JP7425351B2 - パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 - Google Patents
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- -1 silane compound Chemical class 0.000 title claims description 63
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 title claims description 43
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 title claims description 22
- 239000012756 surface treatment agent Substances 0.000 claims description 65
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 61
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 43
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 41
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 40
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 claims description 22
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 20
- 125000001153 fluoro group Chemical group F* 0.000 claims description 18
- 229920002545 silicone oil Polymers 0.000 claims description 17
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 16
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 claims description 15
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 12
- 125000005010 perfluoroalkyl group Chemical group 0.000 claims description 12
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 10
- 238000001771 vacuum deposition Methods 0.000 claims description 9
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 8
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 7
- 239000002904 solvent Substances 0.000 claims description 7
- 230000003373 anti-fouling effect Effects 0.000 claims description 5
- 125000003161 (C1-C6) alkylene group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 claims description 4
- 239000008188 pellet Substances 0.000 claims description 4
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 claims description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims description 2
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 claims description 2
- 239000010408 film Substances 0.000 description 33
- 239000002335 surface treatment layer Substances 0.000 description 33
- 239000010702 perfluoropolyether Substances 0.000 description 31
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 24
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 23
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 20
- 238000000034 method Methods 0.000 description 20
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 20
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 18
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 17
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 16
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 16
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 15
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 15
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 15
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 13
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 10
- 239000012298 atmosphere Substances 0.000 description 9
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N trimethyl orthoformate Chemical compound COC(OC)OC PYOKUURKVVELLB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000004169 (C1-C6) alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 7
- 125000004191 (C1-C6) alkoxy group Chemical group 0.000 description 6
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 6
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 6
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 6
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 6
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 6
- SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC(C(F)(F)F)=C1 SJBBXFLOLUTGCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 5
- TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N [diacetyloxy(methyl)silyl] acetate Chemical compound CC(=O)O[Si](C)(OC(C)=O)OC(C)=O TVJPBVNWVPUZBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 5
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 5
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 5
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 5
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 5
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 5
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 5
- 125000000876 trifluoromethoxy group Chemical group FC(F)(F)O* 0.000 description 5
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 description 5
- 210000002268 wool Anatomy 0.000 description 5
- 125000001989 1,3-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([H])C([*:2])=C1[H] 0.000 description 4
- 125000001140 1,4-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:2])=C([H])C([H])=C1[*:1] 0.000 description 4
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical compound CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N Trifluoroacetic acid Chemical compound OC(=O)C(F)(F)F DTQVDTLACAAQTR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000005345 chemically strengthened glass Substances 0.000 description 4
- BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N ethenyl-[ethenyl(dimethyl)silyl]oxy-dimethylsilane Chemical compound C=C[Si](C)(C)O[Si](C)(C)C=C BITPLIXHRASDQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 4
- 239000011259 mixed solution Substances 0.000 description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 230000003068 static effect Effects 0.000 description 4
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 4
- ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N trichlorosilane Chemical compound Cl[SiH](Cl)Cl ZDHXKXAHOVTTAH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000005052 trichlorosilane Substances 0.000 description 4
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 4
- 125000006273 (C1-C3) alkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 3
- 125000000882 C2-C6 alkenyl group Chemical group 0.000 description 3
- 125000003601 C2-C6 alkynyl group Chemical group 0.000 description 3
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000004215 Carbon black (E152) Substances 0.000 description 3
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 3
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 3
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 3
- 230000018044 dehydration Effects 0.000 description 3
- 238000006297 dehydration reaction Methods 0.000 description 3
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 3
- 239000000835 fiber Substances 0.000 description 3
- 125000003709 fluoroalkyl group Chemical group 0.000 description 3
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 3
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 3
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 3
- JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium bromide Chemical compound [Br-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC JRMUNVKIHCOMHV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4,5,6,6,6-tridecafluoro-5-(1,1,1,2,3,3,4,4,5,5,6,6,6-tridecafluorohexan-2-yloxy)hexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)OC(F)(C(F)(F)F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F KSOCRXJMFBYSFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3,4,4-nonafluoro-4-(trifluoromethoxy)butane Chemical compound FC(F)(F)OC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F PGISRKZDCUNMRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002030 1,2-phenylene group Chemical group [H]C1=C([H])C([*:1])=C([*:2])C([H])=C1[H] 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N Carbon dioxide Chemical class O=C=O CURLTUGMZLYLDI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910003849 O-Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910003872 O—Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 2
- 125000005336 allyloxy group Chemical group 0.000 description 2
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 2
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 2
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 2
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 2
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000004430 oxygen atom Chemical group O* 0.000 description 2
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 2
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 2
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 2
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 description 2
- 125000006376 (C3-C10) cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 1,1,1,2,2,3,3-heptafluoro-3-methoxypropane Chemical compound COC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F NOPJRYAFUXTDLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4,4,5,5,6-undecafluoro-6-(trifluoromethyl)cyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C1(F)F QIROQPWSJUXOJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2,3,3,4-heptafluorocyclopentane Chemical compound FC1CC(F)(F)C(F)(F)C1(F)F IDBYQQQHBYGLEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=CC=C1C(F)(F)F XXZOEDQFGXTEAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ULTHEAFYOOPTTB-UHFFFAOYSA-N 1,4-dibromobutane Chemical compound BrCCCCBr ULTHEAFYOOPTTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxy-1,1,2,2,3,3,4,4,4-nonafluorobutane Chemical compound CCOC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F DFUYAWQUODQGFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FYRWKWGEFZTOQI-UHFFFAOYSA-N 3-prop-2-enoxy-2,2-bis(prop-2-enoxymethyl)propan-1-ol Chemical compound C=CCOCC(CO)(COCC=C)COCC=C FYRWKWGEFZTOQI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropan-1-amine Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN SJECZPVISLOESU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910018072 Al 2 O 3 Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000001313 C5-C10 heteroaryl group Chemical group 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 241000282575 Gorilla Species 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Chemical group 0.000 description 1
