitic anhydride: 6.6 parts (0.03 moles; 20.0 mol% based on the total number of moles of polycarboxylic acids)
The above materials were charged into a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a thermocouple. Then, 1.5 parts of tin 2-ethylhexanoate (esterification catalyst) was added as a catalyst to 100 parts of the total amount of monomers. Next, the atmosphere in the flask was replaced with nitrogen gas, and the temperature was gradually raised while stirring, and the reaction was carried out for 3 hours at a temperature of 200°C while stirring.
さらに、反応槽内の圧力を8.3kPaに下げ、1時間維持した後、180℃まで冷却し、そのまま反応させASTM D36-86に従って測定した軟化点が90℃に達したのを確認してから温度を下げて反応を止め、ポリエステル樹脂Lを得た。得られたポリエステル樹脂Lの軟化点(Tm)は97℃、酸価は7mgKOH/gであった。 The pressure in the reaction vessel was then lowered to 8.3 kPa and maintained for 1 hour, after which it was cooled to 180°C and allowed to react. Once it was confirmed that the softening point, measured according to ASTM D36-86, had reached 90°C, the temperature was lowered to stop the reaction, yielding polyester resin L. The resulting polyester resin L had a softening point (Tm) of 97°C and an acid value of 7 mgKOH/g.
<非晶性ポリエステルの製造例2>
・ポリオキシプロピレン(2.2)-2,2-ビス(4-ヒドロキシフェニル)プロパン:73.4部(0.19モル;多価アルコール総モル数に対して100.0mol%)
・テレフタル酸:11.6部(0.07モル;多価カルボン酸総モル数に対して82.0mol%)
・アジピン酸:6.8部(0.05モル;多価カルボン酸総モル数に対して14.0mol%)
・ジ(2-エチルヘキシル酸)スズ:0.8部
冷却管、撹拌機、窒素導入管、及び、熱電対のついた反応槽に、上記材料を秤量し投入した。次にフラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に昇温し、200℃の温度で撹拌しつつ、3時間反応させた。
<Production Example 2 of Amorphous Polyester>
Polyoxypropylene (2.2)-2,2-bis(4-hydroxyphenyl)propane: 73.4 parts (0.19 moles; 100.0 mol% based on the total number of moles of polyhydric alcohol)
Terephthalic acid: 11.6 parts (0.07 moles; 82.0 mol% based on the total number of moles of polycarboxylic acids)
Adipic acid: 6.8 parts (0.05 moles; 14.0 mol% based on the total number of moles of polycarboxylic acids)
The above materials were weighed and put into a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a thermocouple. The atmosphere in the flask was then replaced with nitrogen gas, and the temperature was gradually raised with stirring, and the reaction was carried out for 3 hours at a temperature of 200°C while stirring.
さらに、反応槽内の圧力を8.3kPaに下げ、1時間維持した後、180℃まで冷却し、大気圧に戻した(第1反応工程)。
・無水トリメリット酸:8.2部(0.04モル;多価カルボン酸総モル数に対して6.0mol%)
・tert-ブチルカテコール(重合禁止剤):0.1部
その後、上記材料を加え、反応槽内の圧力を8.3kPaに下げ、温度145℃に維持したまま12時間反応させ、温度を下げることで反応を止め(第2反応工程)、非晶性ポリエステル樹脂Hを得た。得られた非晶性ポリエステル樹脂Hは、軟化点は150℃、酸価は10mg/KOHであった。
Furthermore, the pressure inside the reaction vessel was reduced to 8.3 kPa and maintained for 1 hour, after which the reaction vessel was cooled to 180° C. and returned to atmospheric pressure (first reaction step).
Trimellitic anhydride: 8.2 parts (0.04 moles; 6.0 mol% based on the total number of moles of polycarboxylic acids)
tert-Butylcatechol (polymerization inhibitor): 0.1 part The above materials were then added, the pressure in the reaction vessel was reduced to 8.3 kPa, and the reaction was carried out for 12 hours while maintaining the temperature at 145° C., and the reaction was stopped by reducing the temperature (second reaction step), thereby obtaining amorphous polyester resin H. The obtained amorphous polyester resin H had a softening point of 150° C. and an acid value of 10 mg/KOH.
(ビニル系非晶性樹脂の合成例)
オートクレーブにキシレン50部を仕込み、窒素で置換した後、撹拌下密閉状態で185℃まで昇温した。スチレン97部、n-ブチルアクリレート3部、ジ-t-ブチルパーオキサイド3部、及びキシレン20部の混合溶液を、オートクレーブ内温度を170℃にコントロールしながら、4時間連続的に滴下し重合させた。更に同温度で1時間保ち重合を完了させ、溶媒を除去し、ビニル系非晶性樹脂を得た。得られた樹脂の重量平均分子量(Mw)は5000で、軟化点(Tm)は108℃であった。
(Synthesis Example of Vinyl Amorphous Resin)
50 parts of xylene was charged into an autoclave, and after replacing with nitrogen, the temperature was raised to 185°C in a sealed state with stirring. A mixed solution of 97 parts of styrene, 3 parts of n-butyl acrylate, 3 parts of di-t-butyl peroxide, and 20 parts of xylene was continuously dropped for 4 hours while controlling the temperature inside the autoclave at 170°C, and polymerization was carried out. The same temperature was maintained for another 1 hour to complete the polymerization, and the solvent was removed to obtain a vinyl-based amorphous resin. The weight average molecular weight (Mw) of the obtained resin was 5000, and the softening point (Tm) was 108°C.
<ワックス分散剤の製造例>
・低分子量ポリプロピレン(融点80℃):
15.0部(0.03モル;構成モノマーの総モル数に対して3.0mol%)
・キシレン:25.0部
冷却管、撹拌機、窒素導入管、及び、熱電対のついた反応槽に、上記材料を秤量した。次にフラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に175℃の温度まで昇温した。
・スチレン:
64.5部(0.62モル;構成モノマーの総モル数に対して76.0mol%)
・メタクリル酸シクロヘキシル:
9.6部(0.06モル;構成モノマーの総モル数に対して7.0mol%)
・アクリル酸ブチル:
11.5部(0.09モル;構成モノマーの総モル数に対して11.0mol%)
・メタクリル酸メチル:
2.4部(0.02モル;構成モノマーの総モル数に対して3.0mol%)
・キシレン:10.0部
・ジ-t-ブチルパーオキシヘキサヒドロテレフタレート:0.5部
その後、上記材料を2.5時間かけて滴下し、さらに40分間撹拌した。次いで、溶剤を留去して、ポリプロピレンにスチレンアクリル系ポリマーがグラフトしているビニル系樹脂を得た。得られたビニル系樹脂は、ピーク分子量Mp7000、軟化点120℃であった。
<Production Example of Wax Dispersant>
Low molecular weight polypropylene (
15.0 parts (0.03 moles; 3.0 mol% based on the total moles of constituent monomers)
Xylene: 25.0 parts The above materials were weighed and placed in a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a thermocouple. The atmosphere in the flask was replaced with nitrogen gas, and the temperature was gradually increased to 175° C. while stirring.
