JP7478120B2 - Imaging device and electronic device - Google Patents
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims description 28
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 21
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims description 21
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 claims description 15
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000002596 correlated effect Effects 0.000 claims description 2
- 238000005070 sampling Methods 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 26
- 230000000875 corresponding effect Effects 0.000 description 17
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 14
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 14
- 239000011295 pitch Substances 0.000 description 12
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 11
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 10
- 230000003321 amplification Effects 0.000 description 5
- 238000003199 nucleic acid amplification method Methods 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 3
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 2
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 description 2
- 230000001276 controlling effect Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000012447 hatching Effects 0.000 description 1
- ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N nobelium Chemical compound [No] ORQBXQOJMQIAOY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
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Description
本発明は、撮像素子、および電子機器に関する。 The present invention relates to an imaging device and an electronic device .
複数の画素をブロックにまとめて、ブロック単位で信号を並列に読出す撮像素子が知られている(特許文献1参照)。このような撮像素子では、同色信号間のビニング処理が困難であった。 There is a known imaging element that groups multiple pixels into blocks and reads out signals in parallel on a block-by-block basis (see Patent Document 1). With such an imaging element, it is difficult to perform binning processing between signals of the same color.
発明の第1の態様によると、撮像素子は、第1方向と前記第1方向と交差する第2方向とに配置され、第1波長域の光を透過する第1フィルタからの光を電荷に変換する光電変換部をそれぞれが含む複数の画素により構成される第1ブロックと、前記第1ブロックと空間的に重なり合うブロックであって、前記第1方向と前記第2方向とに配置され、第2波長域の光を透過する第2フィルタからの光を電荷に変換する光電変換部をそれぞれが含む複数の画素により構成される第2ブロックと、前記第1ブロックを構成する前記複数の画素に電気的に接続される信号線であって、前記第1ブロックを構成する前記複数の画素のうち、少なくとも2つの画素から出力された信号を用いるビニング処理が行われる第1信号線と、前記第2ブロックを構成する前記複数の画素に電気的に接続される信号線であって、前記第1信号線とは異なる層に形成され、前記第2ブロックを構成する前記複数の画素のうち、少なくとも2つの画素から出力された信号を用いるビニング処理が行われる第2信号線と、を備える。
また、発明の第2の態様によると、電子機器は、上記に記載の撮像素子を備える。
According to a first aspect of the invention, an imaging element includes a first block arranged in a first direction and a second direction intersecting the first direction, the first block being composed of a plurality of pixels, each including a photoelectric conversion unit that converts light from a first filter that transmits light in a first wavelength range into an electric charge ; a second block that spatially overlaps with the first block, the second block being composed of a plurality of pixels arranged in the first direction and the second direction, the second block being composed of a plurality of pixels, each including a photoelectric conversion unit that converts light from a second filter that transmits light in a second wavelength range into an electric charge; a first signal line electrically connected to the plurality of pixels constituting the first block, the first signal line performing a binning process using signals output from at least two of the plurality of pixels constituting the first block; and a second signal line electrically connected to the plurality of pixels constituting the second block, the first signal line being formed in a layer different from the first signal line, the second signal line performing a binning process using signals output from at least two of the plurality of pixels constituting the second block.
According to a second aspect of the invention, an electronic device includes the imaging device described above.
本実施の形態による撮像素子は、複数の画素をブロックにまとめて、画素で生成された信号をブロック単位で並列に読出すことが可能に構成される。以下、図面を参照して詳細に説明する。
図1は、一実施の形態による撮像素子101を備えるデジタルカメラの構成例を模式的に示す図である。デジタルカメラは、交換レンズ110とカメラボディ100とから構成され、交換レンズ110がレンズ取り付け部105を介してカメラボディ100に装着される。
なお、デジタルカメラをレンズ交換式ではなく、レンズ一体式のカメラとして構成してもよい。
The image sensor according to the present embodiment is configured so that a plurality of pixels are grouped into blocks, and signals generated by the pixels can be read out in parallel on a block-by-block basis.
1 is a diagram showing a schematic configuration example of a digital camera equipped with an
The digital camera may be configured as a camera with an integrated lens, rather than an interchangeable lens type.
図1において、互いに直交する座標系を構成するxyz軸を規定する。被写体からの光は、図1のz軸プラス方向に向かって入射するものとする。また、座標軸に示すように、z軸に直交する紙面手前方向をx軸プラス方向、z軸およびx軸に直交する上方向をy軸プラス方向とする。以降のいくつかの図においては、図1の座標軸を基準として、それぞれの図の向きがわかるように座標軸を表示する。 In Figure 1, x, y and z axes are defined, which form a mutually orthogonal coordinate system. Light from the subject is assumed to be incident in the positive direction of the z axis in Figure 1. As shown on the coordinate axes, the direction towards the front of the paper, perpendicular to the z axis, is the positive x axis, and the upward direction perpendicular to the z and x axes is the positive y axis. In the following figures, the coordinate axes are displayed so that the orientation of each figure can be seen, based on the coordinate axes in Figure 1.