- 229910006404 SnO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010413 TiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000006750 UV protection Effects 0.000 description 1
- 239000003377 acid catalyst Substances 0.000 description 1
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 239000003463 adsorbent Substances 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 description 1
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 description 1
- 125000002029 aromatic hydrocarbon group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000010953 base metal Substances 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 125000001246 bromo group Chemical group Br* 0.000 description 1
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 1
- CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N carbon carbon Chemical compound C.C CREMABGTGYGIQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001569 carbon dioxide Substances 0.000 description 1
- 229910002092 carbon dioxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011203 carbon fibre reinforced carbon Substances 0.000 description 1
- 125000005708 carbonyloxy group Chemical group [*:2]OC([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 238000009125 cardiac resynchronization therapy Methods 0.000 description 1
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005229 chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 125000004218 chloromethyl group Chemical group [H]C([H])(Cl)* 0.000 description 1
- SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N chlorosilicon Chemical compound Cl[Si] SLLGVCUQYRMELA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 229940125904 compound 1 Drugs 0.000 description 1
- 229940125782 compound 2 Drugs 0.000 description 1
- 229940126214 compound 3 Drugs 0.000 description 1
- 239000004035 construction material Substances 0.000 description 1
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007865 diluting Methods 0.000 description 1
- 125000000118 dimethyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 1
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007756 gravure coating Methods 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010985 leather Substances 0.000 description 1
- 125000005647 linker group Chemical group 0.000 description 1
- 238000005461 lubrication Methods 0.000 description 1
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 1
- 239000012567 medical material Substances 0.000 description 1
- XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N metformin Chemical compound CN(C)C(=N)NC(N)=N XZWYZXLIPXDOLR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N methyltrimethoxysilane Chemical compound CO[Si](C)(OC)OC BFXIKLCIZHOAAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 239000000025 natural resin Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004745 nonwoven fabric Substances 0.000 description 1
- 239000013307 optical fiber Substances 0.000 description 1
- 239000005304 optical glass Substances 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 229960004624 perflexane Drugs 0.000 description 1
- LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N perfluoro-1,3-dimethylcyclohexane Chemical compound FC(F)(F)C1(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(C(F)(F)F)C1(F)F LOQGSOTUHASIHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N perfluorohexane Chemical compound FC(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)C(F)(F)F ZJIJAJXFLBMLCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005268 plasma chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229920003216 poly(methylphenylsiloxane) Polymers 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Chemical group 0.000 description 1
- 239000011148 porous material Substances 0.000 description 1
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 1
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 1
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 230000004224 protection Effects 0.000 description 1
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 1
- 239000011241 protective layer Substances 0.000 description 1
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
- 238000001179 sorption measurement Methods 0.000 description 1
- 238000004528 spin coating Methods 0.000 description 1
- 239000007921 spray Substances 0.000 description 1
- 238000004544 sputter deposition Methods 0.000 description 1
- 239000004575 stone Substances 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920003002 synthetic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000000057 synthetic resin Substances 0.000 description 1
- 238000002230 thermal chemical vapour deposition Methods 0.000 description 1
- 229910052718 tin Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052723 transition metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000003624 transition metals Chemical class 0.000 description 1