·styrene:
64.5 parts (0.62 moles; 76.0 mol% based on the total number of moles of constituent monomers)
Cyclohexyl methacrylate:
9.6 parts (0.06 moles; 7.0 mol% based on the total moles of constituent monomers)
・Butyl acrylate:
11.5 parts (0.09 moles; 11.0 mol% based on the total number of moles of constituent monomers)
Methyl methacrylate:
2.4 parts (0.02 moles; 3.0 mol% based on the total moles of constituent monomers)
・Xylene: 10.0 parts ・Di-t-butylperoxyhexahydroterephthalate: 0.5 parts The above materials were then dropped over 2.5 hours and stirred for another 40 minutes. The solvent was then distilled off to obtain a vinyl resin in which a styrene-acrylic polymer was grafted onto polypropylene. The obtained vinyl resin had a peak molecular weight Mp of 7000 and a softening point of 120°C.
<結晶性ポリエステルの製造例>
・1,6-ヘキサンジオール: 34.5部
(0.29モル;多価アルコール総モル数に対して100.0mol%)
・ドデカン二酸: 65.5部
(0.28モル;多価カルボン酸総モル数に対して100.0mol%)
・2-エチルヘキサン酸錫: 0.5部
冷却管、撹拌機、窒素導入管、及び、熱電対のついた反応槽に、上記材料を秤量した。フラスコ内を窒素ガスで置換した後、撹拌しながら徐々に昇温し、140℃の温度で撹拌しつつ、2.5時間反応させた。
<Production Example of Crystalline Polyester>
1,6-Hexanediol: 34.5 parts (0.29 moles; 100.0 mol% based on the total number of moles of polyhydric alcohols)
Dodecanedioic acid: 65.5 parts (0.28 moles; 100.0 mol% based on the total number of moles of polycarboxylic acids)
The above materials were weighed into a reaction vessel equipped with a cooling tube, a stirrer, a nitrogen inlet tube, and a thermocouple. After replacing the atmosphere in the flask with nitrogen gas, the temperature was gradually raised with stirring, and the reaction was carried out for 2.5 hours at 140°C with stirring.
次に、反応槽内の圧力を8.3kPaに下げ、温度200℃に維持したまま、4時間反応させた。 Next, the pressure in the reaction vessel was reduced to 8.3 kPa, and the reaction was continued for 4 hours while maintaining the temperature at 200°C.
その後、反応槽内を5kPa以下へ減圧して200℃で3時間反応させることにより、結晶性ポリエステルを得た。得られた結晶性ポリエステルの融点は70℃であった。 Then, the pressure in the reaction vessel was reduced to 5 kPa or less, and the reaction was carried out at 200°C for 3 hours to obtain a crystalline polyester. The melting point of the obtained crystalline polyester was 70°C.
<コア粒子の製造例1>
・ポリエステル樹脂L 75部
・ポリエステル樹脂H 25部
・結晶性ポリエステル 3部
・ワックス分散剤 3部
・炭化水素ワックス 7部
(フィッシャートロプシュワックス;最大吸熱ピークのピーク温度90℃)
・C.I.ピグメントブルー15:3 5部
上記材料をヘンシェルミキサー(FM-75型、日本コークス工業株式会社製)を用いて、回転数20s-1、回転時間5minで混合した後、温度110℃に設定した二軸混練機(PCM-30型、株式会社池貝製)にて吐出温度120℃にて混練した。得られた混練物を冷却し、ハンマーミルにて1mm以下に粗粉砕し、粗砕物を得た。得られた粗砕物を、機械式粉砕機(T-250、フロイントターボ(株)製)にて微粉砕した。さらにファカルティF-300(ホソカワミクロン社製)を用い、運転条件は、分級ローター回転数を130s-1、分散ローター回転数を120s-1とし分級を行い、コア粒子1を得た。
<Production Example 1 of Core Particles>
Polyester resin L 75 parts Polyester resin H 25 parts
・C.I. Pigment Blue 15:3 5 parts The above materials were mixed using a Henschel mixer (FM-75 type, manufactured by Nippon Coke & Engineering Co., Ltd.) at a rotation speed of 20 s -1 and a rotation time of 5 min, and then kneaded at a discharge temperature of 120 ° C. using a twin-screw kneader (PCM-30 type, manufactured by Ikegai Co., Ltd.) set at a temperature of 110 ° C. The kneaded product obtained was cooled and coarsely crushed to 1 mm or less using a hammer mill to obtain a coarsely crushed product. The obtained coarsely crushed product was finely crushed using a mechanical crusher (T-250, manufactured by Freund Turbo Co., Ltd.). Furthermore, classification was performed using Faculty F-300 (manufactured by Hosokawa Micron Co., Ltd.) under the operating conditions of a classification rotor rotation speed of 130 s -1 and a dispersion rotor rotation speed of 120 s -1 , and core particles 1 were obtained.
<コア粒子の製造例2>
コア粒子の製造例1において、ポリエステル樹脂Lとポリエステル樹脂Hを使用せず、非晶性ビニル樹脂 100部に置き換えた以外はコア粒子の製造例1と同様にして製造を行い、コア粒子2を得た。
<Production Example 2 of Core Particles>
<コア粒子の製造例3>
コア粒子の製造例1において、炭化水素ワックスをエステルワックス(カルナバワックス;最大吸熱ピークのピーク温度85℃)5部に置き換えた以外はコア粒子の製造例1と同様にして製造を行い、コア粒子3を得た。
<Production Example 3 of Core Particles>
<コア粒子の製造例4~11>
コア粒子の製造例1において、炭化水素ワックスの部数及び/またはワックス分散剤の部数を表2に記載のものに置き換えた以外はコア粒子の製造例1と同様にして製造を行い、コア粒子4~11を得た。物性を表2に示す。
<Core Particle Production Examples 4 to 11>
Core particles 4 to 11 were obtained by carrying out the same production process as in Core Particle Production Example 1, except that the parts of the hydrocarbon wax and/or the parts of the wax dispersant in Core Particle Production Example 1 were replaced with those shown in Table 2. The physical properties are shown in Table 2.
<表面に無機酸化物微粒子が付着した熱処理前コア粒子の製造例1>
得られたコア粒子1と無機酸化物微粒子を所定量配合し、ヘンシェルミキサーFM-10C型(三井三池化工機製)で回転数30s-1、回転時間10minで混合し、熱処理前コア粒子1を得た。この時、コア粒子を100部として無機酸化物微粒子を配合した。無機酸化物微粒子の添加部数を表3に示す。
<Production Example 1 of Core Particles Having Inorganic Oxide Fine Particles Adhered to Their Surfaces Before Heat Treatment>
The obtained core particles 1 and inorganic oxide fine particles were blended in predetermined amounts and mixed in a Henschel mixer FM-10C type (manufactured by Mitsui Miike Chemical Engineering Co., Ltd.) at a rotation speed of 30 s -1 and a rotation time of 10 min to obtain pre-heat-treated core particles 1. At this time, the inorganic oxide fine particles were blended with 100 parts of the core particles. The parts of the inorganic oxide fine particles added are shown in Table 3.