交換レンズ110は、例えば、レンズ制御部111、ズームレンズ112、フォーカスレンズ113、防振レンズ114、絞り115、レンズ操作部116などを備えている。レンズ制御部111は、CPUとメモリなどの周辺部品とを含む。レンズ制御部111は、フォーカスレンズ113および絞り115の駆動制御、ズームレンズ112やフォーカスレンズ113の位置検出、カメラボディ100へのレンズ情報の送信およびカメラボディ100からのカメラ情報の受信などを行う。
The
カメラボディ100は、例えば、撮像素子101、ボディ制御部102、ボディ操作部103、および表示部104などを備えている。撮像素子101は、交換レンズ110の予定結像面(予定焦点面)に配置され、交換レンズ110により結像された被写体像を光電変換する。ボディ操作部103は、シャッターボタンや、各種設定のための操作部材などを含む。表示部104は、例えばカメラボディ100の背面に搭載された液晶モニタ(背面モニタとも称される)によって構成される。
The
ボディ制御部102は、CPUとメモリなどの周辺部品とを含む。ボディ制御部102は、撮像素子101の駆動制御、撮像素子101からの画像信号の読み出し、焦点検出演算および交換レンズ110の焦点調節、画像信号の処理および記録などデジタルカメラの動作制御を行う。また、ボディ制御部102は、レンズ取り付け部105に設けられた電気接点106を介してレンズ制御部111と通信を行い、レンズ情報の受信およびカメラ情報(デフォーカス量や絞り値など)の送信を行う。
The
交換レンズ110を通過した光束により、撮像素子101の受光面上に被写体像が形成される。この被写体像は撮像素子101によって光電変換され、光電変換後の信号がボディ制御部102へ送られる。
A subject image is formed on the light receiving surface of the
ボディ制御部102は、撮像素子101からの信号に基づいて公知の焦点検出演算を行うことにより、交換レンズ110の焦点調節状態(デフォーカス量)を検出する。ボディ制御部102によって検出されたデフォーカス量は、レンズ制御部111へ送出される。レンズ制御部111は、受信したデフォーカス量に基づいてフォーカスレンズ113の駆動量を算出する。そして、算出した駆動量に基づいて不図示のモーター等を駆動することにより、フォーカスレンズ113を合焦位置へ移動させる。
The
また、ボディ制御部102は、撮像素子101からの信号を処理して画像データを生成し、不図示のメモリカードに格納する。ボディ制御部102はさらに、撮像素子101からの信号に基づくモニタ用画像(スルー画像とも称される)を表示部104に表示させる。
The
<撮像素子の構成>
図2は、撮像素子101の概要を説明する模式図である。撮像素子101は、CMOSイメージセンサによって構成される。撮像素子101は、画素エリア201と、垂直制御部202と、水平制御部203と、出力部204と、制御部205とを有する。なお、図2では、電源部や詳細回路は省略している。
<Configuration of image sensor>
Fig. 2 is a schematic diagram for explaining an overview of the
画素エリア201には、例えばx軸と平行な水平方向(行方向)、および、y軸と平行な垂直方向(列方向)に二次元状に配置された複数の画素を有する。各画素は、入射光量に応じた電荷を生成するフォトダイオード(光電変換部)を有する。複数の画素は、それぞれが垂直制御部202および水平制御部203によって駆動され、各画素のフォトダイオードで生成された電荷に基づく信号が、信号線210を介して読出される。
The
出力部204は、各画素から読出された信号に対して相関二重サンプリング(CDS)を行ったり、必要に応じてゲインをかけたりする。出力部204で処理された信号は、後段の信号処理部(不図示)へ出力される。
The
なお、以上の説明では、出力部204が後段の信号処理部へアナログ信号として出力する例を説明したが、出力部204にA/Dコンバータを備え、A/D変換後の信号をデジタル出力する構成にしてもよい。
In the above description, an example has been described in which the
本実施の形態では、上述したように、複数の画素をまとめてブロックを構成し、ブロック内の画素で生成された信号を、同じ信号線210を介して読出す。このため、信号線210の数はブロックの数と等しい。このように構成したので、出力部204は、複数のブロックからの信号を並列に入力し、入力した複数のブロックからの信号に対して並列に処理を行い、後段の信号処理部(不図示)へ並列に出力することができる。
In this embodiment, as described above, a plurality of pixels are grouped together to form a block, and signals generated by the pixels in the block are read out via the
制御部205は、上述した撮像素子101の各部を制御する。すなわち、以降に説明する撮像素子101の動作は、ボディ制御部102の指令を受けた制御部205の制御に基づいて行われる。
なお、本実施の形態では、フォトダイオードと、フォトダイオードで生成された電荷に基づく信号を読出す読出し部とを含めて「画素」と呼ぶ。読出し部は、後述する各転送トランジスタ、フローティングディフュージョン(FD)領域、増幅トランジスタ、および選択トランジスタを含む例を説明するが、読出し部の範囲は、必ずしも本例の通りでなくてもよい。
The
In this embodiment, the photodiode and the readout unit that reads out a signal based on the charge generated by the photodiode are collectively called a "pixel." An example of the readout unit including each transfer transistor, a floating diffusion (FD) region, an amplification transistor, and a selection transistor, which will be described later, will be described, but the scope of the readout unit does not necessarily have to be as shown in this example.