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002023 wood Substances 0.000 description 1
- 239000002759 woven fabric Substances 0.000 description 1
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
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Description
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-
(式中、a、b、cおよびdは、それぞれ独立して、0~200の整数であって、a、b、cおよびdの和は少なくとも1であり、添字a、b、cまたはdを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Xは、それぞれ独立して、単結合または2~10価の有機基を表し;
αは、それぞれ独立して、1~9の整数であり;
βは、1~9の整数であり;
Raは、各出現においてそれぞれ独立して、-Z-CR1 pR2 qR3 rを表し;
Zは、各出現においてそれぞれ独立して、酸素原子または2価の有機基を表し;
R1は、各出現においてそれぞれ独立して、Ra’を表し;
Ra’は、Raと同意義であり;
Ra中、Z基を介して直鎖状に連結されるCは最大で5個であり;
R2は、各出現においてそれぞれ独立して、-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、2価の有機基を表し;
R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基または加水分解可能な基を表し;
R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
nは、(-Y-SiR5 nR6 3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表し;
R3は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
pは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
qは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
rは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Rcは、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または低級アルキル基を表し;
kは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
lは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
mは、各出現においてそれぞれ独立して、0~3の整数であり;
ただし、式中、少なくとも1つのqは2または3であるか、あるいは、少なくとも1つのlは2または3である。]
で表されるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物が提供される。
-(R31)p’-(Xa)q’-
[式中:
R31は、それぞれ独立して、単結合、-(CH2)s’-またはo-、m-もしくはp-フェニレン基を表し、好ましくは-(CH2)s’-であり、
s’は、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数、さらにより好ましくは1または2であり、
Xaは、-(Xb)l’-を表し、
Xbは、各出現においてそれぞれ独立して、-O-、-S-、o-、m-もしくはp-フェニレン基、-C(O)O-、-Si(R33)2-、-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、-CONR34-、-O-CONR34-、-NR34-および-(CH2)n’-からなる群から選択される基を表し、
R33は、各出現においてそれぞれ独立して、フェニル基、C1-6アルキル基またはC1-6アルコキシ基を表し、好ましくはフェニル基またはC1-6アルキル基であり、より好ましくはメチル基であり、
R34は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子、フェニル基またはC1-6アルキル基(好ましくはメチル基)を表し、
m’は、各出現において、それぞれ独立して、1~100の整数、好ましくは1~20の整数であり、
n’は、各出現において、それぞれ独立して、1~20の整数、好ましくは1~6の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
l’は、1~10の整数、好ましくは1~5の整数、より好ましくは1~3の整数であり、
p’は、0、1または2であり、
q’は、0または1であり、
ここに、p’およびq’の少なくとも一方は少なくとも1であり、p’またはq’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は任意である]
で表される2価の基が挙げられる。ここに、R31およびXa(典型的にはR31およびXaの水素原子)は、フッ素原子、C1-3アルキル基およびC1-3フルオロアルキル基から選択される1個またはそれ以上の置換基により置換されていてもよい。
C1-20アルキレン基、
-R31-Xc-R31-、または
-Xd-R31-
[式中、R31は、上記と同意義である。]
であり得る。
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-Xc-、
-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-
-Xd-、または
-Xd-(CH2)t’-
[式中、s’およびt’は、上記と同意義である。]
である。
-O-、
-S-、
-C(O)O-、
-CONR34-、
-O-CONR34-、
-Si(R33)2-、
-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-Si(R33)2-O-Si(R33)2-CH2CH2-Si(R33)2-O-Si(R33)2-、
-O-(CH2)u’-Si(OCH3)2OSi(OCH3)2-、
-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、または
-CONR34-(o-、m-またはp-フェニレン)-Si(R33)2-
[式中、R33、R34およびm’は、上記と同意義であり、
u’は1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。]を表す。Xcは、好ましくは-O-である。
-S-、
-C(O)O-、
-CONR34-、
-CONR34-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-、
-CONR34-(CH2)u’-N(R34)-、または
-CONR34-(o-、m-またはp-フェニレン)-Si(R33)2-
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
を表す。
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-Xc-(CH2)t’-、または
-Xd-(CH2)t’-
[式中、各記号は、上記と同意義である。]
であり得る。
C1-20アルキレン基、
-(CH2)s’-O-(CH2)t’-、
-(CH2)s’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、
-(CH2)s’-O-(CH2)u’-(Si(R33)2O)m’-Si(R33)2-(CH2)t’-、または
-(CH2)s’-O-(CH2)t’-Si(R33)2-(CH2)u’-Si(R33)2-(CvH2v)-
[式中、R33、m’、s’、t’およびu’は、上記と同意義であり、vは1~20の整数、好ましくは2~6の整数、より好ましくは2~3の整数である。]
である。
Dは、
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CF2O(CH2)3-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、および
から選択される基であり、
Eは、-(CH2)n-(nは2~6の整数)であり、
Dは、分子主鎖のPFPEに結合し、Eは、PFPEと反対の基に結合する。]
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CH2O(CH2)6-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-、
-CH2OCF2CHFOCF2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2-、
-CH2OCF2CHFOCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CF2CF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF2CF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2-、
-CH2OCH2CHFCF2OCF(CF3)CF2OCF2CF2CF2-
-CH2OCH2(CH2)7CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)2-、
-CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)2OSi(OCH3)2(CH2)3-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-(CH2)5-、
-(CH2)6-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CONH-(CH2)6-、
-CON(CH3)-(CH2)6-、
-CON(Ph)-(CH2)6-(式中、Phはフェニルを意味する)、
-CONH-(CH2)2NH(CH2)3-、
-CONH-(CH2)6NH(CH2)3-、
-CH2O-CONH-(CH2)3-、
-CH2O-CONH-(CH2)6-、
-S-(CH2)3-、
-(CH2)2S(CH2)3-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2OSi(CH3)2OSi(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)2Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)3Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)10Si(CH3)2(CH2)2-、