<表面に無機酸化物微粒子が付着した熱処理前コア粒子の製造例2~32>
表面に無機酸化物微粒子が付着した熱処理前コア粒子の製造例1において、無機酸化物微粒子の種類及び部数を表3に記載のものに置き換えた以外は表面に無機酸化物微粒子が付着した熱処理前コア粒子の製造例1と同様にして製造を行い、熱処理前コア粒子2~32を得た。物性を表3に示す。
<Production Examples 2 to 32 of Core Particles Having Inorganic Oxide Fine Particles Adhered to Their Surfaces Before Heat Treatment>
Pre-heat-treated
<表面に無機酸化物微粒子が熱固着した熱処理コア粒子の製造例1>
次に図1で示す表面処理装置によって熱処理前コア粒子1に熱処理を行い、表面に無機酸化物微粒子が熱固着した熱処理コア粒子1を得た。運転条件はフィード量=2kg/hrとし、また、熱風温度=160℃、熱風流量=6m3/min.、冷風温度=-5℃、冷風流量=4m3/min.、ブロワー風量=20m3/min.、インジェクションエア流量=1m3/min.とした。
<Production Example 1 of Heat-Treated Core Particles Having Inorganic Oxide Fine Particles Thermally Adhered to Their Surfaces>
Next, the pre-heat-treated core particles 1 were heat-treated using the surface treatment device shown in Fig. 1 to obtain heat-treated core particles 1 having inorganic oxide fine particles thermally fixed to the surface. The operating conditions were as follows: feed rate = 2 kg/hr, hot air temperature = 160°C, hot air flow rate = 6 m3 /min, cold air temperature = -5°C, cold air flow rate = 4 m3 /min, blower air flow rate = 20 m3 /min, injection air flow rate = 1 m3 /min.
<表面に無機酸化物微粒子が熱固着した熱処理コア粒子の製造例2~38>
表面に無機酸化物微粒子が熱固着した熱処理コア粒子の製造例1に対し、表4に記載の熱処理前コア粒子、熱風温度に変更したこと以外は無機酸化物微粒子が熱固着したコア粒子の製造例1と同様にして製造を行い、無機酸化物微粒子が熱固着した熱処理コア粒子2~38を得た。
<Production Examples 2 to 38 of Heat-Treated Core Particles Having Inorganic Oxide Fine Particles Thermally Adhered to the Surface>
Heat-treated core particles having inorganic oxide fine particles thermally fixed to their surfaces were produced in the same manner as in Production Example 1 of core particles having inorganic oxide fine particles thermally fixed thereto, except that the core particles before heat treatment and the hot air temperature were changed to those shown in Table 4, and heat-treated
<分散安定剤水溶液1の製造例>
・Na3PO4水溶液(0.1モル/リットル) 100.0部
・イオン交換水 70.0部
・HCl水溶液(1.0モル/リットル) 2.4部
還流冷却管、温度計を備えた反応容器に、上記材料を投入した。続いて、高速撹拌装置TK-ホモミキサーを用いて、反応容器内を12000rpmで撹拌しながら、60℃に保持した。
・CaCl2水溶液(1.0モル/リットル) 85.0部
ここに、上記材料を徐々に添加し、微細な難水溶性分散安定剤Ca3(PO4)2を含む分散安定剤水溶液1を得た。
<Production Example of Aqueous Dispersion Stabilizer Solution 1>
The above materials were put into a reaction vessel equipped with a reflux condenser and a thermometer. The reaction vessel was then kept at 60° C. while stirring at 12,000 rpm using a high - speed stirring device TK -Homomixer.
CaCl 2 aqueous solution (1.0 mol/liter) 85.0 parts The above materials were gradually added thereto to obtain a dispersion stabilizer aqueous solution 1 containing a fine poorly water-soluble dispersion stabilizer Ca 3 (PO 4 ) 2 .
<シラン化合物加水分解液1の製造例>
・メチルトリエトキシシラン 50.0部
・イオン交換水 50.0部
撹拌機を備えた反応容器に、上記材料を投入し、10質量%塩酸を用いてpHを3.0に調整し、撹拌しながら加水分解を行い、シラン化合物加水分解液1を得た。加水分解の完了は、当初2相に分離している液が1相になったことをもって確認した。
<Production Example of Silane Compound Hydrolyzed Solution 1>
The above materials were placed in a reaction vessel equipped with a stirrer, the pH was adjusted to 3.0 with 10% by mass hydrochloric acid, and hydrolysis was carried out with stirring to obtain a silane compound hydrolyzed liquid 1. Completion of hydrolysis was confirmed when the liquid, which was initially separated into two phases, became a single phase.
<シラン化合物加水分解液2~5の製造例>
シラン化合物加水分解液1の製造例において、それぞれのシラン化合物を表5に記載のものに変更した以外は同様にして反応を行い、シラン化合物加水分解液2~5を得た。
<Production Examples of Silane
The reaction was carried out in the same manner as in the production example of silane compound hydrolyzed solution 1, except that the silane compounds were changed to those shown in Table 5, to obtain silane compound hydrolyzed
<界面活性剤水溶液1の製造例>
・ポリオキシエチレンスチレン化フェニルエーテル 10.0部
・イオン交換水 90.0部
撹拌機を備えた反応容器に、上記材料を投入し、撹拌しながら溶解を行い、界面活性剤水溶液1を得た。
<Production Example of Surfactant Aqueous Solution 1>
Polyoxyethylene styrenated phenyl ether 10.0 parts Ion-exchanged water 90.0 parts The above materials were placed in a reaction vessel equipped with a stirrer and dissolved with stirring to obtain surfactant aqueous solution 1.
<トナーの製造例1>
(水系媒体への分散工程)
・熱処理コア粒子1 15.0部
・分散安定剤水溶液1 100.0部
温度計を備えた反応容器に、上記材料を投入した。反応容器内を25℃にしなから、ホモジナイザー(IKAジャパン(株)製:ウルトラタラクスT50)5000rpmで6分間分散し、熱処理コア粒子分散液1を得た。
<Toner Production Example 1>
(Dispersion process in aqueous medium)
The above materials were placed in a reaction vessel equipped with a thermometer. The reaction vessel was heated to 25° C., and the mixture was dispersed at 5,000 rpm with a homogenizer (Ultra Turrax T50, manufactured by IKA Japan Co., Ltd.) for 6 minutes to obtain a heat-treated core particle dispersion liquid 1.
(縮合工程)
・熱処理コア粒子分散液1 100.0部
・シラン化合物加水分解液1 1.8部
撹拌機、温度計を備えた反応容器に、上記材料を投入した。反応容器内を200rpmで撹拌しながら70℃まで昇温させた。そこに、1mol/LのNaOH水溶液でpH9.0に調整し、240分間撹拌し、縮合反応を行った。続いて、希塩酸でpH1.5に調整し、分散安定剤を除去した。その後、桐山濾紙(No.5C:空孔径1μm)を用いて濾過し、粒子と濾液とを分離した。得られた粒子を、さらにイオン交換水で洗浄し、30℃で24時間真空乾燥を行い、有機ケイ素重合体で被覆されたトナー粒子1を得た。
(Condensation step)
Heat-treated core particle dispersion 1 100.0 parts Silane compound hydrolysis solution 1 1.8 parts The above materials were put into a reaction vessel equipped with a stirrer and a thermometer. The reaction vessel was heated to 70° C. while stirring at 200 rpm. The pH was adjusted to 9.0 with 1 mol/L NaOH aqueous solution, and the mixture was stirred for 240 minutes to carry out a condensation reaction. The pH was then adjusted to 1.5 with dilute hydrochloric acid to remove the dispersion stabilizer. After that, the mixture was filtered using Kiriyama filter paper (No. 5C: pore size 1 μm) to separate the particles and the filtrate. The obtained particles were further washed with ion-exchanged water and vacuum-dried at 30° C. for 24 hours to obtain toner particles 1 coated with an organosilicon polymer.
