JP7401850B2 - 表面被覆切削工具 - Google Patents
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Description
従来から、被覆工具としては、例えば、WC基超硬合金等の工具基体に硬質皮膜層を形成したものが知られており、工具基体と硬質皮膜層との界面に注目して、切削性能の改善を目的として種々の提案がなされている。
「(1)工具基体と該工具基体の表面上に工具表面に向かって、順に、下層、中間層、上層を含む被覆層を有する表面被覆切削工具であって、
前記下層は、2.0~20.0μmの平均層厚で、少なくとも1層のTiの炭窒化物層を有し、
前記中間層は0.1~1.5μmの平均層厚で、前記下層側にTiの窒化物である下部層と、前記上層側にTiの炭窒化物、炭酸化物、または、炭窒酸化物である上部層とを有し、前記上部層の前記Tiの炭窒化物、炭酸化物、または、炭窒酸化物は、前記工具基体の表面に平行な方向の結晶粒の平均幅が0.20μm以下であって、
前記上層は、1.0~10.0μmの平均層厚であって、組成を組成式:Ti1-xAlxNで表したとき(但し、xは原子比で平均組成を表す)、0.60≦x≦0.95を満足して、NaCl型面心立方構造の結晶粒が主である、
ことを特徴とする表面被覆切削工具。」
硬質皮膜層は、図1に模式的に示すように、工具基体から工具表面に向かって、順に、下層、中間層、上層の3層を有しており、中間層は上部層と下部層を有している。
以下、各層について説明する。
下層は、少なくとも1層のTi炭窒化物層を有し、さらに、少なくとも1層のTiの炭化物、窒化物、炭酸化物、または、炭窒酸化物のいずれかを含んでもよい。Ti炭窒化物層は、柱状粒子から構成されることが好ましい。
少なくとも1層のTiの炭窒化物層を有することにより、中間層を介して形成される上層と工具基体を強固に結合することができる。また、少なくとも1層のTi炭窒化物層の他に、例えば、工具基体直上に下地層として、Tiの窒化物層、Tiの炭化物層を有することが好ましい。
中間層は、下層側にTiの窒化物である下部層と、上層側にTiの炭窒化物、炭酸化物、または、炭窒化物である上部層とを有している。このような2層構造とすることにより、工具基体の凹凸を起点とした下層のTi炭窒化物の成長方向の乱れを下部層のTiNで分断し、上部層の結晶成長を工具基体の表面に垂直な方向とし、後述する上層であるTiAlNの異常成長を抑制することができる。
そして、前記上部層であるTiの炭窒化物、炭酸化物、または、炭窒酸化物の層は、前記工具基体の表面と平行な方向の結晶粒の平均幅を0.20μm以下とすることにより、確実に、下層のTi炭窒化物の成長方向の乱れ分断し、中間層と上層との界面領域における上層のTiAlNの異常成長を抑制することができる。なお、この平均幅の下限値は特段の制約はないが、後述する実施例の製造方法に従って製造した場合は、0.02μm程度が下限になる。
上層は、その組成を組成式:Ti1-xAlxNで表したとき(但し、xは原子比で平均組成を表す)、0.60≦x≦0.95を満足するTiAlN層である。xをこの範囲とした理由は、0.60未満であると耐摩耗性が十分でなく、一方、0.95を超えると六方晶の析出量が増大して硬さが低下して耐摩耗性が低下するためである。
硬質皮膜を構成する各層の平均膜厚は、それぞれ、下層が2.0~20.0μm、中間層が0.1~1.5μm、上層が1.0~10.0μmである。
上層および下層の平均層厚を前記範囲とした理由は、それぞれの下限値未満であると、長期の使用にわたって優れた耐摩耗性を発揮することができず、一方、それぞれの上限値を超えると、硬質皮膜の結晶粒が粗大化しやすくなり、被覆層全体の厚さが厚くなって耐チッピング性向上効果が得られなくなるからである。
中間層の平均層厚を前記範囲とした理由は、下限値未満であると、下層のTi炭窒化物の成長方向の乱れを分断する十分な効果が得られず、一方、上限値を超えると中間層の結晶粒の粗大化により前述の平均幅が0.2μmを超えてしまうためである。なお、上部層と下部層のそれぞれの平均層厚は、中間層の層厚が前記範囲にあり、かつ、上部層の平均幅が0.2μm以下となれば、特に制約はない。
なお、より好ましい各層の平均層厚は、それぞれ、下層が6.0~15.0μm、中間層が0.3~1.0μm、上層が3.0~6.0μmである。
平均膜厚については、走査型電子顕微鏡(Scanning Electron Microscopy:SEM)を用いた硬質皮膜層の縦断面の観察により求めることができる。
前記TiAlN層の平均組成については、電子線マイクロアナライザ(Electro n-Probe-Micro-Analyser:EPMA)を用い、表面を研磨した試料において、電子線を試料表面側から照射し、得られた特性X線の解析結果の10点平均を平均組成とする。
TiAlN層の結晶構造については、電子線後方散乱回折装置(Electron Backscatter Diffraction:EBSD)を用いて、硬質皮膜層の研磨した縦断の測定範囲内に存在する個々の結晶粒に対して70度の入射角度で15kVの加速電圧の電子線を1nAの照射電流で、0.01μm/stepの間隔で照射する。そして、電子線後方散乱回折像を測定し、個々の結晶粒の結晶構造を解析し、結晶構造が同定された全ピクセル数に占めるNaCl型面心立方構造に属するピクセル数の割合を求めることで、NaCl型面心立方構造の結晶粒の面積割合を求める。なお、測定範囲は、工具基体の表面に平行な方向に50μm、垂直方向は硬質皮膜層の厚さ全体を含む範囲とする。
工具基体は、この種の工具基体として従来公知の基材であれば、本発明の目的を達成することを阻害するものでない限り、いずれのものも使用可能である。一例を挙げるならば、超硬合金(WC基超硬合金、WCの他、Coを含み、さらに、Ti、Ta、Nb等の炭窒化物を添加したものも含むもの等)、サーメット(TiC、TiN、TiCN等を主
成分とするもの等)、セラミックス(炭化チタン、炭化珪素、窒化珪素、窒化アルミニウム、酸化アルミニウムなど)、または、cBN焼結体のいずれかであることが好ましい。
本発明の硬質皮膜は、球状黒鉛鋳鉄の高速旋削加工においても十分な耐摩耗性、耐チッピング性、および、耐剥離性を有するが、少なくとも酸化アルミニウム層を含む層が1.0~25.0μmの合計平均層厚で最上層として、前記TiAlCN層の上に設けられた場合には、これらの層が奏する効果と相俟って、より一層優れた耐摩耗性、耐チッピング性、および、耐剥離性を発揮することができる。ここで、少なくとも酸化アルミニウム層を含む層の合計平均層厚が1.0μm未満では、該層の効果が十分に奏されず、一方、25.0μmを超えると該層の結晶粒が粗大化しやすくなり、チッピングを発生しやすくなる。
本発明の被覆工具の皮膜は、化学蒸着装置を使用して、例えば、以下の工程により行う。以下の%は、体積%(容量%)であり、上層の成膜工程ではガス群Aとガス群Bの和を100容量%としている。
反応ガス TiCl4:2.0~2.5%、CH3CN:0.6~1.0%、
N2:20~40%、H2:残部
反応雰囲気温度:800~940℃
反応雰囲気圧力:5.0~10.0kPa
なお、TiCN層の他に、下地層として、Ti化合物層、すなわち、Tiの炭化物、窒化物、炭酸化物、または、炭窒酸化物のいずれかを成膜する場合は、公知の成膜条件を適宜採用すればよい。
中間層の成膜工程は、エッチング工程、下部層成膜工程と上部層成膜工程からなる。
a エッチング工程
反応ガス TiCl4:4.0~6.0%、H2:残部
反応雰囲気温度:800~980℃
反応雰囲気圧力:5.0~10.0kPa
b 下部層(TiN層)成膜工程