-CONH-(CH2)3Si(CH3)2O(Si(CH3)2O)20Si(CH3)2(CH2)2-
-C(O)O-(CH2)3-、
-C(O)O-(CH2)6-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)2-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-(CH2)3-、
-CH2-O-(CH2)3-Si(CH3)2-(CH2)2-Si(CH3)2-CH(CH3)-CH2-、
-OCH2-、
-O(CH2)3-、
-OCFHCF2-、
などが挙げられる。
R41は、それぞれ独立して、水素原子、フェニル基、炭素数1~6のアルキル基、またはC1-6アルコキシ基好ましくはメチル基であり;
各X基において、Tのうち任意のいくつかは、式(1a)および(1b)の分子主鎖のPFPEに結合する以下の基:
-CH2O(CH2)2-、
-CH2O(CH2)3-、
-CF2O(CH2)3-、
-(CH2)2-、
-(CH2)3-、
-(CH2)4-、
-CONH-(CH2)3-、
-CON(CH3)-(CH2)3-、
-CON(Ph)-(CH2)3-(式中、Phはフェニルを意味する)、または
であり、別のTのいくつかは、分子主鎖のPFPEと反対の基(即ち、式(1a)および(1b)において-CRa kRb lRc m)に結合する-(CH2)n”-(n”は2~6の整数)であり、存在する場合、残りは、それぞれ独立して、メチル基、フェニル基またはC1-6アルコキシ基である。
R21-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-R22 ・・・(3)
式中、R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16のアルキル基(好ましくは、C1-16のパーフルオロアルキル基)を表し、R22は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよいC1-16のアルキル基(好ましくは、C1-16のパーフルオロアルキル基)、フッ素原子または水素原子を表し、R21およびR22は、より好ましくは、それぞれ独立して、C1-3のパーフルオロアルキル基である。
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1、好ましくは1~300、より好ましくは20~300である。添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。これら繰り返し単位のうち、-(OC4F8)-は、-(OCF2CF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2CF2)-、-(OCF2CF(CF3)CF2)-、-(OCF2CF2CF(CF3))-、-(OC(CF3)2CF2)-、-(OCF2C(CF3)2)-、-(OCF(CF3)CF(CF3))-、-(OCF(C2F5)CF2)-および-(OCF2CF(C2F5))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2CF2CF2)-である。-(OC3F6)-は、-(OCF2CF2CF2)-、-(OCF(CF3)CF2)-および-(OCF2CF(CF3))-のいずれであってもよく、好ましくは-(OCF2CF2CF2)-である。-(OC2F4)-は、-(OCF2CF2)-および-(OCF(CF3))-のいずれであってもよいが、好ましくは-(OCF2CF2)-である。
R21-(OCF2CF2CF2)b’’-R22 ・・・(3a)
R21-(OCF2CF2CF2CF2)a’’-(OCF2CF2CF2)b’’-(OCF2CF2)c’’-(OCF2)d’’-R22 ・・・(3b)
これら式中、R21およびR22は上記の通りであり;式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c’’およびd’’はそれぞれ独立して1以上300以下の整数である。添字a’’、b’’、c’’、d’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、NaH4.62g、およびテトラブチルアンモニウムブロミド0.41gを仕込んだ後、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン23g、1,4-ジブロモブタン42g、およびペンタエリスリトールトリアリルエーテル10gを加え65℃で撹拌し、その後、分離精製し、下記のペンタエリスリトールトリアリルエーテルブロモ付加体(A)5.23gを得た。
・ペンタエリスリトールトリアリルエーテルブロモ付加体(A):
BrCH2CH2CH2CH2OCH2C(CH2OCH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OH(ただし、混合物中には(CF2CF2CF2CF2O)および/または(CF2CF2CF2O)の繰り返し単位を微量含む化合物も含まれるが、極少量のため考慮していない)で表されるパーフルオロポリエーテル変性アルコール体8.96g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン51g、およびKOH0.39gを仕込み、70℃で撹拌した。続いて、合成例1で得られた、ペンタエリスリトールトリアリルエーテルブロモ付加体(A)3.60g、およびテトラブチルアンモニウムブロミド0.14gを加え、70℃で撹拌した後、分離精製し、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体(B)4.86gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体(B):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2CH2OCH2C(CH2OCH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例2で合成した、パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体(B)3.33g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン7.24g、およびトリアセトキシメチルシラン0.01gを仕込み、30分間撹拌した。続いて、トリクロロシラン1.16g、および1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.03ml加えた後、60℃で3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、メタノール0.13gとオルトギ酸トリメチル5.25gの混合溶液を加えた後、50℃で撹拌した後、分離精製し、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(C)3.12gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(C):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2CH2OCH2C(CH2OCH2CH2CH2Si(OMe)3)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた100mLの4つ口フラスコに、平均組成CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OHで表されるパーフルオロポリエーテル変性アルコール体8.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン45g、およびKOH0.33gを仕込み、70℃で撹拌した。続いて、合成例1で得られた、ペンタエリスリトールトリアリルエーテルブロモ付加体(A)3.10g、およびテトラブチルアンモニウムブロミド0.12gを加え、70℃で撹拌した後、分離精製し、末端にアリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体(D)4.81gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体(D):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2CH2OCH2C(CH2OCH2CH=CH2)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、合成例4で合成した、パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体(D)4.5g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン8.87g、およびトリアセトキシメチルシラン0.01gを仕込み、30分間撹拌した。続いて、トリクロロシラン1.42g、および1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.04ml加えた後、60℃で3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、メタノール0.16gとオルトギ酸トリメチル6.44gの混合溶液を加えた後、50℃で撹拌した後、分離精製し、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(E)4.36gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(E):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2CH2OCH2CH2CH2CH2OCH2C(CH2OCH2CH2CH2Si(OMe)3)3
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2C(OCH2CH=CH2)(CH2CH=CH2)2)(ただし、混合物中には(CF2CF2CF2CF2O)および/または(CF2CF2CF2O)の繰り返し単位を微量含む化合物も含まれるが、極少量のため考慮していない)5.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン9.0g、およびトリアセトキシメチルシラン0.01gを仕込み、30分間撹拌した。続いて、トリクロロシラン1.50g、および1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.05ml加えた後、60℃で3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、メタノール0.20gとオルトギ酸トリメチル7.0gの混合溶液を加えた後、50℃で撹拌した後、分離精製し、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(F)5.32gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(F):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2C[OCH2CH2CH2Si(OMe)3][CH2CH2CH2Si(OMe)3]2