さらに、得られた有機ケイ素重合体で被覆されたトナー粒子1(99.5部)に、ポリジメチルシロキサン5質量%で表面処理したBET比表面積100m2/gの疎水性シリカ微粒子0.5部を添加し、ヘンシェルミキサー(FM-75型、日本コークス工業株式会社製)で回転数30s-1、回転時間10min混合して、トナー粒子1を含有するトナー1を得た。物性を表6に示す。 Furthermore, 0.5 parts of hydrophobic silica fine particles having a BET specific surface area of 100 m2 /g and surface-treated with 5% by mass of polydimethylsiloxane were added to the obtained toner particles 1 (99.5 parts) coated with the organosilicon polymer, and mixed in a Henschel mixer (FM-75, manufactured by Nippon Coke and Engineering Co., Ltd.) at a rotation speed of 30 s -1 for a rotation time of 10 minutes to obtain toner 1 containing toner particles 1. The physical properties are shown in Table 6.
<トナーの製造例2~43>
トナーの製造例1において、熱処理コア粒子、無機酸化物微粒子、シラン化合物加水分解物を表6に記載のものに変更した以外はトナー製造例1と同様にして製造を行い、トナー2~43を得た。
<Toner Production Examples 2 to 43>
<磁性コア粒子1の製造例>
・工程1(秤量・混合工程):
Fe2O3 62.7部
MnCO3 29.5部
Mg(OH)2 6.8部
SrCO3 1.0部
上記材料を上記組成比となるようにフェライト原材料を秤量した。その後、直径1/8インチのステンレスビーズを用いた乾式振動ミルで5時間粉砕・混合した。
<Production Example of Magnetic Core Particle 1>
Step 1 (weighing and mixing step):
The ferrite raw materials were weighed so as to obtain the above composition ratio , and then crushed and mixed for 5 hours in a dry vibration mill using stainless steel beads with a diameter of 1/8 inch.
・工程2(仮焼成工程):
得られた粉砕物をローラーコンパクターにて、約1mm角のペレットにした。このペレットを目開き3mmの振動篩にて粗粉を除去し、次いで目開き0.5mmの振動篩にて微粉を除去した後、バーナー式焼成炉を用いて、窒素雰囲気下(酸素濃度0.01体積%)で、温度1000℃で4時間焼成し、仮焼フェライトを作製した。得られた仮焼フェライトの組成は、下記の通りである。
(MnO)a(MgO)b(SrO)c(Fe2O3)d
上記式において、a=0.257、b=0.117、c=0.007、d=0.393
Step 2 (pre-firing step):
The obtained pulverized material was made into pellets of about 1 mm square using a roller compactor. The pellets were passed through a vibrating sieve with 3 mm openings to remove coarse powder, and then through a vibrating sieve with 0.5 mm openings to remove fine powder. The pellets were then fired in a burner-type firing furnace at 1000° C. for 4 hours in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 0.01% by volume) to produce calcined ferrite. The composition of the resulting calcined ferrite was as follows:
(MnO) a (MgO)b(SrO)c( Fe2O3 )d
In the above formula, a = 0.257, b = 0.117, c = 0.007, d = 0.393
・工程3(粉砕工程):
クラッシャーで0.3mm程度に粉砕した後に、直径1/8インチのジルコニアビーズを用い、仮焼フェライト100部に対し、水を30部加え、湿式ボールミルで1時間粉砕した。そのスラリーを、直径1/16インチのアルミナビーズを用いた湿式ボールミルで4時間粉砕し、フェライトスラリー(仮焼フェライトの微粉砕品)を得た。
Step 3 (grinding step):
After crushing to about 0.3 mm with a crusher, 30 parts of water was added to 100 parts of the calcined ferrite and crushed in a wet ball mill using zirconia beads with a diameter of 1/8 inch for 1 hour. The slurry was crushed in a wet ball mill using alumina beads with a diameter of 1/16 inch for 4 hours to obtain a ferrite slurry (finely crushed calcined ferrite).
・工程4(造粒工程):
フェライトスラリーに、仮焼フェライト100部に対して分散剤としてポリカルボン酸アンモニウム1.0部、バインダーとしてポリビニルアルコール2.0部を添加し、スプレードライヤー(製造元:大川原化工機)で、球状粒子に造粒した。得られた粒子を粒度調整した後、ロータリーキルンを用いて、650℃で2時間加熱し、分散剤やバインダーの有機成分を除去した。
・Process 4 (granulation process):
To the ferrite slurry, 1.0 part of ammonium polycarboxylate as a dispersant and 2.0 parts of polyvinyl alcohol as a binder were added per 100 parts of calcined ferrite, and the mixture was dried in a spray dryer (manufacturer: Okawara Kakoki) to form spherical particles. The resulting particles were adjusted in particle size and then heated at 650° C. for 2 hours in a rotary kiln to remove the organic components of the dispersant and binder.
・工程5(焼成工程):
焼成雰囲気をコントロールするために、電気炉にて窒素雰囲気下(酸素濃度1.00体積%)で、室温から温度1300℃まで2時間で昇温し、その後、温度1150℃で4時間焼成した。その後、4時間をかけて、温度60℃まで降温し、窒素雰囲気から大気に戻し、温度40℃以下で取り出した。
Step 5 (firing step):
In order to control the firing atmosphere, the material was heated from room temperature to 1300° C. in a nitrogen atmosphere (oxygen concentration 1.00% by volume) in an electric furnace over a period of 2 hours, and then fired at a temperature of 1150° C. for 4 hours. The material was then cooled to 60° C. over a period of 4 hours, returned from the nitrogen atmosphere to the air, and taken out at a temperature of 40° C. or less.
・工程6(選別工程):
凝集した粒子を解砕した後に、磁力選鉱により低磁力品をカットし、目開き250μmの篩で篩分して粗大粒子を除去し、体積分布基準の50%粒径(D50)37.0μmの磁性コア粒子1を得た。
Step 6 (sorting step):
After crushing the agglomerated particles, low magnetic particles were removed by magnetic separation, and coarse particles were removed by sieving through a sieve with 250 μm openings to obtain magnetic core particles 1 having a volume distribution-based 50% particle size (D50) of 37.0 μm.
<被覆樹脂1の調製>
シクロヘキシルメタクリレートモノマー 26.8質量%
メチルメタクリレートモノマー 0.2質量%
メチルメタクリレートマクロモノマー 8.4質量%
(片末端にメタクリロイル基を有する重量平均分子量5000のマクロモノマー)
トルエン 31.3質量%
メチルエチルケトン 31.3質量%
アゾビスイソブチロニトリル 2.0質量%
上記材料のうち、シクロヘキシルメタクリレート、メチルメタクリレート、メチルメタクリレートマクロモノマー、トルエン、メチルエチルケトンを、還流冷却器、温度計、窒素導入管及び撹拌装置を取り付けた四つ口のセパラブルフラスコに添加し、窒素ガスを導入して充分に窒素雰囲気にした後、80℃まで加温し、アゾビスイソブチロニトリルを添加して5時間還流し重合させた。得られた反応物にヘキサンを注入して共重合体を沈殿析出させ、沈殿物を濾別後、真空乾燥して被覆樹脂1を得た。得られた被覆樹脂1:30部を、トルエン40部、及びメチルエチルケトン30部に溶解させて、重合体溶液1(固形分30質量%)を得た。
<Preparation of Coating Resin 1>
Cyclohexyl methacrylate monomer 26.8% by mass
Methyl methacrylate monomer 0.2% by weight
Methyl methacrylate macromonomer 8.4% by mass
(Macromonomer having a weight average molecular weight of 5000 and a methacryloyl group at one end)
Toluene 31.3% by mass
Methyl ethyl ketone 31.3% by mass
Azobisisobutyronitrile 2.0% by mass
Among the above materials, cyclohexyl methacrylate, methyl methacrylate, methyl methacrylate macromonomer, toluene, and methyl ethyl ketone were added to a four-necked separable flask equipped with a reflux condenser, a thermometer, a nitrogen inlet tube, and a stirrer, and nitrogen gas was introduced to create a sufficient nitrogen atmosphere, and then the mixture was heated to 80°C, azobisisobutyronitrile was added, and the mixture was refluxed for 5 hours to polymerize. Hexane was poured into the resulting reaction product to precipitate a copolymer, and the precipitate was filtered and then vacuum dried to obtain a coating resin 1. 30 parts of the resulting coating resin 1 were dissolved in 40 parts of toluene and 30 parts of methyl ethyl ketone to obtain a polymer solution 1 (solid content 30% by mass).