図3は、撮像素子101の断面を説明する図である。なお図3では、撮像素子101の全体のうち、一部の断面のみを示している。撮像素子101は、いわゆる裏面照射型の撮像素子である。撮像素子101は、z軸プラス方向に向かう入射光を光電変換する。撮像素子101は、例えば、第1半導体基板70と、第2半導体基板80とが積層して構成されている。
Figure 3 is a diagram illustrating a cross section of the
第1半導体基板70は、少なくともPD層71と、配線層72とを備える。PD層71は、配線層72の裏面側(z軸マイナス側)に配置される。PD層71には、複数のフォトダイオードPDが二次元状に配置される。配線層72には、配線61、配線62、配線63、配線64によって信号線210等が形成される。配線61から配線64は、それぞれ配線層72の異なる層に形成される。図3には4層の配線を例示したが、層数は適宜変更して構わない。配線層72の層間は、例えば不図示のビア(via)によって接続することができる。第2半導体基板80には、例えば、上記出力部204等の各種回路が配置される。第2半導体基板80も多層に構成されて構わない。
The
PD層71における入射光の入射側(z軸マイナス側)には、複数のフォトダイオードPDの各々に対応する複数のカラーフィルタ73が設けられる。カラーフィルタ73には、例えば赤(R)、緑(G)、青(B)にそれぞれ対応する波長領域の光を透過する複数の種類が存在する。カラーフィルタ73は、例えば赤(R)、緑(G)、青(B)に対応する3種類が、図4に例示するベイヤー配列を為すように配列される。
なお、本実施の形態ではベイヤー配列を例に説明するが、カラーフィルタ73をベイヤー配列以外の配列にしてもよい。ベイヤー配列では、異なる波長領域の光を透過するカラ-フィルタ73が設けられたフォトダイオードPDが隣接しているのに対し、ベイヤー配列以外の配列では、同じ波長領域の光を透過するカラ-フィルタ73が設けられたフォトダイオードPDが隣接する場合がある。
A plurality of
In this embodiment, the Bayer array is described as an example, but the
カラーフィルタ73における入射光の入射側(z軸マイナス側)には、複数のカラーフィルタ73の各々に対応する複数のマイクロレンズ74が設けられる。マイクロレンズ74は、対応するフォトダイオードPDに向けて入射光を集光する。マイクロレンズ74を通過した入射光は、カラーフィルタ73により一部の波長領域のみが透過され、フォトダイオードPDに入射する。フォトダイオードPDは、入射光を光電変換して電荷を生成する。
On the incident side (negative side of the z-axis) of the
配線層72の表面(z軸プラス側)には複数の接合パッド75が配置される。第2半導体基板80の、配線層72に対向する面(z軸マイナス側)には、複数の接合パッド75に対向する複数の接合パッド76が配置される。複数の接合パッド75と複数の接合パッド76とは互いに接合されている。複数の接合パッド75と複数の接合パッド76とを介して、第1半導体基板70と第2半導体基板80とが電気的に接続される。
接合パッド75および複数の接合パッド76の数は、それぞれ上述したブロックの数と等しくすることができる。すなわち、一つのブロックに対応して一組の接合パッド75、接合パッド76が設けられる。以上のように構成することにより、ブロックごとの信号線の長さを略等しく構成できるので、配線のインピーダンスがブロック間でばらつくことを抑えるというメリットがある。
A plurality of
The number of the
本実施の形態では、撮像素子101の1つの画素部30が、第1半導体基板70に設けられた第1画素部30xと、第2半導体基板80に設けられた第2画素部30yとによって構成される。第1画素部30xには、マイクロレンズ74、カラーフィルタ73、フォトダイオードPDの他に、後に詳述するトランジスタや、画素部30間を接続する配線61から配線64等が含まれる。第2画素部30yには、上記出力部204等の回路が含まれる。
In this embodiment, one pixel section 30 of the
<ブロックの説明>
図5は、撮像素子101のブロックの構成を説明する回路図である。一つのブロックは、複数(例えばN個)の第1画素部30x-1~30x-Nを含む。一つの第1画素部30xは、フォトダイオードPDと、4つのトランジスタ(転送トランジスタTx、リセットトランジスタRST、増幅トランジスタSF、選択トランジスタSEL)と、FD領域とを有する。第1画素部30xの各部は、図5に示すように接続されている。図5において符号VDDは、電源電圧を示す。
<Block Description>
5 is a circuit diagram illustrating the configuration of a block of the
転送トランジスタTxは、フォトダイオードPDで生成された電荷をFD領域へ転送する。転送トランジスタTxは、制御信号φTxがHighレベルになるとオンして電荷を転送し、制御信号φTxがLowレベルになるとオフする。 The transfer transistor Tx transfers the charge generated by the photodiode PD to the FD region. When the control signal φTx goes high, the transfer transistor Tx turns on and transfers the charge, and when the control signal φTx goes low, the transfer transistor Tx turns off.