還流冷却器、温度計および撹拌機を取り付けた50mLの4つ口フラスコに、パーフルオロポリエーテル基含有アリルオキシ体CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2C(OCH2CH=CH2)(CH2CH=CH2)2)4.0g、1,3-ビス(トリフルオロメチル)ベンゼン7.2g、およびトリアセトキシメチルシラン0.01gを仕込み、30分間撹拌した。続いて、トリクロロシラン1.20g、および1,3-ジビニル-1,1,3,3-テトラメチルジシロキサンのPt錯体を2%含むキシレン溶液を0.04ml加えた後、60℃で3時間撹拌した。その後、減圧下で揮発分を留去し、メタノール0.16gとオルトギ酸トリメチル5.6gの混合溶液を加えた後、50℃で撹拌した後、分離精製し、末端にトリメトキシシリル基を有する下記のパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(G)4.4gを得た。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(G):
CF3CF2CF2O(CF2CF2CF2O)20CF2CF2C[OCH2CH2CH2Si(OMe)3][CH2CH2CH2Si(OMe)3]2
上記合成例3で得た化合物(C)を、濃度20wt%になるように、ハイドロフルオロエーテル(スリーエム社製、ノベックHFE7200)に溶解させて、表面処理剤1を調製した。
化合物(C)に代えて、上記合成例5で得た化合物(E)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(C)に代えて、上記合成例6で得た化合物(F)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(C)に代えて、上記合成例7で得た化合物(G)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
化合物(C)に代えて、下記に示すパーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H)を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・パーフルオロポリエーテル基含有シラン化合物(H):
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2C[OC(O)NHCH2CH2CH2Si(OMe)3][CH2CH2CH2Si(OMe)3]2
化合物(C)に代えて、下記対照化合物1~3を用いたこと以外は、実施例1と同様にして、表面処理剤を調製し、表面処理層を形成した。
・対照化合物1
CF3O(CF2CF2O)20(CF2O)16CF2CH2OCH2CH2CH2Si(OCH3)3
・対照化合物2
・対照化合物3
上記の実施例および比較例にて基材表面に形成された表面処理層について、水の静的接触角を測定した。水の静的接触角は、接触角測定装置(協和界面科学社製)を用いて、水1μLにて実施した。
Claims (20)
- 式(1a”)または式(1b”):
Rfは、各出現においてそれぞれ独立して、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
PFPEは、各出現においてそれぞれ独立して、式:
-(OC4F8)a-(OC3F6)b-(OC2F4)c-(OCF2)d-
(式中、a、b、cおよびdは、それぞれ独立して、0~200の整数であって、a、b、cおよびdの和は10以上であり、添字a、b、cまたはdを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は式中において任意である。)
で表される基であり;
Xは、それぞれ独立して、単結合を表し;
Rbは、各出現においてそれぞれ独立して、-Y-SiR5 nR6 3-nを表し;
Yは、各出現においてそれぞれ独立して、C1-6アルキレン基を表し;
R5は、各出現においてそれぞれ独立して、水酸基、-OR、-OCOR、-O-N=C(R) 2 、-N(R) 2 、-NHR、またはハロゲン(これら式中、Rは、置換または非置換の炭素数1~4のアルキル基を示す)を表し;
R6は、各出現においてそれぞれ独立して、水素原子または炭素数1~20のアルキル基を表し;
nは、(-Y-SiR5 nR6 3-n)単位毎に独立して、1~3の整数を表す。]
で表され、
Rf-PFPE部の数平均分子量が、500~30,000であるパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - Rfが、炭素数1~16のパーフルオロアルキル基である、請求項1に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- PFPEが、以下の式(i)~(iv)のいずれか:
-(OCF2CF2CF2)b- (i)
[式中、bは10~200の整数である。]
-(OCF(CF3)CF2)b- (ii)
[式中、bは10~200の整数である。]
-(OCF2CF2CF2CF2)a-(OCF2CF2CF2)b-(OCF2CF2)c-(OCF2)d- (iii)
[式中、aおよびbは、それぞれ独立して、0~30の整数であり、cおよびdは、それぞれ独立して、1~200の整数であり、a、b、cおよびdの和は10以上であり、添字a、b、cまたはdを付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
または
-(OC2F4-R8)n”- (iv)
[式中、R8は、OC2F4、OC3F6およびOC4F8から選択される基であるか、あるいは、これらの基から独立して選択される2または3つの基の組み合わせであり;
n”は、5~100の整数である。]
で表される基である、請求項1または2に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。 - 2,000~32,000の数平均分子量を有する、請求項1~3のいずれか1項に記載のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物。
- 請求項1~4のいずれか1項に記載の式(1a”)および/または式(1b”)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物を含有する、表面処理剤。
- 含フッ素オイル、シリコーンオイル、および触媒から選択される1種またはそれ以上の他の成分をさらに含有する、請求項5に記載の表面処理剤。
- 含フッ素オイルが、式(3):
R21-(OC4F8)a’-(OC3F6)b’-(OC2F4)c’-(OCF2)d’-R22
・・・(3)
[式中:
R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
R22は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し;
a’、b’、c’およびd’は、ポリマーの主骨格を構成するパーフルオロ(ポリ)エーテルの4種の繰り返し単位数をそれぞれ表し、互いに独立して0以上300以下の整数であって、a’、b’、c’およびd’の和は少なくとも1であり、添字a’、b’、c’またはd’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表される1種またはそれ以上の化合物である、請求項6に記載の表面処理剤。 - 含フッ素オイルが、式(3a)または(3b):
R21-(OCF2CF2CF2)b’’-R22 ・・・(3a)
R21-(OCF2CF2CF2CF2)a’’-(OCF2CF2CF2)b’’-(OCF2CF2)c’’-(OCF2)d’’-R22 ・・・(3b)
[式中:
R21は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基を表し;
R22は、1個またはそれ以上のフッ素原子により置換されていてもよい炭素数1~16のアルキル基、フッ素原子または水素原子を表し;
式(3a)において、b’’は1以上100以下の整数であり;
式(3b)において、a’’およびb’’は、それぞれ独立して0以上30以下の整数であり、c’’およびd’’は、それぞれ独立して1以上300以下の整数であり;
添字a’’、b’’、c’’またはd’’を付して括弧でくくられた各繰り返し単位の存在順序は、式中において任意である。]
で表される1種またはそれ以上の化合物である、請求項6または7に記載の表面処理剤。 - 少なくとも式(3b)で表される1種またはそれ以上の化合物を含む、請求項8に記載の表面処理剤。
- 請求項1~4のいずれか1項に記載の式(1a”)または式(1b”)で表される少なくとも1種のパーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物と、式(3b)で表される化合物との質量比が、4:1~1:4である、請求項8または9に記載の表面処理剤。
- 式(3a)で表される化合物が、2,000~8,000の数平均分子量を有する、請求項8~10のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 式(3b)で表される化合物が、2,000~30,000の数平均分子量を有する、請求項8~11のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 式(3b)で表される化合物が、8,000~30,000の数平均分子量を有する、請求項8~12のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- さらに溶媒を含む、請求項5~13のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 防汚性コーティング剤または防水性コーティング剤として使用される、請求項5~14のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 真空蒸着用である、請求項5~15のいずれか1項に記載の表面処理剤。
- 請求項5~16のいずれか1項に記載の表面処理剤を含有するペレット。
- 基材と、該基材の表面に、請求項1~4のいずれか1項に記載の化合物または請求項5~16のいずれかに記載の表面処理剤より形成された層とを含む物品。
- 前記物品が光学部材である、請求項18に記載の物品。
- 前記物品がディスプレイである、請求項18に記載の物品。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2024005268A JP2024028510A (ja) | 2015-07-31 | 2024-01-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Applications Claiming Priority (7)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2015152468 | 2015-07-31 | ||