<被覆樹脂溶液1の調製>
重合体溶液1(樹脂固形分濃度30%) 33.3質量%
トルエン 66.4質量%
カーボンブラック(Regal330;キャボット社製) 0.3質量%
(一次粒径25nm、窒素吸着比表面積94m2/g、DBP吸油量75ml/100g)
これらを、直径0.5mmのジルコニアビーズを用いて、ペイントシェーカーで1時間分散した。得られた分散液を、5.0μmのメンブランフィルターで濾過し、被覆樹脂溶液1を得た。
<Preparation of Coating Resin Solution 1>
Polymer solution 1 (resin solid content concentration 30%) 33.3% by mass
Toluene 66.4% by mass
Carbon black (Regal 330; manufactured by Cabot Corporation) 0.3% by mass
(Primary particle size 25 nm, nitrogen adsorption specific surface area 94 m 2 /g, DBP oil absorption 75 ml/100 g)
These were dispersed for 1 hour using a paint shaker with zirconia beads having a diameter of 0.5 mm. The resulting dispersion was filtered through a 5.0 μm membrane filter to obtain a coating resin solution 1.
<磁性キャリア1の製造例>
(樹脂被覆工程):
常温で維持されている真空脱気型ニーダーに被覆樹脂溶液1を、100部の充填コア粒子1に対して樹脂成分として2.5部になるように投入した。投入後、回転速度30rpmで15分間撹拌し、溶媒が一定以上(80質量%)揮発した後、減圧混合しながら80℃まで昇温し、2時間かけてトルエンを留去した後冷却した。得られた磁性キャリアを、磁力選鉱により低磁力品を分別し、開口70μmの篩を通した後、風力分級器で分級し、体積分布基準の50%粒径(D50)38.2μmの磁性キャリア1を得た。
<Production Example of Magnetic Carrier 1>
(Resin coating process):
The coating resin solution 1 was added to a vacuum degassing kneader maintained at room temperature so that the resin component was 2.5 parts per 100 parts of the filled core particles 1. After addition, the mixture was stirred at a rotation speed of 30 rpm for 15 minutes, and after a certain amount of the solvent (80 mass%) had evaporated, the mixture was heated to 80°C while mixing under reduced pressure, and toluene was distilled off over 2 hours, after which it was cooled. The obtained magnetic carrier was separated into low magnetic products by magnetic separation, passed through a sieve with an opening of 70 μm, and then classified with a wind classifier to obtain a magnetic carrier 1 having a 50% particle size (D50) of 38.2 μm based on the volume distribution.
<二成分系現像剤の製造例1>
磁性キャリア1:92.0部に対し、トナー1を8.0部加え、V型混合機(V-20、セイシン企業製)により混合し、二成分系現像剤1を得た。
<Production Example 1 of Two-Component Developer>
Toner 1 (8.0 parts) was added to magnetic carrier 1 (92.0 parts), and mixed in a V-type mixer (V-20, manufactured by Seishin Enterprises) to obtain two-component developer 1.
<二成分系現像剤2~43の製造例>
二成分系現像剤1の製造例において、トナーを表7のように変更する以外は同様にして製造を行い、二成分系現像剤2~43を得た。
<Production Examples of Two-
Two-
〔実施例1〕
[評価]
[1.低温定着性評価]
画像形成装置としてヤノン製フルカラー複写機imageRUNNER ADVANCE C5560改造機を用いて、上記二成分系現像剤1を、画像形成装置のシアン用現像器または/及びマゼンタ用現像器に入れ、後述の評価を行った。改造点は、定着温度、プロセススピード、現像剤担持体の直流電圧VDC、静電潜像担持体の帯電電圧VD、及びレーザーパワーを自由に設定できるようにした点である。
Example 1
[evaluation]
[1. Evaluation of low-temperature fixability]
The image forming apparatus was a modified Yanon full-color copier imageRUNNER ADVANCE C5560, and the above-mentioned two-component developer 1 was placed in the cyan developer and/or magenta developer of the image forming apparatus, and the evaluation described below was performed. The modifications were made so that the fixing temperature, process speed, DC voltage VDC of the developer carrier, charging voltage VD of the electrostatic latent image carrier, and laser power could be freely set.
画像は、常温常湿(NN)環境下(温度23℃、相対湿度50%以上~60%以下)において、紙上のトナー載り量が1.0mg/cm2になるように調整し、通紙方向後端側に画像印字比率25%となるような横帯となるよう未定着画像を作成した。評価紙は、コピー用紙GF-C300(A4、坪量300.0g/m2、キヤノンマーケティングジャパン株式会社より販売)を用いた。 The images were prepared under normal temperature and humidity (NN) conditions (temperature 23°C, relative humidity 50% to 60%) with the toner amount on the paper adjusted to 1.0 mg/ cm2 , and an unfixed image was prepared so that the image had a horizontal band with an image printing ratio of 25% on the trailing edge side in the paper feed direction. Copy paper GF-C300 (A4, basis weight 300.0 g/ m2 , sold by Canon Marketing Japan Inc.) was used as the evaluation paper.
その後、低温低湿(LL)環境下(温度15℃、相対湿度15%以下)において、プロセススピードを450mm/secに設定し、定着温度を120℃から順に5℃ずつ上げ、オフセットが生じない下限温度を低温定着温度とした。評価結果を表8に示す。 After that, in a low temperature and low humidity (LL) environment (temperature 15°C, relative humidity 15% or less), the process speed was set to 450 mm/sec, and the fixing temperature was increased in increments of 5°C from 120°C, and the lowest temperature at which no offset occurred was defined as the low-temperature fixing temperature. The evaluation results are shown in Table 8.
(低温定着温度の評価基準)
A:150℃未満 (良好である。)
B:150℃以上160℃未満 (良好である。)
C:160℃以上170℃未満 (本発明の効果が得られているレベルである。)。
D:170℃以上 (本発明の効果が十分に得られていないレベルである。)。
(Evaluation Criteria for Low Fixing Temperature)
A: Less than 150°C (good)
B: 150°C or higher and lower than 160°C (good)
C: 160° C. or higher and lower than 170° C. (This is the level at which the effects of the present invention are obtained).
D: 170° C. or higher (a level at which the effects of the present invention are not fully obtained).