反応ガス TiCl4:1.5~2.5%、N2:45~65%、H2:残部
反応雰囲気温度:880~1000℃
反応雰囲気圧力:12.0~20.0kPa
c 上部層(例:TiCN層)成膜工程
反応ガス TiCl4:2.0~2.5%、CH3CN:0.4~0.6%、
N2:20.0~40.0%、H2:残部
反応雰囲気温度:700~800℃
反応雰囲気圧力:5.0~10.0kPa
反応ガス群A NH3:0.8~1.6%、H2:45~55%
反応ガス群B AlCl3:0.5~0.7%、TiCl4:0.1~0.3%、
N2:0.0~10.0%、H2:残部
反応雰囲気温度:700~900℃
反応雰囲気圧力:4.0~5.0kPa
反応ガス供給周期:1~5秒
1周期当りのガス供給時間:0.15~0.25秒
ガスA群の供給とガスB群の供給の位相差:0.10~0.20秒
ここでは、本発明の被覆工具の具体例として、工具基体としてWC基超硬合金を用いたインサート切削工具に適用したものについて述べるが、工具基体は前述のとおりWC基超硬合金に限定されることはなく、また、工具としてドリル、エンドミル等に適用した場合も同様である。
反応ガス TiCl4:2.0~2.5%、CH3CN:0.6~1.0%、
N2:20~40%、H2:残部
反応雰囲気温度:800~940℃
反応雰囲気圧力:5.0~10.0kPa
a エッチング工程
反応ガス TiCl4:4.0~6.0%、H2:残部
反応雰囲気温度:800~980℃
反応雰囲気圧力:5.0~10.0kPa
b 下部層(TiN層)の成膜工程
反応ガス TiCl4:1.5~2.5%、N2:45~65%、H2:残部
反応雰囲気温度:880~1000℃
反応雰囲気圧力:12.0~20.0kPa
c 上部層(TiCN層)の成膜工程
反応ガス TiCl4:2.0~2.5%、CH3CN:0.4~0.6%、
N2:20.0~40.0%、H2:残部
反応雰囲気温度:700~800℃
反応雰囲気圧力:5.0~10.0kPa
反応ガス群A NH3:0.8~1.6%、H2:45~55%
反応ガス群B AlCl3:0.5~0.7%、TiCl4:0.1~0.3%、
N2:0.0~10.0%、H2:残部
反応雰囲気温度:700~900℃
反応雰囲気圧力:4.0~5.0kPa
反応ガス供給周期:1~5秒
1周期当りのガス供給時間:0.15~0.25秒
ガスA群の供給とガスB群の供給の位相差:0.10~0.20秒
なお、比較例7、10については、表5に記載された成膜条件により酸化アルミニウムを含む最上層を形成した。
さらに、本発明被覆工具1~10、比較被覆工具1~10の被覆層について、前述した方法により、組成および結晶構造(NaCl型面心立方構造の結晶粒の面積割合)を測定し表7に記載した。
切削速度:380m/min
切込み:3.0mm
送り:0.35mm/rev
切削時間:5min
結果を表8に示す。
Claims (1)
- 工具基体と該工具基体の表面上に工具表面に向かって、順に、下層、中間層、上層を含む被覆層を有する表面被覆切削工具であって、
前記下層は、2.0~20.0μmの平均層厚で、少なくとも1層のTiの炭窒化物層を有し、
前記中間層は0.1~1.5μmの平均層厚で、前記下層側にTiの窒化物である下部層と、前記上層側にTiの炭窒化物、炭酸化物、または、炭窒酸化物である上部層とを有し、前記上部層の前記Tiの炭窒化物、炭酸化物、または、炭窒酸化物は、前記工具基体の表面に平行な方向の結晶粒の平均幅が0.20μm以下であって、
前記上層は、1.0~10.0μmの平均層厚であって、組成を組成式:Ti1-xAlxNで表したとき(但し、xは原子比で平均組成を表す)、0.60≦x≦0.95を満足して、NaCl型面心立方構造の結晶粒が主である、
ことを特徴とする表面被覆切削工具。
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