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JP2015181146 | 2015-09-14 | ||
JP2015181146 | 2015-09-14 | ||
JP2015215019 | 2015-10-30 | ||
JP2015215019 | 2015-10-30 | ||
JP2020156419A JP7440384B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-09-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2020156419A Division JP7440384B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-09-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024005268A Division JP2024028510A (ja) | 2015-07-31 | 2024-01-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2022103273A JP2022103273A (ja) | 2022-07-07 |
JP7425351B2 true JP7425351B2 (ja) | 2024-01-31 |
Family
ID=57942876
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016138192A Active JP6123939B1 (ja) | 2015-07-31 | 2016-07-13 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2017023537A Active JP6776930B2 (ja) | 2015-07-31 | 2017-02-10 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2019102899A Active JP6575721B1 (ja) | 2015-07-31 | 2019-05-31 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2020156419A Active JP7440384B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-09-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2022077207A Active JP7425351B2 (ja) | 2015-07-31 | 2022-05-09 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2024005268A Pending JP2024028510A (ja) | 2015-07-31 | 2024-01-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Family Applications Before (4)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2016138192A Active JP6123939B1 (ja) | 2015-07-31 | 2016-07-13 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2017023537A Active JP6776930B2 (ja) | 2015-07-31 | 2017-02-10 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2019102899A Active JP6575721B1 (ja) | 2015-07-31 | 2019-05-31 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP2020156419A Active JP7440384B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-09-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2024005268A Pending JP2024028510A (ja) | 2015-07-31 | 2024-01-17 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (2) | US10450413B2 (ja) |
EP (2) | EP3333172B1 (ja) |
JP (6) | JP6123939B1 (ja) |
KR (2) | KR20190072677A (ja) |
CN (3) | CN109970966A (ja) |
WO (1) | WO2017022437A1 (ja) |
Families Citing this family (49)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109970966A (zh) * | 2015-07-31 | 2019-07-05 | 大金工业株式会社 | 含有全氟(聚)醚基的硅烷化合物 |
CN107922445B (zh) * | 2015-09-01 | 2020-07-28 | Agc株式会社 | 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液和物品 |
JP6680350B2 (ja) * | 2016-02-17 | 2020-04-15 | 信越化学工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有ポリマー変性シラン、表面処理剤及び物品 |
CN109153777B (zh) * | 2016-05-16 | 2022-03-25 | 索尔维特殊聚合物意大利有限公司 | (全)氟聚醚衍生物 |
KR102269698B1 (ko) | 2016-10-31 | 2021-06-25 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 함불소 에테르 조성물, 코팅액 및 물품 |
JP6477934B1 (ja) * | 2017-02-03 | 2019-03-06 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有化合物、これを含む表面処理剤、および物品 |
WO2018169002A1 (ja) * | 2017-03-17 | 2018-09-20 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
CN111032731B (zh) * | 2017-08-18 | 2022-06-24 | Agc株式会社 | 含氟醚化合物的制造方法、及物品的制造方法 |
JP6741170B2 (ja) * | 2017-10-31 | 2020-08-19 | Agc株式会社 | 含フッ素エーテル化合物の製造方法、物品の製造方法 |
JP6665915B2 (ja) * | 2017-11-15 | 2020-03-13 | ダイキン工業株式会社 | 基材 |
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WO2020137998A1 (ja) | 2018-12-26 | 2020-07-02 | Agc株式会社 | 撥水撥油層付き基材、およびその製造方法 |
CN118373730A (zh) | 2019-02-08 | 2024-07-23 | Agc株式会社 | 含氟醚化合物、含氟醚组合物、涂布液、物品、物品的制造方法和含氟化合物的制造方法 |
WO2020166488A1 (ja) | 2019-02-13 | 2020-08-20 | Agc株式会社 | 組成物および物品 |
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JP6801804B2 (ja) * | 2019-03-29 | 2020-12-16 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物 |
JP6943315B2 (ja) | 2019-05-22 | 2021-09-29 | ダイキン工業株式会社 | 防汚基材 |
KR102569913B1 (ko) | 2019-05-29 | 2023-08-24 | 다이킨 고교 가부시키가이샤 | 표면 처리제 |
CN114072475B (zh) | 2019-07-05 | 2022-06-17 | 大金工业株式会社 | 表面处理剂 |
JP6927373B2 (ja) | 2019-07-17 | 2021-08-25 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
CN114206986B (zh) * | 2019-08-02 | 2024-07-26 | 大金工业株式会社 | 表面处理剂 |
EP4032933A4 (en) | 2019-09-20 | 2024-03-20 | Agc Inc. | FLUORINE ETHER COMPOUND, SURFACE TREATMENT AGENT, FLUORINE ETHER COMPOSITION, COATING LIQUID, ARTICLE AND COMPOUND |
WO2021059981A1 (ja) | 2019-09-26 | 2021-04-01 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有シラン化合物 |
EP4047035A4 (en) | 2019-10-18 | 2023-10-04 | Daikin Industries, Ltd. | SURFACE TREATMENT AGENT |
TW202128832A (zh) | 2019-11-13 | 2021-08-01 | 日商大金工業股份有限公司 | 含有氟聚醚基之化合物的製造方法 |
WO2021095872A1 (ja) | 2019-11-13 | 2021-05-20 | ダイキン工業株式会社 | フルオロポリエーテル基含有化合物の製造方法 |
JP7202588B2 (ja) | 2020-02-27 | 2023-01-12 | ユニマテック株式会社 | 含フッ素アルコールコンポジット |
KR102358521B1 (ko) * | 2020-05-08 | 2022-02-04 | (주)에버그린켐텍 | 퍼플루오로폴리에테르 실레인 화합물 및 이의 제조방법 |