[2.耐定着巻き付き性評価]
上記低温定着性評価で用いた評価機を用いて、前記二成分系現像剤1について、定着温度領域の試験を行った。画像は単色モードで常温常湿(NN)環境下(温度23℃、相対湿度50%以上~60%以下)において、紙上のトナー載り量が1.0mg/cm2になるように調整し、通紙方向先端から2mmの余白を設けたうえで画像印字比率25%となるよう未定着画像を作成した。評価紙は、コピー用紙CS-680(A4、坪量68.0g/m2、キヤノンマーケティングジャパン株式会社より販売)を用いた。
[2. Evaluation of Anti-Wrapping Property]
The two-component developer 1 was tested in the fixing temperature range using the evaluation machine used in the low-temperature fixing property evaluation. Images were printed in monochrome mode in a normal temperature and normal humidity (NN) environment (temperature 23° C., relative humidity 50% to 60%), with the toner amount on the paper adjusted to 1.0 mg/ cm2 , and an unfixed image with a margin of 2 mm from the leading edge in the paper feed direction and an image print ratio of 25% was created. Copy paper CS-680 (A4, basis weight 68.0 g/ m2 , sold by Canon Marketing Japan Inc.) was used for evaluation.
その後、高温高湿(HH)環境下(温度30℃、相対湿度80%)において、プロセススピードを300mm/secに設定し、定着温度を140℃から順に5℃ずつ上げ、定着紙の巻き付きが生じない上限温度を耐定着巻き付き性温度とした。
After that, in a high temperature and high humidity (HH) environment (temperature 30°C,
耐定着巻き付き性を以下の基準でランク付けした。評価結果を表8に示す。 The resistance to adhesion was ranked according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 8.
(耐定着巻き付き性の評価基準)
A:175℃以上 (非常に優れている。)
B:165℃以上175℃未満 (良好である。)
C:155℃以上165℃未満 (本発明の効果が得られているレベルである。)
D:155℃未満 (本発明の効果が十分に得られていないレベルである。)
(Evaluation Criteria for Anti-Fixing Wrapping Property)
A: 175℃ or higher (very good)
B: 165°C or higher and lower than 175°C (good).
C: 155°C or higher and lower than 165°C (This is the level at which the effects of the present invention are obtained.)
D: Less than 155° C. (This is a level at which the effects of the present invention are not sufficiently obtained.)
[3.帯電安定性評価]
画像形成装置としてヤノン製フルカラー複写機imageRUNNER ADVANCE C5560改造機を用いて、上記二成分系現像剤1を、画像形成装置のシアン用現像器に入れ、シアントナーボトルにトナー1を充てんして後述の評価を行った。改造点は、現像器内部で過剰になった磁性キャリアを現像器から排出する機構を取り外したことである。
[3. Evaluation of charging stability]
The image forming apparatus was a modified Yanon full-color copier imageRUNNER ADVANCE C5560, and the above-mentioned two-component developer 1 was placed in a cyan developer of the image forming apparatus, and a cyan toner bottle was filled with toner 1 to perform the evaluation described below. The modification was that the mechanism for discharging the excess magnetic carrier from the developer was removed.
FFh画像(ベタ画像)におけるトナーの紙上への載り量が0.45mg/cm2となるように、調整した。FFhとは、256階調を16進数で表示した値であり、00hが256階調の1階調目(白地部)であり、FFが256階調の256階調目(ベタ部)である。 The amount of toner laid on the paper in the FFh image (solid image) was adjusted to 0.45 mg/ cm2 . FFh is a value obtained by expressing 256 gradations in hexadecimal, with 00h being the first gradation (white background) of the 256 gradations and FF being the 256th gradation (solid area) of the 256 gradations.
耐久画像出力試験では、画像比率5%で、1万枚の耐久画像出力試験を行った。試験環境は、高温高湿(HH)環境下(温度30℃、相対湿度80%)にて行った。1万枚連続通紙中は、1枚目と同じ現像条件、転写条件(キャリブレーション無し)で通紙を行うこととした。
In the durability image output test, a durability image output test of 10,000 sheets was performed with an image ratio of 5%. The test was performed in a high temperature and high humidity (HH) environment (temperature 30°C,
評価紙は、コピー用紙GF-C081(A4、坪量81.4g/m2、キヤノンマーケティングジャパン株式会社より販売)を用いた。 The evaluation paper used was copy paper GF-C081 (A4, basis weight 81.4 g/m 2 , sold by Canon Marketing Japan Inc.).
初期(1枚目)と1万枚連続通紙時の画出し評価の項目と評価基準を以下に示す。また評価結果を表8に示す。 The items and evaluation criteria for image output evaluation at the initial stage (first sheet) and after 10,000 sheets of continuous paper feed are shown below. The evaluation results are shown in Table 8.
(画像濃度の測定)
X-Riteカラー反射濃度計(500シリーズ:X-Rite社製)を使用し、初期(1枚目)及び10,000枚目のFFh画像部:ベタ部の画像濃度を測定し、両画像濃度の差Δから、以下の基準でランク付けした。評価結果を表8に示す。
A:0.04未満(非常に優れている。)
B:0.04以上0.09未満(良好である。)
C:0.09以上0.15未満(本発明の効果が得られているレベルである。)
D:0.15以上(本発明の効果が十分に得られていないレベルである。)
(Measurement of Image Density)
Using an X-Rite color reflection densitometer (500 series: manufactured by X-Rite), the image densities of the FFh image area and the solid area at the initial (first sheet) and 10,000th sheets were measured, and the difference Δ between the two image densities was used to rank them according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 8.
A: Less than 0.04 (very good).
B: 0.04 or more and less than 0.09 (good)
C: 0.09 or more and less than 0.15 (this is the level at which the effects of the present invention are obtained).
D: 0.15 or more (a level at which the effects of the present invention are not fully obtained)
[4.外添剤ゴースト評価]
画像形成装置としてヤノン製フルカラー複写機imageRUNNER ADVANCE C5560改造機を用いて、上記二成分系現像剤1を、画像形成装置のシアン用現像器に入れ、シアントナーボトルにトナー1を充てんして後述の評価を行った。改造点は、現像器内部で過剰になった磁性キャリアを現像器から排出する機構を取り外したことである。
[4. Evaluation of external additive ghosting]
The image forming apparatus was a modified Yanon full-color copier imageRUNNER ADVANCE C5560, and the above-mentioned two-component developer 1 was placed in a cyan developer of the image forming apparatus, and a cyan toner bottle was filled with toner 1 to perform the evaluation described below. The modification was that the mechanism for discharging the excess magnetic carrier from the developer was removed.
FFh画像(ベタ画像)におけるトナーの紙上への載り量が0.45mg/cm2となるように、調整した。FFhとは、256階調を16進数で表示した値であり、00hが256階調の1階調目(白地部)であり、FFが256階調の256階調目(ベタ部)である。 The amount of toner laid on the paper in the FFh image (solid image) was adjusted to 0.45 mg/ cm2 . FFh is a value obtained by expressing 256 gradations in hexadecimal, with 00h being the first gradation (white background) of the 256 gradations and FF being the 256th gradation (solid area) of the 256 gradations.
試験環境は、常温低湿(NL)環境下(温度23℃、相対湿度5%)にて行った。
The test was performed in a normal temperature and low humidity (NL) environment (temperature 23°C,
評価紙は、コピー用紙GF-C081(A4、坪量81.4g/m2、キヤノンマーケティングジャパン株式会社より販売)を用いた。 The evaluation paper used was copy paper GF-C081 (A4, basis weight 81.4 g/m 2 , sold by Canon Marketing Japan Inc.).
まず、通紙方向に対して平行な縦帯と、縦帯以外の部分は白地部である画像を画像比率10%で100枚出力した。縦帯部分はFFh画像(ベタ画像)である。連続通紙中は、1枚目と同じ現像条件、転写条件(キャリブレーション無し)で通紙を行うこととした。 First, 100 sheets of an image with vertical bands parallel to the paper feed direction and white areas other than the vertical bands were printed at an image ratio of 10%. The vertical bands were FFh images (solid images). During successive sheets, the sheets were fed under the same development and transfer conditions (without calibration) as the first sheet.