FD領域は、転送された電荷を電圧に変換する。増幅トランジスタSFは、ソースフォロワ回路を形成し、FD領域の電位に応じた信号を増幅する。リセットトランジスタRSTは、FD領域やフォトダイオードPDの電荷をリセットする。リセットトランジスタRSTは、制御信号φRSTがHighレベルになるとオンし、制御信号φRSTがLowレベルになるとオフする。 The FD region converts the transferred charge into a voltage. The amplifier transistor SF forms a source follower circuit and amplifies a signal according to the potential of the FD region. The reset transistor RST resets the charge in the FD region and the photodiode PD. The reset transistor RST turns on when the control signal φRST goes high and turns off when the control signal φRST goes low.
選択トランジスタSELは、増幅トランジスタSFで増幅された信号を、ブロック信号線60へ出力する。ブロック信号線60は、ブロック内の第1画素部30x-1~30x-Nを相互に接続する。ブロック信号線60は、そのブロックに対応する信号線210と接続されている。選択トランジスタSELは、制御信号φSELがHighレベルになるとオンして信号を出力し、制御信号φSELがLowレベルになるとオフする。
The selection transistor SEL outputs the signal amplified by the amplification transistor SF to the
ブロック内の第1画素部30x-1~30x-Nの選択トランジスタSELには、それぞれ独立した制御信号φSEL-1~φSEL-Nが供給される。このため、例えば、制御部205によってHighレベルの制御信号φSEL-1~φSEL-Nが順番に供給される場合には、選択トランジスタSEL-1~SEL-Nが、順番にオンしてブロック信号線60を介して信号線210へ信号を出力する。
The selection transistors SEL of the
また、制御部205によってHighレベルの制御信号φSEL-1~φSEL-Nが一斉に供給される場合には、選択トランジスタSEL-1~SEL-Nが、一斉にオンしてブロック信号線60を介して信号線210へ信号を出力する。選択トランジスタSEL-1~SEL-Nが一斉に信号を出力する場合、信号線210において第1画素部30x-1~30x-Nから出力された信号が加算されるので、ブロック内の第1画素部30x-1~30x-Nによるビニングを行うことができる。
なお、選択トランジスタSEL-1~SEL-Nのうち任意の組み合わせによりブロック信号線60を介して信号線210へ信号を出力させてもよい。この場合は、信号線210において第1画素部30x-1~30x-Nのうちの一部から出力された信号が加算されるので、ブロック内の第1画素部30x-1~30x-Nの任意の組み合わせによるビニングを行うことができる。
Furthermore, when the
Note that signals may be output to the
以上の構成により、ブロック内の第1画素部30x-1~30x-Nのいずれからも、個別に信号を読出したり、第1画素部30x-1~30x-Nのうち少なくとも2つの間でビニングを行ったりすることができる。
With the above configuration, it is possible to read out signals individually from any of the
本実施の形態では、同色の複数の画素によって一つのブロックを構成する。すなわち、上述したカラーフィルタ73を透過する光の波長域が同じ画素部30を組み合わせて一つのブロックとする。図6は、ブロックを説明する模式図である。赤(R)に対応する波長領域の光を透過するカラーフィルタ73を有する画素部30(R画素と称する)を中心に実線で囲む範囲において、そのR画素およびそのR画素を囲む8つのR画素からなる9つのR画素によってR色ブロック301を構成する。また、青(B)に対応する波長領域の光を透過するカラーフィルタ73を有する画素部30(B画素と称する)を中心に破線で囲む範囲において、そのB画素およびそのB画素を囲む8つのB画素からなる9つのB画素によってB色ブロック302を構成する。
In this embodiment, a block is formed by a plurality of pixels of the same color. That is, pixel units 30 having the same wavelength range of light passing through the above-mentioned
さらに、GR列上に位置して緑(G)に対応する波長領域の光を透過するカラーフィルタ73を有する画素部30(G画素と称する)を中心に一点鎖線で囲む範囲において、そのG画素およびそのG画素を囲む8つのG画素からなる9つのG画素によって第1のG色ブロック303を構成する。さらにまた、GB列上に位置して緑(G)に対応する波長領域の光を透過するカラーフィルタ73を有する画素部30(G画素と称する)を中心に二点鎖線で囲む範囲において、そのG画素およびそのG画素を中心に囲む8つのG画素からなる9つのG画素によって第2のG色ブロック304を構成する。
Furthermore, in an area surrounded by a dashed line around a pixel section 30 (referred to as a G pixel) located on the GR column and having a
図6によると、R色ブロック301と、第1のG色ブロック303とは、互いにブロックの上下部分が重なり合う。また、B色ブロック302と、第1のG色ブロック303とは、互いにブロックの左右部分が重なり合う。
As shown in FIG. 6, the
さらに、B色ブロック302と、第2のG色ブロック304とは、互いにブロックの上下部分が重なり合う。さらにまた、R色ブロック301と、第2のG色ブロック304とは、互いにブロックの左右部分が重なり合う。
Furthermore, the upper and lower portions of the B color block 302 and the second
一方、図5の回路図を参照して説明すると、同色のブロック内のN個の画素部30は、それぞれが配線層72(図3)においてそのブロックに対応するブロック信号線60と接続される。このため、同色のブロック内のN個の画素部30の選択トランジスタSELの出力端子同士が接続されることになる。当然ながら、他色のブロックのブロック信号線60とは接続されない。上述したように、同色のブロック内でブロック信号線60と接続する配線は、配線層72における配線61から配線64によって形成される。
本実施の形態では、画素エリア201(図2)において空間的に重なり合う他色のブロックとの間で、ブロック内の配線が接触しないように、ブロックの色によって配線層72の異なる層で配線する。
なお、第1のG色ブロック303と第2のG色ブロック304とは、便宜上異なる色として扱うものとする。また、「空間的に重なり合う」とは、図6において異なる色のブロックとの間で上下部分または左右部分が重なり合う関係をいう。
On the other hand, referring to the circuit diagram of Fig. 5, each of the N pixel units 30 in a block of the same color is connected to the
In this embodiment, wiring is provided in different layers of the
For convenience, the first
図7(a)~図7(d)は、各色の配線を説明する模式図である。図7(a)は、R色ブロック301のR画素の選択トランジスタSELの出力同士を接続するブロック信号線60の配線61を例示する図である。配線61は、網掛けで示される。図7(b)は、B色ブロック302のB画素の選択トランジスタSELの出力同士を接続するブロック信号線60の配線62を例示する図である。配線62は、縦縞で示される。
Figures 7(a) to 7(d) are schematic diagrams explaining the wiring for each color. Figure 7(a) is a
図7(c)は、第1のG色ブロック303のG画素の選択トランジスタSELの出力同士を接続するブロック信号線60の配線63を例示する図である。配線63は、ドットで示される。図7(d)は、第2のG色ブロック304のG画素の選択トランジスタSELの出力同士を接続するブロック信号線60の配線64を例示する図である。配線64は、横縞で示される。
Figure 7(c) is a
配線61~配線64は、配線層72において異なる層に形成される。このように、配線層72において色別に異なる配線61~64を形成し、各配線61~64によって各色のブロック内の画素部30を配線接続したので、画素エリア201においてブロックが他色のブロックと空間的に重なり合う場合に、各ブロックにおいて同色のブロック内の画素部30のみを適切に接続することができる。なお、図7の配線は、「日」字状である。
図7(a)~図7(d)に示されるように、配線61~64は、各色のブロック301~304の中心に位置する画素部30に対して点対称である。また、配線61~64は、各色のブロック301~304の中心に位置する画素部30を通る水平方向(行方向)または垂直方向(列方向)の直線に対して線対称である。
The
7(a) to 7(d), the
以上説明したブロック301~304において、各色のブロック301~304におけるN個の画素部30の重心を色重心と呼ぶ。本実施の形態では、各色のブロック301~304を構成する9つの画素部30の中心に位置する画素部30の位置が、そのブロック301~304の色重心となる。図6および図7において、本例の色重心に相当する画素部30をそれぞれ異なる態様で表示した。すなわち、R色ブロック301の色重心を網掛けで示し、B色ブロック302の色重心を縦縞で示し、第1のG色ブロック303の色重心をドットで示し、第2のG色ブロック304の色重心を横縞で示した。図6において各ブロック301~304の色重心に注目すると、ベイヤー配列であることがわかる。このことは、各色のブロック301~304内の第1画素部30x-1~30x-Nによるビニングを行った場合に、ビニング後の信号がベイヤー配列を保つことを意味する。本実施の形態によれば、各色のブロック301~304の色重心は等間隔に配置され、色重心に偏りが生じていない。
In the
各色のブロック301~304において接合パッド75が設けられる位置は、N個の画素部30の近傍に設けることが好ましいが、必ずしも色重心の位置に設ける必要はない。
The
上述した実施の形態によれば、次の作用効果が得られる。
(1)撮像素子101は、光を光電変換する複数の画素30が行方向(x軸方向)および列方向(y軸)に配置された画素エリア201と、画素エリア201が共通の波長域の光を光電変換する複数の画素30に小分けされた複数のブロック301~304と、複数のブロック301~304にそれぞれ設けられた複数の信号線210と、複数のブロック301~304にそれぞれ設けられ、ブロック301~304毎の複数の画素30を相互に接続するブロック信号線60とを備える。
各ブロック301~304が共通の波長域の光を光電変換する複数の画素30で構成されるので、各ブロック301~304内の信号を加算するだけで同色の信号ビニングを簡単に行うことができる。例えば、ブロック内に異なる波長域の光を光電変換する画素が混在する従来技術に比べて、同色の信号ビニング処理が圧倒的に簡単になる。
また、信号線210をブロック301~304毎に設けたので、色毎の信号を並行して出力させることができる。例えば、ブロック内に異なる波長域の光を光電変換する画素が混在する場合において色毎の信号を時分割で出力させる場合と比較して、短時間で出力させることができる。
According to the above-described embodiment, the following advantageous effects can be obtained.