CN115916870A (zh) | 2020-06-12 | 2023-04-04 | Agc株式会社 | 含氟醚化合物及其制造方法、化合物及其制造方法、含氟醚组合物、涂布液、以及物品及其制造方法 |
CN115803362A (zh) | 2020-07-02 | 2023-03-14 | 大金工业株式会社 | 固化性组合物 |
JP7389259B2 (ja) * | 2020-07-13 | 2023-11-29 | 日東電工株式会社 | 防汚層付き光学フィルム |
JPWO2022059620A1 (ja) | 2020-09-16 | 2022-03-24 | ||
KR20230067603A (ko) | 2020-09-16 | 2023-05-16 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 조성물, 표면층이 형성된 기재, 표면층이 형성된 기재의 제조 방법, 화합물 및 화합물의 제조 방법 |
WO2022097568A1 (ja) * | 2020-11-05 | 2022-05-12 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
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JPWO2022186271A1 (ja) * | 2021-03-05 | 2022-09-09 | ||
JPWO2022230642A1 (ja) * | 2021-04-28 | 2022-11-03 | ||
EP4339545A4 (en) | 2021-05-21 | 2024-12-18 | Daikin Industries, Ltd. | Heat exchanger |
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JP7274158B2 (ja) | 2021-08-02 | 2023-05-16 | 国立大学法人 東京大学 | フルオロポリエーテル化合物 |
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JP2009191101A (ja) | 2008-02-12 | 2009-08-27 | Fujifilm Corp | 含フッ素多官能ケイ素化合物を含有する表面処理剤組成物 |
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WO2011059430A1 (en) * | 2009-11-11 | 2011-05-19 | Essilor International | Surface treatment composition, process for producing the same, and surface-treated article |
JP5234057B2 (ja) * | 2010-06-28 | 2013-07-10 | 信越化学工業株式会社 | パーフルオロポリエーテル基含有ポリエーテル変性ポリシロキサン及びその製造方法 |
JP5841055B2 (ja) * | 2010-08-10 | 2016-01-06 | 株式会社カネカ | 硬化性組成物 |
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EP2857466B1 (en) * | 2012-03-29 | 2019-05-29 | Daikin Industries, Ltd. | Surface treatment composition and article obtained using same |
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JP2014070163A (ja) * | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 表面改質剤、処理基材、化合物の製造方法、及び化合物 |
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TW201546115A (zh) | 2013-12-26 | 2015-12-16 | Daikin Ind Ltd | 含有含全氟(聚)醚基之矽烷化合物的表面處理劑 |
CN104312397A (zh) * | 2014-10-29 | 2015-01-28 | 苏州东杏表面技术有限公司 | 一种表面处理剂及其制备方法和用途 |
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JP6172410B2 (ja) * | 2016-01-26 | 2017-08-02 | ダイキン工業株式会社 | 表面処理剤 |
-
2016
- 2016-07-13 CN CN201910256676.XA patent/CN109970966A/zh active Pending
- 2016-07-13 JP JP2016138192A patent/JP6123939B1/ja active Active
- 2016-07-13 CN CN201680021431.3A patent/CN107428786B/zh active Active
- 2016-07-13 KR KR1020197017285A patent/KR20190072677A/ko not_active Application Discontinuation
- 2016-07-13 EP EP16832716.1A patent/EP3333172B1/en active Active
- 2016-07-13 CN CN201910256966.4A patent/CN110054769B/zh active Active
- 2016-07-13 KR KR1020187002428A patent/KR101992582B1/ko active IP Right Grant
- 2016-07-13 WO PCT/JP2016/070721 patent/WO2017022437A1/ja active Application Filing
- 2016-07-13 EP EP20186455.0A patent/EP3766889A1/en not_active Withdrawn
- 2016-07-13 US US15/748,986 patent/US10450413B2/en active Active
-
2017
- 2017-02-10 JP JP2017023537A patent/JP6776930B2/ja active Active
-
2019
- 2019-05-31 JP JP2019102899A patent/JP6575721B1/ja active Active
- 2019-09-05 US US16/561,827 patent/US11174349B2/en active Active
-
2020
- 2020-09-17 JP JP2020156419A patent/JP7440384B2/ja active Active
-
2022
- 2022-05-09 JP JP2022077207A patent/JP7425351B2/ja active Active
-
2024
- 2024-01-17 JP JP2024005268A patent/JP2024028510A/ja active Pending
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2010534863A (ja) | 2007-07-26 | 2010-11-11 | スリーエム イノベイティブ プロパティズ カンパニー | 低表面エネルギーのハードコートレンズを有する、レスピレータ、溶接用ヘルメット、又はフェイスシールド |
JP2014070164A (ja) | 2012-09-28 | 2014-04-21 | Fujifilm Corp | 表面改質剤、処理基材、化合物の製造方法、及び化合物 |
WO2014069592A1 (ja) | 2012-11-05 | 2014-05-08 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
JP6776930B2 (ja) | 2015-07-31 | 2020-10-28 | ダイキン工業株式会社 | パーフルオロ(ポリ)エーテル基含有シラン化合物 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN107428786A (zh) | 2017-12-01 |
JP2019183160A (ja) | 2019-10-24 |
US20190390009A1 (en) | 2019-12-26 |
JP2021001350A (ja) | 2021-01-07 |
KR101992582B1 (ko) | 2019-06-24 |
JP6575721B1 (ja) | 2019-09-18 |
EP3766889A1 (en) | 2021-01-20 |
EP3333172A4 (en) | 2019-05-08 |
JP2017125193A (ja) | 2017-07-20 |
EP3333172A1 (en) | 2018-06-13 |
CN110054769A (zh) | 2019-07-26 |
CN107428786B (zh) | 2019-04-30 |
KR20180018819A (ko) | 2018-02-21 |
JP2017082194A (ja) | 2017-05-18 |
JP2022103273A (ja) | 2022-07-07 |
JP7440384B2 (ja) | 2024-02-28 |
US11174349B2 (en) | 2021-11-16 |
KR20190072677A (ko) | 2019-06-25 |
CN109970966A (zh) | 2019-07-05 |
US20190002635A1 (en) | 2019-01-03 |
US10450413B2 (en) | 2019-10-22 |
EP3333172B1 (en) | 2020-10-21 |
JP6123939B1 (ja) | 2017-05-10 |
WO2017022437A1 (ja) | 2017-02-09 |
JP6776930B2 (ja) | 2020-10-28 |
JP2024028510A (ja) | 2024-03-04 |
CN110054769B (zh) | 2021-01-05 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20220525 |
|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220525 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230518 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230613 |
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