100枚通紙後、全面のハーフトーン画像(80h)を出力し、初期の外添剤ゴースト性評価に使用した。 After 100 sheets were printed, a full-page halftone image (80h) was printed and used to evaluate the initial ghosting of external additives.
その後、通紙方向に対して平行な縦帯と、縦帯以外の部分は白地部である画像を画像比率10%でさらに1万枚出力した。連続通紙中は、1枚目と同じ現像条件、転写条件(キャリブレーション無し)で通紙を行うこととした。 After that, an image with vertical bands parallel to the paper feed direction and white areas other than the vertical bands was printed on 10,000 more sheets at an image ratio of 10%. During the continuous paper feed, the same development and transfer conditions (without calibration) were used as for the first sheet.
1万枚通紙後、全面のハーフトーン画像(80h)を出力し、耐久後の外添剤ゴースト性評価に使用した。 After 10,000 sheets were printed, a full-page halftone image (80h) was printed and used to evaluate the ghosting of external additives after durability testing.
X-Riteカラー反射濃度計(500シリーズ:X-Rite社製)を使用し、初期(100枚通紙後)及び耐久後(10,000枚通紙後)のハーフトーン画像(80h)8において、縦帯を出力していた部分と白地部を出力していた部分の画像濃度を測定し、両画像濃度の差Δから外添剤ゴースト性を評価し、以下の基準でランク付けした。評価結果を表8に示す。
A:0.03未満(非常に優れている。)
B:0.03以上0.06未満(良好である。)
C:0.06以上0.11未満(本発明の効果が得られているレベルである。)
D:0.11以上(本発明の効果が十分に得られていないレベルである。)
Using an X-Rite color reflection densitometer (500 series: manufactured by X-Rite), the image densities of the vertical bands and the white background were measured in the halftone image (80h) 8 at the beginning (after 100 sheets were passed) and after durability test (after 10,000 sheets were passed), and the additive ghost property was evaluated from the difference Δ between the two image densities and ranked according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 8.
A: Less than 0.03 (very good).
B: 0.03 or more and less than 0.06 (good)
C: 0.06 or more and less than 0.11 (this is the level at which the effects of the present invention are obtained).
D: 0.11 or more (a level at which the effects of the present invention are not fully obtained)
[5.転写均一性の評価]
画像形成装置としてヤノン製フルカラー複写機imageRUNNER ADVANCE C5560改造機を用いて、上記二成分系現像剤1を、画像形成装置のシアン用現像器に入れ、シアントナーボトルにトナー1を充てんして後述の評価を行った。改造点は、現像器内部で過剰になった磁性キャリアを現像器から排出する機構を取り外したことである。
5. Evaluation of Transfer Uniformity
The image forming apparatus was a modified Yanon full-color copier imageRUNNER ADVANCE C5560, and the above-mentioned two-component developer 1 was placed in a cyan developer of the image forming apparatus, and a cyan toner bottle was filled with toner 1 to perform the evaluation described below. The modification was that the mechanism for discharging the excess magnetic carrier from the developer was removed.
FFh画像(ベタ画像)におけるトナーの紙上への載り量が0.45mg/cm2となるように、調整した。FFhとは、256階調を16進数で表示した値であり、00hが256階調の1階調目(白地部)であり、FFが256階調の256階調目(ベタ部)である。 The amount of toner laid on the paper in the FFh image (solid image) was adjusted to 0.45 mg/ cm2 . FFh is a value obtained by expressing 256 gradations in hexadecimal, with 00h being the first gradation (white background) of the 256 gradations and FF being the 256th gradation (solid area) of the 256 gradations.
耐久画像出力試験では、画像比率0.6%で、1万枚の耐久画像出力試験を行った。試験環境は、常温低湿(NL)環境下(温度23℃、相対湿度5%)にて行った。1万枚連続通紙中は、1枚目と同じ現像条件、転写条件(キャリブレーション無し)で通紙を行うこととした。評価紙は、コピー用リサイクル紙GF-R100W(A4、坪量67.0g/m2、キヤノンマーケティングジャパン株式会社より販売)を用いた。
In the durability image output test, a durability image output test of 10,000 sheets was performed at an image ratio of 0.6%. The test was performed in a normal temperature and low humidity (NL) environment (temperature 23°C,
初期(1枚目)と1万枚連続通紙時の画出し評価の項目と評価基準を以下に示す。また評価結果を表8に示す。 The items and evaluation criteria for image output evaluation at the initial stage (first sheet) and after 10,000 sheets of continuous paper feed are shown below. The evaluation results are shown in Table 8.
(画像均一性の評価)
上記1万枚の耐久出力後にベタ画像を出力し、2cm角の画像をデジタルマイクロスコープにて取り込み、取り込んだ画像をImage-Jにて8bitグレースケール変換を行った後、濃度ヒストグラムを計測し、その標準偏差を求めた。その標準偏差の値に応じ以下の評価基準にてランク付けを行った。
A:標準偏差2.0未満(非常に優れている、肉眼では不均一性を認識できない)
B:標準偏差2.0以上4.0未満(かなり優れている)
C:標準偏差4.0以上6.0未満(本発明の効果が得られている)
D:標準偏差6.0以上(本発明の効果が得られていない、遠目で不均一性を感じる)
(Evaluation of Image Uniformity)
After the durability test of 10,000 sheets, a solid image was output, a 2 cm square image was captured by a digital microscope, and the captured image was converted to 8-bit grayscale using Image-J. The density histogram was then measured and its standard deviation was calculated. The standard deviation was ranked according to the following evaluation criteria.