(1) The
Since each
In addition, since the
(2)撮像素子101において、ブロック信号線60は、ブロック301~304に対応する信号線210と接続され、ブロック301~304内の複数の画素30はそれぞれ、画素30の増幅トランジスタSFの出力端子とブロック信号線60との間を接続または切断する選択トランジスタSELを備える。このように構成したので、ブロック301~304内の全画素30の信号を信号線210へ出力したり、各ブロックにおいて任意の画素30の信号のみを信号線210へ出力したりすることができる。
(2) In the
(3)撮像素子101において、画素エリア201は異なる波長域の光を光電変換する複数の画素30が行方向および列方向に繰り返し配置される。そして、ブロック301~304は、画素エリア201において例えば、図6の赤(R)に対応する波長領域の光を光電変換する画素部30(注目画素とする)から2ピクセルの範囲内(5ピクセル×5ピクセル)で注目画素と同じ波長域の光を光電変換する画素30により構成されるようにした。このように構成したので、例えば、図6の赤(R)に対応する波長領域の光を光電変換する画素部30(注目画素とする)を中心に、そのR画素およびそのR画素の近傍に位置するR画素を用いてR色ブロック301を構成することができる。B色ブロック302、第1のG色ブロック303および第2のG色ブロック304についても同様である。
(3) In the
(4)撮像素子101において、ブロック301~304は画素エリア201において、例えば、図6の赤(R)に対応する波長領域の光を光電変換する画素部30(注目画素とする)を中心に、そのR画素およびそのR画素を囲む8つのR画素からなる9つのR画素によってR色ブロック301を構成する。B色ブロック302、第1のG色ブロック303および第2のG色ブロック304についても同様である。
このように構成したので、R画素、G画素、B画素がベイヤー配列されている場合はブロック301~304の色重心もベイヤー配列を保つこととなるので、ビニングの有無にかかわらず、ベイヤー配列を前提とした画像処理エンジンをそのまま用いることができる。
(4) In the
With this configuration, when the R pixels, G pixels, and B pixels are arranged in a Bayer array, the color centroids of
(5)撮像素子101において、複数のブロック301~304は、画素エリア201において空間的に重なり合うようにした。ブロックが空間的に重ならない場合に比べて、ブロックの重心の密度を高くすることができる。
(5) In the
(6)撮像素子101は、ブロック信号線60を接続する配線層72を備える。そして、複数のブロック301~304のうち、例えば赤(R)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有するR色ブロック301のブロック信号線60は、配線層72の第1の層の配線61(図7(a))により接続され、青(B)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有するB色ブロック302のブロック信号線60は、配線層72の第2の層の配線62(図7(b))により接続される。また、緑(G)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有する第1のG色ブロック303のブロック信号線60は、配線層72の第3の層の配線63(図7(c))により接続され、緑(G)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有する第2のG色ブロック304のブロック信号線60は、配線層72の第4の層の配線64(図7(d))により接続される。
このように構成したので、各ブロック301~304におけるブロック信号線60が、空間的に重なり合う他色のブロックのブロック信号線60と接触しないように適切に接続することができる。
(6) The
With this configuration, the
次のような変形も本発明の範囲内であり、変形例の一つ、もしくは複数を上述の実施形態と組み合わせることも可能である。
(変形例1)
変形例1では、画素エリア201においてブロック内の配線が、空間的に重なり合う他色のブロック内の配線と接触しないように配線を分け、配線層の1層に2色分の配線を行う。なお、上記実施の形態と同様に、G色の第1ブロックとG色の第2ブロックとは、便宜上異なる色として扱うものとする。
The following modifications are also within the scope of the present invention, and one or more of the modifications may be combined with the above-described embodiment.
(Variation 1)
In the first modification, wiring is separated so that wiring in a block does not come into contact with wiring in a spatially overlapping block of another color in the
図8(a)、図8(b)は、変形例1による各色の配線を説明する模式図である。変形例1では、例えば図8(a)に例示するように、R色ブロックのR画素を接続する配線61-1と、B色ブロックのB画素を接続する配線61-2とを同じ層に形成する。配線61-1は、網掛けで示される。配線61-2は、縦縞で示される。
さらに、図8(b)に例示するように、G色の第1ブロックのG画素を接続する配線62-1と、G色の第2ブロックのG画素を接続する配線62-2とを同じ層に形成する。配線62-1は、ドットで示される。配線62-2は、横縞で示される。
配線61-1および61-2と、配線62-1および62-2とは、配線層72において異なる層に形成される。
8(a) and 8(b) are schematic diagrams for explaining wiring for each color according to
8B, a wiring 62-1 that connects the G pixels in the first G block and a wiring 62-2 that connects the G pixels in the second G block are formed in the same layer. The wiring 62-1 is indicated by dots. The wiring 62-2 is indicated by horizontal stripes.
The wirings 61-1 and 61-2 and the wirings 62-1 and 62-2 are formed in different layers of the
このように配線することにより、上記実施の形態の配線(図7)に比べて、ブロック内の画素部30を配線接続するために配線層72に形成する層数を4から2へ減らし、コストを抑えることができる。
また、このように配線層72に形成する層数を減らしても、画素エリア201においてブロックが他色のブロックと空間的に重なり合う場合に、各ブロックにおいて同色のブロック内の画素部30のみを適切に接続することができる。
図8(a)、図8(b)に示されるように、配線61-1、2~62-1、2は、各色のブロック301~304の中心に位置する画素部30に対して点対称である。また、配線61-1、2~62-1、2は、各色のブロック301~304の中心に位置する画素部30を通る水平方向(行方向)または垂直方向(列方向)の直線に対して線対称である。
By wiring in this manner, the number of layers formed in the
Furthermore, even if the number of layers formed in the
8(a) and 8(b), the wirings 61-1, 2 to 62-1, 2 are point-symmetric with respect to the pixel unit 30 located at the center of each
上述した変形例1によれば、以下の作用効果が得られる。すなわち、撮像素子101は、ブロック信号線60を接続する配線層72を備える。そして、複数のブロック301~304のうち、例えば赤(R)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有するR色ブロック301のブロック信号線60と、青(B)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有するB色ブロック302のブロック信号線60とを、それぞれ、配線層72の同じ層の配線61-1、配線61-2により接続する(図8(a))。このように配線することにより、ブロック301、302においてブロック信号線60を配線接続するために配線層72を2層分使用する場合に比べて、使用層数を2から1へ減らし、コストを抑えることができる。
The above-mentioned first modification provides the following advantageous effects. That is, the
また、緑(G)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有する第1のG色ブロック303のブロック信号線60と、緑(G)の波長域の光を光電変換する複数の画素30を有する第2のG色ブロック304のブロック信号線60とを、それぞれ、配線層72の同じ層の配線62-1、配線62-2により接続する(図8(b))。このように配線することにより、ブロック303、304においてブロック信号線60を配線接続するために配線層72を2層分使用する場合に比べて、使用層数を2から1へ減らし、コストを抑えることができる。
The
さらに、配線層72を使用する層数を減らすことは、層間を接続するためのviaの数を減らすことにもつながるので、配線のインピーダンスのばらつきを抑えるというメリットを得ることもできる。なお、図8の配線は、「王」字状である。
Furthermore, reducing the number of layers that use the
(変形例2)
変形例2では、画素エリア201においてブロック内の配線が、空間的に重なり合う他色のブロック間の配線と接触しないように配線を分け、配線層の1層に4色分の配線を行う。なお、上記実施の形態や変形例1と同様に、G色の第1ブロックとG色の第2ブロックとは、便宜上異なる色として扱うものとする。
(Variation 2)
In the second modification, wiring is divided so that wiring within a block does not come into contact with wiring between spatially overlapping blocks of other colors in the
図9は、変形例2による各色の配線を説明する模式図である。変形例2では、ブロックの中心に位置する画素部30を起点に、渦巻き状に画素部30間をつないで配線する。例えば、R色ブロック301の中心に位置するR画素から、上方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1でつなぎ、さらに右方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1つなぐ。続いて、上記R色ブロック301の中心に位置するR画素から、右方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1でつなぎ、さらに下方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1でつなぐ。
Figure 9 is a schematic diagram illustrating the wiring for each color according to the second modification. In the second modification, wiring is provided in a spiral shape starting from the pixel unit 30 located at the center of the block and connecting the pixel units 30 together. For example, wiring 61-1 is provided to connect the R pixel located at the center of the
同様に、上記R色ブロック301の中心に位置するR画素から、下方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1でつなぎ、さらに左方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1でつなぐ。さらに続けて、上記R色ブロック301の中心に位置するR画素から、左方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1でつなぎ、さらに上方向に2画素ピッチ離れたR画素まで配線61-1でつなぐ。R色ブロック内の配線61-1は、網掛けで示される。
Similarly, wiring 61-1 connects from the R pixel located at the center of the
第1のG色ブロック303、第2のG色ブロック304、およびB色ブロック302についても、同様に、各ブロックの中心に位置する画素部30を起点に、同色の画素部30間をつないで配線する。図9において、B色ブロック内の配線61-2は、縦縞で示される。また、第1のG色ブロック内の配線61-3は、ドットで示される。さらに、第2のG色ブロック内の配線61-4は、横縞で示される。各色の配線61-1~61-4は、配線層72の同一層に形成される。図9に示されるように、配線61-1~61-4は、各色のブロックの中心に位置する画素部30に対して点対称である。
Similarly, for the first
このように配線することにより、上記変形例1に比べて、ブロック内の画素部30を配線接続するために配線層72に形成する層数を2から1へ減らし、コストを抑えることができる。
また、このように配線層72に形成する層数を減らしても、画素エリア201においてブロックが他色のブロックと空間的に重なり合う場合に、各ブロックにおいて同色のブロック内の画素部30のみを適切に接続することができる。
By wiring in this manner, the number of layers formed in the
Furthermore, even if the number of layers formed in the
上述した変形例2によれば、以下の作用効果が得られる。すなわち、撮像素子101のブロック信号線60は、画素エリア201において、配線61-1により、R色ブロック301の注目画素(例えばR画素)と、注目画素から行方向へ2画素ピッチ離れた第1画素(R画素)と、第1画素(R画素)から列方向へ2画素ピッチ離れた第2画素(R画素)とを相互に接続するとともに、注目画素(R画素)と、注目画素(R画素)から列方向へ2画素ピッチ離れた第3画素(R画素)と、第3画素(R画素)から行方向へ2画素ピッチ離れた第4画素(R画素)とを相互に接続する。このような接続を行って、R色ブロック301において注目画素および注目画素を囲むR画素を相互に接続する。
According to the above-mentioned modified example 2, the following effects can be obtained. That is, in the
B色ブロック302、第1のG色ブロック303、および第2のG色ブロック304についても同様に接続する。すなわち、B色ブロック302は配線61-2により接続し、第1のG色ブロック303は配線61-3により接続し、第2のG色ブロック304は配線61-4により接続する。このように構成したので、ブロック信号線60を配線接続するために配線層72を1層分使用するだけでよくなり、変形例1の場合に比べて、さらにコストを抑えることができる。
また、層間を接続するためのviaの数を減らすことにもつながるので、配線のインピーダンスのばらつきを抑えるというメリットを得ることもできる。
The B-color block 302, the first G-
It also reduces the number of vias for connecting between layers, which has the advantage of reducing the variation in impedance of the wiring.
(変形例3)
変形例1および変形例2では、ブロック301~304は、画素エリア201において注目画素から2ピクセルの範囲内(ブロックのサイズは行方向5ピクセル×列方向5ピクセル)で、注目画素と同じ波長域の光を光電変換する画素30により構成したが、ブロックのサイズをさらに拡げてもよい。
(Variation 3)
In the first and second variants, blocks 301 to 304 are configured from pixels 30 that perform photoelectric conversion on light in the same wavelength range as the pixel of interest within a range of two pixels from the pixel of interest in pixel area 201 (block size is 5 pixels in the row direction by 5 pixels in the column direction), but the size of the blocks may be further expanded.
図10は、変形例3による各色の配線を説明する模式図である。図10において、例えば、赤(R)に対応する波長領域の光を光電変換する画素部30(注目画素とする)を中心に、そのR画素およびそのR画素を囲む24個のR画素からなる25個のR画素によってR色ブロック301を構成する。すなわち、画素エリア201において注目画素から4ピクセルの範囲内(ブロックのサイズは行方向9ピクセル×列方向9ピクセル)で、注目画素と同じ波長域の光を光電変換する画素30により構成する。このように、ブロックサイズを大きくする場合でも、ブロックの中心に位置する画素部30を起点に、渦巻き状に画素部30間をつないで配線することができる。図10に示されるように、配線61-1~61-4は、各色のブロックの中心に位置する画素部30に対して点対称である。
Figure 10 is a schematic diagram for explaining the wiring of each color according to the third modification. In Figure 10, for example, a pixel unit 30 (assumed to be a pixel of interest) that photoelectrically converts light in a wavelength region corresponding to red (R) is placed at the center, and an R-
(変形例4)
ブロックのサイズをさらに大型にする場合は、配線層72を1層分使用するだけではブロック内の画素部30を相互に接続することが困難になる。このような場合には、配線層72を2層分使用してもよい。例えば、図10に例示したような行方向9ピクセル×列方向9ピクセルの小ブロックを、行方向に3個、列方向に3個の計9個を組み合わせて大ブロックを構成するものとする。この場合は、各小ブロックにおける画素部30を接続する配線(ローカル配線と称する)のために配線層72を1層分使用する。そして、9個の小ブロックの中心に位置する9個の画素部30を接続する配線(グローバル配線と称する)のために配線層72の他の層を使用する。グローバル配線は、ローカル配線と同様に、大ブロックの中心に位置する画素部30を起点に、渦巻き状に小ブロックの中心に位置する画素部30間をつないで配線する。
(Variation 4)
When the size of the block is further increased, it becomes difficult to connect the pixel units 30 in the block to each other by using only one layer of the
変形例4によれば、ブロックのサイズの大型化にともなって、ブロック信号線60の配線のレイアウトが複雑化してしまう場合でも、ローカル配線とグローバル配線とで配線層72の異なる層を使用することで、配線層72における使用層数を抑えつつ、適切にブロック内の画素部30を接続することができる。
According to variant example 4, even if the wiring layout of the
以上の説明では、撮像素子101をデジタルカメラに搭載する例を説明したが、撮像素子101は、デジタルカメラ以外にもスマートフォンやタブレット端末、ウェアラブル端末等の電子機器に搭載してもよい。
In the above explanation, an example has been described in which the
上記では、種々の実施の形態および変形例を説明したが、本発明はこれらの内容に限定されるものではない。本発明の技術的思想の範囲内で考えられるその他の態様も本発明の範囲内に含まれる。
例えば、各色のブロックの中心に位置する画素部30に対して点対称な配線の形状として、上記「日」字状や「王」字状、渦巻き状の配線を例示したが、「N」字状や「Z」字状や「H」字状に配線してもよい。また、各色のブロックの中心に位置する画素部30に対して線対称な配線の形状として、上記「日」字状や「王」字状の配線を例示したが、「H」字状に配線してもよい。
Although various embodiments and modifications have been described above, the present invention is not limited to these. Other embodiments that are conceivable within the scope of the technical idea of the present invention are also included within the scope of the present invention.
For example, although the above-mentioned "日" shaped, "王" shaped, and spiral shaped wiring are exemplified as wiring shapes that are point symmetrical with respect to the pixel unit 30 located at the center of each color block, wiring in an "N" shape, a "Z" shape, or an "H" shape may also be used. Also, although the above-mentioned "日" shaped and "王" shaped wiring are exemplified as wiring shapes that are line symmetrical with respect to the pixel unit 30 located at the center of each color block, wiring in an "H" shape may also be used.
次の優先権基礎出願の開示内容は引用文としてここに組み込まれる。
日本国特許出願2017年第192212号(2017年9月29日出願)
The disclosures of the following priority applications are incorporated herein by reference:
Japanese Patent Application No. 2017-192212 (filed September 29, 2017)
30…画素部
30x-1~30x-N…第1画素部
60…ブロック信号線
61~64…配線
71…PD層
72…配線層
73…カラーフィルタ
100…カメラボディ
101…撮像素子
102…ボディ制御部
201…画素エリア
204…出力部
205…制御部
210…信号線
301~304…ブロック
PD…フォトダイオード
SEL…選択トランジスタ
SF…増幅トランジスタ
Tx…転送トランジスタ
30...
Claims (17)
前記第1ブロックと空間的に重なり合うブロックであって、前記第1方向と前記第2方向とに配置され、第2波長域の光を透過する第2フィルタからの光を電荷に変換する光電変換部をそれぞれが含む複数の画素により構成される第2ブロックと、
前記第1ブロックを構成する前記複数の画素に電気的に接続される信号線であって、前記第1ブロックを構成する前記複数の画素のうち、少なくとも2つの画素から出力された信号を用いるビニング処理が行われる第1信号線と、
前記第2ブロックを構成する前記複数の画素に電気的に接続される信号線であって、前記第1信号線とは異なる層に形成され、前記第2ブロックを構成する前記複数の画素のうち、少なくとも2つの画素から出力された信号を用いるビニング処理が行われる第2信号線と、
を備える撮像素子。 a first block including a plurality of pixels arranged in a first direction and a second direction intersecting the first direction, each of the pixels including a photoelectric conversion unit that converts light from a first filter that transmits light in a first wavelength range into an electric charge ;
a second block that is spatially overlapping with the first block, that is arranged in the first direction and the second direction, and that is configured with a plurality of pixels each including a photoelectric conversion unit that converts light from a second filter that transmits light in a second wavelength range into an electric charge ;
a first signal line electrically connected to the plurality of pixels constituting the first block, the first signal line being used for a binning process using signals output from at least two pixels among the plurality of pixels constituting the first block ;
a signal line electrically connected to the plurality of pixels constituting the second block, the second signal line being formed in a layer different from that of the first signal line, and a binning process being performed using signals output from at least two pixels among the plurality of pixels constituting the second block ;
An imaging element comprising:
前記第1ブロックを構成する前記複数の画素は、前記第1方向に沿って配置される第1画素と第2画素とを有し、the plurality of pixels constituting the first block include a first pixel and a second pixel arranged along the first direction,
前記第2ブロックを構成する前記複数の画素は、前記第1方向において前記第1画素と前記第2画素との間に配置される第3画素を有する、the plurality of pixels constituting the second block include a third pixel disposed between the first pixel and the second pixel in the first direction;
撮像素子。Image sensor.
前記第1ブロックを構成する前記複数の画素は、前記第2方向に沿って配置される第1画素と第2画素とを有し、the plurality of pixels constituting the first block include a first pixel and a second pixel arranged along the second direction,
前記第2ブロックを構成する前記複数の画素は、前記第2方向において前記第1画素と前記第2画素との間に配置される第3画素を有する、the plurality of pixels constituting the second block include a third pixel disposed between the first pixel and the second pixel in the second direction;
撮像素子。Image sensor.
前記第1ブロックを構成する前記複数の画素と、前記第2ブロックを構成する前記複数の画素とは、前記第1フィルタからの光と、前記第2フィルタからの光とが入射する第1面と、前記第1面とは反対側の第2面とを有する光電変換層に配置され、the plurality of pixels constituting the first block and the plurality of pixels constituting the second block are disposed on a photoelectric conversion layer having a first surface on which light from the first filter and light from the second filter are incident, and a second surface opposite to the first surface;
前記第1信号線は、前記光電変換層の前記第2面側に配置される第1配線層に形成され、the first signal line is formed in a first wiring layer disposed on the second surface side of the photoelectric conversion layer,
前記第2信号線は、前記光電変換層の前記第2面側に配置される第2配線層に形成される、the second signal line is formed in a second wiring layer disposed on the second surface side of the photoelectric conversion layer;
撮像素子。Image sensor.
前記第1配線層は、前記第1面から前記第2面に向かう方向において前記光電変換層と前記第2配線層との間に配置される、the first wiring layer is disposed between the photoelectric conversion layer and the second wiring layer in a direction from the first surface toward the second surface;
撮像素子。Image sensor.
前記第1信号線は、前記第1面から前記第2面に向かう方向において前記光電変換層と前記第2信号線との間に配置される、the first signal line is disposed between the photoelectric conversion layer and the second signal line in a direction from the first surface toward the second surface;
撮像素子。Image sensor.
前記第1ブロックを構成する前記複数の画素は、前記第1信号線に電気的に接続される選択トランジスタをそれぞれが含み、the plurality of pixels constituting the first block each include a selection transistor electrically connected to the first signal line;
前記第2ブロックを構成する前記複数の画素は、前記第2信号線に電気的に接続される選択トランジスタをそれぞれが含み、the plurality of pixels constituting the second block each include a selection transistor electrically connected to the second signal line;
前記第1ブロックを構成する前記複数の画素に含まれる前記選択トランジスタは、それぞれ独立した制御信号が供給され、The selection transistors included in the plurality of pixels constituting the first block are each supplied with an independent control signal;
前記第2ブロックを構成する前記複数の画素に含まれる前記選択トランジスタは、それぞれ独立した制御信号が供給される、The selection transistors included in the plurality of pixels constituting the second block are each supplied with an independent control signal.
撮像素子。Image sensor.
前記第1ブロックを構成する前記複数の画素のうち、少なくとも2つの画素に含まれる前記選択トランジスタは、前記制御信号が一斉に供給され、the control signal is simultaneously supplied to the selection transistors included in at least two pixels among the plurality of pixels constituting the first block;
前記第2ブロックを構成する前記複数の画素のうち、少なくとも2つの画素に含まれる前記選択トランジスタは、前記制御信号が一斉に供給される、the control signal is simultaneously supplied to the selection transistors included in at least two pixels among the plurality of pixels constituting the second block;
撮像素子。Image sensor.
前記第1信号線と前記第2信号線とに電気的に接続される出力部を備え、an output section electrically connected to the first signal line and the second signal line;
前記光電変換層は、第1半導体基板に配置され、The photoelectric conversion layer is disposed on a first semiconductor substrate;
前記出力部は、前記第1半導体基板とともに積層される第2半導体基板に配置される、The output unit is disposed on a second semiconductor substrate that is stacked together with the first semiconductor substrate.
撮像素子。Image sensor.
前記第1半導体基板と前記第2半導体基板とを電気的に接続する第1接続部と、a first connection portion that electrically connects the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate;
前記第1半導体基板と前記第2半導体基板とを電気的に接続する第2接続部とa second connection portion that electrically connects the first semiconductor substrate and the second semiconductor substrate;
を備え、Equipped with
前記第1信号線は、前記第1接続部を介して前記出力部に電気的に接続され、the first signal line is electrically connected to the output portion via the first connection portion,
前記第2信号線は、前記第2接続部を介して前記出力部に電気的に接続される、the second signal line is electrically connected to the output portion via the second connection portion;
撮像素子。Image sensor.
前記第1接続部は、The first connection portion is
前記第1半導体基板に配置される第1接合パッドと、a first bond pad disposed on the first semiconductor substrate;
前記第2半導体基板に配置される第2接合パッドとa second bond pad disposed on the second semiconductor substrate;
を有し、having
前記第2接続部は、The second connection portion is
前記第1半導体基板に配置される第3接合パッドと、a third bond pad disposed on the first semiconductor substrate;
前記第2半導体基板に配置される第4接合パッドとa fourth bond pad disposed on the second semiconductor substrate;
を有し、having
前記第1信号線は、前記第1接合パッドおよび前記第2接合パッドを介して前記出力部に電気的に接続され、the first signal line is electrically connected to the output through the first bond pad and the second bond pad;
前記第2信号線は、前記第3接合パッドおよび前記第4接合パッドを介して前記出力部に電気的に接続される、the second signal line is electrically connected to the output via the third bond pad and the fourth bond pad;
撮像素子。Image sensor.
前記出力部は、前記第1ブロックを構成する前記画素から読み出された信号と、前記第2ブロックを構成する前記画素から読み出された信号とに相関二重サンプリング処理を行う、the output unit performs a correlated double sampling process on the signals read out from the pixels constituting the first block and the signals read out from the pixels constituting the second block.
撮像素子。Image sensor.
前記出力部は、前記第1ブロックを構成する前記画素から読み出された信号と、前記第2ブロックを構成する前記画素から読み出された信号とにゲインをかける、the output unit applies a gain to the signals read out from the pixels constituting the first block and the signals read out from the pixels constituting the second block;
撮像素子。Image sensor.
前記出力部は、前記第1ブロックを構成する前記画素から読み出された信号と、前記第2ブロックを構成する前記画素から読み出された信号とをデジタル信号に変換する、the output unit converts the signals read out from the pixels constituting the first block and the signals read out from the pixels constituting the second block into digital signals.
撮像素子。Image sensor.
前記撮像素子の駆動を制御する駆動制御部を備える電子機器。An electronic device comprising a drive control unit that controls driving of the imaging element.
交換レンズを取り付けるためのレンズ取付部を備える電子機器。An electronic device equipped with a lens attachment portion for attaching an interchangeable lens.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2023097773A JP2023120293A (en) | 2017-09-29 | 2023-06-14 | Imaging element and imaging device |
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2017192212 | 2017-09-29 | ||
JP2017192212 | 2017-09-29 | ||
JP2019545189A JP6921375B2 (en) | 2017-09-29 | 2018-09-28 | Image sensor and image sensor |
Related Parent Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019545189A Division JP6921375B2 (en) | 2017-09-29 | 2018-09-28 | Image sensor and image sensor |
Related Child Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023097773A Division JP2023120293A (en) | 2017-09-29 | 2023-06-14 | Imaging element and imaging device |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2021184613A JP2021184613A (en) | 2021-12-02 |
JP2021184613A5 JP2021184613A5 (en) | 2022-05-12 |
JP7478120B2 true JP7478120B2 (en) | 2024-05-02 |
Family
ID=65903351
Family Applications (3)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019545189A Active JP6921375B2 (en) | 2017-09-29 | 2018-09-28 | Image sensor and image sensor |
JP2021120993A Active JP7478120B2 (en) | 2017-09-29 | 2021-07-21 | Imaging device and electronic device |
JP2023097773A Pending JP2023120293A (en) | 2017-09-29 | 2023-06-14 | Imaging element and imaging device |
Family Applications Before (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019545189A Active JP6921375B2 (en) | 2017-09-29 | 2018-09-28 | Image sensor and image sensor |
Family Applications After (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2023097773A Pending JP2023120293A (en) | 2017-09-29 | 2023-06-14 | Imaging element and imaging device |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
JP (3) | JP6921375B2 (en) |
WO (1) | WO2019066056A1 (en) |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011082768A (en) | 2009-10-06 | 2011-04-21 | Canon Inc | Solid-state imaging apparatus and imaging apparatus |
JP2017108286A (en) | 2015-12-09 | 2017-06-15 | 株式会社ニコン | Electronic apparatus, conveyance system, factory, and program |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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2018
- 2018-09-28 JP JP2019545189A patent/JP6921375B2/en active Active
- 2018-09-28 WO PCT/JP2018/036535 patent/WO2019066056A1/en active Application Filing
-
2021
- 2021-07-21 JP JP2021120993A patent/JP7478120B2/en active Active
-
2023
- 2023-06-14 JP JP2023097773A patent/JP2023120293A/en active Pending
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2021184613A (en) | 2021-12-02 |
WO2019066056A1 (en) | 2019-04-04 |
JP6921375B2 (en) | 2021-08-18 |
JPWO2019066056A1 (en) | 2020-11-05 |
JP2023120293A (en) | 2023-08-29 |
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Date | Code | Title | Description |
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