A: Standard deviation less than 2.0 (very good, no unevenness can be seen with the naked eye)
B: Standard deviation of 2.0 or more and less than 4.0 (very good)
C: Standard deviation is 4.0 or more and less than 6.0 (the effect of the present invention is obtained)
D: Standard deviation of 6.0 or more (the effect of the present invention is not obtained, and non-uniformity is felt from a distance)
〔実施例2~39、比較例1~4〕
二成分系現像剤1を二成分系現像剤2~43に変えるほかは実施例1と同様に評価を行い、評価結果を表8に示した。
[Examples 2 to 39, Comparative Examples 1 to 4]
The evaluation was carried out in the same manner as in Example 1, except that the two-component developer 1 was changed to two-
1.原料定量供給手段、2.圧縮気体流量調整手段、3.導入管、4.突起状部材、5.供給管、6.処理室、7.熱風供給手段、8(8-1,8-2,8-3).冷風供給手段、9.規制手段、10.回収手段、11.熱風供給手段出口、12.分配部材、13.旋回部材、14.粉体粒子供給口 1. Raw material fixed amount supply means, 2. Compressed gas flow rate adjustment means, 3. Inlet pipe, 4. Projection-shaped member, 5. Supply pipe, 6. Treatment chamber, 7. Hot air supply means, 8 (8-1, 8-2, 8-3). Cold air supply means, 9. Regulating means, 10. Recovery means, 11. Hot air supply means outlet, 12. Distribution member, 13. Swirling member, 14. Powder particle supply port
Claims (9)
該コア粒子は、示差走査熱量測定(DSC)によるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQi(J/g)、該コア粒子のヘキサン処理後のDSCによるワックスに由来する吸熱ピークの吸熱量をQh(J/g)としたとき、以下の関係式を満たし、
0.7≦Qi-Qh≦20.0
該有機ケイ素重合体は、下記式(T3)で表される部分構造を有し、
前記トナー粒子のテトラヒドロフラン不溶分の29Si-NMRの測定において、有機ケイ素重合体の全ピーク面積に対する、下記式(T3)で表される部分構造のピーク面積の割合[ST3]が、ST3≧0.05の関係を満たし、
R-Si(O1/2)3 (T3)
(式(T3)中、Rは炭素数1以上6以下のアルキル基又はフェニル基を表す。)
該無機酸化物微粒子が該コア粒子表面に熱固着しており、
該結着樹脂とワックスを含有するコア粒子表面に該無機酸化物微粒子を付着させる工程、
および該無機酸化物微粒子の付着したコア粒子を水系媒体中で分散させる工程、
該無機酸化物微粒子の付着したコア粒子の表面に該有機ケイ素重合体を被覆する工程を含み、
該コア粒子表面に該無機酸化物微粒子を付着させる工程ののちに、該無機酸化物微粒子が付着した該コア粒子を熱風で処理する工程を有することを特徴とするトナーの製造方法。 1. A method for producing a toner having toner particles having core particles containing a binder resin and a wax, and inorganic oxide fine particles on the surface of the core particles, and a coating layer containing an organosilicon polymer coating the core particles, comprising the steps of:
The core particles satisfy the following relationship, where the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by differential scanning calorimetry (DSC) is Qi (J/g) and the endothermic heat of the endothermic peak derived from the wax measured by DSC after the core particles are treated with hexane is Qh (J/g):
0.7≦Qi−Qh≦20.0
The organosilicon polymer has a partial structure represented by the following formula (T3):
In a 29Si -NMR measurement of the tetrahydrofuran insoluble matter of the toner particles, the ratio [ST3] of the peak area of the partial structure represented by the following formula (T3) to the total peak area of the organosilicon polymer satisfies the relationship ST3≧0.05,
R-Si(O 1/2 ) 3 (T3)
(In formula (T3), R represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms or a phenyl group.)
the inorganic oxide fine particles are thermally fixed to the surface of the core particles,
a step of adhering the inorganic oxide fine particles to the surface of the core particles containing the binder resin and the wax;
and dispersing the core particles having the inorganic oxide fine particles attached thereto in an aqueous medium.
a step of coating the surface of the core particles to which the inorganic oxide fine particles are attached with the organosilicon polymer,
a step of treating the core particles having the inorganic oxide fine particles adhered thereto with hot air after the step of adhering the inorganic oxide fine particles to the surfaces of the core particles ;
前記コア粒子の表層における、ケイ素原子の濃度dSiと酸素原子の濃度dOと炭素原子の濃度dCの合計
(dSi+dO+dC)に対するケイ素原子の濃度(dSi/[dSi+dO+dC])が、2.5原子%以上である請求項1または2に記載のトナーの製造方法。 The organosilicon polymer has, when measured using X-ray photoelectron spectroscopy,
3. The method for producing a toner according to claim 1, wherein the concentration of silicon atoms (dSi/[dSi+dO+dC]) relative to the sum (dSi+dO+dC) of the concentration of silicon atoms dSi, the concentration of oxygen atoms dO, and the concentration of carbon atoms dC in the surface layer of the core particle is 2.5 atomic % or more.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020124138A JP7555746B2 (en) | 2020-07-21 | 2020-07-21 | Toner manufacturing method |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2020124138A JP7555746B2 (en) | 2020-07-21 | 2020-07-21 | Toner manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022020897A JP2022020897A (en) | 2022-02-02 |
JP7555746B2 true JP7555746B2 (en) | 2024-09-25 |
Family
ID=80220090
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020124138A Active JP7555746B2 (en) | 2020-07-21 | 2020-07-21 | Toner manufacturing method |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7555746B2 (en) |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010160451A (en) | 2009-01-09 | 2010-07-22 | Sharp Corp | Toner, two-component developer, developing device, and image forming apparatus |
JP2014038177A (en) | 2012-08-14 | 2014-02-27 | Fuji Xerox Co Ltd | Toner for electrostatic charge image development, electrostatic charge image developer, toner cartridge, process cartridge, image forming apparatus, and image forming method |
JP2015034976A (en) | 2013-07-11 | 2015-02-19 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | Toner for electrostatic latent image development |
JP2015132654A (en) | 2014-01-09 | 2015-07-23 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | Electrostatic latent image development toner |
JP2016200815A (en) | 2015-04-08 | 2016-12-01 | キヤノン株式会社 | toner |
JP2019128516A (en) | 2018-01-26 | 2019-08-01 | キヤノン株式会社 | toner |
-
2020
- 2020-07-21 JP JP2020124138A patent/JP7555746B2/en active Active
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010160451A (en) | 2009-01-09 | 2010-07-22 | Sharp Corp | Toner, two-component developer, developing device, and image forming apparatus |
JP2014038177A (en) | 2012-08-14 | 2014-02-27 | Fuji Xerox Co Ltd | Toner for electrostatic charge image development, electrostatic charge image developer, toner cartridge, process cartridge, image forming apparatus, and image forming method |
JP2015034976A (en) | 2013-07-11 | 2015-02-19 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | Toner for electrostatic latent image development |
JP2015132654A (en) | 2014-01-09 | 2015-07-23 | 京セラドキュメントソリューションズ株式会社 | Electrostatic latent image development toner |
JP2016200815A (en) | 2015-04-08 | 2016-12-01 | キヤノン株式会社 | toner |
JP2019128516A (en) | 2018-01-26 | 2019-08-01 | キヤノン株式会社 | toner |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2022020897A (en) | 2022-02-02 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP7433869B2 (en) | toner | |
JP6808538B2 (en) | toner | |
JP7286471B2 (en) | toner | |
CN110824866A (en) | Toner and image forming apparatus | |
US11131938B2 (en) | Toner and image forming method | |
JP7293010B2 (en) | Magnetic carrier, two-component developer, replenishment developer, and image forming method | |
JP7293009B2 (en) | Magnetic carrier, two-component developer, replenishment developer, and image forming method | |
KR100672882B1 (en) | Toner | |
JP2012163623A (en) | Toner | |
CN104076626A (en) | Electrostatic charge image developing toner, electrostatic charge image developer, toner cartridge, process cartridge, image forming apparatus, and image forming method | |
JP2007114398A (en) | Electrophotographic toner | |
CN110928151A (en) | Electrostatic charge image developer and process cartridge | |
JP4107299B2 (en) | Toner for electrostatic image development | |
JP7555746B2 (en) | Toner manufacturing method | |
CN103926810B (en) | Electrostatic image development toner, electrostatic charge image developer and toner cartridge | |
JP4455457B2 (en) | toner | |
JP7555745B2 (en) | Toner manufacturing method | |
JP2022092546A (en) | toner | |
JP7543117B2 (en) | Two-component developer, replenishment developer, and image forming method | |
JP2020160360A (en) | toner | |
JP2020056981A (en) | Toner, image forming apparatus, image forming method, and process cartridge | |
JP7523918B2 (en) | Magnetic carrier and two-component developer | |
JP7493973B2 (en) | toner | |
JP7551436B2 (en) | toner | |
JP7555809B2 (en) | Magnetic carrier, two-component developer, and replenishment developer |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20230713 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20240308 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240312 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240510 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20240528 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20240726 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20240813 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20240911 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7555746 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |